JP2005117019A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005117019A JP2005117019A JP2004200101A JP2004200101A JP2005117019A JP 2005117019 A JP2005117019 A JP 2005117019A JP 2004200101 A JP2004200101 A JP 2004200101A JP 2004200101 A JP2004200101 A JP 2004200101A JP 2005117019 A JP2005117019 A JP 2005117019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- block
- adhesive tape
- manufacturing
- semiconductor device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H10P72/7402—
-
- H10W72/071—
-
- H10P54/00—
-
- H10P72/0442—
-
- H10W95/00—
-
- H10P72/7416—
-
- H10P72/742—
-
- H10W72/536—
-
- H10W72/5363—
-
- H10W72/5522—
-
- H10W72/884—
-
- H10W74/00—
-
- H10W90/732—
-
- H10W90/734—
-
- H10W90/754—
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Dicing (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
【解決手段】 ダイシングテープ4に貼り付けられたチップ1を剥離する吸着駒102の中心部には、ダイシングテープ4を上方に突き上げる3個のブロック110a〜110cが組み込まれている。ブロック110a〜110cは、直径が最も大きい第1のブロック110aの内側に、それよりも径の小さい第2のブロック110bが配置され、さらにその内側に最も径の小さい第3のブロック110cが配置されている。ブロック110a〜110cをダイシングテープ4の裏面に突き当ててチップ1を剥離するには、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げる。
【選択図】 図20
Description
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前期第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいるものである。
本実施の形態は、配線基板上にチップを実装する半導体パッケージの製造に適用したものであり、その製造方法を図1〜図25を用いて工程順に説明する。
前記実施の形態1では、まず最初に3個のブロック110a〜110cを同時に上方に突き上げ、次に中間のブロック110bと内側のブロック110cをさらに上方に突き上げ、最後に内側のブロック110cをさらに上方に突き上げることによって、チップ1とダイシングテープ4とを剥離する方法を採用している。
前記実施の形態1では、剥離の対象となるチップ1が正方形である場合について説明したが、縦と横の長さが異なる長方形のチップ1を剥離する場合には、例えば図31に示すように、大きさが異なる3個の長方形のブロック210a〜210cを使用する。これにより、チップ1にかかる曲げ応力を軽減しながら、チップ1とダイシングテープ4との剥離起点に応力を集中させ、効率的に剥離を進行させることができる。このとき、最も径の大きい外側のブロック210aは、剥離の対象となるチップ1よりも一回り径の小さいものを使用し、チップ1の最外周部に強い荷重がかからないようにすることが望ましい。
図39は、本実施の形態で使用する吸着駒502の断面図、図40は、この吸着駒502の上面近傍の拡大斜視図である。
1A 半導体ウエハ
1A’ チップ形成領域
2 ボンディングパッド
3 バックグラインドテープ
4 ダイシングテープ(感圧テープ)
5 ウエハリング
6 ダイシングブレード
7 押さえ板
8 エキスパンドリング
10 接着剤
11 配線基板
12 Auワイヤ
13 電極
14 半導体チップ
15 Auワイヤ
16 電極
17 モールド樹脂
18 積層パッケージ
100 チップ剥離装置
101 ステージ
102 吸着駒
103 吸引口
104 溝
105 吸着コレット
106 吸着口
110a〜110c ブロック
111a、111b 圧縮コイルばね
112 プッシャ
210a〜210c ブロック
310a〜310c ブロック
311 切り欠き溝
410a〜410c ブロック
502 吸着駒
503 吸引口
504 溝
510a ブロック
510b 振動ブロック
511 圧縮コイルばね
512 振動子
513 共鳴部
514 圧電素子
515 ストッパ
S 隙間
Claims (25)
- 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重を加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
前記粘着テープに荷重を加える工程は、第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第2工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の上面の面積が前記半導体チップの面積より小さいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記粘着テープに荷重を加える工程において、前記剥離の対象となる半導体チップに隣接する他の半導体チップの裏面上の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の上面および第2の上面は平坦であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップは、縦と横の長さが異なる長方形であり、前記第1の突き上げブロックの前記上面は、縦と横の長さが異なる長方形であることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の上面の曲率半径および前記第2の上面の曲率半径は、それぞれの上面の角部の曲率半径に比較して大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ時間は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ時間よりも短いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面による前記粘着テープの押し上げ速度は、前記第1の上面による前記粘着テープの押し上げ速度よりも遅いことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数の突き上げブロックを用いて前記粘着テープに荷重を加える際、前記半導体チップを吸着、保持する前記吸着コレットを前記半導体チップの上面に押し付けることによって、前記半導体チップに下向きの荷重を加えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面を突き上げる工程の後、前記半導体チップを吸着、保持している前記吸着コレットを上方に引き上げ、次いで前記第2の突き上げブロックを下方に下げることを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面の一部に切り欠き溝が設けられていることを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の上面の形状が長方形であり、前記上面の中央部の幅が他部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの上面と前記吸着コレットとが接触する部分の面積を、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面の面積より大きくすることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2工程の後、前記半導体チップを前記吸着コレットの吸引力で上方に引き上げる第3工程と、前記第2の突き上げブロックの前記第2の上面を下方に下げる第4工程とをさらに有し、
前記第3工程を前記第4工程に先立って行うことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第3工程において、前記半導体チップを上方に引き上げる速度を可変にすることを特徴とする請求項17記載の半導体装置の製造方法。
- 主面に集積回路が形成された半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼り付けた後、前記半導体ウエハをダイシングして複数の半導体チップに分割する工程と、
前記粘着テープに貼り付けられた前記複数の半導体チップのうち、剥離の対象となる半導体チップの上面を吸着コレットで吸着、保持した状態で、前記剥離の対象となる半導体チップの下方の前記粘着テープに上向きの荷重と振動とを加えることにより、前記半導体チップを前記粘着テープから剥離する工程とを含み、
第1の上面と、前記第1の上面の周囲の角部とを有する第1の突き上げブロックと、
前記第1の上面の内側に配置された第2の上面と、前記第2の上面の周囲の角部と、発振手段とを有する第2の突き上げブロックとを準備する工程と、
前記第1および第2の上面を、前記粘着テープの裏面に同時に突き当てることによって、前記粘着テープを上方に押し上げる第1工程と、
前記第1工程の後、または前記第1工程と同時に、前記第2の突き上げブロックを振動させることによって、前記粘着テープに振動を加える第2工程と、
前記第2工程の後、前記第2の突き上げブロックを振動させながら、前記第2の上面を、前記第1の上面よりも上方に突き上げることによって、前記粘着テープをさらに上方に押し上げる第3工程とを含んでいることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記振動は、前記粘着テープの面に対して垂直方向の縦振動であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記振動の周波数は1kHz〜100kHzの範囲であり、振幅は1μm〜50μmの範囲であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1工程において、前記第2の上面の高さは、前記第1の上面の高さよりも、前記縦振動の振幅の1/2以上高いことを特徴とする請求項20記載の半導体装置の製造方法。
- 前記粘着テープは、テープ基材と、前記テープ基材の一面に塗布された感圧粘着剤とからなることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体チップの厚さは、100μm以下であることを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1および第2の突き上げブロックのそれぞれの間には、隙間が設けられており、前記半導体チップに荷重を加える際、前記隙間の内部を減圧することによって、前記半導体チップの裏面の前記粘着テープを下方に吸引することを特徴とする請求項19記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004200101A JP4574251B2 (ja) | 2003-09-17 | 2004-07-07 | 半導体装置の製造方法 |
| TW093126528A TW200512847A (en) | 2003-09-17 | 2004-09-02 | Method of manufacturing semiconductor device |
| KR1020040074158A KR101244482B1 (ko) | 2003-09-17 | 2004-09-16 | 반도체 장치의 제조 방법 |
| CN2008101357379A CN101320678B (zh) | 2003-09-17 | 2004-09-17 | 制造半导体器件的方法 |
| US10/942,889 US7115482B2 (en) | 2003-09-17 | 2004-09-17 | Method of manufacturing semiconductor device |
| CNB2004100797049A CN100495650C (zh) | 2003-09-17 | 2004-09-17 | 制造半导体器件的方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003324838 | 2003-09-17 | ||
| JP2004200101A JP4574251B2 (ja) | 2003-09-17 | 2004-07-07 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005117019A true JP2005117019A (ja) | 2005-04-28 |
| JP4574251B2 JP4574251B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=34277750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004200101A Expired - Fee Related JP4574251B2 (ja) | 2003-09-17 | 2004-07-07 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7115482B2 (ja) |
| JP (1) | JP4574251B2 (ja) |
| KR (1) | KR101244482B1 (ja) |
| CN (2) | CN101320678B (ja) |
| TW (1) | TW200512847A (ja) |
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007042996A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
| WO2007026497A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Shibaura Mechatronics Corporation | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| JP2007109936A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法 |
| JP2007109680A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shinkawa Ltd | ダイピックアップ装置 |
| JP2007115934A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品突き上げ装置及び電子部品の供給方法 |
| JP2007158103A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shibuya Kogyo Co Ltd | チップ突き上げ装置 |
| JP2007201259A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装装置 |
| JP2008004936A (ja) * | 2006-06-19 | 2008-01-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 一対のイジェクタを具備する半導体チップの脱着装置及びこれを利用した半導体チップの脱着方法 |
| JP2008141068A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Shibaura Mechatronics Corp | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| JP2009004403A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| US7629231B2 (en) | 2006-05-23 | 2009-12-08 | Renesas Technology Corp. | Fabrication method of semiconductor device |
| JP2009289785A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2010114441A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Esec Ag | ダイエジェクタ |
| JP2010135544A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Canon Machinery Inc | 剥離装置及び剥離方法 |
| JP2010212509A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Shibaura Mechatronics Corp | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| US7888141B2 (en) | 2007-06-19 | 2011-02-15 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| JP2012039153A (ja) * | 2011-11-09 | 2012-02-23 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| US20130071956A1 (en) * | 2011-09-19 | 2013-03-21 | Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. | Die Bonder and Bonding Method |
| JP2013214739A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Vesi Switzerland Ag | 金属箔から半導体チップを剥離する方法 |
| JP2013219403A (ja) * | 2013-08-02 | 2013-10-24 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2015198251A (ja) * | 2014-04-01 | 2015-11-09 | プロテック カンパニー リミテッドProtec Co., Ltd. | チップデタッチング装置およびチップデタッチング方法 |
| WO2016151911A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | リンテック株式会社 | 半導体加工用シートおよび半導体装置の製造方法 |
| JP2018120938A (ja) * | 2017-01-25 | 2018-08-02 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| KR20200105753A (ko) | 2019-03-01 | 2020-09-09 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| JP2020161534A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2021016004A (ja) * | 2020-11-18 | 2021-02-12 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2021077686A (ja) * | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 株式会社ディスコ | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 |
| KR20210108306A (ko) | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 다이 본딩 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 및 박리 장치 |
| JP2022075586A (ja) * | 2020-11-04 | 2022-05-18 | サムス カンパニー リミテッド | ボンディング設備におけるダイ移送のための装置及び方法 |
| WO2022123645A1 (ja) * | 2020-12-08 | 2022-06-16 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置 |
| CN114792647A (zh) * | 2021-01-26 | 2022-07-26 | 捷进科技有限公司 | 芯片贴装装置以及半导体器件的制造方法 |
| JP2024092928A (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-08 | 梭特科技股▲分▼有限公司 | 押出手段と気圧制御手段を組み合わせるダイの剥離方法 |
| WO2025234300A1 (ja) * | 2024-05-07 | 2025-11-13 | 株式会社新川 | ピックアップユニット、実装装置及びピックアップ方法 |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4270212B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2009-05-27 | セイコーエプソン株式会社 | 基板間隔調整装置、基板間隔調整方法、および液晶表示装置の製造方法 |
| TWI339358B (en) * | 2005-07-04 | 2011-03-21 | Hitachi Ltd | Rfid tag and manufacturing method thereof |
| JP2007142128A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
| CN1975995B (zh) * | 2005-11-30 | 2010-09-29 | 嘉盛马来西亚公司 | 用于将单切单元传输到收集器中的设备和方法 |
| JP4777761B2 (ja) * | 2005-12-02 | 2011-09-21 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割方法 |
| WO2007086064A2 (en) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Camtek Ltd | Diced wafer adaptor and a method for transferring a diced wafer |
| US7557036B2 (en) * | 2006-03-30 | 2009-07-07 | Intel Corporation | Method, system, and apparatus for filling vias |
| US7412892B1 (en) | 2007-06-06 | 2008-08-19 | Measurement Specialties, Inc. | Method of making pressure transducer and apparatus |
| US7757742B2 (en) * | 2007-07-31 | 2010-07-20 | Asm Assembly Automation Ltd | Vibration-induced die detachment system |
| WO2009109447A2 (de) * | 2008-02-29 | 2009-09-11 | Oerlikon Assembly Equipment Ag, Steinhausen | Chip-auswerfer |
| CH699851A1 (de) * | 2008-11-05 | 2010-05-14 | Esec Ag | Chip-Auswerfer und Verfahren zum Ablösen und Entnehmen eines Halbleiterchips von einer Folie. |
| JP2012508460A (ja) * | 2008-11-12 | 2012-04-05 | エセック アーゲー | フォイルからの半導体チップの剥離及び取外し方法 |
| JP2011129740A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ分割装置およびレーザー加工機 |
| CN101740451B (zh) * | 2009-12-23 | 2011-12-07 | 广东志成华科光电设备有限公司 | 芯片分拣设备的顶针机构 |
| JP2011216529A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置の製造方法 |
| US8409925B2 (en) * | 2011-06-09 | 2013-04-02 | Hung-Jen LEE | Chip package structure and manufacturing method thereof |
| JP2013065757A (ja) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Toshiba Corp | 半導体チップのピックアップ方法及び半導体チップのピックアップ装置 |
| JP6086763B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-03-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | コレットクリーニング方法及びそれを用いたダイボンダ |
| CN103730333B (zh) * | 2013-12-23 | 2016-04-20 | 华中科技大学 | 一种多顶针芯片剥离装置 |
| JP6301203B2 (ja) * | 2014-06-02 | 2018-03-28 | 株式会社ディスコ | チップの製造方法 |
| CN104210719A (zh) * | 2014-09-04 | 2014-12-17 | 无锡市张泾宇钢机械厂 | 不干胶贴标机的标签分离装置 |
| CN104163276A (zh) * | 2014-09-04 | 2014-11-26 | 无锡市张泾宇钢机械厂 | 不干胶贴标机的分段式标签分离装置 |
| CN106999119B (zh) * | 2014-09-24 | 2023-03-24 | B.布劳恩梅尔松根股份公司 | 封装纸作为稳定化装置的使用 |
| KR101732074B1 (ko) | 2015-09-24 | 2017-05-02 | 신진정공 주식회사 | 투명관체의 유격구조가 형성된 유체 공급관 |
| JP6797569B2 (ja) * | 2016-06-13 | 2020-12-09 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| CN207398111U (zh) * | 2017-03-31 | 2018-05-22 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 元件剥离装置 |
| JP6967411B2 (ja) * | 2017-09-19 | 2021-11-17 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置、半導体装置の製造方法およびコレット |
| JP7112205B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2022-08-03 | 株式会社ディスコ | 分割装置 |
| KR102165569B1 (ko) * | 2018-10-15 | 2020-10-14 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝팅 장치 |
| CH715447B1 (de) * | 2018-10-15 | 2022-01-14 | Besi Switzerland Ag | Chip-Auswerfer. |
| KR102220339B1 (ko) * | 2019-05-29 | 2021-02-25 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝팅 장치 |
| KR102284150B1 (ko) * | 2019-08-06 | 2021-07-30 | 세메스 주식회사 | 다이 본딩 방법 및 다이 본딩 장치 |
| KR102220344B1 (ko) * | 2019-09-06 | 2021-02-25 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치 |
| KR102221707B1 (ko) * | 2019-09-20 | 2021-03-02 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치 |
| KR102244580B1 (ko) * | 2019-11-08 | 2021-04-26 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치 |
| US11615979B2 (en) * | 2019-12-18 | 2023-03-28 | Disco Corporation | Method of processing wafer |
| KR102304258B1 (ko) * | 2020-03-06 | 2021-09-23 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝터 및 이를 포함하는 다이 픽업 장치 |
| KR102177863B1 (ko) * | 2020-08-07 | 2020-11-11 | 변영기 | 칩 필름 단계적 박리장치 |
| CN114334701A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 亿光电子(中国)有限公司 | 电子元件的剥离方法和应用其的超声波振动装置 |
| KR102840340B1 (ko) * | 2021-02-17 | 2025-07-31 | 가부시키가이샤 신가와 | 반도체 다이의 픽업 장치 및 픽업 방법 |
| CN116093012A (zh) * | 2023-02-13 | 2023-05-09 | 东莞触点智能装备有限公司 | 一种多自由度顶升结构、分离方法及固晶设备 |
| CN119176305A (zh) * | 2023-06-21 | 2024-12-24 | 纬创资通(重庆)有限公司 | 除膜设备与揭膜机构 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255937A (ja) * | 1987-04-14 | 1988-10-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | チツプ実装装置 |
| JPH04196342A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-16 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体ウエハダイシング用フィルム |
| JPH05109869A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Sony Corp | ダイボンデイング装置 |
| JPH11297793A (ja) * | 1998-04-06 | 1999-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | チップ突き上げ装置及びそれを用いたダイボンディング装置 |
| JP2003133391A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-09 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの剥離方法及び装置 |
| JP2004039865A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Fujitsu Ltd | 半導体チップ剥離装置およびその方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3613838B2 (ja) * | 1995-05-18 | 2005-01-26 | 株式会社デンソー | 半導体装置の製造方法 |
| JP3955659B2 (ja) * | 1997-06-12 | 2007-08-08 | リンテック株式会社 | 電子部品のダイボンディング方法およびそれに使用されるダイボンディング装置 |
| JP2000353710A (ja) | 1999-06-14 | 2000-12-19 | Toshiba Corp | ペレットピックアップ装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2002050670A (ja) * | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Toshiba Corp | ピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| JP4021614B2 (ja) * | 2000-12-11 | 2007-12-12 | 株式会社東芝 | 半導体素子のピックアップ用治具、半導体素子のピックアップ装置、半導体素子のピックアップ方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 |
| JP3870803B2 (ja) * | 2002-01-09 | 2007-01-24 | 株式会社村田製作所 | チップ部品供給装置 |
-
2004
- 2004-07-07 JP JP2004200101A patent/JP4574251B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-02 TW TW093126528A patent/TW200512847A/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-09-16 KR KR1020040074158A patent/KR101244482B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-17 CN CN2008101357379A patent/CN101320678B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-17 US US10/942,889 patent/US7115482B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2004-09-17 CN CNB2004100797049A patent/CN100495650C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255937A (ja) * | 1987-04-14 | 1988-10-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | チツプ実装装置 |
| JPH04196342A (ja) * | 1990-11-28 | 1992-07-16 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体ウエハダイシング用フィルム |
| JPH05109869A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Sony Corp | ダイボンデイング装置 |
| JPH11297793A (ja) * | 1998-04-06 | 1999-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | チップ突き上げ装置及びそれを用いたダイボンディング装置 |
| JP2003133391A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-09 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの剥離方法及び装置 |
| JP2004039865A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Fujitsu Ltd | 半導体チップ剥離装置およびその方法 |
Cited By (64)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007042996A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
| WO2007026497A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Shibaura Mechatronics Corporation | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| KR100990418B1 (ko) | 2005-08-31 | 2010-10-29 | 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 칩의 픽업 장치 및 픽업 방법 |
| JP5201990B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2013-06-05 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 半導体チップのピックアップ装置 |
| JP2007109680A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shinkawa Ltd | ダイピックアップ装置 |
| JP2007109936A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | チップピックアップ装置およびチップピックアップ方法ならびにチップ剥離装置およびチップ剥離方法 |
| KR101218662B1 (ko) | 2005-10-14 | 2013-01-18 | 파나소닉 주식회사 | 칩 픽업 장치, 칩 픽업 방법, 칩 박리 장치 및 칩 박리방법 |
| JP2007115934A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品突き上げ装置及び電子部品の供給方法 |
| JP2007158103A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shibuya Kogyo Co Ltd | チップ突き上げ装置 |
| JP2007201259A (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の実装装置 |
| US8703583B2 (en) | 2006-05-23 | 2014-04-22 | Renesas Electronics Corporation | Fabrication method of semiconductor device |
| US7629231B2 (en) | 2006-05-23 | 2009-12-08 | Renesas Technology Corp. | Fabrication method of semiconductor device |
| JP2008004936A (ja) * | 2006-06-19 | 2008-01-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 一対のイジェクタを具備する半導体チップの脱着装置及びこれを利用した半導体チップの脱着方法 |
| JP2008141068A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Shibaura Mechatronics Corp | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| US8492173B2 (en) | 2007-06-19 | 2013-07-23 | Renesas Electonics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| US8003495B2 (en) | 2007-06-19 | 2011-08-23 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| JP2009004403A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| US7888141B2 (en) | 2007-06-19 | 2011-02-15 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| US8372665B2 (en) | 2007-06-19 | 2013-02-12 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| US8222050B2 (en) | 2007-06-19 | 2012-07-17 | Renesas Electronics Corporation | Manufacturing method for semiconductor integrated device |
| JP2009289785A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Renesas Technology Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2010114441A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Esec Ag | ダイエジェクタ |
| JP2010135544A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Canon Machinery Inc | 剥離装置及び剥離方法 |
| JP2010212509A (ja) * | 2009-03-11 | 2010-09-24 | Shibaura Mechatronics Corp | 半導体チップのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
| US20130071956A1 (en) * | 2011-09-19 | 2013-03-21 | Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. | Die Bonder and Bonding Method |
| US8727202B2 (en) * | 2011-09-19 | 2014-05-20 | Hitachi High-Tech Instruments Co., Ltd. | Die bonder and bonding method |
| JP2012039153A (ja) * | 2011-11-09 | 2012-02-23 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2013214739A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-17 | Vesi Switzerland Ag | 金属箔から半導体チップを剥離する方法 |
| JP2013219403A (ja) * | 2013-08-02 | 2013-10-24 | Renesas Electronics Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JP2015198251A (ja) * | 2014-04-01 | 2015-11-09 | プロテック カンパニー リミテッドProtec Co., Ltd. | チップデタッチング装置およびチップデタッチング方法 |
| WO2016151911A1 (ja) * | 2015-03-23 | 2016-09-29 | リンテック株式会社 | 半導体加工用シートおよび半導体装置の製造方法 |
| JP2018120938A (ja) * | 2017-01-25 | 2018-08-02 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| KR20200105753A (ko) | 2019-03-01 | 2020-09-09 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| US11569118B2 (en) | 2019-03-25 | 2023-01-31 | Fasford Technology Co., Ltd. | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method for semiconductor device |
| KR20240083136A (ko) | 2019-03-25 | 2024-06-11 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| KR20200115135A (ko) | 2019-03-25 | 2020-10-07 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| US12374576B2 (en) | 2019-03-25 | 2025-07-29 | Fasford Technology Co., Ltd. | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacturing method for semiconductor device |
| JP2020161534A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| CN111739818B (zh) * | 2019-03-25 | 2024-05-31 | 捷进科技有限公司 | 半导体制造装置以及半导体器件的制造方法 |
| TWI747162B (zh) * | 2019-03-25 | 2021-11-21 | 日商捷進科技有限公司 | 半導體製造裝置及半導體裝置之製造方法 |
| KR20210153584A (ko) | 2019-03-25 | 2021-12-17 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| KR20230042000A (ko) | 2019-03-25 | 2023-03-27 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| JP7274902B2 (ja) | 2019-03-25 | 2023-05-17 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| CN111739818A (zh) * | 2019-03-25 | 2020-10-02 | 捷进科技有限公司 | 半导体制造装置以及半导体器件的制造方法 |
| JP2021077686A (ja) * | 2019-11-06 | 2021-05-20 | 株式会社ディスコ | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 |
| JP7486264B2 (ja) | 2019-11-06 | 2024-05-17 | 株式会社ディスコ | ピックアップ方法、及び、ピックアップ装置 |
| KR20210108306A (ko) | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 파스포드 테크놀로지 주식회사 | 다이 본딩 장치, 반도체 장치의 제조 방법, 및 박리 장치 |
| JP7333807B2 (ja) | 2020-11-04 | 2023-08-25 | サムス カンパニー リミテッド | ボンディング設備におけるダイ移送のための装置及び方法 |
| JP2022075586A (ja) * | 2020-11-04 | 2022-05-18 | サムス カンパニー リミテッド | ボンディング設備におけるダイ移送のための装置及び方法 |
| JP7039675B2 (ja) | 2020-11-18 | 2022-03-22 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2023158087A (ja) * | 2020-11-18 | 2023-10-26 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP7727049B2 (ja) | 2020-11-18 | 2025-08-20 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2021016004A (ja) * | 2020-11-18 | 2021-02-12 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP2024098101A (ja) * | 2020-11-18 | 2024-07-19 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| JP7542875B2 (ja) | 2020-12-08 | 2024-09-02 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置 |
| WO2022123645A1 (ja) * | 2020-12-08 | 2022-06-16 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置 |
| CN116457926A (zh) * | 2020-12-08 | 2023-07-18 | 株式会社新川 | 半导体裸片的拾取装置 |
| JPWO2022123645A1 (ja) * | 2020-12-08 | 2022-06-16 | ||
| JP7607462B2 (ja) | 2021-01-26 | 2024-12-27 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
| CN114792647A (zh) * | 2021-01-26 | 2022-07-26 | 捷进科技有限公司 | 芯片贴装装置以及半导体器件的制造方法 |
| JP2022114399A (ja) * | 2021-01-26 | 2022-08-05 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法 |
| JP7549095B2 (ja) | 2022-12-26 | 2024-09-10 | 梭特科技股▲分▼有限公司 | 押出手段と気圧制御手段を組み合わせるダイの剥離方法 |
| JP2024092928A (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-08 | 梭特科技股▲分▼有限公司 | 押出手段と気圧制御手段を組み合わせるダイの剥離方法 |
| WO2025234300A1 (ja) * | 2024-05-07 | 2025-11-13 | 株式会社新川 | ピックアップユニット、実装装置及びピックアップ方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1599035A (zh) | 2005-03-23 |
| CN101320678B (zh) | 2010-04-21 |
| KR101244482B1 (ko) | 2013-03-18 |
| TW200512847A (en) | 2005-04-01 |
| US20050059205A1 (en) | 2005-03-17 |
| TWI358775B (ja) | 2012-02-21 |
| KR20050028802A (ko) | 2005-03-23 |
| CN100495650C (zh) | 2009-06-03 |
| US7115482B2 (en) | 2006-10-03 |
| CN101320678A (zh) | 2008-12-10 |
| JP4574251B2 (ja) | 2010-11-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4574251B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR100638760B1 (ko) | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
| JP4864816B2 (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| US7015071B2 (en) | Method of manufacturing a semiconductor device | |
| KR101405768B1 (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
| JP4664150B2 (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 | |
| WO1996036992A1 (fr) | Composant a semi-conducteur et fabrication dudit composant | |
| KR102752951B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
| JP2004186352A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
| CN103311150B (zh) | 半导体制造装置以及半导体制造装置的控制方法 | |
| JP4238669B2 (ja) | エキスパンド方法及びエキスパンド装置 | |
| JP5431533B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| KR102733730B1 (ko) | 웨이퍼의 가공 방법 | |
| JP2009117867A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| US8580070B2 (en) | Method of applying an adhesive layer on thincut semiconductor chips of a semiconductor wafer | |
| JP5337226B2 (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JP2004304067A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP5647308B2 (ja) | 半導体集積回路装置の製造方法 | |
| JP2005057052A (ja) | 半導体基板の加工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070703 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100326 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100406 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100528 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100607 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100803 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100818 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4574251 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |