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JP2006079731A - Optical information recording medium - Google Patents

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JP2006079731A
JP2006079731A JP2004262889A JP2004262889A JP2006079731A JP 2006079731 A JP2006079731 A JP 2006079731A JP 2004262889 A JP2004262889 A JP 2004262889A JP 2004262889 A JP2004262889 A JP 2004262889A JP 2006079731 A JP2006079731 A JP 2006079731A
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JP
Japan
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hard coat
layer
coat layer
acrylate
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Pending
Application number
JP2004262889A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Tsunoda
毅 角田
Hiroaki Takano
博昭 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium hardly sticking dust and dirt onto the surface of its hard coat layer and stably recording and reproduction information. <P>SOLUTION: The optical information recording medium is formed by providing a recording layer, a light transmission layer and the hard coat layer on a substrate. The ratio (F/C)<SB>surface</SB>of the peak intensity of F to the peak intensity of C respectively obtained when the surface of the hard coat layer is measured by an X-ray photoelectron spectroscopy is 0.01 to 1.0. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光情報記録媒体に関し、特にヒートモード型の光情報記録媒体に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium, and more particularly to a heat mode type optical information recording medium.

文字情報、画像情報、音声情報を大量に記録・再生する高密度光情報記録媒体(DVD)に対する要請は増大しつつある。特にデジタル・ハイ・ビジョンTV放送の録画に対応するため、一層の高密度記録化の研究がなされている。その中で青紫色レーザーが発売されて以来、この青紫色レーザーと高NAピックアップとを使用した光ディスクシステムの開発が検討されている。ISOM2000では、SONY(株)により青紫色レーザーを使用した相変化媒体であるDVR−Blueシステムが発表された。   There is an increasing demand for high-density optical information recording media (DVDs) for recording and reproducing large amounts of character information, image information, and audio information. In particular, in order to cope with recording of digital high-vision TV broadcasting, research on higher density recording has been made. Among them, since the blue-violet laser was released, development of an optical disk system using this blue-violet laser and a high NA pickup has been studied. At ISO 2000, Sony Corporation announced the DVR-Blue system, which is a phase change medium using a blue-violet laser.

DVR−Blueシステムの層構成の特徴としては、(1)レーザー入射側にカバー層と呼ばれる0.1mmの透明層が設けられていること、(2)高NAピックアップを使用しているためピックアップとディスク表面との間の距離が短く、ディスクの面ブレによりピックアップがディスク表面にあたり透明層の表面を傷付けやすいことがある。   The characteristics of the layer structure of the DVR-Blue system are as follows: (1) a 0.1 mm transparent layer called a cover layer is provided on the laser incident side; and (2) a pickup with a high NA pickup is used. The distance from the disk surface is short, and the pickup may hit the disk surface and damage the surface of the transparent layer due to disk surface blurring.

厚さ0.1mmの透明層を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、感圧性粘着剤による接着層を介して透明なシートを貼り合わせる方法が提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。また、ディスク表面の傷付き防止のためにディスク表面にハードコート層、傷つき防止層を設けることも提案されている(例えば、特許文献2、3参照)。   As a method of forming a transparent layer having a thickness of 0.1 mm, a method in which a transparent sheet is bonded through an adhesive layer made of an ultraviolet curable resin and a pressure-sensitive adhesive has been proposed (for example, see Patent Documents 1 and 2). . It has also been proposed to provide a hard coat layer and an anti-scratch layer on the disk surface to prevent the disk surface from being scratched (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

しかし、一般にハードコート層を設けただけでは傷付きの防止にはなるが、ゴミの付着や汚れ防止には効果がなく、ハードコート層の種類によっては帯電性や吸水性が増加し、ゴミや汚れがつき易くなるという問題があった。ハードコート層の表面についたゴミや汚れは情報の記録、再生を不可能とするエラーを引き起こす原因となる。特に、レーザ光を透過する透明層が0.1mmと薄いと、当該透明層に付着した汚れによる影響は顕著となる。
特開2000−285520号公報 特開2000−67468号公報 特許第3112467号公報
However, in general, it is possible to prevent scratches only by providing a hard coat layer, but it is not effective in preventing dust adhesion and dirt, and depending on the type of hard coat layer, the chargeability and water absorption increase, and There was a problem that it became easy to get dirty. Dust and dirt on the surface of the hard coat layer cause an error that makes information recording and reproduction impossible. In particular, when the transparent layer that transmits laser light is as thin as 0.1 mm, the influence of dirt attached to the transparent layer becomes significant.
JP 2000-285520 A JP 2000-67468 A Japanese Patent No. 311467

以上から、本発明は上記従来からの課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、ハードコート層の表面にゴミや汚れが付着しにくく、安定な情報記録・再生ができる光情報記録媒体を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to solve the above conventional problems. That is, an object of the present invention is to provide an optical information recording medium that can prevent dust and dirt from adhering to the surface of a hard coat layer and can stably record and reproduce information.

上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者らは、下記本発明により当該課題が解決されることを見出した。
すなわち、本発明は、基板上に、記録層、光透過層、ハードコート層が設けられてなる光情報記録媒体であって、
前記ハードコート層表面をX線光電子分光法で測定した際のFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)surfaceが0.01〜1.0であることを特徴とする光情報記録媒体である。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the problems can be solved by the present invention described below.
That is, the present invention is an optical information recording medium in which a recording layer, a light transmission layer, and a hard coat layer are provided on a substrate,
A ratio of F peak intensity to C peak intensity when the hard coat layer surface is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (F / C) surface is 0.01 to 1.0. An optical information recording medium.

X線光電子分光法で(F/C)surfaceを測定した後、Ar+イオンビームによるスパッタエッチング(12keV)を5〜500秒間で行った後のハードコート層表面におけるFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)Arが、(F/C)surfaceの1/20以上であることが好ましい。
また、ハードコート層に含有される添加剤中のF含有量が30〜60質量%であることが好ましい。
After measuring the (F / C) surface by X-ray photoelectron spectroscopy, the peak intensity of F on the hard coat layer surface after sputter etching (12 keV) with Ar + ion beam for 5 to 500 seconds, Ratio to peak intensity (F / C) Ar is preferably 1/20 or more of (F / C) surface .
Moreover, it is preferable that F content in the additive contained in a hard-coat layer is 30-60 mass%.

本発明の光情報記録媒体は、ハードコート層の表面にゴミや汚れが付着しにくく、安定な情報記録・再生を実現することができる。   In the optical information recording medium of the present invention, dust and dirt are hardly attached to the surface of the hard coat layer, and stable information recording / reproduction can be realized.

本発明の光情報記録媒体は、基板上に、記録層、光透過層、ハードコート層が、ハードコート層表面をX線光電子分光法で測定した際のFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)surfaceが0.01〜1.0となっている。 In the optical information recording medium of the present invention, the recording layer, the light transmission layer, and the hard coat layer on the substrate have an F peak intensity and a C peak intensity when the surface of the hard coat layer is measured by X-ray photoelectron spectroscopy. (F / C) The surface ratio is 0.01 to 1.0.

ハードコート層中に存在するFは、添加剤に含まれるFに起因するものである。すなわち、Fを含む添加剤がハードコート層中に含有されることで、光情報記録媒体表面にゴミや汚れが付着し難くなる。   F present in the hard coat layer is caused by F contained in the additive. That is, the inclusion of F-containing additive in the hard coat layer makes it difficult for dust and dirt to adhere to the surface of the optical information recording medium.

また、ハードコート層表面のFの存在比率を制御することで、防汚性だけでなく、表面の硬度を良好なものとすることができる。具体的には、表面をX線光電子分光法で測定した際のFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)surfaceが0.01〜1.0となっている。(F/C)surfaceが0.01未満では、表面おけるFの量が減少するため、十分な防汚性が得られない。また、(F/C)surfaceが1.0を超えるとハードコート層の表面が可塑化するために表面の硬度が低下してしまう。
(F/C)surfaceは、0.03〜0.5であることが好ましく、0.05〜0.1であることがより好ましい。
In addition, by controlling the ratio of F on the surface of the hard coat layer, not only the antifouling property but also the surface hardness can be improved. Specifically, the ratio of F peak intensity to C peak intensity when the surface is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (F / C) surface is 0.01 to 1.0. (F / C) If the surface is less than 0.01, the amount of F on the surface is reduced, so that sufficient antifouling properties cannot be obtained. On the other hand, if the (F / C) surface exceeds 1.0, the surface of the hard coat layer is plasticized and the surface hardness is lowered.
(F / C) surface is preferably 0.03 to 0.5, and more preferably 0.05 to 0.1.

(F/C)surfaceを0.01〜1.0とするには、例えば、後述する添加剤中のF含有量を30〜60質量%とし、ハードコート層中の添加剤含有量を0.5〜10質量%とすればよい。 (F / C) In order to set the surface to 0.01 to 1.0, for example, the F content in the additive described later is set to 30 to 60% by mass, and the additive content in the hard coat layer is set to 0.00. What is necessary is just to set it as 5-10 mass%.

ハードコート層を形成する際の溶剤として、比較的低沸点で揮発性の高い溶剤を使用したり、乾燥時の温度を調整して、上記表面組成を制御としてもよい。また、乾燥後、アニール処理として、40〜80℃で一定時間放置して表面のフッ素量を調整してもよい。さらに、バイリーン(日本バイリーン製 CV−685CP)などの不織布で光情報記録媒体表面をワイピング処理してもよい。   As the solvent for forming the hard coat layer, a solvent having a relatively low boiling point and high volatility may be used, or the temperature during drying may be adjusted to control the surface composition. In addition, after drying, as an annealing treatment, the surface fluorine content may be adjusted by leaving at 40 to 80 ° C. for a certain period of time. Further, the surface of the optical information recording medium may be wiped with a non-woven fabric such as Vilene (CV-685CP manufactured by Nippon Vilene).

また、X線光電子分光法で(F/C)surfaceを測定した後、Ar+イオンビームによるスパッタエッチング(12keV)を5〜500秒間で行った後のハードコート層表面におけるFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)Arが、(F/C)surfaceの1/20以上であることが好ましい。
スパッタエッチング(12keV)を5〜500秒間(好ましくは、40〜50秒間)とすることで、ハードコート層表面から1〜100nm程度までの深さの組成を確認することができる。(F/C)Arが、上記(F/C)surfaceの1/20以上であると、防汚効果の持続性が保たれることと、添加剤の表面のハジキがなくなるといった効果が発揮される。(F/C)Arは、上記(F/C)surfaceの1/10以上であることが好ましい。
In addition, after measuring the (F / C) surface by X-ray photoelectron spectroscopy, the peak intensity of F on the surface of the hard coat layer after sputter etching (12 keV) with an Ar + ion beam for 5 to 500 seconds, Ratio of C to peak intensity (F / C) Ar is preferably 1/20 or more of (F / C) surface .
By setting the sputter etching (12 keV) for 5 to 500 seconds (preferably 40 to 50 seconds), a composition having a depth of about 1 to 100 nm from the hard coat layer surface can be confirmed. (F / C) When Ar is 1/20 or more of the above (F / C) surface , the effect of maintaining the antifouling effect and eliminating the surface repellency of the additive is exhibited. The (F / C) Ar is preferably 1/10 or more of the above (F / C) surface .

上記のような(F/C)Arを、上記(F/C)surfaceの1/20以上とするには、ハードコート層に使用する樹脂と同様に、使用する添加剤に放射線硬化型の官能基を持たせたり、ハードコート層に使用する樹脂と添加剤とに同一構造の置換基を持たせ、上記樹脂との親和性をよくすればよい。 In order to set the (F / C) Ar as described above to 1/20 or more of the above (F / C) surface , the additive used is a radiation-curable functional group in the same manner as the resin used for the hard coat layer. It is only necessary to provide a group, or to have a substituent having the same structure in the resin and additive used in the hard coat layer to improve the affinity with the resin.

X線光電子分光法(ESCA)による(F/C)Arおよび(F/C)surfaceの測定は、例えば、(株)島津製作所製のESCA−3400を使用し、以下の条件で行うことができる。
(1)照射X線・・・モノクロAl/Kα,12kV,10mA
(2)測定スペクトル・・・Cの1sピーク、Fの1sピーク
(3)試料チャンバー内真空度・・・1×10-8Torr
(4)スパッタエッチングを行う場合のAr+イオンビームの出力および時間・・・12keV),5〜500秒間
Measurement of (F / C) Ar and (F / C) surface by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) can be performed using, for example, ESCA-3400 manufactured by Shimadzu Corporation under the following conditions. .
(1) Irradiation X-ray: Monochrome Al / Kα, 12 kV, 10 mA
(2) Measurement spectrum: C 1s peak, F 1s peak (3) Vacuum degree in sample chamber: 1 × 10 −8 Torr
(4) Ar + ion beam output and time for sputter etching: 12 keV), 5 to 500 seconds

ハードコート層は、光情報記録媒体の光透過層上や、記録層等が形成されていない側の基板上に、添加剤含有ハードコート層塗布液を塗布し、硬化して形成される。
添加剤含有ハードコート層塗布液は、少なくとも、ハードコート層を形成するための硬化性組成物と、フッ素原子(F)を含有しかつ重合する基を有する硬化性樹脂(例えば、防汚剤)と、を混合させて調製することができる。硬化方法は活性エネルギー線重合であっても熱重合であってもかまわないが、生産性の観点から活性エネルギー線重合が好ましい。
The hard coat layer is formed by applying and curing an additive-containing hard coat layer coating solution on the light transmission layer of the optical information recording medium or on the substrate on which the recording layer or the like is not formed.
The additive-containing hard coat layer coating solution includes at least a curable composition for forming a hard coat layer, and a curable resin (for example, an antifouling agent) containing a fluorine atom (F) and having a group capable of polymerization. And can be prepared by mixing. The curing method may be active energy ray polymerization or thermal polymerization, but active energy ray polymerization is preferred from the viewpoint of productivity.

以下、ハードコート層の詳細について説明する。
当該ハードコード層の表面の鉛筆硬度はB以上であることが好ましく、H以上であることがより好ましく、3H以上であることがさらに好ましい。
さらに表面の水に対する接触角は、防汚性の観点から、好ましくは90度以上であり、より好ましくは97度以上である。また上限としては150度が好ましく、130度がより好ましい。
Hereinafter, the details of the hard coat layer will be described.
The pencil hardness on the surface of the hard cord layer is preferably B or more, more preferably H or more, and further preferably 3H or more.
Furthermore, the contact angle with respect to water on the surface is preferably 90 ° or more, more preferably 97 ° or more, from the viewpoint of antifouling properties. Moreover, as an upper limit, 150 degree | times is preferable and 130 degree | times is more preferable.

フッ素原子を含有し、活性エネルギー線(例えば、放射線)で重合する基を有する添加剤としての硬化性樹脂は、活性エネルギー線で重合する公知のフッ素硬化性樹脂、フッ素原子を含有する骨格を有する硬化性樹脂(例えば、実施例で使用している化合物)が用いられる。防汚性をさらに向上させる観点から、ケイ素硬化性樹脂やケイ素原子を含有する骨格を有する硬化樹脂を併用してもよい。
さらにハードコート層を主として構成する硬化した樹脂あるいは該樹脂に分散した金属酸化物等と相溶性の良い骨格と、フッ素原子を含有する骨格とを有する活性エネルギー線重合性樹脂が好ましく挙げられる。
このような硬化性樹脂を硬化することで、ハードコート層表面にフッ素を存在させることができる。
The curable resin as an additive containing a fluorine atom and having a group that is polymerized by active energy rays (for example, radiation) has a known fluorine-curable resin that is polymerized by active energy rays and a skeleton containing fluorine atoms. A curable resin (for example, a compound used in Examples) is used. From the viewpoint of further improving the antifouling property, a silicon curable resin or a curable resin having a skeleton containing a silicon atom may be used in combination.
Furthermore, an active energy ray polymerizable resin having a skeleton having a good compatibility with the cured resin mainly constituting the hard coat layer or a metal oxide dispersed in the resin, and a skeleton containing a fluorine atom is preferable.
By curing such a curable resin, fluorine can be present on the surface of the hard coat layer.

ハードコート層に用いられる、添加剤としての上記硬化性樹脂の具体的な例としては、フッ素原子を含有するモノマー、あるいはフッ素原子を含むモノマーの共重合体、ブロック共重合体、あるいはグラフト共重合体にアクリル基を含有させたポリマーが挙げられる。また、ケイ素を含有する硬化樹脂を併用する場合は、上記フッ素の場合と同様に、ケイ素を含有するモノマーを使用することができる。   Specific examples of the curable resin as an additive used in the hard coat layer include a monomer containing a fluorine atom, a copolymer of a monomer containing a fluorine atom, a block copolymer, or a graft copolymer. Examples thereof include polymers in which an acrylic group is incorporated into the coalescence. Moreover, when using together the cured resin containing silicon, the monomer containing silicon can be used like the case of the said fluorine.

任意のケイ素含有モノマーとしては、ポリジメチルシロキサンと(メタ)アクリル酸等の反応によるシロキサン基を有するモノマーが挙げられる。末端(メタ)アクリレートのシロキサン化合物の具体例としては、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C、X−22−2404、X−22−174D、X−22−8201、X−22−2426(以上、信越化学工業(株)製)、UMS182(チッソ(株)製)などが挙げられる。   As an arbitrary silicon-containing monomer, a monomer having a siloxane group by a reaction such as polydimethylsiloxane and (meth) acrylic acid may be mentioned. Specific examples of the terminal (meth) acrylate siloxane compound include X-22-164A, X-22-164B, X-22-164C, X-22-2404, X-22-174D, X-22-8201, X-22-2426 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), UMS182 (manufactured by Chisso Corporation), and the like.

また、フッ素含有モノマーとしては、ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、ヘプタデ力フルオロデシルアクリレート、パーフルオロアルキルスルホンアミドエチルアクリレート、パーフルオロアルキルアミドエチルアクリレート等に代表されるパーフルオロアルキル基含有(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。   Examples of fluorine-containing monomers include perfluoroalkyl group-containing (meth) acrylic acid esters represented by hexafluoroisopropyl acrylate, heptade force fluorodecyl acrylate, perfluoroalkylsulfonamidoethyl acrylate, perfluoroalkylamidoethyl acrylate, and the like. Can be mentioned.

具体的には、2−パーフルオロオクチルエチルメタアクリレート、2―パーフルオロオクチルエチルアクリレート(日本メクトロン(株)製)、M−3633、M−3833、R−3633、R−3833等のアクリレート化合物((株)ダイキンファインケミカル研究所製)、AFC−1000、AFC−2000、FA−16等(共栄社化学(株)製)、メガファック531A(大日本インキ(株)製)などの重合性基を含有する化合物が挙げられる。   Specifically, acrylate compounds such as 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl acrylate (manufactured by Nippon Mektron Co., Ltd.), M-3633, M-3833, R-3633, R-3833 and the like ( Contains polymerizable groups such as Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd., AFC-1000, AFC-2000, FA-16, etc. (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), MegaFuck 531A (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) The compound to be mentioned is mentioned.

フッ素を含有する共重合体としては、主鎖が炭素原子のみからなり、かつ、含フッ素ビニルモノマー重合単位と側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合単位とを含んでなる共重合体があり、具体的には下記一般式(1)で表される共重合体が挙げられる。   As the copolymer containing fluorine, there is a copolymer having a main chain composed only of carbon atoms and a fluorine-containing vinyl monomer polymer unit and a polymer unit having a (meth) acryloyl group in the side chain. Specific examples include a copolymer represented by the following general formula (1).

Figure 2006079731
Figure 2006079731

一般式(1)中、Mfは含フッ素ビニルモノマー、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、mは0または1を表す。Xは水素原子またはメチル基を表す。Aは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。x’、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し30≦x’≦60、40≦y≦80、0≦z≦65を満たす値を表す。   In general formula (1), Mf represents a fluorine-containing vinyl monomer, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, and m represents 0 or 1. X represents a hydrogen atom or a methyl group. A represents a polymerization unit of any vinyl monomer, and may be a single component or a plurality of components. x ′, y, and z represent the mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ′ ≦ 60, 40 ≦ y ≦ 80, and 0 ≦ z ≦ 65.

一般式(1)におけるMfで表される含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(商品名、大阪有機化学製)やM−2020(商品名、ダイキン製)等)、パーフルオロアルキルスルホン酸メタアクリルアミド、完全または部分フッ素化ビニルエチル類等が挙げられるが、パーフルオロオレフィン類が好ましく、溶解性、透明性、入手性等の観点からはヘキサフルオロプロピレンが特に好ましい。   As the fluorine-containing vinyl monomer represented by Mf in the general formula (1), fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, etc.), partially (meth) acrylic acid or completely fluorinated Alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and M-2020 (trade name, manufactured by Daikin)), perfluoroalkylsulfonic acid methacrylamide, fully or partially fluorinated vinylethyls and the like can be mentioned. However, perfluoroolefins are preferred, and hexafluoropropylene is particularly preferred from the viewpoints of solubility, transparency, availability, and the like.

共重合体は側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合単位を必須の構成成分として有する。共重合体への(メタ)アクリロイル基の導入法は特に限定されるものではないが、例えば、(1)水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、(メタ)アクリル酸クロリド、(メタ)アクリル酸無水物、(メタ)アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法、(2)上記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(3)上記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(4)エポキシ基を有するポリマーを合成した後に(メタ)アクリル酸を作用させる方法、(5)カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と(メタ)アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法、(6)3−クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法などが挙げられる。これらの中で特に水酸基を含有するポリマーに対して(1)または(2)の手法によって(メタ)アクリロイル基を導入することが好ましい。   The copolymer has a polymer unit having a (meth) acryloyl group in the side chain as an essential component. The method for introducing the (meth) acryloyl group into the copolymer is not particularly limited. For example, (1) after synthesizing a polymer having a nucleophilic group such as a hydroxyl group or an amino group, (meth) acrylic acid is used. A method in which chloride, (meth) acrylic anhydride, (meth) acrylic acid and methanesulfonic acid mixed acid anhydride, etc. are allowed to act; (2) the polymer having the nucleophilic group in the presence of a catalyst such as sulfuric acid ( (3) a method of allowing a methacrylic acid to act, (3) a method of causing a compound having both an isocyanate group such as methacryloyloxypropyl isocyanate and a (meth) acryloyl group to act on the polymer having the nucleophilic group, and (4) a polymer having an epoxy group. (5) A method in which (meth) acrylic acid is allowed to act after the synthesis of (5) a polymer having a carboxyl group, Method of reacting a compound having both a carboxy group and a (meth) acryloyl group, and a method of performing dehydrochlorination after obtained by polymerizing a vinyl monomer having a (6) 3-chloropropionic acid ester moiety. Among these, it is preferable to introduce a (meth) acryloyl group by the method (1) or (2) with respect to a polymer containing a hydroxyl group.

これらの(メタ)アクリロイル基含有重合単位の組成比を高めれば皮膜強度は向上し、含フッ素ビニルモノマー重合単位の種類によっても異なるが、一般に(メタ)アクリロイル基含有重合単位は40〜80モル%を占めることが好ましく、45〜75モル%を占めることがより好ましく、50〜70モル%を占めることが特に好ましい。   If the composition ratio of these (meth) acryloyl group-containing polymer units is increased, the film strength will be improved, and depending on the type of the fluorine-containing vinyl monomer polymer units, generally the (meth) acryloyl group-containing polymer units are 40 to 80 mol%. Preferably 45 to 75 mol%, more preferably 50 to 70 mol%.

有用な共重合体では上記含フッ素ビニルモノマー重合単位および側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する重合単位以外に、一般式(1)におけるAで表される任意のビニルモノマー単位を含有する。ビニルモノマーは、フイルムへの密着性、ポリマーのTgの調整(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から選ばれ、適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の0〜65モル%の範囲で導入されていることが好ましく、0〜40モル%の範囲であることがより好ましく、0〜30モル%の範囲であることが特に好ましい。   Useful copolymers contain any vinyl monomer unit represented by A in the general formula (1) in addition to the above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer polymer units and polymer units having a (meth) acryloyl group in the side chain. Vinyl monomer is selected from various viewpoints such as adhesion to film, adjustment of polymer Tg (contributes to film hardness), solubility in solvent, transparency, slipperiness, dustproof / antifouling property, etc. These vinyl monomers can also be copolymerized. A plurality of these vinyl monomers may be combined depending on the purpose, and are preferably introduced in the range of 0 to 65 mol% in the copolymer in total, and in the range of 0 to 40 mol%. More preferably, it is particularly preferably in the range of 0 to 30 mol%.

併用可能なビニルモノマー単位には、特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルへキシル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸アリル、アクリル酸トリメトキシシリルプロピル等)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル等)、スチレン誘導体(スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p−メトキシスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、不飽和力ルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等)、アクリルアミド類(N,N−ジメチルアクリルアミド、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロへキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類(N,N−ジメチルメタクリルアミド)、アクリロニトリル等を挙げることができる。
好ましくはビニルエチル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエチル誘導体である。
The vinyl monomer unit that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylic) 2-ethylhexyl acid, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, allyl acrylate, trimethoxysilylpropyl acrylate, etc.), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, methacrylic acid) 2-ethylhexyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethoxysilylpropyl methacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, p-hydroxymethylstyrene, p-methoxystyrene) Vinyl ethers (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, allyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate) , Vinyl butyrate, vinyl cinnamate, etc.), unsaturated rubonic acids (acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid, etc.), acrylamides (N, N-dimethylacrylamide, N-tertbutylacrylamide, N -Cyclohexyl acrylamide etc.), methacrylamides (N, N-dimethylmethacrylamide), acrylonitrile and the like.
Preferred are vinyl ethyl derivatives and vinyl ester derivatives, and particularly preferred are vinyl ethyl derivatives.

一般式(1)中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連絡基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*−(CH22−O−***−(CH22−NH−***−(CH24−O−***−(CH26−O−***−(CH22−O−(CH22−O−**,−CONH−(CH23−O−***−CH2CH(OH)CH2−O−**−CH2CH2OCONH(CH23−O−**(「*」はポリマー主鎖側の連絡部位を表し、「**」は(メタ)アクリロイル基側の連絡部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表す。
In the general formula (1), L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, which is linear. Alternatively, it may have a branched structure, may have a ring structure, and may have a heteroatom selected from O, N, and S.
Preferred examples, * - (CH 2) 2 -O- **, * - (CH 2) 2 -NH- **, * - (CH 2) 4 -O- **, * - (CH 2) 6 -O- **, * - (CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O- **, -CONH- (CH 2) 3 -O- **, * -CH 2 CH (OH) CH 2 —O— * , * —CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 —O — ** (“ * ” represents a connecting portion on the polymer main chain side, and “ ** ” represents the (meth) acryloyl group side. For example). m represents 0 or 1;

一般式(1)中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula (1), X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

x’、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表し、30≦x’≦60、40≦y≦80、0≦z≦65を満たす値を表す。好ましくは、35≦x’≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x’≦55、50≦y≦70、0≦z≦10の場合である。   x ′, y, and z represent mol% of each constituent component, and represent values satisfying 30 ≦ x ′ ≦ 60, 40 ≦ y ≦ 80, and 0 ≦ z ≦ 65. Preferably, 35 ≦ x ′ ≦ 55, 30 ≦ y ≦ 60, 0 ≦ z ≦ 20, particularly preferably 40 ≦ x ′ ≦ 55, 50 ≦ y ≦ 70, 0 ≦ z ≦ 10. is there.

活性エネルギー線の照射により重合する基は、例えばアクリル基等のラジカル重合性の二重結合やエポキシ基等のカチオン重合性基を導入することによって付与される。これら硬化性組成物に含まれるフッ素、ケイ素と活性エネルギー線重合性基を有する化合物の含有量は全硬化性樹脂の0.001〜0.2質量%が好ましく、0.005〜0.15質量%がより好ましい。   A group that is polymerized by irradiation with active energy rays is imparted, for example, by introducing a radical polymerizable double bond such as an acrylic group or a cationic polymerizable group such as an epoxy group. The content of fluorine, silicon and the compound having an active energy ray polymerizable group contained in these curable compositions is preferably 0.001 to 0.2% by mass of the total curable resin, and 0.005 to 0.15% by mass. % Is more preferable.

ハードコート層が耐擦傷性に優れるためには、ハードコート層の硬度がある程度大きいことが好ましい。硬度の観点から、ハードコート層の表面弾性率は4.0GPa程度以上が好ましく、より好ましくは4.5GPa以上である。表面弾性率が4.0GPa以上であると、十分な鉛筆硬度及び耐擦傷性が得られる。なお、上記の表面弾性率をユニバーサル硬度で表すと、その値は250N/mm2程度以上が好ましく、より好ましくは300N/mm2以上である。 In order for the hard coat layer to have excellent scratch resistance, it is preferable that the hardness of the hard coat layer is large to some extent. From the viewpoint of hardness, the surface elastic modulus of the hard coat layer is preferably about 4.0 GPa or more, more preferably 4.5 GPa or more. When the surface elastic modulus is 4.0 GPa or more, sufficient pencil hardness and scratch resistance can be obtained. When the surface elastic modulus is expressed in universal hardness, the value is preferably about 250 N / mm 2 or more, and more preferably 300 N / mm 2 or more.

無機微粒子を添加することにより、表面弾性率を上げることができる。無機微粒子の添加量を増やすと脆性が悪くなるので、表面弾性率の上限は、10GPa、好ましくは9.0GPaである。従って、好ましい表面弾性率の範囲は、4.0〜10GPaであり、特に好ましくは4.5〜9.0GPaである。   The surface elastic modulus can be increased by adding inorganic fine particles. When the amount of inorganic fine particles added is increased, the brittleness deteriorates, so the upper limit of the surface elastic modulus is 10 GPa, preferably 9.0 GPa. Therefore, the preferable range of the surface elastic modulus is 4.0 to 10 GPa, and particularly preferably 4.5 to 9.0 GPa.

上記表面弾性率は、微小表面硬度計((株)フイッシャー・インスツルメンツ製:フイッシャースコープH100VP―HCU)を用いて求めた値である。具体的には、ダイヤモンド製の四角錐圧子(先端対面角度;136°)を使用し、押し込み深さが1μmを超えない範囲で、適当な試験荷重下での押し込み深さを測定し、除荷重時の荷重と変位の変化から求められる弾性率である。
また、前述の微小表面硬度計を用いて表面硬度をユニバーサル硬度として求めることもできる。ユニバーサル硬度は四角錐圧子の試験荷重下での押し込み深さを測定し、試験荷重をその試験荷重で生じた圧痕の幾何学的形状から計算される圧痕の表面積で割った値である。
上記の表面弾性率とユニバーサル硬度の間には、正の相関を有することが知られている。
The surface elastic modulus is a value determined using a micro surface hardness tester (manufactured by Fischer Instruments: Fischer Scope H100VP-HCU). Specifically, using a diamond pyramid indenter (tip-to-face angle: 136 °), the indentation depth is measured under an appropriate test load within a range where the indentation depth does not exceed 1 μm. This is the elastic modulus obtained from the change in load and displacement over time.
Further, the surface hardness can be obtained as a universal hardness by using the above-mentioned micro surface hardness tester. The universal hardness is a value obtained by measuring the indentation depth of a quadrangular pyramid indenter under a test load and dividing the test load by the surface area of the indent calculated from the geometric shape of the indent generated by the test load.
It is known that there is a positive correlation between the surface elastic modulus and the universal hardness.

ハードコート層の厚みは、0.1μm以上が好ましく、1μm以上がさらに好ましい。ハードコート層の厚みをあまり厚くすると鉛筆硬度は向上するが、フイルムを曲げることが難しくなり、さらに曲げによる割れが発生しやすくなることから、ハードコート層の厚みは20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。従って、ハードコート層の厚みは、好ましくは0.1〜20μmであり、より好ましくは1〜10μmである。   The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 μm or more, and more preferably 1 μm or more. If the thickness of the hard coat layer is too thick, the pencil hardness is improved, but it becomes difficult to bend the film, and cracks due to bending tend to occur. Therefore, the thickness of the hard coat layer is preferably 20 μm or less, preferably 10 μm or less. More preferred. Therefore, the thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm.

ハードコート層は、単層でも複数層から構成されていてもよいが、製造工程上簡便な単層であることが好ましい。この場合の単層とは、同一の硬化性組成物から硬化形成されたハードコート層を指し、塗布、乾燥後の組成が、同一組成のものであれば、複数回の塗布後、硬化して形成されていてもよい。一方、複数層とは組成の異なる複数の硬化性組成物から硬化、形成された層を指す。   The hard coat layer may be composed of a single layer or a plurality of layers, but is preferably a single layer that is simple in the production process. In this case, the single layer refers to a hard coat layer formed by curing from the same curable composition. If the composition after application and drying is the same composition, it is cured after being applied multiple times. It may be formed. On the other hand, the term “multiple layers” refers to layers that are cured and formed from a plurality of curable compositions having different compositions.

ハードコート層は、活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性組成物を塗布後、活性エネルギー線の照射により硬化して形成される。該硬化性組成物の活性エネルギー線照射による硬化収縮率は、0〜15%、好ましくは0〜13%、より好ましくは0〜11%である。
上記硬化収縮率は、用いた活性エネルギー線、例えばUV光の照射前の硬化性組成物の密度と照射硬化後の硬化性組成物の密度を求め、その値から下記数式Aで計算して求めた値である。なお、密度はマイクロメトリック社製MULTIVOLUME PYCNOMETERで測定(25℃)した値である。
The hard coat layer is formed by applying a curable composition that is cured by irradiation with active energy rays and then curing by irradiation with active energy rays. The cure shrinkage ratio of the curable composition by irradiation with active energy rays is 0 to 15%, preferably 0 to 13%, more preferably 0 to 11%.
The curing shrinkage rate is obtained by calculating the density of the curable composition before irradiation with the active energy ray used, for example, UV light, and the density of the curable composition after irradiation curing, and calculating from the values by the following formula A. Value. The density is a value measured (25 ° C.) with MULTIVOLUME PYCNOMETER manufactured by Micrometric.

数式A:体積収縮率(%)={1−(硬化前密度/硬化後密度)}×100   Formula A: Volume shrinkage (%) = {1− (density before curing / density after curing)} × 100

ハードコート層を形成するための硬化性組成物は、前記した添加剤としての硬化性樹脂とは異なり、活性エネルギー線や熱によって硬化する硬化性樹脂(以下、添加剤の場合との混同を避けるため、「硬化樹脂」という)を主成分として含有する。ハードコート層を形成するための硬化性組成物(以下、単に「硬化性組成物」とも称する。)は、該硬化樹脂として、開環重合性基を有する硬化樹脂および/またはエチレン性不飽和基を同一分子内に3個以上有する硬化樹脂を含有することが好ましく、これら2種の硬化樹脂のいずれをも含有することがより好ましい。このことによって、ハードコート層の表面硬度が高くなり、耐擦傷性に優れたハードコートフイルムが得られる。同時に、体積収縮率が上記した範囲を満たし、硬化後のカールが小さくなり、諸取り扱い時のひび割れが発生しにくくなる。さらに、ハードコート層の膜厚を一定の膜厚にすることによって、上記の効果がさらに顕著となる。   Unlike the curable resin as the additive, the curable composition for forming the hard coat layer avoids confusion with the curable resin that cures by active energy rays or heat (hereinafter referred to as additive). Therefore, it is called “cured resin”) as a main component. A curable composition for forming a hard coat layer (hereinafter, also simply referred to as “curable composition”) includes a cured resin having a ring-opening polymerizable group and / or an ethylenically unsaturated group as the cured resin. It is preferable to contain a cured resin having 3 or more in the same molecule, and it is more preferred to contain both of these two kinds of cured resins. As a result, the surface hardness of the hard coat layer is increased, and a hard coat film having excellent scratch resistance can be obtained. At the same time, the volume shrinkage rate satisfies the above-described range, curling after curing is reduced, and cracks during handling are less likely to occur. Furthermore, the above-described effect becomes more remarkable by setting the hard coat layer to a certain thickness.

以下、好ましく用いられる開環重合性基を含む硬化樹脂について説明する。
開環重合性基を含む硬化樹脂とは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する硬化樹脂であり、この中でもヘテロ環状基含有硬化樹脂が好ましい。このような硬化樹脂としてエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、テトラヒドロフラン誘導体、環状ラクトン誘導体、環状カーボネート誘導体、オキサゾリン誘導体などの環状イミノエチル類などが挙げられ、特にエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、オキサゾリン誘導体が好ましい。
Hereinafter, a cured resin containing a ring-opening polymerizable group that is preferably used will be described.
The cured resin containing a ring-opening polymerizable group is a cured resin having a ring structure in which ring-opening polymerization proceeds by the action of a cation, an anion, a radical, etc. Among them, a heterocyclic group-containing cured resin is preferable. Examples of such cured resins include epoxy derivatives, oxetane derivatives, tetrahydrofuran derivatives, cyclic lactone derivatives, cyclic carbonate derivatives, cyclic iminoethyls such as oxazoline derivatives, and the like, and epoxy derivatives, oxetane derivatives, and oxazoline derivatives are particularly preferable.

開環重合性基を有する硬化樹脂は、同一分子内に2個以上の開環重合性基を有することが好ましいが、より好ましくは3個以上有することが好ましい。また、本発明において、開環重合性基を有する硬化樹脂を2種以上を組み合わせて併用してもよい。この場合、同一分子内に開環重合性基を1個有する硬化樹脂と同一分子内に開環重合性基を2個以上有する硬化樹脂とを組み合わせてもよく、また同一分子内に開環重合性基を2個以上有する硬化樹脂のみを2種以上組み合わせてもよい。   The cured resin having a ring-opening polymerizable group preferably has two or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule, more preferably three or more. In the present invention, two or more kinds of cured resins having a ring-opening polymerizable group may be used in combination. In this case, a cured resin having one ring-opening polymerizable group in the same molecule may be combined with a cured resin having two or more ring-opening polymerizable groups in the same molecule, or ring-opening polymerization in the same molecule. You may combine 2 or more types only of cured resin which has two or more sex groups.

ここで言う開環重合性基を有する硬化樹脂とは、上記のような環状構造を有する硬化樹脂であれば特に制限がない。このような硬化樹脂の好ましい例としては、単官能グリシジルエーテル類、単官能脂環式エポキシ類、2官能脂環式エポキシ類、ジグリシジルエーテル類(例えばグリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル)、3官能以上のグリシジルエーテル類(トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエチル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリス(グリシジルオキシエチル)イソシアヌレートなど)、4官能以上のグリシジルエーテル類(ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど)、脂環式エポキシ類(セロキサイド2021P、セロキサイド2081、エポリードGT−301、エポリードGT−401(以上、ダイセル化学工業(株)製))、EHPE(ダイセル化学工業(株)製)、フェノールノボラック樹脂のポリシクロへキシルエポキシメチルエーテルなど)、オキセタン類(OX―SQ、PNOX−1009(以上、東亞合成(株)製)など)などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Here, the cured resin having a ring-opening polymerizable group is not particularly limited as long as it is a cured resin having a cyclic structure as described above. Preferred examples of such a cured resin include monofunctional glycidyl ethers, monofunctional alicyclic epoxies, bifunctional alicyclic epoxies, diglycidyl ethers (for example, glycidyl ethers such as ethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol). A diglycidyl ether), trifunctional or higher glycidyl ethers (trimethylolethane triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ethyl, glycerol triglycidyl ether, tris (glycidyloxyethyl) isocyanurate, etc.), tetrafunctional or higher glycidyl ether (Sorbitol tetraglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, polyglycidyl ether of cresol novolac resin, polyglycidyl ether of phenol novolac resin) Cydyl ether, etc.), cycloaliphatic epoxies (Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Epolide GT-301, Epolide GT-401 (above, Daicel Chemical Industries, Ltd.), EHPE (Daicel Chemical Industries, Ltd.), Phenol novolak resin polycyclohexyl epoxy methyl ether, etc.), oxetanes (OX-SQ, PNOX-1009 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc.) and the like, but the present invention is limited to these. is not.

開環重合性基を有する硬化樹脂として、下記一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーを含有していることが特に好ましい。以下にこれら架橋性ポリマーについて詳細に説明する。   It is particularly preferable that the cured resin having a ring-opening polymerizable group contains a crosslinkable polymer containing a repeating unit represented by the following general formula (2). These crosslinkable polymers are described in detail below.

Figure 2006079731
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一般式(2)中、R1は水素原子または炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
1は、単結合または二価以上の連結基であり、好ましくは単結合、―O―、アルキレン基、アリーレン基および「*」側で主鎖に連絡する、*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−NHCO−、である。
1は、一価の開環重合性基または開環重合性基を有する一価の基であり、好ましいP1としては、エポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサプリン環などのイミノエチル環などを有する一価の基が挙げられ、これらの中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を有する一価の基である。
In the general formula (2), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
L 1 is a single bond or a divalent or higher-valent linking group, preferably a single bond, —O—, an alkylene group, an arylene group, and a main chain on the “*” side, * —COO—, * —CONH -, * -OCO-, * -NHCO-.
P 1 is a monovalent ring-opening polymerizable group or a monovalent group having a ring-opening polymerizable group. Preferred examples of P 1 include an epoxy ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a lactone ring, a carbonate ring, and an oxapurine ring. And monovalent groups having an iminoethyl ring, and the like. Among these, a monovalent group having an epoxy ring, an oxetane ring, or an oxazoline ring is particularly preferable.

一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。
以下に一般式(2)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) is preferably synthesized by polymerizing a corresponding monomer. In this case, radical polymerization is the simplest and preferable as the polymerization reaction.
Although the preferable specific example of the repeating unit represented by General formula (2) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2006079731
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Figure 2006079731
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本発明において、一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは複数種の一般式(2)で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式(2)以外の繰り返し単位(例えば開環重合性基を含まない繰り返し単位)を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのTgや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性基の含有量をコントロールする目的で一般式(2)以外の繰り返し単位を含有するコポリマーとする手法は好適である。一般式(2)以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。   In the present invention, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) may be a copolymer composed of a plurality of repeating units represented by the general formula (2). A copolymer containing a repeating unit other than (2) (for example, a repeating unit not containing a ring-opening polymerizable group) may be used. Particularly suitable is a method of controlling the Tg or hydrophilicity / hydrophobicity of the crosslinkable polymer or a copolymer containing a repeating unit other than the general formula (2) for the purpose of controlling the content of the ring-opening polymerizable group of the crosslinkable polymer. It is. As a method for introducing the repeating unit other than the general formula (2), a method of introducing the corresponding monomer by copolymerization is preferable.

一般式(2)以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル酸など)類から誘導されるエステル類(例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、1−プロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メチル−2−ニトロプロピルアクリレー卜、n−ブチルアクリレート、i−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ペンチルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、2−メトキシメトキシエチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2−ジメチルブチルアクリレート、   When the repeating unit other than the general formula (2) is introduced by polymerizing the corresponding vinyl monomer, the monomer preferably used is derived from acrylic acid or α-alkylacrylic acid (for example, methacrylic acid). Esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, hydroxyethyl acrylate, n-propyl acrylate, 1-propyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methyl-2-nitropropyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl Acrylate, t-butyl acrylate, t-pentyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 2-methoxymethoxyethyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate Over DOO, 2,2-dimethylbutyl acrylate,

3−メトキシブチルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、3−ペンチルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、n−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、セチルアクリレート、ベンジルアクリレート、n−オクチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、4−メチル−2−プロピルペンチルアクリレート、ヘプタデ力フルオロデシルアクリレート、n−オクタデシルアクリレート、メチルメタクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、   3-methoxybutyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, n-pentyl acrylate, 3-pentyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, n-hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cetyl acrylate, benzyl acrylate, n-octyl Acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 4-methyl-2-propylpentyl acrylate, heptade force fluorodecyl acrylate, n-octadecyl acrylate, methyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, hexafluoropropyl Methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxy Propyl methacrylate, n- butyl methacrylate,

1−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、n−オクチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−エトキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ヘプタデ力フルオロデシルメタクリレート、n−オクタデシルメタクリレート、2−イソボルニルメタクリレート、2−ノルボルニルメチルメタクリレート、5−ノルボルネン−2−イルメチルメタクリレート、3−メチル−2−ノルボルニルメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレートなど)、 1-butyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, n-octyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, heptade force fluorodecyl methacrylate, n-octadecyl methacrylate, 2-isobol Nyl methacrylate, 2-norbornylmethyl methacrylate, 5-norbornen-2-ylmethyl methacrylate, 3-methyl-2-norbornylmethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate),

アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸(例えばメタクリル酸など)類から誘導されるアミド類(例えば、N−i−プロピルアクリルアミド、N−n−ブチルアクリルアミド、N−t−ブチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド)、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など)、ビニルエステル類(例えば酢酸ビニル)、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類(マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど)、マレイミド類(N−フェニルマレイミドなど)、マレイン酸、フマル酸、p−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類(例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン)、芳香族ビニル化合物(例えばスチレン、p−クロルスチレン、t−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム)、N−ビニルピロリドン、N−ビニルオキサゾリドン、N−ビニルサクシンイミド、N−ビニルホルムアミド、N−ビニル−N−メチルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニル−N−メチルアセトアミド、1−ビニルイミダゾール、4−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエチル類(例えばメチルビニルエチル)、エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン等が挙げられる。 Amides derived from acrylic acid or α-alkylacrylic acid (for example, methacrylic acid) (for example, Ni-propylacrylamide, Nn-butylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N, N-dimethyl) Acrylamide, N-methylmethacrylamide, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, acrylamidopropyltrimethylammonium chloride, methacrylamide, diacetone acrylamide, acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide), acrylic S derived from acids or α-alkyl acrylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, etc.), vinyl esters (eg vinyl acetate), maleic acid or fumaric acid Tellurium (dimethyl maleate, dibutyl maleate, diethyl fumarate, etc.), maleimide (N-phenylmaleimide, etc.), maleic acid, fumaric acid, sodium salt of p-styrenesulfonic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, dienes (For example, butadiene, cyclopentadiene, isoprene), aromatic vinyl compounds (for example, styrene, p-chlorostyrene, t-butylstyrene, α-methylstyrene, sodium styrenesulfonate), N-vinylpyrrolidone, N-vinyloxazolidone, N -Vinyl succinimide, N-vinylformamide, N-vinyl-N-methylformamide, N-vinylacetamide, N-vinyl-N-methylacetamide, 1-vinylimidazole, 4-vinylpyridine, vinylsulfonic acid, vinyl Sodium sulfonic acid, sodium allyl sulfonate, sodium methallyl sulfonate, vinylidene chloride, vinyl alkyl ethyl ethers (e.g. methyl vinyl ethyl), ethylene, propylene, 1-butene, isobutene and the like.

これらのビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーNo.19551(1980年、7月)に記載されているものを使用することができる。
なかでも、アクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類およびアミド類、ならびに芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられる。
Two or more of these vinyl monomers may be used in combination. Vinyl monomers other than these are listed in Research Disclosure No. Those described in 19551 (1980, July) can be used.
Of these, esters and amides derived from acrylic acid or methacrylic acid, and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used.

一般式(2)以外の繰り返し単位として、開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、ハードコート層の硬度を高めたい場合や、ハードコート層上に別の機能層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法が好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー(以下、反応性モノマーと称する)を共重合する手法が簡便で好ましい。   As the repeating unit other than the general formula (2), a repeating unit having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group can also be introduced. In particular, if you want to increase the hardness of the hard coat layer, or if you want to improve the adhesion between layers when using another functional layer on the hard coat layer, it is a copolymer containing a reactive group other than the ring-opening polymerizable group The technique is preferred. As a method for introducing a repeating unit having a reactive group other than the ring-opening polymerizable group, a method of copolymerizing a corresponding vinyl monomer (hereinafter referred to as a reactive monomer) is simple and preferable.

以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of a reactive monomer is shown below, this invention is not limited to these.

ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど)、N−メチロール基含有ビニルモノマー(例えば、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなど)、カルボキシル基含有ビニルモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル)、アルキルハライド含有ビニルモノマー(例えばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート)、酸無水物含有ビニルモノマー(例えばマレイン酸無水物)、ホルミル基含有ビニルモノマー(例えばアクロレイン、メタクロレイン)、スルフィン酸基含有ビニルモノマー(例えばスチレンスルフィン酸カリウム)、活性メチレン含有ビニルモノマー(例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート)、酸クロライド含有モノマー(例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド)、アミノ基含有モノマー(例えばアリルアミン)、アルコキシシリル基含有モノマー(例えばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン)などが挙げられる。   Hydroxyl group-containing vinyl monomers (eg, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, allyl alcohol, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, etc.), isocyanate group-containing vinyl monomers (eg, isocyanatoethyl acrylate, isocyanatoethyl methacrylate, etc.), N -Methylol group-containing vinyl monomers (for example, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, etc.), carboxyl group-containing vinyl monomers (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate), alkyl halides Vinyl monomers (eg chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate), acids Water-containing vinyl monomers (eg maleic anhydride), formyl group-containing vinyl monomers (eg acrolein, methacrolein), sulfinic acid group-containing vinyl monomers (eg potassium styrenesulfinate), active methylene-containing vinyl monomers (eg acetoacetoxyethyl) Methacrylate), acid chloride-containing monomers (eg acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride), amino group-containing monomers (eg allylamine), alkoxysilyl group-containing monomers (eg methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, acryloyloxypropyltrimethoxysilane), etc. Can be mentioned.

一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(2)で表される繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以上100質量%以下、好ましくは30質量%以上100質量%以下、特に好ましくは50質量%以上100質量%以下である。   In the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2), the proportion of the repeating unit represented by the general formula (2) is 1% by mass or more and 100% by mass or less, preferably 30% by mass or more. It is 100 mass% or less, Most preferably, it is 50 mass% or more and 100 mass% or less.

一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい数重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリエチレングリコール換算値)の範囲は、1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。   The range of the preferable number weight average molecular weight (measured by gel permeation chromatography, converted to polyethylene glycol) of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (2) is 1,000 to 1,000,000, more preferably 3000. More than 200,000. Most preferably, it is 5000 or more and 100,000 or less.

以下に一般式(2)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表1に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式(2)で表される繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量%で付記した。   Although the preferable example of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by General formula (2) below is shown in Table 1, this invention is not limited to these. In addition, the repeating unit represented by the general formula (2) mentioned above with the specific example is represented by the number of the specific example given above, and the repeating unit derived from the copolymerizable monomer describes the monomer name. The copolymer composition ratio is indicated by mass%.

Figure 2006079731
Figure 2006079731

既に述べたように、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線によって硬化する硬化性組成物には、開環重合性基を含む硬化樹脂とエチレン性不飽和基を同一分子内に3個以上含む硬化樹脂との両方を含有することが好ましい。
以下に、上記エチレン性不飽和基を同一分子内に3個以上含む硬化樹脂について詳しく説明する。
As described above, the curable composition that is cured by the active energy ray for forming the hard coat layer has three or more cured resins containing a ring-opening polymerizable group and ethylenically unsaturated groups in the same molecule. It is preferable to contain both the hardening resin to contain.
Hereinafter, the cured resin containing three or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule will be described in detail.

好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエチル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。
なお、同一分子内にエチレン性不飽和基を3個以上含む硬化樹脂と共に、エチレン性不飽和基を1個もしくは2個含む硬化樹脂(モノマーあるいはオリゴマー)を併用してもよい。
さらに、分子内に3〜6個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーや、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーなどを硬化樹脂として好ましく使用することができる。
Preferred types of ethylenically unsaturated groups are acryloyl group, methacryloyl group, styryl group and vinylethyl group, particularly preferably acryloyl group.
A cured resin (monomer or oligomer) containing one or two ethylenically unsaturated groups may be used in combination with a cured resin containing three or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule.
In addition, polyfunctional acrylate monomers having 3-6 acrylate groups in the molecule, and several hundred molecular weights having several acrylate groups in the molecule called urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate. To several thousand oligomers can be preferably used as the cured resin.

これら同一分子内に3個以上のアクリル基を有する硬化樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート類、ポリイソシナネー卜とヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of the cured resin having three or more acrylic groups in the same molecule include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Examples thereof include polyol polyacrylates such as dipentaerythritol hexaacrylate, urethane acrylates obtained by the reaction of polyisocyanate salt and hydroxyl group-containing acrylates such as hydroxyethyl acrylate.

また、同一分子内に3個以上のエチレン性不飽和基を有する硬化樹脂として、下記一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーも好ましく使用できる。以下、一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。   Moreover, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by following General formula (3) can also be preferably used as a cured resin which has three or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule. Hereinafter, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3) will be described in detail.

Figure 2006079731
Figure 2006079731

上記一般式(3)中、R2は、水素原子または炭素原子数1以上4以下のアルキル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。
2は、一価のエチレン性不飽和基またはエチレン性不飽和基を有する一価の基を表す。
2は、単結合もしくは二価以上の連絡基を表し、好ましくは単結合、−O−、アルキレン基、アリーレン基および「*」側で主鎖に連絡する*−COO−、*−CONH−、*−OCO−、*−NHCO−である。
好ましいP2としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基またはこれらの基のいずれかを含有する一価の基であり、最も好ましくはアクリロイル基またはこれを含有する一価の基である。
In the general formula (3), R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
P 2 represents a monovalent ethylenically unsaturated group or a monovalent group having an ethylenically unsaturated group.
L 2 represents a single bond or a divalent or higher valent linking group, preferably a single bond, —O—, an alkylene group, an arylene group, and * —COO—, * —CONH— which are connected to the main chain on the “*” side. , * -OCO-, * -NHCO-.
P 2 is preferably an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group or a monovalent group containing any of these groups, and most preferably an acryloyl group or a monovalent group containing the same.

一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、(i)対応するモノマーを重合させて直接エチレン性不飽和基を導入する手法で合成してもよく、(ii)任意の官能基を有するモノマーを重合して得られるポリマーに高分子反A応によりエチレン性不飽和基を導入する手法で合成してもよい。また、上記(i)および(ii)の手法を組み合わせて合成することもできる。重合反応としてはラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合などが挙げられる。
上記(i)の方法を用いる場合、重合反応により消費されるエチレン性不飽和基と架橋性ポリマー中に残されるエチレン性不飽和基の重合性の差を利用することにより可能である。例えば、一般式(3)のP2が、アクリロイル基、メタクリロイル基またはこれらのいずれかを含有する一価の基である場合、架橋性ポリマーを生成させる重合反応をカチオン重合とすることで上記(i)の手法によって本発明の架橋性ポリマーを得ることができる。一方、P2がスチリル基またはスチリル基を含有する一価の基である場合は、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合のいずれの方法をとってもゲル化が進行しやすいため、通常上記
(ii)の手法によって一般式(3)の架橋性ポリマーを合成する。
The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3) may be synthesized by a method of (i) directly introducing an ethylenically unsaturated group by polymerizing a corresponding monomer, and (ii) You may synthesize | combine by the method of introduce | transducing an ethylenically unsaturated group into a polymer obtained by superposing | polymerizing the monomer which has a functional group by high molecular reaction. Moreover, it can also synthesize | combine combining the method of said (i) and (ii). Examples of the polymerization reaction include radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization.
When the method (i) is used, it is possible to utilize the difference in polymerizability between the ethylenically unsaturated group consumed by the polymerization reaction and the ethylenically unsaturated group remaining in the crosslinkable polymer. For example, when P 2 in the general formula (3) is an acryloyl group, a methacryloyl group, or a monovalent group containing any one of these, the polymerization reaction for forming a crosslinkable polymer is referred to as cationic polymerization. The crosslinkable polymer of the present invention can be obtained by the method i). On the other hand, when P 2 is a styryl group or a monovalent group containing a styryl group, gelation is likely to proceed by any of radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization. The crosslinkable polymer of the general formula (3) is synthesized by a technique.

このように上記(ii)の高分子反応を利用する手法は、一般式(3)中に導入されるエチレン性不飽和基の種類によらず、架橋性ポリマーを得ることが可能であり、有用である。
高分子反応は、(I)例えば、2−クロロエチル基から塩酸を脱離させるようなエチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基を含むポリマーを生成させたあとに官能基変換(脱離反応、酸化反応、還元反応など)によりエチレン性不飽和基に誘導する方法と、(II)任意の官能基を含むポリマーを生成させたあとに、該ポリマー中の官能基と結合生成反応が進行して共有結合を生成しうる官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する反応性モノマーを反応させる方法が挙げられる。これら(I)、(II)の方法は組み合わせて行ってもよい。
Thus, the method using the polymer reaction of (ii) above is useful because it is possible to obtain a crosslinkable polymer regardless of the type of ethylenically unsaturated group introduced into the general formula (3). It is.
In the polymer reaction, (I) for example, after a polymer containing a functional group obtained by precuring an ethylenically unsaturated group that removes hydrochloric acid from a 2-chloroethyl group is generated, a functional group conversion (elimination reaction, (II) a method in which an ethylenically unsaturated group is derived by oxidation reaction, reduction reaction, etc.) and (II) after a polymer containing an arbitrary functional group is formed, a bond formation reaction proceeds with the functional group in the polymer. The method of reacting the reactive monomer which has both the functional group which can produce | generate a covalent bond, and an ethylenically unsaturated group is mentioned. These methods (I) and (II) may be performed in combination.

ここで言う結合形成反応とは、一般に有機合成分野で用いられる結合生成反応のなかで共有結合を形成する反応であれば特に制限なく使用できる。一方で、架橋性ポリマーに含まれるエチレン性不飽和基が反応中に熱重合し、ゲル化してしまう場合があるので、できるだけ低温(好ましくは60℃以下、特に好ましくは室温以下)で反応が進行するものが好ましい。また反応の進行を促進させる目的で触媒を用いても良く、ゲル化を抑制する目的で重合禁止剤を用いてもよい。   The bond formation reaction referred to here can be used without particular limitation as long as it is a reaction that forms a covalent bond in the bond formation reaction generally used in the field of organic synthesis. On the other hand, since the ethylenically unsaturated group contained in the crosslinkable polymer may be thermally polymerized and gelled during the reaction, the reaction proceeds at the lowest possible temperature (preferably 60 ° C. or less, particularly preferably room temperature or less). Those that do are preferred. A catalyst may be used for the purpose of promoting the progress of the reaction, and a polymerization inhibitor may be used for the purpose of suppressing gelation.

以下に好ましい高分子結合形成反応が進行する官能基の組み合わせの例を挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the example of the combination of the functional group in which a preferable polymer bond formation reaction advances below is given, this invention is not limited to these.

加熱もしくは室温で反応が進行する官能基の組み合わせとしては、
(イ)ヒドロキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、ホルミル基、アセタール基、
(ロ)イソシアネート基に対して、ヒドロキシル基、メルカプト基、アミノ基、カルボキシル基、N−メチロール基、
(ハ)カルボキシル基に対して、エポキシ基、イソシアネート基、アミノ基、N−メチロール基、
(ニ)N−メチロール基に対して、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、
(ホ)エポキシ基に対して、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、N−メチロール基、
(へ)ビニルスルホン基に対してスルフィン酸基、アミノ基、
(卜)ホルミル基に対してヒドロキシル基、メルカプト基、活性メチレン基、
(チ)メルカプト基に対して、ホルミル基、ビニル基(アリル基、アクリル基など)、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、
(リ)アミノ基に対して、ホルミル基、ビニル基(アリル基、アクリル基など)、エポキシ基、イソシアネート基、N−メチロール基、カルボキシル基、アルキルハライド、酸無水物、酸クロライド、活性エステル基(例えば硫酸エステル)、などの組み合わせが挙げられる。
As a combination of functional groups that the reaction proceeds at heating or room temperature,
(I) With respect to the hydroxyl group, epoxy group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride, acid chloride, active ester group (for example, sulfate ester), formyl group, acetal group,
(B) Isocyanate group, hydroxyl group, mercapto group, amino group, carboxyl group, N-methylol group,
(C) With respect to the carboxyl group, an epoxy group, an isocyanate group, an amino group, an N-methylol group,
(D) N-methylol group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, amino group, hydroxyl group,
(E) An epoxy group, a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, a carboxyl group, an N-methylol group,
(F) A sulfinic acid group, an amino group,
(Ii) hydroxyl group, mercapto group, active methylene group with respect to formyl group,
(H) Formyl group, vinyl group (allyl group, acrylic group, etc.), epoxy group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride chloride, active ester group (for mercapto group) Eg sulfuric ester),
(Li) Amino group, formyl group, vinyl group (allyl group, acrylic group, etc.), epoxy group, isocyanate group, N-methylol group, carboxyl group, alkyl halide, acid anhydride, acid chloride, active ester group (For example, sulfate ester), and the like.

以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of a reactive monomer is shown below, this invention is not limited to these.

ヒドロキシル基含有ビニルモノマー(例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど)、イソシアネート基含有ビニルモノマー(例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど)、N−メチロール基含有ビニルモノマー(例えば、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミドなど)、エポキシ基含有ビニルモノマー(例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエチル、CYCLOMER−M100、A200(ダイセル化学工業(株)製)など)、カルボキシル基含有ビニルモノマー(例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル)、アルキルハライド含有ビニルモノマー(例えばクロロメチルスチレン、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピルメタクリレート)、酸無水物含有ビニルモノマー(例えばマレイン酸無水物)、ホルミル基含有ビニルモノマー(例えばアクロレイン、メタクロレイン)、スルフィン酸基含有ビニルモノマー(例えばスチレンスルフィン酸カリウム)、活性メチレン含有ビニルモノマー(例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート)、ビニル基含有ビニルモノマー(例えばアリルメタクリレート、アリルアクリレート)、酸クロライド含有モノマー(例えばアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド)、アミノ基含有モノマー(例えばアリルアミン)、などが挙げられる。   Hydroxyl group-containing vinyl monomers (eg, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, allyl alcohol, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, etc.), isocyanate group-containing vinyl monomers (eg, isocyanatoethyl acrylate, isocyanatoethyl methacrylate, etc.), N -Methylol group-containing vinyl monomers (for example, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, etc.), epoxy group-containing vinyl monomers (for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ethyl, CYCLOMER-M100, A200 (Daicel Chemical Industries ( Etc.)), carboxyl group-containing vinyl monomers (eg acrylic acid, methacrylate) Acid, itaconic acid, carboxyethyl acrylate, vinyl benzoate), alkyl halide-containing vinyl monomers (eg, chloromethylstyrene, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate), acid anhydride-containing vinyl monomers (eg, maleic anhydride), Formyl group-containing vinyl monomer (for example, acrolein, methacrolein), sulfinic acid group-containing vinyl monomer (for example, potassium styrenesulfinate), active methylene-containing vinyl monomer (for example, acetoacetoxyethyl methacrylate), vinyl group-containing vinyl monomer (for example, allyl methacrylate, Allyl acrylate), acid chloride-containing monomers (for example, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride), amino group-containing monomers (for example, allylamine), and the like. It is.

上記(II)に記載した任意の官能基を含むポリマーは、反応性官能基とエチレン性不飽和基の両方を有する反応性モノマーの重合を行うことで得ることができる。また、ポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールのように反応性の低い前駆体モノマーの重合後、官能基変換を行うことで得ることもできる。
これらの場合の重合方法としては、ラジカル重合が最も簡便で好ましい。
The polymer containing any functional group described in (II) above can be obtained by polymerizing a reactive monomer having both a reactive functional group and an ethylenically unsaturated group. Moreover, it can also obtain by performing functional group conversion after superposition | polymerization of a precursor monomer with low reactivity like polyvinyl alcohol obtained by modify | denaturating polyvinyl acetate.
As a polymerization method in these cases, radical polymerization is the simplest and preferable.

以下に一般式(3)で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the repeating unit represented by General formula (3) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2006079731
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一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは複数種の一般式(3)で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式(3)以外の繰り返し単位(例えばエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位)を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのTgや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーのエチレン性不飽和基の含有量をコントロールする目的で一般式(3)以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとする手法は好適である。一般式(3)以外の繰り返し単位の導入方法は、(a)対応するモノマーを共重合させて直接導入する手法を用いてもよく、(b)官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入する手法を用いてもよい。また、(a)および(b)の手法を組み合わせて導入することもできる。   The crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3) may be a copolymer composed of a plurality of types of repeating units represented by the general formula (3), and other than the general formula (3). The copolymer containing the repeating unit (for example, the repeating unit which does not contain an ethylenically unsaturated group) may be sufficient. In particular, it is preferable to control the Tg or hydrophilicity / hydrophobicity of the crosslinkable polymer, or to prepare a copolymer containing a repeating unit other than the general formula (3) for the purpose of controlling the content of the ethylenically unsaturated group of the crosslinkable polymer. It is. As a method for introducing the repeating unit other than the general formula (3), (a) a method of directly introducing the corresponding monomer by copolymerization may be used, (b) a precursor monomer capable of functional group conversion is polymerized, A technique of introducing by polymer reaction may be used. Further, the methods (a) and (b) can be combined and introduced.

(a)の手法によって一般式(3)以外の繰り返し単位を対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、前述の一般式(2)の説明において、一般式(2)以外の繰り返し単位を対応するビニルモノマーを重合することによって導入する場合に好ましく用いられるモノマーとして挙げたものと同様なものが挙げられる。それらのビニルモノマーは2種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーNo.19551(1980年、7月)に記載されているものを使用することができる。なかでも、アクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類およびアミド類、ならびに芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられる。   In the case where the repeating unit other than the general formula (3) is introduced by polymerizing the corresponding vinyl monomer by the method of (a), as the monomer preferably used, in the description of the general formula (2), the general formula ( Examples of the monomer that is preferably used when a repeating unit other than 2) is introduced by polymerizing the corresponding vinyl monomer are the same as those mentioned above. Two or more of these vinyl monomers may be used in combination. Vinyl monomers other than these are listed in Research Disclosure No. Those described in 19551 (1980, July) can be used. Of these, esters and amides derived from acrylic acid or methacrylic acid, and aromatic vinyl compounds are particularly preferably used.

また、一般式(3)で表される繰り返し単位を前記(ii)のように高分子反応で導入し、反応を完結させない場合、エチレン性不飽和基をプレカーサー化した官能基や反応性官能基を含む繰り返し単位を有する共重合体となるが、本発明ではこれを特に制限無く用いることができる。   In addition, when the repeating unit represented by the general formula (3) is introduced by a polymer reaction as in the above (ii) and the reaction is not completed, a functional group or a reactive functional group obtained by precursorizing an ethylenically unsaturated group In the present invention, this can be used without particular limitation.

上記で挙げたビニルモノマーから誘導されるエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位の大部分は前述した(b)官能基変換可能な前駆体モノマーを重合させ、高分子反応により導入することも可能である。一方で、本発明において一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、高分子反応のみによってでしか導入できない、一般式(3)以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。典型的な例としてポリ酢酸ビニルを変性して得られるポリビニルアルコールやポリビニルアルコールのアセタール化反応によって得られるポリビニルブチラール等を挙げることができる。これらの繰り返し単位の具体的な例を以下に示すが本発明はこれらに限定されるものではない。   Most of the repeating units that do not contain ethylenically unsaturated groups derived from the vinyl monomers listed above can be introduced by polymerizing the above-mentioned (b) functional group-convertable precursor monomers and polymerizing them. It is. On the other hand, the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3) in the present invention may contain a repeating unit other than the general formula (3) that can be introduced only by a polymer reaction. Typical examples include polyvinyl alcohol obtained by modifying polyvinyl acetate, polyvinyl butyral obtained by acetalization reaction of polyvinyl alcohol, and the like. Specific examples of these repeating units are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006079731
Figure 2006079731

一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(3)で表される繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以上100質量%以下、好ましくは30質量%以上100質量%以下、特に好ましくは50質量%以上100質量%以下である。   In the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3), the proportion of the repeating unit represented by the general formula (3) is 1% by mass or more and 100% by mass or less, preferably 30% by mass or more. It is 100 mass% or less, Most preferably, it is 50 mass% or more and 100 mass% or less.

一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい数量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリエチレングリコール換算値)の範囲は、1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。   The range of the preferable number average molecular weight (measured by gel permeation chromatography, converted to polyethylene glycol) of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by the general formula (3) is 1,000 or more and 1,000,000 or less, more preferably 3000 or more. 200,000 or less. Most preferably, it is 5000 or more and 100,000 or less.

以下に一般式(3)で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を表2に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式(3)で表される繰り返し単位とポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量%で付記した。   Although the preferable example of the crosslinkable polymer containing the repeating unit represented by General formula (3) below is shown in Table 2, this invention is not limited to this. In addition, the repeating unit represented by the general formula (3) and the repeating unit such as polyvinyl alcohol described above with specific examples are represented by the numbers of the specific examples given above, and the repeating unit derived from a copolymerizable monomer. Indicates the name of the monomer and the copolymer composition ratio in mass%.

Figure 2006079731
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本発明に用いることのできる開環重合性基を有する硬化樹脂として、一般式(2)および(3)で表される両方の繰り返し単位を含むポリマーも挙げることができる。この場合の一般式(2)および(3)の好ましい繰り返し単位としては、前記したものと同じである。また、一般式(2)および(3)以外の繰り返し単位を含んだコポリマーであってもエチレン性不飽和基および開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位を含んだコポリマーであってもよい。   Examples of the cured resin having a ring-opening polymerizable group that can be used in the present invention also include polymers containing both repeating units represented by the general formulas (2) and (3). In this case, preferred repeating units of the general formulas (2) and (3) are the same as those described above. Further, even a copolymer containing a repeating unit other than the general formulas (2) and (3) is a copolymer containing a repeating unit having a reactive group other than an ethylenically unsaturated group and a ring-opening polymerizable group. Also good.

一般式(2)および(3)で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式(2)で表される繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以上99質量%以下、好ましくは20質量%以上80質量%以下、特に好ましくは30質量%以上70質量%以下であり、一般式(3)で表される繰り返し単位が含まれる割合は、1質量%以上99質量%以下、好ましくは20質量%以上80質量%以下、特に好ましくは30質量%以上70質量%以下である。   In the crosslinkable polymer containing both repeating units represented by the general formulas (2) and (3), the proportion of the repeating unit represented by the general formula (2) is 1% by mass or more and 99% by mass or less, Preferably they are 20 mass% or more and 80 mass% or less, Most preferably, they are 30 mass% or more and 70 mass% or less, and the ratio in which the repeating unit represented by General formula (3) is contained is 1 mass% or more and 99 mass% or less. The content is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less.

一般式(2)および(3)で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい重量平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる測定、ポリスチレン換算値)の範囲は、1000以上100万以下、さらに好ましくは3000以上20万以下である。最も好ましくは5000以上10万以下である。   The range of the preferable weight average molecular weight (measurement by gel permeation chromatography, polystyrene conversion value) of the crosslinkable polymer containing both repeating units represented by the general formulas (2) and (3) is 1,000 to 1,000,000. More preferably, it is 3000 or more and 200,000 or less. Most preferably, it is 5000 or more and 100,000 or less.

一般式(2)および(3)で表される両方の繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい例を下記表3に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、前記で具体例を挙げた一般式(2)および(3)で表される繰り返し単位とポリビニルアルコールなどの繰り返し単位は前記で挙げた具体例の番号で表し、共重合可能なモノマーから誘導される繰り返し単位は、モノマー名を記載し、共重合組成比を質量%で付記した。   Although the preferable example of the crosslinkable polymer containing both the repeating units represented by General formula (2) and (3) is shown in following Table 3, this invention is not limited to these. It should be noted that the repeating units represented by the general formulas (2) and (3) given above as specific examples and the repeating units such as polyvinyl alcohol are represented by the numbers of the specific examples given above and are derived from a copolymerizable monomer. The repeating unit is described with the monomer name, and the copolymer composition ratio is indicated by mass%.

Figure 2006079731
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ハードコート層を形成するための硬化性組成物に好ましく含有される、エチレン性不飽和基を同一分子内に3個以上含む硬化樹脂と開環重合性基を含む硬化樹脂との好ましい混合比は、用いる硬化樹脂の種類によっても異なり、特に制限はないが、エチレン性不飽和基を含む硬化樹脂の割合が硬化樹脂全体の30質量%以上90質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは50質量%以上80質量%以下である。   A preferable mixing ratio of a cured resin containing three or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule and a cured resin containing a ring-opening polymerizable group, preferably contained in the curable composition for forming the hard coat layer, The ratio of the cured resin containing an ethylenically unsaturated group is preferably 30% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 50%. The mass is 80% by mass or more.

エチレン性不飽和基を含む硬化樹脂と開環重合性基を含む硬化樹脂を含有する硬化性組成物(以下、特に断りのない限り、「硬化性組成物」は、これら両者の硬化樹脂を含有する組成物である)を硬化させる場合、両方の硬化樹脂の架橋反応が進行することが好ましい。エチレン性不飽和基の好ましい架橋反応はラジカル重合反応であり、開環重合性基の好ましい架橋反応はカチオン重合反応である。いずれの場合も活性エネルギー線の作用により、重合反応を進行させることができる。通常、重合開始剤と称される少量のラジカル発生剤およびカチオン発生剤(もしくは酸発生剤)を添加し、活性エネルギー線によりこれらを分解し、ラジカルおよびカチオンを発生させ重合を進行させることができる。ラジカル重合とカチオン重合は別々に行ってもよいが、同時に進行させることが好ましい。   A curable composition containing a curable resin containing an ethylenically unsaturated group and a curable resin containing a ring-opening polymerizable group (hereinafter, unless otherwise specified, the “curable composition” includes both of these curable resins. When the composition is cured, it is preferable that the crosslinking reaction of both cured resins proceed. A preferable crosslinking reaction of the ethylenically unsaturated group is a radical polymerization reaction, and a preferable crosslinking reaction of the ring-opening polymerizable group is a cationic polymerization reaction. In either case, the polymerization reaction can be advanced by the action of active energy rays. Usually, a small amount of radical generator and cation generator (or acid generator) called polymerization initiators can be added and decomposed by active energy rays to generate radicals and cations to proceed the polymerization. . Although radical polymerization and cationic polymerization may be performed separately, it is preferable to proceed simultaneously.

上記硬化性組成物を活性エネルギー線照射により硬化する場合、低温で架橋反応が進行する場合が多く、好ましい。
本発明では、活性エネルギー線として、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが用いられる。その中でも紫外線を用いて、ラジカルもしくはカチオンを発生させる重合開始剤を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好ましい。また紫外線を照射した後、加熱することにより、さらに硬化を進行させることができる場合があり、この方法を好ましく用いることができる。この場合の好ましい加熱温度は140℃以下である。
When the curable composition is cured by irradiation with active energy rays, the crosslinking reaction often proceeds at a low temperature, which is preferable.
In the present invention, radiation, gamma rays, alpha rays, electron beams, ultraviolet rays and the like are used as active energy rays. Among them, a method of adding a polymerization initiator that generates radicals or cations using ultraviolet rays and curing with ultraviolet rays is particularly preferable. Further, there may be a case where curing can be further advanced by heating after irradiation with ultraviolet rays, and this method can be preferably used. A preferable heating temperature in this case is 140 ° C. or lower.

紫外線によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の硬化樹脂やスルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の硬化樹脂が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、’’イメージング用有機材料’’ぶんしん出版社刊(1997)などに記載されている硬化樹脂等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはPF6 -、SbF6 -、AsF6 -、B(C654 -などが好ましい。 Examples of photoacid generators that generate cations by ultraviolet rays include ionic curable resins such as triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts, and nonionic curable resins such as nitrobenzyl esters of sulfonic acids. Various known photoacid generators such as cured resins described in the study group, “Imaging Organic Materials” published by Bunshin Publishing Co., Ltd. (1997) can be used. Among these, a sulfonium salt or an iodonium salt is particularly preferable, and PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 − and the like are preferable as a counter ion.

紫外線によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としてはアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン等の公知のラジカル発生剤が使用できる。また上記で挙げたように通常、光酸発生剤として用いられるスルホニウム塩やヨードニウム塩なども紫外線照射によりラジカル発生剤として作用するため、本発明ではこれらを単独で用いてもよい。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、およびチオキサントン誘導体等が含まれる。   Examples of polymerization initiators that generate radicals by ultraviolet rays include known radical generators such as acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoylbenzoate, benzoins, α-acyloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthone. Can be used. Further, as mentioned above, since sulfonium salts and iodonium salts that are usually used as photoacid generators also act as radical generators upon irradiation with ultraviolet rays, these may be used alone in the present invention. In addition to a polymerization initiator, a sensitizer may be used for the purpose of increasing sensitivity. Examples of the sensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone derivatives.

重合開始剤は、それぞれ組み合わせて用いてもよいし、単独でラジカルとカチオンの両方を発生させるような硬化樹脂の場合などは1種単独で用いることができる。重合開始剤の添加量としては、硬化性組成物中に含まれるエチレン性不飽和基含有硬化樹脂と開環重合性基含有硬化樹脂の総質量に対し、0.1〜15質量%の範囲で使用することが好ましく、1〜10質量%の範囲で使用することがさらに好ましい。   The polymerization initiators may be used in combination, or in the case of a cured resin that generates both radicals and cations alone, etc., one kind can be used alone. As addition amount of a polymerization initiator, it is 0.1-15 mass% with respect to the total mass of ethylenically unsaturated group containing cured resin and ring-opening polymerizable group containing cured resin contained in a curable composition. It is preferable to use it, and it is more preferable to use it in the range of 1 to 10% by mass.

一般式(2)で表される繰り返し単位を有する架橋性ポリマーや、一般式(3)で表される繰り返し単位を有する架橋性ポリマーを使用する場合は、通常、かかるポリマーは固体もしくは高精度液体となり単独での塗布は困難であり、ポリマーが水溶性の場合や水分散物とした場合は水系で塗布することもできるが、通常有機溶媒に溶解して塗布される。有機溶媒としては、かかるポリマーを溶解し得るものであれば特に制限なく使用できる。
好ましい有機溶媒としては、メチルエチルケトン等のケトン類、イソプロパノール等のアルコール類、酢酸エチルなどのエステル類などが挙げられる。また、前記した単官能もしくは多官能のビニルモノマーや、単官能、2官能または3官能以上の開環重合性基を有する硬化樹脂が低分子量硬化樹脂である場合、これらを併用すると、硬化性組成物の粘度を調節することが可能であり、溶媒を用いなくても塗布可能とすることもできる。
When a crosslinkable polymer having a repeating unit represented by the general formula (2) or a crosslinkable polymer having a repeating unit represented by the general formula (3) is used, the polymer is usually a solid or a high-precision liquid. In the case where the polymer is water-soluble or in the form of an aqueous dispersion, it can be applied in an aqueous system, but is usually dissolved in an organic solvent and applied. Any organic solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve such a polymer.
Preferable organic solvents include ketones such as methyl ethyl ketone, alcohols such as isopropanol, esters such as ethyl acetate, and the like. In addition, when the above-mentioned monofunctional or polyfunctional vinyl monomer, or a cured resin having a monofunctional, bifunctional, or trifunctional or higher ring-opening polymerizable group is a low molecular weight curable resin, when these are used in combination, a curable composition It is possible to adjust the viscosity of the product, and it can be applied without using a solvent.

また、硬化性組成物中に微粒子を添加してもよい。微粒子を添加することでハードコート層の硬化収縮量を低減できるため、基板や光透過層(以下、「基板等」ということがある)との密着性が向上したり、カールを低減でき好ましい。微粒子としては、無機微粒子、有機微粒子、有機・無機複合微粒子のいずれも使用できる。無機微粒子としては例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。このような無機微粒子は一般に硬質であり、ハードコート層に充填させることで、硬化時の収縮を改良できるだけではなく、表面の硬度も高めることができる。
ただし、微粒子は一般にヘイズを増加させる傾向があるために、各必要特性のバランスの上で充填方法が調整される。
Moreover, you may add microparticles | fine-particles in a curable composition. By adding fine particles, the amount of curing shrinkage of the hard coat layer can be reduced, which is preferable because adhesion with a substrate or a light transmission layer (hereinafter sometimes referred to as “substrate or the like”) can be improved or curling can be reduced. As the fine particles, any of inorganic fine particles, organic fine particles, and organic / inorganic composite fine particles can be used. Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles. Such inorganic fine particles are generally hard, and by filling the hard coat layer, not only the shrinkage during curing can be improved, but also the surface hardness can be increased.
However, since the fine particles generally tend to increase haze, the filling method is adjusted in view of the balance of each necessary characteristic.

一般に、無機微粒子は、かかるポリマーや多官能ビニルモノマーなどの有機成分との親和性が低いため単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後のハードコート層がひび割れやすくなる場合がある。そこで、無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を有機セグメントを含む表面修飾剤で処理することができる。表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。
無機微粒子に結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。
さらに有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和基、もしくは開環重合性基が好ましい。
本発明において好ましい無機微粒子表面修飾剤は金属アルコキシドもしくはアニオン性基とエチレン性不飽和基もしくは開環重合性基を同一分子内に有する硬化樹脂である。
In general, inorganic fine particles have a low affinity with organic components such as such polymers and polyfunctional vinyl monomers, so that they may form aggregates or crack the hard coat layer after curing by simply mixing them. Therefore, in order to increase the affinity between the inorganic fine particles and the organic component, the surface of the inorganic fine particles can be treated with a surface modifier containing an organic segment. The surface modifier preferably has a functional group capable of forming a bond with or adsorbing to the inorganic fine particles and a functional group having high affinity with the organic component in the same molecule.
Examples of the surface modifier having a functional group capable of binding or adsorbing to inorganic fine particles include metal alkoxide surface modifiers such as silane, aluminum, titanium, and zirconium, phosphate groups, sulfate groups, sulfonate groups, carboxylic acid groups, and the like. A surface modifier having an anionic group is preferred.
Furthermore, the functional group having a high affinity with the organic component may be simply a combination of the organic component and the hydrophilicity / hydrophobicity, but a functional group that can be chemically bonded to the organic component is preferable, particularly an ethylenically unsaturated group, Or a ring-opening polymerizable group is preferable.
A preferred inorganic fine particle surface modifier in the present invention is a cured resin having a metal alkoxide or an anionic group and an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group in the same molecule.

これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
S−1:H2C=C(X)COOC36Si(OCH33
S−2:H2C=C(X)COOC24OTi(OC253
S−3:H2C=C(X)COOC24OCOC510OPO(OH)2
S−4:(H2C=C(X)COOC24OCOC510O)2POOH、
S−5:H2C=C(X)COOC24OSO3H、
S−6:H2C=C(X)COO(C510COO)2H、
S−7:H2C=C(X)COOC510COOH、
S−8:3−(グリシジルオキシ)プロピルトリメトキシシラン、
ここで、Xは、水素原子あるいはCH3を表す。
Representative examples of these surface modifiers include the following unsaturated double bond-containing coupling agents, phosphate group-containing organic curable resins, sulfate group-containing organic curable resins, carboxylic acid group-containing organic curable resins, and the like. It is done.
S-1: H 2 C = C (X) COOC 3 H 6 Si (OCH 3) 3,
S-2: H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OTi (OC 2 H 5) 3,
S-3: H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OPO (OH) 2,
S-4: (H 2 C═C (X) COOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 O) 2 POOH,
S-5: H 2 C = C (X) COOC 2 H 4 OSO 3 H,
S-6: H 2 C = C (X) COO (C 5 H 10 COO) 2 H,
S-7: H 2 C = C (X) COOC 5 H 10 COOH,
S-8: 3- (glycidyloxy) propyltrimethoxysilane,
Here, X represents a hydrogen atom or CH 3 .

これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、または無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して撹拌するか、さらには無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って(必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはpH変更を行う)、そのあとで微細分散を行う方法でもよい。
表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。
The surface modification of these inorganic fine particles is preferably performed in a solution. When inorganic fine particles are mechanically finely dispersed, a surface modifier is present together, or after finely dispersing inorganic fine particles, the surface modifier is added and stirred, or before the fine inorganic particles are finely dispersed. Alternatively, the surface may be modified (if necessary, heated, dried and then heated, or changed in pH), and then finely dispersed.
As the solution for dissolving the surface modifier, an organic solvent having a large polarity is preferable. Specific examples include known solvents such as alcohols, ketones and esters.

有機微粒子としては特に制限がないが、エチレン性不飽和基を有するモノマーからなるポリマー粒子、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等、および本発明における一般式(1)および(3)からなるポリマー粒子が好ましく用いられ、その他に、ポリシロキサン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、ポリカーボネート、ナイロン、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、アセチルセルロース、ニトロセルロース、ゼラチン等の樹脂粒子が挙げられる。これらの粒子は架橋されていることが好ましい。
微粒子の微細化分散機としては、超音波、ディスパー、ホモジナイザ―、ディゾルバー、ポリトロン、ペイントシェーカー、サンドグラインダー、ニーダー、アイガーミル、ダイノミル、コボールミル等を用いることが好ましい。また、分散媒としては前述の表面修飾用の溶媒が好ましく用いられる。
The organic fine particles are not particularly limited, but polymer particles composed of monomers having an ethylenically unsaturated group, such as polymethyl methacrylate, polyethyl methacrylate, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, polyethylene, polypropylene, polystyrene Etc., and polymer particles comprising the general formulas (1) and (3) in the present invention are preferably used. Besides, polysiloxane, melamine resin, benzoguanamine resin, polytetrafluoroethylene, polycarbonate, nylon, polyvinyl alcohol, polytetra Examples thereof include resin particles such as fluoroethylene, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, acetylcellulose, nitrocellulose, and gelatin. These particles are preferably crosslinked.
As the fine particle disperser, it is preferable to use ultrasonic waves, dispersers, homogenizers, dissolvers, polytrons, paint shakers, sand grinders, kneaders, Eiger mills, dyno mills, coball mills and the like. As the dispersion medium, the above-mentioned solvent for surface modification is preferably used.

微粒子の充填量は、充填後のハードコート層の体積に対して、2〜40体積%が好ましく、3〜25体積%がより好ましく、5〜15体積%が最も好ましい。   The filling amount of the fine particles is preferably 2 to 40% by volume, more preferably 3 to 25% by volume, and most preferably 5 to 15% by volume with respect to the volume of the hard coat layer after filling.

ハードコート層のヘイズは1.5%以下であることが好ましく、1.2%以下がさらに好ましく、1.0%以下が最も好ましい。ヘイズの評価法は、日本電色工業(株)製の濁度計「NDH−1001DP」を用いて測定したヘイズ=(拡散光/全透過光)×100(%)として自動計測される値を用いた。   The haze of the hard coat layer is preferably 1.5% or less, more preferably 1.2% or less, and most preferably 1.0% or less. The evaluation method of haze is a value automatically measured as haze = (diffuse light / total transmitted light) × 100 (%) measured using a turbidimeter “NDH-1001DP” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Using.

ハードコートフイルムは、カールを以下の数式Bで表したときの値が、マイナス15〜プラス15の範囲に入っていることが好ましく、マイナス12〜プラス12の範囲がより好ましく、さらに好ましくはマイナス10〜プラス10である。このときのカールの試料内測定方向は、ウェッブ形態での塗布の場合、フイルムの搬送方向について測ったものである。   The hard coat film preferably has a curl value expressed by the following formula B in the range of minus 15 to plus 15, more preferably in the range of minus 12 to plus 12, more preferably minus 10. ~ Plus 10. The measurement direction of the curl in the sample at this time is measured in the film transport direction in the case of application in the web form.

(数式B)カール=1/R (Rは曲率半径(m))   (Formula B) Curl = 1 / R (R is radius of curvature (m))

これは、ハードコートフィルムの製造、加工、市場での取り扱いで、ひび割れ、膜はがれを起こさないための重要な特性である。カール値が前記範囲にあり、カールが小さいことが好ましい。上記範囲にカールを小さくすることと高表面硬度とすることは、ハードコート層形成用の硬化性組成物の硬化前後の体積収縮率を15%以下とすることによって可能である。
カールの測定は、JISK7619−1988の「写真フイルムのカールの測定法」中の方法Aのカール測定用型板を用いて行われる。測定条件は25、相対湿度60%、調湿時間10時間である。
ここで、カールがプラスとは基板等におけるハードコート層塗設側が湾曲の内側になるカールを言い、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。
また、ハードコートフイルムは、上記したカール測定法に基づいて、相対湿度のみを80%と10%に変更したときの各カール値の差の絶対値が、24〜0が好ましく、15〜0がさらに好ましく、8〜0が最も好ましい。これはさまざまな湿度下でフイルムを貼り付けたときのハンドリング性や剥がれ、ひび割れに関係する特性である。
This is an important characteristic for preventing cracks and peeling of the film in the manufacture, processing and market handling of hard coat films. It is preferable that the curl value is in the above range and the curl is small. It is possible to reduce the curl to a high surface hardness within the above range by setting the volume shrinkage ratio before and after curing of the curable composition for forming the hard coat layer to 15% or less.
The curl is measured by using the curl measurement template of Method A in “Measurement Method for Curling of Photo Film” of JIS K7619-1988. The measurement conditions are 25, relative humidity 60%, and humidity control time 10 hours.
Here, “curl plus” means a curl in which the hard coat layer coating side of the substrate or the like is inside the curve, and “minus” means a curl in which the coating side is outside the curve.
Further, the hard coat film has an absolute value of the difference between the curl values when only the relative humidity is changed to 80% and 10% based on the curl measurement method described above, preferably 24 to 0, and 15 to 0. More preferably, 8-0 is most preferable. This is a property related to handling, peeling and cracking when films are applied under various humidity conditions.

ハードコートフイルムの耐ひび割れ性は、ハードコート層塗設側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径が、50mm以下であることが好ましく、40mm以下がより好ましく、30mm以下が最も好ましい。エッジ部のひび割れについては、ひび割れがないか、ひび割れの長さが平均で1mm未満であることが好ましい。この耐ひび割れ性は、ハードコートフイルムの塗布、加工、裁断、貼りつけ等のハンドリングで割れ欠陥を出さないための重要な特性である。   The crack resistance of the hard coat film is preferably 50 mm or less, more preferably 40 mm or less, and most preferably 30 mm or less, when the hard coat layer is rolled with the coated side of the hard coat layer outside. preferable. About the crack of an edge part, it is preferable that there is no crack or the length of a crack is less than 1 mm on average. This crack resistance is an important characteristic for preventing crack defects during handling such as coating, processing, cutting, and sticking of a hard coat film.

活性エネルギー線硬化塗布液(硬化組成物の塗布液)は、ケトン系、アルコール系、エステル系等の有機溶剤に、上記の多官能モノマーと重合開始剤を主体に溶解して調製する。さらに、表面修飾した硬無機微粒子分散液と軟微粒子分散液を添加して調製することができる。   The active energy ray curable coating liquid (curing composition coating liquid) is prepared by dissolving the polyfunctional monomer and the polymerization initiator mainly in an organic solvent such as ketone, alcohol, or ester. Furthermore, it can be prepared by adding a surface-modified hard inorganic fine particle dispersion and a soft fine particle dispersion.

ハードコート層の作製は、フイルム上に活性エネルギー線硬化塗布液をディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤーバー法、スロットエクストルージョンコーター法(単層、重層)、スライドコーター法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、活性エネルギー線照射して、硬化させることにより作製することができる。
乾燥は、塗布した液膜中の有機溶媒濃度が、乾燥後に5質量%以下になる条件が好ましく、2質量%以下がより好ましく、1質量%以下がさらに好ましい。乾燥条件は、基板等の熱的強度や搬送速度、乾燥工程長さなどの影響を受けるが、できるだけ有機溶媒の含有率の低いほうが重合率を高める点で好ましい。
The hard coat layer is prepared by dipping the active energy ray curable coating solution on the film, spinner method, spray method, roll coater method, gravure method, wire bar method, slot extrusion coater method (single layer, multi-layer), slide It can be prepared by coating by a known thin film forming method such as a coater method, drying, irradiating with active energy rays and curing.
Drying is preferably performed under conditions where the organic solvent concentration in the applied liquid film is 5% by mass or less after drying, more preferably 2% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or less. The drying conditions are affected by the thermal strength of the substrate and the like, the conveyance speed, and the length of the drying process. However, it is preferable that the content of the organic solvent is as low as possible in order to increase the polymerization rate.

さらに、基板等とハードコート層との密着性を向上させる目的で、所望により基板等の片面又は両面に、酸化法や凹凸化法等により表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
更に、一層以上の下塗り層を設けることができる。下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、(メタ)アクリル酸エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテックス、低分子量ポリエステル、ゼラチン等の水溶性ポリマー等が挙げられる。さらに下塗り層に酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等の帯電防止剤を含有させることができる。
Furthermore, for the purpose of improving the adhesion between the substrate or the like and the hard coat layer, one or both surfaces of the substrate or the like can be subjected to a surface treatment by an oxidation method, an unevenness method, or the like as desired. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, glow discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and the like.
Furthermore, one or more undercoat layers can be provided. Examples of the material for the undercoat layer include copolymers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylic acid ester, and vinyl ester, or water-soluble polymers such as latex, low molecular weight polyester, and gelatin. Further, the undercoat layer may contain tin oxide, a metal oxide such as tin oxide / antimony oxide composite oxide, tin oxide / indium oxide composite oxide, or an antistatic agent such as a quaternary ammonium salt.

ハードコート層は、複数層構成でも可能であり、硬度の順に適宜積層して形成することもできる。   The hard coat layer may have a multi-layer structure, and may be formed by appropriately stacking in the order of hardness.

本発明の光情報記録媒体の種類としては、読出し専用型、追記型、書換え可能型等のいずれでもよいが、追記型であることが好ましい。また、記録形式としては、相変化型、光磁気型、色素型等、特に制限されないが、色素型であることが好ましい。   The type of the optical information recording medium of the present invention may be any of a read-only type, a write-once type, a rewritable type, etc., but is preferably a write-once type. The recording format is not particularly limited, such as a phase change type, a magneto-optical type, and a dye type, but is preferably a dye type.

本発明の光情報記録媒体として、基板上に、反射層、記録層、接着層(または粘着層)、光透過層、ハードコート層をこの順に有する構成を例にとって、その詳細と本発明の光情報記録媒体の製造方法とを以下に説明する。   As an optical information recording medium of the present invention, the details and the light of the present invention will be described by taking as an example a structure having a reflective layer, a recording layer, an adhesive layer (or adhesive layer), a light transmission layer, and a hard coat layer in this order on a substrate. A method for manufacturing the information recording medium will be described below.

(基板)
基板材料の具体例としては、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さ(記録層が形成される領域の平均の厚さ)は、1.1±0.3mmの範囲とすることが好ましい。
(substrate)
Specific examples of substrate materials include glass; acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; amorphous polyolefins; polyesters; metals such as aluminum; These may be used together if desired.
Among the above materials, polycarbonate and amorphous polyolefin are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low cost. Further, the thickness of the substrate (the average thickness of the region where the recording layer is formed) is preferably in the range of 1.1 ± 0.3 mm.

基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(オングルーブおよびイングルーブという。ここで、「オングルーブ」を「グルーブ」ということがある。)が形成されている。より高い記録密度を達成するためにCD−RやDVD−Rに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。   The substrate is provided with projections and depressions (referred to as on-groove and in-groove. Here, “on-groove” may also be referred to as “groove”) representing information such as a guide groove for tracking or an address signal. In order to achieve a higher recording density, it is preferable to use a substrate on which grooves having a narrower track pitch are formed as compared with CD-R and DVD-R.

グルーブのトラックピッチは、300〜360nmの範囲とすることが好ましい。より好ましくは、310〜340nmの範囲とする。
また、グルーブの深さ(溝深さ)は、20〜50nmの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラー信号が小さくなってトラッキングがかかりにくくなることを防ぎながら、成形が困難となることを防ぐことができる。より好ましくは、25〜40nmである。
The track pitch of the groove is preferably in the range of 300 to 360 nm. More preferably, the range is 310 to 340 nm.
Moreover, it is preferable to make the depth (groove depth) of a groove into the range of 20-50 nm. By setting it as such a range, it becomes possible to prevent the molding from becoming difficult while preventing the tracking error signal from becoming small and making tracking difficult. More preferably, it is 25-40 nm.

溝幅(オングルーブの半値幅)は、50〜140nmの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラーが低下を防ぎながら、ジッターを低減させることができる。より好ましくは、70〜130nmの範囲とし、さらに好ましくは、90〜120nmとする。   The groove width (on-groove half-value width) is preferably in the range of 50 to 140 nm. By setting this range, it is possible to reduce jitter while preventing a tracking error from being lowered. More preferably, it is set as the range of 70-130 nm, More preferably, it is set as 90-120 nm.

なお、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤等の表面改質剤;を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
In addition, it is preferable to form an undercoat layer on the surface of the substrate on the side where a reflective layer, which will be described later, is provided, for the purpose of improving planarity and adhesion.
Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, and chloro. Polymer materials such as sulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, etc .; silane coupling Surface modifiers such as agents;
The undercoat layer is formed by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. can do. The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, and preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

(反射層)
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、70%以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Au、Ag、Alあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、AgまたはAgを主成分とする合金(Ag:50質量%以上)である。
(Reflective layer)
For the reflective layer, a light reflective material having a high reflectance with respect to the laser beam is used. The reflectance is preferably 70% or more.
As a light reflecting material having high reflectance, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd , Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and semi-metals or stainless steel. These light reflecting materials may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds or as an alloy. Among these, Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel are preferable. Particularly preferred is Au, Ag, Al or an alloy thereof, and most preferred is Ag or an alloy containing Ag as a main component (Ag: 50% by mass or more).

反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲とし、50〜200nmの範囲とすることが好ましい。   The reflective layer can be formed on the substrate, for example, by vapor deposition, sputtering or ion plating of the light reflective material. The thickness of the reflective layer is generally in the range of 10 to 300 nm and preferably in the range of 50 to 200 nm.

(記録層)
記録層は、界面層上に形成され、波長500nm以下のレーザ光により情報の記録が可能な層で、有機色素を含有する色素型であることが好ましい。
前記有機色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
(Recording layer)
The recording layer is a layer formed on the interface layer and capable of recording information with a laser beam having a wavelength of 500 nm or less, and is preferably a dye type containing an organic dye.
Specific examples of the organic dye include a cyanine dye, an oxonol dye, a metal complex dye, an azo dye, and a phthalocyanine dye.

また、有機色素としては、特開平4−74690号公報、特開平8−127174号公報、同11−53758号公報、同11−334204号公報、同11−334205号公報、同11−334206号公報、同11−334207号公報、特開2000−43423号公報、同2000−108513号公報、および同2000−158818号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、上記有機色素と別に、または、当該有機色素ともに、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
Examples of organic dyes include JP-A-4-74690, JP-A-8-127174, JP-A-11-53758, JP-A-11-334204, JP-A-11-334205, and JP-A-11-334206. 11-334207, JP-A 2000-43423, 2000-108513, 2000-158818, and the like are preferably used.
Further, separately from or together with the organic dye, triazole compound, triazine compound, cyanine compound, merocyanine compound, aminobutadiene compound, phthalocyanine compound, cinnamic acid compound, viologen compound, azo compound, oxonol benzoxazole compound, Organic compounds such as benzotriazole compounds are also preferably used. Among these compounds, cyanine compounds, aminobutadiene compounds, benzotriazole compounds, and phthalocyanine compounds are particularly preferable.

記録層は、有機色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%の範囲、より好ましくは0.5〜5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範囲である。   The recording layer is prepared by dissolving a recording substance such as an organic dye in a suitable solvent together with a binder and the like, and then coating the coating liquid on the reflective layer formed on the substrate surface. After forming, it is formed by drying. The concentration of the recording substance in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, and most preferably. Is in the range of 0.5-3 mass%.

塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
Examples of the solvent of the coating solution include esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform; dimethylformamide and the like Amides; Hydrocarbons such as methylcyclohexane; Ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane; Alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol diacetone alcohol; 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, etc. Fluorinated solvents; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; That.
The above solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the recording material used. Various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be further added to the coating solution depending on the purpose.

結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子;を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して0.01倍量〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.1倍量〜5倍量(質量比)の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に0.01〜10質量%の範囲にあり、好ましくは0.1〜5質量%の範囲にある。   When a binder is used, examples of the binder include natural organic polymer materials such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin and rubber; hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and polyisobutylene; Vinyl resins such as vinyl, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resins, butyral resins, rubber And synthetic organic polymers such as derivatives and initial condensates of thermosetting resins such as phenol / formaldehyde resins. When a binder is used in combination as a material for the recording layer, the amount of binder used is generally in the range of 0.01 times to 50 times (mass ratio), preferably 0.1 times the recording substance. The amount is in the range of 5 to 5 times (mass ratio). The concentration of the recording substance in the coating solution thus prepared is generally in the range of 0.01 to 10% by mass, preferably in the range of 0.1 to 5% by mass.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に20〜500nmの範囲にあり、好ましくは30〜300nmの範囲にあり、より好ましくは50〜100nmの範囲にある。   Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method. The recording layer may be a single layer or a multilayer. The recording layer generally has a thickness in the range of 20 to 500 nm, preferably in the range of 30 to 300 nm, and more preferably in the range of 50 to 100 nm.

記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、および同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。
The recording layer can contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the recording layer.
As the antifading agent, a singlet oxygen quencher is generally used. As the singlet oxygen quencher, those described in publications such as known patent specifications can be used.
Specific examples thereof include JP-A Nos. 58-175893, 59-81194, 60-18387, 60-19586, 60-19587, and 60-35054. 60-36190, 60-36191, 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, JP-A-60-47069, JP-A-63-209995, JP-A-4-25492, JP-B-1-38680, JP-A-6-26028, etc., German Patent 350399, and Japan Examples include those described in Chemical Society Journal, October 1992, page 1141.

前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、さらに好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。   The amount of the antifading agent such as the singlet oxygen quencher used is usually in the range of 0.1 to 50% by mass, preferably in the range of 0.5 to 45% by mass, based on the amount of the dye. Preferably, it is the range of 3-40 mass%, Most preferably, it is the range of 5-25 mass%.

上記記録層と後述する光透過層との間には、バリア層を形成してもよい。かかる層を形成することで、水分や有機成分が記録層へ拡散することを防ぐことができる。
バリア層を構成する材料としては、レーザ光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ZnS、TiO2、SiO2、ZnS−SiO2、GeO2、Si34、Ge34、MgF2、等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、ZnS−SiO2、またはSiO2が好ましい。バリア層は、スパッタリング、イオンプレーティング等により形成すること可能で、その厚さは、1〜100nmとすることが好ましい。
A barrier layer may be formed between the recording layer and a light transmission layer described later. By forming such a layer, it is possible to prevent moisture and organic components from diffusing into the recording layer.
The material constituting the barrier layer as long as the material transmits the laser beam is not particularly limited, is preferably a dielectric, and more specifically, ZnS, TiO 2, SiO 2 , ZnS-SiO 2 , GeO 2 , Si 3 N 4 , Ge 3 N 4 , MgF 2 , and other inorganic oxides, nitrides, and sulfides. ZnS—SiO 2 or SiO 2 is preferable. The barrier layer can be formed by sputtering, ion plating, or the like, and the thickness is preferably 1 to 100 nm.

(光透過層)
光透過層としては、透明シートや紫外線硬化樹脂等からなる層が挙げられ、光情報記録媒体内部を衝撃などから防ぐために形成される。当該光透過層としては、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、23℃50%RHでの吸湿率が5%以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する(透過率:90%以上)ほどに透明であることを意味する。
(Light transmission layer)
Examples of the light transmission layer include a layer made of a transparent sheet, an ultraviolet curable resin, or the like, and is formed to prevent the inside of the optical information recording medium from being impacted. The light transmission layer is not particularly limited as long as it is a transparent material, but is preferably polycarbonate, cellulose triacetate, or the like, more preferably a material having a moisture absorption rate of 5% or less at 23 ° C. and 50% RH. .
Note that “transparent” means that the recording light and the reproduction light are so transparent that the light is transmitted (transmittance: 90% or more).

透明シートは、例えば以下のようにして設けることができる。光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上(バリア層等が形成されている場合はその上)に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えば、プラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)をラミネートし、ラミネートしたTACフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。前記TACフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。透明シートの厚さは、0.01〜0.2mmの範囲であり、好ましくは0.03〜0.1mmの範囲、より好ましくは0.05〜0.095mmの範囲である。
なお、透明シートとして、ポリカーボネートシート等を使用することもできる。透明シートの貼り合わせ面に粘着剤が付与されている場合は、上記接着剤は必要ない。
また、既述のように透明シートの代わりに、紫外線硬化樹脂等からなる光透過層を形成してもよい。
The transparent sheet can be provided as follows, for example. After preparing a coating solution by dissolving the photocurable resin in an appropriate solvent, this coating solution is applied onto the recording layer (if a barrier layer or the like is formed) at a predetermined temperature to form a coating film. For example, a cellulose triacetate film (TAC film) obtained by, for example, plastic extrusion is laminated on the coating film, and the coating film is cured by irradiating light from the laminated TAC film. Is done. The TAC film preferably contains an ultraviolet absorber. The thickness of the transparent sheet is in the range of 0.01 to 0.2 mm, preferably in the range of 0.03 to 0.1 mm, and more preferably in the range of 0.05 to 0.095 mm.
In addition, a polycarbonate sheet etc. can also be used as a transparent sheet. When the adhesive is given to the bonding surface of a transparent sheet, the said adhesive agent is unnecessary.
Moreover, you may form the light transmissive layer which consists of ultraviolet curable resin etc. instead of a transparent sheet as already stated.

(ハードコート層)
ハードコート層の材質などは既述の通りである。ハードコート層は、基板上に、反射層、記録層等を形成し、その上に光透過層を形成した後、当該光透過層上に塗布などの手段により形成することができる。また、光透過層が透明シートの場合、透明シートを記録層上に貼り合わせる前に、当該透明シート上にハードコート層を形成し、ハードコート層が最表面になるようにして、透明シートを記録層上に貼り合わせて、本発明の光情報記録媒体を作製してもよい
(Hard coat layer)
The material of the hard coat layer is as described above. The hard coat layer can be formed on the substrate by forming a reflective layer, a recording layer, etc., forming a light transmission layer thereon, and then applying the light transmission layer on the light transmission layer. Further, when the light transmission layer is a transparent sheet, before the transparent sheet is bonded onto the recording layer, a hard coat layer is formed on the transparent sheet so that the hard coat layer is the outermost surface, The optical information recording medium of the present invention may be produced by laminating on the recording layer.

本発明の光情報記録媒体で、ハードコート層が形成される前の構成としては、プレグルーブが形成された基板上に記録層、光反射層および保護層をこの順に有する構成、あるいは該基板上に光反射層、記録層および保護層をこの順に有する構成等であってもよい。また、プレグルーブが形成された透明な基板上に記録層及び光反射層が設けられてなる二枚の積層体が、それぞれの記録層が内側となるように接合された構成でもよい。   In the optical information recording medium of the present invention, the structure before the hard coat layer is formed includes a structure having a recording layer, a light reflecting layer and a protective layer in this order on the substrate on which the pregroove is formed, or on the substrate. In addition, a structure having a light reflecting layer, a recording layer, and a protective layer in this order may be used. Alternatively, a structure in which two laminated bodies in which a recording layer and a light reflection layer are provided on a transparent substrate on which a pre-groove is formed is joined so that each recording layer is on the inner side.

次に、本発明の光情報記録媒体が、短波長のレーザ光により情報を記録再生する光情報記録媒体に適用される場合の当該情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度にて回転させながら、例えば、透明シート側(貼り合わせ型の場合は基板側)から記録用の350〜500nm(好ましくは、400〜440nm)のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生成)が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
Next, a description will be given of a method for recording information and a method for reproducing recorded information when the optical information recording medium of the present invention is applied to an optical information recording medium that records and reproduces information with a short-wavelength laser beam.
Information is recorded on the optical information recording medium, for example, as follows.
First, while rotating the optical information recording medium at a constant linear velocity, for example, a laser beam of 350 to 500 nm (preferably 400 to 440 nm) for recording is applied from the transparent sheet side (substrate side in the case of a bonded type). Irradiate. By this laser light irradiation, the recording layer absorbs the light and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) and changing its optical characteristics. Information is recorded by this change in optical characteristics.

350〜500nmの発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約430nmの青紫色SHGレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率(NA)は0.7以上が好ましく、0.80以上がより好ましい。
Examples of the laser light source having an oscillation wavelength of 350 to 500 nm include a blue-violet semiconductor laser having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm, a blue-violet SHG laser having a central oscillation wavelength of about 430 nm, and the like.
In order to increase the recording density, the numerical aperture (NA) of the objective lens used for the pickup is preferably 0.7 or more, and more preferably 0.80 or more.

一方、記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光を透明シート側(貼り合わせ型の場合は基板側)から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。   On the other hand, the recorded information is reproduced by rotating the optical information recording medium at the same constant linear velocity as described above, and transmitting laser light having the same wavelength as or less than that of the laser used for information recording on the transparent sheet side ( In the case of a bonding type, irradiation can be performed by irradiating from the substrate side) and detecting the reflected light.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

〔実施例1〕
(光情報記録媒体の作製)
厚さ1.1mm、直径120mmのスパイラル状のグルーブ(深さ100nm、幅120nm,トラックピッチ320nm)を有する射出成形ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製ポリカーボネート商品名パンライトAD5503)基板のグルーブを有する面上に、Agをスパッタリングして100nmの膜厚の反射層を形成した。その後、フタロシアニン系色素(オラゾールブルーGN:cibaスペシャリティケミカル社製)を2,2,3,3,−テトラフルオロプロパノールと混ぜ2時間超音波を行って溶解して色素塗布液を調製した。この色素塗布液をスピンコート法により、回転数を300rpmから4000rpmまで変化させながら23℃50%RHの条件で反射層上に塗布した。
[Example 1]
(Production of optical information recording medium)
On the surface having the groove of an injection-molded polycarbonate resin (polycarbonate product name Panlite AD5503 manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) having a spiral groove (depth 100 nm, width 120 nm, track pitch 320 nm) having a thickness of 1.1 mm and a diameter of 120 mm Then, Ag was sputtered to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Thereafter, a phthalocyanine dye (Orazol Blue GN: manufactured by ciba Specialty Chemicals) was mixed with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol and dissolved by ultrasonication for 2 hours to prepare a dye coating solution. This dye coating solution was applied onto the reflective layer by a spin coating method under the conditions of 23 ° C. and 50% RH while changing the rotation speed from 300 rpm to 4000 rpm.

その後、23℃50%RHで1時間保存後、バリア層としてZnS・SiO2をスパッタリングにて5nmの厚みになるように形成した。その後、下記方法で作製したハードコート層および粘着剤付きカバーフィルムをローラ等の押し圧手段を使用して貼り合わせて、基板上に反射層、記録層、バリア層、粘着層、光透過層(カバーフィルム)、ハードコート層をこの順に有する光記録媒体を作製した。 Then, after storing at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour, ZnS · SiO 2 was formed as a barrier layer to a thickness of 5 nm by sputtering. Thereafter, the hard coat layer and the cover film with pressure-sensitive adhesive prepared by the following method are bonded together using a pressing means such as a roller, and the reflective layer, the recording layer, the barrier layer, the pressure-sensitive adhesive layer, the light transmitting layer ( An optical recording medium having a cover film) and a hard coat layer in this order was produced.

(ハードコート層および粘着剤付きカバーフィルムの作製)
(1)添加剤入りハードコート層塗布液の調製:
メチルエチルケトン(MEK)中にグリシジルメタクリレートを溶解させ、熱重合開始剤(V−65、和光純薬工業(株)製)を滴下しながら80℃で2時間反応させた。得られた反応溶液をヘキサンに滴下し、沈殿物を減圧乾燥して得たポリグリシジルメタクリレート(ポリスチレン換算分子量:12000)をメチルエチルケトンに50質量%の濃度になるように溶解した溶液を調製した。当該溶液100質量部に、トリメチロールプロパントリアクリレート(ビスコート♯295、大阪有機化学工業(株)製)150質量部と光ラジカル重合開始剤(イルガキュア184、チバガイギー社製)6質量部と光カチオン重合開始剤(ロードシル2074、ローディア社製)6質量部と添加剤である防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:48%)10質量部とを30質量部のメチルイソブチルケトンに溶解したものを、撹拌しながら混合し、防汚剤含有ハードコート層塗布液(h−1)を調製した。なお、防汚剤F−531Aの一般構造式および本実施例1で使用した防汚剤F−531Aを下記に示す。
(Preparation of hard coat layer and cover film with adhesive)
(1) Preparation of additive-containing hard coat layer coating solution:
Glycidyl methacrylate was dissolved in methyl ethyl ketone (MEK) and reacted at 80 ° C. for 2 hours while dropwise adding a thermal polymerization initiator (V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). The obtained reaction solution was dropped into hexane, and a solution was prepared by dissolving polyglycidyl methacrylate (polystyrene equivalent molecular weight: 12000) obtained by drying the precipitate under reduced pressure in methyl ethyl ketone so as to have a concentration of 50% by mass. 100 parts by mass of the solution, 150 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (Biscoat # 295, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), 6 parts by mass of a radical photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) and photocationic polymerization 30 parts by weight of methyl isobutyl ketone containing 6 parts by weight of an initiator (Lordsil 2074, Rhodia) and 10 parts by weight of an antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 48%). The dissolved one was mixed with stirring to prepare an antifouling agent-containing hard coat layer coating solution (h-1). The general structural formula of the antifouling agent F-531A and the antifouling agent F-531A used in Example 1 are shown below.

Figure 2006079731
Figure 2006079731

(2)ハードコート層の形成:
ロール状に巻かれたポリカーボネートフィルム(帝人製ピュアエース、厚さ:75μm、片面離型フィルム付き)を剥離し、その面に防汚剤含有ハードコート層塗布液(h−1)を5μmの厚みになるようにエクストルージョン方式で塗布、乾燥した。その後、紫外線を照射(700mJ/cm2)して、厚さ80μmの防汚剤含有ハードコート層が形成されたポリカーボネートフィルムを作製し、ロール状に巻き取った。
(2) Formation of hard coat layer:
A polycarbonate film wound in a roll (Teijin Pure Ace, thickness: 75 μm, with a single-sided release film) is peeled off, and the antifouling agent-containing hard coat layer coating solution (h-1) is 5 μm thick on the surface. It was applied and dried by an extrusion method. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated (700 mJ / cm 2 ) to produce a polycarbonate film on which an antifouling agent-containing hard coat layer having a thickness of 80 μm was formed, and wound into a roll.

(3)粘着剤塗布液の調製:
アクリル系共重合体(溶剤:酢酸エチル/トルエン=1:1)とイソシアネート系架橋剤(溶剤:酢酸エチル/トルエン=1:1)を100:1で混合し粘着剤塗布液(n−1)を調製した。
(3) Preparation of adhesive coating solution:
An acrylic copolymer (solvent: ethyl acetate / toluene = 1: 1) and an isocyanate-based crosslinking agent (solvent: ethyl acetate / toluene = 1: 1) are mixed at a ratio of 100: 1 to give an adhesive coating solution (n-1). Was prepared.

(4)粘着層の形成、乾燥、巻取りおよび打ち抜き:
ロール状にポリエチレン性離型フィルムを搬送しながら上記塗布液(n−1)を連続的に乾燥厚20μmになるように塗布し、乾燥ゾーン(100℃)中で乾燥させ、その直後、オーバーコート層が形成されたポリカーボネートフィルムのポリカーボネート面と前記粘着剤面(粘着層)が貼り合わせるようにロール状に共巻する。巻き取られたロール状で23℃50%、72時間保持した。
その後、ディスク(基板)と同一形状に打ち抜いてハードコート層を有し、粘着剤が付与されたカバーフィルムを作製した。
(4) Formation of adhesive layer, drying, winding and punching:
While feeding the polyethylene release film in roll form, the coating solution (n-1) is continuously applied to a dry thickness of 20 μm and dried in a drying zone (100 ° C.). It rolls together in a roll shape so that the polycarbonate surface of the polycarbonate film in which the layer was formed, and the said adhesive surface (adhesion layer) may be bonded together. The roll was wound up and held at 23 ° C. and 50% for 72 hours.
Thereafter, a cover film having a hard coat layer and having an adhesive was punched into the same shape as the disk (substrate).

〔実施例2〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤a(F含量33%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
なお、F含有量は、実施例1で使用した防汚剤F−531Aの上記一般構造式で表される化合物中のmおよびnの比率を変えて、調整した(以下の実施例および比較例でも同様)。
[Example 2]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent a (F content 33%). .
The F content was adjusted by changing the ratio of m and n in the compound represented by the above general structural formula of the antifouling agent F-531A used in Example 1 (the following Examples and Comparative Examples). But the same).

すなわち、上記一般構造式中、mおよびnは通常、3〜50の整数であるが、本実施例では、mを4とし、nを4とした。なお、「m」は、m1とm2とm3とm4との和である。 That is, in the above general structural formula, m and n are usually integers of 3 to 50, but in this example, m is 4 and n is 4. “M” is the sum of m 1 , m 2 , m 3 and m 4 .

〔実施例3〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤b(F含量25%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、本実施例では、上記一般構造式中、mを4とし、nを2とした。
Example 3
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent b (F content 25%). . In this example, m is 4 and n is 2 in the above general structural formula.

〔実施例4〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤c(F含量45%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、本実施例では、上記一般構造式中、mを3とし、nを9とした。
Example 4
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent c (F content 45%). . In this example, m was 3 and n was 9 in the above general structural formula.

〔実施例5〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤d(F含量55%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、本実施例では、上記一般構造式中、mを3とし、nを17とした。
Example 5
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent d (F content 55%). . In this example, m is 3 and n is 17 in the above general structural formula.

〔実施例6〕
ハードコート層の厚みを10μmとし、粘着層の厚みを15μmとした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
Example 6
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was 10 μm and the thickness of the adhesive layer was 15 μm.

〔実施例7〕
ハードコート層の厚みを1μmとし、粘着層の厚みを24μmとした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
Example 7
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was 1 μm and the thickness of the adhesive layer was 24 μm.

〔比較例1〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤e(F含量20%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、本比較例では、上記一般構造式中、mを4とし、nを1とした。
[Comparative Example 1]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent e (F content 20%). . In this comparative example, m is 4 and n is 1 in the above general structural formula.

〔比較例2〕
防汚剤F−531A(DIC(株)製、F含量:43%)を防汚剤f(F含量60%)とした以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。なお、本比較例では、上記一般構造式中、mを3とし、nを24とした。
[Comparative Example 2]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent F-531A (manufactured by DIC Corporation, F content: 43%) was changed to the antifouling agent f (F content 60%). . In this comparative example, m is 3 and n is 24 in the above general structural formula.

〔比較例3〕
ハードコート塗布液に防汚剤を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
[Comparative Example 3]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the antifouling agent was not added to the hard coat coating solution.

〔比較例4〕
ハードコートを形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
[Comparative Example 4]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that no hard coat was formed.

〔評価〕
作製した光情報記録媒体について、(1)CとFとの強度比、(2)鉛筆硬度試験、(3)耐摩擦性、(4)防汚性、(5)記録特性の測定の評価を行った。結果を下記表4に示す。また、上記各評価の具体的な方法は下記の通りである。
[Evaluation]
About the produced optical information recording medium, (1) Strength ratio of C and F, (2) Pencil hardness test, (3) Friction resistance, (4) Antifouling property, (5) Evaluation of measurement of recording characteristics went. The results are shown in Table 4 below. Moreover, the specific method of each said evaluation is as follows.

Figure 2006079731
Figure 2006079731

(1)ハードコート層表面のCとFとの強度比((F/C)Arおよび(F/C)surfaceの測定):
測定には、島津製作所製のESCA−3400を使用した。エッチング10秒間間隔で0〜450秒測定し、0秒(深さ0nm:表面)のときのFとCとの強度比と、45秒(深さ10nm)のときのFとCとの強度比とを測定し、それぞれ、(F/C)surfaceおよび(F/C)Arとした。
また、測定条件は下記の通りとした。
1)照射X線・・・モノクロAl/Kα,12kV,10mA
2)測定スペクトル・・・Cの1sピーク、Fの1sピーク
3)試料チャンバー内真空度・・・1×10-8Torr
4)スパッタエッチングを行う場合のAr+イオンビームの出力・・・12keV
(1) Strength ratio between C and F on the hard coat layer surface (measurement of (F / C) Ar and (F / C) surface ):
For the measurement, ESCA-3400 manufactured by Shimadzu Corporation was used. Measurement is performed at an interval of 10 seconds from 0 to 450 seconds, and the intensity ratio between F and C at 0 seconds (depth 0 nm: surface) and the intensity ratio between F and C at 45 seconds (depth 10 nm). Were measured as (F / C) surface and (F / C) Ar , respectively.
The measurement conditions were as follows.
1) Irradiation X-ray: Monochrome Al / Kα, 12 kV, 10 mA
2) Measurement spectrum: 1s peak of C, 1s peak of F 3) Vacuum degree in sample chamber: 1 × 10 −8 Torr
4) Output of Ar + ion beam when performing sputter etching: 12 keV

(2)鉛筆硬度試験:
作製した光情報記録媒体を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006で規定される鉛筆を用いて、JIS−K−5400で規定される鉛筆硬度評価方法に従い、9.8Nの荷重にて傷が認められない鉛筆の硬度を求めた。なお、表4中、◎は3Hの鉛筆で傷が認められない場合を示し、○は、傷がわずかに認められる場合を示し、×は、傷が認められる場合を示す。
(2) Pencil hardness test:
The prepared optical information recording medium is conditioned at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, and then a pencil hardness specified by JIS-K-5400 is used using a pencil specified by JIS-S-6006. According to the evaluation method, the hardness of a pencil with no scratches observed at a load of 9.8 N was determined. In Table 4, ◎ indicates a case where no scratch is observed with a 3H pencil, ◯ indicates a case where a scratch is slightly observed, and x indicates a case where a scratch is observed.

(3)耐摩擦性:
表面を♯0000(超極細)のスチールウールを用い、1.96N/cm2の荷重を掛けながら擦ったときの傷が目視できるかどうかで評価した。
なお、表4中、◎は300回擦っても傷が見えない状態を示し、○は、300回擦っても傷が僅かしか見えない状態を示し、×は、100回未満で目視できる傷が発生してしまう状態を示す。
(3) Friction resistance:
It was evaluated by using # 0000 (ultra-fine) steel wool on the surface whether or not scratches could be visually observed when rubbed while applying a load of 1.96 N / cm 2 .
In Table 4, ◎ indicates a state where no scratches are visible even after rubbing 300 times, ○ indicates a state where few scratches are visible even after rubbing 300 times, and x indicates a scratch that can be visually observed after less than 100 times Indicates the state that will occur.

(4)防汚性:
表面に書いた速乾燥性油性インキ(ゼブラ製、「マッキー(R)」)を東レ(株)製の「トレシー(R)」を用いて数回擦って拭き取ってその状態を評価した。
なお、表4中、◎は書いた跡が完全に拭き取れた状態を示し、○はほとんど拭き取れたが、僅かに残った状態を示し、×は大部分が残った状態を示す。
(4) Antifouling property:
The state of the quick-drying oil-based ink (Zebra, “Mackey (R)”) written on the surface was wiped by rubbing several times using “Toraysee (R)” manufactured by Toray Industries, Inc.
In Table 4, “◎” indicates a state in which written marks are completely wiped off, “◯” indicates a state in which the written mark is almost wiped off, but a slight amount remains, and “×” indicates a state in which most of the mark remains.

(5)記録特性の測定:
上記(3)のスチールウールによる耐摩擦性試験を行った後、波長405nmで発光する青紫レーザと、開口数(NA)0.85の対物レンズから構成されるピックアップとを有する記録再生装置DDU−1000(パルステック工業社製)に作製した光情報記録媒体を装着して、最短ピット長を0.16μmに設定した17pp変調信号の記録と再生とを行い信号再生ジッタを測定した。
(5) Measurement of recording characteristics:
After performing the friction resistance test with steel wool of (3) above, a recording / reproducing apparatus DDU- having a blue-violet laser emitting at a wavelength of 405 nm and a pickup composed of an objective lens having a numerical aperture (NA) of 0.85 An optical information recording medium produced at 1000 (manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) was mounted, and a 17 pp modulated signal with the shortest pit length set to 0.16 μm was recorded and reproduced to measure signal reproduction jitter.

上記表4より、比較例1〜比較例4の光情報記録媒体では、鉛筆硬度試験、耐摩擦性、防汚性、記録特性のいずれかが低い評価であった。これに対し、実施例1〜7の光情報記録媒体では、上記評価はいずれも高いものであった。   From Table 4 above, in the optical information recording media of Comparative Examples 1 to 4, any of the pencil hardness test, abrasion resistance, antifouling property, and recording characteristics was evaluated as low. On the other hand, in the optical information recording media of Examples 1 to 7, all the above evaluations were high.

Claims (3)

基板上に、記録層、光透過層、ハードコート層が設けられてなる光情報記録媒体であって、
前記ハードコート層表面をX線光電子分光法で測定した際のFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)surfaceが0.01〜1.0であることを特徴とする光情報記録媒体。
An optical information recording medium in which a recording layer, a light transmission layer, and a hard coat layer are provided on a substrate,
A ratio of F peak intensity to C peak intensity when the hard coat layer surface is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (F / C) surface is 0.01 to 1.0. Optical information recording medium.
前記X線光電子分光法で(F/C)surfaceを測定した後、Ar+イオンビームによるスパッタエッチング(12keV)を5〜500秒間で行った後の前記ハードコート層表面におけるFのピーク強度と、Cのピーク強度との比(F/C)Arが、前記(F/C)surfaceの1/20以上であること特徴とする請求項1に記載の光情報記録媒体。 After measuring the (F / C) surface by the X-ray photoelectron spectroscopy, the peak intensity of F on the hard coat layer surface after performing sputter etching (12 keV) with Ar + ion beam for 5 to 500 seconds, 2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the ratio of C to the peak intensity (F / C) Ar is 1/20 or more of the (F / C) surface . 前記ハードコート層に含有される添加剤中のF含有量が30〜60質量%であることを特徴とする請求項1または2に記載の光情報記録媒体。   The optical information recording medium according to claim 1, wherein an F content in the additive contained in the hard coat layer is 30 to 60% by mass.
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