[go: up one dir, main page]

JP2005234045A - Color resin composition - Google Patents

Color resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP2005234045A
JP2005234045A JP2004040287A JP2004040287A JP2005234045A JP 2005234045 A JP2005234045 A JP 2005234045A JP 2004040287 A JP2004040287 A JP 2004040287A JP 2004040287 A JP2004040287 A JP 2004040287A JP 2005234045 A JP2005234045 A JP 2005234045A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
pigment
solvent
resin composition
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004040287A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Okita
務 沖田
Kotaro Okabe
孝太郎 岡部
Yoichi Nemoto
洋一 根本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Original Assignee
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Electronic Materials Co Ltd filed Critical Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Priority to JP2004040287A priority Critical patent/JP2005234045A/en
Priority to KR1020040105613A priority patent/KR20050082146A/en
Priority to TW094104391A priority patent/TWI396868B/en
Publication of JP2005234045A publication Critical patent/JP2005234045A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0048Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color resin composition which prevents clogging in a slit head, a nozzle head or the like. <P>SOLUTION: In the color resin composition containing a colorant, a resin component and a solvent, the solvent contains 10 to 40 mass% of a high boiling point (180 to 250°C) solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、細い間隙でも目詰まりを起こしたり、塗膜上に固形物を発生しない、特にカラーフィルター作成に有用な樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a resin composition particularly useful for producing a color filter, which does not cause clogging even in a narrow gap and does not generate solid matter on a coating film.

カラーフィルターの製法としては、現在は、光硬化性着色樹脂組成物をフォトリソ法により画像形成する方法が普及している。フォトリソ法にあっては、画面の大型化、製造コストの低減の観点から、基板が大型化する傾向にあり、基板上への光硬化性組成物の塗布も回転塗布からスリット塗布が一般的になりつつある。   As a method for producing a color filter, a method of forming an image of a photocurable colored resin composition by a photolithography method is currently in widespread use. In the photolithographic method, the substrate tends to increase in size from the viewpoint of increasing the size of the screen and reducing the manufacturing cost, and the application of the photocurable composition on the substrate is generally from spin coating to slit coating. It is becoming.

一方、光硬化性着色樹脂組成物の基板への塗布方法は、1〜3μmの薄膜を均一に高精度に塗布できるという点からスピン塗布が優れており、カラーフィルターの作製に広く一般的に用いられてきた。しかし、近年においては、液晶表示装置の大型化および量産化に伴って、製造効率および製造コストをより高めるために、スピン塗布よりも広幅で大面積な基板の塗布に適したスリット塗布がカラーフィルターの作製に採用されるようになってきた。尚、省液性という観点からもスリット塗布はスピン塗布よりも優れており、より少ない塗布液量で均一な塗膜を得ることができる。   On the other hand, the coating method of the photocurable colored resin composition on the substrate is excellent in spin coating because it can uniformly and accurately apply a thin film of 1 to 3 μm, and is widely used for the production of color filters. Has been. However, in recent years, with the increase in size and mass production of liquid crystal display devices, slit coating suitable for coating a substrate that is wider and larger in area than spin coating has been used in order to increase manufacturing efficiency and manufacturing cost. It has come to be adopted in the production of. From the viewpoint of liquid-saving properties, slit coating is superior to spin coating, and a uniform coating film can be obtained with a smaller amount of coating liquid.

スリット塗布は、先端に幅数十ミクロンのスリット(間隙)有し且つ矩形基板の塗布幅に対応する長さの塗布ヘッドを、基板とのクリアランス(間隙)を数10〜数100ミクロンに保持しながら、基板と塗布ヘッドとに一定の相対速度を持たせて、所定の吐出量でスリットから供給される塗布液を基板に塗布する塗布方式である。このスリット塗布は、(1)スピン塗布に比して液ロスが少ない、(2)塗布液の飛びちりがないため洗浄処理が軽減される、(3)飛び散った液成分の塗布膜への再混入がない、(4)回転の立ち上げ停止時間がないのでタクトタイムが短縮化できる、(5)大型の基板への塗布が容易である、等の利点を有する。これらの利点から、スリット塗布は大型画面液晶表示装置用のカラーフィルターの作製に好適であり、塗布液量の削減にとっても有利な塗布方式として期待されている。   In slit coating, a coating head having a slit (gap) with a width of several tens of microns at the tip and a length corresponding to the coating width of a rectangular substrate is maintained with a clearance (gap) with the substrate of several tens to several hundreds of microns. However, this is a coating method in which the substrate and the coating head have a constant relative speed, and the coating liquid supplied from the slits is coated on the substrate with a predetermined discharge amount. This slit coating is (1) less liquid loss compared to spin coating, (2) cleaning process is reduced because there is no flying of the coating liquid, and (3) the scattered liquid components are applied to the coating film again. There is an advantage that there is no mixing, (4) the tact time can be shortened because there is no start-up stop time of rotation, and (5) application to a large substrate is easy. From these advantages, slit coating is suitable for producing a color filter for a large-screen liquid crystal display device, and is expected to be an advantageous coating method for reducing the amount of coating liquid.

スリット塗布は、スピン塗布よりも遥かに大面積の塗布膜を形成するため、幅の広いスリット出口から塗布液を吐出する際、コーターと被塗布物との間にある程度の相対速度を保つ必要がある。このため、スリット塗布方式に用いる塗布液には良好な流動性が求められる。また、スリット塗布には、塗布ヘッドのスリットから基板に供給される塗布液の諸条件を、塗布幅全般に渡って一定に保持することが特に求められる。塗布液の流動性や粘弾性特性等の液物性が不充分であると、塗布ムラが生じやすく、塗布幅方向に塗布厚を一定に保つのが困難になり、均一な塗布膜を得ることができないという問題が生じてしまう。   Since slit coating forms a coating film with a much larger area than spin coating, it is necessary to maintain a certain relative speed between the coater and the object to be coated when discharging the coating liquid from the wide slit exit. is there. For this reason, good fluidity is required for the coating liquid used in the slit coating method. In addition, the slit coating is particularly required to keep the conditions of the coating solution supplied to the substrate from the slit of the coating head constant over the entire coating width. Insufficient liquid properties such as fluidity and viscoelastic properties of the coating liquid tend to cause coating unevenness, making it difficult to keep the coating thickness constant in the coating width direction and obtaining a uniform coating film. The problem of not being able to occur.

これらのことから、ムラがなく均一な塗布膜を得るために塗布液の流動性や粘弾性特性を改良しようとする試みが多くなされている。しかし、上述したようにポリマーの分子量を低下させたり、溶剤への溶解性に優れたポリマーを選択したり、蒸発速度をコントロールするために溶剤を種々選択したり、界面活性剤を利用するなどの手段が提案されているが、いずれも上記の諸問題を改良するには充分ではなかった。   For these reasons, many attempts have been made to improve the fluidity and viscoelastic properties of the coating solution in order to obtain a uniform coating film without unevenness. However, as mentioned above, the molecular weight of the polymer is reduced, a polymer with excellent solubility in the solvent is selected, various solvents are selected to control the evaporation rate, and a surfactant is used. Means have been proposed, but none were sufficient to improve the above problems.

一方、近年、大型表示画面のTV(プラズマディスプレー)の普及に伴い、画素の面であまり微細化が望まれないという点でインクジェット法によるカラーフィルタの製法も実用化に向けて開発が進められている(特許文献1、2参照)。
ところが、インクジェット法においてもスリット塗布においても、着色樹脂組成物の塗布液が吐出するノズル先端および塗布ヘッドの先端は10〜30μm程度の細い間隙になっているので、特に顔料分散型の塗布液である場合は目詰まりを起こしやすい。すなわち、溶剤の蒸発によりノズル先端やスリットヘッドの先端で塗布液が乾燥して、目を詰まらせたり、乾いた固まりが塗布液内に混入して塗布膜状に異物となって存在する。このため、吐出量が減少したり、不安定になって画素−画素間の色ムラを生ずるという問題があった。
特開昭63−235901号公報 特開平4−123005号公報
On the other hand, in recent years, with the widespread use of TVs (plasma displays) with large display screens, development of a color filter manufacturing method based on the inkjet method has been promoted for practical use in that it is not desired to reduce the pixel size. (See Patent Documents 1 and 2).
However, in both the inkjet method and the slit coating, the tip of the nozzle and the tip of the coating head from which the coating solution of the colored resin composition is discharged have a narrow gap of about 10 to 30 μm. In some cases, clogging is likely to occur. That is, the coating liquid dries at the tip of the nozzle or the slit head due to evaporation of the solvent, clogs the eyes, or a dry lump is mixed into the coating liquid and exists as a foreign substance in the form of a coating film. For this reason, there has been a problem that the discharge amount is reduced or becomes unstable, resulting in color unevenness between pixels.
JP-A 63-235901 JP 4-123005 A

従って、本発明の目的は、細い間隙でも目詰まりを起こしたり、塗膜上に固形物を発生しない、特にカラーフィルターに有用な樹脂組成物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin composition particularly useful for a color filter which does not cause clogging even in a narrow gap and does not generate a solid on a coating film.

斯かる実状に鑑み、本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定の高沸点溶剤を一定量用いれば、上記課題が解決されることを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、次のものを提供するものである。
In view of such a situation, the present inventor has intensively researched and found that the above-mentioned problems can be solved by using a specific amount of a specific high-boiling solvent, and has completed the present invention.
That is, the present invention provides the following.

<1> 着色剤、樹脂成分及び溶剤を含有する着色樹脂組成物において、該溶剤中に沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤を10〜40質量%含有することを特徴とする着色樹脂組成物。   <1> A colored resin composition containing a colorant, a resin component, and a solvent, wherein the solvent contains 10 to 40% by mass of a high-boiling solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C. Composition.

<2> 高沸点溶剤が、その分子中に水酸基を有しないものである<1>記載の着色樹脂組成物。   <2> The colored resin composition according to <1>, wherein the high boiling point solvent does not have a hydroxyl group in the molecule.

<3> 沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤が、次の(1)〜(8)から選ばれる1種又は2種以上である<1>又は<2>記載の着色樹脂組成物。
(1)ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(2)ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルアセテート
(3)ジプロピレングリコールn−ブチルエーテルアセテート
(4)ブチルラクテート
(5)3,5,5−トリメチル−2−シクロへキセン−1−オン
(6)プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート
(7)トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート
(8)3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート
<3> The colored resin composition according to <1> or <2>, wherein the high-boiling solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C. is one or more selected from the following (1) to (8): .
(1) Dipropylene glycol monomethyl ether acetate (2) Dipropylene glycol n-propyl ether acetate (3) Dipropylene glycol n-butyl ether acetate (4) Butyl lactate (5) 3,5,5-trimethyl-2-cyclo Xen-1-one (6) Propylene glycol phenyl ether acetate (7) Tripropylene glycol methyl ether acetate (8) 3-methoxy-3-methylbutyl acetate

<4> 樹脂成分が光硬化性成分である<1>、<2>又は<3>記載の着色樹脂組成物。   <4> The colored resin composition according to <1>, <2>, or <3>, wherein the resin component is a photocurable component.

<5>着色剤が顔料微粒子である請求項<1>〜<4>の何れか1項記載の着色樹脂組成物。  <5> The colored resin composition according to any one of <1> to <4>, wherein the colorant is pigment fine particles.

本発明の樹脂組成物は、細い間隙でも目詰まりを起こしたり、塗膜上に固形物を発生しない、特にカラーフィルター作成に有用な樹脂組成物である。   The resin composition of the present invention is a resin composition particularly useful for producing a color filter, which does not cause clogging even in a narrow gap and does not generate a solid on a coating film.

本発明の樹脂組成物は、着色剤、樹脂成分及び溶剤を含有する着色樹脂組成物において、該溶剤中に沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤を10〜40質量%含有することを特徴とする。   The resin composition of the present invention is a colored resin composition containing a colorant, a resin component, and a solvent, wherein the solvent contains 10 to 40% by mass of a high boiling point solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C. Features.

[着色剤]
本発明に用いることができる着色剤は、特に限定されず、従来公知の種々の染料や顔料を一種または二種以上混合して用いることができる。なお、目詰まり等の問題は、一般に顔料を用いた場合に起りやすいため、顔料を用いれば、本発明の効果が一層明らかになる。
[Colorant]
The colorant that can be used in the present invention is not particularly limited, and various conventionally known dyes and pigments can be used singly or in combination. In addition, since problems such as clogging are likely to occur when a pigment is generally used, the effect of the present invention becomes more apparent when a pigment is used.

本発明の組成物に用いることができる顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、0.01μm〜0.1μmが好ましく、0.01μm〜0.05μmがより好ましい。また、上記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、および前記金属の複合酸化物を挙げることができる。   As the pigment that can be used in the composition of the present invention, conventionally known various inorganic pigments or organic pigments can be used. Further, considering that it is preferable to have a high transmittance, whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, it is preferable to use a fine one as much as possible, and considering the handling properties, the average particle diameter of the pigment is 0.01 μm to 0.1 μm is preferable, and 0.01 μm to 0.05 μm is more preferable. Examples of the inorganic pigment include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc And metal oxides such as antimony, and composite oxides of the above metals.

上記有機顔料としては、例えば、
C.I.ピグメント イエロー 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199, ;
C.I.ピグメント オレンジ36, 38, 43, 71;
C.I.ピグメント レッド81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177,209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;
C.I.ピグメント バイオレット 19, 23, 32, 39;
C.I.ピグメント ブルー 1, 2, 15, 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66;
C.I.ピグメント グリーン 7, 36, 37;
C.I.ピグメント ブラウン 25, 28;
C.I.ピグメント ブラック 1, 7;
カーボンブラック等を挙げることができる。
As the organic pigment, for example,
CI Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199,;
CI Pigment Orange 36, 38, 43, 71;
CI Pigment Red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177,209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;
CI pigment violet 19, 23, 32, 39;
CI Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;
CI Pigment Green 7, 36, 37;
CI Pigment Brown 25, 28;
CI pigment black 1, 7;
Examples thereof include carbon black.

本発明では、特に顔料の構造式中に塩基性のN原子をもつものを好ましく用いることができる。これら塩基性のN原子をもつ顔料は本発明の組成物中で良好な分散性を示す。その原因については十分解明されていないが、感光性重合成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。   In the present invention, those having a basic N atom in the structural formula of the pigment can be preferably used. These pigments having a basic N atom exhibit good dispersibility in the composition of the present invention. Although the cause is not fully elucidated, it is presumed that the good affinity between the photosensitive polymerization component and the pigment has an influence.

本願発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。   Examples of pigments that can be preferably used in the present invention include the following. However, the present invention is not limited to these.

C.I.ピグメント イエロー 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,
C.I.ピグメント オレンジ36, 71,
C.I.ピグメント レッド 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,
C.I.ピグメント バイオレット 19, 23, 32,
C.I.ピグメント ブルー 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66,
C.I.ピグメント ブラック 1
CI Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,
CI Pigment Orange 36, 71,
CI Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,
CI Pigment Violet 19, 23, 32,
CI Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,
CI Pigment Black 1

これら有機顔料は、単独もしくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独またはそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料またはペリレン系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド177が挙げられ、ペリレン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド155、C.I.ピグメントレッド224が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、C.I.ピグメントレッド254が挙げられ、色再現性の点でC.I.ピグメントイエロー139との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:50が好ましい。100:4以下では400nmから500nmの光透過率を抑えることが困難で色純度を上げることが出来ない場合がある。また100:51以上では主波長が短波長よりになり、NTSC目標色相からのずれが大きくなる場合がある。特に、上記質量比としては、100:10〜100:30の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。   These organic pigments can be used alone or in various combinations in order to increase color purity. Specific examples of the above combinations are shown below. For example, as a red pigment, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them, a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment or a perylene red pigment , Etc. can be used. For example, as an anthraquinone pigment, C.I. I. Pigment red 177, and perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I. Pigment Red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I. Pigment red 254, and C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 139 is preferred. The mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 50. If it is less than 100: 4, it may be difficult to suppress the light transmittance from 400 nm to 500 nm, and the color purity may not be improved. When the ratio is 100: 51 or more, the dominant wavelength is shorter than the short wavelength, and the deviation from the NTSC target hue may be large. In particular, the mass ratio is optimally in the range of 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the chromaticity.

また、緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、または、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、C.I.ピグメントグリーン7、36、37とC.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180またはC.I.ピグメントイエロー185との混合が好ましい。緑顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:150が好ましい。上記質量比が100:5未満では400nm〜450nmの光透過率を抑えることが困難となり色純度を上げることが出来ない場合がある。また100:150を越えると主波長が長波長よりになりNTSC目標色相からのずれが大きくなる場合がある。上記質量比としては100:30〜100:120の範囲が特に好ましい。   As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment can be used alone, or a mixture thereof with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment can be used. For example, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred. The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150. If the mass ratio is less than 100: 5, it may be difficult to suppress the light transmittance of 400 nm to 450 nm, and the color purity may not be improved. When the ratio exceeds 100: 150, the dominant wavelength becomes longer and the deviation from the NTSC target hue may increase. The mass ratio is particularly preferably in the range of 100: 30 to 100: 120.

青の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えばC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0〜100:30が好ましく、より好ましくは100:10以下である。   As the blue pigment, a phthalocyanine pigment can be used alone, or a mixture thereof with a dioxazine purple pigment can be used. For example, C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Mixing with pigment violet 23 is preferred. The mass ratio of the blue pigment to the violet pigment is preferably 100: 0 to 100: 30, more preferably 100: 10 or less.

また、ブラックマトリックス用の顔料としては、カーボン、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン単独または混合が用いられ、カーボンとチタンカーボンとの組合せが好ましい。また、カーボンとチタンカーボンとの質量比は、100:0〜100:60の範囲が好ましい。100:61以上では、分散安定性が低下する場合がある。   Further, as the pigment for the black matrix, carbon, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof is used, and a combination of carbon and titanium carbon is preferable. The mass ratio of carbon to titanium carbon is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60. If it is 100: 61 or more, the dispersion stability may decrease.

本発明において、着色剤が染料である場合には、組成物中に均一に溶解して光硬化性着色樹脂組成物を得る。
本発明の組成物を構成する着色剤として使用できる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルター用として公知の染料が使用できる。例えば、特開昭64−90403号公報、特開昭64−91102号公報、特開平1−94301号公報、特開平6−11614号公報、特登2592207号、米国特許第4,808,501号明細書、米国特許第5,667,920号明細書、米国特許第5,059,500号明細書、特開平5−333207号公報、特開平6−35183号公報、特開平6−51115号公報、特開平6−194828号公報、特開平8−211599号公報、特開平4−249549号公報、特開平10−123316号公報、特開平11−302283号公報、特開平7−286107号公報、特開2001−4823号公報、特開平8−15522号公報、特開平8−29771号公報、特開平8−146215号公報、特開平11−343437号公報、特開平8−62416号公報、特開2002−14220号公報、特開2002−14221号公報、特開2002−14222号公報、特開2002−14223号公報、特開平8−302224号公報、特開平8−73758号公報、特開平8−179120号公報、特開平8−151531号公報等に開示されている色素が使用できる。
In the present invention, when the colorant is a dye, it is uniformly dissolved in the composition to obtain a photocurable colored resin composition.
The dye that can be used as the colorant constituting the composition of the present invention is not particularly limited, and conventionally known dyes for color filters can be used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-90403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-91102, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-94301, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-11614, No. 2592207, US Pat. No. 4,808,501. Specification, US Pat. No. 5,667,920, US Pat. No. 5,059,500, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A-6-51115 JP-A-6-194828, JP-A-8-21599, JP-A-4-249549, JP-A-10-123316, JP-A-11-302283, JP-A-7-286107, JP 2001-4823, JP-A-8-15522, JP-A-8-29771, JP-A-8-146215, JP-A-11-3434. 7, JP-A-8-62416, JP-A-2002-14220, JP-A-2002-14221, JP-A-2002-14222, JP-A-2002-14223, JP-A-8-302224 The dyes disclosed in JP-A-8-73758, JP-A-8-179120, JP-A-8-151531, and the like can be used.

化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。   The chemical structure includes pyrazole azo, anilino azo, triphenyl methane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Xanthene-based, phthalocyanine-based, benzopyran-based and indigo-based dyes can be used.

また、水またはアルカリ現像を行うレジスト系の場合、現像により光未照射部のバインダーおよび/または染料を完全に除去するという観点では、酸性染料および/またはその誘導体が好適に使用できる場合がある。
その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、および/または、これらの誘導体等も有用に使用することができる。
In the case of a resist system that performs water or alkali development, an acid dye and / or a derivative thereof may be suitably used from the viewpoint of completely removing the binder and / or dye in the light non-irradiated part by development.
In addition, a direct dye, a basic dye, a mordant dye, an acid mordant dye, an azoic dye, a disperse dye, an oil-soluble dye, a food dye, and / or a derivative thereof can be usefully used.

上記酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有するものであれば特に限定されないが、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩基性化合物との塩形成性、吸光度、組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、耐熱性等の必要とされる性能の全てを考慮して選択される。
以下に上記酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、
acid alizarin violet N;acid black 1,2,24,48;acid blue 1,7,9,15,18,23,25,27,29,40,45,62,70,74,80,83,86,87,90,92,103,112,113,120,129,138,147,158,171,182,192,243,324:1;acid chrome violet K;acid Fuchsin;acid green 1,3,5,9,16,25,27,50;acid orange 6,7,8,10,12,50,51,52,56,63,74,95;acid red 1,4,8,14,17,18,26,27,29,31,34,35,37,42,44,50,51,52,57,66,73,80,87,88,91,92,94,97,103,111,114,129,133,134,138,143,145,150,151,158,176,183,198,211,215,216,217,249,252,257,260,266,274;acid violet 6B,7,9,17,19;acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36,42,54,72,73,76,79,98,99,111,112,114,116,184,243;Food Yellow 3;およびこれらの染料の誘導体が挙げられる。
The acidic dye is not particularly limited as long as it has an acidic group such as sulfonic acid or carboxylic acid, but is soluble in an organic solvent or a developer, salt-forming with a basic compound, absorbance, other in the composition. It is selected in consideration of all the required performances such as interaction with the components, light resistance and heat resistance.
Although the specific example of the said acidic dye is given to the following, it is not limited to these. For example,
acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 86 , 87, 90, 92, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 158, 171, 182, 192, 243, 324: 1; acid chroma violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5 , 9, 16, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18 , 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 0, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216 217,249,252,257,260,266,274; acid violet 6B, 7,9,17,19; acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; Food Yellow 3; and derivatives of these dyes.

この中でも上記酸性染料としては、acid black 24;acid blue 23,25,29,62,80,86,87,92,138,158,182,243,324:1;acid orange 8,51,56,63,74;acid red 1,4,8,34,37,42,52,57,80,97,114,143,145,151,183,217;acid violet 7;acid yellow 17,25,29,34,42,72,76,99,111,112,114,116,184,243;acidgreen 25等の染料およびこれらの染料の誘導体が好ましい。
また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、C.I.Solvent Blue 44、38;C.I.Solvent orange 45;Rhodamine B、Rhodamine 110等の酸性染料およびこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
Among these, the acid dye includes acid black 24; acid blue 23, 25, 29, 62, 80, 86, 87, 92, 138, 158, 182, 243, 324: 1; acid orange 8, 51, 56, Acid red 1,4,8,34,37,42,52,57,80,97,114,143,145,151,183,217; acid violet 7; acid yellow 17,25,29, Dyes such as 34, 42, 72, 76, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; acidgreen 25 and derivatives of these dyes are preferred.
Other than the above, azo, xanthene and phthalocyanine acid dyes are also preferred. I. Solvent Blue 44, 38; C.I. I. Acid dyes such as Solvent orange 45; Rhodamine B, Rhodamine 110, and derivatives of these dyes are also preferably used.

本発明の組成物の全固形分中の着色剤含有率は特に限定されるものではないが、好ましくは30〜60質量%である。着色剤が少なすぎるとカラーフィルターとして適度な色度が得られなくなる傾向がある。一方、多すぎると光硬化が充分に進まず膜としての強度が低下したり、また、アルカリ現像の際の現像ラチチュードが狭くなる傾向がある。   The colorant content in the total solid content of the composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 30 to 60% by mass. If the amount of the colorant is too small, an appropriate chromaticity as a color filter tends not to be obtained. On the other hand, if the amount is too large, the photocuring does not proceed sufficiently and the strength as a film is lowered, and the development latitude during alkali development tends to be narrow.

本発明において、顔料の分散性を向上させる目的で従来公知の顔料分散剤や界面活性剤を添加することが出来る。これらの分散剤としては、多くの種類の化合物が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体(市販品EFKA−745(エフカ社製))、ソルスパース5000(ゼネカ(株)製);オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業(株)製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社油脂化学工業(株)製)、W001(裕商製)等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤;W004、W005、W017(裕商製)等のアニオン系界面活性剤;EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450(以上森下産業(株)製)、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000などの各種ソルスパース分散剤(ゼネカ(株)製);アデカプルロニックL31,F38,L42,L44,L61,L64,F68,L72,P95,F77,P84,F87、P94,L101,P103,F108、L121、P−123(旭電化(株)製)およびイソネットS−20(三洋化成(株)製)が挙げられる。   In the present invention, conventionally known pigment dispersants and surfactants can be added for the purpose of improving the dispersibility of the pigment. As these dispersants, many kinds of compounds are used. For example, a phthalocyanine derivative (commercial product EFKA-745 (manufactured by Efka)), Solsperse 5000 (manufactured by Geneca), organosiloxane polymer KP341 (Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd.), (meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, No. 95 (Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho), etc. Cationic surfactants: polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid Beauty treatment Nonionic surfactants such as W004, W005, W017 (manufactured by Yusho), etc .; EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, EFKA polymer 401, Polymer dispersing agents such as EFKA Polymer 450 (manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), Disperse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid 9100 (San Nopco); Solsperse 3000, 5000, 9000, 12000, 13240, 13940, 17000, 24000, 26000, 28000 and other various Solsperse dispersants (manufactured by Geneca); Adeka Pluronic L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P8 , F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123 (manufactured by Asahi Denka Co.) and Isonetto S-20 (manufactured by Sanyo Chemical Co.) and the like.

[樹脂成分]
本発明において、「樹脂成分」とは着色剤の溶媒又は分散媒(分散ビヒクル)として機能し得るポリマー、オリゴマー等の樹脂を主成分としたものを言う。
この内、「光硬化性成分」は、フォトリソ法に通常用いられる光硬化性組成物であり、バインダー樹脂(アルカリ可溶性樹脂等)、感光性重合成分(光重合成モノマー等)、光重合開始剤等からなる組成物を言う。
[Resin component]
In the present invention, the “resin component” means a resin or the like that can function as a solvent or dispersion medium (dispersion vehicle) of a colorant as a main component.
Among them, the “photocurable component” is a photocurable composition usually used in the photolithography method, and includes a binder resin (alkali-soluble resin, etc.), a photosensitive polymerization component (photopolymerization monomer, etc.), and a photopolymerization initiator. The composition which consists of etc. is said.

(アルカリ可溶性樹脂)
バインダー樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。
該アルカリ可溶性樹脂としては、側鎖の一部に水溶性の原子団を有する有機高分子重合体を用いることができる。上記アルカリ可溶性樹脂は、モノマーに対して相溶性のある線状有機高分子重合体であり、且つ、有機溶剤およびアルカリ可溶性(好ましくは弱アルカリ水溶液で現像できるもの)である。上記アルカリ可溶性樹脂としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が挙げられる。
(Alkali-soluble resin)
As the binder resin, an alkali-soluble resin is preferable.
As the alkali-soluble resin, an organic polymer having a water-soluble atomic group in a part of the side chain can be used. The alkali-soluble resin is a linear organic high molecular polymer that is compatible with the monomer, and is organic solvent and alkali-soluble (preferably one that can be developed with a weak alkaline aqueous solution). Examples of the alkali-soluble resin include polymers having a carboxylic acid in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, JP-B-54-25957, JP-A-sho 59-53836, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer as described in JP-A-59-71048, There are partially esterified maleic acid copolymers, and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain are also included.

上記アルカリ可溶性樹脂としては、その他、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中でも、具体的には、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/および他のモノマーとの多元共重合体が好ましい。   As the alkali-soluble resin, those obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are also useful. In particular, among these, specifically, a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer and a multi-component copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / and other monomers are preferable.

上記アルカリ可溶性樹脂としては、少なくとも(i)無水マレイン酸(MAA)、アクリル酸(AA)、メタクリル酸(MA)、およびフマル酸(FA)から選ばれた少なくとも一種の酸成分モノマーと、(ii)アルキルポリオキシエチレン(メタ)アクリレートと、および(iii)ベンジル(メタ)アクリレートとからなる共重合体(以下「共重合体A」という場合がある。)を用いることができる。   The alkali-soluble resin includes at least (i) at least one acid component monomer selected from maleic anhydride (MAA), acrylic acid (AA), methacrylic acid (MA), and fumaric acid (FA), and (ii) It is possible to use a copolymer (hereinafter sometimes referred to as “copolymer A”) composed of ()) alkylpolyoxyethylene (meth) acrylate and (iii) benzyl (meth) acrylate.

上記共重合体Aの組み合わせとしては、(i)酸成分モノマー、(ii)アルキルポリオキシエチレン(メタ)アクリレート(Acr(EO)n:CH3(OC24)nOCOC(CH3)=CHR)、および(iii)ベンジル(メタ)アクリレート(BzMA)の組成質量比は好ましくは10〜25/5〜25/50〜85、より好ましくは15〜20/5〜20/60〜80が好ましい。また、上記共重合体のGPCによるポリスチレン換算質量平均分子量(Mw)としては好ましくは3,000〜50,000、より好ましくは5,000〜30,000である。 Examples of the combination of the copolymer A, (i) an acid component monomer, (ii) alkylpolyoxyethylene (meth) acrylate (Acr (EO) n: CH 3 (OC 2 H 4) nOCOC (CH 3) = CHR ) And (iii) The composition mass ratio of benzyl (meth) acrylate (BzMA) is preferably 10 to 25/5 to 25/50 to 85, more preferably 15 to 20/5 to 20/60 to 80. The polystyrene-reduced mass average molecular weight (Mw) by GPC of the copolymer is preferably 3,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000.

(i)酸成分モノマーの組成質量比が上記範囲にあると、アルカリ可溶性および溶剤への溶解性が低下しにくい。また、(ii)アルキルポリオキシエチレン(メタ)アクリレート(Acr(EO)n:CH3(OC24)nOCOC(CH3)=CHR)の組成質量比が上記範囲にあると、本発明組成物の基板上への液の広がりやすく、また着色剤の分散性が低下しにくいため、本発明を有効に達成することができる。
(iii)ベンジル(メタ)アクリレート(BzMA)の組成質量比が上記範囲にあると、着色剤の分散安定性や組成物中への溶解性や塗布膜のアルカリ現像適性が低下しにくい。
(I) When the compositional mass ratio of the acid component monomer is within the above range, alkali solubility and solubility in a solvent are unlikely to decrease. Further, (ii) alkylpolyoxyethylene (meth) acrylate (Acr (EO) n: CH 3 (OC 2 H 4) nOCOC (CH 3) = CHR) If the composite mass ratio of the above range, the present invention composition Since the liquid easily spreads on the substrate of the product and the dispersibility of the colorant is not easily lowered, the present invention can be effectively achieved.
(Iii) When the composition mass ratio of benzyl (meth) acrylate (BzMA) is in the above range, the dispersion stability of the colorant, the solubility in the composition, and the alkali development suitability of the coating film are unlikely to decrease.

尚、前記(ii)アルキルポリオキシエチレン(メタ)アクリレート(Acr(EO)n:CH3(OC24)nOCOC(CH3)=CHR)のポリオキシエチレン(EO)nの繰り返し数nは、2〜15が好ましく、2〜10が更に好ましく、4〜10が特に好ましい。上記繰り返し数nが、前記範囲にあると、アルカリ現像液で現像した後に現像残渣が発生しにくく、組成物の塗布液としての流動性が低下し、塗布ムラを生じるのを防止でき、塗布膜厚の均一性や省液性が低下するのを防止できる。 Incidentally, the (ii) alkylpolyoxyethylene (meth) acrylate (Acr (EO) n: CH 3 (OC 2 H 4) nOCOC (CH 3) = CHR) repeating number n of the polyoxyethylene (EO) n of 2-15 are preferable, 2-10 are still more preferable, and 4-10 are especially preferable. When the above repeating number n is in the above range, a development residue is less likely to occur after development with an alkaline developer, the fluidity of the composition as a coating solution can be prevented, and coating unevenness can be prevented. It is possible to prevent the thickness uniformity and the liquid-saving property from decreasing.

上記アルカリ可溶性樹脂としては、更に(i)(メタ)アクリル酸および(ii)ベンジルメタクリレートからなる共重合体(以下、「共重合体B1」という場合がある。)、または、(i)(メタ)アクリル酸、(ii)ベンジルメタクリレート、および(iii)ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートからなる共重合体(以下、「共重合体B2」という場合がある。)を用いることができる。
本発明において、共重合体B1および共重合体B2は、着色剤の分散安定性に効果がある。また、本発明における組成物を製造するに際して、上記混練分散処理をする場合、上記共重合体B1およびB2は、着色剤の集合体に強い剪断力を与えて、その分散を促進し、それに続く微分散処理を経て最終的に得られる組成物中での着色剤の分散安定性を高めることができる。
Examples of the alkali-soluble resin include a copolymer (i) (meth) acrylic acid and (ii) benzyl methacrylate (hereinafter sometimes referred to as “copolymer B1”), or (i) (meta ) A copolymer comprising acrylic acid, (ii) benzyl methacrylate, and (iii) hydroxyethyl (meth) acrylate (hereinafter sometimes referred to as “copolymer B2”) can be used.
In the present invention, the copolymer B1 and the copolymer B2 are effective in the dispersion stability of the colorant. Further, when the kneading and dispersing treatment is carried out in the production of the composition in the present invention, the copolymers B1 and B2 give a strong shearing force to the colorant aggregate to promote the dispersion, followed by the copolymer B1 and B2. The dispersion stability of the colorant in the composition finally obtained through the fine dispersion treatment can be enhanced.

上記ポリマーは任意の量を混合して用いることができ、形成される画像強度等の観点から、本発明における組成物の固形分質量に対して30〜85質量%が好ましい。   The said polymer can be used in mixture of arbitrary quantity, and 30-85 mass% is preferable with respect to solid content mass of the composition in this invention from viewpoints of the image intensity | strength etc. which are formed.

(感光性重合成分)
次に、上記感光性重合成分について説明する。
上記感光性重合成分としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有し、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物が好ましく、なかでも、4官能以上のアクリレート化合物が更に好ましい。
(Photosensitive polymerization component)
Next, the photosensitive polymerization component will be described.
As the photosensitive polymerization component, a compound having an ethylenically unsaturated group having at least one addition-polymerizable ethylene group and having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure is preferable. Acrylate compounds are more preferred.

上記少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で100℃以上の化合物としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、ペンタエリスリトールまたはジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることが出来る。更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。   Examples of the compound having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure include polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meta ) Monofunctional acrylates and methacrylates such as acrylates; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, Poly (meth) of pentaerythritol or dipentaerythritol after (meth) acrylate addition after addition of ethylene oxide or propylene oxide to polyfunctional alcohols such as ly (acryloyloxyethyl) isocyanurate, glycerin and trimethylolethane Acrylates, urethane acrylates as described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49 -Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid described in JP-B No. 43191 and JP-B-52-30490 I can do it. Furthermore, the Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308, those introduced as photocurable monomers and oligomers can also be used.

また、上記した多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化した化合物が、特開平10−62986号公報に一般式(1)および(2)としてその具体例と共に記載されており、これらも感光性重合成分として用いることができる。   A compound obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to the polyfunctional alcohol and then (meth) acrylated is described in JP-A-10-62986 as general formulas (1) and (2) together with specific examples thereof. These can also be used as photosensitive polymerization components.

なかでも、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートおよびこれらのアクリロイル基が、エチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用される。これらの感光性重合成分は1種単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
上記感光性重合成分の使用量は、硬化を十分に行う観点からは、本発明における組成物の全固形分に対して、20〜200質量%が好ましく、50〜120質量%が更に好ましい。
Among these, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and a structure in which these acryloyl groups are interposed via ethylene glycol or propylene glycol residues are preferable. These oligomer types are also used. These photosensitive polymerization components can be used alone or in combination of two or more.
The amount of the photosensitive polymerization component used is preferably 20 to 200 mass%, more preferably 50 to 120 mass%, based on the total solid content of the composition in the present invention, from the viewpoint of sufficient curing.

(光重合開始剤)
光重合開始剤は、光、放射線、活性電磁波等の照射により活性化するものを使用することができる。上記光重合開始剤としては、、例えば、特開平57−6096号公報に記載のハロメチルオキサジアゾール;特公昭59−1281号公報、特開昭53−133428号公報等に記載のハロメチル−s−トリアジン等活性ハロゲン化合物;米国特許USP−4318791、欧州特許公開EP−88050A等に記載のケタール、アセタールまたはベンゾインアルキルエーテル類等の芳香族カルボニル化合物;米国特許USP−4199420に記載のベンゾフェノン類等の芳香族ケトン化合物;Fr−2456741に記載の(チオ)キサントン類またはアクリジン類化合物;特開平10−62986号公報に記載のクマリン類またはロフィンダイマー類等の化合物;特開平8−015521号公報等のスルホニウム有機硼素錯体等;等を挙げることができる。
(Photopolymerization initiator)
As the photopolymerization initiator, one that is activated by irradiation with light, radiation, active electromagnetic waves, or the like can be used. Examples of the photopolymerization initiator include halomethyloxadiazole described in JP-A-57-6096; halomethyl-s described in JP-B-59-1281, JP-A-53-133428, and the like. Active halogen compounds such as triazine; aromatic carbonyl compounds such as ketals, acetals or benzoin alkyl ethers described in US Pat. No. US Pat. No. 4,318791 and European Patent Publication EP-88050A; benzophenones described in US Pat. No. US Pat. Aromatic ketone compounds; (thio) xanthones or acridine compounds described in Fr-2456541; compounds such as coumarins or lophine dimers described in JP-A-10-62986; and JP-A-8-015521 Sulfonium organoboron complex etc. It can gel.

本発明において、上記光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ケタール系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾイル系、キサントン系、トリアジン系、ハロメチルオキサジアゾール系、アクリジン類系、クマリン類系、ロフィンダイマー類系、ビイミダゾール系、等の光重合開始剤を用いることが好ましい。   In the present invention, as the photopolymerization initiator, acetophenone series, ketal series, benzophenone series, benzoin series, benzoyl series, xanthone series, triazine series, halomethyloxadiazole series, acridine series, coumarin series, lophine dimer It is preferable to use a photopolymerization initiator such as a series or biimidazole.

上記アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノンなどを好適に挙げることができる。   Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, p-dimethylaminoacetophenone, Preferable examples include 4′-isopropyl-2-hydroxy-2-methyl-propiophenone.

上記ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタールなどを好適に挙げることができる。   Preferred examples of the ketal photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal and benzyl-β-methoxyethyl acetal.

上記ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4’−(ビスジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−(ビスジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−トリル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1等を好適に挙げることができる。   Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, 4,4 ′-(bisdimethylamino) benzophenone, 4,4 ′-(bisdiethylamino) benzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, and 1-hydroxy-cyclohexyl. -Phenyl-ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-tolyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 and the like can be preferably exemplified.

上記ベンゾイン系またはベンゾイル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ゼンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo−ベンゾイルベゾエート等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the benzoin-based or benzoyl-based photopolymerization initiator include benzoin isopropyl ether, zenzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, and methyl o-benzoyl bezoate.

上記キサントン系光重合開始剤としては、例えば、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、モノイソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the xanthone photopolymerization initiator include diethylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, monoisopropylthioxanthone, chlorothioxanthone, and the like.

上記トリアジン系光重合開始剤としては、例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ビフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メチルビフェニル)−s−トリアジン、p−ヒドロキシエトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、メトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル−s−トリアジン、3,4−ジメトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−ベンズオキソラン−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N,N−(ジエトキシカルボニルアミノ)−フェニル)−2,6−ジ(クロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N,N−(ジエトキシカルボニルアミノ)−フェニル)−2,6−ジ(クロロメチル)−s−トリアジン等を好適に挙げることができる。   Examples of the triazine photopolymerization initiator include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxyphenyl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl- s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-biphenyl- s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methylbiphenyl) -s-triazine, p-hydroxyethoxystyryl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, methoxystyryl- 2,6-di (trichloromethyl-s-triazine, 3,4-dimethoxystyryl-2,6-di (trichloromethyl) -s-to Azine, 4-benzoxolane-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN, N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6-di (Chloromethyl) -s-triazine, 4- (pN, N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6-di (chloromethyl) -s-triazine and the like can be preferably exemplified.

上記ハロメチルオキサジアゾール系光重合開始剤としては、例えば、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(シアノスチリル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(ナフト−1−イル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−スチリル)スチリル−1,3,4−オキソジアゾール等を好適に挙げることができる。   Examples of the halomethyloxadiazole-based photopolymerization initiator include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3. , 4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3 A preferred example is 4-oxodiazole.

上記アクリジン類系光重合開始剤としては、例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the acridine-based photopolymerization initiator include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.

上記クマリン類系光重合開始剤としては、例えば、3−メチル−5−アミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−クロロ−5−ジエチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−ブチル−5−ジメチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン等を好適に挙げることができる。   Examples of the coumarin-based photopolymerization initiator include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s Preferred examples include -triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.

上記ロフィンダイマー類系光重合開始剤としては、例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体等を好適に挙げることができる。   Examples of the lophine dimer-based photopolymerization initiator include 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer and 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer. And 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer and the like can be preferably exemplified.

上記ビイミダゾール系光重合開始剤としては、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール、2,2’−ベンゾチアゾリルジサルファイド等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the biimidazole photopolymerization initiator include 2-mercaptobenzimidazole and 2,2′-benzothiazolyl disulfide.

その他、上記光重合開始剤としては、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、O−ベンゾイル−4’−(ベンズメルカプト)ベンゾイル−ヘキシル−ケトキシム、2,4,6−トリメチルフェニルカルボニル−ジフェニルフォスフォニルオキサイド、ヘキサフルオロフォスフォロ−トリアルキルフェニルホスホニウム塩等が挙げられる。   Other examples of the photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, O-benzoyl-4 ′-(benzmercapto) benzoyl-hexyl-ketoxime, 2, Examples include 4,6-trimethylphenylcarbonyl-diphenyl phosphonyl oxide, hexafluorophospho-trialkylphenyl phosphonium salt, and the like.

本発明では、以上の光重合開始剤に限定されるものではなく、他の公知のものも使用することができる。例えば、米国特許第2,367,660号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号および第2,367,670号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号および第2,951,758号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭51−48516号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチール−s−トリアジン系化合物等が挙げられる。
また、これらの光重合開始剤を併用することもできる。
In this invention, it is not limited to the above photoinitiator, Other well-known things can also be used. For example, the vicinal polykettle aldonyl compound disclosed in US Pat. No. 2,367,660, disclosed in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670. α-carbonyl compounds, acyloin ethers disclosed in US Pat. No. 2,448,828, aromatics substituted with α-hydrocarbons disclosed in US Pat. No. 2,722,512 Group acyloin compounds, polynuclear quinone compounds disclosed in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758, triallyl disclosed in US Pat. No. 3,549,367 Combination of imidazole dimer / p-aminophenyl ketone, benzothiazole compound / trihalome disclosed in Japanese Patent Publication No. 51-48516 Thial-s-triazine compounds are exemplified.
Moreover, these photoinitiators can also be used together.

上記光重合開始剤の使用量は、光硬化性着色樹脂組成物の全固形分の0.1〜10.0質量%、好ましくは0.5〜5.0質量%である。光重合開始剤の使用量が0.1質量%より少ないと重合が進みにくい場合があり、また、10.0質量%を超えると膜強度が弱くなる場合がある。   The usage-amount of the said photoinitiator is 0.1-10.0 mass% of the total solid of a photocurable coloring resin composition, Preferably it is 0.5-5.0 mass%. When the amount of the photopolymerization initiator used is less than 0.1% by mass, the polymerization may not proceed easily, and when it exceeds 10.0% by mass, the film strength may be weakened.

[溶剤]
本発明の組成物には溶剤を使用する。また、本発明の樹脂組成物は、該溶剤中に沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤を10〜40質量%含有する。
この高沸点溶剤は、その分子中に水酸基を有しないものが好ましい。水酸基は、顔料の凝集を促進させることがあり、インクジェットノズルやスリット塗布ヘッドの目詰まりの原因となる場合がある。
沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤としては、次のものが例示される。
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン、ブチルラクテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール−n−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、2−エチルヘキシルアセテート、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、γブチルラクトン、トリプロピレングリコールメチルエチルアセテート、ジプロピレングリコール−n−ブチルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート。
上記のなかでも下記のものが好ましい。
[solvent]
A solvent is used in the composition of the present invention. Moreover, the resin composition of this invention contains 10-40 mass% of high boiling point solvents whose boiling point is 180 to 250 degreeC in this solvent.
The high boiling point solvent is preferably one having no hydroxyl group in the molecule. The hydroxyl group may promote aggregation of the pigment and may cause clogging of the ink jet nozzle and the slit coating head.
The following are illustrated as a high boiling point solvent whose boiling point is 180 to 250 degreeC.
Diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexen-1-one, butyl lactate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-n -Propyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, 2-ethylhexyl acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, gamma butyllactone, tripropylene glycol methyl ethyl acetate, dipropylene glycol-n-butyl acetate, propylene glycol phenyl ether acetate.
Among the above, the following are preferable.

(1)ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(2)ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルアセテート
(3)ジプロピレングリコールn−ブチルエーテルアセテート
(4)ブチルラクテート
(5)3,5,5−トリメチル−2−シクロへキセン−1−オン
(6)プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート
(7)トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート
(8)3−メトキシ 3−メチルブチルアセテート
(1) Dipropylene glycol monomethyl ether acetate (2) Dipropylene glycol n-propyl ether acetate (3) Dipropylene glycol n-butyl ether acetate (4) Butyl lactate (5) 3,5,5-trimethyl-2-cyclo Xen-1-one (6) Propylene glycol phenyl ether acetate (7) Tripropylene glycol methyl ether acetate (8) 3-methoxy 3-methylbutyl acetate

沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤は、溶剤中10〜40質量%含有せしめるが、好ましくは、12〜35質量%含有せしめる。ここで「溶剤中」とは、「本発明着色樹脂組成物中の全ての溶剤の中で」という意味である。
高沸点溶剤のこの量が10質量%未満であると、ノズル等の目詰まりの抑制効果が少なく、40質量%を超えると基板上に形成された塗布膜の乾燥性が低下し、塗布工程でのタクトタイムが長くなり、好ましくない。また、高沸点溶剤の沸点は、180℃〜250℃であるが、好ましくは、185〜220℃である。
本発明に用いる高沸点溶剤は、その分子中に水酸基がないものが好ましい。水酸基があると特に着色剤が顔料微粒子である場合、粒子の凝集を起こしやすくなるので好ましくない。
高沸点溶剤でもエステル化度が高いものが好ましく、特に好ましくは、前期(1)〜(8)の溶剤であり、中でも(1)、(6)及び(8)が最も好ましい。
The high boiling point solvent having a boiling point of 180 ° C. to 250 ° C. is contained in the solvent in an amount of 10 to 40% by mass, preferably 12 to 35% by mass. Here, “in the solvent” means “among all the solvents in the colored resin composition of the present invention”.
If the amount of the high-boiling solvent is less than 10% by mass, the effect of suppressing clogging of the nozzle or the like is small, and if it exceeds 40% by mass, the drying property of the coating film formed on the substrate is lowered. The tact time becomes longer, which is not preferable. Moreover, although the boiling point of a high boiling point solvent is 180 to 250 degreeC, Preferably it is 185 to 220 degreeC.
The high boiling point solvent used in the present invention preferably has no hydroxyl group in the molecule. The presence of a hydroxyl group is not preferable especially when the colorant is pigment fine particles, because the particles are likely to aggregate.
A high-boiling solvent having a high degree of esterification is preferred, and the solvents of (1) to (8) are particularly preferred, with (1), (6) and (8) being most preferred.

本発明では、高沸点溶剤以外の溶剤も用いる。
本発明で用いる高沸点溶剤以外の溶剤としては、特に限定されないが、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレシ等が挙げられる。
In the present invention, a solvent other than the high boiling point solvent is also used.
Solvents other than the high boiling point solvent used in the present invention are not particularly limited, but esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, Ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, 3- 3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, -Methyl oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2- Ethyl ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, pyrubin Methyl acetate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc .; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol Nomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, etc .; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc .; aromatic carbonization Hydrogens such as toluene and xyles are exemplified.

これら溶剤のうち、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が本発明における溶剤として好ましく用いられる。
これらの溶剤は、単独で用いてもあるいは2種以上組み合わせて用いてもよい。
Among these solvents, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol Acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are preferably used as the solvent in the present invention.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(その他の成分)
本発明の組成物には、必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、上記アルカリ可溶性樹脂以外の高分子化合物、上記以外の界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。
(Other ingredients)
In the composition of the present invention, various additives, for example, fillers, polymer compounds other than the alkali-soluble resins, surfactants other than the above, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, agglomerates, if necessary An inhibitor or the like can be blended.

これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤;イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの、アルコール可溶性ナイロン、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとから形成されたフェノキシ樹脂などのアルカリ可溶の樹脂;ノニオン系、カチン系、アニオン系等の界面活性剤、具体的にはフタロシアニン誘導体(市販品EFKA−745(森下産業製));オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社油脂化学工業製)、W001(裕商製)等のカチオン系界面活性剤;ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF社製 プルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1等のノニオン系界面活性剤;W004、W005、W017(裕商製)等のアニオン系界面活性剤;EFKA−46、EFKA−47、EFKA−47EA、EFKAポリマー100、EFKAポリマー400、EFKAポリマー401、EFKAポリマー450(以上森下産業製)、ディスパースエイド6、ディスパースエイド8、ディスパースエイド15、ディスパースエイド9100(サンノプコ製)等の高分子分散剤;ソルスパース3000、5000、9000、12000、13240、13940、17000、24000、26000、28000などの各種ソルスパース分散剤(ゼネカ(株))製);アデカプルロニックL31,F38,L42,L44,L61,L64,F68,L72,P95,F77,P84,F87、P94,L101,P103,F108、L121、P−123(旭電化製)およびイソネットS−20(三洋化成製);メガファックF171、同F172、同F173、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437(以上、大日本インキ(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)等のフッ素系界面活性剤;   Specific examples of these additives include fillers such as glass and alumina; itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, acidic cellulose derivative, hydroxyl group A polymer having acid anhydride added thereto, an alcohol-soluble nylon, an alkali-soluble resin such as a phenoxy resin formed from bisphenol A and epichlorohydrin; a nonionic, a kachin-based, an anionic surfactant, etc. Specifically, a phthalocyanine derivative (commercial product EFKA-745 (manufactured by Morishita Sangyo)); organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid-based (co) polymer polyflow No. 75, No. 90, Cationic surfactants such as No. 95 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho); Ethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, manufactured by BASF) Nonionic surfactants such as L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, and 150R1; anionic surfactants such as W004, W005, and W017 (manufactured by Yusho) EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, EFKA polymer 401, EFKA polymer Polymer dispersants such as 450 (manufactured by Morishita Sangyo), Disperse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid 9100 (San Nopco); Solsperse 3000, 5000, 9000, 12000, 13240, 13940 17000, 24000, 26000, 28000, etc. Solsperse dispersant (manufactured by Zeneca); Adeka Pluronic L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94 , L101, P103, F108, L121, P-123 (manufactured by Asahi Denka) and Isonet S-20 (manufactured by Sanyo Kasei); Megafac F171, F172, F173, F177, F141, F142, F143, F144, R30 F437 (above, Dainippon Ink Co., Ltd.), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Ltd.), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC -104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, S393, KH-40 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and the like;

2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤;
およびポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。
UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone;
And an aggregation inhibitor such as sodium polyacrylate.

また、光未照射部のアルカリ溶解性を促進し、本発明の組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、本発明の組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うことができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。   Further, when promoting the alkali solubility of the unirradiated part and further improving the developability of the composition of the present invention, the composition of the present invention is an organic carboxylic acid, preferably a low molecular weight having a molecular weight of 1000 or less. An organic carboxylic acid can be added. Specifically, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutar Aliphatic dicarboxylic acids such as acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as carbaryl acid, aconitic acid and camphoric acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid and mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesin Aromatic polycarboxylic acids such as acid, merophanic acid, pyromellitic acid; phenylacetic acid, Doroatoropa acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.

本発明の組成物には以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。   In addition to the above, it is preferable to add a thermal polymerization inhibitor to the composition of the present invention, for example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butyl. Catechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, etc. are useful. .

<本発明の着色樹脂組成物の製造方法および使用方法>
本発明の組成物は、着色剤、樹脂成分及びさらに必要に応じて用いられるその他の添加剤を溶剤と混合し各種の混合機、分散機を使用して混合分散する混合分散工程を経ることによって調製することができる。
尚、混合分散工程は、混練分散とそれに続けて行う微分散処理からなるのが好ましいが、混練分散を省略することも可能である。
<Method for producing and using colored resin composition of the present invention>
The composition of the present invention undergoes a mixing and dispersing step in which a colorant, a resin component, and other additives used as necessary are mixed with a solvent and mixed and dispersed using various mixers and dispersers. Can be prepared.
The mixing and dispersing step preferably includes kneading and dispersing followed by fine dispersion treatment, but kneading and dispersing can be omitted.

本発明の組成物の好ましい製造方法としては、着色剤を樹脂成分で混練分散処理後の粘度が10,000mPa・s以上、望ましくは100,000mPa・s以上の比較的高粘度になるように混練分散処理し、次いで溶剤を添加して、微分散処理後の粘度が1,000mPa・s以下、望ましくは100mPa・s以下の比較的低粘度になるように微分散処理し、さらに高沸点溶剤等を加え攪拌、混合する方法が好ましい。   As a preferred method for producing the composition of the present invention, the colorant is kneaded with the resin component so that the viscosity after the kneading and dispersing treatment is 10,000 mPa · s or higher, desirably 100,000 mPa · s or higher. Dispersion treatment, then adding a solvent, fine dispersion treatment so that the viscosity after the fine dispersion treatment is 1,000 mPa · s or less, preferably 100 mPa · s or less, and further a high boiling point solvent, etc. The method of adding and stirring and mixing is preferable.

混練分散処理で使用する機械は二本ロール、三本ロール、ボールミル、トロンミル、ディスパー、ニーダー、コニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー、単軸および2軸の押出機等であり、強い剪断力を与えながら分散する。次いで、溶剤を加えて、主として縦型若しくは横型のサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を使用し、0.1〜1mmの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズで微分散処理する。尚、混練分散処理を省くことも可能である。その場合には、顔料と分散剤若しくは表面処理剤と、本発明におけるアクリル系共重合体および溶剤でビーズ分散を行う。
尚、混練、分散についての詳細はT.C. Patton著"Paint Flow and ピグメント Dispersion"(1964年 John Wiley and Sons社刊)等にも記載されており、この方法を用いてもよい。
The machines used in the kneading and dispersing treatment are two rolls, three rolls, ball mills, tron mills, dispersers, kneaders, kneaders, homogenizers, blenders, single and twin screw extruders, etc., which disperse while giving a strong shearing force. . Next, a solvent is added and finely dispersed with beads made of glass or zirconia having a particle diameter of 0.1 to 1 mm, mainly using a vertical or horizontal sand grinder, pin mill, slit mill, ultrasonic disperser, etc. To process. It is also possible to omit the kneading and dispersing process. In that case, beads are dispersed with a pigment, a dispersant or a surface treatment agent, and the acrylic copolymer and solvent in the present invention.
The details of the kneading and dispersing are described in “Paint Flow and Pigment Dispersion” by TC Patton (published by John Wiley and Sons, 1964), etc., and this method may be used.

本発明の組成物を、直接または他の層を介して基板にスリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の塗布方法により塗布して、着色樹脂組成物の塗布膜を形成し、必要により所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させ、現像液で現像することによって、各色(3色あるいは4色)の画素からなるパターン状皮膜を形成し、カラーフィルターを製造することができる。この際に使用される放射線としては、特にg線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。
本発明はガラス基板上にスリット塗布等に特に良好な着色組成物に関するものであるが、その他の着色層形成法にも有効である。従来既知の回転塗布でも着色液の滴下口であるノズル、スリット、バーなどで発生する乾燥に起因する異物削減、平滑性の向上、塗布性状の正常化にきわめて有効である。
またフォトリソで画素形成する以外の形成法であるインクジェッ卜法、スクリーン印刷法などで画素部分のみに着色層を付与するカラーフィルターの製造方法にも有効である。これらの方法はフォトリソで着色を形成するものではないが、光硬性組成物にすることによって着色画素が基板上に強固に固着し、パネル作成工程での耐傷性が高くなったり、LCDパネルとなったときに接触する液晶層への汚染を防止する等の効果があって好ましい態様である。
The composition of the present invention is applied to a substrate directly or via another layer by a coating method such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, screen printing method, etc. A coating film is formed, exposed through a predetermined mask pattern if necessary, only the coating film portion irradiated with light is cured, and developed with a developer, thereby comprising pixels of each color (three colors or four colors). A color filter can be produced by forming a patterned film. As the radiation used at this time, ultraviolet rays such as g-line, h-line and i-line are particularly preferably used.
The present invention relates to a coloring composition which is particularly good for applying a slit on a glass substrate, but is also effective for other methods for forming a colored layer. Even conventionally known spin coating is extremely effective in reducing foreign matters caused by drying generated at nozzles, slits, bars, etc., which are dropping openings for coloring liquid, improving smoothness, and normalizing coating properties.
It is also effective in a method for manufacturing a color filter in which a colored layer is applied only to a pixel portion by an ink jet method, a screen printing method, or the like, which is a formation method other than forming a pixel by photolithography. Although these methods do not form a color with photolithography, colored pixels are firmly fixed on the substrate by using a photo-curing composition, resulting in high scratch resistance in the panel preparation process, or an LCD panel. This is a preferred embodiment because of the effect of preventing contamination of the liquid crystal layer that comes into contact with the liquid crystal layer.

インクジェット法は予め樹脂ブラックマトリックス等で格子状にマトリックスをガラス基板に形成し、格子の開口部に着色液を液滴状で吐出し、乾燥して固着させるものである。液滴を吐出させる手段はバブルを利用したサーマルヘッド、圧電素子を利用したピエゾヘッド等いずれでも使用できる。着色液の基板への固着を促進するため、セルロース、アクリル樹脂等でインク受容層を設けておくことが好ましい。着色液を画素部に吐出すると樹脂ブラックマトリックス等の格子内に充填され乾燥過程でレベリングする。吐出ヘッドは口径が10〜30μm程度の細いものであり、従来品では、吐出と吐出の間に先端部が乾燥したりしてヘッド口が詰まってしまうという問題が生じる。このため吐出量が描画中に減少し不安定になって画素−画素間で色ムラが生じてしまう。本発明の効果の1つはノズルの乾燥を防止すものであり、あと1つの大きな効果は半乾燥状態の着色液を溶かす効果(自浄効果)である。従って、本発明の着色樹脂組成物を用いれば、このような問題は生じない。   In the ink jet method, a matrix is formed on a glass substrate in advance with a resin black matrix or the like on a glass substrate, and a colored liquid is ejected in the form of droplets onto the openings of the lattice, and dried and fixed. As a means for discharging droplets, any of a thermal head using bubbles and a piezo head using piezoelectric elements can be used. In order to promote fixation of the colored liquid to the substrate, it is preferable to provide an ink receiving layer with cellulose, acrylic resin or the like. When the colored liquid is discharged to the pixel portion, it is filled in a lattice such as a resin black matrix and leveled in the drying process. The discharge head is a thin one having a diameter of about 10 to 30 μm, and the conventional product has a problem that the head portion is clogged due to drying of the tip portion between discharge and discharge. For this reason, the discharge amount decreases during drawing and becomes unstable, causing color unevenness between pixels. One of the effects of the present invention is to prevent the nozzle from drying, and another great effect is the effect of dissolving the semi-dried colored liquid (self-cleaning effect). Therefore, such a problem does not occur if the colored resin composition of the present invention is used.

また、必要によりアルカリ現像処理を行うことにより、上記露光により光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させ、光硬化した部分だけが残る。現像液としては、光未照射部の光硬化性着色樹脂組成物の塗布膜を溶解し、一方光照射部を溶解しないものであればいかなるものも用いることができる。
そして、余剰の現像液を洗浄除去し、乾燥を施した後に、50℃〜240℃の温度で加熱処理(ポストベーク)を行う。このように各色ごとに前記工程を順次繰り返して硬化皮膜を製造することができる。これによりカラーフィルターが得られる。
Further, if necessary, an alkali development treatment is performed to elute the light non-irradiated portion into the alkaline aqueous solution by the exposure, and only the photocured portion remains. Any developer can be used as long as it dissolves the coating film of the photocurable colored resin composition in the non-irradiated part, while not dissolving the light irradiated part.
Then, after the excess developer is washed away and dried, heat treatment (post-bake) is performed at a temperature of 50 ° C. to 240 ° C. Thus, the said process can be repeated sequentially for every color, and a cured film can be manufactured. Thereby, a color filter is obtained.

基板としては、例えば液晶表示素子等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(R)ガラス、石英ガラスおよびこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等が挙げられる。さらに、プラスチック基板も可能である。これらの基板上には、通常、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている。   As the substrate, for example, non-alkali glass, soda glass, pyrex (R) glass, quartz glass used for liquid crystal display elements and the like, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these, photoelectric conversion elements used for solid-state imaging devices, etc. Examples of the substrate include a silicon substrate. Furthermore, a plastic substrate is also possible. On these substrates, usually, black stripes for isolating each pixel are formed.

また、プラスチック基板にはその表面にガスバリヤー層および/または耐溶剤性層を有していることが好ましい。   The plastic substrate preferably has a gas barrier layer and / or a solvent resistant layer on its surface.

基板上に塗布された本発明の組成物の塗布膜の乾燥(プリベーク)は、ホットプレート、オーブン等で50℃〜140℃の温度で10〜300秒で行うことができる。   Drying (prebaking) of the coating film of the composition of the present invention applied on the substrate can be performed at a temperature of 50 ° C. to 140 ° C. for 10 to 300 seconds with a hot plate, oven or the like.

本発明の組成物の塗布膜の塗布厚み(乾燥後)は、一般的に0.3〜5.0μm、望ましくは0.5〜3.5μm、最も望ましくは1.0〜2.5μmである。   The coating thickness (after drying) of the coating film of the composition of the present invention is generally 0.3 to 5.0 μm, desirably 0.5 to 3.5 μm, and most desirably 1.0 to 2.5 μm. .

現像液としては、本発明の組成物を溶解し、一方光照射部を溶解しない組成物であればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
有機溶剤としては、本発明の組成物を調製する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
現像温度としては通常20℃〜30℃であり、現像時間としては20〜90秒である。
Any developer can be used as long as it dissolves the composition of the present invention and does not dissolve the light irradiated portion. Specifically, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used.
Examples of the organic solvent include the aforementioned solvents used in preparing the composition of the present invention.
The development temperature is usually 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is 20 to 90 seconds.

上記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に、現像後、水で洗浄(リンス)する。   Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, Concentration of an alkaline compound such as tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, in a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to An alkaline aqueous solution dissolved so as to be 1% by mass is used. In addition, when using the developing solution which consists of such alkaline aqueous solution, generally it wash | cleans (rinse) with water after image development.

ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱であり、通常約200℃〜220℃の加熱(ハードベーク)を行う。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
Post-baking is heating after development to complete curing, and is usually performed at about 200 ° C. to 220 ° C. (hard baking).
This post-bake treatment is performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), a high-frequency heater, or the like so that the coating film after development is in the above-described condition. be able to.

本発明の組成物の用途として、主にカラーフィルターへの用途を主体に述べてきたが、カラーフィルターの画素間に設けられるブラックマトリックスにも適用できることは勿論である。ブラックマトリックスは、本発明の組成物にカーボンブラック、チタンブラックなどの黒色の着色剤を添加した組成物を光露光、アルカリ現像し、更にその後、ポストベークして膜の硬化を促進させて形成させることができる。   As the application of the composition of the present invention, the application mainly to a color filter has been mainly described, but it is needless to say that the composition can also be applied to a black matrix provided between pixels of a color filter. The black matrix is formed by photo-exposure and alkali development of a composition obtained by adding a black colorant such as carbon black or titanium black to the composition of the present invention, and then post-baking to promote film curing. be able to.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

〔実施例1〜5、比較例1〜4(スリット塗布)〕
まず、下記各成分を2本ロールで混練分散処理をした。
C.I.ピグメント レッド 254 22質量部
C.I.ピグメント イエロー 139 8質量部
樹脂溶液(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、mol比:80/10/10、Mw:10000、溶剤:プロピレングリコールメチルエーテルアセテート60%、 樹脂固形分濃度:40%)
40質量部
溶剤:プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 20質量部
分散剤: (商品名:BY−161、BYK社) 2質量部
[Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 4 (slit application)]
First, the following components were kneaded and dispersed with two rolls.
C. I. Pigment Red 254 22 parts by mass C.I. I. Pigment Yellow 139 8 parts by mass resin solution (benzyl methacrylate / methacrylic acid / hydroxyethyl methacrylate copolymer, molar ratio: 80/10/10, Mw: 10000, solvent: 60% propylene glycol methyl ether acetate, resin solid content concentration: 40%)
40 parts by mass Solvent: propylene glycol methyl ether acetate 20 parts by mass Dispersant: (trade name: BY-161, BYK) 2 parts by mass

更に上記で得られた分散物に下記成分を加えサンドミルで一昼夜微分散処理をした。
溶剤:プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 200質量部
Furthermore, the following components were added to the dispersion obtained above and finely dispersed in a sand mill for a whole day and night.
Solvent: 200 parts by mass of propylene glycol methyl ether acetate

分散処理の後、更に下記成分を添加し、撹拌混合して着色樹脂組成物を調製した。
ジペンタエリスリトールペンタ、ヘキサアクリレート 12質量部
4−ベンズオキソラン−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン(光重合開始剤) 0.5質量部
界面活性剤(商品名:テトラニック 150R1、BASF社) 0.2質量部
溶剤(表1記載) 100質量部
After the dispersion treatment, the following components were further added and mixed by stirring to prepare a colored resin composition.
Dipentaerythritol penta, hexaacrylate 12 parts by mass 4-Benzoxolane-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine (photopolymerization initiator) 0.5 parts by mass surfactant (trade name: Tetranic 150R1 , BASF) 0.2 parts by mass solvent (described in Table 1) 100 parts by mass

上記着色樹脂組成物を 550mm×650mmのガラス基板に下記条件でスリット塗布した後、10分間そのままの状態で待機させ、新しいガラス基板に塗布し、真空乾燥とプレベーク(prebake)(90℃ 60秒)を施し塗布状況を観察した。観察はナトリウムランプのもとでスジの発生状況を目視観察し、また80μmφ以上の大きさの異物を計数した。
スリット塗布条件
塗布ヘッド先端の開口部の間隙:50μm
塗布速度:100mm/秒
基板と塗布ヘッドとのクリヤランス:150μm
塗布厚(乾燥厚):2μm
塗布温度:23℃
結果を表1に示す。
The above colored resin composition was slit applied to a 550 mm × 650 mm glass substrate under the following conditions, then allowed to stand for 10 minutes, applied to a new glass substrate, vacuum dried and prebaked (90 ° C. 60 seconds) And the application status was observed. The observation was made by visually observing the occurrence of streaks under a sodium lamp, and counting foreign matters having a size of 80 μmφ or more.
Slit application condition Gap between the openings at the tip of the application head: 50 μm
Coating speed: 100 mm / second Clearance between substrate and coating head: 150 μm
Application thickness (dry thickness): 2 μm
Application temperature: 23 ° C
The results are shown in Table 1.

Figure 2005234045
Figure 2005234045

[実施例6、比較例5(インクジェット法]
上記のスリット塗布用に調製した着色樹脂組成物を550mm×650mmのガラス基板にピエゾ素子を用いてインクジェット法で開口部に吐出した。ガラス基板は20μm幅の樹脂BM(厚み1.5μm)を格子状〈開口100μm×200μm)に予め配置したものを用いた。吐出後に真空乾燥と加熱(200℃ 60秒)を施し塗布状況を観察した。最初に吐出して形成した画素と最終で形成した画素の色度をCIE色度のx値で表した。
結果を表2に示す。
[Example 6, Comparative Example 5 (inkjet method)
The colored resin composition prepared for the above-described slit coating was discharged onto the opening by an inkjet method using a piezo element on a 550 mm × 650 mm glass substrate. As the glass substrate, a 20 μm wide resin BM (thickness: 1.5 μm) arranged in advance in a lattice shape (opening: 100 μm × 200 μm) was used. After discharging, vacuum drying and heating (200 ° C. for 60 seconds) were performed, and the coating state was observed. The chromaticity of the pixel formed by discharging first and the pixel formed finally is expressed by x value of CIE chromaticity.
The results are shown in Table 2.

Figure 2005234045
Figure 2005234045

比較例のものは最初は所定量の吐出量があり目的の画素を形成できるが、断続して吐出するとノズルの目詰まりが発生し、吐出量が減っていることがわかる。異物も発生した。   The comparative example initially has a predetermined amount of discharge and can form a target pixel. However, it can be seen that nozzles are clogged and discharged when the discharge is intermittent. Foreign matter was also generated.

本発明の着色樹脂組成物は、基板にスリット塗布、インクジェット法による塗布する時の、スリットへッド、ノズルヘッド等の目詰まりを防止し、異物の発生を低減する。さらに回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の塗布方法によっても、平坦化性能(レベリング性)向上、分散安定性、分散性向上、気泡の発生防止という効果が期待できる。
従って、本発明の組成物は、カラーフィルター用の着色組成物として極めて有用である。
The colored resin composition of the present invention prevents clogging of slit heads, nozzle heads, and the like when applying slit coating to a substrate by an inkjet method, and reduces the generation of foreign matter. Furthermore, the effect of improving planarization performance (leveling property), improving dispersion stability, improving dispersibility, and preventing generation of bubbles can be expected also by application methods such as spin coating, cast coating, roll coating, and screen printing.
Therefore, the composition of the present invention is extremely useful as a coloring composition for a color filter.

Claims (5)

着色剤、樹脂成分及び溶剤を含有する着色樹脂組成物において、該溶剤中に沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤を10〜40質量%含有することを特徴とする着色樹脂組成物。   A colored resin composition comprising a colorant, a resin component, and a solvent, wherein the solvent contains 10 to 40% by mass of a high-boiling solvent having a boiling point of 180 ° C to 250 ° C. 高沸点溶剤が、その分子中に水酸基を有しないものである請求項1記載の着色樹脂組成物。   The colored resin composition according to claim 1, wherein the high boiling point solvent has no hydroxyl group in the molecule. 沸点が180℃〜250℃である高沸点溶剤が、次の(1)〜(8)から選ばれる1種又は2種以上である請求項1又は2記載の着色樹脂組成物。
(1)ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
(2)ジプロピレングリコールn−プロピルエーテルアセテート
(3)ジプロピレングリコールn−ブチルエーテルアセテート
(4)ブチルラクテート
(5)3,5,5−トリメチル−2−シクロへキセン−1−オン
(6)プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート
(7)トリプロピレングリコールメチルエーテルアセテート
(8)3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート
The colored resin composition according to claim 1 or 2, wherein the high-boiling solvent having a boiling point of 180 ° C to 250 ° C is one or more selected from the following (1) to (8).
(1) Dipropylene glycol monomethyl ether acetate (2) Dipropylene glycol n-propyl ether acetate (3) Dipropylene glycol n-butyl ether acetate (4) Butyl lactate (5) 3,5,5-trimethyl-2-cyclo Xen-1-one (6) Propylene glycol phenyl ether acetate (7) Tripropylene glycol methyl ether acetate (8) 3-methoxy-3-methylbutyl acetate
樹脂成分が光硬化性成分である請求項1、2又は3記載の着色樹脂組成物。   The colored resin composition according to claim 1, wherein the resin component is a photocurable component. 着色剤が顔料微粒子である請求項1〜4の何れか1項記載の着色樹脂組成物。   The colored resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the colorant is pigment fine particles.
JP2004040287A 2004-02-17 2004-02-17 Color resin composition Pending JP2005234045A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004040287A JP2005234045A (en) 2004-02-17 2004-02-17 Color resin composition
KR1020040105613A KR20050082146A (en) 2004-02-17 2004-12-14 Coloring resin composition
TW094104391A TWI396868B (en) 2004-02-17 2005-02-16 Colouring resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004040287A JP2005234045A (en) 2004-02-17 2004-02-17 Color resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005234045A true JP2005234045A (en) 2005-09-02

Family

ID=35017092

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004040287A Pending JP2005234045A (en) 2004-02-17 2004-02-17 Color resin composition

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2005234045A (en)
KR (1) KR20050082146A (en)
TW (1) TWI396868B (en)

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005301210A (en) * 2004-03-15 2005-10-27 Daicel Chem Ind Ltd Resist composition
JP2006162668A (en) * 2004-12-02 2006-06-22 Daicel Chem Ind Ltd Resist composition
JP2007114723A (en) * 2005-09-22 2007-05-10 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter
JP2007206699A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Samsung Electronics Co Ltd Color filter ink, method for producing color filter using the same, and color filter
JP2007225824A (en) * 2006-02-22 2007-09-06 Fujifilm Corp Ink-jet ink for color filter, color filter, production method thereof, and liquid crystal display device using the same
JP2007231248A (en) * 2006-02-01 2007-09-13 Daicel Chem Ind Ltd Pigment dispersion
JP2007256865A (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Colored resin composition, color filter using the same, and method for producing color filter
JP2007323064A (en) * 2006-05-02 2007-12-13 Fujifilm Corp COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
JP2008031248A (en) * 2006-07-27 2008-02-14 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition and method for forming cured coating film
JP2008065267A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive paste and plasma display panel having baked product pattern formed from the photosensitive paste
JP2008089743A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter
WO2008078676A1 (en) * 2006-12-25 2008-07-03 Az Electronic Materials (Japan) K.K. Pattern forming method and photosensitive resin composition used therefor
JP2008249822A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display
WO2008123340A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Light-shielding resin composition for color filter, and color filter
JP2008310009A (en) * 2007-06-14 2008-12-25 The Inctec Inc Photosensitive resin composition
JP2009013338A (en) * 2007-07-06 2009-01-22 Fujifilm Corp Coloring composition, color filter and display device
JP2009222761A (en) * 2008-03-13 2009-10-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, black matrix, color filter and liquid crystal display
JP2010044195A (en) * 2008-08-12 2010-02-25 Fujifilm Corp Colored composition, curable colored composition, color filter, and liquid crystal display device using color filter
CN101154038B (en) * 2006-09-29 2012-06-13 富士胶片株式会社 Curing colouration composition, color filtering device and liquid crystal display using the color filtering device
JP2014134813A (en) * 2007-03-29 2014-07-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, black matrix, color filter, and liquid crystal display
JP2014186266A (en) * 2013-03-25 2014-10-02 Goo Chemical Co Ltd Resin composition for solder resist and printed wiring board

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03252471A (en) * 1990-03-01 1991-11-11 Dainippon Ink & Chem Inc Printing ink
JPH0822121A (en) * 1994-07-06 1996-01-23 Konica Corp Pigment-dispersed photosensitive coating liquid, image forming material, and method for producing pigment-dispersed photosensitive coating liquid
JPH08220328A (en) * 1995-02-09 1996-08-30 Mitsubishi Chem Corp Polymerizable composition for color filter
JPH09157557A (en) * 1995-12-01 1997-06-17 Shiseido Co Ltd Variable-brilliancy composition, object coated therewith and method for coating object therewith
JPH1124245A (en) * 1997-07-07 1999-01-29 Sumitomo Chem Co Ltd Photosensitive liquid for forming a colored image and a method for producing a color filter using the same
JPH1138225A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for color filter
JP2003055566A (en) * 2001-08-23 2003-02-26 Mitsubishi Chemicals Corp Curable resin composition, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device
JP2003313596A (en) * 2002-04-24 2003-11-06 Asahi Kasei Corp Detergent for screen printing plate and method production for the same

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI300795B (en) * 2001-08-21 2008-09-11 Mitsubishi Chem Corp Curable resin composition for die coating and process for producing color filter

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03252471A (en) * 1990-03-01 1991-11-11 Dainippon Ink & Chem Inc Printing ink
JPH0822121A (en) * 1994-07-06 1996-01-23 Konica Corp Pigment-dispersed photosensitive coating liquid, image forming material, and method for producing pigment-dispersed photosensitive coating liquid
JPH08220328A (en) * 1995-02-09 1996-08-30 Mitsubishi Chem Corp Polymerizable composition for color filter
JPH09157557A (en) * 1995-12-01 1997-06-17 Shiseido Co Ltd Variable-brilliancy composition, object coated therewith and method for coating object therewith
JPH1124245A (en) * 1997-07-07 1999-01-29 Sumitomo Chem Co Ltd Photosensitive liquid for forming a colored image and a method for producing a color filter using the same
JPH1138225A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for color filter
JP2003055566A (en) * 2001-08-23 2003-02-26 Mitsubishi Chemicals Corp Curable resin composition, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device
JP2003313596A (en) * 2002-04-24 2003-11-06 Asahi Kasei Corp Detergent for screen printing plate and method production for the same

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005301210A (en) * 2004-03-15 2005-10-27 Daicel Chem Ind Ltd Resist composition
JP2006162668A (en) * 2004-12-02 2006-06-22 Daicel Chem Ind Ltd Resist composition
JP2007114723A (en) * 2005-09-22 2007-05-10 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter
TWI400561B (en) * 2005-09-22 2013-07-01 Jsr Corp The colored layer is formed with a sensitive radiation linear composition and a color filter
JP2007231248A (en) * 2006-02-01 2007-09-13 Daicel Chem Ind Ltd Pigment dispersion
JP2007206699A (en) * 2006-02-03 2007-08-16 Samsung Electronics Co Ltd Color filter ink, method for producing color filter using the same, and color filter
US7948585B2 (en) 2006-02-22 2011-05-24 Fujifilm Corporation Inkjet ink for color filter, color filter, methods of producing them, and liquid crystal display device using them
JP2007225824A (en) * 2006-02-22 2007-09-06 Fujifilm Corp Ink-jet ink for color filter, color filter, production method thereof, and liquid crystal display device using the same
JP2007256865A (en) * 2006-03-24 2007-10-04 Fujifilm Electronic Materials Co Ltd Colored resin composition, color filter using the same, and method for producing color filter
JP2007323064A (en) * 2006-05-02 2007-12-13 Fujifilm Corp COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
JP2008031248A (en) * 2006-07-27 2008-02-14 Daicel Chem Ind Ltd Curable resin composition and method for forming cured coating film
JP2008065267A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive paste and plasma display panel having baked product pattern formed from the photosensitive paste
JP2008089743A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter
CN101154038B (en) * 2006-09-29 2012-06-13 富士胶片株式会社 Curing colouration composition, color filtering device and liquid crystal display using the color filtering device
WO2008078676A1 (en) * 2006-12-25 2008-07-03 Az Electronic Materials (Japan) K.K. Pattern forming method and photosensitive resin composition used therefor
JP2008249822A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display
JP2014134813A (en) * 2007-03-29 2014-07-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, black matrix, color filter, and liquid crystal display
WO2008123340A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Light-shielding resin composition for color filter, and color filter
JP2008310009A (en) * 2007-06-14 2008-12-25 The Inctec Inc Photosensitive resin composition
JP2009013338A (en) * 2007-07-06 2009-01-22 Fujifilm Corp Coloring composition, color filter and display device
JP2009222761A (en) * 2008-03-13 2009-10-01 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Colored photosensitive resin composition, black matrix, color filter and liquid crystal display
JP2010044195A (en) * 2008-08-12 2010-02-25 Fujifilm Corp Colored composition, curable colored composition, color filter, and liquid crystal display device using color filter
JP2014186266A (en) * 2013-03-25 2014-10-02 Goo Chemical Co Ltd Resin composition for solder resist and printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050082146A (en) 2005-08-22
TWI396868B (en) 2013-05-21
TW200540464A (en) 2005-12-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5164409B2 (en) PHOTOCURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE
JP5219408B2 (en) Pigment dispersion composition, photocurable composition, color filter using the same, and method for producing color filter
JP2005234045A (en) Color resin composition
JP4393104B2 (en) Curable green composition for LCD and color filter
KR20080006452A (en) Color filter for colored resin compositions and liquid crystal display elements
JP4472287B2 (en) Color filter for LCD
JP2008040477A (en) Colored resin composition and color filter for liquid crystal display device using the same
JP4092376B2 (en) Photosensitive colored resin composition, method for producing the same, and method for producing color filter
JP4384452B2 (en) Photocurable coloring resin composition, color filter and method for producing the same
JP2004341121A (en) Photocurable composition for image sensor color filter, and image sensor color filter and method for manufacturing the same
JP2006098684A (en) Color filter and solid-state imaging device
KR101000374B1 (en) Photocurable compositions, components for liquid crystal display devices and components for solid-state image pickup devices using the same, and methods for manufacturing the same
JP5073557B2 (en) PHOTOCURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE
JP3893443B2 (en) Color filter composition
JP4210455B2 (en) Photocurable coloring composition and color filter
JP4652213B2 (en) Pigment dispersion composition, photocurable composition, and color filter
JP4717370B2 (en) Color filter
JP4652164B2 (en) Photocurable resin composition, photocurable colored resin composition, and color filter
JP4584009B2 (en) Photocurable composition and color filter using the same
JP4597638B2 (en) Method for producing photocurable composition, color filter, and method for evaluating photocurable composition
JP2007065640A (en) Photo-curable composition and photospacer for liquid crystal display device
JP4732210B2 (en) Colored resin composition, color filter using the same, and method for producing color filter
JP2007047756A (en) Photocurable composition, color filter, and method for producing same
JP5306291B2 (en) Cyan color filter and solid-state image sensor using the same
JP2013054381A (en) Cyan color photocurable composition and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070124

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100406

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100831

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101101

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110405