JP2005313364A - Isotropic polyimide film and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ポリイミドフィルムの分子配向度が非常に小さい等方的なポリイミドフィルムの製造方法に関するものである。さらに詳しくは、連続的に生産されるポリイミドフィルムの全幅において、分子配向度が非常に小さい等方的なポリイミドフィルムの新規な製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an isotropic polyimide film in which the degree of molecular orientation of the polyimide film is very small. More specifically, the present invention relates to a novel method for producing an isotropic polyimide film having a very small molecular orientation in the entire width of a continuously produced polyimide film.
例えば、エレクトロニクスの技術分野においては、軽量でシンプルな電子機器が実用化されるに至り、電子機器用途に用いられる部材にも軽量化・高機能化の要求が益々高まっている。特に、携帯電話等に代表される小さくて高機能な電気電子機器においてはその要求が高まっている。 For example, in the technical field of electronics, lightweight and simple electronic devices have been put to practical use, and there is an increasing demand for light weight and high functionality for members used for electronic devices. In particular, there is an increasing demand for small and highly functional electric and electronic equipment typified by mobile phones.
中でも、電子部材の基板もしくは高密度の配線に用いられる、フレキシブルプリント配線板(以下、FPCという)を用いる技術分野においても、軽量・高機能化(FPCの場合、高密度実装できることを指す)の要求が高くなってきている。 In particular, in the technical field using a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as FPC) used for a substrate of an electronic member or high-density wiring, it is lightweight and highly functional (in the case of FPC, it means that high-density mounting is possible). The demand is getting higher.
現在の所、高絶縁性、高耐熱性、フレキシビリティー、低い熱膨張係数、高弾性率、摺動屈曲性に優れる材料としてポリイミドフィルムがFPC用途に広く用いられている。更にポリイミドフィルムは、TAB(Tape Automated Bonding)用フィルム、COF(チップオンフィルム)用基板等に広く用いられている。 At present, a polyimide film is widely used for FPC as a material excellent in high insulation, high heat resistance, flexibility, low thermal expansion coefficient, high elastic modulus, and sliding flexibility. Furthermore, polyimide films are widely used for TAB (Tape Automated Bonding) films, COF (chip on film) substrates, and the like.
しかし、ポリイミドフィルムは製造途中に高温でイミド化反応を進ませる必要があり、その為、乾燥させて自己支持性を有するフィルムの端部を把持した状態で高温の加熱炉内を搬送させるテンター炉方式の焼成方法を用いて製造されるのが一般的な製造方法であり、その場合に問題となるのがボーイング現象と呼ばれるフィルム端部のフィルム物性値が方向により大きく異なる現象(分子配向度に異方性が発現すると以下称する)が発現し、その部位のフィルムを使用できない問題があった。その為、全幅フィルムの方向による物性値の差が小さいポリイミドフィルム(分子配向度が等方的と称する)が望まれてきた。 However, it is necessary to advance the imidization reaction at a high temperature during the production of the polyimide film. For this reason, a tenter furnace that transports the inside of a high-temperature heating furnace while holding the end of the film having a self-supporting property by drying. It is a general manufacturing method that is manufactured using a method of baking, and in that case the problem is that the film physical property value at the edge of the film, which is called the bowing phenomenon, varies greatly depending on the direction (in terms of molecular orientation) When the anisotropy is expressed, the following) is expressed, and there is a problem that the film at the site cannot be used. Therefore, a polyimide film having a small difference in physical property values depending on the direction of the full width film (the molecular orientation is called isotropic) has been desired.
上記ボーイング現象を解決し等方的なポリイイミドフィルム得るための方法として、1)延伸を用いる方法、2)加熱炉温度を制御する方法、3)テンター炉内のフィルム幅を制御する方法等が効果的に用いられてきた。 As a method for solving the above bowing phenomenon and obtaining an isotropic polyimide film, there are 1) a method using stretching, 2) a method for controlling the heating furnace temperature, 3) a method for controlling the film width in the tenter furnace, etc. Has been used effectively.
延伸を用いる方法として、特許文献1や特許文献2には、閉環触媒および脱水剤を含有するポリアミド酸の有機溶媒溶液を支持体表面にキャストし、ポリアミド酸をイミド化して自己支持性を有し固形分5〜50重量%のゲルフィルム連続体を成形させ、このゲルフィルムを走行方向に1.1〜1.9倍延伸し、幅方向に走行方向の延伸倍率の0.9〜1.3倍の倍率で延伸することを特徴とする等法的なポリイミドフィルムの製造方法が記載されているが、延伸するための大型装置が必要となり、容易には適応することが困難である。
As a method using stretching,
加熱炉温度を制御する方法として、例えば、特許文献3には、グリーンシート(ゲルフィルム)の両端を固定して加熱炉を通過させる場合、原反フィルムの両端部における配向軸角度が、正であるか負であるかによって、フィルムが加熱炉内の温度条件を決定する方法が開示されている。また、特許文献4には、ポリイミドフィルムの前駆体であるゲルフィルムを、加熱開始温度が支持体温度+100℃以下かつ150〜250℃に制御された加熱炉へテンター方式で搬送、焼成する工程により、等方 的なポリイミドフィルム を連続生産する方法が記載されている。
As a method for controlling the heating furnace temperature, for example, in
さらに、テンター炉内のフィルム幅を制御する方法として、例えば、特許文献5には、ポリイミド前駆体であるポリアミド酸またはポリイミドを有機溶剤溶液中に溶解した樹脂溶液をエンドレスベルトまたはドラム上に連続的に塗布し、自己支持性がでるまで乾燥した後、該フィルムの両端を固定し、加熱炉中を搬送する事によりポリイミドフィルム とするポリイミドフィルム の製造方法において、該ポリイミドがガラス転位点を有し、加熱炉の最高温度が該ガラス転位温度以上であり、加熱炉の前半をフィルム幅 を順次小さくするように固定端間距離を設定し、加熱炉後半をフィルム幅 を順次大きくするように固定端間距離を設定する方法が開示されている。
Furthermore, as a method for controlling the film width in the tenter furnace, for example,
上記特許文献3〜5の方法は、いずれも等方的なフィルムを得るのに有効な方法であるが、本発明の、加熱炉におけるフィルムの固定状態と加熱炉の温度斑を規定する方法とは、アプローチが異なる。
本発明は、FPCなどのエレクトロニクスの技術分野に特に有用と考えられる、等方的なフィルム、特に、フィルムの全幅において等方的なポリイミドフィルムを容易に製造する方法を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide a method for easily producing an isotropic film, particularly an isotropic polyimide film in the full width of the film, which is considered particularly useful in the technical field of electronics such as FPC. .
本発明は、以下の新規な製造方法およびポリイミドフィルムにより上記課題を達成しうる。
1)連続的に生産されるポリイミドフィルムの製造方法において、少なくとも下記
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含むポリイミドフィルムの製造方法であって、
前記(D)工程は、
(D−1)フィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する工程、
(D−2)フィルムをTD方向に引き延ばす工程を含み、
かつ、
前記加熱炉は、2以上の複数の加熱炉からなり、第一の加熱炉における幅方向の温度斑が100℃以下であることを特徴とする等方的なポリイミドフィルムの製造方法。
2)前記(D−1)工程は、加熱炉の入り口において行うことを特徴とする1)記載の等方的なポリイミドフィルムの製造方法。
3)前記加熱炉は、2以上の複数の加熱炉からなり、第一の加熱炉の温度が300℃以下であることを特徴とする2)記載の等方的なポリイミドフィルムの製造方法。
4)前記(D−1)工程において、両端部固定端の距離をX、両端部固定端間のフィルムの幅をYとしたとき、XとYが下記式を満足するようにTD方向の張力が実質的に無張力となるように両端間を固定することを特徴とする1)〜3)のいずれかに記載の等方的なポリイミドフィルムの製造方法。
20.0≧(Y−X)/Y×100>0.00
5)前記(D−2)工程において、引き延ばす前の、TD方向の両端部固定端の距離をZ、フィルムが炉内で引き伸ばされた際の両端部固定端の距離をWとしたとき、ZとWが下記式を満足するようにTD方向にフィルムを引き伸ばすことを特徴とする1)〜4)のいずれか一項に記載の等方的なポリイミドフィルムの製造方法。
40.0≧(W−Z)/Z×100>0.00
6)1)〜5)のいずれかに記載のポリイミドフィルムの製造方法を用いて製造された等方的なポリイミドフィルム。
This invention can achieve the said subject with the following novel manufacturing methods and a polyimide film.
1) In the process for producing a continuously produced polyimide film, at least the following (A) a step of polymerizing polyamic acid (B) a composition containing polyamic acid and an organic solvent is cast and applied on a support, and then gel Forming a film;
(C) Step of peeling off the gel film and fixing both ends (D) Step of conveying the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film,
A method for producing a polyimide film comprising:
The step (D)
(D-1) a step of transporting the film so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension;
(D-2) including a step of stretching the film in the TD direction;
And,
The said heating furnace consists of two or more several heating furnaces, and the temperature spot of the width direction in a 1st heating furnace is 100 degrees C or less, The manufacturing method of the isotropic polyimide film characterized by the above-mentioned.
2) The method for producing an isotropic polyimide film according to 1), wherein the step (D-1) is performed at an entrance of a heating furnace.
3) The method for producing an isotropic polyimide film according to 2), wherein the heating furnace includes two or more heating furnaces, and the temperature of the first heating furnace is 300 ° C. or less.
4) In the step (D-1), when the distance between the fixed ends on both ends is X and the width of the film between the fixed ends on both ends is Y, the tension in the TD direction so that X and Y satisfy the following formula: The method for producing an isotropic polyimide film according to any one of 1) to 3), wherein both ends are fixed so as to be substantially tension free.
20.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00
5) In the step (D-2), when the distance between the fixed ends at both ends in the TD direction before stretching is Z, and the distance between the fixed ends at both ends when the film is stretched in the furnace is W, Z The method for producing an isotropic polyimide film according to any one of 1) to 4), wherein the film is stretched in the TD direction so that W and W satisfy the following formula:
40.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00
6) An isotropic polyimide film produced using the method for producing a polyimide film according to any one of 1) to 5).
本発明のポリイミドフィルムの製造方法によれば、連続生産されるポリイミドフィルムの全幅において、等方的なポリイミドフィルムを得ることができる。 According to the method for producing a polyimide film of the present invention, an isotropic polyimide film can be obtained over the entire width of a continuously produced polyimide film.
本発明は、連続的に生産されるポリイミドフィルムの製造方法において、少なくとも下記
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含むポリイミドフィルムの製造方法であって、
(1)前記(D)工程は、
(D−1)フィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する工程、
(D−2)フィルムをTD方向に引き延ばす工程を含み、
かつ、
(2)前記加熱炉は、2以上の複数の加熱炉からなり、第一の加熱炉における幅方向の温度斑が100℃以下であることを特徴とする等方的なポリイミドフィルムの製造方法である。以下、各工程を詳細に説明する。
The present invention provides a process for producing a continuously produced polyimide film, wherein at least the following (A) step of polymerizing polyamic acid (B) after casting and coating a composition containing polyamic acid and an organic solvent on a support A step of forming a gel film,
(C) Step of peeling off the gel film and fixing both ends (D) Step of conveying the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film,
A method for producing a polyimide film comprising:
(1) The step (D)
(D-1) a step of transporting the film so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension;
(D-2) including a step of stretching the film in the TD direction;
And,
(2) The heating furnace comprises a plurality of heating furnaces of two or more, and the temperature variation in the width direction in the first heating furnace is 100 ° C. or less. is there. Hereinafter, each process will be described in detail.
(A)工程
(A)工程は、ポリアミド酸を重合する工程である。ポリアミド酸の製造方法としては公知の方法を用いることができ、通常、芳香族酸二無水物の少なくとも1種とジアミンの少なくとも1種を、実質的等モル量を有機溶媒中に溶解させて、得られた有機溶媒溶液を、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらの有機溶媒溶液は通常5〜40wt%、好ましくは10〜30wt%の固形分濃度で得られる。この範囲の固形分濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。
重合方法としてはあらゆる公知の方法を用いることができるが、特に好ましい重合方法として次のような方法が挙げられる。すなわち、
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。
Step (A) Step (A) is a step of polymerizing polyamic acid. As a method for producing the polyamic acid, a known method can be used. Usually, at least one aromatic dianhydride and at least one diamine are dissolved in a substantially equimolar amount in an organic solvent, The resulting organic solvent solution is produced by stirring under controlled temperature conditions until polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed. These organic solvent solutions are usually obtained at a solid concentration of 5 to 40 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the solid content concentration is in this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.
Any known method can be used as the polymerization method, and the following method is particularly preferable as the polymerization method. That is,
1) A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent and this is reacted with a substantially equimolar amount of an aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.
2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with a small molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Then, the method of superposing | polymerizing using an aromatic diamine compound so that an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine compound may become substantially equimolar in all the processes.
3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride and an excess molar amount of the aromatic diamine compound are reacted in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after adding an aromatic diamine compound here, using the aromatic tetracarboxylic dianhydride so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar in all steps. How to polymerize.
4) A method in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent and then polymerized using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.
5) A method of polymerizing by reacting a substantially equimolar mixture of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine in an organic polar solvent.
And so on.
ポリアミド酸の重合に好適に用いられる有機溶媒としては、特に限定される物ではないが、テトラメチル尿素、N,N’−ジメチルエチルウレアのようなウレア類、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン類、N,N’−ジメチルアセトアミド(略称DMAc)、N,N’−ジメチルホルムアミド(略称DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(略称NMP)、γ―ブチルラクトン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類、またはホスホリルアミド類の非プロトン性溶媒、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化アルキル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、フェノール、クレゾールなどのフェノール類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、p−クレゾールメチルエーテルなどのエーテル類が挙げられることができる。これら有機溶媒は、通常単独で用いられるが、2種以上を適宜組合わせて用いてよい。これらのうち有機溶媒の中でも、非プロトン性極性溶媒が好ましく用いられ、DMF、DMAc、NMPなどのアミド類がより好ましく用いられる。 The organic solvent suitably used for the polymerization of the polyamic acid is not particularly limited, but ureas such as tetramethylurea, N, N′-dimethylethylurea, dimethyl sulfoxide, diphenylsulfone, tetramethylsulfone Such as sulfoxide or sulfones, N, N′-dimethylacetamide (abbreviation DMAc), N, N′-dimethylformamide (abbreviation DMF), N-methyl-2-pyrrolidone (abbreviation NMP), γ-butyllactone, hexa Amides such as methylphosphoric triamide, or aprotic solvents such as phosphorylamides, alkyl halides such as chloroform and methylene chloride, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, phenols such as phenol and cresol, Dimethyl ether, diethyl ether Can ethers such as p- cresol methyl ether. These organic solvents are usually used alone, but two or more kinds may be used in appropriate combination. Among these organic solvents, aprotic polar solvents are preferably used, and amides such as DMF, DMAc, and NMP are more preferably used.
ポリアミド酸のモノマー原料として用いられる酸二無水物としては、特に限定されるものではないが、具体的には、例えば、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p−メチルフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p−(2,3−ジメチルフェニレン)ビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、4,4’−ビフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、1,4−ナフタレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、2,6−ナフタレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)2,2−ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパンジベンゾエート−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物;さらに、エチレンテトラカルボン酸、1, 2, 3, 4−ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、1, 2, 3, 4―ベンゼンテトラカルボン酸、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸、2, 2, 3, 3―ビフェニルテトラカルボン酸、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2, 2’, 3, 3’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス(2, 3―ジカルボキシフェニル)メタン、ビス(3, 4―ジカルボキシフェニル)メタン、1, 1―ビス(2, 3―ジカルボキシフェニル)エタン、2, 2―ビス(3, 4―ジカルボキシフェニル)プロパン、2, 2―ビス(2, 3―ジカルボキシフェニル)プロパン、ビス(3, 4―ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(2, 3―ジカルボキシフェニル)エーテル、ビス(2, 3―ジカルボキシフェニル)スルホン、2, 3, 6, 7―ナフタレンテトラカルボン酸、1, 4, 5, 8―ナフタレンテトラカルボン酸、1,2, 5, 6―ナフタレンテトラカルボン酸、2, 3, 6, 7―アントラセンテトラカルボン酸、1, 2, 7, 8―フェナントレンテトラカルボン酸、3, 4, 9, 10―ペリレンテトラカルボン酸、4, 4―(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、4, 4 ―(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、2, 2―ビス[(2, 3―ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン等の芳香族テトラカルボン酸もしくは当該酸の酸二無水物を挙げることができる。 The acid dianhydride used as the monomer raw material for the polyamic acid is not particularly limited, but specific examples include p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), p-methylphenylene. Bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), p- (2,3-dimethylphenylene) bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 4,4′-biphenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) ), 1,4-naphthalenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 2,6-naphthalenebis (trimellitic acid monoester anhydride) 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate- 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride; furthermore, ethylenetetracarboxylic acid, 1,2,3,4-butanetetra Carboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, 1, 2, 3, 4-benzenetetracarboxylic acid, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2, 2, 3, 3-biphenyl Tetracarboxylic acid, 3, 3 ′, 4, 4′-benzophenone tetracarboxylic acid, 2, 2 ′, 3, 3′-benzophenone tetracarboxylic acid, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane, bis (3, 4-Dicarboxyphenyl) methane, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (2,3- Dicarboxyphenyl) propane, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfone, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic acid Acid, 1, 2, 7, 8-phenanthrenetetracarboxylic acid, 3, 4, 9, 10-perylenetetracarboxylic acid, 4, 4- (p-phenylenedioxy) diphthalic acid, 4, 4- (m-pheny An aromatic tetracarboxylic acid such as (rangeoxy) diphthalic acid, 2,2-bis [(2,3-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane, or an acid dianhydride of the acid.
これらの中でも、ピロメリット酸、1, 2, 3, 4―ベンゼンテトラカルボン酸、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸、2, 2’, 3, 3’―ビフェニルテトラカルボン酸、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2, 2’, 3, 3’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸)の芳香族テトラカルボン酸もしくは当該酸の酸二無水物が好適に用いられる。
Among these, pyromellitic acid, 1, 2, 3, 4-benzenetetracarboxylic acid, 3, 3 ', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2, 2', 3, 3'-
これら化合物は、少なくとも1種が用いられることが好ましい。また、これら化合物は1種類のみを用いてもよいし、2種以上を適宜組み合わせて用いてもよい。 It is preferable that at least one of these compounds is used. Moreover, these compounds may use only 1 type and may be used in combination of 2 or more types as appropriate.
ポリアミド酸のモノマー原料として用いられるジアミン類としては、特に限定されるものではないが、p-フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、3,3’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、3,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシジベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェニル)スルホン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェニル)スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エ−テル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−トリフルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−フルオロメチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−メチルフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(4−アミノ−6−シアノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、ジアミノポリシロキサン等の化合物を挙げることができる。 The diamine used as a monomer raw material for the polyamic acid is not particularly limited, but p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3, 4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3 '-Diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3, 3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diamino Diphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4- Aminophenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (3-aminophenyl) -1,1,1 , 3,3,3-hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) ben, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3 − (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 3, 3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-5-phenoxybenzophenone, 4,4 ' -Bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 3,3'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 3,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl Nyl] ketone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, 3,3′-diamino-4,4′-diphenoxydibenzophenone, 4,4′-diamino-5,5′-diphenoxybenzophenone 3,4′-diamino-4,5′-diphenoxybenzophenone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- ( 3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone Bis [4- (4-aminophenyl) sulfone, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfur Hong, bis [4- (3-aminophenyl) sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [3- (3-aminophenoxy) Phenyl] methane, bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) Phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1, , 3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [ 3- (3-Aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [3- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1, 3,3,3-hexafluoropropane, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3- Bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-5-phenoxybenzoyl) benzene, 1,3 Bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-trifluoromethylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3- Bis [4- (4-amino-6-fluoromethylphenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-methylphenoxy) -α, Examples include [alpha] -dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-amino-6-cyanophenoxy)-[alpha], [alpha] -dimethylbenzyl] benzene, diaminopolysiloxane and the like.
これらの化合物は、少なくとも1種類が用いられることが好ましい。また、これら化合物は1種類のみを用いてもよいし、2種類以上を適宜組み合わせて用いてもよい。 At least one of these compounds is preferably used. Moreover, these compounds may use only 1 type and may use it in combination of 2 or more types as appropriate.
これらの中でも、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルが好適に用いられる。 Among these, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, and 4,4′-diaminodiphenyl ether are preferably used. It is done.
特に本発明においては、得られるポリイミドフィルムの分子配向度を好ましい範囲に制御しやすくなる点から、次に示す酸二無水物およびジアミン類の組み合わせを、モノマー原料としてより好ましく用いることができる。 In particular, in the present invention, the combination of the following acid dianhydrides and diamines can be more preferably used as a monomer raw material because the degree of molecular orientation of the resulting polyimide film can be easily controlled within a preferable range.
具体的には、(1)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)を用いる組み合わせ、(2)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いる組み合わせ、(3)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いる組み合わせ、(4)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いる組み合わせ、(5)p-フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を用いる組み合わせ、(6)4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、3,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、ピロメリット酸二無水物を用いる組み合わせ、(7)4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル、p-フェニレンジアミン、ピロメリット酸二無水物を用いる組み合わせを用いることにより、最終的に得られるポリイミドフィルムの分子配向度を好ましい範囲に制御しやすくなる。
Specifically, (1) a combination using p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), ( 2) Combination using p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, 3, 3 ′, 4, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, (3) p -Phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, a combination using 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, (4) p-
また、ポリイミドフィルムの弾性率は、高い方が、フィルムが高温に晒された場合の取り扱い性の点から好ましい。具体的には、例えばジアミン原料としてp-フェニレンジアミンや酸ニ無水物原料としてピロメリット酸二無水物、p-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、3, 3’, 4, 4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3, 3’, 4, 4’―ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いることによって弾性率を高くすることが可能である。引張り弾性率は4.0GPa以上であることが好ましい。なお、弾性率は高い方が好ましいが、製膜性の観点(弾性率が高すぎるとイミド化途中でフィルムが破れたりする場合がある)や、取扱い上でのフレキシビリティーに欠ける場合があることから上限は12.0GPa以下であることが好ましい。 Moreover, the one where the elasticity modulus of a polyimide film is high is preferable from the point of the handleability when a film is exposed to high temperature. Specifically, for example, p-phenylenediamine as a diamine raw material, pyromellitic dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 3, 3 ′, 4, 4 as an acid dianhydride raw material. By using '-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, the elastic modulus can be increased. The tensile elastic modulus is preferably 4.0 GPa or more. A higher elastic modulus is preferable, but from the viewpoint of film forming property (if the elastic modulus is too high, the film may be broken during imidization) and flexibility in handling may be lacking. Therefore, the upper limit is preferably 12.0 GPa or less.
このようにして得られるポリアミド酸の平均分子量は、GPCのPEG(ポリエチレングリコール)換算で10000以上であることがフィルム物性上好ましい。 The average molecular weight of the polyamic acid thus obtained is preferably 10,000 or more in terms of GPC PEG (polyethylene glycol) in view of film properties.
(B)工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物(ポリアミド酸溶液ともいう)を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、である。(B)工程で用いる組成物は、ポリアミド酸と反応しうる反応剤など、その他の成分を添加した組成物を用いてもよい。
(B) Step (B) A step of forming a gel film after casting and applying a composition containing a polyamic acid and an organic solvent (also referred to as a polyamic acid solution) on a support. The composition used in step (B) may be a composition to which other components such as a reactive agent capable of reacting with polyamic acid are added.
上記ポリアミド酸溶液の粘度は、23℃に保温された水浴中で1時間保温し、その時の粘度をB型粘度計で、ローターはNo.7を回転数は4rpmで測定を行いその粘度が50Pa・s以上1000Pa・s以下であることが好ましく、さらに好ましくは100Pa・s以上500Pa・s以下、最も好ましくは200Pa・s以上350Pa・s以下であることがフィルム成形体を製造する際に、取扱いやすいという点から最も好ましい。 The viscosity of the polyamic acid solution was kept in a water bath kept at 23 ° C. for 1 hour. 7 is measured at 4 rpm, and the viscosity is preferably 50 Pa · s or more and 1000 Pa · s or less, more preferably 100 Pa · s or more and 500 Pa · s or less, and most preferably 200 Pa · s or more and 350 Pa · s or less. It is most preferable from the viewpoint that it is easy to handle when producing a film molded body.
また、(B)工程で用いるポリアミド酸溶液中のポリアミド酸の固形分濃度は、5〜40wt%、好ましくは10〜30wt%であることが好ましく、さらには13〜25wt%であることが好ましい。上記範囲内であれば、フィルム成形体を製造する際に、取扱いやすくなる傾向にある。 Moreover, the solid content concentration of the polyamic acid in the polyamic acid solution used in the step (B) is preferably 5 to 40 wt%, preferably 10 to 30 wt%, and more preferably 13 to 25 wt%. If it is in the said range, when manufacturing a film molded object, it exists in the tendency which becomes easy to handle.
上記ポリアミド酸溶液の粘度および濃度は、必要に応じて、(A)工程で例示したポリアミド酸の重合用溶媒のような有機溶媒を加えて調整することができる。 If necessary, the viscosity and concentration of the polyamic acid solution can be adjusted by adding an organic solvent such as the polyamic acid polymerization solvent exemplified in step (A).
これらポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の方法を用いることができる。この方法には熱イミド化法と化学イミド化法が挙げられる。熱イミド化法は、加熱によってのみイミド化を促進させる方法である。加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。さらに、適宜ポリアミド酸溶液中に剥離剤、熱イミド化触媒等を混合してイミド化することが望ましい。化学イミド化法は、ポリアミド酸有機溶媒溶液に、イミド化触媒、脱水剤を作用させる方法である。脱水剤としては、例えば無水酢酸などの脂肪族酸無水物、無水安息香酸などの芳香族酸無水物などが挙げられる。イミド化触媒としては、例えばトリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、ジメチルアニリンなどの芳香族第3級アミン類、ピリジン、ピコリン、イソキノリンなどの複素環式第3級アミン類などが挙げられる。 A conventionally well-known method can be used about the method of manufacturing a polyimide film from these polyamic-acid solutions. This method includes a thermal imidization method and a chemical imidization method. The thermal imidization method is a method for promoting imidization only by heating. The heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like. Furthermore, it is desirable that the polyamic acid solution is mixed with a release agent, a thermal imidation catalyst, etc. as appropriate for imidization. The chemical imidization method is a method in which an imidization catalyst and a dehydrating agent are allowed to act on a polyamic acid organic solvent solution. Examples of the dehydrating agent include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Examples of the imidization catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, and isoquinoline.
用いるイミド化触媒の量は特に限定されないが、モル比で、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=0.01〜10が好ましい。更に好ましくは、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=0.5〜5が好ましい。 The amount of the imidization catalyst to be used is not particularly limited, but is preferably an imidization catalyst / amide group in polyamic acid = 0.01 to 10 in molar ratio. More preferably, imidation catalyst / amide group in polyamic acid = 0.5 to 5 is preferable.
また脱水剤及びイミド化触媒を併用する際は、モル比で、脱水剤/ポリアミド酸中アミド基=0.01〜10が好ましく、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=0.01〜10であることが好ましい。更に好ましくは、脱水剤/ポリアミド酸中アミド基=0.5〜5が好ましく、イミド化触媒/ポリアミド酸中アミド基=0.5〜5が好ましい。なお、この場合には、アセチルアセトン等の反応遅延剤を併用しても良い。また、ポリアミド酸に対する脱水剤及びイミド化触媒の含有量は、0℃にてポリアミド酸と脱水剤・触媒混合物とが混合されてから粘度上昇が始まるまでの時間(ポットライフ)で規定しても良い。一般にはポットライフが0.1分〜120分、さらに好ましくは1分〜60分が好ましい。 When the dehydrating agent and the imidization catalyst are used in combination, the dehydrating agent / amide acid in polyamic acid is preferably 0.01 to 10 in molar ratio, and the imidization catalyst / amide acid in polyamic acid is preferably 0.01 to 10. Preferably there is. More preferably, dehydrating agent / amide group in polyamic acid = 0.5 to 5 is preferable, and imidization catalyst / amide group in polyamic acid = 0.5 to 5 is preferable. In this case, a reaction retarder such as acetylacetone may be used in combination. The content of the dehydrating agent and the imidization catalyst with respect to the polyamic acid may be defined by the time (pot life) from when the polyamic acid and the dehydrating agent / catalyst mixture are mixed at 0 ° C. until the viscosity starts to increase. good. Generally, the pot life is preferably 0.1 minute to 120 minutes, more preferably 1 minute to 60 minutes.
また、熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、脂肪酸エステル、有機滑剤(例えばワックス)などの添加物を添加して用いてもよい。また、表面の易滑性や耐磨耗性、耐スクラッチ性等を付与するために、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式または乾式シリカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、リン酸水素カルシウム、硫酸バリウム、アルミナおよびジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン等を構成成分とする有機粒子等を添加してもよい。 Further, additives such as a heat stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, a flame retardant, a pigment, a dye, a fatty acid ester, and an organic lubricant (for example, wax) may be added and used. In addition, clay, mica, titanium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, wet or dry silica, colloidal silica, calcium phosphate, phosphoric acid are used to impart surface slipperiness, abrasion resistance, scratch resistance, etc. Inorganic particles such as calcium hydrogen, barium sulfate, alumina and zirconia, organic particles containing acrylic acid, styrene and the like as constituent components may be added.
上述のイミド化触媒、脱水剤、添加剤などを含むポリアミド酸溶液を得る場合は、これらを混合する前にフィルター等にて不溶解原料や混入異物を取り除く工程設けることがフィルム中の異物・欠陥を減少させる上で好ましい。上記フィルターの目開きは、取得フィルム厚みの1/2、好ましくは1/5、更に好ましくは1/10が良い。 When obtaining a polyamic acid solution containing the above-mentioned imidation catalyst, dehydrating agent, additives, etc., it is necessary to provide a process for removing insoluble raw materials and mixed foreign matters with a filter or the like before mixing them. It is preferable in reducing the amount. The aperture of the filter is preferably 1/2, preferably 1/5, and more preferably 1/10 of the thickness of the obtained film.
このようにして得られたポリアミド酸溶液を、支持体上に連続的に流延・塗布し、乾燥させることでゲルフィルムを得る。支持体としては、該溶液樹脂により溶解することが無く、該合成樹脂溶液の有機溶剤溶液を除去するために要する加熱にも耐えうる支持体であればどのような支持体でも用いることができる。特に好ましくは、金属板を繋ぎ合わせて作製した、エンドレスベルトもしくは金属ドラムが溶液状の塗布液を乾燥させる上で好ましい。尚、エンドレスベルトもしくはドラムの材質は、金属が好ましく用いられ中でも、SUS材が好ましく用いられる。表面には、クロム、チタン、ニッケル、コバルト等の金属にてメッキを施したものを用いることで表面上の溶剤の密着性が向上する、或いは、乾燥した有機絶縁性フィルムが剥離しやすくなるのでメッキ処理を施すことが好ましい。エンドレスベルト、金属ドラム上は平滑な表面を有することが好ましいが、エンドレスベルト上もしくは金属ドラム上には無数の凸凹を作製して用いることも可能である。エンドレスベルトもしくは金属ドラム上に加工される凸凹の直径は0.1μm〜100μmで深さが0.1〜100μmであることが好ましい。金属表面に凸凹を作製することで有機絶縁性フィルムの表面に微細な突起を作製することが可能となり、該突起によりフィルム同士の摩擦による傷の発生、もしくは、フィルム同士のすべり性を向上させることが可能となる。 The polyamic acid solution thus obtained is continuously cast and applied onto a support and dried to obtain a gel film. Any support can be used as long as it can withstand the heating required to remove the organic solvent solution of the synthetic resin solution without being dissolved by the solution resin. Particularly preferably, an endless belt or a metal drum produced by joining metal plates is preferable for drying a coating solution in the form of a solution. The material of the endless belt or drum is preferably a metal, and among them, a SUS material is preferably used. Because the surface is plated with a metal such as chromium, titanium, nickel, cobalt, etc., the adhesion of the solvent on the surface is improved, or the dried organic insulating film is easy to peel off. Plating treatment is preferably performed. The endless belt and the metal drum preferably have a smooth surface, but it is also possible to produce and use innumerable irregularities on the endless belt or the metal drum. It is preferable that the unevenness processed on the endless belt or the metal drum has a diameter of 0.1 to 100 μm and a depth of 0.1 to 100 μm. By producing irregularities on the metal surface, it becomes possible to produce fine protrusions on the surface of the organic insulating film, and the protrusions can generate scratches due to friction between films, or improve the slipperiness between films. Is possible.
本願発明におけるゲルフィルムとは、ポリアミド酸溶液を加熱・乾燥させて一部の有機溶剤もしくは反応生成物(これらを残存成分と称する)がポリイミドフィルム中に残存しているフィルムをゲルフィルムと称する。ポリイミドフィルムの製造工程においては、ポリアミド酸溶液を溶解している有機溶剤、イミド化触媒、脱水剤、反応生成物(脱水剤の吸水成分、水)、添加剤がゲルフィルム中の残存成分として残る。ゲルフィルム中に残存する残存成分割合は、該ゲルフィルム中に存在する乾燥後のゲルフィルムの重量(以下完全乾燥合成樹脂重量とも称する)a(g)に対して残存する残存成分重量b(g)を算出した際に、残存成分割合cは下記の算出式で算出される値であり、該残存成分割合が500%以下であることが好ましく、さらに好ましくは25%以上200%以下、特に好ましくは30%以上150%以下であることが好ましい。
c=b/a×100 ・・・(式2)
500%を超えると、後述する(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程において、有機溶媒除去に伴うフィルム収縮量の増大により、得られるポリイミドフィルムに亀裂が入る場合がある。
The gel film in the present invention refers to a film in which a part of an organic solvent or a reaction product (these are referred to as residual components) remains in a polyimide film by heating and drying the polyamic acid solution. In the production process of the polyimide film, the organic solvent dissolving the polyamic acid solution, the imidization catalyst, the dehydrating agent, the reaction product (water absorbing component of the dehydrating agent, water), and the additive remain as remaining components in the gel film. . The ratio of the remaining component remaining in the gel film is the weight of the remaining component b (g) relative to the weight of the gel film after drying (hereinafter also referred to as the completely dry synthetic resin weight) a (g) present in the gel film. ) Is a value calculated by the following calculation formula, the residual component ratio is preferably 500% or less, more preferably 25% or more and 200% or less, and particularly preferably Is preferably 30% or more and 150% or less.
c = b / a × 100 (Formula 2)
If it exceeds 500%, in the step of transporting the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film to be described later (D), the resulting polyimide film may crack due to an increase in the amount of film shrinkage accompanying the removal of the organic solvent. .
乾燥後のゲルフィルムの重量aと残存成分重量bの算出方法は、100mm×100mmのゲルフィルム重量dを測定した後に、該ゲルフィルムを450℃のオーブン中で20分乾燥した後、室温まで冷却後、重量を測定し完全乾燥合成樹脂重量aとする。残存成分重量bは、ゲルフィルム重量dと完全乾燥合成樹脂重量aからb=d−aの算出式より算出される。 The gel film weight a after drying and the residual component weight b were calculated by measuring the gel film weight d of 100 mm × 100 mm, drying the gel film in an oven at 450 ° C. for 20 minutes, and then cooling to room temperature. Thereafter, the weight is measured to obtain a completely dry synthetic resin weight a. The residual component weight b is calculated from the gel film weight d and the completely dry synthetic resin weight a using the formula b = da.
ゲルフィルムを製造する工程において、支持体上で加熱・乾燥させるときの条件(乾燥温度・乾燥時に吹き付けるときの熱風の風速・排気速度・乾燥時間など)は残存成分割合が上記範囲内になるように適宜設定することが好ましい。特に、ポリイミドフィルムの製造過程においては50〜200℃の範囲の温度でフィルムを加熱・乾燥させることが好ましく、特に好ましくは50〜180℃で加熱・乾燥させることが好ましい。また、乾燥時間は、20秒〜60分の範囲内で乾燥させることが好ましい。乾燥は多段式の温度管理で乾燥させることが好ましい。 In the process of producing the gel film, the conditions for heating and drying on the support (drying temperature, hot air velocity when exhausting at the time of drying, exhaust speed, drying time, etc.) are such that the remaining component ratio is within the above range. It is preferable to set as appropriate. In particular, in the process of producing a polyimide film, it is preferable to heat and dry the film at a temperature in the range of 50 to 200 ° C, and it is particularly preferable to heat and dry at 50 to 180 ° C. Moreover, it is preferable to dry within the range for 20 second-60 minutes. Drying is preferably performed by multi-stage temperature control.
(C)工程
(C)工程は、ゲルフィルムを支持体から引き剥がし連続的にゲルフィルムの両端を固定する工程である。本願発明における、ゲルフィルムの端部を固定する工程とは、ピンシート、クリップ等の一般にフィルムの製造装置において用いられる把持装置を用いてゲルフィルムの端部を把持する工程である。
(C) Process
(C) A process is a process of peeling off a gel film from a support body and fixing the both ends of a gel film continuously. In the present invention, the step of fixing the end portion of the gel film is a step of gripping the end portion of the gel film using a gripping device generally used in a film manufacturing apparatus such as a pin sheet or a clip.
なお、後述する(D)工程においての少なくとも一部においてTD方向の張力が実質的に無張力となるように固定する方法として、この(C)工程の、ゲルフィルムの端部を固定する際に、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定してもよい。フィルムを固定する段階で、TD方向の張力が実質的に無張力となるように行い、そのまま(D)工程へ送る方法である。具体的には、端部を固定する際に、フィルムを弛ませて固定するのである。 In addition, when fixing the edge part of a gel film of this (C) process as a method of fixing so that the tension | tensile_strength of TD direction may become substantially no tension in at least one part in the (D) process mentioned later. The tension in the TD direction may be fixed so as to be substantially no tension. This is a method in which the tension in the TD direction becomes substantially no tension at the stage of fixing the film, and the film is sent to the step (D) as it is. Specifically, when the end portion is fixed, the film is loosened and fixed.
(D)工程
(D)工程は、フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程である。用いられる加熱炉としては、公知の加熱炉を用いればよいが、例えば、(1)フィルム上面もしくは下面、或いは、両面から100℃以上の熱風をフィルム全体に噴射して加熱する方式の熱風炉、(2)遠赤外線を照射してフィルムを焼成する遠赤外線発生装置を備えた遠赤外線炉が好適に用いられる。
本発明において、加熱炉内を搬送する条件は、特に限定されないが、2以上の加熱炉を複数台連結し、かつ、第一の加熱炉の温度斑を制御することが重要である。すなわち、加熱炉を複数台連結し、段階的に温度を上げて焼成し、第一の加熱炉の温度斑は、100℃以下となっていることが重要である。特に、第一の加熱炉においては、フィルムは熱風を発生させる熱風吹き付け装置(例えば図1の17)により上下より熱風により加熱されていることが好ましい。
(D) Process
(D) A process is a process of conveying the inside of a heating furnace, fixing the both ends of a film. As a heating furnace to be used, a known heating furnace may be used. For example, (1) a hot air furnace of a system in which hot air of 100 ° C. or more is jetted and heated from the upper surface or the lower surface of the film or both surfaces, (2) A far-infrared furnace equipped with a far-infrared generator that irradiates far-infrared rays to fire the film is preferably used.
In the present invention, the conditions for conveying the inside of the heating furnace are not particularly limited, but it is important to connect a plurality of two or more heating furnaces and to control temperature spots in the first heating furnace. That is, it is important that a plurality of heating furnaces are connected, the temperature is raised stepwise, and the temperature spots of the first heating furnace are 100 ° C. or lower. In particular, in the first heating furnace, the film is preferably heated by hot air from above and below by a hot air spraying device (for example, 17 in FIG. 1) that generates hot air.
このとき用いる複数の加熱炉については、特に限定されるものではなく、熱風炉または遠赤外線炉を単独で、もしくはこれらを組み合わせて用いてもよい。具体的には、例えば、上記熱風炉および遠赤外線炉を混在させながら、複数台連結することにより、段階的に加熱温度を上昇させる段階式の加熱炉とすることができる。段階式の加熱炉の場合には、前段の加熱炉からの熱を次の段の加熱炉へ伝えないために、各炉を仕切るための装置が備え付けられていることが好ましい。加熱炉の数、各加熱炉の温度は焼成条件により適宜変更することが好ましい。 The plurality of heating furnaces used at this time are not particularly limited, and a hot air furnace or a far-infrared furnace may be used alone or in combination. Specifically, for example, by connecting a plurality of the hot blast furnaces and far-infrared furnaces together, a stepwise heating furnace that raises the heating temperature stepwise can be obtained. In the case of a stage-type heating furnace, it is preferable that a device for partitioning each furnace is provided so that heat from the preceding heating furnace is not transmitted to the subsequent heating furnace. It is preferable to appropriately change the number of heating furnaces and the temperature of each heating furnace depending on the firing conditions.
本発明における第一の加熱炉における幅方向の温度斑は、炉内にフィルムが通過する際(図1の19)のフィルム搬送装置(図1の1)の両端部間のフィルム下部温度を幅方向に5点(図1の20〜24)で温度を測定し、該温度の最高温度と最低温度の差を温度斑とすればよい。例えば、図1においては、20と24はフィルム搬送装置(図1の1)から5cm以内に設置しており、図3の20〜21、21〜22、22〜23、23〜24は等間隔で設置する。このようにして測定した温度斑は100℃以下が好ましく、さらに好ましくは80℃以下、特に好ましくは50℃以下が好ましい。該温度以下に制御することで温度の斑による分子配向の異常が発生し難く、全幅において等方的なポリイミドフィルムの製造が可能となる。 The temperature variation in the width direction in the first heating furnace in the present invention is the width of the film lower portion between both ends of the film transport apparatus (1 in FIG. 1) when the film passes through the furnace (19 in FIG. 1). The temperature may be measured at five points in the direction (20 to 24 in FIG. 1), and the difference between the highest temperature and the lowest temperature may be regarded as a temperature spot. For example, in FIG. 1, 20 and 24 are installed within 5 cm from the film conveying apparatus (1 in FIG. 1), and 20 to 21, 21 to 22, 22 to 23, and 23 to 24 in FIG. Install in. The temperature spots thus measured are preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower, particularly preferably 50 ° C. or lower. By controlling the temperature below this temperature, it is difficult for abnormalities in molecular orientation due to temperature spots to occur, and it is possible to produce an isotropic polyimide film over the entire width.
本発明では、両端を把持されたゲルフィルムが最初に搬送される第一の加熱炉の加熱温度(初期加熱温度)が300℃以下であることが好ましく、60℃以上、250℃以下の温度範囲であることがさらに好ましく、100℃以上200℃以下であることがより好ましい。この温度範囲であれば、得られるポリイミドフィルムにおいて、等方的なフィルムを得やすくなる。
さらに、最初に加熱される際の加熱温度を300℃以下にすることでポリイミドフィルムのボーイング現象を抑制することができる。これにより、ポリイミドフィルムの端部においても等方的なフィルムを製造することが可能となる。
第二の加熱炉の温度は、第一の加熱炉の温度よりも50℃以上300℃以下に設定することが好ましい。特に好ましくは、第一の加熱炉の温度よりも60℃以上250℃以下に設定することがポリイミドフィルムの分子配向度を小さく制御する上で好ましい。
一方、第一の加熱炉の温度を60℃未満としてもポリイミドフィルムの製造は可能であり、フィルムの分子配向軸を制御する上では好ましいが、乾燥が進行しないことから、第一の加熱炉の加熱温度が60℃未満の場合には、第二の加熱炉の温度を100℃以上、250℃以下の温度に設定することが好ましい。第一の加熱炉の温度が60℃以下の場合は、第二の加熱炉の温度を上記温度に設定することで、等方的なフィルムを得やすくなる。
なお、上記第一加熱炉および第二の加熱炉以降の、加熱炉(第三加熱炉以降の加熱炉)における加熱温度は、200℃から約600℃までの温度範囲で、段階的に加熱できるように設定することが好ましい。最高焼成温度が低い場合には、イミド化率が完全でない恐れがあるので、段階的に充分な加熱処理を行うことが好ましい。
In the present invention, the heating temperature (initial heating temperature) of the first heating furnace in which the gel film gripped at both ends is first conveyed is preferably 300 ° C. or lower, and a temperature range of 60 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. More preferably, it is 100 degreeC or more and 200 degrees C or less. If it is this temperature range, it will become easy to obtain an isotropic film in the polyimide film obtained.
Furthermore, the bowing phenomenon of a polyimide film can be suppressed by making the heating temperature at the time of first heating into 300 degrees C or less. This makes it possible to produce an isotropic film at the end of the polyimide film.
The temperature of the second heating furnace is preferably set to 50 ° C. or more and 300 ° C. or less than the temperature of the first heating furnace. Particularly preferably, the temperature is set to 60 ° C. or more and 250 ° C. or less than the temperature of the first heating furnace in order to control the degree of molecular orientation of the polyimide film to be small.
On the other hand, even if the temperature of the first heating furnace is less than 60 ° C., it is possible to produce a polyimide film, which is preferable in controlling the molecular orientation axis of the film, but drying does not proceed. When the heating temperature is less than 60 ° C, the temperature of the second heating furnace is preferably set to a temperature of 100 ° C or higher and 250 ° C or lower. When the temperature of the 1st heating furnace is 60 degrees C or less, it becomes easy to obtain an isotropic film by setting the temperature of a 2nd heating furnace to the said temperature.
In addition, the heating temperature in the heating furnace (the heating furnace after the third heating furnace) after the first heating furnace and the second heating furnace can be heated stepwise in a temperature range from 200 ° C to about 600 ° C. It is preferable to set so. When the maximum firing temperature is low, the imidation rate may not be complete, and therefore it is preferable to perform sufficient heat treatment step by step.
ここで、段階式加熱炉を用いた例により具体的に説明する。図2(a)、(b)に示すように、段階的加熱炉40は5台の加熱炉41〜45から構成されており、最初の加熱炉41、第二の加熱炉42、第三の加熱炉43、第四の加熱炉44、および第五の加熱炉45の順で、フィルム50の搬送方向(MD方向:D1の方向)に沿って配置されている。なお、図2(b)は、段階式加熱炉40を上方から見た模式図であり、図2(a)は、段階式加熱炉40をポリイミドフィルムの巻き取り装置46とともに側面から見た図である。
Here, it demonstrates concretely by the example using a step-type heating furnace. As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the staged
図2(a)に示すように、ゲルフィルム50は、幅方向(TD方向)の両端で一対の把持部材52により、弛みなく固定され、最初の加熱炉40に搬送される。
As shown in FIG. 2A, the
この(D)工程の少なくとも一部においてフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する工程{以下(D−1)工程と称する}を含むことが、全幅において等方的なフィルムを得るという点で重要である。 At least a part of the step (D) includes a step of fixing and conveying the tension in the film width direction (TD direction) substantially without tension (hereinafter referred to as a step (D-1)). It is important in terms of obtaining an isotropic film over the entire width.
ここで、TD方向の張力が実質的に無張力であるとは、フィルムの自重による張力以外に、機械的なハンドリングによる引っ張り張力がTD方向にかからないことを意味している。実質的にはフィルムの両端部固定端の距離(図2、図3のV1)よりも両端部固定端間のフィルムの幅(図3の61)が広いことを意味しており、そのような状況下でのフィルムを実質的に無張力下のフィルムと言う。図3を用いて説明すると、フィルムは、把持装置によって固定される。固定開始時の固定間距離の幅(両端部固定開始端距離)は図2のV0である。固定されたフィルムは、両端固定装置で固定されたまま炉内に搬送される。搬送されて最もフィルム把持装置間の距離が狭くなった時点での装置間距離(両端固定最小距離)が図2、図3のV1の長さが両端部固定装置端が最も収縮した地点での距離である。通常は、固定開始時のフィルムの両端はピンと張力がかかった状態であり、この両端部固定開始端距離V0と両端部固定開始端間のフィルムの幅61は同じである。但し、上記(C)工程にて記載したように、フィルムがたるむように端部を固定しても問題はない。本発明においては、図3のように、両端固定最小距離V1とこの間のフィルムの幅61は異なり、両端部固定端の距離が小さくなっていることが望ましい。具体的には、両端固定最小距離の部位では、フィルムは弛ませて固定されているのである。また、本発明においては、(D)工程における加熱炉の入り口において、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されていることが、フィルム全幅においてMD方向に配向軸を向けてフィルムを製造する点から好ましい。加熱炉の入り口において、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送するには、前述の(C)工程の、ゲルフィルムの端部を固定する際に、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定し、そのまま(D)工程に送る方法(方法その1)の他に、(C)工程の後、一旦両端部固定端の距離を縮める操作(図2記載のV0からV1に収縮する方式)を行って、(D)工程に送る方法(方法その2)が挙げられるが後者の方法を用いることが容易であり好ましい。もちろん、(D)工程における加熱炉に入った後、両端部固定端の距離を縮める操作を行ってもよく(方法その3)、これらの方法を組み合わせて行ってもよい。方法その3では、両端部固定端の距離を縮める操作は300℃以下、さらには250℃以下、特には200℃以下の温度範囲で行うことが好ましい。300℃より高い温度領域において方法その3の操作を行った場合には、等方的なフィルムを得ることが困難となる傾向にあり、特にフィルム端部においても等方的なフィルムを得ることが困難な傾向にある。
Here, the fact that the tension in the TD direction is substantially tensionless means that the tensile tension due to mechanical handling is not applied in the TD direction other than the tension due to the weight of the film. This means that the film width (61 in FIG. 3) between the fixed ends on both ends is substantially larger than the distance between the fixed ends on the both ends (V 1 in FIGS. 2 and 3). A film under such a condition is called a film under substantially no tension. Referring to FIG. 3, the film is fixed by a gripping device. The width of the fixing distance at the start of fixing (distance fixing starting end distance) is V 0 in FIG. The fixed film is conveyed into the furnace while being fixed by the both-end fixing device. Inter-device distance when the distance is narrowed between the most film holding device is conveyed (both ends fixed minimum distance) 2, at a point where the length of the V 1 of the FIG. 3 is the most contracted both ends fixed device end Is the distance. Normally, both ends of the film at the start of fixing are in tension with the pins, and the both ends fixing start end distance V 0 and the film width 61 between both ends fixing starting ends are the same. However, as described in the step (C), there is no problem even if the end portion is fixed so that the film sags. In the present invention, as shown in FIG. 3, it is desirable that the both-end fixed minimum distance V 1 and the film width 61 therebetween are different, and the distance between the both-end fixed ends is small. Specifically, the film is loosened and fixed at the portion of the both ends fixed minimum distance. In the present invention, at the entrance of the heating furnace in the step (D), it is fixed that the tension in the TD direction is substantially tensionless, with the orientation axis directed in the MD direction over the entire width of the film. It is preferable from the point of manufacturing a film. In order to fix and transport the tension in the TD direction so as to be substantially no tension at the entrance of the heating furnace, when fixing the end of the gel film in the step (C) described above, In addition to the method of fixing the tension so that it is substantially tensionless and sending it to the step (D) as it is (method 1), after the step (C), the operation of temporarily reducing the distance between the fixed ends of both ends (see FIG. (Method of shrinking from V 0 to V 1 described in 2) and sending to step (D) (Method 2) is mentioned, but the latter method is easy and preferable. Of course, after entering the heating furnace in the step (D), an operation of reducing the distance between the fixed ends of both ends may be performed (method 3), or a combination of these methods may be performed. In
なお、方法その1は、ゲルフィルムの両端を固定する際に、(式3)を満たすように固定する方法が好ましく、方法その2は、(式3)を満たすように固定端の距離を縮める(V0→V1へ収縮させる)ことが好ましい。特に、MD方向の分子配向を制御しやすいという点から、両端固定最小距離の距離V1をX、両端部固定開始端間のフィルムの幅61をYとしたとき、XとYが下記式を満足するように固定されていることが好ましい。
20.0≧(Y−X)/Y×100>0.00・・・・(式3)
(Y−X)/Y×100(これを便宜上TD収縮率という場合がある)を上記範囲以上に大きくすると、フィルムの弛みを安定的に制御することが難しくなり、弛み量が進行方法に対して変化する場合がある。また場合によってはフィルムの弛みによる端部把持装置からの脱落が生じ、さらには端部にシワが発生する為、安定したフィルムの製造ができない場合がある。さらに好ましくは15.0≧(Y−X)/Y×100>0.00である。特に好ましくは10.0≧(Y−X)/Y×100>0.00である。
20.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00 (formula 3)
If (Y-X) / Y × 100 (this may be referred to as TD shrinkage for convenience) is made larger than the above range, it becomes difficult to stably control the slackness of the film, and the amount of slackness is less than the progress method. May change. In some cases, the film may come off from the end gripping device due to the slackness of the film, and further wrinkles may be generated at the end, so that stable film production may not be possible. More preferably, 15.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00. Most preferably, 10.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00.
また、(D)工程の少なくとも一部においてフィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する(D−1)工程を行う方法として、(D)工程における加熱炉の入り口において、TD方向の張力が実質的に無張力となるように固定されていることが好ましく、TD方向に実質的に無張力となるように固定されるべく、両端固定端距離を縮める工程を、炉内にフィルムが挿入される前に終了させる方法が挙げられる。この場合には、上記の実質的に無張力であることを次のように表すこともできる。すなわち、両端固定最小距離のV1をX、両端部固定開始端間のフィルムの幅61をYとしたとき、XとYが下記式を満足するように固定されていることを差す。 In addition, as a method of performing the step (D-1) in which the film is fixed and transported so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension in at least a part of the step (D), the step (D) It is preferable that the tension in the TD direction is fixed so as to be substantially no tension at the entrance of the heating furnace in FIG. There is a method in which the step of shrinking is terminated before the film is inserted into the furnace. In this case, the fact that there is substantially no tension can also be expressed as follows. That is, when V1 of the both-end fixed minimum distance is X and the width 61 of the film between the both-end fixed start ends is Y, it means that X and Y are fixed so as to satisfy the following formula.
Y−X>0.00・・・・(式4)
前記(D)工程は、さらにフィルムをTD方向に引き延ばす工程{以下(D−2)工程と称する}を含むことも重要である。
Y-X> 0.00 ... (Formula 4)
It is also important that the step (D) further includes a step of stretching the film in the TD direction (hereinafter referred to as (D-2) step).
本発明における、(D−2)工程は、(D−1)工程を経た後、加熱炉の中で、フィルムをTD方向に引き延ばす工程である。(D−1)工程で、フィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送するが、加熱炉内でフィルムが加熱されると、フィルムはある程度収縮する。収縮してフィルムの弛みがなくなった後、フィルムをTD方向に引き延ばすのである。引き延ばす量(これを便宜上TD膨張率という)は、引き延ばす前の、TD方向の両端部固定端の幅をZ(図2(a)のV1)、フィルムが炉内でTD方向に引き伸ばされた際の両端部固定端の幅をW(図2(a)のV2やV3)としたとき、下記式5を満たすことが好ましい。
40.0≧(W−Z)/Z×100>0.00・・・(式5)
(W−Z)/Z×100(これを便宜上TD膨張率という場合がある)を上記範囲以上に大きくすると、フィルムの分子配向度を小さく制御することが難しくなる場合がある。さらに好ましくは30.0≧(W−Z)/Z×100>0.00である。特に好ましくは20.0≧(W−Z)/Z×100>0.00である。
さらに、必要に応じて(D−2)工程以降に再度収縮を行ってもよく、さらに、フィルム幅を広げることも可能であり、TD収縮率、TD膨張率に関しては適宜選定することが好ましい。特に好ましい値は、TD収縮率≧TD膨張率で算出される値であることが分子配向度を全幅において小さな値に制御する上で望ましい。
The step (D-2) in the present invention is a step of stretching the film in the TD direction in the heating furnace after the step (D-1). In the step (D-1), the film is fixed and transported so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension, but when the film is heated in the heating furnace, the film contracts to some extent. . After shrinking and the film is no longer slack, the film is stretched in the TD direction. The amount to be stretched (referred to as TD expansion coefficient for convenience) is the width of the fixed ends at both ends in the TD direction Z (V 1 in FIG. 2A) before stretching, and the film was stretched in the TD direction in the furnace. When the width of the fixed ends at both ends is W (V 2 or V 3 in FIG. 2A), it is preferable to satisfy the following
40.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00 (Formula 5)
If (W−Z) / Z × 100 (this may be referred to as the TD expansion coefficient for convenience) is made larger than the above range, it may be difficult to control the molecular orientation of the film to be small. More preferably, 30.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00. Particularly preferably, 20.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00.
Further, the shrinkage may be performed again after the step (D-2) as necessary, and the film width may be increased. It is preferable to appropriately select the TD shrinkage and the TD expansion. A particularly preferable value is a value calculated by TD shrinkage ratio ≧ TD expansion coefficient in order to control the degree of molecular orientation to a small value in the entire width.
(D−2)工程を行う温度は、ポリイミドフィルムが高温で弾性率が低下するフィルムである場合には、その(弾性率の変化する温度)±100℃の温度で引き伸ばす事が好ましい。特に、300℃以上500℃以下、特に好ましくは350℃以上480℃以下がポリイミドフィルムの弾性率が低下してフィルムを引き伸ばしやすくなるので好ましい。尚、引き伸ばし温度でポリイミドイフィルムを炉内に搬送した際に、フィルムが軟化して伸びきってしまう場合がある。その場合には、上記範囲以外の温度を適宜設定することが好ましい。 When the polyimide film is a film whose elastic modulus decreases at a high temperature, the temperature at which the step (D-2) is performed is preferably stretched at a temperature of (temperature at which the elastic modulus changes) ± 100 ° C. In particular, 300 ° C. or more and 500 ° C. or less, particularly preferably 350 ° C. or more and 480 ° C. or less is preferable because the elastic modulus of the polyimide film is lowered and the film is easily stretched. In addition, when a polyimide film is conveyed in a furnace at a stretching temperature, the film may be softened and stretched completely. In that case, it is preferable to set the temperature outside the above range as appropriate.
本発明においては、(D−1)工程での収縮及び、(D−2)工程での引き伸ばし、更には、搬送する際のMD方向のフィルム張力、ゲルフィルムの残存成分重量、加熱温度を適宜調節して、分子配向度の小さいフィルムを製造すればよい。また、ポリイミドフィルムの場合には、化学イミド化を行うか、熱イミド化を行うかにより、フィルムの加熱温度、加熱時間が全く異なるが、熱イミド化の場合であっても、本発明の方法内での制御を行えば、目的とするフィルムを得ることができる。 In the present invention, the shrinkage in the step (D-1), the stretching in the step (D-2), and the film tension in the MD direction, the residual component weight of the gel film, and the heating temperature are appropriately determined. A film with a small degree of molecular orientation may be manufactured by adjusting. In the case of a polyimide film, the heating temperature and heating time of the film are completely different depending on whether chemical imidization or thermal imidization is performed. If the control is performed inside, the target film can be obtained.
なお、本発明において、炉内に搬送される際にゲルフィルムが弛まないように、ゲルフィルムのMD方向に与えられる張力は1〜20kg/mであることが好ましく、特に好ましくは1〜15kg/mであることが好ましい。張力が1kg/m以下の場合にはフィルムを安定して搬送することが困難な場合があり、フィルムを把持して安定したフィルムが製造しにくくなる傾向にある。また、フィルムにかける張力が20kg/m以上の場合には、特に、フィルムの端部において等方的なフィルムを製造しにくくなる傾向にある。炉内に搬送されるゲルフィルムに与える張力発生装置としては、ゲルフィルムに荷重をかける荷重ロール、ロールの回転速度を調整して荷重を変化させるロール、ゲルフィルムを2つのロールで挟み込み張力の制御を行う二ップロールを用いる方式等の種々の方法を用いてゲルフィルへの張力を調整することができるが、これに限定されるものではない。フィルムに与える張力はポリイミドフィルムの厚みにより上記範囲内で適宜調整することが好ましい。 In addition, in this invention, it is preferable that the tension | tensile_strength given to MD direction of a gel film is 1-20 kg / m, Especially preferably, it is 1-15 kg / m so that a gel film may not loosen when conveyed in a furnace. m is preferable. When the tension is 1 kg / m or less, it may be difficult to stably transport the film, and it tends to be difficult to produce a stable film by gripping the film. Further, when the tension applied to the film is 20 kg / m or more, it tends to be difficult to produce an isotropic film particularly at the end of the film. The tension generator applied to the gel film transported into the furnace includes a load roll that applies a load to the gel film, a roll that adjusts the rotation speed of the roll to change the load, and the gel film is sandwiched between two rolls to control the tension. Although the tension | tensile_strength to a gel fill can be adjusted using various methods, such as the system using a two-ply roll which performs, it is not limited to this. The tension applied to the film is preferably adjusted appropriately within the above range depending on the thickness of the polyimide film.
(E)その他の工程
本発明では、ポリイミドフィルムを製造する工程において、上記(A)〜(D)工程の他の工程を含んでいてよく、例えば、図2(b)に示すように、加熱炉を通過した後、巻き取り装置に巻き取る工程(図2の46)が挙げられる。さらに、工程内にフィルム表面に異種のワニスを塗布する装置や、表面を処理する装置を備えていても良い。
(E) Other steps In the present invention, the step of producing a polyimide film may include other steps of the above steps (A) to (D), for example, as shown in Fig. 2 (b). Thus, after passing a heating furnace, the process (46 of FIG. 2) to wind up to a winding apparatus is mentioned. Furthermore, you may provide the apparatus which apply | coats a different varnish to the film surface in a process, and the apparatus which processes a surface.
また、ポリイミドフィルムに対して、必要に応じて、熱処理、成形、表面処理(プラズマ処理、コロナ放電処理)、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチングなどの任意の加工を行ってもよい。 Moreover, you may perform arbitrary processes, such as heat processing, shaping | molding, surface treatment (plasma treatment, corona discharge treatment), lamination, coating, printing, embossing, etching, etc. with respect to a polyimide film.
<ポリイミドフィルム>
本発明の製造方法により得られるフィルムの厚みとしては、1〜200μmの厚みが好ましく、特に好ましくは1〜100μmであることが好ましい。フィルムの厚みが200μm以上の場合には、フィルムの屈曲性が低下するので好ましくはない。
<Polyimide film>
The thickness of the film obtained by the production method of the present invention is preferably 1 to 200 μm, and particularly preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the film is 200 μm or more, the flexibility of the film is lowered, which is not preferable.
本発明の製造方法を用いれば、全幅において等方的なポリイミドフィルムの製造が可能となる。フィルムの等方性は、王子計測機器株式会社製分子配向計MOA2012Aを用いてフィルムの分子配向度を測定した場合の、MORc値(フィルムの厚み補正を75μm換算値で補正した値)により確認することできる。ここで、測定は、12GHZで行うことが好ましい。本発明の製造方法により得られるフィルムは、MORc値1.40以下がこのましく、この値以下であればポリイミドフィルムの物性値は方向による依存性が少なく、フィルム物性が全方向にほぼ等しい値であると考えることができる。MORc値のさらに好ましい範囲は1.35以下である。尚、MORc値はMOR値より下記式より算出される値である。
MORc=((MOR−1)/フィルム厚み(μm)×75)+1 (式6)
さらに、上記範囲内であれば例えば、ポリイミドフィルム表面に接着剤層を積層して金属を張りつけた金属積層板(FPC等)において、金属除去後の寸法変化量や加熱後の収縮による寸法変化量が小さくなるので好ましい。
By using the production method of the present invention, it is possible to produce an isotropic polyimide film over the entire width. The isotropy of the film is confirmed by the MORc value (the value obtained by correcting the thickness correction of the film with a value converted to 75 μm) when the molecular orientation degree of the film is measured using a molecular orientation meter MOA2012A manufactured by Oji Scientific Instruments. I can. Here, the measurement is preferably performed at 12 GHz. The film obtained by the production method of the present invention preferably has a MORc value of 1.40 or less, and if it is less than this value, the physical property value of the polyimide film is less dependent on the direction, and the film physical property value is almost equal in all directions. Can be considered. A more preferable range of the MORc value is 1.35 or less. The MORc value is a value calculated from the following formula from the MOR value.
MORc = ((MOR−1) / film thickness (μm) × 75) +1 (formula 6)
Furthermore, if it is within the above range, for example, in a metal laminate (such as FPC) in which an adhesive layer is laminated on the polyimide film surface and attached with metal, the dimensional change after metal removal or the dimensional change due to shrinkage after heating Is preferable.
上記MORcは、温度20〜23℃、湿度40〜70%の条件で75μm厚みに換算した値を用いる。本願発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムは、全幅において等方的であることが好ましい。ポリイミドフィルムの全幅とは、具体的にはTD方向のフィルム幅に対してその70%以上(1000mmのフィルムの場合700mm以上)の部位で、等方的なポリイミドフィルムであることを意味する。 As the MORc, a value converted to a thickness of 75 μm under the conditions of a temperature of 20 to 23 ° C. and a humidity of 40 to 70% is used. The polyimide film obtained by the production method of the present invention is preferably isotropic over the entire width. Specifically, the total width of the polyimide film means an isotropic polyimide film at a site of 70% or more (700 mm or more in the case of a 1000 mm film) with respect to the film width in the TD direction.
本発明の製造方法による得られるポリイミドフィルムは、他の1層以上のポリマー層をフィルムの片面もしくは両面に塗布して用いてもよい。例えば、熱可塑性ポリイミド(一般的なDSC測定装置を用いて測定したガラス転移温度が400℃以下である樹脂を意味する)、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリ塩化ビニリデンおよびアクリル系ポリマーを直接、あるいは接着剤などの層を介して積層してもよい。また、熱可塑性ポリイミド樹脂を積層する際には、熱可塑性ポリイミド樹脂と耐熱性のポリイミドフィルムを同時に1以上のスリット口より支持体表面に同時に塗布し、ゲルフィルムを作製して焼成する形態でも良い。また、本発明のポリイミドフィルムの製造方法においては、流延・塗布する高分子樹脂溶液を1層以上同時にもしくは、支持体上で順次重ね合わせるように塗布してポリイミドフィルムの積層体を作製することもできる。さらに、ポリイミドのゲルフィルムを作製した後に、フィルムをポリアミド酸溶液に浸漬する、或いは、イミド溶液中に浸漬する、もしくは、フィルムの表面にコーターを用いてポリアミド酸溶液もしくはポリイミド溶液を塗布する方法で作製したポリイミドゲルフィルムを焼成する形態でフィルムを作製しても良い。 The polyimide film obtained by the production method of the present invention may be used by coating one or more other polymer layers on one or both sides of the film. For example, thermoplastic polyimide (which means a resin having a glass transition temperature of 400 ° C. or less measured using a general DSC measuring device), polyester, polyolefin, polyamide, polyvinylidene chloride and acrylic polymer are directly or bonded. You may laminate | stack through layers, such as an agent. Further, when the thermoplastic polyimide resin is laminated, the thermoplastic polyimide resin and the heat-resistant polyimide film may be simultaneously applied to the support surface from one or more slit openings, and a gel film may be produced and fired. . In the method for producing a polyimide film of the present invention, one or more polymer resin solutions to be cast and applied may be applied simultaneously or sequentially so as to be laminated on a support to produce a polyimide film laminate. You can also. Furthermore, after the polyimide gel film is prepared, the film is immersed in a polyamic acid solution, or immersed in an imide solution, or a polyamic acid solution or a polyimide solution is applied to the surface of the film using a coater. You may produce a film with the form which bakes the produced polyimide gel film.
本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムは、必要に応じて、熱処理、成形、表面処理(コロナ処理、真空プラズマ処理、大気圧プラズマ処理)、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工、エッチング(アルカリエッチング、プラズマエッチング)、レーザー処理などの任意の加工を行ってもよい。 The polyimide film obtained by the production method of the present invention can be subjected to heat treatment, molding, surface treatment (corona treatment, vacuum plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment), lamination, coating, printing, embossing, etching (alkali etching) as necessary. , Plasma etching), laser processing, or any other processing may be performed.
本発明の製造方法により得られるポリイミドフィルムの用途は、特に限定されないが、フレキシブルプリント基板用途、TAB用テープ基板あるいは高密度記録媒体用ベースフィルム等の電気・電子機器基板用途、磁気記録媒体用途、電気絶縁用途などに特に好適に用いられる。 The use of the polyimide film obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, but for flexible printed circuit boards, TAB tape substrates or base films for high-density recording media, etc., for magnetic recording media, It is particularly preferably used for electrical insulation applications.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。特に、本願発明ではポリイミドフィルムの製造方法における実施例を記載する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples. In particular, the present invention describes an example of a method for producing a polyimide film.
(実施例1)
本実施例では、N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)中で、4,4−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)50モル%と、パラフェニレンジアミン(p−PDA)50モル%、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)50モル%、ピロメリット酸二無水物(PMDA)50モル%を該比率でこの順で添加して重合してポリアミド酸溶液を合成した。該ポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、820mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜130℃で、約5分、残存成分割合が60重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して2.0kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このとき、ピン巾800mmで弛み無く固定した(ゲル幅は800mm)。該ゲルフィルムを、130℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、260℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、360℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第四の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第五の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、30℃であった。本実施例においては、TD収縮率を2.0、TD膨張率を4.0となるようにポリイミドフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第四炉にて行った。得られたポリイミドフィルムの弾性率をJIS C2318の6.3.3に準拠した方法で上記分子配向軸を測定した部位と同じ部位をMD方向から45°方向を測定し、その平均値を算出した場合に6.0GPaであった。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向度の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度が1.40以下の等方的なポリイミドフィルムが製造できることが明らかになった。
(Example 1)
In this example, in N, N-dimethylformamide (DMF), 4,4-diaminodiphenyl ether (ODA) 50 mol%, paraphenylenediamine (p-PDA) 50 mol%, p-phenylenebis (tri Mellitic acid monoester anhydride (TMHQ) 50 mol% and pyromellitic dianhydride (PMDA) 50 mol% were added in this order in this order and polymerized to synthesize a polyamic acid solution. To this polyamic acid solution, 2.0 times equivalent acetic anhydride and 1.0 times equivalent isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and cast onto an endless belt with a thickness of 820 mm and a thickness of 20 μm after firing. Then, it was dried with hot air so that the remaining component ratio was 60% by weight at 100 ° C. to 130 ° C. for about 5 minutes to obtain a gel film having self-supporting properties. After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was baked by being transported into a tenter furnace with a tension of 2.0 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the pin width was 800 mm and fixed without slack (the gel width was 800 mm). The gel film was prepared at 130 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 260 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 360 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 450 ° C. (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace; hot air oven) and 515 ° C. (fifth heating furnace; far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 30 ° C. In this example, the polyimide film was transported so that the TD shrinkage rate was 2.0 and the TD expansion rate was 4.0. The step of reducing the both-end fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tension-free in the film TD direction ends before the film is inserted into the furnace. Performed in four furnaces. The elastic modulus of the obtained polyimide film was measured in the 45 ° direction from the MD direction at the same site as the site where the molecular orientation axis was measured in accordance with JIS C2318 6.3.3, and the average value was calculated. In the case of 6.0 GPa.
The molecular orientation degree was measured with a molecular orientation meter MOA2012 on both sides of 260 mm and 380 mm with the center of the polyimide film thus formed as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that an isotropic polyimide film having a molecular orientation of 1.40 or less over the entire film width can be produced.
(実施例2)
本実施例1と同じポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、1200mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜140℃でで、約3分、残存成分割合が62重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して3.5kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このとき、ゲルフィルムは幅方向両端をピン巾1100mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、165℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、300℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、400℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第四の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、30℃であった。TD収縮率を2.0、TD膨張率を2.0となるようにポリイミドフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第3炉にて行った
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例3)
TD収縮率を2.0、TD膨張率を2.6とした以外は、実施例2と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例4)
TD収縮率を4.0、TD膨張率を5.2とした以外は、実施例2と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
(Example 2)
In the same polyamic acid solution as in Example 1, 2.0 times equivalent of acetic anhydride and 1.0 times equivalent of isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and the thickness becomes 20 μm after firing at a width of 1200 mm. The gel film was cast on an endless belt and dried at 100 ° C. to 140 ° C. for about 3 minutes so that the ratio of the remaining components was 62% by weight to obtain a self-supporting gel film. After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was fired by being transported into a tenter furnace with a tension of 3.5 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 1100 mm. The gel film was 165 ° C (first heating furnace; hot air oven), 300 ° C (second heating furnace; hot air oven), 400 ° C (third heating furnace; hot air oven), 515 ° C (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace (far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 30 ° C. The polyimide film was conveyed so that the TD shrinkage rate was 2.0 and the TD expansion rate was 2.0. The step of reducing the both-end fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tension-free in the film TD direction ends before the film is inserted into the furnace. Performed in 3 furnaces The molecular orientation axes were measured with a molecular orientation meter MOA2012 at sites on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm based on the center of the polyimide film thus obtained. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was revealed that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 3).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 2 except that the TD shrinkage was 2.0 and the TD expansion was 2.6.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was revealed that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 4).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 2 except that the TD shrinkage was 4.0 and the TD expansion was 5.2.
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例5)
本実施例1と同じポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、1200mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜150℃でで、約3分、残存成分割合が73重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して4.0kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾1100mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、160℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、300℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第四の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、18℃であった。TD収縮率を2.0、TD膨張率を3.1となるようにポリイミドフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第3炉にて行った。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例6)
TD収縮率を2.0、TD膨張率を3.5とした以外は、実施例5と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例7)
TD収縮率を2.0、TD膨張率を4.0とした以外は、実施例5と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例8)
TD収縮率を1.0、TD膨張率を4.9とした以外は、実施例5と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例9)
TD収縮率を1.0、TD膨張率を4.0とした以外は、実施例5と同じ製造方法にてポリイミドフィルムを作製した。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向度の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった
(実施例10)
本実施例では、N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)中で、4,4−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)75モル%と、パラフェニレンジアミン(p−PDA)25モル%、ピロメリット酸二無水物(PMDA)100モル%を該比率でこの順で添加して重合してポリアミド酸溶液を合成した。該ポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、820mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜150℃で、約5分、残存成分割合が60重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して2.0kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾800mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、130℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、260℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、360℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第四の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第五の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、45℃であった。TD収縮率を3.9、TD膨張率を4.2となるようにポリイミドフィルムをTD方向に収縮・膨張させながらフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第四炉にて行った。
得られたポリイミドフィルムの弾性率をJIS C2318の6.3.3の方法でMD方向から45°方向の弾性率を測定すると4.2GPaであった。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向度の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった。ポリイミドフィルムの種類を変更しても、ポリイミドフィルムの弾性率が4.0GPa以上であるポリイミドフィルムであればMD方向に配向したポリイミドフィルムを作製することが可能となる。
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 5).
In the same polyamic acid solution as in Example 1, 2.0 times equivalent of acetic anhydride and 1.0 times equivalent of isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and the thickness becomes 20 μm after firing at a width of 1200 mm. The gel film was cast on an endless belt and dried at 100 ° C. to 150 ° C. for about 3 minutes so that the remaining component ratio was 73% by weight to obtain a self-supporting gel film. . After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was baked by being transported into a tenter furnace with a tension of 4.0 kg / m applied in the MD direction so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 1100 mm. The gel film was subjected to 160 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 300 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 450 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 515 ° C. (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace (far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 18 ° C. The polyimide film was transported so that the TD shrinkage was 2.0 and the TD expansion was 3.1. The step of reducing the both-end fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tension-free in the film TD direction ends before the film is inserted into the furnace. Performed in 3 furnaces.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 6).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 5 except that the TD shrinkage was 2.0 and the TD expansion was 3.5.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was revealed that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 7).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 5 except that the TD shrinkage was 2.0 and the TD expansion was 4.0.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was revealed that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire width of the film can be produced (Example 8).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 5, except that the TD shrinkage was 1.0 and the TD expansion was 4.9.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was revealed that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 9).
A polyimide film was produced by the same production method as in Example 5 except that the TD shrinkage was 1.0 and the TD expansion was 4.0.
The molecular orientation degree was measured with a molecular orientation meter MOA2012 on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm with reference to the center of the polyimide film thus formed. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to be MORc 1.40 or less over the entire film width can be produced (Example 10).
In this example, in N, N-dimethylformamide (DMF), 75 mol% of 4,4-diaminodiphenyl ether (ODA), 25 mol% of paraphenylenediamine (p-PDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) 100 mol% was added in this order in this order and polymerized to synthesize a polyamic acid solution. To this polyamic acid solution, 2.0 times equivalent acetic anhydride and 1.0 times equivalent isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and cast onto an endless belt with a thickness of 820 mm and a thickness of 20 μm after firing. Then, it was dried with hot air so that the remaining component ratio was 60% by weight at 100 to 150 ° C. for about 5 minutes to obtain a gel film having self-supporting property. After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was baked by being transported into a tenter furnace with a tension of 2.0 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 800 mm. The gel film was prepared at 130 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 260 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 360 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 450 ° C. (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace; hot air oven) and 515 ° C. (fifth heating furnace; far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 45 ° C. The film was conveyed while shrinking and expanding the polyimide film in the TD direction so that the TD shrinkage was 3.9 and the TD expansion was 4.2. The step of reducing the both-end fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tension-free in the film TD direction ends before the film is inserted into the furnace. Performed in four furnaces.
It was 4.2 GPa when the elasticity modulus of the 45 degree direction from MD direction was measured for the elasticity modulus of the obtained polyimide film by the method of 6.3.3 of JISC2318.
The molecular orientation degree was measured with a molecular orientation meter MOA2012 on both sides of 260 mm and 380 mm with the center of the polyimide film thus formed as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to MORc 1.40 or less over the entire width of the film can be produced. Even if the type of the polyimide film is changed, a polyimide film oriented in the MD direction can be produced if the polyimide film has a modulus of elasticity of 4.0 GPa or more.
(実施例11)
本実施例では、N,N−ジメチルフォルムアミド(DMF)中で、4,4−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)45モル%と、パラフェニレンジアミン(p−PDA)55モル%、ピロメリット酸二無水物(PMDA)80モル%、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物20モル%を該比率でこの順で添加して重合してポリアミド酸溶液を合成した。該ポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、820mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜150℃で、約5分、残存成分割合が60重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して2.0kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾800mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、130℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、260℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、360℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第四の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第五の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、42℃であった。TD収縮率を3.9、TD膨張率を4.2となるようにポリイミドフィルムをTD方向に収縮・膨張させながらフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第四炉にて行った。
得られたポリイミドフィルムの弾性率をJIS C2318の6.3.3に準拠した方法でMD方向から45°方向を測定すると5.5GPaであった。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向度の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった。ポリイミドフィルムの種類を変更しても、ポリイミドフィルムの弾性率が4.0GPa以上であるポリイミドフィルムであればMD方向に配向したポリイミドフィルムを作製することが可能となる。
(Example 11)
In this example, in N, N-dimethylformamide (DMF), 45 mol% of 4,4-diaminodiphenyl ether (ODA), 55 mol% of paraphenylenediamine (p-PDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) 80 mol% and
When the elastic modulus of the obtained polyimide film was measured in a 45 ° direction from the MD direction by a method based on JIS C2318 6.3.3, it was 5.5 GPa.
The molecular orientation degree was measured with a molecular orientation meter MOA2012 on both sides of 260 mm and 380 mm with the center of the polyimide film thus formed as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to MORc 1.40 or less over the entire width of the film can be produced. Even if the type of the polyimide film is changed, a polyimide film oriented in the MD direction can be produced if the polyimide film has a modulus of elasticity of 4.0 GPa or more.
(実施例12)
本実施例1と同じポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、1200mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜140℃でで、約3分、残存成分割合が62重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して3.5kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾1100mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、165℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、300℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、400℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第四の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、60℃であった。TD収縮率を2.0、TD膨張率を2.0となるようにポリイミドフィルムをTD方向に収縮・膨張させながらフィルムの搬送を行った。フィルムTD方向に実質的に無張力となるよう固定されるように両端固定端距離を縮める工程は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、両端固定端距離を拡張する工程は、第三炉にて行った。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった。
(Example 12)
In the same polyamic acid solution as in Example 1, 2.0 times equivalent of acetic anhydride and 1.0 times equivalent of isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and the thickness becomes 20 μm after firing at a width of 1200 mm. The gel film was cast on an endless belt and dried at 100 ° C. to 140 ° C. for about 3 minutes so that the ratio of the remaining components was 62% by weight to obtain a self-supporting gel film. After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was fired by being transported into a tenter furnace with a tension of 3.5 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 1100 mm. The gel film was 165 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 300 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 400 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 515 ° C. (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace (far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 60 ° C. The film was conveyed while shrinking and expanding the polyimide film in the TD direction so that the TD shrinkage ratio was 2.0 and the TD expansion ratio was 2.0. The step of reducing the both-end fixed end distance so as to be fixed so as to be substantially tensionless in the film TD direction ends before the film is inserted into the furnace, and the step of extending the both-end fixed end distance includes It was done in three furnaces.
The molecular orientation axis was measured with a molecular orientation meter MOA2012 at sites on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm based on the center of the polyimide film thus formed. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film in which the molecular orientation was controlled to be MORc 1.40 or less over the entire width of the film could be produced.
(実施例13)
本実施例1と同じポリアミド酸溶液に、アミド酸当量に対して、2.0倍当量の無水酢酸と1.0倍当量のイソキノリンを添加し、焼成後20μmとなる厚さで、1200mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜140℃で、約3分、残存成分割合が62重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して3.5kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾1100mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、165℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、300℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、400℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第四の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、90℃であった。TD収縮率を2.0、TD膨張率を2.0となるようにポリイミドフィルムをTD方向に収縮・膨張させながらフィルムの搬送を行った。TD方向への収縮は、炉内にフィルムが挿入される前に終了し、TD方向の膨張は400℃の炉内でフィルムを引き伸ばした。
このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの両側の部位を分子配向計MOA2012にて分子配向軸の測定を行った。その結果を表1に記載する。分子配向度の測定結果、フィルム全幅において分子配向度がMORc1.40以下に制御されたポリイミドフィルムを製造できることが明らかになった。
(Example 13)
In the same polyamic acid solution as in Example 1, 2.0 times equivalent of acetic anhydride and 1.0 times equivalent of isoquinoline are added to the equivalent of amic acid, and the thickness becomes 20 μm after firing at a width of 1200 mm. The gel film was cast on an endless belt and dried at 100 ° C. to 140 ° C. for about 3 minutes so that the remaining component ratio was 62% by weight to obtain a gel film having self-supporting properties. . After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was fired by being transported into a tenter furnace with a tension of 3.5 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 1100 mm. The gel film was 165 ° C (first heating furnace; hot air oven), 300 ° C (second heating furnace; hot air oven), 400 ° C (third heating furnace; hot air oven), 515 ° C (fourth heating oven). Baking stepwise with a heating furnace (far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 90 ° C. The film was conveyed while shrinking and expanding the polyimide film in the TD direction so that the TD shrinkage ratio was 2.0 and the TD expansion ratio was 2.0. Shrinkage in the TD direction was terminated before the film was inserted into the furnace, and expansion in the TD direction stretched the film in the 400 ° C. furnace.
Using the molecular orientation meter MOA2012, the molecular orientation axes of the portions on both sides of 260 mm, 380 mm, and 460 mm were measured using the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1. As a result of measuring the degree of molecular orientation, it was found that a polyimide film having a molecular orientation controlled to MORc 1.40 or less over the entire width of the film can be produced.
(参考例1)
第一の加熱炉の温度を200℃、第一の加熱炉における温度斑を、110℃にした以外は、実施例1と同じ条件でポリイミドフィルムの製造を行った。実施例1と同じ評価方法で評価を行った。その結果を表2に記載する。
(Reference Example 1)
A polyimide film was produced under the same conditions as in Example 1 except that the temperature of the first heating furnace was 200 ° C. and the temperature spots in the first heating furnace were 110 ° C. Evaluation was performed using the same evaluation method as in Example 1. The results are listed in Table 2.
(比較例1)
本実施例1で使用したポリアミド酸溶液と実施例1と同量の無水酢酸及びイソキノリンを混合し、焼成後20μmとなる厚さで、1100mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜140℃でで、約3分、残存成分割合が54重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して8kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムは幅方向両端をピン巾1000mmで弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、350℃(第一の加熱炉;熱風オーブン)、400℃(第二の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第四の加熱炉;遠赤外線炉)と段階的に焼成してポリイミドフィルムへと焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、45℃であった。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、30℃以内であった。両端固定端距離を変更することなく加熱炉内を搬送してポリイミドフィルムの製造を行った。このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mm、460mmの部位の分子配向度をMOA2012にて測定した。その結果を表1に記載する。
上記比率で搬送した場合には、TD収縮率は0.0、TD膨張率は0.0となる。
尚、本比較例の結果、TD収縮率が0.0、TD収縮率が0.0の場合には分子配向度がフィルムの端部において大きなポリイミドフィルムになることが明らかになった。
(Comparative Example 1)
The polyamic acid solution used in Example 1 and the same amounts of acetic anhydride and isoquinoline as in Example 1 were mixed, cast to an endless belt with a width of 1100 mm and a thickness of 20 μm after firing, 100 ° C. to 140 ° C. Then, it was dried with hot air so that the ratio of the remaining component was 54% by weight for about 3 minutes to obtain a gel film having self-supporting property. . After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was baked by being transported in a tenter furnace with a tension of 8 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen when the gel film was transported. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the width direction with a pin width of 1000 mm. 350 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 400 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 450 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 515 ° C. (fourth heating oven) Baking stepwise with a heating furnace (far-infrared furnace) to form a polyimide film. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 45 ° C. At this time, temperature spots in the first heating furnace were within 30 ° C. The polyimide film was manufactured by conveying the inside of the heating furnace without changing the fixed end distance between both ends. The molecular orientation degree at 260 mm, 380 mm, and 460 mm sites was measured by MOA2012 with the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1.
When transported at the above ratio, the TD shrinkage rate is 0.0, and the TD expansion rate is 0.0.
As a result of this comparative example, it was revealed that when the TD shrinkage is 0.0 and the TD shrinkage is 0.0, a polyimide film having a large degree of molecular orientation at the end of the film is obtained.
(比較例2)
本実施例1で使用したポリアミド酸溶液と実施例1と同量の無水酢酸及びイソキノリンを混合し、焼成後20μmとなる厚さで、820mm幅でエンドレスベルト上にキャストし、100℃〜130℃でで、約5分、残存成分割合が60重量%となるように、熱風乾燥し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。その後ベルト上から引き剥がした。引き剥がしたゲルフィルムにはゲルフィルム搬送時に弛まないように張力として、MD方向に対して2kg/mの張力をかけた状態でテンター炉内に搬送して焼成を行った。ゲルフィルムは、幅方向両端を、連続的フィルムを搬送するピンシートに固定した。このときゲルフィルムはTD方向の両端部をピン巾800mm(ゲル幅は800mm)で弛み無く固定した。該ゲルフィルムを、130℃の(第一の加熱炉;熱風オーブン)、260℃の(第二の加熱炉;熱風オーブン)、360℃(第三の加熱炉;熱風オーブン)、450℃(第四の加熱炉;熱風オーブン)、515℃(第五の加熱炉;遠赤外線炉)を通過させ焼成した。このとき、第一の加熱炉における温度斑は、90℃であった。両端固定端距離を変更することなく加熱炉内を搬送してポリイミドフィルムの製造を行った。このこのようにしてできたポリイミドフィルムの中央を基準として260mm、380mmの部位の分子配向軸をMOA2012にて測定した。その結果を表1に記載する。
上記比率で搬送した場合には、TD収縮率は0.0、TD膨張率は0.0となる。
尚、本比較例の結果、TD収縮率が0.0、TD収縮率が0.0の場合には分子配向度がフィルムの端部において大きなポリイミドフィルムになることが明らかになった。
(Comparative Example 2)
The polyamic acid solution used in Example 1 and the same amounts of acetic anhydride and isoquinoline as in Example 1 were mixed, cast onto an endless belt with a thickness of 20 μm after firing, a width of 820 mm, and 100 ° C. to 130 ° C. Then, it was dried with hot air so that the remaining component ratio was 60% by weight for about 5 minutes to obtain a gel film having self-supporting properties. After that, it was peeled off from the belt. The peeled gel film was fired by being transported into a tenter furnace with a tension of 2 kg / m applied in the MD direction as a tension so as not to loosen during the transport of the gel film. The gel film was fixed at both ends in the width direction to a pin sheet carrying a continuous film. At this time, the gel film was fixed without slack at both ends in the TD direction with a pin width of 800 mm (gel width was 800 mm). The gel film was prepared at 130 ° C. (first heating furnace; hot air oven), 260 ° C. (second heating furnace; hot air oven), 360 ° C. (third heating furnace; hot air oven), 450 ° C. (first heating oven). Fourth heating furnace; hot air oven) and 515 ° C. (fifth heating furnace; far-infrared furnace) were passed through and fired. At this time, the temperature spot in the first heating furnace was 90 ° C. The polyimide film was manufactured by conveying the inside of the heating furnace without changing the fixed end distance between both ends. The molecular orientation axis at a site of 260 mm and 380 mm was measured by MOA2012 with the center of the polyimide film thus obtained as a reference. The results are listed in Table 1.
When transported at the above ratio, the TD shrinkage rate is 0.0, and the TD expansion rate is 0.0.
As a result of this comparative example, it was revealed that when the TD shrinkage is 0.0 and the TD shrinkage is 0.0, a polyimide film having a large degree of molecular orientation at the end of the film is obtained.
17 熱風吹き付け装置
18 炉壁
19 炉内に搬送されるフィルム
20 炉内幅方向の温度測定装置
21 炉内幅方向の温度測定装置
22 炉内幅方向の温度測定装置
23 炉内幅方向の温度測定装置
24 炉内幅方向の温度測定装置
40 段階的加熱炉
41 第一の加熱炉
42 第ニの加熱炉
43 第三の加熱炉
44 第四の加熱炉
45 第五の加熱炉
46 巻き取り装置に巻き取る工程(ポリイミドフィルムの巻き取り装置)
50 ゲルフィルム
51 ポリイミドフィルム
52 ゲルフィルム把持部材(ゲルフィルムの端部把持装置)
53 ポリアミック酸溶液の塗布用ダイス
54 ポリアミック酸溶液の塗布用基材
55 ゲルフィルムの剥離部位
61 両端部固定端間のゲルフィルムの幅
17 Hot air spraying device 18
50 Gel film 51
53 Dies for application of
Claims (6)
(A)ポリアミド酸を重合する工程
(B)ポリアミド酸及び有機溶媒を含む組成物を支持体上に流延・塗布後、ゲルフィルムを形成する工程、
(C)該ゲルフィルムを引き剥がし、両端を固定する工程
(D)フィルムの両端を固定しながら加熱炉内を搬送する工程、
を含むポリイミドフィルムの製造方法であって、
前記(D)工程は、
(D−1)フィルム幅方向(TD方向)の張力が実質的に無張力となるように固定されて搬送する工程、
(D−2)フィルムをTD方向に引き延ばす工程を含み、
かつ、前記加熱炉は、2以上の複数の加熱炉からなり、第一の加熱炉における幅方向の温度斑が100℃以下であることを特徴とする等方的なポリイミドフィルムの製造方法。 In the process for producing a continuously produced polyimide film, at least the following (A) step of polymerizing polyamic acid (B) a composition containing polyamic acid and an organic solvent is cast and applied on a support, and then a gel film is formed. Forming step,
(C) Step of peeling off the gel film and fixing both ends (D) Step of conveying the inside of the heating furnace while fixing both ends of the film,
A method for producing a polyimide film comprising:
The step (D)
(D-1) a step of transporting the film so that the tension in the film width direction (TD direction) is substantially no tension;
(D-2) including a step of stretching the film in the TD direction;
And the said heating furnace consists of two or more several heating furnaces, The temperature spot of the width direction in a 1st heating furnace is 100 degrees C or less, The manufacturing method of an isotropic polyimide film characterized by the above-mentioned.
20.0≧(Y−X)/Y×100>0.00 In the step (D-1), when the distance between the fixed ends at both ends is X and the width of the film between the fixed ends at both ends is Y, the tension in the TD direction is substantially such that X and Y satisfy the following formula. The method for producing an isotropic polyimide film according to any one of claims 1 to 3, wherein both ends are fixed so as to provide no tension.
20.0 ≧ (Y−X) / Y × 100> 0.00
40.0≧(W−Z)/Z×100>0.00 In the step (D-2), Z is the distance between the fixed ends at both ends in the TD direction before stretching, and W is the distance between the fixed ends at both ends when the film is completely stretched in the furnace. The method for producing an isotropic polyimide film according to any one of claims 1 to 4, wherein the film is stretched in the TD direction so that W satisfies the following formula.
40.0 ≧ (W−Z) / Z × 100> 0.00
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2004
- 2004-04-27 JP JP2004131388A patent/JP2005313364A/en active Pending
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