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JP2005326561A - Optical wavelength multiplexer / demultiplexer - Google Patents

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JP2005326561A
JP2005326561A JP2004143735A JP2004143735A JP2005326561A JP 2005326561 A JP2005326561 A JP 2005326561A JP 2004143735 A JP2004143735 A JP 2004143735A JP 2004143735 A JP2004143735 A JP 2004143735A JP 2005326561 A JP2005326561 A JP 2005326561A
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JP
Japan
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waveguide
refractive index
demultiplexer
input
output
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Application number
JP2004143735A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Maru
浩一 丸
Kensuke Matsui
研輔 松井
Hiroshi Ishikawa
弘 石川
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】 小型で、かつ、損失が小さい光波長合分波器を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係る光波長合分波器10は、少なくとも1個の入力用チャネル導波路12と、その入力用チャネル導波路12に接続される入力側スラブ導波路13と、少なくとも1個の出力用チャネル導波路16と、その出力用チャネル導波路16に接続される出力側スラブ導波路15と、入力側スラブ導波路13及び出力側スラブ導波路15を接続する複数個の移相用チャネル導波路14とを備えたものであって、各移相用チャネル導波路14を、入力側スラブ導波路13及び出力側スラブ導波路15よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成したものである。
【選択図】 図1

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical wavelength multiplexer / demultiplexer which is small and has a small loss.
An optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to the present invention includes at least one input channel waveguide, an input side slab waveguide connected to the input channel waveguide, and at least one. A plurality of output channel waveguides 16, an output slab waveguide 15 connected to the output channel waveguide 16, and a plurality of phase shifts connecting the input slab waveguide 13 and the output slab waveguide 15. Each phase-shifting channel waveguide 14 is made of a quartz-based material having a higher refractive index than the input-side slab waveguide 13 and the output-side slab waveguide 15. Is.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、光波長合分波器に係り、特に、波長分割多重方式の光通信に用いられる光波長合分波器に関するものである。   The present invention relates to an optical wavelength multiplexer / demultiplexer, and more particularly to an optical wavelength multiplexer / demultiplexer used for wavelength division multiplexing optical communication.

光通信の分野では、複数の信号を別々の波長の信号光にのせ、1本の光ファイバで伝送して情報容量を増加する波長分割多重(WDM:Wavelength Division Multiplexing)方式が用いられている。このWDM方式においては、異なる波長の信号光を合分波する光波長合分波器が主要な役割を果たしている。特に、マッハ・ツェンダ干渉計やアレイ導波路型回折格子を用いた光波長合分波器(AWG(Arrayed Waveguide Grating)光合分波器)は、波長間隔の狭い複数の信号光を合分波することが可能であることから、通信波長の多重数を容易に大きくでき、通信容量を大きくできるという利点を有している。   In the field of optical communication, a wavelength division multiplexing (WDM) system is used in which a plurality of signals are placed on signal lights of different wavelengths and transmitted through a single optical fiber to increase information capacity. In this WDM system, an optical wavelength multiplexer / demultiplexer that multiplexes / demultiplexes signal light of different wavelengths plays a major role. In particular, an optical wavelength multiplexer / demultiplexer (AWG (Arrayed Waveguide Grating) optical multiplexer / demultiplexer) using a Mach-Zehnder interferometer or an arrayed waveguide grating multiplexes / demultiplexes a plurality of signal lights with narrow wavelength intervals. Therefore, there is an advantage that the number of multiplexed communication wavelengths can be easily increased and the communication capacity can be increased.

一般的なアレイ導波路型回折格子を用いた光波長合分波器は、図7に示すように、基板71上に、入力側スラブ導波路73及び出力側スラブ導波路75と、入力側スラブ導波路73の一端側に接続された入力用チャネル導波路72と、出力側スラブ導波路75の一端側に接続された出力用チャネル導波路76と、入力側スラブ導波路73及び出力側スラブ導波路75の他端側同士を接続する複数個の移相用チャネル導波路74とで構成される光回路77を有している。   As shown in FIG. 7, an optical wavelength multiplexer / demultiplexer using a general arrayed waveguide grating is provided on a substrate 71 with an input side slab waveguide 73, an output side slab waveguide 75, and an input side slab. An input channel waveguide 72 connected to one end of the waveguide 73, an output channel waveguide 76 connected to one end of the output slab waveguide 75, the input slab waveguide 73, and the output slab guide The optical circuit 77 includes a plurality of phase-shifting channel waveguides 74 that connect the other ends of the waveguide 75 to each other.

入力用チャネル導波路72から入力された光波は、入力側スラブ導波路73内を伝搬し、各移相用チャネル導波路74に入射される。光波は、各移相用チャネル導波路74を伝搬する際に位相変化を受け、出力側スラブ導波路75に入射される。出力側スラブ導波路75内の光波は干渉し、出力用チャネル導波路76に到達し、出力される。この時、光波の干渉パターンが波長により異なるため、光合分波が実現される。   The light wave input from the input channel waveguide 72 propagates through the input-side slab waveguide 73 and enters each phase-shifting channel waveguide 74. The light wave undergoes a phase change when propagating through each phase-shifting channel waveguide 74 and enters the output-side slab waveguide 75. The light wave in the output-side slab waveguide 75 interferes, reaches the output channel waveguide 76, and is output. At this time, since the interference pattern of the light wave varies depending on the wavelength, optical multiplexing / demultiplexing is realized.

通常の材料を用いて光回路を構成した場合、温度が変化すると、熱光学効果によって材料の屈折率が変化する。これにより、各移相用チャネル導波路の等価屈折率が変化する。また、温度変化に伴う熱膨張により、各移相用チャネル導波路の長さが変化する。その結果、温度変化によって、各移相用チャネル導波路で受ける位相変化量が変動してしまう。この位相変化量は波長によって異なるため、結果として、出力される分波波長が変化してしまう。一例として、光回路を石英系材料で構成した場合を考えると、波長1.55μm付近での温度による分波波長の変化は0.01nm/℃である。例えば、この光回路を0℃〜60℃の温度環境で使用する場合、最大で0.6nmも波長がシフトしてしまうため、このままでは実用システムに使用することができない。よって、光回路の温度制御を行うか、又は光回路の温度無依存化を図る必要がある。   When an optical circuit is configured using a normal material, when the temperature changes, the refractive index of the material changes due to the thermo-optic effect. This changes the equivalent refractive index of each phase-shifting channel waveguide. Further, the length of each phase-shifting channel waveguide changes due to thermal expansion accompanying temperature change. As a result, the amount of phase change received by each phase-shifting channel waveguide fluctuates due to temperature changes. Since the amount of phase change varies depending on the wavelength, as a result, the output demultiplexing wavelength changes. As an example, considering the case where the optical circuit is made of a quartz-based material, the change of the demultiplexing wavelength due to the temperature in the vicinity of the wavelength of 1.55 μm is 0.01 nm / ° C. For example, when this optical circuit is used in a temperature environment of 0 ° C. to 60 ° C., the wavelength is shifted by a maximum of 0.6 nm, so that it cannot be used in a practical system as it is. Therefore, it is necessary to control the temperature of the optical circuit or make the temperature independent of the optical circuit.

光回路の温度無依存化方法として、光回路の一部に溝を設け、その中に屈折率の温度係数が光回路と異なる材料を充填し、温度による位相変化の波長依存性を補償する方法がある(例えば、非特許文献1参照)。   As a method for making the optical circuit temperature independent, a groove is provided in a part of the optical circuit, and a material whose refractive index has a temperature coefficient different from that of the optical circuit is filled therein, and the wavelength dependency of the phase change due to temperature is compensated. (For example, refer nonpatent literature 1).

この方法を適用し、波長依存性の補償を実現した光波長合分波器がある(例えば、非特許文献2参照)。具体的には、図7に示した入力側スラブ導波路73に、複数個の楔形の溝78を設けたものである。ここで、単に1個の溝78を設けるだけでは、基板71と垂直な方向における光の閉じ込め構造が無いため、大きな回折損失が生じる。そこで、溝78を複数個設けて、各溝一段当たりの回折損失を減らすと共に、各溝78の配置間隔を最適な間隔に調整して溝78全体で集光する作用を生じさせることにより、溝78全体としての回折損失を低減する方法がよく採用されている。また、図8に、光回路を構成するコア材とクラッド材の比屈折率差Δが0.8%の場合の、各溝の配置間隔と損失との関係を示すように、それぞれの溝幅ごとに、損失が最小となる最適な溝配置間隔があることがわかる。   There is an optical wavelength multiplexer / demultiplexer that realizes wavelength dependence compensation by applying this method (see, for example, Non-Patent Document 2). Specifically, the input side slab waveguide 73 shown in FIG. 7 is provided with a plurality of wedge-shaped grooves 78. Here, simply providing one groove 78 causes a large diffraction loss because there is no light confinement structure in a direction perpendicular to the substrate 71. Therefore, by providing a plurality of grooves 78 to reduce diffraction loss per one step of each groove, and adjusting the arrangement interval of each groove 78 to an optimum interval to cause the entire groove 78 to collect light, the groove 78 A method of reducing the diffraction loss as a whole is commonly employed. FIG. 8 shows the relationship between the groove spacing and the loss when the relative refractive index difference Δ between the core material and the clad material constituting the optical circuit is 0.8%. It can be seen that there is an optimum groove arrangement interval that minimizes the loss.

一方、光波長合分波器の温度無依存化に加え、光回路の小型化も、更なる低コスト化を図るための重要な検討事項となっている。ここで、光導波路を構成するコア材とクラッド材の比屈折率差Δを大きくすることにより、一般的に曲がり導波路の曲率半径を小さくし、素子(光導波路)の小型化及び低コスト化を実現する方法が知られている(例えば、非特許文献3参照)。   On the other hand, in addition to making the optical wavelength multiplexer / demultiplexer independent of temperature, downsizing of the optical circuit is an important consideration for further cost reduction. Here, by increasing the relative refractive index difference Δ between the core material and the clad material constituting the optical waveguide, the curvature radius of the bent waveguide is generally reduced, and the device (optical waveguide) is reduced in size and cost. Is known (see, for example, Non-Patent Document 3).

Y.Inoue等,「アサーマル シリカベースド アレイド−ウェーブガイド グレーティング マルチプレクサ(Athermal silica-based arrayed-waveguide grating(AWG)multiplexer)」,イーシーオーシー 97 テクニカル ダイジェスト(ECOC 97 Technical Digest),1997,p.33-36Y. Inoue et al., “Athermal silica-based arrayed-waveguide grating (AWG) multiplexer”, ECOC 97 Technical Digest, 1997, p.33-36. Maru等,「アサーマル アンド センター ウェーブレングス アジャスタブル アレイド−ウェーブガイド グレーティング(Athermal and center wavelength adjustable arrayed-waveguide grating)」,オーエフシー 2000 テクニカル ダイジェスト(OFC 2000 Technical Digest),ダブリューエイチ3(WH3),2000,p.130-132Maru et al., “Athermal and center wavelength adjustable arrayed-waveguide grating”, OFC 2000 Technical Digest, W3, 2000, p. .130-132 Hida等,「ファブリケーション オブ ロウ−ロス アンド ポラリセイション−インセンシティブ 256 チャンネル アレイド−ウェーブガイド グレーティング ウィズ 25GHz スペーシング ユーズィング 1.5%Δ ウェーブガイズ(Fabrication of low-loss and polarisation-insensitive 256 channel arrayed-waveguide grating with 25GHz Spacing using 1.5%Δ waveguides)」,エレクトロン.レター(Electron.Lett.),2000,第36巻,第9号,p.820-821Hida et al., “Fabrication of low-loss and polarisation-insensitive 256 channel arrayed-256 channel arrayed wave guide grating with 25 GHz spacing using 1.5% Δ waveguide grating with 25GHz Spacing using 1.5% Δ waveguides) ”, Electron. Letter (Electron. Lett.), 2000, Vol. 36, No. 9, p.820-821

ところが、アレイ導波路型回折格子を用いた温度無依存型の光波長合分波器において、小型化及び低コスト化を図るべく、光回路を構成するコア材とクラッド材の比屈折率差Δを大きくすると、溝における放射損失が増大するという問題があった。例えば、図9に示すように、コア材とクラッド材の比屈折率差Δを1.5%とすると、図8と比較して、明らかに損失が増大することがわかる。   However, in a temperature-independent type optical wavelength multiplexer / demultiplexer using an arrayed waveguide type diffraction grating, the relative refractive index difference Δ between the core material and the clad material constituting the optical circuit is to be reduced in size and cost. When is increased, there is a problem that radiation loss in the groove increases. For example, as shown in FIG. 9, when the relative refractive index difference Δ between the core material and the clad material is 1.5%, it can be seen that the loss is clearly increased as compared with FIG.

以上の事情を考慮して創案された本発明の目的は、小型で、かつ、損失が小さい光波長合分波器を提供することにある。   An object of the present invention created in view of the above circumstances is to provide an optical wavelength multiplexer / demultiplexer that is small in size and low in loss.

上記目的を達成すべく本発明に係る光波長合分波器は、少なくとも1個の入力用チャネル導波路と、その入力用チャネル導波路に接続される入力側スラブ導波路と、少なくとも1個の出力用チャネル導波路と、その出力用チャネル導波路に接続される出力側スラブ導波路と、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路を接続する複数個の移相用チャネル導波路とを備えたアレイ導波路型の光波長合分波器において、上記各移相用チャネル導波路を、上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成したものである。   To achieve the above object, an optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to the present invention includes at least one input channel waveguide, an input side slab waveguide connected to the input channel waveguide, and at least one input channel waveguide. An output channel waveguide, an output side slab waveguide connected to the output channel waveguide, and a plurality of phase shift channel waveguides connecting the input side slab waveguide and the output side slab waveguide In the arrayed waveguide type optical wavelength multiplexer / demultiplexer, each of the phase-shifting channel waveguides is made of a silica-based material having a higher refractive index than the input-side slab waveguide and the output-side slab waveguide. It is.

また、本発明に係る光波長合分波器は、少なくとも1個の入力用チャネル導波路と、その入力用チャネル導波路に接続される入力側スラブ導波路と、少なくとも1個の出力用チャネル導波路と、その出力用チャネル導波路に接続される出力側スラブ導波路と、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路を接続する複数個の移相用チャネル導波路とを備えたアレイ導波路型の光波長合分波器において、上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路の形成層と上記各移相用チャネル導波路の形成層とを異層に設けると共に、各移相用チャネル導波路を、各スラブ導波路よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成したものである。   The optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to the present invention includes at least one input channel waveguide, an input side slab waveguide connected to the input channel waveguide, and at least one output channel waveguide. An array waveguide comprising a waveguide, an output slab waveguide connected to the output channel waveguide, and a plurality of phase shift channel waveguides connecting the input slab waveguide and the output slab waveguide Type optical wavelength multiplexer / demultiplexer, wherein the input slab waveguide and output slab waveguide formation layers and the phase shift channel waveguide formation layers are provided in different layers, and each phase shift channel The waveguide is made of a quartz material having a refractive index larger than that of each slab waveguide.

ここで、各移相用チャネル導波路の接続端部を先細状に形成し、それらの移相用チャネル導波路と上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路とを接続して断熱的に光結合させることが好ましい。   Here, the connection end of each phase-shifting channel waveguide is formed in a tapered shape, and these phase-shifting channel waveguides are connected to the input-side slab waveguide and the output-side slab waveguide to adiabatically. It is preferable to optically couple.

また、入力側スラブ導波路に、スラブ導波路内を伝搬する光波と交差する複数個の溝を形成することが好ましい。   In addition, it is preferable that a plurality of grooves intersecting with the light wave propagating in the slab waveguide is formed in the input side slab waveguide.

以上のように、各移相用チャネル導波路を、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成することで、光回路の曲がり部分、つまり各移相用チャネル導波路の曲がり部分の曲率半径を小さくすることができ、光回路の小型化、延いては光波長合分波器の小型化が可能となる。   As described above, each phase-shifting channel waveguide is made of a silica-based material having a refractive index larger than that of the input-side slab waveguide and the output-side slab waveguide, so that the bent portion of the optical circuit, that is, each shift The radius of curvature of the bent portion of the phase channel waveguide can be reduced, so that the optical circuit can be downsized, and the optical wavelength multiplexer / demultiplexer can be downsized.

本発明によれば、小型で、かつ、損失が小さい光波長合分波器を得ることができるという優れた効果を発揮する。   According to the present invention, it is possible to obtain an excellent effect that an optical wavelength multiplexer / demultiplexer that is small and has a small loss can be obtained.

以下、本発明の好適一実施の形態を添付図面に基づいて説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
本発明の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図を図1に示す。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a plan view of an optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to a preferred embodiment of the present invention.

本実施の形態に係る光波長合分波器は、図1に示すように、石英基板11上に光回路17を設けてなるものである。光回路17は屈折率の異なる2種類のコア材で構成され、石英基板11上に屈折率が低い方のコア材(以下、低屈折率コア材と表す)の層が設けられ、その低屈折率コア材の上に屈折率が高い方のコア材(以下、高屈折率コア材と表す)の層が設けられる。石英基板11及び各コア層は、クラッド層で覆設される。   As shown in FIG. 1, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to the present embodiment is provided with an optical circuit 17 on a quartz substrate 11. The optical circuit 17 is composed of two types of core materials having different refractive indexes, and a layer of a core material having a lower refractive index (hereinafter referred to as a low refractive index core material) is provided on the quartz substrate 11, and the low refractive index. A layer of a core material having a higher refractive index (hereinafter referred to as a high refractive index core material) is provided on the refractive index core material. The quartz substrate 11 and each core layer are covered with a cladding layer.

低屈折率コア材により、入力側スラブ導波路13及び出力側スラブ導波路15と、入力側スラブ導波路13の一端側に接続された少なくとも1個の入力用チャネル導波路12と、出力側スラブ導波路15の一端側に接続された複数個(図1中では4個図示)の出力用チャネル導波路16とが構成される。また、高屈折率コア材により、入力側スラブ導波路13及び出力側スラブ導波路15の他端側同士を接続する複数個(図1中では5個図示)の移相用チャネル導波路14が構成される。各移相用チャネル導波路14の両端部(接続端部)20a,20bは、それぞれ先細状(テーパ状)に形成される。また、入力側スラブ導波路13の途中には、スラブ導波路13内を伝搬する光波と交差するように複数本の楔形の溝18が形成され、全ての溝18に光学樹脂19が充填される。   The input side slab waveguide 13 and the output side slab waveguide 15, at least one input channel waveguide 12 connected to one end side of the input side slab waveguide 13, and the output side slab by the low refractive index core material A plurality of (four shown in FIG. 1) output channel waveguides 16 connected to one end of the waveguide 15 are configured. Also, a plurality of (5 in FIG. 1) phase-shifting channel waveguides 14 connecting the other end sides of the input-side slab waveguide 13 and the output-side slab waveguide 15 with the high refractive index core material. Composed. Both end portions (connection end portions) 20a, 20b of each phase-shifting channel waveguide 14 are formed in a tapered shape (tapered shape). A plurality of wedge-shaped grooves 18 are formed in the middle of the input-side slab waveguide 13 so as to intersect with the light wave propagating in the slab waveguide 13, and all the grooves 18 are filled with the optical resin 19. .

各移相用チャネル導波路14は、入力側スラブ導波路13及び出力側スラブ導波路15よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成される。例えば、クラッド材の屈折率は1.457とされ、入力用チャネル導波路12、入力側スラブ導波路13、出力側スラブ導波路15、出力用チャネル導波路16を構成する低屈折率コア材の屈折率は1.469(クラッド材に対する比屈折率差Δ1=0.8%)、移相用チャネル導波路14を構成する高屈折率コア材の屈折率は1.480(クラッド材に対する比屈折率差Δ2=1.5%)とされる。また、各スラブ導波路13,15の層と移相用チャネル導波路14の層とは異層に設けられ、各スラブ導波路13,15の層上に移相用チャネル導波路14の層が設けられる。クラッド材に対する高屈折率コア材の比屈折率差Δ2と、クラッド材に対する低屈折率コア材の比屈折率差Δ1との差(%)は、0〜2%、好ましくは0〜1.5%、特に好ましくは0.5〜1.0%である。   Each phase-shifting channel waveguide 14 is made of a silica-based material having a higher refractive index than the input-side slab waveguide 13 and the output-side slab waveguide 15. For example, the refractive index of the clad material is 1.457, and the low refractive index core material of the input channel waveguide 12, the input side slab waveguide 13, the output side slab waveguide 15, and the output channel waveguide 16 is used. The refractive index is 1.469 (relative refractive index difference Δ1 = 0.8% relative to the cladding material), and the refractive index of the high refractive index core material constituting the phase-shifting channel waveguide 14 is 1.480 (relative refractive index relative to the cladding material). The rate difference Δ2 = 1.5%). Further, the layers of the slab waveguides 13 and 15 and the layer of the phase shift channel waveguide 14 are provided in different layers, and the layer of the phase shift channel waveguide 14 is provided on the layer of the slab waveguides 13 and 15. Provided. The difference (%) between the relative refractive index difference Δ2 of the high refractive index core material relative to the cladding material and the relative refractive index difference Δ1 of the low refractive index core material relative to the cladding material is 0 to 2%, preferably 0 to 1.5. %, Particularly preferably 0.5 to 1.0%.

溝18に充填される光学樹脂19の屈折率の温度依存性は、光回路17を構成する材料と大きく異なるほど、温度無依存化に効果的である。例えば、光回路17を石英系材料で構成した場合、光回路17の屈折率の温度依存性は正の値となるため、光学樹脂19としては、屈折率の温度依存性が負の値となるシリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が好ましい。   The temperature dependency of the refractive index of the optical resin 19 filled in the groove 18 is more effective for making the temperature independent as the material is different from the material constituting the optical circuit 17. For example, when the optical circuit 17 is made of a quartz-based material, the temperature dependency of the refractive index of the optical circuit 17 is a positive value, so that the optical resin 19 has a negative temperature dependency of the refractive index. Silicone resin, epoxy resin and the like are preferable.

次に、本実施の形態に係る光波長合分波器10の製造方法を、図2(a)〜図2(h)に基づいて説明する。尚、図1と同様の部材については同じ符号を付しており、これらの部材については詳細な説明を省略する。   Next, a method for manufacturing the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 2 (a) to 2 (h). In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member similar to FIG. 1, and detailed description is abbreviate | omitted about these members.

先ず、図2(a)に示すように、石英基板11上に、屈折率1.469の低屈折率コア層22を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して、図2(b)に示すように、低屈折率コア層22の非マスク部分22aをエッチング除去し、低屈折率コア材23a,23bを形成する。この低屈折率コア材23aで入力側スラブ導波路13及び入力用チャネル導波路12が、低屈折率コア材23bで出力側スラブ導波路15及び出力用チャネル導波路16が形成される。   First, as shown in FIG. 2A, a low refractive index core layer 22 having a refractive index of 1.469 is formed on a quartz substrate 11. Thereafter, using the photolithography technique and the etching technique, as shown in FIG. 2B, the non-mask portion 22a of the low refractive index core layer 22 is removed by etching to form the low refractive index core materials 23a and 23b. . The low refractive index core material 23a forms the input side slab waveguide 13 and the input channel waveguide 12, and the low refractive index core material 23b forms the output side slab waveguide 15 and the output channel waveguide 16.

次に、図2(c)に示すように、化学気相成長法により、石英基板11及び低屈折率コア材23a,23b上に、屈折率1.457のクラッド層24を堆積形成する。その後、図2(d)に示すように、CMP(Chemical Mechanical Polishing)法により、クラッド層24を平坦化する。   Next, as shown in FIG. 2C, a clad layer 24 having a refractive index of 1.457 is deposited on the quartz substrate 11 and the low refractive index core materials 23a and 23b by chemical vapor deposition. Thereafter, as shown in FIG. 2D, the cladding layer 24 is planarized by a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method.

次に、図2(e)に示すように、低屈折率コア材23a,23b及びクラッド層24上に、屈折率1.480の高屈折率コア層25を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して、図2(f)に示すように、高屈折率コア層25の非マスク部分25aをエッチング除去し、高屈折率コア材26を形成する。この高屈折率コア材26で各移相用チャネル導波路14が形成される。また、高屈折率コア材26の、低屈折率コア材23a,23bとの接続部がテーパ部26a,26bに形成され、このテーパ部26a,26bが、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20bとなる。   Next, as shown in FIG. 2E, a high refractive index core layer 25 having a refractive index of 1.480 is formed on the low refractive index core materials 23 a and 23 b and the cladding layer 24. Thereafter, using the photolithography technique and the etching technique, as shown in FIG. 2F, the non-mask portion 25a of the high refractive index core layer 25 is removed by etching to form the high refractive index core material 26. Each high-refractive index core material 26 forms each phase-shifting channel waveguide 14. Further, the connecting portions of the high refractive index core material 26 and the low refractive index core materials 23 a and 23 b are formed in the tapered portions 26 a and 26 b, and the tapered portions 26 a and 26 b are formed at both ends of each phase shift channel waveguide 14. Parts 20a and 20b.

次に、図2(g)に示すように、化学気相成長法により、低屈折率コア材23a,23b、クラッド層24、及び高屈折率コア材26上に屈折率1.457のクラッド層27を堆積形成する。   Next, as shown in FIG. 2G, a clad layer having a refractive index of 1.457 is formed on the low refractive index core materials 23a and 23b, the clad layer 24, and the high refractive index core material 26 by chemical vapor deposition. 27 is deposited.

最後に、図2(h)に示すように、低屈折率コア材23aの部分に、クラッド層27の表面部から石英基板11にまで達する複数個(図2(h)中では1個のみ図示)の溝18を形成し、各溝18に光学樹脂19をそれぞれ充填する。これによって、本実施の形態に係る光波長合分波器10が得られる。   Finally, as shown in FIG. 2 (h), a plurality of the low refractive index core material 23a reaching the quartz substrate 11 from the surface portion of the cladding layer 27 (only one is shown in FIG. 2 (h)). ) And the optical resin 19 is filled in each groove 18. Thereby, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment is obtained.

ここで、高屈折率コア材26のテーパ部26a,26bは必ずしも形成する必要はないが、テーパ部26a,26bの形成によって、高屈折率コア材26と、その下層の低屈折率コア材23a,23bとを、容易に断熱的に光結合させることができる。深さ方向(図2(f)中では上下方向)のテーパ加工は、例えば、Kitano等,「ノベル スポット サイズ コンバーター フォー スーパー ハイ Δ ウェーブガイズ(Novel spot size converter for super high Δwaveguides)」,シーエルイーオー 2003(CLEO 2003)に記載された方法を用いることで、達成可能である。   Here, the tapered portions 26a and 26b of the high refractive index core material 26 are not necessarily formed. However, by forming the tapered portions 26a and 26b, the high refractive index core material 26 and the lower refractive index core material 23a thereunder are formed. , 23b can be easily adiabatically optically coupled. The taper processing in the depth direction (vertical direction in FIG. 2 (f)) is, for example, Kitano et al., “Novel spot size converter for super high Δwaveguides”, CEL 2003. This can be achieved by using the method described in (CLEO 2003).

次に、本実施の形態の作用を説明する。   Next, the operation of the present embodiment will be described.

入力用チャネル導波路12より入射した多重波長信号光は、入力側スラブ導波路13の内部を放射、伝搬され、分波信号光となる。この時、入力側スラブ導波路13の途中には、光学樹脂19を充填した溝18を設けている。光学樹脂19の屈折率温度係数は、光回路17を構成する石英系材料の屈折率温度係数とは正負が逆であるため、光回路17が温度変化しても、各分波信号光の位相変化量の変動を、溝18に充填された光学樹脂19により完全に補償する(相殺する)ことができる。   The multi-wavelength signal light incident from the input channel waveguide 12 is radiated and propagated inside the input-side slab waveguide 13 to become demultiplexed signal light. At this time, a groove 18 filled with an optical resin 19 is provided in the middle of the input side slab waveguide 13. The refractive index temperature coefficient of the optical resin 19 is opposite to the refractive index temperature coefficient of the quartz-based material constituting the optical circuit 17, so that even if the temperature of the optical circuit 17 changes, the phase of each demultiplexed signal light The variation in the amount of change can be completely compensated (cancelled) by the optical resin 19 filled in the groove 18.

この位相変化量の変動が補償された各分波信号光は、各移相用チャネル導波路14に入射され、その内部を伝搬する。その後、各分波信号光は、出力側スラブ導波路15に到達し、放射される。この放射時、それぞれの分波信号光の波長に固有の放射角が存在していることから、各移相用チャネル導波路14から放射された各分波信号光は、出力側スラブ導波路15を経て各波長に対応した各出力用チャネル導波路16に集光、結合される。   Each demultiplexed signal light compensated for the variation in the phase change amount is incident on each phase-shifting channel waveguide 14 and propagates therethrough. Thereafter, each demultiplexed signal light reaches the output-side slab waveguide 15 and is emitted. At the time of this radiation, since there is a radiation angle specific to the wavelength of each demultiplexed signal light, each demultiplexed signal light radiated from each phase-shifting channel waveguide 14 is output to the output-side slab waveguide 15. Then, the light is condensed and coupled to each output channel waveguide 16 corresponding to each wavelength.

本実施の形態に係る光波長合分波器10においては、光回路17の内、クラッド材24,27と高屈折率コア材26との比屈折率差Δ2を、クラッド材24,27と低屈折率コア材23a,23bとの比屈折率差Δ1よりも大きく形成している。これによって、光回路17の曲がり部分(各移相用チャネル導波路14の曲がり部分)の曲率半径を小さくすることができ、光回路17の小型化、延いては光波長合分波器10の小型化が可能となる。実際、Δ=0.8%の場合において、実質的に損失を伴わない最小の曲率半径は5mmであるのに対し、Δ=1.5%とすることで、最小の曲率半径を2mmとすることができる。   In the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment, the relative refractive index difference Δ2 between the cladding materials 24 and 27 and the high-refractive index core material 26 in the optical circuit 17 is low as compared with the cladding materials 24 and 27. It is formed to be larger than the relative refractive index difference Δ1 with respect to the refractive index core materials 23a and 23b. As a result, the radius of curvature of the bent portion of the optical circuit 17 (the bent portion of each phase-shifting channel waveguide 14) can be reduced, and the optical circuit 17 can be downsized, and thus the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 Miniaturization is possible. Actually, when Δ = 0.8%, the minimum radius of curvature without substantial loss is 5 mm, whereas by setting Δ = 1.5%, the minimum radius of curvature is 2 mm. be able to.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器10においては、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20bを、それぞれ先細状(テーパ状)に形成している。これによって、各移相用チャネル導波路14と入力側スラブ導波路13,出力側スラブ導波路15とを断熱的に光結合することができる。その結果、温度変化によって各移相用チャネル導波路14で受ける位相変化量の変動を、抑制することができる。よって、光波長合分波器10の温度無依存性が更に向上する。   In the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment, both end portions 20a and 20b of each phase-shifting channel waveguide 14 are each tapered (tapered). Thus, each phase-shifting channel waveguide 14, the input-side slab waveguide 13, and the output-side slab waveguide 15 can be optically coupled in an adiabatic manner. As a result, it is possible to suppress fluctuations in the amount of phase change received by each phase-shifting channel waveguide 14 due to temperature changes. Therefore, the temperature independence of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 is further improved.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器10においては、温度無依存化のための光学樹脂19が充填された溝18を、クラッド材24,27との比屈折率差Δが小さい低屈折率コア材23a、つまり入力側スラブ導波路13に形成している。これによって、光回路17において、各移相用チャネル導波路14の屈折率は大きく保ったまま、溝18における放射損失の増大を抑えることができる。   Further, in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment, the relative refractive index difference Δ between the groove 18 filled with the optical resin 19 for temperature independence and the clad materials 24 and 27 is small. It is formed in the low refractive index core material 23 a, that is, the input side slab waveguide 13. As a result, in the optical circuit 17, it is possible to suppress an increase in radiation loss in the groove 18 while keeping the refractive index of each phase-shifting channel waveguide 14 large.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器10においては、高屈折率コア材26及び低屈折率コア材23a,23bを、積層した高屈折率コア層25と低屈折率コア層22とで形成し、高屈折率コア材26で移相用チャネル導波路14を、また、低屈折率コア材23a,23bで入力側スラブ導波路13,出力側スラブ導波路15を形成している。これによって、図2(a)〜図2(h)に示したような、光波長合分波器の製造に慣用的に用いられている比較的容易な製造プロセスにより、光波長合分波器10を製造することができる。その結果、従来の光波長合分波器と略同じ製造コストで、小型で、かつ、損失が小さい光波長合分波器10を得ることができる。   In the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the present embodiment, the high refractive index core material 26 and the low refractive index core materials 23a and 23b are stacked, and the high refractive index core layer 25 and the low refractive index core layer 22 are stacked. The phase shift channel waveguide 14 is formed by the high refractive index core material 26, and the input side slab waveguide 13 and the output side slab waveguide 15 are formed by the low refractive index core materials 23a and 23b. . Accordingly, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer can be obtained by a relatively easy manufacturing process conventionally used for manufacturing an optical wavelength multiplexer / demultiplexer as shown in FIGS. 2 (a) to 2 (h). 10 can be manufactured. As a result, it is possible to obtain an optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 that is small in size and low in loss with substantially the same manufacturing cost as that of a conventional optical wavelength multiplexer / demultiplexer.

次に、本発明の他の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。   Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(第2の実施形態)
本発明の他の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図を図3に示す。尚、図1と同様の部材については同じ符号を付しており、これらの部材については詳細な説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 3 shows a plan view of an optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to another preferred embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member similar to FIG. 1, and detailed description is abbreviate | omitted about these members.

図1に示した前実施の形態に係る光波長合分波器10は、各移相用チャネル導波路14だけを高屈折率コア材26(図2(h)参照)で構成するものであった。   The optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the previous embodiment shown in FIG. 1 is configured such that only each phase-shifting channel waveguide 14 is composed of a high refractive index core material 26 (see FIG. 2 (h)). It was.

図3に示すように、本実施の形態に係る光波長合分波器30の基本的な構成は、前実施の形態に係る光波長合分波器10と同じであり、各移相用チャネル導波路14、入力用チャネル導波路12、及び各出力用チャネル導波路16を、高屈折率コア材で構成したものである。   As shown in FIG. 3, the basic configuration of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment is the same as that of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the previous embodiment, and each phase-shift channel The waveguide 14, the input channel waveguide 12, and each output channel waveguide 16 are made of a high refractive index core material.

また、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20bと共に、入力用チャネル導波路12の端部(接続端部)32a及び各出力用チャネル導波路16の端部(接続端部)36aが、それぞれ先細状(テーパ状)に形成される。   Further, together with both ends 20a and 20b of each phase-shifting channel waveguide 14, an end portion (connection end portion) 32a of the input channel waveguide 12 and an end portion (connection end portion) 36a of each output channel waveguide 16 are provided. Are each tapered (tapered).

本実施の形態に係る光波長合分波器30の製造方法を、図4(a)〜図4(h)に基づいて説明する。尚、図2(a)〜図2(h)と同様の部材については同じ符号を付しており、これらの部材については詳細な説明を省略する。   A method of manufacturing the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 (a) to 4 (h). In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member similar to Fig.2 (a)-FIG.2 (h), and detailed description is abbreviate | omitted about these members.

先ず、図4(a)に示すように、石英基板11上に低屈折率コア層22を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して、図4(b)に示すように、低屈折率コア層22の非マスク部分22aをエッチング除去し、低屈折率コア材23a,23bを形成する。この低屈折率コア材23aで入力側スラブ導波路13が、低屈折率コア材23bで出力側スラブ導波路15が形成される。   First, as shown in FIG. 4A, the low refractive index core layer 22 is formed on the quartz substrate 11. Thereafter, using the photolithography technique and the etching technique, as shown in FIG. 4B, the non-mask portion 22a of the low refractive index core layer 22 is removed by etching to form the low refractive index core materials 23a and 23b. . The low refractive index core material 23a forms the input side slab waveguide 13, and the low refractive index core material 23b forms the output side slab waveguide 15.

次に、図4(c)に示すように、化学気相成長法により石英基板11及び低屈折率コア材23a,23b上にクラッド層24を堆積形成する。その後、CMP法により、図4(d)に示すように、クラッド層24を平坦化する。   Next, as shown in FIG. 4C, a cladding layer 24 is deposited on the quartz substrate 11 and the low refractive index core materials 23a and 23b by chemical vapor deposition. Thereafter, the cladding layer 24 is planarized by CMP as shown in FIG.

次に、図4(e)に示すように、低屈折率コア材23a,23b及びクラッド層24上に、高屈折率コア層25を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して、図4(f)に示すように、高屈折率コア層25の非マスク部分25aをエッチング除去し、高屈折率コア材26及び高屈折率コア材46a,46bを形成する。この高屈折率コア材26で、各移相用チャネル導波路14が、高屈折率コア材46a,46bで入力用チャネル導波路12及び出力用チャネル導波路16が形成される。また、高屈折率コア材26のテーパ部26a,26bが、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20bとなる。さらに、高屈折率コア材46a,46bの、低屈折率コア材23a,23bとの接続部がテーパ部47a,47bに形成され、このテーパ部47a,47bが、入力用チャネル導波路12の端部32a及び各出力用チャネル導波路16の端部36aとなる。   Next, as shown in FIG. 4 (e), the high refractive index core layer 25 is formed on the low refractive index core materials 23 a and 23 b and the cladding layer 24. Thereafter, using a photolithography technique and an etching technique, as shown in FIG. 4F, the non-mask portion 25a of the high refractive index core layer 25 is etched away, and the high refractive index core material 26 and the high refractive index core are removed. Materials 46a and 46b are formed. The high refractive index core material 26 forms each phase-shifting channel waveguide 14, and the high refractive index core materials 46 a and 46 b form the input channel waveguide 12 and the output channel waveguide 16. Further, the tapered portions 26 a and 26 b of the high refractive index core material 26 become both end portions 20 a and 20 b of each phase-shifting channel waveguide 14. Further, the connecting portions of the high refractive index core materials 46 a and 46 b with the low refractive index core materials 23 a and 23 b are formed in the tapered portions 47 a and 47 b, and the tapered portions 47 a and 47 b are the ends of the input channel waveguide 12. The portion 32a and the end portion 36a of each output channel waveguide 16 are provided.

次に、図4(g)に示すように、化学気相成長法により、低屈折率コア材23a,23b、クラッド層24、及び高屈折率コア材26,46a,46b上にクラッド層27を堆積形成する。   Next, as shown in FIG. 4G, the clad layer 27 is formed on the low refractive index core materials 23a and 23b, the clad layer 24, and the high refractive index core materials 26, 46a and 46b by chemical vapor deposition. Deposition formation.

最後に、図4(h)に示すように、低屈折率コア材23aの部分に、クラッド層27の表面部から石英基板11にまで達する複数個(図4(h)中では1個のみ図示)の溝18を形成し、各溝18に光学樹脂19をそれぞれ充填する。これによって、本実施の形態に係る光波長合分波器30が得られる。   Finally, as shown in FIG. 4 (h), a plurality of low refractive index core materials 23a reaching from the surface portion of the cladding layer 27 to the quartz substrate 11 (only one is shown in FIG. 4 (h)). ) And the optical resin 19 is filled in each groove 18. Thereby, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment is obtained.

本実施の形態に係る光波長合分波器30においても、前実施の形態に係る光波長合分波器10と同様の作用効果が得られる。   Also in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment, the same operational effects as those of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the previous embodiment can be obtained.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器30においては、光回路17の内、クラッド材24,27と高屈折率コア材26,46a,46bとの比屈折率差Δ2を、クラッド材24,27と低屈折率コア材23a,23bとの比屈折率差Δ1よりも大きく形成している。このため、光回路17の曲がり部分(各移相用チャネル導波路14、入力用チャネル導波路12、及び各出力用チャネル導波路16の曲がり部分)の曲率半径をそれぞれ小さくすることができ、光回路17の更なる小型化、延いては光波長合分波器10の更なる小型化が可能となる。   Further, in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment, the relative refractive index difference Δ2 between the cladding materials 24 and 27 and the high refractive index core materials 26, 46a and 46b in the optical circuit 17 is determined by the cladding. It is formed larger than the relative refractive index difference Δ1 between the materials 24 and 27 and the low refractive index core materials 23a and 23b. For this reason, it is possible to reduce the curvature radii of the bent portions of the optical circuit 17 (the bent portions of the phase shift channel waveguides 14, the input channel waveguides 12, and the output channel waveguides 16). The circuit 17 can be further miniaturized, and further the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 can be further miniaturized.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器30においては、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20b、入力用チャネル導波路12の端部32a、及び各出力用チャネル導波路16の端部36aを、それぞれ先細状(テーパ状)に形成している。これによって、各導波路12,14,16と入力側スラブ導波路13,出力側スラブ導波路15とを断熱的に光結合することができる。その結果、温度変化によって各導波路12,14,16で受ける位相変化量の変動を、抑制することができる。よって、光波長合分波器30は、前実施の形態に係る光波長合分波器10と比較して、温度無依存性が更に向上する。   Further, in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the present embodiment, both end portions 20a and 20b of each phase shift channel waveguide 14, the end portion 32a of the input channel waveguide 12, and each output channel guide. Each end 36a of the waveguide 16 is tapered (tapered). Thereby, each waveguide 12, 14, 16 and the input side slab waveguide 13 and the output side slab waveguide 15 can be optically coupled in an adiabatic manner. As a result, it is possible to suppress fluctuations in the amount of phase change received by each waveguide 12, 14, and 16 due to temperature changes. Therefore, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 is further improved in temperature independence compared to the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 10 according to the previous embodiment.

(第3の実施形態)
本発明の別の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図を図5に示す。尚、図3と同様の部材については同じ符号を付しており、これらの部材については詳細な説明を省略する。
(Third embodiment)
A plan view of an optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to another preferred embodiment of the present invention is shown in FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member similar to FIG. 3, and detailed description is abbreviate | omitted about these members.

図5に示すように、本実施の形態に係る光波長合分波器50の基本的な構成は、前実施の形態に係る光波長合分波器30と同じであり、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路を一体化して石英基板11の全面に亘って形成したものである。   As shown in FIG. 5, the basic configuration of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 according to this embodiment is the same as that of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the previous embodiment, and the input side slab waveguide. In addition, the output side slab waveguide is integrated and formed over the entire surface of the quartz substrate 11.

本実施の形態に係る光波長合分波器50の製造方法を、図6(a)〜図6(e)に基づいて説明する。尚、図4(a)〜図4(h)と同様の部材については同じ符号を付しており、これらの部材については詳細な説明を省略する。   A method for manufacturing the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 (a) to 6 (e). In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the member similar to Fig.4 (a)-FIG.4 (h), and detailed description is abbreviate | omitted about these members.

先ず、図6(a)に示すように、石英基板11上に低屈折率コア層22を形成する。   First, as shown in FIG. 6A, the low refractive index core layer 22 is formed on the quartz substrate 11.

次に、図6(b)に示すように、化学気相成長法により、低屈折率コア層22上に高屈折率コア層25を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して、図6(c)に示すように、高屈折率コア層25の非マスク部分25aをエッチング除去し、高屈折率コア材26及び高屈折率コア材46a,46bを形成する。この高屈折率コア材26で、各移相用チャネル導波路14が、高屈折率コア材46a,46bで入力用チャネル導波路12及び出力用チャネル導波路16が形成される。また、高屈折率コア材26のテーパ部26a,26bが、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20bとなる。さらに、高屈折率コア材46a,46bのテーパ部47a,47bが、入力用チャネル導波路12の端部32a及び各出力用チャネル導波路16の端部36aとなる。   Next, as shown in FIG. 6B, a high refractive index core layer 25 is formed on the low refractive index core layer 22 by chemical vapor deposition. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the non-mask portion 25a of the high refractive index core layer 25 is removed by etching using a photolithography technique and an etching technique, and the high refractive index core material 26 and the high refractive index core are removed. Materials 46a and 46b are formed. The high refractive index core material 26 forms each phase-shifting channel waveguide 14, and the high refractive index core materials 46 a and 46 b form the input channel waveguide 12 and the output channel waveguide 16. Further, the tapered portions 26 a and 26 b of the high refractive index core material 26 become both end portions 20 a and 20 b of each phase-shifting channel waveguide 14. Further, the tapered portions 47 a and 47 b of the high refractive index core materials 46 a and 46 b become the end portion 32 a of the input channel waveguide 12 and the end portion 36 a of each output channel waveguide 16.

次に、図6(d)に示すように、化学気相成長法により、低屈折率コア層22b及び高屈折率コア材26,46a,46b上にクラッド層27を堆積形成する。   Next, as shown in FIG. 6D, the cladding layer 27 is deposited on the low refractive index core layer 22b and the high refractive index core materials 26, 46a, and 46b by chemical vapor deposition.

最後に、図6(e)に示すように、低屈折率コア層22の所定位置の部分に、クラッド層27の表面部から石英基板11にまで達する複数個(図6(e)中では1個のみ図示)の溝18を形成し、各溝18に光学樹脂19をそれぞれ充填する。これによって、本実施の形態に係る光波長合分波器50が得られる。   Finally, as shown in FIG. 6E, a plurality (1 in FIG. 6E) reaches a predetermined position of the low refractive index core layer 22 from the surface portion of the cladding layer 27 to the quartz substrate 11. (Only one is shown) 18 is formed, and each groove 18 is filled with an optical resin 19. Thereby, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 according to the present embodiment is obtained.

次に、本実施の形態の作用を説明する。   Next, the operation of the present embodiment will be described.

入力用チャネル導波路12より入射した多重波長信号光は、スラブ導波路(低屈折率コア層22)の内部を放射、伝搬され、分波信号光となる。この時、入力用チャネル導波路12から入力された多重波長信号光が各移相用チャネル導波路14に達するように、また、各移相用チャネル導波路14から放射された各分波信号光が各出力用チャネル導波路16に達するように、各導波路12,14,16の形状、形成位置を予め調整しておく。   The multi-wavelength signal light incident from the input channel waveguide 12 is radiated and propagated inside the slab waveguide (low refractive index core layer 22) to become demultiplexed signal light. At this time, the demultiplexed signal light emitted from each phase-shifting channel waveguide 14 so that the multi-wavelength signal light input from the input channel waveguide 12 reaches each phase-shifting channel waveguide 14. Are adjusted in advance so that each of the waveguides 12, 14, 16 is formed so as to reach each output channel waveguide 16.

スラブ導波路22の内部を放射、伝搬する各分波信号光は、溝18に充填された光学樹脂19によって、位相変化量の変動を補償され、各移相用チャネル導波路14に入射され、その内部を伝搬する。その後、各分波信号光は、再び、スラブ導波路22に到達し、放射される。各移相用チャネル導波路14から放射された各分波信号光は、スラブ導波路22を経て各波長に対応した出力用チャネル導波路16に集光、結合される。   Each demultiplexed signal light that radiates and propagates inside the slab waveguide 22 is compensated for variation in the amount of phase change by the optical resin 19 filled in the groove 18 and is incident on each phase-shifting channel waveguide 14. Propagate inside it. Thereafter, each demultiplexed signal light reaches the slab waveguide 22 again and is emitted. Each demultiplexed signal light emitted from each phase-shifting channel waveguide 14 is condensed and coupled to an output channel waveguide 16 corresponding to each wavelength via a slab waveguide 22.

各導波路12,14,16を伝搬する多重波長信号光又は各分波信号光の、光波長合分波器50の厚さ方向(図6(e)中では上下方向)の閉じ込めは、最下層の低屈折率コア層22、高屈折率コア材26,46a,46b、及び最上層のクラッド層27の屈折率差によりなされる。   The multi-wavelength signal light or each demultiplexed signal light propagating through each waveguide 12, 14, 16 is confined in the thickness direction of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 (vertical direction in FIG. 6 (e)). This is done by the difference in refractive index between the lower refractive index core layer 22, the high refractive index core materials 26, 46 a and 46 b, and the uppermost cladding layer 27.

また、各移相用チャネル導波路14の両端部20a,20b、入力用チャネル導波路12の端部32a、及び各出力用チャネル導波路16の端部36aにおける各テーパ長さは、前実施の形態に係る光波長合分波器30の、両端部20a,20b、端部32a、及び端部36aにおける各テーパ長さよりも十分に長く形成される。これによって、入力用チャネル導波路12から放射された多重波長信号光および各移相用チャネル導波路14から放射された各分波信号光が、スラブ導波路22の部分において広範囲に拡がって放射されることがなくなる。つまり、スラブ導波路22の部分における多重波長信号光及び各分波信号光の拡がりを、狭い範囲に制御することができる。   Further, the taper lengths at both end portions 20a and 20b of each phase-shifting channel waveguide 14, the end portion 32a of the input channel waveguide 12, and the end portion 36a of each output channel waveguide 16 are the same as those in the previous embodiment. The optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the embodiment is formed to be sufficiently longer than the respective taper lengths at the both end portions 20a, 20b, the end portion 32a, and the end portion 36a. As a result, the multi-wavelength signal light radiated from the input channel waveguide 12 and the demultiplexed signal lights radiated from the phase-shifting channel waveguides 14 are radiated in a wide range in the slab waveguide 22 portion. It will not be. That is, the spread of the multiplexed wavelength signal light and each demultiplexed signal light in the slab waveguide 22 can be controlled within a narrow range.

本実施の形態に係る光波長合分波器50においても、前実施の形態に係る光波長合分波器30と同様の作用効果が得られる。   Also in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 according to the present embodiment, the same effects as those of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the previous embodiment can be obtained.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器50においては、前実施の形態に係る光波長合分波器30のように各スラブ導波路13,15を個別に形成する必要がない。つまり、低屈折率コア層22自体を入力側及び出力側のスラブ導波路としており、図4(b)〜図4(d)に示した製造プロセスが不要である。これによって、光波長合分波器30と比較して、更に容易な製造プロセスにより光波長合分波器50を製造することができる。その結果、光波長合分波器30と比較して、更に安価に、小型で、かつ、損失が小さい光波長合分波器50を得ることができる。   Further, in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 according to the present embodiment, it is not necessary to form the slab waveguides 13 and 15 individually as in the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30 according to the previous embodiment. That is, the low refractive index core layer 22 itself is a slab waveguide on the input side and output side, and the manufacturing process shown in FIGS. 4B to 4D is not necessary. Thus, the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 can be manufactured by an easier manufacturing process than the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30. As a result, it is possible to obtain an optical wavelength multiplexer / demultiplexer 50 that is smaller, smaller, and less lossy than the optical wavelength multiplexer / demultiplexer 30.

以上、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、他にも種々のものが想定されることは言うまでもない。   As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various other things are assumed.

また、本実施の形態に係る光波長合分波器10,30,50の光回路17の構造、構成は、光波長多重伝送システム及び光周波数多重伝送システムに用いられる各素子、例えばM×N周波数ルーティング装置、Add/Dropフィルタ等にも適用することができる。   The structure and configuration of the optical circuit 17 of the optical wavelength multiplexer / demultiplexers 10, 30, and 50 according to the present embodiment are the same as those of the elements used in the optical wavelength multiplexing transmission system and the optical frequency multiplexing transmission system, for example, M × N. It can also be applied to frequency routing devices, Add / Drop filters, and the like.

本発明の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図である。1 is a plan view of an optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to a preferred embodiment of the present invention. 図1の光波長合分波器の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer of FIG. 本発明の他の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図である。It is a top view of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer which concerns on other suitable one Embodiment of this invention. 図3の光波長合分波器の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer of FIG. 本発明の別の好適な一実施の形態に係る光波長合分波器の平面図である。It is a top view of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer which concerns on another suitable one Embodiment of this invention. 図5の光波長合分波器の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the optical wavelength multiplexer / demultiplexer of FIG. 従来のアレイ導波路型回折格子を用いた温度無依存型の光波長合分波器の平面図である。It is a top view of the temperature independent type optical wavelength multiplexer / demultiplexer using the conventional arrayed waveguide type diffraction grating. コア材とクラッド材の比屈折率差Δが0.8%の場合の、各溝の配置間隔と損失との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the arrangement | positioning space | interval of each groove | channel, and loss in case the relative refractive index difference (DELTA) of a core material and a clad material is 0.8%. コア材とクラッド材の比屈折率差Δが1.5%の場合の、各溝の配置間隔と損失との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the arrangement | positioning space | interval of each groove | channel, and loss in case the relative refractive index difference (DELTA) of a core material and a clad material is 1.5%.

符号の説明Explanation of symbols

10 光波長合分波器
12 入力用チャネル導波路
13 入力側スラブ導波路(スラブ導波路)
14 移相用チャネル導波路
17 光回路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Optical wavelength multiplexer / demultiplexer 12 Input channel waveguide 13 Input side slab waveguide (slab waveguide)
14 Phase-shifting channel waveguide 17 Optical circuit

Claims (4)

少なくとも1個の入力用チャネル導波路と、その入力用チャネル導波路に接続される入力側スラブ導波路と、少なくとも1個の出力用チャネル導波路と、その出力用チャネル導波路に接続される出力側スラブ導波路と、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路を接続する複数個の移相用チャネル導波路とを備えたアレイ導波路型の光波長合分波器において、上記各移相用チャネル導波路を、上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成したことを特徴とする光波長合分波器。   At least one input channel waveguide, an input-side slab waveguide connected to the input channel waveguide, at least one output channel waveguide, and an output connected to the output channel waveguide An arrayed waveguide type optical wavelength multiplexer / demultiplexer comprising a side slab waveguide and a plurality of phase shift channel waveguides connecting the input side slab waveguide and the output side slab waveguide. An optical wavelength multiplexer / demultiplexer comprising a channel waveguide made of a silica-based material having a larger refractive index than the input side slab waveguide and the output side slab waveguide. 少なくとも1個の入力用チャネル導波路と、その入力用チャネル導波路に接続される入力側スラブ導波路と、少なくとも1個の出力用チャネル導波路と、その出力用チャネル導波路に接続される出力側スラブ導波路と、入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路を接続する複数個の移相用チャネル導波路とを備えたアレイ導波路型の光波長合分波器において、上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路の形成層と上記各移相用チャネル導波路の形成層とを異層に設けると共に、各移相用チャネル導波路を、各スラブ導波路よりも大きな屈折率を有する石英系材料で構成したことを特徴とする光波長合分波器。   At least one input channel waveguide, an input-side slab waveguide connected to the input channel waveguide, at least one output channel waveguide, and an output connected to the output channel waveguide An arrayed waveguide type optical wavelength multiplexer / demultiplexer comprising a side slab waveguide and a plurality of phase-shifting channel waveguides connecting the input side slab waveguide and the output side slab waveguide. The formation layer of the waveguide and the output-side slab waveguide and the formation layer of each of the phase-shifting channel waveguides are provided in different layers, and each phase-shifting channel waveguide has a higher refractive index than each slab waveguide. An optical wavelength multiplexer / demultiplexer comprising a quartz-based material. 上記各移相用チャネル導波路の接続端部を先細状に形成し、それらの移相用チャネル導波路と上記入力側スラブ導波路及び出力側スラブ導波路とを接続して断熱的に光結合させた請求項1又は2記載の光波長合分波器。   The connecting end of each phase-shifting channel waveguide is tapered, and the phase-shifting channel waveguide is connected to the input-side slab waveguide and the output-side slab waveguide for adiabatic optical coupling. The optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to claim 1 or 2. 上記入力側スラブ導波路に、スラブ導波路内を伝搬する光波と交差する複数個の溝を形成した請求項1から3いずれかに記載の光波長合分波器。
4. The optical wavelength multiplexer / demultiplexer according to claim 1, wherein a plurality of grooves intersecting light waves propagating in the slab waveguide are formed in the input-side slab waveguide. 5.
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