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JP2005220038A - Method for producing onium tetrakisacyloxyborate and its precursor - Google Patents

Method for producing onium tetrakisacyloxyborate and its precursor Download PDF

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JP2005220038A JP2004027103A JP2004027103A JP2005220038A JP 2005220038 A JP2005220038 A JP 2005220038A JP 2004027103 A JP2004027103 A JP 2004027103A JP 2004027103 A JP2004027103 A JP 2004027103A JP 2005220038 A JP2005220038 A JP 2005220038A
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Abstract

【課題】 エポキシ樹脂の硬化剤として有用なオニウムテトラキスアシロキシボレート及びその前駆体の製法であって、原料が安価で取扱いが容易であり、また精製操作も簡単で、収率良く目的物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 有機カルボン酸と水素化ホウ素ナトリウムを反応させてナトリウムテトラキスアシロキシボレートを製造する。またナトリウムテトラキスアシロキシボレートとオニウム塩を反応させてオニウムテトラキスアシロキシボレートを製造する。
【選択図】 なし

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an onium tetrakis acyloxyborate and a precursor thereof useful as a curing agent for an epoxy resin, the raw material is inexpensive, easy to handle, the purification operation is simple, and the target product is produced in a high yield. Provide a way to do it.
An organic carboxylic acid and sodium borohydride are reacted to produce sodium tetrakisacyloxyborate. Also, sodium tetrakis acyloxyborate and onium salt are reacted to produce onium tetrakis acyloxyborate.
[Selection figure] None

Description

本発明は、エポキシ樹脂の硬化触媒として有用なオニウムテトラキスアシロキシボレート及びその前駆体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing onium tetrakis acyloxyborate useful as an epoxy resin curing catalyst and a precursor thereof.

テトラ置換ホスホニウムテトラアシロキシボレートのようなオニウムテトラキスアシロキシボレート化合物がエポキシ樹脂等の硬化触媒となることは知られており、その効率的な製造方法も提案されている(特許文献1及び2)。前者の提案においては、テトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレートに有機酸を反応させる方法が開示されているが、使用する原料が高価であるあるいは安定性に劣る等の問題があり、また工業的に入手が容易なテトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートを原料として使用するときには、取扱いに注意を要するベンゼンを副生することが問題である。   It is known that onium tetrakisacyloxyborate compounds such as tetra-substituted phosphonium tetraacyloxyborate serve as curing catalysts for epoxy resins and the like, and efficient production methods thereof have also been proposed (Patent Documents 1 and 2). . In the former proposal, a method of reacting a tetra-substituted phosphonium tetra-substituted borate with an organic acid has been disclosed, but there are problems such as high raw materials used or poor stability, and industrial availability. When using easy tetraphenylphosphonium tetraphenylborate as a raw material, it is a problem that benzene which requires careful handling is by-produced.

後者の提案においては、有機カルボン酸のアミン塩と三ハロゲン化ホウ素を反応させてテトラキスアシロキシボレートアミン塩とした後、テトラ置換ホスホニウム塩等のオニウム塩を反応させる方法が開示されている。この提案ではテトラキスアシロキシボレートアミン塩の合成時にアミン塩が副生するため、この分離除去が必須となり、操作が煩雑となる。   In the latter proposal, a method is disclosed in which an amine salt of an organic carboxylic acid and boron trihalide are reacted to form a tetrakisacyloxyborate amine salt, and then an onium salt such as a tetra-substituted phosphonium salt is reacted. In this proposal, an amine salt is by-produced during the synthesis of the tetrakisacyloxyborate amine salt, so this separation and removal becomes essential, and the operation becomes complicated.

後者の公報においてはまた、上記反応において有機カルボン酸のアミン塩の代りにカリウム塩を使用した場合には、反応が進行しなかったことが示されている。またテトラキスアシロキシボレート化合物合成の従来技術として、無水酢酸存在下で、トリアセチルボレートと酢酸カリウムを反応させる方法が紹介されており(非特許文献1)、その追試が行われているが、目的生成物の収率が低いことが示されている。またこの方法における無水酢酸の代りに芳香族カルボン酸無水物を、また酢酸カリウムの代りに芳香族カルボン酸カリウムをそれぞれ用いた場合には、反応が進行しなかったことが示されている。さらにカリウムテトラキスアセトキシボレートとテトラフェニルホスホニウムブロマイドの反応でテトラフェニルホスホニウムテトラキスアセトキシボレートを得ているが、その収率が低いことが示されている。   The latter publication also shows that the reaction did not proceed when a potassium salt was used in the above reaction instead of the amine salt of the organic carboxylic acid. In addition, as a conventional technique for synthesizing tetrakisacyloxyborate compounds, a method of reacting triacetylborate and potassium acetate in the presence of acetic anhydride has been introduced (Non-Patent Document 1), and an additional test has been conducted. The product yield is shown to be low. It is also shown that the reaction did not proceed when aromatic carboxylic acid anhydride was used instead of acetic anhydride and potassium aromatic carboxylate was used instead of potassium acetate. Furthermore, tetraphenylphosphonium tetrakisacetoxyborate was obtained by the reaction of potassium tetrakisacetoxyborate and tetraphenylphosphonium bromide, but the yield was shown to be low.

特開平8−196911号公報JP-A-8-196911 特開2001−261684号公報JP 2001-261684 A I.G.ルイス、V.N.プラホトニク、無機化学ジャーナルVOL.13、2050(1968)I. G. Lewis, V.D. N. Prahotnik, Inorganic Chemistry Journal VOL. 13, 2050 (1968)

本発明者は、オニウムテトラキスアシロキシボレートの中でもとくにテトラフェニルホスホニウムテトラキスアロイルオキシボレートが上記硬化触媒として有用性が高いことを考慮し、それを工業的に有利に製造することが可能なオニウムテトラキスアシロキシボレートの合成法について検討を行った。その結果、ナトリウムテトラキスアシロキシボレートを経由する2段階の製造方法を見出すに至った。したがって本発明の目的は、原料が安価で取り扱いが容易であり、また精製操作が容易で、収率良くオニウムテトラキスアシロキシボレート及びその前駆体を製造する方法を提供するものである。   The present inventor considered that onium tetrakisacyloxyborate is particularly useful as the above-mentioned curing catalyst among onium tetrakisacyloxyborate, and onium tetrakis that can be advantageously produced industrially. The synthesis method of acyloxyborate was examined. As a result, a two-stage production method via sodium tetrakis acyloxyborate has been found. Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing onium tetrakisacyloxyborate and its precursor in a high yield, since the raw materials are inexpensive and easy to handle, and the purification operation is easy.

すなわち本発明によれば、有機カルボン酸と水素化ホウ素ナトリウムを反応させることを特徴とするナトリウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法が提供される。本発明においてはまた、このようにして製造することが可能なナトリウムテトラキスアシロキシボレートとオニウム塩を反応させることを特徴とするオニウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法が提供される。さらに本発明によれば、オニウムテトラキスアシロキシボレートの中でも硬化触媒として有用なオニウムテトラキスアロイルオキシボレートの前駆体であるナトリウムテトラキスアロイルオキシボレートが提供される。   That is, according to this invention, the manufacturing method of sodium tetrakis acyloxy borate characterized by making organic carboxylic acid and sodium borohydride react is provided. The present invention also provides a method for producing onium tetrakisacyloxyborate, characterized by reacting sodium tetrakisacyloxyborate and onium salt which can be produced in this manner. Furthermore, according to the present invention, sodium tetrakisaroyloxyborate which is a precursor of onium tetrakisaroyloxyborate useful as a curing catalyst among oniumtetrakisacyloxyborate is provided.

第1の発明で使用する水素化ホウ素ナトリウムは安価で、しかも適度な反応性と安定性を有しており、取扱いが容易である。加えて第1の発明の反応では、簡単な操作で高純度のナトリウムテトラキスアシロキシボレートを高収率で得ることができる。また第2の発明の反応においてもナトリウムテトラキスアシロキシボレートから、温和な反応条件と簡単な精製操作で、高純度のオニウムテトラキスアシロキシボレートを高収率で得ることができる。とりわけエポキシ樹脂の硬化触媒としてとくに有用なテトラフェニルホスホニウムテトラキスアロイルオキシボレートを、工業的に有利に製造することができる。   The sodium borohydride used in the first invention is inexpensive, has moderate reactivity and stability, and is easy to handle. In addition, in the reaction of the first invention, high-purity sodium tetrakisacyloxyborate can be obtained in a high yield by a simple operation. Also in the reaction of the second invention, high-purity onium tetrakisacyloxyborate can be obtained in high yield from sodium tetrakisacyloxyborate under mild reaction conditions and simple purification operation. In particular, tetraphenylphosphonium tetrakisaroyloxyborate particularly useful as a curing catalyst for epoxy resins can be advantageously produced industrially.

第1の発明においては、有機カルボン酸と水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)を反応させることによってナトリウムテトラキスアシロキシボレートを製造する。原料の有機カルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、フェニル酢酸のような脂肪族カルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸のような脂環族カルボン酸、安息香酸、p−トルイル酸、m−トルイル酸、o−トルイル酸、p−メトキシ安息香酸のような単環芳香族カルボン酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸のような2環芳香族カルボン酸などを例示することができる。第1の発明の反応においては、単環又は2環の芳香族カルボン酸を原料に用いても高収率で相当するナトリウムテトラキスアシロキシボレートを製造することができる。 In the first invention, sodium tetrakisacyloxyborate is produced by reacting an organic carboxylic acid with sodium borohydride (NaBH 4 ). Examples of organic carboxylic acids as raw materials include aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid and phenylacetic acid, alicyclic carboxylic acids such as cyclohexanecarboxylic acid, benzoic acid, p-toluic acid, m-toluic acid, Examples thereof include monocyclic aromatic carboxylic acids such as o-toluic acid and p-methoxybenzoic acid, and bicyclic aromatic carboxylic acids such as 1-naphthoic acid and 2-naphthoic acid. In the reaction of the first invention, even when a monocyclic or bicyclic aromatic carboxylic acid is used as a raw material, the corresponding sodium tetrakisacyloxyborate can be produced in high yield.

ナトリウムテトラキスアシロキシボレート製造における有機カルボン酸と水素化ホウ素ナトリウムの使用割合は、化学量論量、すなわち水素化ホウ素ナトリウム1モル当り、有機カルボン酸4モルの割合、あるいはそれより有機カルボン酸過剰の割合とするのが好ましい。有機カルボン酸の使用割合が化学量論量より少ない場合は、反応生成物が各種アシロキシボレートの混合物となり、純度の高いナトリウムテトラキスアシロキシボレートを得ることが難しくなる。   The proportion of organic carboxylic acid and sodium borohydride used in the production of sodium tetrakisacyloxyborate is stoichiometric, that is, 4 moles of organic carboxylic acid per mole of sodium borohydride, or an excess of organic carboxylic acid. A ratio is preferable. When the proportion of the organic carboxylic acid used is less than the stoichiometric amount, the reaction product becomes a mixture of various acyloxyborates, and it becomes difficult to obtain high-purity sodium tetrakisacyloxyborate.

上記第1の発明の反応は、無溶媒でも行うことができるが、水素ガスの急激な発生を抑え、反応を適正に制御するためには、反応に不活性な溶媒の共存下に行うことが好ましい。このような目的に使用できる溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレンなどの芳香族炭化水素を好適例として挙げることができる。溶媒の使用量にはとくに制限はないが、通常、原料有機カルボン酸の1〜20重量倍程度が適当である。   The reaction of the first invention can be carried out without a solvent, but in order to suppress the rapid generation of hydrogen gas and appropriately control the reaction, it can be carried out in the presence of a solvent inert to the reaction. preferable. Preferred examples of the solvent that can be used for such purposes include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, and mesitylene. Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a solvent, Usually, about 1-20 weight times of raw material organic carboxylic acid is suitable.

上記反応は、有機カルボン酸が液状を呈し、水素化ホウ素ナトリウムが反応媒体中で分散する条件下で行うことが好ましい。この反応はまた、副生する水素ガスを反応系から除きながら行うのが好ましい。反応温度は、有機カルボン酸の種類によっても異なるが、例えば50〜200℃であり、溶媒が還流する温度に設定すれば、反応の調整が容易となる。反応時間は、反応温度によっても異なるが、水素ガスの発生が認められなくなるまでの時間とするのが一般的で、通常1〜20時間程度である。   The above reaction is preferably performed under conditions where the organic carboxylic acid is in a liquid state and sodium borohydride is dispersed in the reaction medium. This reaction is also preferably performed while removing by-produced hydrogen gas from the reaction system. The reaction temperature varies depending on the type of organic carboxylic acid, but is, for example, 50 to 200 ° C. If the temperature is set to a temperature at which the solvent is refluxed, the reaction can be easily adjusted. The reaction time varies depending on the reaction temperature, but is generally the time until generation of hydrogen gas is not recognized, and is usually about 1 to 20 hours.

上記反応においては、副生物である水素ガスは反応系から容易に排気除去できるため、精製工程においては特殊な操作を必要としない。すなわち反応液を必要に応じ冷却して固形の粗生成物を分取し、これをトルエン等の溶媒で洗浄して真空乾燥するのみで、未反応の有機酸や溶媒の残余分が除去され、高純度のナトリウムテトラキスアシロキシボレートを収率良く得ることができる。   In the above reaction, hydrogen gas as a by-product can be easily removed from the reaction system by exhaust, so that no special operation is required in the purification process. That is, the reaction liquid is cooled as necessary to collect a solid crude product, which is washed with a solvent such as toluene and vacuum-dried to remove the unreacted organic acid and the remaining solvent, High purity sodium tetrakis acyloxyborate can be obtained with good yield.

第2の発明の反応では、上記のような方法により製造することができるナトリウムテトラキスアシロキシボレートをテトラ置換ホスホニウム塩、テトラ置換アンモニウム塩、トリ置換スルホニウム塩などのオニウム塩と反応させてオニウムテトラキスアシロキシボレートを製造するものである。これらオニウム塩としては、置換基がアルキル基、シクロアルキル基、アリール基などの炭化水素基であり、また塩としては、塩化物、臭化物、沃化物などのハロゲン化物である。エポキシ樹脂の硬化触媒としての有用性から考慮すると、置換基がフェニル基、トリル基などのアリール基であることが好ましく、また収率、コスト等を考慮すると塩化物又は臭化物の使用が好ましい。とくに好ましいのは、テトラアリール置換ホスホニウム塩、とりわけテトラフェニルホスホニウムブロマイドである。   In the reaction of the second invention, sodium tetrakisacyloxyborate, which can be produced by the method as described above, is reacted with an onium salt such as a tetra-substituted phosphonium salt, a tetra-substituted ammonium salt, or a tri-substituted sulfonium salt to produce onium tetrakisua. Siloxyborate is produced. In these onium salts, the substituents are hydrocarbon groups such as alkyl groups, cycloalkyl groups, and aryl groups, and the salts are halides such as chlorides, bromides, and iodides. In view of the usefulness of the epoxy resin as a curing catalyst, the substituent is preferably an aryl group such as a phenyl group or a tolyl group, and chloride or bromide is preferably used in consideration of yield, cost, and the like. Particularly preferred are tetraaryl substituted phosphonium salts, especially tetraphenylphosphonium bromide.

ナトリウムテトラキスアシロキシボレートとオニウム塩の反応においては、経済性、収率、精製の容易性などを考慮すると、前者1モルに対し、後者1モル、あるいはそれより僅かに過剰量とするのが好ましい。すなわちこの反応はナトリウム塩を副生する反応であるので、反応終了後の精製において水洗浄でこれを分離除去するのが最も有効である。この場合、ナトリウムテトラキスアシロキシボレート及び生成物のオニウムテトラキスアシロキシボレートが共に水に難溶性であるため、ナトリウムテトラキスアシロキシボレートを過剰に使用するとこれが生成物中に混入してくるので、高純度の目的物を得ることが難しいためである。オニウム塩が過剰の場合は、これが水溶性であるためこのような問題はなく、精製は容易である。   In the reaction between sodium tetrakisacyloxyborate and an onium salt, it is preferable to use 1 mol of the latter or a slight excess of the former with respect to 1 mol of the former in consideration of economy, yield, ease of purification, and the like. . That is, since this reaction is a reaction that produces a sodium salt as a by-product, it is most effective to separate and remove this by washing with water in the purification after completion of the reaction. In this case, both sodium tetrakisacyloxyborate and the product onium tetrakisacyloxyborate are sparingly soluble in water, so excessive use of sodium tetrakisacyloxyborate will contaminate the product, resulting in high purity. This is because it is difficult to obtain the desired object. If the onium salt is in excess, it is soluble in water, so there is no such problem and purification is easy.

上記反応はまた、ナトリウムテトラキスアシロキシボレート及びオニウム塩が共に室温で固体のため、それぞれを溶媒に溶解し、滴下によって反応を行うのが好ましい。滴下はナトリウムテトラキスアシロキシボレート溶液及びオニウム塩溶液のどちらに対して行ってもよく、とくに加熱の必要もない。滴下終了後は、反応溶液を15〜30℃で30分間程度攪拌することによって反応を完結させることができる。   In the above reaction, since sodium tetrakis acyloxyborate and onium salt are both solid at room temperature, it is preferable to carry out the reaction by dissolving them in a solvent and adding them dropwise. The dripping may be performed on either the sodium tetrakis acyloxyborate solution or the onium salt solution, and there is no need for heating. After completion of the dropping, the reaction can be completed by stirring the reaction solution at 15 to 30 ° C. for about 30 minutes.

このような目的に使用することができる溶媒としては、反応終了後に減圧下で分離除去するためには、あまり沸点の高いものを使用すべきではない。また原料のナトリウムテトラキスアシロキシボレート及びオニウム塩を溶解し、生成物のオニウムテトラキスアシロキシボレートに対して難溶性の溶媒を使用することが望ましい。このような溶媒を使用すれば、前記滴下後に、反応溶液が速やかに懸濁するため目的物の生成を目視で観察することができるし、また生成物の分離も容易である。使用可能な溶媒の例としては、例えばテトラヒドロフランのような環状エーテル、メチルイソブチルケトンのようなケトン、酢酸エチルのようなエステル、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素などを挙げることができる。溶媒の使用量は任意であるが、通常原料の1〜20重量倍程度の範囲とするのが経済的である。   As a solvent that can be used for such a purpose, a solvent having a very high boiling point should not be used for separation and removal under reduced pressure after completion of the reaction. It is also desirable to dissolve the raw material sodium tetrakisacyloxyborate and onium salt and use a solvent that is sparingly soluble in the product onium tetrakisacyloxyborate. When such a solvent is used, since the reaction solution is suspended quickly after the dropping, the production of the target product can be visually observed, and the product can be easily separated. Examples of solvents that can be used include cyclic ethers such as tetrahydrofuran, ketones such as methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane. The amount of the solvent used is arbitrary, but it is economical to make it usually in the range of about 1 to 20 times the weight of the raw material.

反応によって得られる懸濁液から目的とするオニウムテトラキスアシロキシボレートを回収するには、先ず減圧下で溶媒を除去し、次いで水洗浄することによって得られる固形分を減圧乾燥すればよい。溶媒の除去はできるだけ完全に行うことが好ましく、さもないと残った溶媒が目的物を溶解して収率を若干低下させることがある。上記水洗浄によって、反応で副生したナトリウム塩及び未反応オニウム塩を水溶液として除去することができる。以上のような簡単な手法により、ナトリウムテトラキスアシロキシボレートからオニウムテトラキスアシロキシボレートを収率良く得ることができる。とくにナトリウムテトラキスアロイルオキシボレートとテトラ置換ホスホニウム塩から、高純度のテトラ置換ホスホニウムテトラキスアロイルオキシボレートを高収率で得ることができる。   In order to recover the target onium tetrakis acyloxyborate from the suspension obtained by the reaction, first, the solvent is removed under reduced pressure, and then the solid content obtained by washing with water may be dried under reduced pressure. The removal of the solvent is preferably performed as completely as possible, otherwise the remaining solvent may dissolve the target product and reduce the yield slightly. By the water washing, the sodium salt and unreacted onium salt by-produced by the reaction can be removed as an aqueous solution. By the simple method as described above, onium tetrakisacyloxyborate can be obtained in good yield from sodium tetrakisacyloxyborate. In particular, high-purity tetra-substituted phosphonium tetrakisaroyloxyborate can be obtained in high yield from sodium tetrakisaroyloxyborate and a tetra-substituted phosphonium salt.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to this Example.

[実施例1]
ジムロート冷却器を装着した容量500mlのフラスコにトルエン100ml、安息香酸10.38g(85ミリモル)及び水素化ホウ素ナトリウム0.76g(20ミリモル)を仕込み、75℃に加熱して1時間攪拌した。このとき発生する水素ガスは、系外に除去した。次に反応溶液を110℃に加熱して1時間攪拌を行うことにより、反応を完結させた。
[Example 1]
A 500 ml flask equipped with a Dimroth condenser was charged with 100 ml of toluene, 10.38 g (85 mmol) of benzoic acid and 0.76 g (20 mmol) of sodium borohydride, heated to 75 ° C. and stirred for 1 hour. The hydrogen gas generated at this time was removed out of the system. Next, the reaction solution was heated to 110 ° C. and stirred for 1 hour to complete the reaction.

反応溶液を冷却後、濾過により得られたケーキをトルエンで洗浄し、これを真空加熱乾燥してナトリウムテトラ安息香酸ボレート9.74g(水素化ホウ素ナトリウム基準で、収率94%)を得た。   After cooling the reaction solution, the cake obtained by filtration was washed with toluene, and dried under vacuum to obtain 9.74 g of sodium tetrabenzoate borate (yield 94% based on sodium borohydride).

こうして得られたナトリウムテトラ安息香酸ボレート2.59g(5ミリモル)を100mlフラスコに入れ、アセトン20mlを入れて溶解させた。これにメタノール10mlに溶解させたテトラフェニルホスホニウムブロマイド2.14g(5.1ミリモル)の溶液を室温で滴下した。この時反応溶液は懸濁した。滴下終了後、これを室温で30分間攪拌した。   2.59 g (5 mmol) of sodium tetrabenzoate borate thus obtained was placed in a 100 ml flask, and 20 ml of acetone was added and dissolved. To this was added dropwise a solution of 2.14 g (5.1 mmol) of tetraphenylphosphonium bromide dissolved in 10 ml of methanol at room temperature. At this time, the reaction solution was suspended. After completion of the dropwise addition, this was stirred at room temperature for 30 minutes.

反応終了後、反応液から減圧下に溶媒除去し、得られた粗ケーキに水30mlを加えて30分間攪拌した。これを濾過して反応副生物の臭化ナトリウムを水溶液として除去した後、ケーキを水洗浄して真空加熱乾燥することにより、目的生成物のテトラフェニルホスホニウムテトラ安息香酸ボレート3.96g(ナトリウムテトラ安息香酸ボレート基準で、収率95%)を得た。   After completion of the reaction, the solvent was removed from the reaction solution under reduced pressure, and 30 ml of water was added to the resulting crude cake and stirred for 30 minutes. This was filtered to remove sodium bromide as a reaction by-product as an aqueous solution, and the cake was washed with water and dried under vacuum heating to give 3.96 g of tetraphenylphosphonium tetrabenzoate borate (sodium tetrabenzoate). Yield 95% based on acid borate).

[実施例2]
ジムロート冷却器を装着した容量500mlのフラスコにトルエン100ml、1−ナフトエ酸13.94g(81ミリモル)及び水素化ホウ素ナトリウム0.76g(20ミリモル)を仕込み、75℃に加熱して1時間攪拌した。このとき発生する水素ガスは、系外に除去した。次に反応溶液を110℃に加熱して1時間攪拌を行うことにより、反応を完結させた。
[Example 2]
A 500 ml flask equipped with a Dimroth condenser was charged with 100 ml of toluene, 13.94 g (81 mmol) of 1-naphthoic acid and 0.76 g (20 mmol) of sodium borohydride, heated to 75 ° C. and stirred for 1 hour. . The hydrogen gas generated at this time was removed out of the system. Next, the reaction solution was heated to 110 ° C. and stirred for 1 hour to complete the reaction.

反応溶液を冷却後、濾過により得られたケーキをトルエンで洗浄し、これを真空加熱乾燥してナトリウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレート12.72g(水素化ホウ素ナトリウム基準で、収率89%)を得た。   After cooling the reaction solution, the cake obtained by filtration was washed with toluene and dried in vacuo to obtain 12.72 g of sodium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate (yield 89% based on sodium borohydride). Obtained.

こうして得られたナトリウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレート3.59g(5ミリモル)を100mlフラスコに入れ、アセトン20mlを入れて溶解させた。これにメタノール10mlに溶解させたテトラフェニルホスホニウムブロマイド2.14g(5.1ミリモル)の溶液を室温で滴下した。この時反応溶液は懸濁した。滴下終了後、これを室温で30分間攪拌した。   3.59 g (5 mmol) of sodium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate thus obtained was placed in a 100 ml flask and dissolved in 20 ml of acetone. To this was added dropwise a solution of 2.14 g (5.1 mmol) of tetraphenylphosphonium bromide dissolved in 10 ml of methanol at room temperature. At this time, the reaction solution was suspended. After completion of the dropwise addition, this was stirred at room temperature for 30 minutes.

反応終了後、反応液から減圧下に溶媒除去し、得られた粗ケーキに水30mlを加えて30分間攪拌した。これを濾過して反応副生物の臭化ナトリウムを水溶液として除去した後、ケーキを水洗浄して真空加熱乾燥することにより、目的生成物のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレート5.00g(ナトリウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレート基準で、収率97%)を得た。   After completion of the reaction, the solvent was removed from the reaction solution under reduced pressure, and 30 ml of water was added to the resulting crude cake and stirred for 30 minutes. This was filtered to remove sodium bromide as a reaction by-product as an aqueous solution, and the cake was washed with water and dried under vacuum heating to obtain 5.00 g of the target product tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate ( The yield was 97% based on sodium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate).

また分析結果の一例として、実施例2で得られたナトリウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートにつき11B−NMRによる分光分析を行い、リン酸水溶液を外部基準として0ppmに設定して重水素化ジメチルスルホキシドを測定溶媒として測定した。そのNMRチャートを図1に示す。図1に示すように、化学シフト値1.82ppmに単一のシングレットが現れており、生成物が単一成分のホウ素化合物であることが明らかである。 As an example of the analysis results, the sodium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate obtained in Example 2 was subjected to spectroscopic analysis by 11 B-NMR, and the deuterated dimethyl sulfoxide was set to 0 ppm with an aqueous phosphoric acid solution as an external reference. Was measured as a measurement solvent. The NMR chart is shown in FIG. As shown in FIG. 1, a single singlet appears at a chemical shift value of 1.82 ppm, and it is clear that the product is a single component boron compound.

また実施例2のテトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートを11B−NMR及び質量分析によって同定した。その分析結果を以下に示す。 Further, tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate of Example 2 was identified by 11 B-NMR and mass spectrometry. The analysis results are shown below.

11B−NMRによる測定は、リン酸水溶液を外部基準として0ppmに設定して重水素化ジメチルスルホキシドを測定溶媒に用いて行なわれた。そのNMRチャートを図2に示す。図2に示すように、化学シフト値1.82ppmに単一のシングレットを示し、生成物が単一成分のホウ素化合物であることことを示した。 The measurement by 11 B-NMR was performed using a deuterated dimethyl sulfoxide as a measurement solvent with an aqueous phosphoric acid solution set to 0 ppm with an external reference. The NMR chart is shown in FIG. As shown in FIG. 2, a single singlet was shown at a chemical shift value of 1.82 ppm, indicating that the product was a single component boron compound.

質量分析は、電界脱離法(FD)、高速電子衝突法(FAB)により、それぞれ正イオンと負イオンを測定した。正イオンモードではテトラフェニルホスホニウムイオンであることを示す質量数339のピークが検出され(図3)、負イオンモードでは、テトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレート部の親イオンであることを示す質量数695のピークが検出された(図4)。   In mass spectrometry, positive ions and negative ions were measured by a field desorption method (FD) and a fast electron impact method (FAB), respectively. In the positive ion mode, a peak having a mass number of 339 indicating a tetraphenylphosphonium ion is detected (FIG. 3), and in the negative ion mode, a mass number of 695 indicating a parent ion of a tetrakis (1-naphthoyloxy) borate part. Were detected (FIG. 4).

また示差熱分析(DSC)についても測定が行われ、241℃に鋭い吸熱を有しており、生成物が高い純度であることを示した(図5)。   Differential thermal analysis (DSC) was also measured and had a sharp endotherm at 241 ° C., indicating that the product was of high purity (FIG. 5).

実施例2において調製したナトリウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートの11B−NMRチャートを示す図面であるIt is drawing which shows the 11 B-NMR chart of sodium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate prepared in Example 2. 実施例2で調製したテトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートの11B−NMRチャートを示す図面である。1 is a drawing showing an 11 B-NMR chart of tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate prepared in Example 2. FIG. 上記テトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートの質量分析(正イオンモード)チャートを示す図面である。It is drawing which shows the mass spectrometry (positive ion mode) chart of the said tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate. 上記テトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートの質量分析(負イオンモード)チャートを示す図面である。It is drawing which shows the mass spectrometry (negative ion mode) chart of the said tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate. 上記テトラフェニルホスホニウムテトラキス(1−ナフトイロキシ)ボレートの示差熱分析(DSC)チャートを示す図面である。It is drawing which shows the differential thermal analysis (DSC) chart of the said tetraphenylphosphonium tetrakis (1-naphthoyloxy) borate.

Claims (6)

有機カルボン酸と水素化ホウ素ナトリウムを反応させることを特徴とするナトリウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法。   A process for producing sodium tetrakisacyloxyborate, which comprises reacting an organic carboxylic acid with sodium borohydride. 有機カルボン酸が、芳香族カルボン酸である請求項1記載のナトリウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法。   The method for producing sodium tetrakisacyloxyborate according to claim 1, wherein the organic carboxylic acid is an aromatic carboxylic acid. ナトリウムテトラキスアシロキシボレートとオニウム塩を反応させることを特徴とするオニウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法。   A process for producing onium tetrakisacyloxyborate, characterized by reacting sodium tetrakisacyloxyborate with an onium salt. ナトリウムテトラキスアシロキシボレートが、ナトリウムテトラキスアロイルオキシボレートである請求項3記載のオニウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法。   The method for producing onium tetrakisacyloxyborate according to claim 3, wherein the sodium tetrakisacyloxyborate is sodium tetrakisaroyloxyborate. オニウム塩がテトラ置換ホスホニウム塩である請求項3又は4記載のオニウムテトラキスアシロキシボレートの製造方法。   The method for producing onium tetrakisacyloxyborate according to claim 3 or 4, wherein the onium salt is a tetra-substituted phosphonium salt. ナトリウムテトラキスアロイルオキシボレート。
Sodium tetrakisaroyloxyborate.
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