JP2005351975A - 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 - Google Patents
配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005351975A JP2005351975A JP2004170105A JP2004170105A JP2005351975A JP 2005351975 A JP2005351975 A JP 2005351975A JP 2004170105 A JP2004170105 A JP 2004170105A JP 2004170105 A JP2004170105 A JP 2004170105A JP 2005351975 A JP2005351975 A JP 2005351975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- alignment film
- area
- drawing area
- ejecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
- H10K71/13—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
- H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【解決手段】ガラス基板30上における所望描画領域よりも小面積の描画領域21に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップと、描画領域21の周囲である周囲描画領域22に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップと、周囲描画領域22の周囲である周囲描画領域23に対して、インクジェットヘッドから配向膜インクを吐出させるステップとを含み、周縁部である周囲描画領域23における乾燥後の配向膜インクの隆起を低減する。
【選択図】 図2
Description
Claims (8)
- 基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第1のインク吐出手段と、
前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第2のインク吐出手段と、
を備えたことを特徴とする配向膜形成装置。 - 前記第2のインク吐出手段は、前記描画領域の周囲に、内側から外側へ複数回に分けて前記配向膜インクを吐出させることを特徴とする請求項1に記載の配向膜形成装置。
- 前記第2のインク吐出手段は、所定時間間隔をおいて前記配向膜インクを吐出させることを特徴とする請求項1または2に記載の配向膜形成装置。
- 基板上に所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、配向膜インクを吐出させる第1のインク吐出工程と、
前記描画領域の周囲に、前記配向膜インクを吐出させる第2のインク吐出工程と、
を含むことを特徴とする配向膜形成方法。 - 所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第1のインク吐出手段と、
前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第2のインク吐出手段と、
を備えたことを特徴とする描画装置。 - 前記第2のインク吐出手段は、前記描画領域の周囲に、内側から外側へ複数回に分けて前記インクを吐出させることを特徴とする請求項5に記載の描画装置。
- 前記第2のインク吐出手段は、所定時間間隔をおいて前記インクを吐出させることを特徴とする請求項5または6に記載の描画装置。
- 所望描画領域よりも小面積の描画領域に対して、インクを吐出させる第1のインク吐出工程と、
前記描画領域の周囲に、前記インクを吐出させる第2のインク吐出工程と、
を含むことを特徴とする描画方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004170105A JP2005351975A (ja) | 2004-06-08 | 2004-06-08 | 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 |
| US11/098,553 US20050270328A1 (en) | 2004-06-08 | 2005-04-05 | Orientation film forming device, orientation film forming method, drawing device, and drawing method |
| TW094115252A TW200540535A (en) | 2004-06-08 | 2005-05-11 | Orientation film forming device, orientation film forming method, drawing device, and drawing method |
| KR1020050040021A KR100720348B1 (ko) | 2004-06-08 | 2005-05-13 | 배향막 형성 장치, 배향막 형성 방법, 묘화 장치 및 묘화방법 |
| CNB2005100737803A CN100445843C (zh) | 2004-06-08 | 2005-05-24 | 取向膜形成装置、取向膜形成方法、描绘装置及描绘方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004170105A JP2005351975A (ja) | 2004-06-08 | 2004-06-08 | 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005351975A true JP2005351975A (ja) | 2005-12-22 |
Family
ID=35447163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004170105A Pending JP2005351975A (ja) | 2004-06-08 | 2004-06-08 | 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20050270328A1 (ja) |
| JP (1) | JP2005351975A (ja) |
| KR (1) | KR100720348B1 (ja) |
| CN (1) | CN100445843C (ja) |
| TW (1) | TW200540535A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006289239A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Shibaura Mechatronics Corp | 溶液の塗布装置及び塗布方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101344684B (zh) * | 2007-07-12 | 2011-12-28 | 北京京东方光电科技有限公司 | 液晶显示装置的基板及其制造方法 |
| JP5520614B2 (ja) * | 2010-01-15 | 2014-06-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US9223176B2 (en) * | 2011-09-21 | 2015-12-29 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Coating method for liquid crystal alignment film of TFT-LCD |
| CN102323695B (zh) * | 2011-09-21 | 2013-07-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | Tft-lcd用液晶配向膜的涂布方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08319476A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-12-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | 防曇剤組成物および農業用フィルム |
| JPH11300951A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-02 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
| JP2000301043A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-10-31 | Hirata Corp | 回転式塗布装置 |
| JP2003245582A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-02 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器 |
| JP2004047578A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Seiko Epson Corp | 液状物の吐出方法および液状物の吐出装置 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2839133B2 (ja) * | 1994-03-31 | 1998-12-16 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法及び製造装置及び液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を備えた装置の製造方法 |
| US5935331A (en) * | 1994-09-09 | 1999-08-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for forming films |
| JP3998382B2 (ja) * | 1999-12-15 | 2007-10-24 | 株式会社東芝 | 成膜方法及び成膜装置 |
| JP3628997B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2005-03-16 | セイコーエプソン株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
| KR100806803B1 (ko) * | 2001-05-14 | 2008-02-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 배향막 러빙방법 |
| JP4110815B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2008-07-02 | 株式会社日立製作所 | 液体塗布方法及び装置 |
| JP4068883B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-03-26 | セイコーエプソン株式会社 | 導電膜配線の形成方法、膜構造体の製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法 |
| TWI242663B (en) * | 2002-07-09 | 2005-11-01 | Seiko Epson Corp | Jetting method of liquid, jetting apparatus of liquid, production method of substrate for electro-optical apparatus and production method of electro-optical apparatus |
| JP3979354B2 (ja) * | 2002-11-08 | 2007-09-19 | セイコーエプソン株式会社 | 膜状構成要素の製造方法 |
| KR20040062016A (ko) * | 2002-12-31 | 2004-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 형성 방법 |
| JP3966293B2 (ja) * | 2003-03-11 | 2007-08-29 | セイコーエプソン株式会社 | パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 |
| JP4214876B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2009-01-28 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、カラーフィルタ基板の製造装置、液晶装置、並びに液晶装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-06-08 JP JP2004170105A patent/JP2005351975A/ja active Pending
-
2005
- 2005-04-05 US US11/098,553 patent/US20050270328A1/en not_active Abandoned
- 2005-05-11 TW TW094115252A patent/TW200540535A/zh unknown
- 2005-05-13 KR KR1020050040021A patent/KR100720348B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2005-05-24 CN CNB2005100737803A patent/CN100445843C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08319476A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-12-03 | Sumitomo Chem Co Ltd | 防曇剤組成物および農業用フィルム |
| JPH11300951A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-02 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
| JP2000301043A (ja) * | 1999-04-20 | 2000-10-31 | Hirata Corp | 回転式塗布装置 |
| JP2003245582A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-02 | Seiko Epson Corp | 薄膜形成装置と薄膜形成方法、液晶装置の製造装置と液晶装置の製造方法と液晶装置、及び薄膜構造体の製造装置と薄膜構造体の製造方法と薄膜構造体、及び電子機器 |
| JP2004047578A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Seiko Epson Corp | 液状物の吐出方法および液状物の吐出装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006289239A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Shibaura Mechatronics Corp | 溶液の塗布装置及び塗布方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW200540535A (en) | 2005-12-16 |
| KR100720348B1 (ko) | 2007-05-21 |
| CN1707335A (zh) | 2005-12-14 |
| US20050270328A1 (en) | 2005-12-08 |
| CN100445843C (zh) | 2008-12-24 |
| KR20060047862A (ko) | 2006-05-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI704016B (zh) | 油墨塗佈裝置及油墨塗佈方法 | |
| WO2008032772A1 (en) | Ink ejector and ink ejection control method | |
| JP2005351975A (ja) | 配向膜形成装置、配向膜形成方法、描画装置および描画方法 | |
| JP2008170571A (ja) | 描画方法、着色層の形成方法、電気光学装置の製造方法 | |
| KR100732028B1 (ko) | 액적 토출 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
| JP5155711B2 (ja) | 描画方法、描画装置、ならびにプリント配線板の製造方法およびカラーフィルタの製造方法 | |
| JP2019217669A (ja) | 印刷方法および印刷装置 | |
| TWI723612B (zh) | 圖案形成裝置、圖案形成方法以及噴出資料生成方法 | |
| US8715774B2 (en) | Liquid droplet ejection method | |
| JP4631317B2 (ja) | 配向膜形成装置および配向膜形成方法 | |
| CN110385926B (zh) | 印刷方法、印刷装置、el和太阳能电池的制造方法 | |
| US8191995B2 (en) | Printhead for thermal inkjet printing and the printing method thereof | |
| KR20170132975A (ko) | 액적 토출 방법 | |
| JP2006189550A (ja) | インクジェット法を用いたマトリクス状の微小領域の描画方法 | |
| JP2010197914A (ja) | パターン形成方法および装置 | |
| CN100435979C (zh) | 液滴喷出方法、电光学装置及电子设备 | |
| JP4376921B2 (ja) | インク吐出装置、インク吐出方法、および表示装置 | |
| KR100773890B1 (ko) | 잉크 헤드의 잉크 토출방법 | |
| JP2008526468A (ja) | 小滴の堆積 | |
| JP2006178310A (ja) | スペーサ形成方法及び装置 | |
| JP4710258B2 (ja) | カラーフィルタの形成方法と形成装置 | |
| JP5213773B2 (ja) | インク滴吐出方法及びカラーフィルタ製造方法 | |
| JP2007007544A (ja) | 液滴吐出方法、液滴吐出装置、電気光学装置及び電子機器 | |
| JP2002160370A (ja) | インクジェット装置 | |
| JP2008233692A (ja) | インク吐出装置およびその制御方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061201 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061212 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070207 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070626 |