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JP2006059544A - Electro-optical device and manufacturing method thereof, head for optical printer, optical printer - Google Patents

Electro-optical device and manufacturing method thereof, head for optical printer, optical printer Download PDF

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JP2006059544A
JP2006059544A JP2004237095A JP2004237095A JP2006059544A JP 2006059544 A JP2006059544 A JP 2006059544A JP 2004237095 A JP2004237095 A JP 2004237095A JP 2004237095 A JP2004237095 A JP 2004237095A JP 2006059544 A JP2006059544 A JP 2006059544A
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JP
Japan
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substrate
electro
light emitting
optical device
emitting element
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Application number
JP2004237095A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Yotsuya
真一 四谷
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 外部電源との電気接続部の剛性が高く、光プリンタヘッドの光源として好ましく用いられる電気光学装置を提供する。
【解決手段】 電気光学装置10は、発光素子11が形成された第1基板12と、発光素子11の封止のために第1基板12と貼り合わされた第2基板14とを備える。第2基板14には、発光素子11と外部電源40とを電気的に接続するための補助配線35が形成されている。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device preferably used as a light source of an optical printer head with high rigidity of an electrical connection part with an external power source.
An electro-optical device includes a first substrate on which a light emitting element is formed, and a second substrate bonded to the first substrate for sealing the light emitting element. An auxiliary wiring 35 for electrically connecting the light emitting element 11 and the external power supply 40 is formed on the second substrate 14.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、発光素子を含む電気光学装置及びその製造方法に関し、特に、光プリンタのヘッドに好ましく適用される技術に関する。   The present invention relates to an electro-optical device including a light emitting element and a method for manufacturing the same, and more particularly to a technique preferably applied to a head of an optical printer.

光プリンタのヘッドとしては、発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode)を光源として用いたLEDヘッドが一般に知られている。LEDヘッドは、個々のLED光源を1つずつ実装して製造するために生産性が比較的低く、また、実装時に生じる僅かな光源のずれにより発光ムラが生じやすい。   As a head of an optical printer, an LED head using a light emitting diode (LED) as a light source is generally known. Since the LED head is manufactured by mounting individual LED light sources one by one, the productivity is relatively low, and light emission unevenness is likely to occur due to slight deviation of the light source that occurs during mounting.

これに対して、光プリンタ用ヘッドの光源として有機EL(electroluminescence)素子を用いる技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。有機EL素子を用いたプリンタ用ヘッドは、リソグラフィ技術が利用しやすいこと等から、比較的高い生産性での製造が可能であり、また、描画密度の向上(高精細化)や小型化に適している。   On the other hand, a technique using an organic EL (electroluminescence) element as a light source of an optical printer head has been proposed (for example, see Patent Document 1). Printer heads using organic EL elements can be manufactured with relatively high productivity due to the ease of use of lithography technology, etc., and are suitable for improving drawing density (high definition) and miniaturization. ing.

光プリンタ用ヘッドの光源として、上記有機EL素子などの発光素子を用いる場合、発光素子の長寿命化や光の利用効率向上のために、発光素子の近傍にレンズアレイを配置するとともに、発光素子が形成された基板の厚みを薄く加工(薄厚加工)する技術が知られている(例えば、特許文献2、3参照)。
特開平9−226172号公報 特開2003−260812号公報 特開2002−184567号公報
When a light-emitting element such as the above-described organic EL element is used as a light source for an optical printer head, a lens array is disposed in the vicinity of the light-emitting element in order to extend the life of the light-emitting element and improve the light utilization efficiency There is known a technique for thinning (thinning) a substrate on which the substrate is formed (see, for example, Patent Documents 2 and 3).
JP-A-9-226172 JP 2003-260812 A JP 2002-184567 A

有機EL素子などの発光素子を含む電気光学装置では、発光素子が形成される基板として一般にガラス基板が用いられる。そのため、基板が薄くなると、特に外部電源との電気的な接続に際して、基板の破損が生じやすい。これに対して、素子形成用の基板を樹脂製とすることで基板の破損を防ぐ技術が提案されているものの、樹脂はガラスに比べて耐熱性が低く、素子形成時の処理プロセスに制約が生じる。   In an electro-optical device including a light emitting element such as an organic EL element, a glass substrate is generally used as a substrate on which the light emitting element is formed. For this reason, when the substrate is thinned, the substrate is likely to be damaged particularly in electrical connection with an external power source. On the other hand, although technology for preventing damage to the substrate by making the element forming substrate made of resin has been proposed, resin has lower heat resistance than glass, and the processing process at the time of element formation is limited. Arise.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、外部電源との電気接続部の剛性が高く、光プリンタヘッドの光源として好ましく用いられる電気光学装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、高精細化や小型化に好適な光プリンタヘッド及び光プリンタを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an electro-optical device that is highly used as a light source of an optical printer head and a method of manufacturing the electro-optical device that have high electrical connection with an external power source. To do.
Another object of the present invention is to provide an optical printer head and an optical printer suitable for high definition and miniaturization.

上記の目的を達成するために、本発明の電気光学装置は、発光素子を含む電気光学装置であって、前記発光素子が形成された第1基板と、前記発光素子の封止のために前記第1基板と貼り合わされた第2基板と、を備え、前記第2基板には、前記発光素子と外部電源とを電気的に接続するための補助配線が形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an electro-optical device of the present invention is an electro-optical device including a light-emitting element, and includes a first substrate on which the light-emitting element is formed, and the sealing for the light-emitting element. And a second substrate bonded to the first substrate, wherein the second substrate is formed with auxiliary wiring for electrically connecting the light emitting element and an external power source.

この電気光学装置では、第2基板に形成された補助配線を経由して、第1基板の発光素子と外部電源とが電気的に接続される。外部電源との直接的な接続部が、発光素子が形成された第1基板とは別の第2基板であることから、外部電源との電気接続に関わる構成の最適化を図りやすい。そのため、この電気光学装置は、外部電源との電気接続部の剛性を高めることが容易であり、光プリンタヘッドの光源として好ましく用いられる。   In this electro-optical device, the light emitting element of the first substrate and the external power source are electrically connected via the auxiliary wiring formed on the second substrate. Since the direct connection portion with the external power source is the second substrate different from the first substrate on which the light emitting element is formed, it is easy to optimize the configuration relating to the electrical connection with the external power source. Therefore, this electro-optical device can easily increase the rigidity of the electrical connection portion with an external power source, and is preferably used as a light source of an optical printer head.

上記の電気光学装置において、前記補助配線は、前記第1基板の外縁の内方で前記発光素子と電気的に接続される第1端子と、前記第1基板の外縁の外方で前記外部電源と電気的に接続される第2端子とを含むとよい。
この場合、前記第2基板は、前記第1基板の外縁に対して外方に延在する延在部を有し、前記第2端子は、前記延在部に形成されているとよい。
この電気光学装置では、外部電源との接続部が第1基板の外縁の外方であることにより、その接続部に対する構成上の制約が少なく、信頼性の高い電気接続が可能となる。
In the electro-optical device, the auxiliary wiring includes a first terminal electrically connected to the light emitting element inside the outer edge of the first substrate, and the external power source outside the outer edge of the first substrate. And a second terminal electrically connected.
In this case, it is preferable that the second substrate has an extending portion extending outward with respect to an outer edge of the first substrate, and the second terminal is formed in the extending portion.
In this electro-optical device, since the connection portion with the external power source is located outside the outer edge of the first substrate, there are few structural restrictions on the connection portion, and highly reliable electrical connection is possible.

上記の電気光学装置において、前記発光素子は、例えば、有機EL素子である。
発光素子として有機EL素子を用いることにより、素子配列の高精細化や装置の小型化が図られる。
In the above electro-optical device, the light emitting element is, for example, an organic EL element.
By using an organic EL element as the light emitting element, high definition of the element arrangement and miniaturization of the apparatus can be achieved.

上記の電気光学装置において、前記第1基板は、薄厚加工されていてもよい。
第1基板の薄厚化により、発光素子からの光が第1基板を通過する際のエネルギーの減衰や光の散乱が抑制され、発光素子からの光の利用効率の向上が図られる。
また、この電気光学装置では、第1基板が薄膜化されても、外部電源との直接的な接続部が、第1基板とは別の第2基板であることから、その接続部の剛性を高めることが容易であり、外部電源との電気接続に伴う第1基板の破損が防止される。
In the electro-optical device, the first substrate may be processed to be thin.
By reducing the thickness of the first substrate, energy attenuation and light scattering when the light from the light emitting element passes through the first substrate is suppressed, and the utilization efficiency of light from the light emitting element is improved.
In this electro-optical device, even if the first substrate is thinned, the direct connection portion with the external power source is the second substrate different from the first substrate, so that the rigidity of the connection portion is reduced. It is easy to increase, and damage to the first substrate accompanying electrical connection with an external power source is prevented.

また、上記の電気光学装置において、前記発光素子の光学性能を高めるために前記第1基板に貼り合わされた第3基板をさらに備えてもよい。
この場合、前記第3基板は、前記発光素子に対向配置されるレンズを含むとよい。
上記第3基板により、発光素子からの光の利用効率の向上がさらに図られる。
The electro-optical device may further include a third substrate bonded to the first substrate in order to improve the optical performance of the light emitting element.
In this case, the third substrate may include a lens disposed to face the light emitting element.
The use efficiency of light from the light emitting element is further improved by the third substrate.

また、上記の電気光学装置において、前記第2基板には、前記第1基板における前記発光素子の形成領域と対向する領域に凹部が形成されており、前記第2基板の凹部には、乾燥剤が配されていてもよい。
上記乾燥剤により、封止空間の湿度上昇が抑制され、発光素子の長寿命化が図られる。
In the electro-optical device, a recess is formed in the second substrate in a region of the first substrate facing the light emitting element formation region, and a desiccant is formed in the recess of the second substrate. May be arranged.
The desiccant suppresses an increase in humidity in the sealed space and extends the life of the light emitting element.

本発明の光プリンタ用ヘッドは、上記の電気光学装置を光源として用いることを特徴とする。
この光プリンタ用ヘッドでは、上記の電気光学装置を光源として用いることにより、高精細化や小型化を図ることが可能となる。
A head for an optical printer according to the present invention is characterized by using the above electro-optical device as a light source.
In this optical printer head, the above-described electro-optical device can be used as a light source to achieve high definition and miniaturization.

また、本発明の光プリンタは、上記の光プリンタ用ヘッドを備えることを特徴とする。
この光プリンタでは、上記の光プリンタ用ヘッドを備えることにより、高精細化や小型化が図られる。
An optical printer according to the present invention includes the above-described optical printer head.
In this optical printer, high-definition and miniaturization can be achieved by providing the optical printer head.

本発明の電気光学装置の製造方法は、第1基板上に発光素子を形成する工程と、第2基板上に前記発光素子と外部電源とを電気的に接続するための補助配線を形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせ、かつ前記発光素子と前記補助配線とを電気的に接続する工程と、を有することを特徴とする。   The method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes a step of forming a light emitting element on a first substrate and a step of forming an auxiliary wiring for electrically connecting the light emitting element and an external power source on the second substrate. And bonding the first substrate and the second substrate and electrically connecting the light emitting element and the auxiliary wiring.

この電気光学装置の製造方法では、発光素子が形成される第1基板とは別の第2基板に、発光素子と外部電源とを電気的に接続するための補助配線を形成する。そのため、この方法により製造される電気光学装置は、上述したように、外部電源との電気接続に関わる構成の最適化が図りやすく、外部電源との電気接続部の剛性を高めることが容易である。   In this electro-optical device manufacturing method, auxiliary wiring for electrically connecting the light emitting element and the external power source is formed on a second substrate different from the first substrate on which the light emitting element is formed. Therefore, as described above, the electro-optical device manufactured by this method can easily optimize the configuration related to the electrical connection with the external power source, and can easily increase the rigidity of the electrical connection portion with the external power source. .

上記の製造方法において、前記第2基板は、例えば、前記発光素子を封止するための封止基板であるとよい。   In the above manufacturing method, the second substrate may be a sealing substrate for sealing the light emitting element, for example.

また、上記の製造方法において、前記発光素子は、例えば、有機EL素子である。
発光素子として有機EL素子を用いることにより、素子配列の高精細化や装置の小型化が図られる。
In the above manufacturing method, the light emitting element is, for example, an organic EL element.
By using an organic EL element as the light emitting element, high definition of the element arrangement and miniaturization of the apparatus can be achieved.

上記の製造方法において、前記第1基板と前記第2基板とが貼り合わされた状態で、前記第1基板を薄厚加工する工程をさらに有するとよい。
第1基板の薄厚化により、発光素子からの光の利用効率の向上が図られた電気光学装置が製造される。
また、薄厚化に伴って第1基板の剛性が低下しても、外部電源との直接的な接続部が、第1基板とは別の第2基板であることから、外部電源との電気接続に伴う第1基板の破損が防止される。
The manufacturing method may further include a step of thinly processing the first substrate in a state where the first substrate and the second substrate are bonded to each other.
By reducing the thickness of the first substrate, an electro-optical device in which the utilization efficiency of light from the light emitting element is improved is manufactured.
In addition, even if the rigidity of the first substrate is reduced as the thickness is reduced, the direct connection portion with the external power source is the second substrate different from the first substrate, so that electrical connection with the external power source is possible. The damage of the 1st board | substrate accompanying with is prevented.

また、上記の製造方法において、前記発光素子の光学性能を高める第3基板を、前記第1基板に貼り合わせる工程をさらに有するとよい。
この場合、前記第3基板は、前記発光素子に対向配置されるレンズを含むとよい。
上記第3基板により、発光素子からの光の利用効率の向上がさらに図られる。
The manufacturing method may further include a step of bonding a third substrate that enhances the optical performance of the light emitting element to the first substrate.
In this case, the third substrate may include a lens disposed to face the light emitting element.
The use efficiency of light from the light emitting element is further improved by the third substrate.

以下、本発明について図面を参照して説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために、縮尺は実際のものと異なる場合がある。
図1は、本発明の電気光学装置の一実施形態に係る有機EL装置を模式的に示す図である。
The present invention will be described below with reference to the drawings. Note that in each drawing to be referred to, the scale may be different from the actual one in order to make the size recognizable on the drawing.
FIG. 1 is a diagram schematically showing an organic EL device according to an embodiment of the electro-optical device of the invention.

図1において、有機EL装置10は、複数の有機EL素子11が形成された素子基板12と、有機EL素子11の光学性能を高めるために素子基板12に貼り合わされた光学基板13と、有機EL素子11の封止のために、素子基板12と貼り合わされた封止基板14とを含んで構成されている。   In FIG. 1, an organic EL device 10 includes an element substrate 12 on which a plurality of organic EL elements 11 are formed, an optical substrate 13 bonded to the element substrate 12 in order to enhance the optical performance of the organic EL elements 11, and an organic EL In order to seal the element 11, the element substrate 12 and the sealing substrate 14 bonded together are configured.

有機EL素子11は、ガラス等の透明な素子基板12上に、回路素子部、画素電極(陽極)、発光層を含む有機機能層、対向電極(陰極)等を順次積層した構造からなる。なお、図1に示す符号19は、画素の境界に設けられる仕切り部材としてのバンク層である。バンク層19は、有機EL素子11の形成時に、隣接する材料の混じりを防ぐ等の役割を有する。   The organic EL element 11 has a structure in which a circuit element portion, a pixel electrode (anode), an organic functional layer including a light emitting layer, a counter electrode (cathode), and the like are sequentially laminated on a transparent element substrate 12 such as glass. In addition, the code | symbol 19 shown in FIG. 1 is a bank layer as a partition member provided in the boundary of a pixel. The bank layer 19 has a role of preventing adjacent materials from being mixed when the organic EL element 11 is formed.

有機EL素子11では、陽極側から注入された正孔と、陰極側から注入された電子とが発光層内で再結合し、励起状態を経由した発光(励起状態から失括する際の発光)を起こす。また、発光層の形成材料を適宜選択することにより、所定の色度の発光光が得られる。発光層の形成材料としては、例えば、低分子の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質からなる発光物質等が用いられる。   In the organic EL element 11, holes injected from the anode side and electrons injected from the cathode side recombine in the light emitting layer, and light emission via the excited state (light emission when the excited state is lost) Wake up. In addition, by appropriately selecting a material for forming the light emitting layer, emitted light having a predetermined chromaticity can be obtained. As a material for forming the light emitting layer, for example, a low molecular weight organic light emitting dye or a polymer light emitting material, that is, a light emitting material composed of various fluorescent materials or phosphorescent materials is used.

なお、陽極と発光層との間、及び陰極と発光層との間にはそれぞれ、正孔注入層、正孔輸送層、及び電子輸送層等の特定の機能を有する層が適宜形成される。また、発光のための電気的な制御は、能動素子(トランジスタ)等を含む回路素子部を介して行われる。   Note that layers having specific functions such as a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron transport layer are appropriately formed between the anode and the light-emitting layer and between the cathode and the light-emitting layer, respectively. In addition, electrical control for light emission is performed via a circuit element unit including an active element (transistor) and the like.

有機EL素子11(発光層)の発光光は、素子基板12、及び光学基板13を介して外部に射出される(バックエミッション型、ボトムエミッション)。バックエミッション型では、発光層の発光光のうち、素子基板12側に向けて発せられた光は、透明材料からなる画素電極(陽極)をそのまま通過する。一方、素子基板12側とは反対側に向けて発せられた発光層の光は、対向電極(陰極)で反射されて、画素電極(陽極)を通過する。そして、これらの光が各有機EL素子11から射出され、素子基板12を通過して光学基板13に入射する。   Light emitted from the organic EL element 11 (light emitting layer) is emitted to the outside via the element substrate 12 and the optical substrate 13 (back emission type, bottom emission). In the back emission type, light emitted from the light emitting layer toward the element substrate 12 passes through the pixel electrode (anode) made of a transparent material as it is. On the other hand, the light of the light emitting layer emitted toward the side opposite to the element substrate 12 side is reflected by the counter electrode (cathode) and passes through the pixel electrode (anode). These lights are emitted from each organic EL element 11, pass through the element substrate 12, and enter the optical substrate 13.

光学基板13は、ガラス等の透明な基体からなり、素子基板12との対向面にマイクロレンズ20が多数形成されたマイクロレンズアレイ構造からなる。そして、所定の光学性能を有する樹脂21(本例では高屈折率樹脂)を介して素子基板12の背面(素子形成面と逆側の面)に接合されている。各マイクロレンズ20は、半球状に形成されており、素子基板12における有機EL素子11の各々と一対一で対向するように整列配置されている。   The optical substrate 13 is made of a transparent substrate such as glass, and has a microlens array structure in which a large number of microlenses 20 are formed on the surface facing the element substrate 12. And it is joined to the back surface (surface opposite to the element formation surface) of the element substrate 12 through a resin 21 (high refractive index resin in this example) having a predetermined optical performance. Each microlens 20 is formed in a hemispherical shape, and is aligned and arranged to face each of the organic EL elements 11 on the element substrate 12 on a one-to-one basis.

図2は、光学基板13の光学的な機能を説明するための模式図である。
図2に示すように、素子基板12を通過した各有機EL素子11からの光は、マイクロレンズ20の屈折面(半球面)で一部屈折されて集光される。この集光により、各有機EL素子11からの光の利用効率の向上が図られる。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the optical function of the optical substrate 13.
As shown in FIG. 2, the light from each organic EL element 11 that has passed through the element substrate 12 is partially refracted and condensed by the refracting surface (hemispherical surface) of the microlens 20. By this condensing, the utilization efficiency of light from each organic EL element 11 is improved.

ここで、マイクロレンズ20の形状、光学基板13の材質、接合用の樹脂21の材質や厚み、及び素子基板12の厚みは、光のクロストークがなるべく生じないように適宜定められている。クロストークとは、各有機EL素子11の発光光が、一対一で対応するマイクロレンズ20とは異なるマイクロレンズ20を経て射出されることであり、光学性能の低下(光の混色など)を招きやすい。クロストークを防ぐには、素子基板12の厚みはなるべく薄いのが好ましく、例えば100μm以下(例えば20μm)である。なお、クロストーク防止に関わる技術は、特開2003−260812号公報に記載の技術が援用可能である。   Here, the shape of the microlens 20, the material of the optical substrate 13, the material and thickness of the bonding resin 21, and the thickness of the element substrate 12 are determined as appropriate so that light crosstalk does not occur as much as possible. Crosstalk means that light emitted from each organic EL element 11 is emitted through a microlens 20 different from the corresponding microlens 20 on a one-to-one basis, resulting in a decrease in optical performance (such as light color mixing). Cheap. In order to prevent crosstalk, the element substrate 12 is preferably as thin as possible, for example, 100 μm or less (for example, 20 μm). Note that the technology described in Japanese Patent Laid-Open No. 2003-260812 can be used as the technology related to crosstalk prevention.

図1に戻り、封止基板14は、封止樹脂30を介して素子基板12の素子形成面に接合されており、有機EL素子11を封止するための密閉空間である封止空間を形成する。そして、その封止空間への水や酸素の浸入を防いで有機EL素子11の劣化(酸化など)を防止する。封止空間には、酸素濃度が低減されたガス、例えば窒素ガスが充填されている。   Returning to FIG. 1, the sealing substrate 14 is bonded to the element formation surface of the element substrate 12 via the sealing resin 30, and forms a sealing space that is a sealed space for sealing the organic EL element 11. To do. And the penetration | invasion of the water and oxygen to the sealing space is prevented, and deterioration (oxidation etc.) of the organic EL element 11 is prevented. The sealed space is filled with a gas having a reduced oxygen concentration, for example, nitrogen gas.

また、封止基板14には、素子基板12における有機EL素子11の形成領域(素子形成領域12a)と対向する領域に凹部14aが形成されており、その凹部14aには乾燥剤31が配置されている。乾燥剤31により、封止空間の湿度上昇が抑制され、有機EL素子11の長寿命化が図られる。   Further, the sealing substrate 14 has a recess 14a formed in a region of the element substrate 12 facing the formation region of the organic EL element 11 (element forming region 12a), and a desiccant 31 is disposed in the recess 14a. ing. The desiccant 31 suppresses an increase in the humidity of the sealed space and extends the life of the organic EL element 11.

さらに、封止基板14には、有機EL素子11と外部電源40とを電気的に接続するための補助配線35が形成されている。ここで、外部電源40は、素子基板12上の各有機EL素子11に対して、電力並びに発光に関わる電気的な制御のための電気信号を供給するものである。   Furthermore, an auxiliary wiring 35 for electrically connecting the organic EL element 11 and the external power supply 40 is formed on the sealing substrate 14. Here, the external power supply 40 supplies electric signals for electric control related to electric power and light emission to each organic EL element 11 on the element substrate 12.

図3は、補助配線35を説明するための部分的な平面図である。
図3及び先の図1に示すように、素子基板12の素子形成面には、素子形成領域12a内の各有機EL素子に電力を供給するための電源配線41が設けられ、その電源配線41の端部に接続用の端子42が設けられている。この電源配線41の端子42は、素子形成領域12aの外側に配設されている。
FIG. 3 is a partial plan view for explaining the auxiliary wiring 35.
As shown in FIG. 3 and FIG. 1 above, the element formation surface of the element substrate 12 is provided with a power supply wiring 41 for supplying power to each organic EL element in the element formation region 12a. The terminal 42 for connection is provided in the edge part. The terminal 42 of the power supply wiring 41 is disposed outside the element formation region 12a.

封止基板14は、素子基板12の外縁12bに対して外方に延在する延在部14bを有している。補助配線35は、封止基板14上において、素子基板12の外縁12bに対して内方及び外方に延在するように形成されている。そして、補助配線35の一方の端部(封止基板14の外縁12bの内方)に端子35aが形成され、他方の端部(封止基板14の外縁12bの外方)に端子35bが形成されている。すなわち、端子35bは、封止基板14の延在部14bに形成されており、外部電源40と接続していないとき、素子基板12で覆われることなく露出状態にある。   The sealing substrate 14 has an extending portion 14 b that extends outward with respect to the outer edge 12 b of the element substrate 12. The auxiliary wiring 35 is formed on the sealing substrate 14 so as to extend inward and outward with respect to the outer edge 12 b of the element substrate 12. A terminal 35a is formed at one end of the auxiliary wiring 35 (inward of the outer edge 12b of the sealing substrate 14), and a terminal 35b is formed at the other end (outward of the outer edge 12b of the sealing substrate 14). Has been. That is, the terminal 35 b is formed in the extending portion 14 b of the sealing substrate 14 and is exposed without being covered with the element substrate 12 when not connected to the external power supply 40.

封止基板14上の補助配線35は、素子基板12の外縁12bの内方で素子基板12と電気的に接続され、素子基板12の外縁12bの外方で外部電源40と電気的に接続される。すなわち、素子基板12の外縁12bの内方で、封止基板14上の補助配線35の端子35aと素子基板12上の端子42とが接続され、素子基板12の外縁12bの外方(延在部14b)で、封止基板14上の補助配線35の端子35bと外部電源40の端子とが接続される。これらにより、封止基板14に形成された補助配線35を経由して、素子基板12の有機EL素子と外部電源40とが電気的に接続される。なお、図1に示す符号45は電気接続用の導電性接着剤である。   The auxiliary wiring 35 on the sealing substrate 14 is electrically connected to the element substrate 12 inside the outer edge 12b of the element substrate 12, and is electrically connected to the external power source 40 outside the outer edge 12b of the element substrate 12. The That is, the terminal 35a of the auxiliary wiring 35 on the sealing substrate 14 and the terminal 42 on the element substrate 12 are connected inside the outer edge 12b of the element substrate 12, and the outer edge 12b of the element substrate 12 extends (extends). 14b), the terminal 35b of the auxiliary wiring 35 on the sealing substrate 14 and the terminal of the external power source 40 are connected. As a result, the organic EL element of the element substrate 12 and the external power supply 40 are electrically connected via the auxiliary wiring 35 formed on the sealing substrate 14. In addition, the code | symbol 45 shown in FIG. 1 is a conductive adhesive for electrical connection.

このように、本例の有機EL装置10では、外部電源40との直接的な接続部が、有機EL素子11が形成された素子基板12とは別の封止基板14であることから、外部電源40との電気接続部の剛性が高い。すなわち、この有機EL装置10では、有機EL素子11の発光光の利用効率を高めるために、素子基板12が薄厚化されている(例えば、厚み100μm以下)ものの、外部電源40との直接的な接続部が、素子基板12とは別の封止基板14であることから、その接続部の剛性が高く、外部電源40との電気接続に伴う素子基板12の破損が防止される。   Thus, in the organic EL device 10 of this example, the direct connection portion with the external power source 40 is the sealing substrate 14 different from the element substrate 12 on which the organic EL element 11 is formed. The rigidity of the electrical connection with the power source 40 is high. That is, in the organic EL device 10, the element substrate 12 is thinned (for example, a thickness of 100 μm or less) in order to increase the use efficiency of the emitted light of the organic EL element 11, but directly with the external power supply 40. Since the connecting portion is the sealing substrate 14 different from the element substrate 12, the rigidity of the connecting portion is high, and damage to the element substrate 12 due to the electrical connection with the external power source 40 is prevented.

なお、封止基板14としては、ガラス等の絶縁物が好ましく用いられ、上記電気接続に対して十分な剛性が確保されるように、厚みなどの形状が最適化されている。また、封止基板14として、金属等の導電体に絶縁処理を施したものを使用してもよい。例えば、金属材料の使用により、封止基板14の薄膜化を図りつつ、外部電源40との電気接続部の剛性をより高めることが可能である。   As the sealing substrate 14, an insulator such as glass is preferably used, and the shape such as the thickness is optimized so as to ensure sufficient rigidity for the electrical connection. Moreover, you may use what performed the insulation process to conductors, such as a metal, as the sealing substrate 14. FIG. For example, by using a metal material, it is possible to further increase the rigidity of the electrical connection portion with the external power source 40 while reducing the thickness of the sealing substrate 14.

次に、上記の有機EL装置10の製造方法の一例について説明する。
図4は、有機EL装置10の製造方法の一例を説明するための図である。
本例の製造方法は、主に、素子基板12上に有機EL素子11を形成する工程(図4(a))、素子基板12と封止基板14とを接合する工程(図4(b))、素子基板12を薄厚加工する工程(図4(c))、及び素子基板12と光学基板13とを接合する工程(図4(d))とからなる。
Next, an example of a method for manufacturing the organic EL device 10 will be described.
FIG. 4 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing the organic EL device 10.
The manufacturing method of this example mainly includes a step of forming the organic EL element 11 on the element substrate 12 (FIG. 4A), and a step of bonding the element substrate 12 and the sealing substrate 14 (FIG. 4B). ), A step of thinning the element substrate 12 (FIG. 4C), and a step of bonding the element substrate 12 and the optical substrate 13 (FIG. 4D).

図4(a)において、有機EL素子11の形成には、リソグラフィ法を用いる。発光層の形成材料として低分子材料を用いる場合は、その材料配置に蒸着法を用いることができる。また、発光層の形成材料として高分子材料を用いる場合は、その材料配置に、スピンコート法、印刷法、液体吐出法などの各種塗布法を用いることができる。また、有機EL素子11の形成と同時または前後して、素子基板12上に電源配線41及び端子42を形成する。電源配線41及び端子42は、リソグラフィ法を用いて形成してもよく、直接描画法により形成してもよい。   In FIG. 4A, the organic EL element 11 is formed using a lithography method. When a low molecular material is used as a material for forming the light emitting layer, a vapor deposition method can be used for the material arrangement. Further, when a polymer material is used as a material for forming the light emitting layer, various coating methods such as a spin coating method, a printing method, and a liquid discharge method can be used for the material arrangement. In addition, the power supply wiring 41 and the terminal 42 are formed on the element substrate 12 at the same time as or before or after the formation of the organic EL element 11. The power supply wiring 41 and the terminal 42 may be formed using a lithography method or may be formed using a direct drawing method.

図5は、封止基板14の製造方法の一例を説明するための図である。
封止基板14は、基体上に補助配線35を形成する工程(図5(a))、及び基体に凹部14aを形成する工程(図5(b))等により形成される。なお、凹部14aには、乾燥剤31が装填される。
FIG. 5 is a diagram for explaining an example of a manufacturing method of the sealing substrate 14.
The sealing substrate 14 is formed by a step of forming the auxiliary wiring 35 on the base (FIG. 5A), a step of forming the recess 14a on the base (FIG. 5B), and the like. In addition, the desiccant 31 is loaded in the recessed part 14a.

封止基板14の基体としては、前述したように、種々の材質のものが適用可能である。本例では、日本電気硝子製のガラス基板OA−10を用いる。補助配線35の形成材料としては、導電性の金属材料が用いられる。補助配線35は、リソグラフィ法を用いて形成してもよく、直接描画法により形成してもよい。封止基板14の凹部14aは、エッチング等により化学的に形成してもよく、機械加工あるいはサンドブラスト法等により物理的に形成してもよい。凹部14aの大きさ及び深さは、図4(a)に示す素子基板12上での素子領域の大きさや、装填される乾燥剤の大きさ(量)に応じて定められる。   As described above, various materials can be applied as the base of the sealing substrate 14. In this example, a glass substrate OA-10 made by Nippon Electric Glass is used. As a material for forming the auxiliary wiring 35, a conductive metal material is used. The auxiliary wiring 35 may be formed by using a lithography method or may be formed by a direct drawing method. The recess 14a of the sealing substrate 14 may be chemically formed by etching or the like, or may be physically formed by machining or sandblasting. The size and depth of the recess 14a are determined according to the size of the element region on the element substrate 12 shown in FIG. 4A and the size (amount) of the desiccant to be loaded.

図4(b)に進み、素子基板12と封止基板14との接合は、素子基板12及び封止基板14の少なくとも一方に、封止樹脂30(光硬化性エポキシ接着剤など)を周状に配置し、両基板を貼り合わせて封止樹脂30を硬化させることにより行う。このとき、封止基板14の凹部14aの内部に乾燥剤31を装填しておく。なお、本例では、素子基板12に対して封止基板14の外径が大きく、封止基板14の一部(延在部14b)が素子基板12の外縁12bに対して外側に突出する。   Proceeding to FIG. 4B, the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are bonded to each other by encapsulating a sealing resin 30 (such as a photocurable epoxy adhesive) on at least one of the element substrate 12 and the sealing substrate 14. It arrange | positions to this, and both board | substrates are bonded together and the sealing resin 30 is hardened. At this time, the desiccant 31 is loaded inside the recess 14 a of the sealing substrate 14. In this example, the outer diameter of the sealing substrate 14 is larger than that of the element substrate 12, and a part (extending portion 14 b) of the sealing substrate 14 protrudes outward with respect to the outer edge 12 b of the element substrate 12.

また、素子基板12と封止基板14との接合時、素子基板12上の電源配線41と封止基板14上の補助配線35との接続も同時に行う。すなわち、電源配線41の端子42と補助配線35の端子35aとを導電性接着剤45を介して電気的に接続する。導電性接着剤45としては、例えば、銀、金、銅、白金、炭素粒子などの導電性粒子を含んだ樹脂材などが用いられる。   In addition, when the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are joined, the power supply wiring 41 on the element substrate 12 and the auxiliary wiring 35 on the sealing substrate 14 are simultaneously connected. That is, the terminal 42 of the power supply wiring 41 and the terminal 35 a of the auxiliary wiring 35 are electrically connected via the conductive adhesive 45. As the conductive adhesive 45, for example, a resin material containing conductive particles such as silver, gold, copper, platinum, and carbon particles is used.

また、素子基板12と封止基板14との接合に際しては、素子基板12と封止基板14との位置合わせ(アライメント)が行われる。アライメントは、例えば、両基板に形成されたマークを同時に観察し、その観察結果に基づいて行われる。アライメント用のマークを配線形成時に形成してもよく、配線自体をアライメント用のマークとしてもよい。   Further, when the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are joined, the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are aligned (aligned). For example, the alignment is performed based on observation results of marks formed on both substrates at the same time. An alignment mark may be formed at the time of wiring formation, or the wiring itself may be used as an alignment mark.

図4(c)に進み、素子基板12の薄厚加工は、素子基板12と封止基板14とが貼り合わされた状態で行う。すなわち、素子基板12と封止基板14との接合後、素子基板12の背面(素子形成面と逆側の面)を研削・研磨することにより、素子基板12を薄厚化する。薄厚加工後の素子基板12の厚みは、前述したように、光学基板13における光学特性が良好となるように定められ、例えば100μm以下(例えば20μm)である。   Proceeding to FIG. 4C, thin processing of the element substrate 12 is performed in a state where the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are bonded together. That is, after the element substrate 12 and the sealing substrate 14 are joined, the element substrate 12 is thinned by grinding and polishing the back surface (the surface opposite to the element formation surface) of the element substrate 12. As described above, the thickness of the element substrate 12 after the thin processing is determined so that the optical characteristics of the optical substrate 13 are good, and is, for example, 100 μm or less (for example, 20 μm).

図6は、光学基板13の製造方法の一例を説明するための図である。
本例では、ウエットエッチング法により光学基板13に、複数のマイクロレンズを形成する。光学基板13は、エッチング保護膜48を形成する工程(図6(a))、保護膜48をパターニングする工程(図6(b))、光学基板13の基体をエッチングする工程(図6(c))、保護膜48を除去する工程(図6(d))等により形成される。なお、マイクロレンズの形成方法は上記方法に限定されない。
FIG. 6 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing the optical substrate 13.
In this example, a plurality of microlenses are formed on the optical substrate 13 by wet etching. The optical substrate 13 includes a step of forming an etching protective film 48 (FIG. 6A), a step of patterning the protective film 48 (FIG. 6B), and a step of etching the base of the optical substrate 13 (FIG. 6C). )), A step of removing the protective film 48 (FIG. 6D) and the like. In addition, the formation method of a micro lens is not limited to the said method.

光学基板13の基体としては、本例では、日本電気硝子製のガラス基板OA−10を用いる。エッチング保護膜48は、例えば、窒化シリコン膜であり、プラズマCVD法を用いて形成することができる。保護膜48のパターニングは、ドライエッチング工程を含むフォトリソグラフィ法により行うことができる。光学基板13の基体のエッチングには、例えば、ふっ酸等のガラスエッチング液を用いる。パターニングされた保護膜48の開口部にエッチング液が進入し、等方的にエッチングが進行することにより、光学基板13の一面に、各々半球状の複数の凹部(マイクロレンズ20)が形成される。なお、凹部(マイクロレンズ20)が所望の形状(曲率半径など)となるように、エッチング時間や処理温度等が適宜制御される。   In this example, a glass substrate OA-10 made by Nippon Electric Glass is used as the base of the optical substrate 13. The etching protection film 48 is a silicon nitride film, for example, and can be formed using a plasma CVD method. The patterning of the protective film 48 can be performed by a photolithography method including a dry etching process. For etching the substrate of the optical substrate 13, for example, a glass etching solution such as hydrofluoric acid is used. As the etching solution enters the opening of the patterned protective film 48 and isotropically proceeds, a plurality of hemispherical concave portions (microlenses 20) are formed on one surface of the optical substrate 13. . Note that the etching time, the processing temperature, and the like are appropriately controlled so that the concave portion (microlens 20) has a desired shape (such as a radius of curvature).

図4(d)に進み、素子基板12と光学基板13との接合は、素子基板12及び光学基板13の少なくとも一方に、樹脂21(本例では高屈折率樹脂)を全面配置し、両基板を貼り合わせて樹脂21を硬化させることにより行う。このとき、光学基板13に形成された各半球状の凹部(マイクロレンズ20)に樹脂21を充填させる。また、素子基板12の各有機EL素子11と光学基板13の各マイクロレンズ20とが一対一で対向配置されるように、素子基板12と光学基板13との位置合わせ(アライメント)を行う。   Referring to FIG. 4D, the element substrate 12 and the optical substrate 13 are bonded to each other by disposing a resin 21 (high refractive index resin in this example) over the entire surface of at least one of the element substrate 12 and the optical substrate 13. Are bonded together to cure the resin 21. At this time, the resin 21 is filled in each hemispherical recess (microlens 20) formed in the optical substrate 13. The element substrate 12 and the optical substrate 13 are aligned (aligned) so that each organic EL element 11 of the element substrate 12 and each microlens 20 of the optical substrate 13 are arranged to face each other in a one-to-one relationship.

以上の一連の工程により、有機EL素子11とマイクロレンズ20とを備えた有機EL装置10が完成する。この有機EL装置10は、外部電源との直接的な接続部(補助配線35)が、素子基板12とは別の封止基板14に形成されていることから、外部電源40との電気接続部の剛性が高い。そのため、光プリンタ用のヘッドなど、小型化が図られる各種機器に好ましく適用される。   Through the series of steps described above, the organic EL device 10 including the organic EL element 11 and the microlens 20 is completed. In this organic EL device 10, since the direct connection portion (auxiliary wiring 35) with the external power source is formed on the sealing substrate 14 different from the element substrate 12, the electrical connection portion with the external power source 40 is provided. High rigidity. Therefore, the present invention is preferably applied to various devices that can be miniaturized, such as a head for an optical printer.

図7は、光プリンタ用ヘッドの平面構成例を模式的に示している。
本例の光プリンタ用ヘッド100は、複数の光射出部101を備えるものである。上記の有機EL装置10を光源とするとき、複数の光射出部101のそれぞれの位置に、有機EL素子11とマイクロレンズ20とが配置される。
また、光プリンタは、上記の光プリンタ用ヘッド100、感光体ドラム、及び搬送機構等を備えることにより構成される。光プリンタの構成は、特開2003−260812号公報に記載の技術が援用可能である。
FIG. 7 schematically shows a planar configuration example of the head for an optical printer.
The optical printer head 100 of this example includes a plurality of light emitting units 101. When the organic EL device 10 is used as a light source, the organic EL element 11 and the microlens 20 are disposed at each position of the plurality of light emitting units 101.
The optical printer includes the above-described optical printer head 100, a photosensitive drum, a transport mechanism, and the like. The technology described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-260812 can be used for the configuration of the optical printer.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.

本発明の電気光学装置の一実施形態に係る有機EL装置を模式的に示す図。1 is a diagram schematically illustrating an organic EL device according to an embodiment of an electro-optical device of the invention. 光学基板の光学的な機能を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the optical function of an optical board | substrate. 補助配線を説明するための部分的な平面図。The partial top view for demonstrating auxiliary wiring. 有機EL装置の製造方法の一例を説明するための図。The figure for demonstrating an example of the manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. 封止基板の製造方法の一例を説明するための図。The figure for demonstrating an example of the manufacturing method of a sealing substrate. 光学基板の製造方法の一例を説明するための図。The figure for demonstrating an example of the manufacturing method of an optical board | substrate. 光プリンタ用ヘッドの平面構成例を模式的に示す図。The figure which shows the example of a plane structure of the head for optical printers typically.

符号の説明Explanation of symbols

10…有機EL装置(電気光学装置)、11…有機EL素子(発光素子)、12…素子基板(第1基板)、12a…素子形成領域、12b…外縁、13…光学基板(第3基板)、14…封止基板(第2基板)、14a…凹部、14b…延在部、20…マイクロレンズ、31…乾燥剤、35…補助配線、35a…端子(第1端子)、35b…端子(第2端子)、40…外部電源、41…電源配線、100…光プリンタ用ヘッド。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Organic EL device (electro-optical device), 11 ... Organic EL element (light emitting element), 12 ... Element substrate (first substrate), 12a ... Element formation region, 12b ... Outer edge, 13 ... Optical substrate (third substrate) 14 ... sealing substrate (second substrate), 14a ... concave portion, 14b ... extending portion, 20 ... microlens, 31 ... desiccant, 35 ... auxiliary wiring, 35a ... terminal (first terminal), 35b ... terminal ( (Second terminal), 40 ... external power supply, 41 ... power supply wiring, 100 ... optical printer head.

Claims (16)

発光素子を含む電気光学装置であって、
前記発光素子が形成された第1基板と、
前記第1基板と貼り合わされた第2基板と、を備え、
前記第2基板には、前記発光素子と外部電源とを電気的に接続するための補助配線が形成されていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device including a light emitting element,
A first substrate on which the light emitting element is formed;
A second substrate bonded to the first substrate,
An electro-optical device, wherein auxiliary wiring for electrically connecting the light emitting element and an external power source is formed on the second substrate.
前記補助配線は、前記第1基板の外縁の内方で前記発光素子と電気的に接続される第1端子と、前記第1基板の外縁の外方で前記外部電源と電気的に接続される第2端子とを含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。   The auxiliary wiring is electrically connected to the light emitting element inside the outer edge of the first substrate and electrically connected to the external power source outside the outer edge of the first substrate. The electro-optical device according to claim 1, further comprising a second terminal. 前記第2基板は、前記第1基板の外縁に対して外方に延在する延在部を有し、
前記第2端子は、前記延在部に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
The second substrate has an extending portion extending outward with respect to an outer edge of the first substrate;
The electro-optical device according to claim 2, wherein the second terminal is formed in the extending portion.
前記発光素子は、有機EL素子であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the light emitting element is an organic EL element. 前記第1基板は、薄厚加工されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the first substrate is processed to be thin. 前記発光素子の光学性能を高めるために前記第1基板に貼り合わされた第3基板をさらに備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, further comprising a third substrate bonded to the first substrate in order to improve the optical performance of the light emitting element. 前記第3基板は、前記発光素子に対向配置されるレンズを含むことを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 6, wherein the third substrate includes a lens disposed to face the light emitting element. 前記第2基板には、前記第1基板における前記発光素子の形成領域と対向する領域に凹部が形成されており、
前記第2基板の凹部には、乾燥剤が配されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれかに記載の電気光学装置。
The second substrate has a recess formed in a region facing the light emitting element formation region of the first substrate,
The electro-optical device according to claim 1, wherein a desiccant is disposed in the concave portion of the second substrate.
光プリンタ用ヘッドであって、
請求項1から請求項8のいずれかに記載の電気光学装置を光源として用いることを特徴とする光プリンタ用ヘッド。
An optical printer head,
9. An optical printer head using the electro-optical device according to claim 1 as a light source.
請求項9に記載の光プリンタ用ヘッドを備えることを特徴とする光プリンタ。   An optical printer comprising the optical printer head according to claim 9. 電気光学装置の製造方法であって、
第1基板上に発光素子を形成する工程と、
第2基板上に前記発光素子と外部電源とを電気的に接続するための補助配線を形成する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせ、かつ前記発光素子と前記補助配線とを電気的に接続する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising:
Forming a light emitting element on the first substrate;
Forming an auxiliary wiring for electrically connecting the light emitting element and an external power source on the second substrate;
A method of manufacturing an electro-optical device, comprising: bonding the first substrate and the second substrate and electrically connecting the light emitting element and the auxiliary wiring.
前記第2基板は、前記発光素子を封止するための封止基板であることを特徴とする請求項11に記載の電気光学装置の製造方法。   The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 11, wherein the second substrate is a sealing substrate for sealing the light emitting element. 前記発光素子は、有機EL素子であることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の電気光学装置の製造方法。   The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 11, wherein the light emitting element is an organic EL element. 前記第1基板と前記第2基板とが貼り合わされた状態で、前記第1基板を薄厚加工する工程をさらに有することを特徴とする請求項11から請求項13のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法。   The electro-optical device according to claim 11, further comprising a step of thinly processing the first substrate in a state where the first substrate and the second substrate are bonded to each other. Manufacturing method. 前記発光素子の光学性能を高める第3基板を、前記第1基板に貼り合わせる工程をさらに有することを特徴とする請求項11から請求項14のいずれかに記載の電気光学装置の製造方法。   The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 11, further comprising a step of bonding a third substrate that enhances optical performance of the light emitting element to the first substrate. 前記第3基板は、前記発光素子に対向配置されるレンズを含むことを特徴とする請求項15に記載の電気光学装置の製造方法。

The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 15, wherein the third substrate includes a lens disposed to face the light emitting element.

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