JP2006071981A - マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 - Google Patents
マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006071981A JP2006071981A JP2004255359A JP2004255359A JP2006071981A JP 2006071981 A JP2006071981 A JP 2006071981A JP 2004255359 A JP2004255359 A JP 2004255359A JP 2004255359 A JP2004255359 A JP 2004255359A JP 2006071981 A JP2006071981 A JP 2006071981A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microlens
- microlens array
- substrate
- convex
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 70
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0018—Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】 透明基板10上に、凸形状を有するマイクロレンズ10bが複数アレイ状に形成されてなるマイクロレンズアレイ20において、マイクロレンズ10bを、基板10の一表面10aよりも内側に入り込んだ位置において、該一表面10a側に凸となり、かつ凸形状の先端が該一表面10aより低い状態に形成する。
【選択図】 図1
Description
上記本発明によるマイクロレンズアレイの中で、特に基板の一表面に応力制御膜が形成されたマイクロレンズアレイを作製する方法であって、
透明基板上に前記マイクロレンズの配置パターンに対応した開口を有する応力制御膜を形成し、
該透明基板の前記開口が存在する位置にそれぞれ、マイクロレンズの形状に対応した凸状の樹脂パターンを形成し、
次いで前記透明基板を前記樹脂パターン側からドライエッチングして、該樹脂パターンの形状を該透明基板に転写してマイクロレンズを形成することを特徴とするものである。
10a 透明基板の一表面
10b マイクロレンズ
11 金属膜
12 金属膜の開口
13 フォトレジスト
13′ 樹脂パターン
20、30、40 マイクロレンズアレイ
31 金属メッキ
43 紫外線硬化樹脂
45 透明部材
50 光学部材
Claims (8)
- 透明基板上に、凸形状を有するマイクロレンズが複数アレイ状に形成されてなるマイクロレンズアレイにおいて、
前記マイクロレンズが、前記基板の一表面よりも内側に入り込んだ位置において、該一表面側に凸となり、かつ凸形状の先端が該一表面より低い状態に形成されていることを特徴とするマイクロレンズアレイ。 - 前記基板の一表面に応力制御膜が形成されたことにより、この表面側が凸となるように該基板が全体的に湾曲していることを特徴とする請求項1記載のマイクロレンズアレイ。
- 前記応力制御膜が遮光膜であることを特徴とする請求項2記載のマイクロレンズアレイ。
- 前記遮光膜に、マイクロレンズの周縁部に対面するように膜面と平行な方向に張り出して、該マイクロレンズの実効的な開口径を絞るメッキが施されていることを特徴とする請求項3記載のマイクロレンズアレイ。
- 請求項2から4いずれか1項記載のマイクロレンズアレイと、平面状の一表面を有する別の透明部材とが接合されてなる光学部材であって、前記基板の凸側となっている表面と、別の透明部材の前記一表面とが接合されていることを特徴とする光学部材。
- 請求項2から4いずれか1項記載のマイクロレンズアレイを作製する方法であって、
透明基板上に前記マイクロレンズの配置パターンに対応した開口を有する応力制御膜を形成し、
該透明基板の前記開口が存在する位置にそれぞれ、マイクロレンズの形状に対応した凸状の樹脂パターンを形成し、
次いで前記透明基板を前記樹脂パターン側からドライエッチングして、該樹脂パターンの形状を該透明基板に転写してマイクロレンズを形成することを特徴とするマイクロレンズアレイの作製方法。 - 前記応力制御膜を、遮光性材料を用いて遮光膜として形成することを特徴とする請求項6記載のマイクロレンズアレイの作製方法。
- 前記マイクロレンズを形成した後、前記遮光膜に、膜面とほぼ平行な方向に張り出して該マイクロレンズの実効的な開口径を絞るメッキを施すことを特徴とする請求項7記載のマイクロレンズアレイの作製方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004255359A JP4555030B2 (ja) | 2004-09-02 | 2004-09-02 | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
| US11/213,838 US7477452B2 (en) | 2004-09-02 | 2005-08-30 | Micro lens array, optical member and method of producing micro lens array |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004255359A JP4555030B2 (ja) | 2004-09-02 | 2004-09-02 | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006071981A true JP2006071981A (ja) | 2006-03-16 |
| JP4555030B2 JP4555030B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=36033603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004255359A Expired - Fee Related JP4555030B2 (ja) | 2004-09-02 | 2004-09-02 | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7477452B2 (ja) |
| JP (1) | JP4555030B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008152010A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Fujifilm Corp | 鮮鋭化素子の製造方法 |
| JP2012252183A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 |
| JP2014092600A (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-19 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7628810B2 (en) | 2003-05-28 | 2009-12-08 | Acufocus, Inc. | Mask configured to maintain nutrient transport without producing visible diffraction patterns |
| KR100682905B1 (ko) * | 2004-12-01 | 2007-02-15 | 삼성전자주식회사 | 단방향 투명 광학계의 제조 방법 |
| KR100672664B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2007-01-24 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 버티컬 씨모스 이미지 센서의 제조방법 |
| KR100606906B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2006-08-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 씨모스 이미지 센서의 포토다이오드 및 그 제조방법 |
| KR100660319B1 (ko) * | 2004-12-30 | 2006-12-22 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 씨모스 이미지센서 및 그의 제조방법 |
| JP5087239B2 (ja) * | 2006-06-26 | 2012-12-05 | 株式会社ミツトヨ | 光電式エンコーダ |
| KR101239967B1 (ko) * | 2007-03-28 | 2013-03-06 | 삼성전자주식회사 | 광학유닛, 이를 포함하는 화상형성장치 및 그 광학소자 |
| WO2008133864A2 (en) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Tessera North America, Inc. | Mass production of micro-optical devices, corresponding tools, and resultant structures |
| CN101630123B (zh) * | 2008-07-17 | 2012-09-19 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镜片阵列的制造方法 |
| TW201033641A (en) * | 2008-09-18 | 2010-09-16 | Tessera North America Inc | Recessed optical surfaces |
| JP2010128277A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Oki Data Corp | レンズアレイユニット、光学ヘッドおよび情報装置 |
| US10004593B2 (en) | 2009-08-13 | 2018-06-26 | Acufocus, Inc. | Intraocular lens with elastic mask |
| EP2464311B1 (en) | 2009-08-13 | 2017-11-15 | AcuFocus, Inc. | Masked intraocular implants and lenses |
| JP2012242588A (ja) * | 2011-05-19 | 2012-12-10 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レンズ部品および画像表示装置 |
| JP6046160B2 (ja) | 2011-12-02 | 2016-12-14 | アキュフォーカス・インコーポレーテッド | 選択的分光透過性を有する眼科マスク |
| US9427922B2 (en) | 2013-03-14 | 2016-08-30 | Acufocus, Inc. | Process for manufacturing an intraocular lens with an embedded mask |
| EP3220859B8 (en) | 2014-11-19 | 2020-06-10 | AcuFocus, Inc. | Fracturable mask for treating presbyopia |
| US10687935B2 (en) | 2015-10-05 | 2020-06-23 | Acufocus, Inc. | Methods of molding intraocular lenses |
| WO2017091520A1 (en) | 2015-11-24 | 2017-06-01 | Acufocus, Inc. | Toric small aperture intraocular lens with extended depth of focus |
| WO2019217471A1 (en) | 2018-05-09 | 2019-11-14 | Acufocus, Inc. | Intraocular implant with removable optic |
| CN110007379A (zh) * | 2019-04-19 | 2019-07-12 | 豪威光电子科技(上海)有限公司 | 光学镜头模组及其形成方法 |
| WO2021014250A1 (en) * | 2019-07-23 | 2021-01-28 | 3M Innovative Properties Company | Optical system including microlenses and light-blocking structures |
| WO2025116965A2 (en) * | 2023-05-24 | 2025-06-05 | University Of Delaware | Optical coupling systems and methods for manufacturing same |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06196676A (ja) * | 1992-10-26 | 1994-07-15 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| JPH07174902A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-14 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 |
| JPH1124059A (ja) * | 1997-07-03 | 1999-01-29 | Toppan Printing Co Ltd | マイクロレンズ基板 |
| JP2001074913A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-23 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| JP2002323747A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Ricoh Co Ltd | フォトマスク、および該フォトマスクを用いたマイクロレンズ作成方法、ならびに該マイクロレンズ作成方法により作成したマイクロレンズ |
| JP2003337206A (ja) * | 2001-05-09 | 2003-11-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 樹脂正立レンズアレイおよびその製造方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0542548B1 (en) * | 1991-11-15 | 2000-04-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transmission type screen and method of manufacturing thereof |
| JP3388780B2 (ja) * | 1992-06-19 | 2003-03-24 | 株式会社日立製作所 | 背面投写型画像ディスプレイ装置 |
| JP2734914B2 (ja) * | 1992-12-14 | 1998-04-02 | 三菱電機株式会社 | 透過型スクリーンおよびその製造方法 |
| JP3617846B2 (ja) | 1992-12-24 | 2005-02-09 | リコー光学株式会社 | マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
| JPH08313706A (ja) | 1995-05-12 | 1996-11-29 | Hoya Corp | 遮光部一体型マイクロレンズアレイ及びその製造方法 |
| JP3381893B2 (ja) | 1996-12-04 | 2003-03-04 | シャープ株式会社 | マイクロレンズ基板の製造方法および液晶表示装置 |
| US6384970B1 (en) * | 1998-08-05 | 2002-05-07 | Kuraray Co., Ltd. | Lenticular lens sheet and method for producing it |
| US6628460B1 (en) * | 1998-08-05 | 2003-09-30 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Lens sheet and method for producing the same |
| WO2000045199A1 (en) * | 1999-01-29 | 2000-08-03 | Rohm Co., Ltd. | Lens unit for image formation, and image reader having lens unit |
| US6707613B2 (en) * | 2000-04-05 | 2004-03-16 | Rohm Co., Ltd. | Lens array unit and method of forming image |
| JP2002196104A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-10 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置 |
| TW558647B (en) * | 2001-05-09 | 2003-10-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Resin erecting lens array and method for fabricating the same |
| KR100535733B1 (ko) * | 2001-06-13 | 2005-12-09 | 가부시키가이샤 구라레 | 렌즈 시트의 제조방법 |
| TWI224209B (en) * | 2001-11-01 | 2004-11-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Erect image resin lens array and the manufacture thereof |
| JP2004133420A (ja) * | 2002-09-20 | 2004-04-30 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス及びその製造方法、表示装置、電子機器、並びに検査機器 |
| JP4315784B2 (ja) * | 2003-11-11 | 2009-08-19 | 三洋電機株式会社 | マイクロレンズの製造方法、固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子 |
| JP3753326B2 (ja) * | 2003-12-15 | 2006-03-08 | セイコーエプソン株式会社 | 直進光制御部付きレンズ基板の製造方法、直進光制御部付きレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ |
| WO2005093466A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Sony Corporation | マイクロレンズアレイ基板及びその製造方法 |
| US7295374B2 (en) * | 2005-02-25 | 2007-11-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Micro-lens and micro-lens fabrication method |
-
2004
- 2004-09-02 JP JP2004255359A patent/JP4555030B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-08-30 US US11/213,838 patent/US7477452B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06196676A (ja) * | 1992-10-26 | 1994-07-15 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
| JPH07174902A (ja) * | 1993-12-17 | 1995-07-14 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 |
| JPH1124059A (ja) * | 1997-07-03 | 1999-01-29 | Toppan Printing Co Ltd | マイクロレンズ基板 |
| JP2001074913A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-23 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
| JP2002323747A (ja) * | 2001-04-24 | 2002-11-08 | Ricoh Co Ltd | フォトマスク、および該フォトマスクを用いたマイクロレンズ作成方法、ならびに該マイクロレンズ作成方法により作成したマイクロレンズ |
| JP2003337206A (ja) * | 2001-05-09 | 2003-11-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 樹脂正立レンズアレイおよびその製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008152010A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Fujifilm Corp | 鮮鋭化素子の製造方法 |
| JP2012252183A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板の製造方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板を備えた撮像装置、及びその撮像装置を備えた電子機器 |
| JP2014092600A (ja) * | 2012-11-01 | 2014-05-19 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4555030B2 (ja) | 2010-09-29 |
| US20060056034A1 (en) | 2006-03-16 |
| US7477452B2 (en) | 2009-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4555030B2 (ja) | マイクロレンズアレイおよび光学部材並びにマイクロレンズアレイの作製方法 | |
| JP4281773B2 (ja) | 微細成形モールド及び微細成形モールドの再生方法 | |
| US20140376097A1 (en) | Microlens array and imaging element package | |
| US6913705B2 (en) | Manufacturing method for optical integrated circuit having spatial reflection type structure | |
| US20030108821A1 (en) | Microlens array fabrication | |
| JP4293802B2 (ja) | マイクロレンズ付基板の製造方法、液晶表示パネルの対向基板の製造方法及び液晶パネルの製造方法 | |
| US7708914B2 (en) | Method of and apparatus for producing micro lens and micro lens | |
| JP3547467B2 (ja) | マイクロレンズアレイおよびその製造方法 | |
| JP2005121915A (ja) | マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP4587210B2 (ja) | マイクロレンズ付基板の製造方法、液晶表示パネルの対向基板の製造方法及び液晶パネルの製造方法 | |
| JPH08166502A (ja) | マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP2004069790A (ja) | 凹部付き基板の製造方法、凹部付き基板、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP2003098317A (ja) | マイクロレンズ及び光結合装置 | |
| JP4714627B2 (ja) | 表面に微細な凹凸構造を有する構造体の製造方法 | |
| JP2006267866A (ja) | マイクロレンズアレイの作製方法 | |
| JP2010181791A (ja) | マイクロレンズ基板、その製造方法および液晶パネル | |
| JP2000280366A (ja) | マイクロレンズの製造方法、その製造方法で製造したマイクロレンズ、そのマイクロレンズを使用した光デバイス装置、およびその光デバイス装置のスライダー | |
| JP2005208187A (ja) | 導波路構造を有する光学デバイスとその製造方法 | |
| JP2006305800A (ja) | 成形用型、及び樹脂成形体の製造方法 | |
| JPH08179106A (ja) | 光学デバイス用材料・光学デバイス・光学デバイス製造方法 | |
| JP3734174B2 (ja) | 光学デバイスおよびその製造方法 | |
| KR20020022319A (ko) | 마이크로렌즈 어레이를 구비하는 액정표시소자 및 그제조방법 | |
| JP2004258279A (ja) | 偏光回折素子およびその作製方法、ならびに該偏光回折素子を用いた光ピックアップ装置 | |
| JP2006138997A (ja) | マイクロレンズ付基板の製造方法、及び液晶表示パネル用対向基板の製造方法 | |
| JP2007079208A (ja) | マイクロレンズアレイ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061208 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070302 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100122 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100223 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100421 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100518 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100614 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100713 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100715 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4555030 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |