JP2006058710A - カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】視野角の広いカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】カラーフィルタ基板１０は、基体１０Ａと、該基体１０Ａ上の各画素に対応する部分に、それぞれ着色剤を含むカラーフィルタ形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与することにより形成されたフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢとを有し、前記各フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢは、それぞれ、前記基体１０Ａと反対側の面を凹面形状とすることにより、凹レンズの機能を有する。
【選択図】図１２

Description

本発明は、カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関する。

インクジェット装置を用いて、色要素（画素）となるべき区画が形成された基体上の各区画にインク等の液状材料を付与することが知られている。例えば、インクジェット装置を用いてカラーフィルタ基板のフィルタエレメントや、マトリクス型表示装置においてマトリクス状に配置された発光部を形成することが知られている。
また、特許文献１には、凸レンズからなるマイクロレンズにカラーフィルタの機能を持たせたカラーフィルタ基板（光学素子）が記載されている。このカラーフィルタ基板は、液晶表示装置の構成要素であるカラーフィルタ基板として用いられる。
しかしながら、特許文献１に記載されているカラーフィルタ基板を液晶表示装置のカラーフィルタ基板として用いると、各フィルタ部分が凸レンズの機能を有するので、視野角が狭くなってしまう。

特開平１１−２７０４号公報

本発明の目的は、視野角の広いカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することにある。

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のカラーフィルタ基板は、基体と、該基体上の各画素に対応する部分に、それぞれ着色剤を含むカラーフィルタ形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与することにより形成されたフィルタ層とを有するカラーフィルタ基板であって、
前記各フィルタ層は、それぞれ、前記基体と反対側の面が凹面形状であることを特徴とする。
この発明によれば、カラーフィルタ基板のフィルタ層が凹レンズの機能を有するので、フィルタ層により光が拡散され（発散し）、視野角が広くなる。また、カラーフィルタ基板を、例えば、液晶表示装置等の画像表示装置（電気光学装置）に用いてバックライトを設ける場合には、そのバックライトから発せられる光の利用効率が向上する。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基体と、前記基体上の各画素に対応する部分にそれぞれ形成され、前記基体と反対側の面が凹面形状であるフィルタ層とを備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、
画素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、着色剤を含むカラーフィルタ形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記区画に付与する工程と、
前記区画に付与されたカラーフィルタ形成用の液状材料を、前記基体と反対側の面が凹面形状となるように乾燥させる工程とを有することを特徴とする。

この発明によれば、フィルタ層が凹レンズの機能を有するカラーフィルタ基板を容易かつ確実に製造することができる。そして、カラーフィルタ基板のフィルタ層が凹レンズの機能を有するので、フィルタ層により光が拡散され（発散し）、視野角が広くなる。また、カラーフィルタ基板を、例えば、液晶表示装置等の画像表示装置（電気光学装置）に用いてバックライトを設ける場合には、そのバックライトから発せられる光の利用効率が向上する。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、前記カラーフィルタ形成用の液状材料を乾燥させる工程においては、前記カラーフィルタ形成用の液状材料を５０℃以上で加熱することが好ましい。
これにより、フィルタ層の基体と反対側の面を、より確実に、凹面形状にすることができる。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、前記ノズルから吐出される前記カラーフィルタ形成用の液状材料の粘度は、２０ｍＰａ・Ｓ以下であることが好ましい。
これにより、フィルタ層の基体と反対側の面を、より確実に、凹面形状にすることができる。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、前記カラーフィルタ形成用の液状材料には、粉末状の樹脂が含まれることが好ましい。
これにより、より確実に、凹レンズの機能を有するフィルタ層を形成することができる。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、前記フィルタ層上に、該フィルタ層を覆う保護膜を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、保護膜によってフィルタ層が保護され、フィルタ層の損傷や劣化を防止することができる。
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法では、前記保護膜を形成する工程においては、前記基体と、前記液滴吐出手段とを相対的に移動させ、保護膜形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記フィルタ層上に付与し、該付与された保護膜形成用の液状材料を乾燥させることが好ましい。
これにより、保護膜を容易かつ確実に形成することができる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、基体と、該基体上の各画素に対応する部分に、それぞれ有機発光材料を含む発光層形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与することにより形成された発光層とを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記各発光層は、それぞれ、前記基体と反対側の面が凹面形状であることを特徴とする。
この発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の発光層が凹レンズの機能を有するので、発光層により光が拡散され（発散し）、視野角が広くなる。また、発光層から発せられる光の利用効率が向上する。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、基体と、前記基体上の各画素に対応する部分にそれぞれ形成され、前記基体と反対側の面が凹面形状である発光層とを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
画素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、有機発光材料を含む発光層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記区画に付与する工程と、
前記区画に付与された発光層形成用の液状材料を、前記基体と反対側の面が凹面形状となるように乾燥させる工程とを有することを特徴とする。
この発明によれば、発光層が凹レンズの機能を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を容易かつ確実に製造することができる。そして、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の発光層が凹レンズの機能を有するので、発光層により光が拡散され（発散し）、視野角が広くなる。また、発光層から発せられる光の利用効率が向上する。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法では、前記発光層形成用の液状材料を乾燥させる工程においては、前記発光層形成用の液状材料を５０℃以上で加熱することが好ましい。
これにより、発光層の基体と反対側の面を、より確実に、凹面形状にすることができる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法では、前記ノズルから吐出される前記発光層形成用の液状材料の粘度は、１０〜２０ｍＰａ・Ｓであることが好ましい。
これにより、発光層の基体と反対側の面を、より確実に、凹面形状にすることができる。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法では、前記発光層形成用の液状材料には、粉末状の樹脂が含まれることが好ましい。
これにより、より確実に、凹レンズの機能を有するフィルタ層を形成することができる。
本発明の電気光学装置は、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする。
これにより、視野角が広く、光の利用効率の高い電気光学装置を実現することができる。

本発明の電気光学装置では、当該電気光学装置は、液晶層を有する液晶表示装置であることが好ましい。
これにより、視野角が広く、光の利用効率の高い液晶表示装置を実現することができる。
本発明の電子機器は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、視野角が広く、光の利用効率の高い有機エレクトロルミネッセンス表示装置を備える電子機器を実現することができる。
本発明の電子機器は、本発明の電気光学装置を備えることを特徴とする。
これにより、視野角が広く、光の利用効率の高い電気光学装置を備える電子機器を実現することができる。

以下、本発明のカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
第１実施形態では、カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法およびカラーフィルタ基板を備える液晶表示装置（電気光学装置）の実施形態について説明する。
この場合、まずは、第１実施形態および後述する第２実施形態において使用する液滴吐出装置の構成例について説明する。

（液滴吐出装置の全体構成）
図１は、第１実施形態および後述する第２実施形態において使用する液滴吐出装置の構成例を示す斜視図である。
図１に示すように、液滴吐出装置１００は、液状材料１１１を保持するタンク１０１と、チューブ１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から液状材料１１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、複数の液滴吐出ヘッド１１４をキャリッジ１０５に搭載してなる液滴吐出手段１０３と、液滴吐出手段１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４（移動手段）と、後述する基体１０Ａを保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８（移動手段）と、制御手段１１２とを備えている。タンク１０１と、液滴吐出手段１０３における複数の液滴吐出ヘッド１１４とは、チューブ１１０で連結されており、タンク１０１から複数の液滴吐出ヘッド１１４のそれぞれに液状材料１１１が圧縮空気によって供給される。

第１位置制御装置１０４は、制御手段１１２からの信号に応じて、液滴吐出手段１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで液滴吐出手段１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御手段１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。

ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、液状材料１１１を塗布すべき区画を有する基体をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。
上述のように、液滴吐出手段１０３は、第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は、第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対する液滴吐出ヘッド１１４の相対位置が変わる（ステージ１０６に保持された基体１０Ａと、液液滴吐出手段１０３とが相対的に移動する）。
制御手段１１２は、液状材料１１１を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御手段１１２の詳細な構成および機能は、後述する。

（液滴吐出手段）
図２は、液滴吐出手段１０３をステージ１０６側から観察した図である。図２に示すように、液滴吐出手段１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド１１４と、これらの液滴吐出ヘッド１１４を保持するキャリッジ１０５とを有している。本実施形態では、液滴吐出手段１０３に保持される液滴吐出ヘッド１１４の数は８個である。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれの液滴吐出ヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。液滴吐出手段１０３に保持された液滴吐出ヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、液滴吐出ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。

（液滴吐出ヘッド）
図３は、液滴吐出ヘッド１１４の底面を示す。液滴吐出ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「液滴吐出ヘッド１１４におけるＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、液滴吐出ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。

本実施形態では、液滴吐出ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとをなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、間隔を空けて並行に配置されている。そして、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔でＸ軸方向に一列に並んでいる。本実施形態では、この一定間隔は約１４０μｍである。つまり、ノズル列１１６ＡのノズルピッチＬＮＰおよびノズル列１１６ＢのノズルピッチＬＮＰは、ともに約１４０μｍである。

ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向（図３の右方向）にずれている。このため、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）である。
したがって、液滴吐出ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。

もちろん、液滴吐出ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。液滴吐出ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。

さて、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つの液滴吐出ヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状材料１１１が吐出されない。このため、液滴吐出ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状材料１１１を吐出するノズルとして機能する。

図２に示すように、液滴吐出手段１０３においては、複数個の上記液滴吐出ヘッド１１４がＸ軸方向に沿って２列に配置されている。一方の列の液滴吐出ヘッド１１４と他方の列の液滴吐出ヘッド１１４とは、休止ノズル分を考慮して、Ｙ軸方向から見て一部重なるように配置されている。これにより、液滴吐出手段１０３においては、基体１０ＡのＸ軸方向の寸法分の長さに渡り、液状材料１１１を吐出するノズル１１８が前記ノズルピッチＨＸＰでＸ軸方向に連続するように構成されている。
本実施形態の液滴吐出手段１０３では、基体１０ＡのＸ軸方向の寸法分の長さ全体をカバーするように液滴吐出ヘッド１１４を配置しているが、本発明における液滴吐出手段は、基体１０ＡのＸ軸方向の寸法分の長さの一部をカバーするようにものでもよい。

図４（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれの液滴吐出ヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される液状材料１１１が常に充填される液たまり１２９が位置している。

また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８との間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２とによって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状材料１１１が供給される。

振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状材料１１１が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状材料１１１が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
ここで、本明細書において「液状材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。

制御手段１１２（図１参照）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される液状材料１１１の体積が、制御手段１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される液状材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御手段１１２は、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。

本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つの液滴吐出ヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
なお、本発明では、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として、ピエゾ素子の代わりに静電アクチュエータを用いるものでもよい。また、液滴吐出ヘッド１１４は、駆動素子として電気熱変換素子を用い、この電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して液状材料を吐出する構成であってもよい。

また、本発明では、液滴吐出手段１０３におけるノズルピッチＨＸＰは、上記の大きさに限らず、いかなる大きさであってもよい。
さらに、液滴吐出手段１０３は、図２に示す構成以外に、複数の液滴吐出ヘッド１１４がＹ軸方向に重ねて配置された構成であってもよい。その場合、液滴吐出手段１０３全体としてのＸ軸方向のノズルピッチ（ノズル線密度）をさらに短くすることができるので、より高精細に液滴を付与することができる。

（制御手段）
次に、制御手段１１２の構成を説明する。図５に示すように、制御手段１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８とを備えている。バッファメモリ２００と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数の液滴吐出ヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。

入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置から液状材料１１１の液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての区画の相対位置を表すデータと、すべての区画に液状材料１１１を所望の厚さにまで塗布するのに必要となる相対走査の回数を示すデータと、オンノズルとして機能するノズル１１８を指定するデータと、オフノズルとして機能するノズル１１８を指定するデータと、を含む。オンノズルおよびオフノズルの説明は後述する。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図５では、記憶手段２０２はＲＡＭである。

処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、区画に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図６参照）と、に応じた駆動信号を第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８に与える。この結果、区画に対して液滴吐出ヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣをヘッド駆動部２０８へ与える。ヘッド駆動部２０８は、選択信号ＳＣに基づいて、液状材料１１１の吐出に必要な吐出信号ＥＳを液滴吐出ヘッド１１４に与える。この結果、液滴吐出ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状材料１１１が液滴として吐出される。
制御手段１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御手段１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御手段１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。

次に制御手段１１２におけるヘッド駆動部２０８の構成と機能を説明する。
図６（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０８は、１つの駆動信号生成部２０３と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。図６（ｂ）に示すように、駆動信号生成部２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。

駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳの数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。
処理部２０４は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣを、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣは、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣとに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳを供給する。具体的には、選択信号ＳＣがハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳとして駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣがローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳの電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状材料１１１が吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。

図６（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳのそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣのそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状材料１１１が吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２０３からの共通の駆動信号ＤＳが与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状材料１１１が吐出される。
以上の構成によって、液滴吐出装置１００は、制御手段１１２に与えられた吐出データに応じて、液状材料１１１を基体１０Ａに付与する吐出走査を行う。これにより、気体１０Ａ上の所定の領域のみに、所定量の液状材料１１１を付与することができる。

次に、カラーフィルタ基板およびカラーフィルタ基板の製造方法の実施形態について説明する。
図７は、基体１０Ａを示す図であり、（ａ）が断面図、（ｂ）が平面図である。以下、同図に基づいて、基体１０Ａについて説明する。
図７（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図８参照）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置され、色要素（画素）となるべき複数の区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。

具体的には、基体１０Ａは、支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を有している。支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。

それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、区画１８Ｒ、区画１８Ｇ、区画１８Ｂに対応する。区画１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、区画１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、区画１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図７（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、区画１８Ｒ、区画１８Ｇ、および区画１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、区画１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、区画１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、区画１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
Ｙ軸方向に並ぶ一組の区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂは、カラーフィルタ基板１０の一画素分に相当する。この基体１０Ａは、ストライプ配列のカラーフィルタ基板１０を製造するためのものである。

図８は、液滴吐出装置を含むカラーフィルタ基板１０の製造装置を模式的に示す図である。同図に示す製造装置１は、基体１０Ａの区画１８Ｒのすべてに液状のカラーフィルタ材料（カラーフィルタ形成用の液状材料）１１１Ｒを付与する液滴吐出装置１００Ｒと、区画１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、基体１０Ａの区画１８Ｇのすべてに液状のカラーフィルタ材料（カラーフィルタ形成用の液状材料）１１１Ｇを付与する液滴吐出装置１００Ｇと、区画１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、基体１０Ａの区画１８Ｂのすべてに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｂ（カラーフィルタ形成用の液状材料）を付与する液滴吐出装置１００Ｂと、区画１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に液状の保護膜材料（保護膜形成用の液状材料）を付与することにより保護膜２０を設ける液滴吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、液滴吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、液滴吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、液滴吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、液滴吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。なお、乾燥装置１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂ、１５０Ｃとしては、例えば、ホットプレートを備えた装置等を用いることができる。

図９は、製造装置１の液滴吐出装置１００Ｒの構成例を示す斜視図である。同図に示すように、液滴吐出装置１００Ｒの構成は、前述した液滴吐出装置１００の構成と基本的に同じである。ただし、タンク１０１とチューブ１１０とに代えて、液滴吐出装置１００Ｒがカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒとそのカラーフィルタ材料１１１Ｒ用のチューブ１１０Ｒとを備える点で、液滴吐出装置１００Ｒの構成は液滴吐出装置１００の構成と異なる。

液滴吐出装置１００Ｇの構成と、液滴吐出装置１００Ｂの構成と、液滴吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に液滴吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、液滴吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、液滴吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇを保持するタンクとそのカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のチューブとを備える点で、液滴吐出装置１００Ｇの構成は液滴吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、液滴吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂを保持するタンクとそのカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のチューブとを備える点で、液滴吐出装置１００Ｂの構成は液滴吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、液滴吐出装置１００Ｃが保護膜材料を保持するタンクとその保護膜用のチューブとを備える点で液滴吐出装置１００Ｃの構成は液滴吐出装置１００Ｒの構成と異なる。
ここで、本実施形態のカラーフィルタ基板１０は、各フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢが、それぞれ、保護膜２０より屈折率の高い材料で構成され、基体１０Ａと反対側の面（保護膜２０側の面）を湾曲凹面形状（凹面形状）とすることにより、凹レンズの機能を有することに特徴を有する。

以下、このカラーフィルタ基板１０の製造方法（製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程）を説明する。
まず、以下の手順にしたがって図７の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いてもよい。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、１層のみとなる。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂとなる。

なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂである。

区画１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、液滴吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１０（ａ）に示すように、液滴吐出装置１００Ｒは、区画１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒが付与されてカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する（カラーフィルタ材料１１１Ｒを区画１８Ｒに付与する工程を行なう）。

このカラーフィルタ材料１１１Ｒは、顔料や染料等の着色剤と、レンズ材料（高屈折率の材料）とが含まれているものが好ましい。レンズ材料としては、レンズの構成材料である、例えば、アクリル系樹脂等の各種樹脂や各種ガラス等を用いることができ、特に、粉末状の樹脂を用いるのが好ましい。これにより、より確実に、凹レンズの機能を有するフィルタ層１１１ＦＲを形成することができる。

また、カラーフィルタ材料１１１Ｒの粘度は、２０ｍＰａ・Ｓ以下であるのが好ましく、３〜５ｍＰａ・Ｓ程度であるのがより好ましい。これにより、フィルタ層１１１ＦＲの基体１０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。
後述するカラーフィルタ材料１１１Ｇ、１１１Ｂについては、それぞれ、前記カラーフィルタ材料１１１Ｒの場合と同様であるので、その説明は省略する。

基体１０Ａの区画１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、図１０（ｂ）に示すように、基体１０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。

このカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる工程においては、カラーフィルタ材料１１１Ｒを５０℃以上で加熱するのが好ましく、６０〜９０℃程度で加熱するのがより好ましい。これにより、フィルタ層１１１ＦＲの基体１０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。
また、加熱時間は、３〜２０分程度が好ましく、５〜１０分程度がより好ましい。これにより、フィルタ層１１１ＦＲの基体１０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。

ここで、区画１８Ｒに形成されたカラーフィルタ材料１１１Ｒの層の基体１０Ａと反対側の面（以下、単に「表面」とも言う）は、乾燥前は、図１０（ａ）に示すように、湾曲凸面形状（凸面形状）をなしている。カラーフィルタ材料１１１Ｒを比較的高温、特に前記好適温度で加熱して乾燥させると、図１０（ｂ）に示すように、そのカラーフィルタ材料１１１Ｒは、まず、バンク１６側から乾燥し、区画１８Ｒの中央部のカラーフィルタ材料１１１Ｒがバンク１６側に引き寄せられ、バンク１６側が盛り上がる。このようにして、フィルタ層１１１ＦＲの基体１０Ａの表面を湾曲凹面形状にすることができる。

また、カラーフィルタ材料１１１Ｒの粘度等の物性、加熱温度および加熱時間等の乾燥条件等を調整することにより、フィルタ層１１１ＦＲの湾曲凹面のパターン（例えば、湾曲の度合い等）を調整することができる。これにより、フィルタ層１１１ＦＲによる光の拡散（発散）の度合い等のフィルタ層１１１ＦＲのレンズ特性を調整することができる。また、例えば、カラーフィルタ材料１１１Ｒ中のレンズ材料の含有率や、用いるレンズ材料の選択等によっても前記フィルタ層１１１ＦＲのレンズ特性を調整することができる。
後述するカラーフィルタ材料１１１Ｇ、１１１Ｂを乾燥させる工程における条件や作用等については、それぞれ、前記カラーフィルタ材料１１１Ｒの場合と同様であるので、その説明は省略する。

次に、搬送装置１７０は、基体１０Ａを液滴吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１０（ｃ）に示すように、液滴吐出装置１００Ｇは、区画１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇが付与されてカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する（カラーフィルタ材料１１１Ｇを区画１８Ｇに付与する工程を行なう）。

基体１０Ａの区画１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、図１０（ｄ）に示すように、基体１０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。

次に、搬送装置１７０は、基体１０Ａを液滴吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１１（ｅ）に示すように、液滴吐出装置１００Ｂは、区画１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂが付与されてカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する（カラーフィルタ材料１１１Ｂを区画１８Ｂに付与する工程を行なう）。

基体１０Ａの区画１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、図１１（ｆ）に示すように、基体１０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。

次に、搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０は、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
次に、搬送装置１７０は、基体１０Ａを液滴吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、基体１０Ａのフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６上に、これらフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆い、可視光に対して光透過性を有する保護膜（オーバーコート）２０を形成する工程を行なう。すなわち、液滴吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６上に、これらフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、保護膜材料を吐出してフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６上に付与する。フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は、基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｃ内に位置させる。そして、図１１（ｇ）に示すように、乾燥装置１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。保護膜２０を設けることにより、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢが保護され、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢの損傷や劣化を防止することができる。
なお、本発明のカラーフィルタ基板は、ストライプ配列のカラーフィルタ基板に限定されず、例えば、デルタ配列、モザイク配列、ペンタイル配列等のいかなる画素パターンのカラーフィルタ基板にも適用することができる。

次に、前記カラーフィルタ基板１０を有する画像表示装置（電気光学装置）である液晶表示装置の実施形態について説明する。
図１２は、液晶表示装置の実施形態を示す断面図である。同図に示すように、液晶表示装置６０は、前記カラーフィルタ基板１０と、カラーフィルタ基板１０の保護膜２０に対向するように設けられた基板（対向基板）６２と、カラーフィルタ基板１０（保護膜２０）と基板６２との間の空隙に封入された液晶よりなる液晶層６１と、カラーフィルタ基板１０の支持基板１２の図１２中下側に設けられた偏光板６３と、基板６２の図１２中上側に設けられた偏光板６４とを有している。基板６２は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。

また、液晶表示装置６０は、マトリクス状に配置され、可視光に対して光透過性を有する複数の画素電極と、各画素電極に対応する複数のスイッチング素子（例えば、ＴＦＴ：薄膜トランジスタ）と、可視光に対して光透過性を有する共通電極とを有している（いずれも図示せず）。
そして、この液晶表示装置６０は、図示しないバックライトから発せられた光が、カラーフィルタ基板１０側（図１２中下側）から入射するようになっている。

以上説明したように、前記カラーフィルタ基板１０および液晶表示装置６０によれば、カラーフィルタ基板１０のフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢが凹レンズの機能を有するので、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢにより光が拡散され（発散し）、これにより視野角が広くなる。また、バックライトから発せられる光の利用効率が向上する。
また、前記カラーフィルタ基板１０の製造方法によれば、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢが凹レンズの機能を有するカラーフィルタ基板１０を容易かつ確実に製造することができる。

＜第２実施形態＞
第２実施形態では、有機エレクトロルミネッセンス表示装置（電気光学装置）および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法の実施形態について説明する。ただし、第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
図１３は、基体３０Ａを示す図であり、（ａ）が断面図、（ｂ）が平面図である。以下、同図に基づいて、基体３０Ａについて説明する。
図１３（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１４参照）による処理を経て、有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置され、色要素（画素）となるべき複数の区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。

具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板３２は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。

回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。

基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、区画３８Ｒ、区画３８Ｇ、区画３８Ｂに対応する。区画３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、区画３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、区画３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＢが形成されるべき領域である。

図１３（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、区画３８Ｒ、区画３８Ｇ、および区画３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、区画３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、区画３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、区画３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
Ｙ軸方向に並ぶ一組の区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂは、有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０の一画素分に相当する。

図１４は、液滴吐出装置を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造装置を模式的に示す図である。同図に示す製造装置２は、基体３０Ａの区画３８Ｒのすべてに液状の発光材料（発光層形成用の液状材料）２１１Ｒを付与する液滴吐出装置２００Ｒと、区画３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、基体３０Ａの区画３８Ｇのすべてに液状の発光材料（発光層形成用の液状材料）２１１Ｇを付与する液滴吐出装置２００Ｇと、区画３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、基体３０Ａの区画３８Ｂのすべてに液状の発光材料（発光層形成用の液状材料）２１１Ｂを付与する液滴吐出装置２００Ｂと、区画３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、液滴吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、液滴吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、液滴吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。なお、乾燥装置２５０Ｒ、２５０Ｇ、２５０Ｂとしては、例えば、ホットプレートを備えた装置等を用いることができる。

図１５は、製造装置２の液滴吐出装置２００Ｒの構成例を示す斜視図である。同図に示すように、液滴吐出装置２００Ｒの構成は、前述した液滴吐出装置１００の構成と基本的に同じである。ただし、タンク１０１とチューブ１１０とに代えて、液滴吐出装置２００Ｒが発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒとその発光材料２１１Ｒ用のチューブ２１０Ｒとを備える点で、液滴吐出装置２００Ｒの構成は液滴吐出装置１００の構成と異なる。

液滴吐出装置２００Ｇの構成と、液滴吐出装置２００Ｂの構成とは、いずれも基本的に液滴吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、液滴吐出装置２００Ｒにおけるタンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、液滴吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇを保持するタンクとその発光材料２１１Ｇ用のチューブとを備える点で、液滴吐出装置２００Ｇの構成は液滴吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、液滴吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂを保持するタンクとその発光材料２１１Ｂ用のチューブとを備える点で、液滴吐出装置２００Ｂの構成は液滴吐出装置２００Ｒの構成と異なる。

ここで、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０は、各発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢが、それぞれ、対向電極４６より屈折率の高い材料で構成され、基体３０Ａと反対側の面（対向電極４６側の面）を湾曲凹面形状（凹面形状）とすることにより、凹レンズの機能を有することに特徴を有する。

以下、この有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法（製造装置２によって有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られるまでの一連の工程）を説明する。
まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１３に示す基体３０Ａを製造する。

次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。

なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。

ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。

区画３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、液滴吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１０（ａ）に示すように、液滴吐出装置２００Ｒは、区画３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒが付与されて発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する（発光材料２１１Ｒを区画３８Ｒに付与する工程を行なう）。

この発光材料２１１Ｒは、有機発光材料と、レンズ材料（高屈折率の材料）とが含まれているものが好ましい。レンズ材料としては、レンズの構成材料である、例えば、アクリル系樹脂等の各種樹脂や各種ガラス等を用いることができ、特に、粉末状の樹脂を用いるのが好ましい。これにより、より確実に、凹レンズの機能を有する発光層２１１ＦＲを形成することができる。

また、発光材料２１１Ｒの粘度は、１０〜２０ｍＰａ・Ｓ程度であるのが好ましく、１４〜１７ｍＰａ・Ｓ程度であるのがより好ましい。これにより、発光層２１１ＦＲの基体３０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。
後述する発光材料２１１Ｇ、２１１Ｂについては、それぞれ、前記発光材料２１１Ｒの場合と同様であるので、その説明は省略する。

基体３０Ａの区画３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、図１６（ｂ）に示すように、基体３０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。

この発光材料２１１Ｒを乾燥させる工程においては、発光材料２１１Ｒを５０℃以上で加熱するのが好ましく、６０〜９０℃程度で加熱するのがより好ましい。これにより、発光層２１１ＦＲの基体３０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。
また、加熱時間は、３〜２０分程度が好ましく、１０〜１５分程度がより好ましい。これにより、発光層２１１ＦＲの基体３０Ａと反対側の面を、より確実に、湾曲凹面形状にすることができる。

ここで、区画３８Ｒに形成された発光材料２１１Ｒの層の基体３０Ａと反対側の面（以下、単に「表面」とも言う）は、乾燥前は、図１６（ａ）に示すように、湾曲凸面形状（凸面形状）をなしている。発光材料２１１Ｒを比較的高温、特に前記好適温度で加熱して乾燥させると、図１６（ｂ）に示すように、その発光材料２１１Ｒは、まず、バンク４０側から乾燥し、区画３８Ｒの中央部の発光材料２１１Ｒがバンク４０側に引き寄せられ、バンク４０側が盛り上がる。このようにして、発光層２１１ＦＲの基体３０Ａの表面を湾曲凹面形状にすることができる。

また、発光材料２１１Ｒの粘度等の物性、加熱温度および加熱時間等の乾燥条件等を調整することにより、発光層２１１ＦＲの湾曲凹面のパターン（例えば、湾曲の度合い等）を調整することができる。これにより、発光層２１１ＦＲによる光の拡散（発散）の度合い等の発光層２１１ＦＲのレンズ特性を調整することができる。また、例えば、発光材料２１１Ｒ中のレンズ材料の含有率や、用いるレンズ材料の選択等によっても前記発光層２１１ＦＲのレンズ特性を調整することができる。
後述する発光材料２１１Ｇ、２１１Ｂを乾燥させる工程における条件や作用等については、それぞれ、前記発光材料２１１Ｒの場合と同様であるので、その説明は省略する。

次に、搬送装置２７０は、基体３０Ａを液滴吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図６０（ｃ）に示すように、液滴吐出装置２００Ｇは、区画３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇが付与されて発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する（発光材料２１１Ｇを区画３８Ｇに付与する工程を行なう）。

基体３０Ａの区画３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、図１６（ｄ）に示すように、基体３０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。

次に、搬送装置２７０は、基体３０Ａを液滴吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｅ）に示すように、液滴吐出装置２００Ｂは、区画３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂが付与されて発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、液滴吐出ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する（発光材料２１１Ｂを区画３８Ｂに付与する工程を行なう）。

基体３０Ａの区画３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、図１６（ｆ）に示すように、基体３０Ａと反対側の面が湾曲凹面形状となるように区画３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させる（乾燥させる工程を行なう）ことで、区画３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。

次に、図１７（ｇ）に示すように、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０上に、これら発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。この対向電極４６は陰極として機能する。
その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１７（ｇ）に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。封止基板４８は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。

有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、対向電極４６と、封止基板４８と、を介して射出する。このような方向から光を射出する有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、トップエミッション型の表示装置と呼ばれる。
なお、本発明では、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の形態は、図示例のものに限定されないことは、言うまでもない。

以上説明したように、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０によれば、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢが凹レンズの機能を有するので、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢにより光が拡散され（発散し）、これにより視野角が広くなる。また、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発せられる光の利用効率が向上する。
また、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法によれば、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢが凹レンズの機能を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置３０を容易かつ確実に製造することができる。

＜本発明の電子機器の実施形態＞
前述したようなカラーフィルタ基板を有する液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置（電気光学装置）１０００は、各種電子機器の表示部に用いることができる。
図１８は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。

この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が画像表示装置１０００を備えている。

図１９は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、画像表示装置１０００を表示部に備えている。
図２０は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。

ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、画像表示装置１０００が表示部に設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。

また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。

また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。

なお、本発明の電子機器は、上述したパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、携帯電話機、ディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。

以上、本発明のカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。

使用する液滴吐出装置の構成例を示す斜視図。 図１に示す液滴吐出装置における液滴吐出手段をステージ側から観察した図。 図１に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドの底面を示す図。 図１に示す液滴吐出装置における液滴吐出ヘッドを示す図であり、（ａ）は断面斜視図、（ｂ）は断面図。 図１に示す液滴吐出装置における制御手段を示すブロック図。 （ａ）はヘッド駆動部を示す模式図、（ｂ）はヘッド駆動部における駆動信号、選択信号および吐出信号を示すタイミングチャート。 カラーフィルタ基板を製造するための基体を示す図であり、（ａ）が断面図、（ｂ）が平面図。 液滴吐出装置を含むカラーフィルタ基板の製造装置を模式的に示す図。 図８に示す製造装置の液滴吐出装置の構成例を示す斜視図。 カラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図。 カラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図。 液晶表示装置の実施形態を示す断面図。 有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造するための基体を示す図であり、（ａ）が断面図、（ｂ）が平面図。 液滴吐出装置を含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置を模式的に示す図。 図１４に示す製造装置の液滴吐出装置の構成例を示す斜視図。 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を示す模式図。 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を示す模式図。 本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図。 本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図。 本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図。

符号の説明

１、２……製造装置 １００、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ、１００Ｃ、２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ……液滴吐出装置 １０１、１０１Ｒ、２０１Ｒ……タンク １０２……吐出走査部 １０３……液滴吐出手段 １０４……第１位置制御装置 １０５……キャリッジ １０６……ステージ １０８……第２位置制御装置 １１０、１１０Ｒ、２１０Ｒ……チューブ １１１……液状材料 １１２……制御手段 １１４……液滴吐出ヘッド １１６Ａ、１１６Ｂ……ノズル列 １１８……ノズル １２０……キャビティ １２２……隔壁 １２４……振動子 １２４Ａ、１２４Ｂ……電極 １２４Ｃ……ピエゾ素子 １２６……振動板 １２７……吐出部 １２８……ノズルプレート １２９……液たまり １３０……供給口 １３１……孔 ２００……バッファメモリ ２０２……記憶手段 ２０３……駆動信号生成部 ２０４……処理部 ２０６……走査駆動部 ２０８……ヘッド駆動部 ＡＳ……アナログスイッチ ＤＳ……駆動信号 ＳＣ……選択信号 ＥＳ……吐出信号 １０Ａ、３０Ａ……基体 １０……カラーフィルタ基板 １２、３２……支持基板 １４……ブラックマトリクス １６、４０……バンク ２０……保護膜 １８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ、３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂ……区画 １１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ……フィルタ層 ３０……有機エレクトロルミネッセンス表示装置 ３４……回路素子層 ３６……画素電極 ３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ……正孔輸送層 ４０Ａ……無機物バンク ４０Ｂ……有機物バンク ４２……絶縁膜 ４４……スイッチング素子 ４４Ｇ……ゲート電極 ４４Ｓ……ソース電極 ４４Ｄ……ドレイン電極 ４４Ｖ……スルーホール ４５……層間絶縁膜 ４６……対向電極 ４８……封止基板 ４９……不活性ガス ６０……液晶表示装置 ６１……液晶層 ６２……基板 ６３、６４……偏光板 １５０Ｃ……乾燥装置 １５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂ、２５０Ｒ、２５０Ｇ、２５０Ｂ……乾燥装置 １１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ……カラーフィルタ材料 １６０……オーブン １６５……硬化装置 １７０、２７０……搬送装置 ２１１Ｒ、２１１Ｇ、２１１Ｂ……発光材料 ２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢ……発光層 １０００……画像表示装置 １１００……パーソナルコンピュータ １１０２……キーボード １１０４……本体部 １１０６……表示ユニット １２００……携帯電話機 １２０２……操作ボタン １２０４……受話口 １２０６……送話口 １３００……ディジタルスチルカメラ １３０２……ケース（ボディー） １３０４……受光ユニット １３０６……シャッタボタン １３０８……回路基板 １３１２……ビデオ信号出力端子 １３１４……データ通信用の入出力端子 １４３０……テレビモニタ １４４０……パーソナルコンピュータ

Claims (16)

1. 基体と、該基体上の各画素に対応する部分に、それぞれ着色剤を含むカラーフィルタ形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与することにより形成されたフィルタ層とを有するカラーフィルタ基板であって、
   前記各フィルタ層は、それぞれ、前記基体と反対側の面が凹面形状であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. 基体と、前記基体上の各画素に対応する部分にそれぞれ形成され、前記基体と反対側の面が凹面形状であるフィルタ層とを備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、
   画素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、着色剤を含むカラーフィルタ形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記区画に付与する工程と、
   前記区画に付与されたカラーフィルタ形成用の液状材料を、前記基体と反対側の面が凹面形状となるように乾燥させる工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
3. 前記カラーフィルタ形成用の液状材料を乾燥させる工程においては、前記カラーフィルタ形成用の液状材料を５０℃以上で加熱する請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 前記ノズルから吐出される前記カラーフィルタ形成用の液状材料の粘度は、２０ｍＰａ・Ｓ以下である請求項２または３に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
5. 前記カラーフィルタ形成用の液状材料には、粉末状の樹脂が含まれる請求項２ないし４のいずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
6. 前記フィルタ層上に、該フィルタ層を覆う保護膜を形成する工程を有する請求項２ないし５のいずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
7. 前記保護膜を形成する工程においては、前記基体と、前記液滴吐出手段とを相対的に移動させ、保護膜形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記フィルタ層上に付与し、該付与された保護膜形成用の液状材料を乾燥させる請求項６に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
8. 基体と、該基体上の各画素に対応する部分に、それぞれ有機発光材料を含む発光層形成用の液状材料をノズルから液滴として吐出して付与することにより形成された発光層とを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記各発光層は、それぞれ、前記基体と反対側の面が凹面形状であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
9. 基体と、前記基体上の各画素に対応する部分にそれぞれ形成され、前記基体と反対側の面が凹面形状である発光層とを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
   画素となるべき複数の区画が形成された基体と、液滴を吐出するノズルを有する液滴吐出手段とを相対的に移動させ、有機発光材料を含む発光層形成用の液状材料を前記ノズルから液滴として吐出して前記区画に付与する工程と、
   前記区画に付与された発光層形成用の液状材料を、前記基体と反対側の面が凹面形状となるように乾燥させる工程とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
10. 前記発光層形成用の液状材料を乾燥させる工程においては、前記発光層形成用の液状材料を５０℃以上で加熱する請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
11. 前記ノズルから吐出される前記発光層形成用の液状材料の粘度は、１０〜２０ｍＰａ・Ｓである請求項９または１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
12. 前記発光層形成用の液状材料には、粉末状の樹脂が含まれる請求項９ないし１１のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
13. 請求項２ないし７のいずれかに記載のカラーフィルタ基板の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
14. 当該電気光学装置は、液晶層を有する液晶表示装置である請求項１３に記載の電気光学装置。
15. 請求項９ないし１２のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
16. 請求項１３または１４に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
    

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