JP2005260484A - 圧電共振器およびそれを備えた電子部品 - Google Patents
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Abstract
【課題】 複数のトランスデューサが積層形成された構造の圧電共振器において通過特性の広帯域化を図ること。
【解決手段】 圧電膜13,14ならびに圧電膜13,14の両面にそれぞれ形成された第1の電極膜15a,16aおよび第2の電極膜15b,16bで構成されて相互に積層配置された第1および第2のトランスデューサ17,18を有し、圧電膜13,14の内部を伝搬するバルク波により所定の共振周波数の信号を得る圧電共振器10であって、バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化するようにする。例えば、第1のトランスデューサ17の面積と第2のトランスデューサ18の面積とを相互に異ならせる。
【選択図】 図1
【解決手段】 圧電膜13,14ならびに圧電膜13,14の両面にそれぞれ形成された第1の電極膜15a,16aおよび第2の電極膜15b,16bで構成されて相互に積層配置された第1および第2のトランスデューサ17,18を有し、圧電膜13,14の内部を伝搬するバルク波により所定の共振周波数の信号を得る圧電共振器10であって、バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化するようにする。例えば、第1のトランスデューサ17の面積と第2のトランスデューサ18の面積とを相互に異ならせる。
【選択図】 図1
Description
本発明は圧電共振器およびそれを備えた電子部品に関し、特に、トランスデューサが積層されてなる圧電共振器における通過特性の広帯域化に適用して有効な技術に関するものである。
近年、高速大容量通信への対応のため、小型で低損失かつ広帯域な通過帯域幅を有するフィルタへの需要が高まっている。この要求に応えるものとして、小型で低損失な特徴を有する弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)フィルタおよびSAWフィルタを用いたアンテナ分波器が多用されている。しかしながら、さらなる高速大容量通信への要求から、使用する周波数の高周波化が図られようとしている。
SAWフィルタは、圧電基板上に、伝搬させる弾性表面波の波長λの1/4程度幅もつ電極指を交互に配置した交差指状電極を用いて弾性表面波を励振・受信するものである。2GHz帯のシステムで使用されているSAWフィルタの電極指線幅は、およそ0.4μm程度である。そして、さらなる高周波化に対応するには、0.4μm以下の電極指を精度よく加工する必要があり、製造性が著しく低下する可能性が大きい。
なお、SAWフィルタについては、たとえば特開平5−167388号公報に開示されている
こういった状況の中、たとえば特開2003−22074号公報に記載のように、バルク波(Bulk Acoustic Wave)を用いるデバイスの一種である圧電薄膜を用いたトランスデューサ(BAWデバイス)が注目されている。BAWデバイスの動作周波数は、入出力電極で挟んだ圧電膜の厚みで決まる。
ここで、従来のセラミックや水晶を用いたトランスデューサフィルタでは、精度よく圧電膜を薄く加工することが困難であるため、高周波の用途には用いられなかった。そして、薄膜トランスデューサフィルタは、圧電膜をスパッタ等の成膜装置を用いて形成するため、所望の厚みの圧電膜を容易に得ることができ、高周波化に優位性を有している。また、薄膜トランスデューサフィルタで使用する電極は平板電極であることから、SAWフィルタのように、細い電極を使用する必要がないため、大電力の信号を扱うことが可能となる。
従来の積層型トランスデューサからなる圧電共振器を図9に示す。
図示するように、圧電共振器40は、たとえばシリコンからなる基板11上に、相互に音響インピーダンスの異なる第1の反射膜12aおよび第2の反射膜12bが交互に積層された音響多層反射膜12が形成され、この音響多層反射膜12上に、第1の電極膜20a、圧電膜21および第2の電極膜20bを順次積層してトランスデューサ22を形成したものからなる。そして、このように圧電膜21を上下の電極膜20a,20bで挟むトランスデューサ22を平面的に複数配置し、それぞれのトランスデューサ22を電気的にラダー型接続してフィルタや分波器を構成していた。
特開平5−167388号公報
特開2003−22074号公報
しかしながら、このような構造のフィルタでは、通常5から7個程度のトランスデューサを用いるため、(トランスデューサ数×トランスデューサの面積)以下のチップ面積を実現することはできなかった。
また、圧電膜を2つ以上積層して立体的にトランスデューサを配置した積層トランスデューサフィルタ(SCF:Stacked Crystals Filter)や、トランスデューサの間に伝搬層を設けた多重モードトランスデューサフィルタ(CRF:Coupled Resonator Filter)が知られているが、SCFは、狭帯域のフィルタとなることから広帯域には不向きであり、CRFは、多重モードを用いるため広帯域化には有利であるが、今後の高速大容量通信への展開によるさらなる広帯域化には十分とは言えない。
そこで、本発明は、複数のトランスデューサが積層形成された構造の圧電共振器における通過特性の広帯域化を図ることのできる技術を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る圧電共振器は、圧電膜ならびに当該圧電膜の両面にそれぞれ形成された第1の電極膜および第2の電極膜で構成されて相互に積層配置された複数のトランスデューサを含み、前記圧電膜の内部を伝搬するバルク波により所定の共振周波数の信号を得る圧電共振器であって、前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化していることを特徴とする。
本発明の好ましい形態において、少なくとも一部の前記トランスデューサの面積が相互に異なることで前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化することを特徴とする。
本発明のさらに好ましい形態において、前記トランスデューサは、交互に積層形成された所定の音響インピーダンスを有する第1の反射膜およびこの第1の反射膜と異なる音響インピーダンスを有する第2の反射膜から構成されて前記バルク波を反射する音響多層反射膜上に形成され、前記音響多層反射膜に接した前記トランスデューサの面積が他の前記トランスデューサの面積よりも狭くなっていることを特徴とする。
本発明のさらに好ましい形態において、前記トランスデューサの間に伝搬層が形成され、当該伝搬層の面積が少なくとも一部の前記トランスデューサの面積と異なることで前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化することを特徴とする。
本発明のさらに好ましい形態において、前記伝搬層の面積は少なくとも一部の前記トランスデューサの面積よりも狭くなっていることを特徴とする。
本発明のさらに好ましい形態において、前記トランスデューサは、交互に積層形成された所定の音響インピーダンスを有する第1の反射膜およびこの第1の反射膜と異なる音響インピーダンスを有する第2の反射膜から構成されて前記バルク波を反射する音響多層反射膜上に形成され、前記伝搬層の面積は、前記音響多層反射膜に接した前記トランスデューサ以外のトランスデューサの面積と同一であることを特徴とする。
本発明のさらに好ましい形態において、前記圧電共振器は、SMR型圧電共振器またはダイヤフラム型圧電共振器であることを特徴とする。
そして、上記課題を解決するため、本発明に係る電子部品は、このような圧電共振器を備えたことを特徴とする。
本発明によれば以下の効果を奏することができる。
すなわち、本発明によれば、バルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向に変化しているので、広帯域な通過特性を有する圧電共振器を実現することが可能になる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しつつさらに具体的に説明する。ここで、添付図面において同一の部材には同一の符号を付しており、また、重複した説明は省略されている。なお、ここでの説明は本発明が実施される最良の形態であることから、本発明は当該形態に限定されるものではない。
(実施の形態1)
図1は本発明の実施の形態1における圧電共振器を示す斜視図、図2は図1の圧電共振器の周波数特性を示すグラフ、図3は本発明に対する比較例としての圧電共振器を示す斜視図、図4は図3の圧電共振器の周波数特性を示すグラフである。
図1に示す圧電共振器10はSMR(Solidly Mounted Resonator)型圧電共振器と呼ばれるもので、シリコンやガラスからなる基板11の片面に、音響インピーダンスが高い薄膜と低い薄膜、たとえばAlN膜(第1の反射膜)12aとSiO2膜(第2の反射膜)12bとが交互に積層されてなる音響多層反射膜12が形成されている。なお、図示する場合には、AlN膜12aが基板11の直上に形成されて交互に積層されているが、以下に説明する場合を含め、SiO2膜12bが基板11の直上に形成されて交互に積層されていてもよい。
音響多層反射膜12上には、2層の圧電膜13,14が積層方向に形成されており、音響多層反射膜12側に位置する一方の圧電膜13の両面には、下部電極(第1の電極膜)15aと上部電極(第2の電極膜)15bとがそれぞれ形成されている。また、他方の圧電膜14の両面には、圧電膜13の上部電極(第2の電極膜)15bと共用する下部電極(第1の電極膜)16aと上部電極(第2の電極膜)16bとがそれぞれ形成されている。そして、圧電膜13とこの圧電膜13の両側に位置する下部電極15aと上部電極15bとで第1のトランスデューサ17が構成され、圧電膜14とこの圧電膜14の両側に位置する下部電極16aと上部電極16bとで第2のトランスデューサ18が構成されている。
そして、図示するように、第1のトランスデューサ17の面積は、第2のトランスデューサ18の面積に比べて狭く形成されている。なお、図1に示す場合には音響多層反射膜12に接した第1のトランスデューサ17の面積が第2のトランスデューサ18の面積よりも狭くなっているが、逆に第1のトランスデューサ17の面積の方が広くなっていてもよい。
電極15a,15b(16a),16bは例えばAl、Au、Pt、Moなどからなり、圧電膜13,14は例えばAlNやZnOなどからなる。
なお、音響多層反射膜12は形成されていなくてもよく、この場合には基板11上に直接下部電極15aが形成される。
なお、以下に説明する場合を含め、本発明ではトランスデューサは2つに限定されるものではなく、複数が相互に積層配置されていればよい。そして、トランスデューサが3つ以上積層配置されている場合では、トランスデューサの面積は相互に全てが異なっていてもよいが、一部のみが異なっていてもよい。
また、同じく以下に説明する場合を含め、トランスデューサ17,18や後述する伝搬層の形状は矩形となっているが、正方形、円形、楕円等、どのような形状であってもよい。
ここで、膜中を伝搬する音波の波長をλとしたとき、AlN膜12aおよびSiO2膜12bの厚さは波長λの1/4にほぼ等しく、つまり当該圧電共振器10の共振周波数付近において、それぞれの膜を伝搬する音波の波長λの1/4となるよう設定されている。
なお、本実施の形態において、第1の反射膜であるAlN膜12aの膜厚は0.64μm、第2の反射膜であるSiO2膜12bの膜厚は1.2μmとなっている。また、2つの圧電膜13,14はAlNからなり、その膜厚は2.25μm、第1のトランスデューサ17の面積は0.026mm2、第2のトランスデューサ18の面積は0.1mm2となっている。但し、本発明がこれらの数値に限定されるものではないことはもちろんである。
以上の構成を有する圧電共振器10において、電極15b(16a)に接地電位を印加し、第1のトランスデューサ17の下部電極15aに入力信号を印加すると、入力信号の周波数とそれぞれの層におけるバルク波の速度で決まる音響的位相長の合計がn×λ/2(n=1,2,3・・・)を満たすとき(共振周波数)、定在波が励振されて第2のトランスデューサの電極16a,16b間に強い信号が現れる。それ以外の周波数では定在波が励振されず、よってほとんど信号が伝送されない。これにより、所定の周波数帯域を通過帯域とするフィルタ特性が得られる。
そして、前述のように、本実施の形態の圧電共振器10では第1のトランスデューサ17の面積が第2のトランスデューサ18の面積に比べて狭くなっているので、バルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向(つまり、積層方向)には一定ではなくなっている。すなわち、バルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向に対して変化している。
なお、本明細書において、バルク波の伝搬面積とは、バルク波の伝搬方向と直交する方向で、且つ実際にバルク波が伝搬する領域の断面積を指す概念である。
図1に示す圧電共振器10の周波数特性を図2に示す。
図示するように、2つの通過域が現れている。この2つの通過域は、音響位相長がλおよび(3/2)λに対応する共振ピークである。なお、(1/2)λの共振ピークは(1/4)λ反射膜の反射帯域から外れているため観測されない。そして、図2に示す場合には、各通過域のピーク間の周波数差は360MHz程度となっている。
ここで、比較例としての圧電共振器30を図3に、その周波数特性を図4に示す。
図示する圧電共振器30は、図1に示す本実施の形態の圧電共振器10と異なり、第1のトランスデューサ17の面積と第2のトランスデューサ18の面積とが等しくなっている。したがって、バルク波の伝搬面積はバルク波の伝搬方向に対して変化しておらず、一定である。なお、図3において、第1の反射膜であるAlN膜12aの膜厚は0.64μm、第2の反射膜であるSiO2膜12bの膜厚は1.2μm、AlNからなる圧電膜13,14の膜厚は2.25μm、そして第1のトランスデューサ17と第2のトランスデューサ18の面積は何れも0.026mm2となっている。
そして、このような圧電共振器30の周波数特性は、図4に示すように、2つの通過域におけるピーク間の周波数差は600MHz程度と大きく、したがって非常に狭帯域な通過特性となっている。これでは2つのピークを利用した広範な通過帯域を得ることは困難である。
これに対して、本実施の形態の圧電共振器10では、前述のように第1のトランスデューサ17の面積を第2のトランスデューサ18の面積より狭くしてバルク波の伝搬面積をバルク波の伝搬方向に対して変化させているので、定在波が励振される各モードの縮退が生じる。その結果、図2に示すように、ピーク間の周波数差が360MHz程度と図4に示す比較例の周波数差に比べて小さくなっている。
そして、このような特性であれば、外部回路等により所定のインピーダンスに整合を施せば、この周波数差を含む帯域を通過帯域とする極めて広帯域な周波数性を得ることが可能になる。
(実施の形態2)
図5は本発明の実施の形態2における圧電共振器を示す斜視図、図6は図5の圧電共振器の周波数特性を示すグラフである。
図5に示す圧電共振器10では、第1のトランスデューサ17と第2のトランスデューサ18との間に、例えばSiO2や絶縁性アルミナなどの誘電体材料からなる伝搬層19が形成されている。そして、第1のトランスデューサ17と第2のトランスデューサ18とは同一の面積で、伝搬層19の面積がトランスデューサ17,18の面積よりも狭くなっており、これによりバルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向に対して変化している。
なお、伝搬層19の面積は全てのトランスデューサに対して異なっていてもよいが、一部のみのトランスデューサに対して異なっていてもよい。つまり、一部のトランスデューサとは同一の面積であってもよい。また、図示する場合には伝搬層19の面積の方が狭くなっているが、逆に伝搬層19の面積の方が広くなっていてもよい。さらに、伝搬層19の面積を異ならせる手段として、本実施の形態のように伝搬層19の外形をトランスデューサ17,18と異ならせるのではなく、伝搬層19の外形はトランスデューサ17,18と一致させ、伝搬層の内部を適当に間引くことにより異ならせてもよい。
本実施の形態において、第1の反射膜であるAlN膜12aの膜厚は0.64μm、第2の反射膜であるSiO2膜12bの膜厚は1.2μmとなっている。また、2つの圧電膜13,14はAlNからなり、その膜厚は2.25μm、第1のトランスデューサ17および第2のトランスデューサ18の面積は0.1mm2となっている。そして、伝搬層19の膜厚は0.55μm、面積が0.085mm2となっている。但し、本発明がこれらの数値に限定されるものではないことはもちろんである。
図5に示す圧電共振器10の周波数特性を図6に示す。
本実施の形態の圧電共振器10では、伝搬層19の面積をトランスデューサ17,18の面積と異ならせてバルク波の伝搬面積をバルク波の伝搬方向に対して変化させているので、定在波が励振される各モードの縮退が生じる。その結果、図6の実線に示すように、ピーク間の周波数差が160MHz程度と、実施の形態1に示す場合よりも一層小さくなっている。
そして、これにより、外部回路等により所定のインピーダンスに整合を施せば、この周波数差を含む帯域を通過帯域とする極めて広帯域な周波数性を得ることが可能になる。
整合回路として、入出力に5nHの直列のインダクタンス素子Lを付加した場合の周波数特性を図6の点線で示す。図示するように、2dB帯域幅で200MHz程度の広帯域な通過特性を得られていることが分かる。
(実施の形態3)
図7は本発明の実施の形態3における圧電共振器を示す斜視図、図8は図7の圧電共振器の周波数特性を示すグラフである。
図7に示す圧電共振器10では、第1のトランスデューサ17と第2のトランスデューサ18との間に形成された伝搬層19の面積は、音響多層反射膜12に接した第1のトランスデューサ17より狭く、この第1のトランスデューサ17以外のトランスデューサである第2のトランスデューサ18と同一の面積となっている。そして、これによりバルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向に対して変化している。
本実施の形態において、第1の反射膜であるAlN膜12aの膜厚は0.6μm、第2の反射膜であるSiO2膜12bの膜厚は1.1μmとなっている。また、AlNからなる圧電膜13の膜厚は2.25μm、同じくAlNからなる圧電膜14の膜厚は1.95μm、第1のトランスデューサ17の面積は0.1mm2、伝搬層19および第2のトランスデューサ18の面積は0.065mm2、伝搬層19の膜厚は0.55μmとなっている。但し、本発明がこれらの数値に限定されるものではないことはもちろんである。
図7に示す圧電共振器10の周波数特性を図8に示す。
本実施の形態の圧電共振器10では、伝搬層19の面積を第1のトランスデューサ17より狭く、かつ第2のトランスデューサ18と同一にしてバルク波の伝搬面積をバルク波の伝搬方向に対して変化させているので、定在波が励振される各モードの縮退が生じる。その結果、図8の実線に示すように、ピーク間の周波数差が230MHz程度と小さくなっている。
そして、これにより、外部回路等により所定のインピーダンスに整合を施せば、この周波数差を含む帯域を通過帯域とする極めて広帯域な周波数性を得ることが可能になる。
整合回路としてインダクタンス素子Lを付加した場合の周波数特性を図8の点線で示す。図示するように、2dB帯域幅で490MHz程度の広帯域な通過特性を得られていることが分かる。
以上の説明では、第1のトランスデューサ17の面積を第2のトランスデューサ18の面積よりも狭く形成することにより(実施の形態1)、伝搬層19の面積を第1および第2のトランスデューサ17,18の面積よりも狭く形成することにより(実施の形態2)、第2のトランスデューサ18と伝搬層19の面積を第1のトランスデューサ17より狭く形成することにより(実施の形態3)、それぞれバルク波の伝搬面積をバルク波の伝搬方向に対して変化させているが、本発明はこれらの面積の広狭パターンに限定されるものではなく、少なくとも何れか一つのトランスデューサまたは伝搬層の面積が他と異なっていればよく、バルク波の伝搬面積がバルク波の伝搬方向に対して変化する限り、面積の広狭は種々のパターンで実現することができる。
以上の説明においては、本発明をSMR型の圧電共振器に適用した場合について説明したが、本発明は、基板の一部を切り欠いてバルク波を伝搬しやすくしたダイヤフラム型の圧電共振器など、圧電膜を用いた積層型の圧電共振器全般に適用することができる。
なお、ダイヤフラム型の圧電共振器にあっても、SMR型の圧電共振器と同様に音響多層膜は形成されていても、いなくてもよい。但し、音響多層膜が形成されていないダイヤフラム型の圧電共振器では、下部電極の振動部分をほぼ自由振動させるために、SMR型の圧電共振器とは異なり、下部電極の直下の基板はエッチングなどにより除去されて存在しない。
また、本発明は、以上に説明した圧電共振器を備えたフィルタや分波器などの電子部品に適用することができる。
10 圧電共振器
11 基板
12 音響多層反射膜
12a AlN膜(第1の反射膜)
12b SiO2膜(第2の反射膜)
13,14 圧電膜
15a 下部電極(第1の電極膜)
15b 上部電極(第2の電極膜)
16a 下部電極(第1の電極膜)
16b 上部電極(第2の電極膜)
17 第1のトランスデューサ
18 第2のトランスデューサ
19 伝搬層
20a 第1の電極膜
20b 第2の電極膜
21 圧電膜
22 トランスデューサ
30 圧電共振器
40 圧電共振器
L インダクタンス素子
11 基板
12 音響多層反射膜
12a AlN膜(第1の反射膜)
12b SiO2膜(第2の反射膜)
13,14 圧電膜
15a 下部電極(第1の電極膜)
15b 上部電極(第2の電極膜)
16a 下部電極(第1の電極膜)
16b 上部電極(第2の電極膜)
17 第1のトランスデューサ
18 第2のトランスデューサ
19 伝搬層
20a 第1の電極膜
20b 第2の電極膜
21 圧電膜
22 トランスデューサ
30 圧電共振器
40 圧電共振器
L インダクタンス素子
Claims (8)
- 圧電膜ならびに当該圧電膜の両面にそれぞれ形成された第1の電極膜および第2の電極膜で構成されて相互に積層配置された複数のトランスデューサを含み、前記圧電膜の内部を伝搬するバルク波により所定の共振周波数の信号を得る圧電共振器であって、
前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化していることを特徴とする圧電共振器。 - 少なくとも一部の前記トランスデューサの面積が相互に異なることで前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化することを特徴とする請求項1記載の圧電共振器。
- 前記トランスデューサは、交互に積層形成された所定の音響インピーダンスを有する第1の反射膜およびこの第1の反射膜と異なる音響インピーダンスを有する第2の反射膜から構成されて前記バルク波を反射する音響多層反射膜上に形成され、
前記音響多層反射膜に接した前記トランスデューサの面積が他の前記トランスデューサの面積よりも狭くなっていることを特徴とする請求項2記載の圧電共振器。 - 前記トランスデューサの間に伝搬層が形成され、当該伝搬層の面積が少なくとも一部の前記トランスデューサの面積と異なることで前記バルク波の伝搬面積が当該バルク波の伝搬方向に変化することを特徴とする請求項1記載の圧電共振器。
- 前記伝搬層の面積は少なくとも一部の前記トランスデューサの面積よりも狭くなっていることを特徴とする請求項4記載の圧電共振器。
- 前記トランスデューサは、交互に積層形成された所定の音響インピーダンスを有する第1の反射膜およびこの第1の反射膜と異なる音響インピーダンスを有する第2の反射膜から構成されて前記バルク波を反射する音響多層反射膜上に形成され、
前記伝搬層の面積は、前記音響多層反射膜に接した前記トランスデューサ以外のトランスデューサの面積と同一であることを特徴とする請求項5記載の圧電共振器。 - 前記圧電共振器は、SMR型圧電共振器またはダイヤフラム型圧電共振器であることを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の圧電共振器。
- 請求項7に記載の圧電共振器を備えたことを特徴とする電子部品。
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