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JP2005181005A - Display board manufacturing method, display board, and timing device - Google Patents

Display board manufacturing method, display board, and timing device Download PDF

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JP2005181005A
JP2005181005A JP2003419655A JP2003419655A JP2005181005A JP 2005181005 A JP2005181005 A JP 2005181005A JP 2003419655 A JP2003419655 A JP 2003419655A JP 2003419655 A JP2003419655 A JP 2003419655A JP 2005181005 A JP2005181005 A JP 2005181005A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin film
cutting
resin
base material
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2003419655A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukihiro Ishikawa
幸寛 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JP2005181005A publication Critical patent/JP2005181005A/en
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Abstract

【課題】 基材上に樹脂膜を有する表示板の製造方法において、製造効率を低下させることのない方法で、高い意匠性を備えた高級感のある表示板を製造可能な方法を提供する。
【解決手段】 本発明の表示板100の製造方法は、板状の基材101の一部に露出領域を構成する開口部110aを備えたマスク110を形成するマスキング工程(a)と、マスキングされた前記基材の前記露出領域に樹脂膜102を配置する樹脂膜配置工程(b)と、前記樹脂膜の表面を成形する樹脂膜成形工程(c)及び(d)とを有することを特徴とする。
【選択図】図1


PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of producing a high-quality display panel having a high design property in a method for manufacturing a display panel having a resin film on a base material without reducing the manufacturing efficiency.
A method of manufacturing a display panel 100 according to the present invention includes a masking step (a) for forming a mask 110 having an opening 110a that constitutes an exposed region in a part of a plate-like base material 101, and masking. A resin film disposing step (b) for disposing the resin film 102 in the exposed region of the base material; and resin film forming steps (c) and (d) for forming the surface of the resin film. To do.
[Selection] Figure 1


Description

本発明は表示板の製造方法、表示板および計時装置に係り、特に、基材上に光透過性を有する樹脂膜を備えた表示板を製造する場合に好適な製造技術に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a display board, a display board, and a timing device, and more particularly to a manufacturing technique suitable for manufacturing a display board having a light-transmitting resin film on a substrate.

一般に、腕時計のような計時装置においては、外観デザインが商品の重要なポイントになるため、種々のデザイン上の試みがなされている。特に、計時装置の外観デザインのうち、常に視線を受ける文字板のデザインはきわめて重要であり、この文字板の外観には種々の工夫がなされている。例えば、文字板においては、金属やプラスチックなどの基材の表面にめっき、印刷、彫刻、植字などにより種々の装飾が施されるが、これらの装飾を立体的で深みのあるものとするために、基材上に透明な樹脂膜(クリア塗装膜)を形成することが行われている(例えば、以下の特許文献1参照)。具体的には、基材上に液状樹脂をスプレー法などによって塗布し、乾燥処理や加熱処理などにより硬化させ、その後、研磨などによって樹脂膜の表面を平滑化するようにしている。
特開2001−13267号公報
In general, in a timing device such as a wristwatch, since the appearance design is an important point of a product, various design attempts have been made. In particular, the design of the dial that always receives a line of sight among the external appearance designs of the timing device is extremely important, and various ideas have been made on the appearance of the dial. For example, in a dial, various decorations are applied to the surface of a base material such as metal or plastic by plating, printing, engraving, typesetting, etc. In order to make these decorations three-dimensional and deep A transparent resin film (clear coating film) is formed on a substrate (see, for example, Patent Document 1 below). Specifically, a liquid resin is applied on a substrate by a spray method or the like, cured by a drying process or a heat process, and then the surface of the resin film is smoothed by polishing or the like.
JP 2001-13267 A

ところで、一般に、文字板の内部にサブダイヤルと呼ばれる副表示領域を設ける場合がある。この副表示領域は、タイマー時間、曜日や日付、温度などの表示を行う部分として用いられる。このような場合には、文字板の表面に単に一様な樹脂膜を形成するだけでは充分な意匠性が得られず、文字板のデザインを引き立たせることができないという問題点がある。例えば、文字板によっては樹脂膜の表面を単に平坦に研磨するだけでは充分な外観が得られない場合もあるため、樹脂膜の表面形状に種々のバリエーションが存在すればさらにデザイン性を高めることができるものと考えられるが、上記従来の方法ではこのようなことは不可能である。   By the way, generally, a sub display area called a sub dial may be provided inside the dial. This sub display area is used as a part for displaying timer time, day of the week, date, temperature, and the like. In such a case, there is a problem that sufficient design is not obtained simply by forming a uniform resin film on the surface of the dial, and the design of the dial cannot be enhanced. For example, depending on the dial, it may not be possible to obtain a sufficient appearance by simply polishing the surface of the resin film, so if there are various variations in the surface shape of the resin film, the design can be further improved. Although it is considered possible, this is not possible with the conventional method.

また、一般に、上記の樹脂膜による視覚効果を高め、文字板の表面に光沢や深みを与えて高級感を得るには、樹脂膜に50〜200μm或いはこれを越えるような充分な膜厚を確保する必要があり、しかも、樹脂膜の表面を充分に平滑に構成する必要がある。しかしながら、樹脂膜を厚く形成するためには粘度の高い塗料を用いたり、何度も重ね塗りを行ったりする必要があるため、製造効率が低下する。また、樹脂膜の表面には樹脂材料の表面張力や塗布ムラなどにより凹凸やうねりなどが発生しやすくなるので、これを研磨により平滑化するためには研磨代を塗布した樹脂の半分程度に設定する必要があることもあり、きわめて長い研磨時間が必要になるという問題点がある。   In general, the resin film has a sufficient film thickness of 50 to 200 μm or more to enhance the visual effect of the resin film and give the surface of the dial a glossy and deep feel. In addition, it is necessary to make the surface of the resin film sufficiently smooth. However, in order to form a thick resin film, it is necessary to use a paint having a high viscosity or to perform repeated coating over and over, resulting in a decrease in production efficiency. In addition, unevenness and undulation are easily generated on the surface of the resin film due to the surface tension of the resin material and uneven coating, etc. In order to smooth this by polishing, the polishing margin is set to about half of the resin applied There is a problem that a very long polishing time is required.

そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、基材上に樹脂膜を有する表示板の製造方法において、製造効率を低下させることのない方法で、高い意匠性を備えた高級感のある表示板を製造可能な方法を提供することにある。   Therefore, the present invention solves the above-mentioned problems, and the subject is a method for producing a display panel having a resin film on a substrate, and a method that does not reduce the production efficiency and has a high design property. Another object of the present invention is to provide a method capable of producing a high-quality display panel.

本発明の表示板の製造方法は、板状の基材の一部に露出領域を構成する開口部を備えたマスクを形成するマスキング工程と、マスキングされた前記基材の前記露出領域に樹脂膜を配置する樹脂膜配置工程と、前記樹脂膜の表面を成形する樹脂膜成形工程とを有することを特徴とする。   The display plate manufacturing method of the present invention includes a masking step of forming a mask having an opening that constitutes an exposed region in a part of a plate-like substrate, and a resin film on the exposed region of the masked substrate. And a resin film forming step for forming the surface of the resin film.

この発明によれば、マスキングを施した基材の露出領域に樹脂膜を配置することで、樹脂膜を基材上の一部領域にのみ形成することが可能になるとともに、既に形成された樹脂膜の一部表面上に別の樹脂膜を重ねるように形成することも可能になるため、樹脂膜の光沢や深みにさらに平面パターン上の意匠性が加わることから、表示板の外観デザインのバリエーションを増大させることができ、意匠性を高め、高級感のある外観デザインが実現できる。   According to this invention, by arranging the resin film in the exposed region of the base material subjected to masking, it becomes possible to form the resin film only in a partial region on the base material, and the resin already formed Because it is possible to form another resin film on a part of the surface of the film, the design of the flat pattern is added to the gloss and depth of the resin film, so variations in the appearance design of the display panel The design can be improved and a high-quality appearance design can be realized.

本発明において、複数の前記露出領域について少なくとも前記マスキング工程及び前記樹脂膜配置工程を複数回繰り返すことが好ましい。これによれば、複数の露出領域に樹脂膜を形成することができるため、表示板の外観デザインのバリエーションの拡大や意匠性の向上をさらに図ることができる。また、複数の露出領域に対してマスキング工程及び樹脂膜配置工程を複数回繰り返すようにしているため、露出領域間の位置関係に拘らず個々の露出領域に対して容易に樹脂膜を形成することができる。   In the present invention, it is preferable to repeat at least the masking step and the resin film arranging step a plurality of times for the plurality of exposed regions. According to this, since resin films can be formed in a plurality of exposed regions, it is possible to further increase the variation in the appearance design of the display panel and improve the design. In addition, since the masking step and the resin film placement step are repeated a plurality of times for a plurality of exposed regions, it is possible to easily form a resin film for each exposed region regardless of the positional relationship between the exposed regions. Can do.

本発明において、前記マスキング工程では複数の前記露出領域が設けられ、前記樹脂膜配置工程では、前記複数の露出領域にそれぞれ前記樹脂膜を配置することが好ましい。これによれば、一度に複数の露出領域が設定され、それぞれに樹脂膜が配置されるので、効率的に製造を行うことができる。   In the present invention, it is preferable that a plurality of the exposed regions are provided in the masking step, and the resin films are respectively disposed in the plurality of exposed regions in the resin film arranging step. According to this, since a plurality of exposed regions are set at a time and the resin film is arranged on each, it is possible to efficiently manufacture.

本発明において、前記樹脂膜配置工程では、前記基材上に配置された液状樹脂を、前記露出領域内に設定された回転軸線を中心とする回転により生ずる遠心力により広げるステップを含むことが好ましい。樹脂膜の配置は、スプレー法、ロールコート法、印刷法、ディスペンサなどによる塗布、ノズルからの液滴吐出による塗布、CVD(化学気相成長)法などの気相成膜法、などの種々の方法で実現できる。特に、上記のようなスピンコーティング法を用いることによって或る程度の厚さの樹脂膜を効率的に形成することができる。また、複数の露出領域についてそれぞれ樹脂膜を配置する場合には、一つの露出領域について上記ステップで液状樹脂を遠心力により広げた後、当該液状樹脂を硬化させて樹脂膜を形成し、その後、他の露出領域についても上記ステップで液状樹脂を遠心力により広げ、さらにこの液状樹脂を硬化させて他の樹脂膜を形成するといった方法で形成していくことができる。   In the present invention, the resin film arranging step preferably includes a step of expanding the liquid resin arranged on the base material by a centrifugal force generated by rotation about a rotation axis set in the exposed region. . The resin film can be arranged in various ways such as spraying, roll coating, printing, dispensing by a dispenser, coating by ejecting droplets from a nozzle, and vapor deposition such as CVD (chemical vapor deposition). It can be realized by the method. In particular, a resin film having a certain thickness can be efficiently formed by using the spin coating method as described above. Further, when arranging the resin film for each of the plurality of exposed regions, after spreading the liquid resin by centrifugal force in the above step for one exposed region, the liquid resin is cured to form a resin film, and then Other exposed regions can also be formed by a method in which the liquid resin is expanded by centrifugal force in the above-described step, and the liquid resin is further cured to form another resin film.

本発明において、前記樹脂膜成形工程は、前記樹脂膜の表面に切削加工を施す切削加工ステップを含むことが好ましい。基材上に配置された樹脂膜の表面に切削加工を施す切削加工ステップを設けることにより、樹脂膜の表面を平坦化したり、樹脂膜の表面を適宜の形状に加工したりすることができるため、表示板の外観デザインのバリエーションを増大させることができる。また、樹脂膜の表面形状を切削加工にてあらかじめ成形しておくことにより、その後に行われる研磨加工ステップの研磨時間を低減することができるとともに、樹脂膜の表面の面精度を高めることができる。   In this invention, it is preferable that the said resin film formation process includes the cutting process step which cuts the surface of the said resin film. By providing a cutting step for cutting the surface of the resin film arranged on the substrate, the surface of the resin film can be flattened or the surface of the resin film can be processed into an appropriate shape. Variations in the appearance design of the display board can be increased. Moreover, by shaping the surface shape of the resin film in advance by cutting, the polishing time of the subsequent polishing step can be reduced and the surface accuracy of the surface of the resin film can be increased. .

本発明において、前記切削加工ステップでは、前記基材をその法線周りに回転させた状態で切削工具を適用し、該切削工具を前記基材の回転半径方向に走査することにより切削を行うことが好ましい。切削加工の方法としては、切削工具を用いて樹脂膜の表面を切削するものであれば如何なる方法であっても構わないが、上記のように基材を回転させた状態で切削工具を操作して行う旋削加工を用いることが好ましい。これによって、切削効率を高めることができるとともに、樹脂膜の全体を短時間に効率良く切削することができる。特に、切削工具を回転中心から外周に向けて走査することが望ましい。このようにすると、樹脂膜から発生する切粉が未加工状態にある外周側に排出されていくように容易に構成できるので、切削仕上面が切粉によって損傷を受けることを防止することができるため、より高品位の切削面を得ることができる。   In the present invention, in the cutting step, cutting is performed by applying a cutting tool in a state in which the base material is rotated around its normal line, and scanning the cutting tool in the rotational radius direction of the base material. Is preferred. Any cutting method may be used as long as it cuts the surface of the resin film using a cutting tool, but the cutting tool is operated with the substrate rotated as described above. It is preferable to use the lathe turning performed. As a result, the cutting efficiency can be increased, and the entire resin film can be efficiently cut in a short time. In particular, it is desirable to scan the cutting tool from the center of rotation toward the outer periphery. If it does in this way, since it can comprise easily so that the chip generated from a resin film may be discharged to the perimeter side in an unprocessed state, it can prevent that a cutting finish is damaged by a chip. Therefore, a higher quality cutting surface can be obtained.

本発明において、前記切削工具の刃先は丸コーナ形状を有することが好ましい。刃先がコーナ(切れ刃と切れ刃のコーナ(交点部分)であることにより微細な形状を容易に構成することができる。また、丸コーナ形状であるため、切削後の表面粗さを低減できる。   In the present invention, the cutting edge of the cutting tool preferably has a round corner shape. Since the cutting edge is a corner (a corner between the cutting edge and the cutting edge (intersection point)), a fine shape can be easily formed. Further, since the shape is a round corner, the surface roughness after cutting can be reduced.

この場合に、前記刃先のコーナ半径(ノーズ半径)は5〜50μmの範囲内であることが好ましい。この範囲内のコーナ半径であれば、切削効率、面精度、表面粗さのバランスを確保できる。例えば、上記範囲を下回ると、樹脂膜の表面に沿った送り速度を速くしたときには充分な平滑性が得られなくなる。換言すれば、或る程度の平滑性を得ようとすれば、送り速度を低下させる必要があり、長い加工時間が必要となる。また、上記範囲を上回ると、切込み(深さ)を小さくしないと樹脂膜の加工圧による変形が大きくなり、面精度が低下する。特に、コーナ半径(ノーズ半径)を10〜20μmの範囲内とすることにより、加工効率と、切削形状の精度と、切削後の表面粗さとのバランスを確保することができ、また、その後に行われる研磨加工ステップにより平滑性を得るための研磨代を低減できる。   In this case, it is preferable that the corner radius (nose radius) of the cutting edge is in the range of 5 to 50 μm. A corner radius within this range can ensure a balance between cutting efficiency, surface accuracy, and surface roughness. For example, below the above range, sufficient smoothness cannot be obtained when the feed rate along the surface of the resin film is increased. In other words, in order to obtain a certain level of smoothness, it is necessary to reduce the feed rate and a long processing time is required. On the other hand, if the above range is exceeded, unless the depth of cut (depth) is reduced, the deformation due to the processing pressure of the resin film increases, and the surface accuracy decreases. In particular, by setting the corner radius (nose radius) within the range of 10 to 20 μm, it is possible to secure a balance between the machining efficiency, the accuracy of the cutting shape, and the surface roughness after the cutting. The polishing allowance for obtaining smoothness can be reduced by the polishing step.

本発明において、前記樹脂膜成形工程は、前記切削加工ステップの後に、前記樹脂膜の表面を研磨する研磨加工ステップを含むことが望ましい。この研磨加工ステップを設けることによって樹脂膜の表面に充分な光沢を与えることができ、また、光透過性を有する素材で樹脂膜が形成されている場合には充分な透明感を得ることができる。   In the present invention, it is desirable that the resin film forming step includes a polishing step for polishing the surface of the resin film after the cutting step. By providing this polishing step, the surface of the resin film can be given sufficient gloss, and when the resin film is formed of a light-transmitting material, sufficient transparency can be obtained. .

本発明において、前記樹脂膜は可視光を透過可能な光透過性を有することが好ましい。本発明の樹脂膜の光学特性には何ら限定はないが、特に可視光を透過可能な光透過性を有することにより、表示板の外観に立体感や奥行感を持たせることが可能になり、高級感を現出することが可能である。   In this invention, it is preferable that the said resin film has the light transmittance which can permeate | transmit visible light. The optical properties of the resin film of the present invention are not limited in any way, but in particular, by having a light transmission property capable of transmitting visible light, it is possible to give the appearance of the display board a three-dimensional effect and a sense of depth, It is possible to show a sense of quality.

本発明において、前記樹脂膜の厚さは50〜200μmの範囲内であることが好ましい。このように比較的厚い樹脂膜を形成する場合には表示板に立体感や奥行感を持たせることができる。上記範囲の中でも、特に100〜200μmの範囲内であることが望ましい。   In this invention, it is preferable that the thickness of the said resin film exists in the range of 50-200 micrometers. When a relatively thick resin film is formed in this way, the display panel can have a three-dimensional feeling and a depth feeling. Among the above ranges, it is particularly desirable to be within the range of 100 to 200 μm.

本発明において、前記研磨加工ステップにおける研磨代は0.5〜5.0μmの範囲内であることが好ましい。研磨代がこの範囲を下回ると樹脂膜の表面粗さを充分に低減することが難しくなり、研磨代が上記範囲を上回ると、研磨による表面うねりなどが発生しやすくなり、樹脂膜の表面の面精度が悪化する。   In the present invention, the polishing allowance in the polishing step is preferably in the range of 0.5 to 5.0 μm. If the polishing allowance is less than this range, it will be difficult to sufficiently reduce the surface roughness of the resin film. If the polishing allowance is more than the above range, surface waviness due to polishing is likely to occur, and the surface of the resin film Accuracy deteriorates.

本発明において、前記表示板は時計の文字板であることが好ましい。文字板を構成する場合には、上記の樹脂膜の上に植字や印刷などによる模様を形成してもよく、或いは、樹脂膜の下に植字や印刷などによる模様を形成してもよい。上記のような表示板を備えた計時装置(腕時計、置時計、掛け時計、ストップウォッチ、ダイビングコンピュータなど)は、高級感を備えた外観デザインを有するものとなり、表示板の表面デザインのバリエーションも格段に広げることが可能になる。   In the present invention, the display plate is preferably a timepiece dial. When configuring the dial, a pattern by typesetting or printing may be formed on the resin film, or a pattern by typesetting or printing may be formed under the resin film. Timekeeping devices (watches, table clocks, wall clocks, stopwatches, diving computers, etc.) equipped with display panels as described above will have a high-quality exterior design, and the variations in the surface design of display panels will be greatly expanded. It becomes possible.

また、本発明の表示板は、上記いずれかの製造方法によって構成されたことを特徴とする。この表示板によれば、光沢や奥行感を備えた外観を実現でき、高級感のある表示が可能になると同時に、高い意匠性を備えた外観デザインを構成できる。   In addition, the display board of the present invention is configured by any one of the above manufacturing methods. According to this display board, it is possible to realize an external appearance with gloss and depth, and it is possible to display a high-quality display, and it is possible to configure an external design with high design properties.

さらに、本発明の表示板を備えた計時装置は、上記表示板を備えたことを特徴とする。これによって高級感のある計時装置の外観が実現される。計時装置としては、表示板として、アナログ表示を行うための文字板、ディジタル表示を行うための表示枠などを備えたものが挙げられる。   Furthermore, a timing device provided with the display board of the present invention is characterized by including the display board. As a result, a high-quality appearance of the timing device is realized. Examples of the timing device include a display board provided with a dial for analog display, a display frame for digital display, and the like.

次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図1は、本実施形態の表示板の製造方法を示す概略工程断面図(a)〜(d)である。本実施形態の表示板の製造方法は、例えば、アナログ時計の文字板やディジタル時計の表示枠(液晶パネルなどの表示体の表示画面の周囲を覆う板材)などの計時装置の表示板のほか、携帯電話の操作パネル、表示画面枠、電子機器の操作パネル、表示パネル枠などの種々の表示板の製造に適用することが可能である。   Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1A to 1D are schematic process cross-sectional views (a) to (d) illustrating a method for manufacturing a display panel of the present embodiment. The display board manufacturing method of the present embodiment includes, for example, a display board of a timing device such as a dial of an analog clock or a display frame of a digital clock (a board covering a display screen of a display body such as a liquid crystal panel), The present invention can be applied to the manufacture of various display boards such as a mobile phone operation panel, a display screen frame, an electronic device operation panel, and a display panel frame.

本実施形態では、図1(a)に示す板状の基材101として、真鍮、黄銅、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金、マグネシウム合金などの種々の金属;ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエステル、アクリルなどの各種樹脂;アルミナなどの各種セラミックス;シリコンなどの半導体;石英やガラスなどのその他の無機材料;などの種々の素材で構成することができ、また、上記各種の素材を2種類以上組み合わせた(積層したり混合したりした)もので構成することもできる。   In this embodiment, as the plate-like substrate 101 shown in FIG. 1A, various metals such as brass, brass, stainless steel, aluminum, aluminum alloy, titanium, titanium alloy, magnesium alloy; polycarbonate, polyethylene, polyester It can be composed of various materials such as various resins such as acrylic, various ceramics such as alumina, semiconductors such as silicon, other inorganic materials such as quartz and glass, and two or more kinds of the above various materials. It can also be composed of a combination (stacked or mixed).

また、上記の基材101の表面上には、マスキング工程や樹脂膜配置工程を実施する前段階で、筋目加工やブラスト加工などの機械的加工、エッチング加工や酸化処理などの化学的加工、部品の搭載、模様の印刷、めっき処理、蒸着膜の被着形成などの、表面処理を施すこともできる。また、基材101の裏面から突出する足材(ムーブメントに固定するための位置決め突起)を取り付けたり、太陽電池基板などを接着固定したりすることも可能である。   Further, on the surface of the base material 101, mechanical processing such as streak processing and blast processing, chemical processing such as etching processing and oxidation processing, parts, etc., before the masking step and the resin film placement step are performed. Surface treatments such as mounting, pattern printing, plating, and deposition film deposition can also be performed. Further, it is possible to attach a foot material (positioning protrusion for fixing to the movement) protruding from the back surface of the base material 101, or to adhere and fix a solar cell substrate or the like.

本実施形態では、最初に、図1(a)に示すように、マスク110によって基材101をマスキングする(マスキング工程)。マスク110は、基材101の表面の一部が露出領域となるように開口部110aを備えている。マスク110は、合成樹脂、紙、金属、セラミックス、ガラスなどの種々の素材で構成することができるが、特に、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系の樹脂(フィルム)を用いることが好ましい。これは、化学的に安定で、以下に示す液状樹脂などに含まれる有機溶剤などに侵されにくいからである。また、可撓性を有し、剥離させやすいという利点もある。さらに、マスク110は、感光性樹脂などのようにパターニングが容易で、かつ、パターニング後においても容易に除去できるもので構成してもよい。   In this embodiment, first, as shown in FIG. 1A, the base material 101 is masked with a mask 110 (masking step). The mask 110 has an opening 110a so that a part of the surface of the substrate 101 becomes an exposed region. The mask 110 can be made of various materials such as synthetic resin, paper, metal, ceramics, and glass. In particular, it is preferable to use a polyolefin resin (film) such as polyethylene or polypropylene. This is because it is chemically stable and is not easily attacked by organic solvents contained in the following liquid resins. In addition, there is an advantage that it has flexibility and is easily peeled off. Further, the mask 110 may be formed of a material that can be easily patterned and can be easily removed even after patterning, such as a photosensitive resin.

マスク110の厚さに特に限定はないが、樹脂フィルムの場合には0.03〜0.1mm程度の厚みとすることができる。通常、以下に説明する樹脂膜の膜厚とほぼ同様の厚みを有することが好ましい。   The thickness of the mask 110 is not particularly limited, but in the case of a resin film, the thickness can be about 0.03 to 0.1 mm. Usually, it is preferable to have a thickness substantially the same as the thickness of the resin film described below.

本実施形態に用いることのできるマスキング方法としては、種々のものが考えられる。例えば、テープ状やシート状のマスク材を機械により、或いは、ハンドワークにより貼り付け、所要の加工を行った後に剥離する方法が挙げられる。また、接着剤や仮接着剤などをマスク材の代替物として用いることもできる。これらの接着剤や仮接着剤は、スプレー法やスクリーン印刷などの印刷法、刷毛塗りなどによって塗布される。ここで、仮接着剤とは、ダイシング、ポリッシングなどの加工をするときにワークを一時的に固定する接着剤で、加工が終わったら、きれいに除去してしまうことのできる有機系の接着剤である。仮接着剤としては、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤などが挙げられる。一般に水可溶性、アルコール可溶性、有機溶媒可溶性の素材がある。素材によっては温水に漬けたり、所定温度に設定したりすることで剥離が容易になるものが知られている。例えば、10℃程度で固化し、常温20〜30℃で容易に剥離できるものがある。いずれにしても、使用樹脂に侵されず、乾燥温度(150℃程度)に耐えられることが望ましい。さらに、上記の接着剤、仮接着剤などによって薄板(金属若しくは樹脂などで構成される板材、作業性を考慮すると例えば0.1〜1.0mm程度の厚さのものが好ましい。)をマスクとして接着固定してもよい。   Various masking methods that can be used in this embodiment are conceivable. For example, there is a method in which a tape-like or sheet-like mask material is attached by a machine or hand work, and is peeled after performing a required processing. In addition, an adhesive, a temporary adhesive, or the like can be used as a substitute for the mask material. These adhesives and temporary adhesives are applied by a printing method such as spraying or screen printing, brushing, or the like. Here, the temporary adhesive is an adhesive that temporarily fixes the workpiece when processing such as dicing or polishing, and is an organic adhesive that can be removed cleanly after the processing is completed. . Examples of the temporary adhesive include an epoxy adhesive and an acrylic adhesive. In general, there are materials that are soluble in water, soluble in alcohol, and soluble in organic solvents. Some materials are known to be easily peeled off by being immersed in warm water or set to a predetermined temperature. For example, some solidify at about 10 ° C. and can be easily peeled off at room temperature of 20-30 ° C. In any case, it is desirable to be able to withstand the drying temperature (about 150 ° C.) without being affected by the resin used. Further, a thin plate (a plate material made of metal or resin, etc., preferably having a thickness of about 0.1 to 1.0 mm is preferable in consideration of workability) with the above-described adhesive, temporary adhesive, or the like is used as a mask. It may be bonded and fixed.

次に、図1(b)に示すように、上記の基材101上に樹脂膜102が配置される(樹脂膜配置工程)。この樹脂膜102は、ポリプロピレン、ABS樹脂(アクリルにトリル・ブタジエン・スチレンを含む共重合体)、アクリル系樹脂のような熱可塑性樹脂、或いは、メラミン樹脂、フェノール樹脂のような熱硬化性樹脂などで形成できる。また、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などの各種放射線硬化性樹脂を用いることも可能である。   Next, as shown in FIG.1 (b), the resin film 102 is arrange | positioned on said base material 101 (resin film arrangement | positioning process). The resin film 102 is made of polypropylene, ABS resin (a copolymer containing tolyl / butadiene / styrene in acrylic), a thermoplastic resin such as an acrylic resin, or a thermosetting resin such as a melamine resin or a phenol resin. Can be formed. Various radiation curable resins such as an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin can also be used.

この樹脂膜配置工程は、通常、未硬化状態の液状樹脂を基材101上に塗布することによって行われることが好ましい。未硬化状態の液状樹脂とは、溶剤などによって液状化された樹脂、モノマーなどのポリマー前駆体を主成分とする樹脂、その他の液体状(固液混合状態を含む。)の樹脂を言う。塗布方法は、スプレー法、ロールコート法、印刷法、スピンコーティング法などを用いることができる。特に、比較的厚い樹脂膜102を形成するには、後に詳述するスピンコーティング法を用いることが望ましい。これらの各種方法で塗布された液状樹脂は、乾燥、加熱、光その他の放射線照射などによって硬化される。   This resin film arranging step is usually preferably performed by applying an uncured liquid resin on the substrate 101. The uncured liquid resin refers to a resin liquefied with a solvent or the like, a resin mainly composed of a polymer precursor such as a monomer, and other liquid (including a solid-liquid mixed state) resin. As a coating method, a spray method, a roll coating method, a printing method, a spin coating method, or the like can be used. In particular, in order to form the relatively thick resin film 102, it is desirable to use a spin coating method described in detail later. The liquid resin applied by these various methods is cured by drying, heating, light or other radiation irradiation.

なお、樹脂膜配置工程では、基材101上に既に硬化した樹脂膜102を接合してもよい。例えば、樹脂膜102を基材101の表面に溶着することができる。溶着可能な樹脂素材としては、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂が挙げられる。さらに、樹脂膜配置工程では、CVD(化学気相成長)法などの成膜方法を用いて基材101上に直接樹脂膜102を成膜してもよい。   In the resin film arranging step, the already cured resin film 102 may be bonded onto the base material 101. For example, the resin film 102 can be welded to the surface of the substrate 101. Examples of the resin material that can be welded include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene. Further, in the resin film arranging step, the resin film 102 may be formed directly on the substrate 101 by using a film forming method such as a CVD (chemical vapor deposition) method.

樹脂膜102としては、可視光の少なくとも一部を透過可能な光透過性を有するものが好ましい。樹脂膜102は、光透過率が高く、波長分散の小さい透明な素材で構成されることが好ましいが、半透明素材や光透過性を有する着色素材で構成することもできる。この場合の光透過率は、可視光領域の平均透過率が30%以上であることが好ましく、60%以上であることがさらに望ましい。   As the resin film 102, a resin film having a light transmitting property capable of transmitting at least part of visible light is preferable. The resin film 102 is preferably made of a transparent material having high light transmittance and low wavelength dispersion, but can also be made of a translucent material or a colored material having light transmittance. In this case, the light transmittance is preferably 30% or more, and more preferably 60% or more, in the visible light region.

次に、樹脂膜102の表面102aに成形を施す(樹脂膜成形工程)。この工程は樹脂膜の表面102aに表面処理を施すことにより、表面の平坦性や平滑性を向上させたり、表面に所定の面形状を形成したりする。この工程では、例えば研磨加工のみを行うようにしてもよいが、本実施形態では、最初に切削加工を施し、その後に研磨加工を施すようにしている。   Next, the surface 102a of the resin film 102 is molded (resin film molding process). In this step, the surface 102a of the resin film is subjected to surface treatment to improve the flatness and smoothness of the surface or to form a predetermined surface shape on the surface. In this step, for example, only the polishing process may be performed, but in this embodiment, the cutting process is performed first and then the polishing process is performed.

最初の切削加工ステップでは、切削加工により、図1(c)に示すように切削仕上面102bが形成される。この切削加工は、樹脂膜102の表面の一部のみに施してもよく、或いは、表面全体に施してもよい。図示例では、樹脂膜102の表面102a全体に切削加工する例を示してある。また、切削加工は、樹脂膜102の切削仕上面102bが平坦になるように加工するものであってもよく、或いは、その切削仕上面102bに凹凸やテーパなどを付けるように加工するものであってもよい。図示例では、樹脂膜102の表面全体をほぼ平坦に加工する例を示してある。   In the first cutting step, a cut surface 102b is formed by cutting as shown in FIG. This cutting process may be performed on only a part of the surface of the resin film 102 or may be performed on the entire surface. In the illustrated example, an example of cutting the entire surface 102a of the resin film 102 is shown. Further, the cutting may be performed such that the cut surface 102b of the resin film 102 is flat, or is processed so that the cut surface 102b is provided with unevenness or a taper. May be. In the illustrated example, the entire surface of the resin film 102 is processed almost flatly.

切削加工は、一般に、刃物を用いて被削材を削るものであり、刃物の形状や被削方法は問わない。後に詳述する旋削に限らず、例えば、平刃を用いて2次元切削を施すもの(かんなによる木材の切削加工態様と同様のもの)であってもよい。   Cutting generally involves cutting a work material using a blade, and the shape of the blade and the cutting method are not limited. Not limited to the turning described in detail later, for example, it may be one that performs two-dimensional cutting using a flat blade (similar to the wood cutting mode of wood by Kanna).

切削加工の合計切削量(切削代)は任意であるが、通常、1μm〜1000μm程度の適度な切削量を設定することができる。樹脂膜配置工程で形成された樹脂膜102の表面102aを確実に切削して良好な切削仕上面102bを形成するという観点から見ると、切込み(深さ)は10μm以上であることが好ましく、50μm以上であることがさらに望ましい。また、切削時の応力による樹脂膜102の歪(変形)を低減するために、切込みは600μm以下であることが好ましく、300μm以下であることがさらに望ましい。さらに、加工時間を短縮するためには、切削仕上面102bを一回の刃物走査で切削加工を完了させることが好ましい。ただし、切削工具の刃先形状に起因する表面粗さを低減するためには、複数回の刃物走査によって切削仕上面を構成することが望ましい。   Although the total cutting amount (cutting allowance) of the cutting process is arbitrary, an appropriate cutting amount of about 1 μm to 1000 μm can be normally set. From the viewpoint of surely cutting the surface 102a of the resin film 102 formed in the resin film arranging step to form a good finished surface 102b, the incision (depth) is preferably 10 μm or more, and 50 μm More preferably, it is more than that. Further, in order to reduce distortion (deformation) of the resin film 102 due to stress at the time of cutting, the cut is preferably 600 μm or less, and more preferably 300 μm or less. Further, in order to shorten the processing time, it is preferable to complete the cutting process by cutting the cutting surface 102b once. However, in order to reduce the surface roughness due to the shape of the cutting edge of the cutting tool, it is desirable to configure the cut surface by a plurality of times of blade scanning.

次に、図1(d)に示すように、樹脂膜102に研磨加工を施す(研磨加工ステップ)。この研磨加工ステップは、樹脂膜102の表面の一部に研磨加工を施すものであってもよく、或いは、樹脂膜102の表面全体に研磨加工を施すものであってもよい。図示例では、樹脂膜102の表面のうち、先の切削加工ステップにおいて切削加工の施された切削仕上面102bの全体に研磨加工を施す例を示してある。   Next, as shown in FIG. 1D, the resin film 102 is polished (polishing step). In this polishing process step, a part of the surface of the resin film 102 may be polished, or the entire surface of the resin film 102 may be polished. In the illustrated example, an example is shown in which, of the surface of the resin film 102, the entire cut surface 102b that has been cut in the previous cutting step is subjected to polishing.

この研磨加工は、一般に、固定砥粒や遊離砥粒を用いて行ってもよく、バフなどの砥粒以外の研磨材を用いて行ってもよい。特に、遊離砥粒を含むスラリー液やエッチング液(樹脂膜102に対する溶解性を有する液体)などの研磨液を介してバフなどを接触させることで研磨を行うポリッシュ加工であることが好ましい。   This polishing process may generally be performed using fixed abrasive grains or loose abrasive grains, or may be performed using an abrasive other than abrasive grains such as buffs. In particular, it is preferable to use a polishing process in which polishing is performed by bringing a buff or the like into contact with a polishing liquid such as a slurry liquid containing free abrasive grains or an etching liquid (a liquid having solubility in the resin film 102).

ただし、このポリッシュ加工は樹脂膜102の研磨面102cを平滑に構成することができる点で優れているが、研磨面102cの面精度を維持したり、研磨量の精度を確保したりする点では必ずしも優れているとはいえない。これは、研磨量が研磨液の組成や量、研磨布(バフ)の新旧などに大きく影響を受けるため、面内均一性及び再現性を充分に確保することが難しいからである。したがって、この樹脂膜研磨工程の研磨代は、なるべく小さくすることが好ましい。例えば、この工程の研磨代としては、0.5μm〜5.0μmの範囲内であることが好ましい。研磨代が0.5μm未満では、切削仕上面102bの切削肌を充分に除去することができず、樹脂膜102の研磨面102cが平滑性に劣るものとなる。また、研磨代が5μmを越えると、研磨に伴う樹脂膜102の膜厚の再現性が低下して膜厚のばらつきが大きくなったり、或いは、研磨に起因する表面うねりが発生したりする。特に、上記と同じ観点からみて、研磨代は1.0〜3.0μmの範囲内であることがさらに望ましい。   However, this polishing process is excellent in that the polishing surface 102c of the resin film 102 can be formed smoothly, but in terms of maintaining the surface accuracy of the polishing surface 102c and ensuring the accuracy of the polishing amount. Not necessarily excellent. This is because it is difficult to ensure sufficient in-plane uniformity and reproducibility because the polishing amount is greatly affected by the composition and amount of the polishing liquid and the new and old polishing cloth (buff). Therefore, it is preferable to reduce the polishing allowance in this resin film polishing step as much as possible. For example, the polishing allowance in this step is preferably in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. When the polishing allowance is less than 0.5 μm, the cut surface of the cut finish surface 102b cannot be sufficiently removed, and the polished surface 102c of the resin film 102 is inferior in smoothness. On the other hand, when the polishing allowance exceeds 5 μm, the reproducibility of the film thickness of the resin film 102 accompanying the polishing is lowered and the film thickness variation increases, or the surface waviness caused by the polishing occurs. In particular, from the same viewpoint as described above, the polishing allowance is more preferably in the range of 1.0 to 3.0 μm.

上記樹脂膜研磨工程後の最終的な樹脂膜102の膜厚は、樹脂膜を構成する素材の光屈折率や光透過率にも依存するが、通常、50〜200μmの範囲内であることが好ましい。膜厚が50μm未満では、樹脂膜102による光沢や奥行感を充分に現出することが難しい。膜厚が200μmを越えると、上記の樹脂膜配置工程で液状樹脂を塗布して形成することが困難になる。特に、100〜200μmの範囲内であることが好ましい。   The final film thickness of the resin film 102 after the resin film polishing step depends on the light refractive index and light transmittance of the material constituting the resin film, but is usually in the range of 50 to 200 μm. preferable. When the film thickness is less than 50 μm, it is difficult to sufficiently exhibit the gloss and depth feeling due to the resin film 102. If the film thickness exceeds 200 μm, it becomes difficult to apply and form a liquid resin in the resin film arranging step. In particular, it is preferably within the range of 100 to 200 μm.

本実施形態では、上記の樹脂膜成形工程はマスク110を残した状態で行われているので、樹脂膜成形工程が終了すると、剥離やエッチングなどによりマスク110を除去する。このように樹脂膜成形工程においてマスク110を残しておく場合の利点は、マスク110によって覆われた基材101の表面部分が成形加工による物理的若しくは化学的損傷などの影響を受けることを回避できる点にある。ただし、上記樹脂膜配置工程の後にマスク110を除去し、その後、樹脂膜成形工程を実施してもよく、また、樹脂膜成形工程の最初の切削加工ステップの後にマスク110を除去し、その後、研磨加工ステップを実施するようにしてもよい。   In the present embodiment, since the resin film forming process is performed with the mask 110 left, the mask 110 is removed by peeling or etching after the resin film forming process is completed. As described above, the advantage of leaving the mask 110 in the resin film forming step is that the surface portion of the base material 101 covered with the mask 110 can be prevented from being affected by physical or chemical damage caused by the forming process. In the point. However, the mask 110 may be removed after the resin film arranging step, and then the resin film forming step may be performed, or the mask 110 may be removed after the first cutting step of the resin film forming step, A polishing step may be performed.

図2は、上記の製造工程で用いられる基材101の平面形状の例(a)〜(d)を示すものである。図2(a)に示す例では、略矩形(図示例では面取り角部を備えた正方形)の基材101上において、表示板となるべき製品予定領域100Aが形成され、この製品予定領域100Aの外側に存在する周縁部に位置決め用のガイド孔101Hが複数(図示例では2つ)設けられている。製品予定領域100Aは図示例では平面円形状に構成されている。また、図2(b)に示す例では、製品予定領域100Aと周縁部との間にスリット101Sが形成され、製品予定領域100Aと周縁部とを接続する複数(図示例では4つ)の接続部101Tが設けられている。   FIG. 2 shows examples (a) to (d) of the planar shape of the substrate 101 used in the above manufacturing process. In the example shown in FIG. 2A, a planned product area 100A to be a display board is formed on a substantially rectangular base material 101 (a square having chamfered corners in the illustrated example). A plurality (two in the illustrated example) of guide holes 101H for positioning are provided on the outer peripheral edge portion. The planned product area 100A has a planar circular shape in the illustrated example. Further, in the example shown in FIG. 2B, a slit 101S is formed between the planned product area 100A and the peripheral portion, and a plurality of (four in the illustrated example) connections connecting the planned product region 100A and the peripheral portion. Part 101T is provided.

また、図2(c)に示す例では、基材101をテープ状に形成し、この基材101の延長方向に複数の製品予定領域100Aが配置される。この場合には、位置決め用のガイド孔101Hを製品予定領域100A毎に設けることが好ましい。この基材101に設けられた複数の製品予定領域100Aは、上記の工程毎に、順次、若しくは、一括して処理を受けることが好ましい。   In the example shown in FIG. 2C, the base material 101 is formed in a tape shape, and a plurality of planned product areas 100 </ b> A are arranged in the extending direction of the base material 101. In this case, it is preferable to provide a positioning guide hole 101H for each planned product area 100A. The plurality of planned product areas 100A provided on the base material 101 are preferably subjected to processing sequentially or collectively for each of the above steps.

さらに、図2(d)に示す例では、基材101の外縁に位置決め用の複数の切り欠き部101Lが設けられている。また、製品予定領域100Aに中心孔101aを予め形成してもよい。本実施形態で製造される表示板が腕時計の文字板となる場合には、この中心孔101aは指針の挿通孔となる。なお、後述するように複数の指針軸を有する構造(多軸構造)の文字板を形成する場合、その構造に対応した複数の孔を予め形成しておいてもよい。   Further, in the example shown in FIG. 2D, a plurality of positioning notches 101 </ b> L are provided on the outer edge of the base material 101. Further, the center hole 101a may be formed in advance in the planned product area 100A. When the display board manufactured in this embodiment is a dial of a wristwatch, the center hole 101a is an insertion hole for a pointer. As will be described later, when a dial having a structure having a plurality of pointer shafts (multi-axis structure) is formed, a plurality of holes corresponding to the structure may be formed in advance.

なお、上記のいずれの例においても、最終的に、プレス加工や切断処理などにより基材101の周縁部を除去することで表示板が完成される。このように樹脂膜102の外側に周縁部を有する態様の基材101を用いることによって、上記の各製造工程では基材101の取扱性が向上し、樹脂膜102の表面に触れなくても処理を容易に進めることが可能になる。   In any of the above examples, the display plate is finally completed by removing the peripheral portion of the base material 101 by pressing or cutting. In this way, by using the base material 101 having a peripheral portion on the outside of the resin film 102, the handling property of the base material 101 is improved in each of the manufacturing steps described above, and the treatment can be performed without touching the surface of the resin film 102. Can be easily advanced.

図3は、上記の樹脂膜配置工程に用いることのできるスピンコーティング装置10の概略構成を示す概略構成図である。このスピンコーティング装置10は、精密ディスペンサなどで構成される樹脂塗布ヘッド11と、樹脂塗布ヘッド11に液状樹脂を送る樹脂供給部12と、基材101を保持固定した状態で回転する回転冶具13と、回転冶具13を回転駆動するモータ14とを備えている。また、回転冶具13には、基材101を吸着保持するための真空吸着構造や静電チャックなどで構成される基材保持手段15が設けられ、また、この基材保持手段15を動作させるための真空発生源や給電回路などの保持制御部16が設置されている。さらに、回転冶具13には、基材101の平面位置を調整するためのXYテーブルなどからなる位置調整手段17が設けられている。そして、上記の樹脂供給部12、モータ14及び保持制御部16は制御手段18によって制御されるようになっている。なお、カバー19はスピンコーティング時における液状樹脂の飛散を防止するためのものである。   FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a schematic configuration of the spin coating apparatus 10 that can be used in the resin film arranging step. The spin coating apparatus 10 includes a resin coating head 11 configured by a precision dispenser, a resin supply unit 12 that sends a liquid resin to the resin coating head 11, a rotating jig 13 that rotates while holding and fixing the base material 101, And a motor 14 for rotationally driving the rotary jig 13. Further, the rotary jig 13 is provided with a base material holding means 15 composed of a vacuum suction structure for holding the base material 101 by suction, an electrostatic chuck or the like, and for operating the base material holding means 15. A holding control unit 16 such as a vacuum generation source or a power feeding circuit is installed. Further, the rotary jig 13 is provided with a position adjusting means 17 including an XY table for adjusting the planar position of the base material 101. The resin supply unit 12, the motor 14, and the holding control unit 16 are controlled by the control unit 18. The cover 19 is for preventing the liquid resin from scattering during spin coating.

基材101が回転冶具13にセットされ、基材保持手段15が動作すると、基材101は回転冶具13に固定される。そして、位置調整手段17によって必要に応じて基材101の位置調整を行った後に、制御手段18の制御下において、樹脂供給部12から液状樹脂が供給され、樹脂塗布部11から液状樹脂が吐出され、基材101上に塗布される。その後、モータ14が動作し、回転冶具13が回転することによって、遠心力によって液状樹脂が基材101上において拡散され、膜状に広がる。ここで、回転軸線が上記露出領域内、すなわち、マスク110の開口部110a内を通過するように位置調整手段17によって基材101の位置が調整されることが好ましい。このようにすると、マスク110に覆われていない露出領域全体に液状樹脂を広げるように塗布することができる。特に、上記露出領域の中心(重心)位置、すなわち、開口部110aの中心(重心)位置を中心に基材101を回転させることが望ましい。   When the base material 101 is set on the rotary jig 13 and the base material holding means 15 is operated, the base material 101 is fixed to the rotary jig 13. Then, after the position adjustment means 17 adjusts the position of the base material 101 as necessary, the liquid resin is supplied from the resin supply section 12 and the liquid resin is discharged from the resin application section 11 under the control of the control means 18. And applied onto the substrate 101. Thereafter, when the motor 14 is operated and the rotary jig 13 is rotated, the liquid resin is diffused on the substrate 101 by centrifugal force and spreads in a film shape. Here, it is preferable that the position of the substrate 101 is adjusted by the position adjusting means 17 so that the rotation axis passes through the exposed area, that is, the opening 110 a of the mask 110. If it does in this way, it can apply so that liquid resin may be spread over the whole exposed field which is not covered with mask 110. In particular, it is desirable to rotate the substrate 101 around the center (center of gravity) position of the exposed area, that is, the center (center of gravity) position of the opening 110a.

回転冶具13の回転数は、300〜800rpmの範囲内とすることが好ましい。また、液状樹脂は基材101の樹脂膜形成領域の中心部に滴下されることが望ましい。液状樹脂の粘度は、0.5〜1.2Pa・sであることが好ましく、特に、約0.5Pa・sであることが望ましい。   The rotational speed of the rotary jig 13 is preferably in the range of 300 to 800 rpm. Further, it is desirable that the liquid resin is dropped on the central portion of the resin film forming region of the base material 101. The viscosity of the liquid resin is preferably 0.5 to 1.2 Pa · s, and particularly preferably about 0.5 Pa · s.

さらに、腕時計用の文字板(直径20〜30mm程度)である場合には、液状樹脂の滴下量は0.5〜2.0g程度であることが好ましい。たとえば、液状樹脂の滴下量が0.5g、1.0g、2.0gの場合には、回転数が300rpmのときに回転時間とは無関係に50〜200μmの範囲内の膜厚が得られた。また、回転数が350rpmの場合には、滴下量が0.5gのとき、回転時間とは無関係に約50〜80μmの膜厚が得られた。   Furthermore, in the case of a dial for a wristwatch (diameter of about 20 to 30 mm), it is preferable that the dropping amount of the liquid resin is about 0.5 to 2.0 g. For example, when the dropping amount of the liquid resin is 0.5 g, 1.0 g, and 2.0 g, a film thickness in the range of 50 to 200 μm is obtained regardless of the rotation time when the rotation speed is 300 rpm. . When the rotational speed was 350 rpm, a film thickness of about 50 to 80 μm was obtained regardless of the rotation time when the dropping amount was 0.5 g.

図4は、本実施形態の樹脂膜成形工程の切削加工ステップの様子を示す概略説明側面図(a)及び平面図(b)、並びに、この工程に用いる切削工具(バイト)の刃先形状を拡大して示す拡大部分側面図である。この工程では、樹脂膜配置工程において形成された樹脂膜102で被覆された基材101を、公知の旋盤(図示例では横型旋盤、縦型旋盤でもよい。)のスピンドルに固定し、基材101の法線が回転軸線となるように設定する。そして、基材101を回転させながら、切削工具3を適用して切削加工を行う。このとき、切削工具3の刃先3aを、上記回転軸線を中心とする回転半径方向に走査することによって、樹脂膜102の表面を切削していくことができる。   FIG. 4 is a schematic side view (a) and a plan view (b) showing the state of the cutting step of the resin film forming step of the present embodiment, and the cutting edge shape of the cutting tool (bite) used in this step is enlarged. It is an enlarged partial side view shown. In this step, the base material 101 covered with the resin film 102 formed in the resin film placement step is fixed to a spindle of a known lathe (in the illustrated example, a horizontal lathe or a vertical lathe may be used), and the base material 101 is fixed. Set so that the normal of is the axis of rotation. Then, cutting is performed by applying the cutting tool 3 while rotating the substrate 101. At this time, the surface of the resin film 102 can be cut by scanning the cutting edge 3a of the cutting tool 3 in the rotation radius direction centering on the rotation axis.

本実施形態では、図4の側面図(a)の図示上方であって、平面図(b)の図示手前側に刃先3aを走査していく。この場合、回転軸線の中心から外周に向けて刃先3aを走査していくことにより、切粉が外周側、すなわちまだ加工されていない部分の側、に排出されながら加工が進んでいくように設定できるので、切粉による切削仕上面の損傷が防止されるという利点がある。   In the present embodiment, the cutting edge 3a is scanned in the upper side of the side view (a) of FIG. 4 and on the front side of the plan view (b). In this case, by scanning the cutting edge 3a from the center of the rotation axis toward the outer periphery, setting is made so that the machining progresses while the chips are discharged to the outer peripheral side, that is, the side of the unprocessed part. As a result, there is an advantage that damage to the cut surface due to cutting chips is prevented.

図4(c)は、図4(a)における刃先3aを拡大して示すものである。刃先3aは、切れ刃3xと3yとが交差するコーナ(ノーズ)3zを有する形状となっている。このコーナ3zは丸コーナであり、そのコーナ半径(ノーズ半径)Rは5〜50μmであることが好ましく、約10〜20μmであることがさらに望ましい。本実施形態では約15μmとなっている。コーナ半径Rが上記範囲よりも小さいと、切削速度(送り速度)を小さくしなければ切削仕上面102bの表面粗さが大きくなるため、樹脂膜研磨工程における研磨時間が長くなる。また、コーナ半径Rが上記範囲よりも大きいと、切込みを小さくしなければ加工変形が大きくなり加工精度が低下するとともに、刃先3aの走査方向に微細な表面凹凸形状を形成することが難しくなる。   FIG.4 (c) expands and shows the blade edge | tip 3a in Fig.4 (a). The cutting edge 3a has a shape having a corner (nose) 3z where the cutting edges 3x and 3y intersect. The corner 3z is a round corner, and its corner radius (nose radius) R is preferably 5 to 50 μm, more preferably about 10 to 20 μm. In this embodiment, it is about 15 μm. If the corner radius R is smaller than the above range, the surface roughness of the cut surface 102b increases unless the cutting speed (feeding speed) is reduced, and the polishing time in the resin film polishing step becomes longer. On the other hand, if the corner radius R is larger than the above range, the machining deformation is increased and the machining accuracy is lowered unless the cut is made small, and it is difficult to form a fine surface uneven shape in the scanning direction of the blade edge 3a.

特に、本実施形態では、被削材が金属よりも柔らかい樹脂膜であるので、切込み(深さ)を大きくすると、加工変形が大きくなることにより加工精度が低下するため、切込みを小さくする必要がある。したがって、加工効率を落とさないようにしつつ、切削仕上面の面精度を維持し、また、その表面粗さの低減を図るためには、コーナ半径を上記範囲に設定することが効果的である。   In particular, in this embodiment, since the work material is a resin film that is softer than metal, increasing the depth of cut (depth) decreases the processing accuracy due to increased deformation of the work, so it is necessary to reduce the depth of cut. is there. Therefore, it is effective to set the corner radius within the above range in order to maintain the surface accuracy of the cut surface while reducing the machining efficiency and to reduce the surface roughness.

切削加工条件としては、基材101の回転速度を500〜3000rpm、回転半径方向への送り速度を0.5〜2.0mm/s、切込みを50〜100μm程度とすることにより、樹脂膜102を容易に切削加工することができる。   As cutting conditions, the resin film 102 is formed by setting the rotation speed of the substrate 101 to 500 to 3000 rpm, the feed speed in the rotation radius direction to 0.5 to 2.0 mm / s, and the cutting to about 50 to 100 μm. It can be easily cut.

以上説明した本実施形態により製造された表示板(文字板)100は、例えば、図5(a)に示す平面形状及び図5(b)に示す断面構造を有している。この表示板100は、図1(d)に示すように樹脂膜102の研磨加工の終了後に、電鋳などによって形成された部品103が接着固定され、必要に応じて基材101の周縁部を除去することによって図5(a)及び(b)に示すように形成される。なお、上記の部品103は、種々の文字、数字、図形、模様などを表すように構成されたものであってもよい。また、上記部品103の代わりに印刷層を形成してもよい。   The display plate (dial plate) 100 manufactured according to the present embodiment described above has, for example, a planar shape shown in FIG. 5A and a cross-sectional structure shown in FIG. In the display panel 100, as shown in FIG. 1D, after the polishing process of the resin film 102 is completed, a component 103 formed by electroforming or the like is bonded and fixed, and the peripheral portion of the substrate 101 is attached as necessary. By removing, it is formed as shown in FIGS. The component 103 may be configured to represent various characters, numbers, figures, patterns, and the like. Further, a printed layer may be formed instead of the component 103.

図5に示す表示板100は多軸文字板を構成する例である。この表示板100には、基材101の表面上に副表示領域100S1,100S2,100S3が設けられ、これらの各副表示領域にはそれぞれ樹脂膜102が形成されている。また、これらの副表示領域以外の表示領域には樹脂膜102は形成されていない。このように副表示領域にのみ樹脂膜102が形成されることで、表示板100の意匠性が高められるとともに、副表示領域100S1,100S2,100S3が強調され、その視認性が向上する。   The display board 100 shown in FIG. 5 is an example which comprises a multi-axis dial. In the display plate 100, sub display areas 100S1, 100S2, and 100S3 are provided on the surface of the substrate 101, and a resin film 102 is formed in each of the sub display areas. Further, the resin film 102 is not formed in display areas other than these sub display areas. Thus, by forming the resin film 102 only in the sub display area, the design of the display panel 100 is enhanced, and the sub display areas 100S1, 100S2, and 100S3 are emphasized, and the visibility is improved.

この表示板100を製造する場合には、副表示領域100S1,100S2,100S3に対応する開口部101aを有するマスク110を用い、これらの副表示領域にのみ樹脂膜102を配置(塗布)する。このとき、マスク110を一つの副表示領域に対応する開口部のみを形成したものとし、上記のスピンコーティング装置10などを用いて、当該開口部に液状樹脂を塗布し、その開口部の中心を通過する回転軸線周りに回転させることにより、樹脂膜を広げて配置し、硬化させる。そしてこの手順を、異なる位置に開口部を備えたマスクを用いて複数回繰り返すことによって上記構造を形成することができる。また、マスク110に複数の副表示領域に対応する複数の開口部を形成し、各開口部に対して、液状樹脂の塗布、当該開口部の中心位置を通過する回転軸線周りの回転による液状樹脂の拡散、硬化処理を順次行うという手順を実施し、この手順を上記と同じマスク110の異なる開口部に対して繰り返すようにしてもよい。   When manufacturing the display panel 100, the mask 110 having the opening 101a corresponding to the sub display areas 100S1, 100S2, and 100S3 is used, and the resin film 102 is disposed (applied) only in these sub display areas. At this time, it is assumed that the mask 110 is formed with only an opening corresponding to one sub-display region, and the liquid resin is applied to the opening using the spin coating apparatus 10 or the like, and the center of the opening is formed. By rotating around the axis of rotation that passes, the resin film is spread out and cured. The above structure can be formed by repeating this procedure a plurality of times using a mask having openings at different positions. Further, a plurality of openings corresponding to a plurality of sub-display areas are formed in the mask 110, and a liquid resin is applied to each opening by applying a liquid resin and rotating around a rotation axis passing through the center position of the opening. It is also possible to perform a procedure of sequentially performing the diffusion and curing processes, and repeat this procedure for different openings of the same mask 110 as described above.

この表示板100を製造する場合の樹脂膜成形工程は、上記複数の副表示領域に対して一度に施されることが製造効率を高める上で好ましい。この樹脂膜成形工程では、上述のように、切削加工ステップと、研磨加工ステップとを順次実施することができる。このとき、切削加工ステップにおいて上記の複数の副表示領域に対して順次に切削加工を実施し、その後、研磨加工ステップに移行し、この研磨加工ステップでは複数の副表示領域に対する研磨加工を同時に行うことが好ましい。   In order to increase the manufacturing efficiency, it is preferable that the resin film forming step in manufacturing the display panel 100 is performed at once on the plurality of sub display areas. In the resin film forming process, as described above, the cutting process step and the polishing process step can be sequentially performed. At this time, cutting is sequentially performed on the plurality of sub-display areas in the cutting step, and then, the process proceeds to the polishing step, and the polishing process is simultaneously performed on the plurality of sub-display areas. It is preferable.

本実施形態の製造方法では、上記の切削加工ステップにより、樹脂膜102の切削仕上面102cの形状を任意に設定できるという利点がある。すなわち、図1に示すように樹脂膜102の切削仕上面102cを平坦に構成するだけでなく、図5(b)に示すように樹脂膜102の表面を凸曲面状に構成することができる。もちろん、樹脂膜102の表面形状は図示例のような凸曲面状に限られるものではなく、円錐状、角錐状、多面体形状などの任意の表面形状を形成することができる。このような表面形状は、例えば、上記の切削加工ステップにおいて切削加工で概略形状を形成しておき、その後の研磨加工ステップにおいて切削肌を除去することにより、高い面精度を維持したまま平滑に構成できる。   In the manufacturing method of this embodiment, there exists an advantage that the shape of the cutting finished surface 102c of the resin film 102 can be set arbitrarily by said cutting process step. That is, not only can the cut surface 102c of the resin film 102 be made flat as shown in FIG. 1, but the surface of the resin film 102 can be made into a convex curved surface as shown in FIG. 5B. Of course, the surface shape of the resin film 102 is not limited to the convex curved surface shape as shown in the figure, and an arbitrary surface shape such as a conical shape, a pyramidal shape, or a polyhedral shape can be formed. Such a surface shape is configured to be smooth while maintaining high surface accuracy by, for example, forming a rough shape by cutting in the above-described cutting step and removing the cut skin in the subsequent polishing step. it can.

なお、この例では、部品103は基材101の表面上に直接固定されている。ただし、副表示領域にも部品を配置する場合には、樹脂膜102の下層に配置してもよく、樹脂膜102の表面上に配置してもよい。また、部品103を配置(固定)する代わりに、印刷層などを形成してもよい。   In this example, the component 103 is directly fixed on the surface of the substrate 101. However, when components are also arranged in the sub display area, they may be arranged below the resin film 102 or on the surface of the resin film 102. Further, instead of arranging (fixing) the component 103, a printed layer or the like may be formed.

また、図5(c)に示す表示板200のように、基材201の全表面上に樹脂膜202を形成するが、副表示領域200S1,200S3のみに他の領域とは異なる表面形状(図示例では凸曲面状)の部分を構成することも可能である。この場合においては、基材201の表面上に第1層となる樹脂膜を配置(塗布)し、必要に応じてこの樹脂膜の表面を平坦化し、その後、副表示領域を上記露出領域とするマスク110を形成して、さらに第2層となる樹脂膜を副表示領域に配置(塗布)する。これによって樹脂膜202が形成されるので、その後、この樹脂膜202を成形する工程を実施し、最終的に副表示領域200S1,200S3がその他の領域の表面形状202cとは異なり、この表面形状202cよりも突出した(厚肉の)表面形状202c1,202c3を有するように構成する。   5C, the resin film 202 is formed on the entire surface of the base material 201, but only the sub-display areas 200S1 and 200S3 have a different surface shape from the other areas (see FIG. 5C). It is also possible to constitute a convex curved surface portion in the example shown. In this case, a resin film to be a first layer is disposed (applied) on the surface of the substrate 201, and the surface of the resin film is flattened as necessary, and then the sub display area is set as the exposed area. A mask 110 is formed, and a resin film to be a second layer is disposed (applied) in the sub display area. As a result, the resin film 202 is formed. After that, a step of molding the resin film 202 is performed. Finally, the sub display regions 200S1 and 200S3 are different from the surface shapes 202c of the other regions, and the surface shape 202c. It is configured to have surface shapes 202c1 and 202c3 that are more projecting (thick).

図5(c)に示すように凹凸を有する表面形状を有する樹脂膜202に対しても、上記樹脂膜成形工程は上記と同様に実施できる。例えば、切削加工ステップは切削工具の位置を制御することによって支障なく実施できる。また、研磨加工ステップは、研磨作用が膜厚方向の広い範囲に亘って得られる研磨方法(バフ研磨など)を用いることにより上記と同様に切削仕上面を研磨することができ、最終的に平滑な曲面で構成された表面を形成することが可能である。なお、図5(c)に示す表示板では、部品203は樹脂膜202の表面上に配置されている。このように、部品203や印刷層などを、基材201の表面上に形成してもよいが、例えば、図5(b)に示す表示板100と同様に、基材201の表面上に形成したり(すなわち、樹脂膜202の下層に配置したり)、樹脂膜202の内部に埋め込んだりしても構わない。   As shown in FIG. 5C, the resin film forming step can be performed in the same manner as described above for the resin film 202 having an uneven surface shape. For example, the cutting step can be performed without hindrance by controlling the position of the cutting tool. In addition, the polishing step can polish the cut surface in the same manner as described above by using a polishing method (buff polishing or the like) in which the polishing action is obtained over a wide range in the film thickness direction. It is possible to form a surface composed of a curved surface. In the display board shown in FIG. 5C, the component 203 is disposed on the surface of the resin film 202. In this way, the component 203, the printed layer, and the like may be formed on the surface of the base material 201, but for example, formed on the surface of the base material 201 in the same manner as the display panel 100 shown in FIG. (That is, disposed below the resin film 202) or embedded in the resin film 202.

この表示板200においても、樹脂膜の表面形状の相違により、副表示領域とそれ以外の領域とで外観を異ならしめることができるため、意匠性を高めることができ、また、副表示領域の視認性を向上させることも可能である。   Also in this display board 200, the appearance can be made different between the sub display area and the other areas due to the difference in the surface shape of the resin film, so that the design can be improved, and the visibility of the sub display area can be improved. It is also possible to improve the performance.

図6(a)に示す表示板300では、基材301の表面上において、副表示領域300S1,300S3には樹脂膜を形成せず、それ以外の領域に樹脂膜302を形成してある。この場合には、上記のマスク110を副表示領域300S1,300S3に配置し、その他の領域にはマスクが形成されないようにする。このようにすることで、上述のスピンコーティング法などによって副表示領域以外の領域にのみ樹脂膜302を形成することができる。これによって、副表示領域とそれ以外の領域とで外観の異なる表示態様を実現できるため、表示板300の意匠性を高めることができ、また、副表示領域の視認性も向上できる。なお、部品303は樹脂膜302の表面上に配置されている。   In the display board 300 shown in FIG. 6A, on the surface of the base material 301, the resin film 302 is formed in the other areas without forming the resin film in the sub display areas 300S1 and 300S3. In this case, the mask 110 is arranged in the sub display areas 300S1 and 300S3 so that no mask is formed in other areas. Thus, the resin film 302 can be formed only in a region other than the sub display region by the above-described spin coating method or the like. Thereby, since the display modes having different appearances can be realized in the sub display area and the other areas, the design of the display panel 300 can be improved, and the visibility of the sub display area can be improved. The component 303 is disposed on the surface of the resin film 302.

また、図6(b)に示す表示板400は、基材401の表面上において、副表示領域400S1,400S3に形成された樹脂膜404,405の表面形状と、それ以外の領域に形成された樹脂膜402の表面形状とが異なっている。例えば、図示例では、副表示領域の表面形状は凸曲面状であるのに対して、その他の表面領域の表面形状は平坦に構成されている。また、樹脂膜402と、樹脂膜404,405とを異なる樹脂材料、特に、光屈折率や光透過率が異なるなど、異なる外観を有する樹脂材料で構成してもよい。なお、部品403は樹脂膜402の下層に配置されている。この構成例では、副表示領域を覆うマスクを用いて樹脂膜402を形成し、副表示領域以外の領域を覆い、副表示領域を露出するマスクを用いて樹脂膜404,405を形成する。これによって、上記と同様に表示板400の意匠性を高めることができ、また、副表示領域の視認性も向上させることができる。   6B is formed on the surface of the base material 401 in the surface shape of the resin films 404 and 405 formed in the sub display areas 400S1 and 400S3 and in other areas. The surface shape of the resin film 402 is different. For example, in the illustrated example, the surface shape of the sub display area is a convex curved surface, while the surface shapes of the other surface areas are configured to be flat. Further, the resin film 402 and the resin films 404 and 405 may be made of different resin materials, in particular, resin materials having different appearances such as different light refractive index and light transmittance. The component 403 is disposed below the resin film 402. In this configuration example, the resin film 402 is formed using a mask that covers the sub display area, the resin films 404 and 405 are formed using a mask that covers an area other than the sub display area and exposes the sub display area. As a result, the design of the display panel 400 can be improved in the same manner as described above, and the visibility of the sub display area can be improved.

なお、本実施形態では、樹脂膜の表面形状を切削加工によって任意の面形状に構成することができるという利点を有している。したがって、上記態様に限らず、切削加工によって、樹脂膜の表面に放射目や筋目などの微細な凹凸形状を形成したり、絵柄を彫り込んだりすることも可能である。   In addition, in this embodiment, it has the advantage that the surface shape of a resin film can be comprised by arbitrary surface shapes by cutting. Therefore, the present invention is not limited to the above embodiment, and it is also possible to form fine irregularities such as radiating lines and streaks on the surface of the resin film, or to engrave a pattern by cutting.

図6(c)は、表示板を構成する基材501の構成例を示す断面図である。この基材501は、副表示領域500S1,500S3に開口部501Ahを有する表面板501Aと、その裏側に配置される裏面板501Bとを有する。表面板501Aと裏面板501Bとは相互に接着されていてもよく、単に重ねあわされるだけでもよい。また、表面板501Aに相当する部分と裏面板501Bに相当する部分とが一体に構成されていてもよい。すなわち、一体の基材501の表面に凹部(くぼみ)が形成されているものであってもよい。このようにすると、副表示領域500S1,500S3における基材501の表面高さがその他の領域と異なることになるため、表示板の外観デザインに奥行感が出る。そして、この基材501の表面上に上記のように副表示領域とそれ以外の領域とで、一方には樹脂膜を形成し他方には樹脂膜を形成しないようにしたり、樹脂膜の厚さを変えたり、樹脂膜の表面形状を変えたり、樹脂膜の材質を変えたりすることにより、さらに意匠性を高めることが可能になる。   FIG.6 (c) is sectional drawing which shows the structural example of the base material 501 which comprises a display board. The base member 501 includes a front plate 501A having openings 501Ah in the sub display areas 500S1 and 500S3, and a back plate 501B disposed on the back side thereof. The front surface plate 501A and the back surface plate 501B may be bonded to each other, or simply overlapped. Further, a portion corresponding to the front plate 501A and a portion corresponding to the back plate 501B may be integrally formed. That is, a concave portion (recess) may be formed on the surface of the integral base material 501. If it does in this way, since the surface height of the base material 501 in sub display area 500S1 and 500S3 will differ from another area | region, a feeling of depth appears in the external appearance design of a display board. Then, on the surface of the base 501, as described above, a resin film is formed on one side and a resin film is not formed on the other side, or the thickness of the resin film. It is possible to further improve the design by changing the shape of the resin film, changing the surface shape of the resin film, or changing the material of the resin film.

なお、本実施形態において、図3に示すスピンコーティング装置10を用いて上記の切削加工ステップを実施してもよい。例えば、スピンコーティング装置10の樹脂塗布ヘッド11の代わりに図示しない工具ホルダを配置し、この工具ホルダに切削工具を取り付け、回転冶具13上に固定された基材101上の樹脂膜102を切削加工するように構成してもよい。この場合、工具ホルダは回転冶具13に対して精密に移動可能に構成される。このようにすれば、基材101上に形成された樹脂膜102にそのまま旋削加工を施すことができる。また、図5(b)及び(c)並びに図6(b)に示すような樹脂膜の表面形状も、位置調整手段17を用いて副表示領域に回転軸線を整合させることで容易に加工することができる。   In the present embodiment, the cutting step may be performed using the spin coating apparatus 10 shown in FIG. For example, a tool holder (not shown) is disposed in place of the resin coating head 11 of the spin coating apparatus 10, a cutting tool is attached to the tool holder, and the resin film 102 on the substrate 101 fixed on the rotary jig 13 is cut. You may comprise. In this case, the tool holder is configured to be able to move precisely with respect to the rotary jig 13. In this way, the resin film 102 formed on the substrate 101 can be turned as it is. Also, the surface shape of the resin film as shown in FIGS. 5B and 5C and FIG. 6B is easily processed by aligning the rotation axis with the sub display area using the position adjusting means 17. be able to.

尚、本発明の表示板の製造方法は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。   In addition, the manufacturing method of the display board of this invention is not limited only to the above-mentioned illustration example, Of course, various changes can be added within the range which does not deviate from the summary of this invention.

本発明に係る表示板の製造方法の実施形態を示す工程断面図(a)−(d)。Process sectional drawing (a)-(d) which shows embodiment of the manufacturing method of the display board which concerns on this invention. 同実施形態の表示板の製造過程における平面形状の例を示す平面図(a)−(d)。The top view (a)-(d) which shows the example of the planar shape in the manufacture process of the display board of the embodiment. 同実施形態の樹脂膜配置工程に用いるスピンコーティング装置の概略構成図。The schematic block diagram of the spin coating apparatus used for the resin film arrangement | positioning process of the embodiment. 同実施形態の樹脂膜切削工程の概略側面図(a)、概略平面図(b)及び切削工具の刃先の拡大部分断面図(c)。The schematic side view (a) of the resin film cutting process of the embodiment, a schematic plan view (b), and the expanded partial sectional view (c) of the blade edge of a cutting tool. 同実施形態により製造した表示板の構成例を示す平面図(a)及び断面図(b)並びに異なる表示板の断面図(c)。The top view (a) and sectional drawing (b) which show the structural example of the display board manufactured by the same embodiment, and sectional drawing (c) of a different display board. 同実施形態により製造した表示板の別の構成例を示す断面図(a)及び(b)、並びに、表示板を構成する基材の異なる構成例を示す断面図(c)。Sectional drawing (a) which shows another structural example of the display board manufactured by the embodiment, (b), and sectional drawing (c) which shows the different structural example of the base material which comprises a display board.

符号の説明Explanation of symbols

100…表示板(文字板)、101…基材、102…樹脂膜、103…部品、10…スピンコーティング装置、3…切削工具、3a…刃先、3x、3y…切れ刃、3z…コーナ、100S1〜100S3…副表示領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Display board (character board), 101 ... Base material, 102 ... Resin film, 103 ... Parts, 10 ... Spin coating apparatus, 3 ... Cutting tool, 3a ... Cutting edge, 3x, 3y ... Cutting blade, 3z ... Corner, 100S1 ~ 100S3 ... Sub display area

Claims (10)

板状の基材の一部に露出領域を構成する開口部を備えたマスクを形成するマスキング工程と、マスキングされた前記基材の前記露出領域に樹脂膜を配置する樹脂膜配置工程と、前記樹脂膜の表面を成形する樹脂膜成形工程とを有することを特徴とする表示板の製造方法。   A masking step of forming a mask having an opening that constitutes an exposed region in a part of a plate-like base material; a resin film arranging step of arranging a resin film in the exposed region of the masked base material; And a resin film forming step for forming the surface of the resin film. 複数の前記露出領域について少なくとも前記マスキング工程及び前記樹脂膜配置工程を複数回繰り返すことを特徴とする請求項1に記載の表示板の製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein at least the masking step and the resin film arranging step are repeated a plurality of times for the plurality of exposed regions. 前記マスキング工程では複数の前記露出領域が設けられ、前記樹脂膜配置工程では、前記複数の露出領域にそれぞれ前記樹脂膜を配置することを特徴とする請求項1に記載の表示板の製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein a plurality of the exposed regions are provided in the masking step, and the resin films are respectively disposed in the plurality of exposed regions in the resin film arranging step. 前記樹脂膜配置工程では、前記基材上に配置された液状樹脂を、前記露出領域内に設定された回転軸線を中心とする回転により生ずる遠心力により広げるステップを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の表示板の製造方法。   The step of arranging the resin film includes a step of spreading the liquid resin arranged on the base material by a centrifugal force generated by rotation about a rotation axis set in the exposed region. The manufacturing method of the display board as described in any one of 1-3. 前記樹脂膜成形工程は、前記樹脂膜の表面に切削加工を施す切削加工ステップを含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の表示板の製造方法。   5. The display plate manufacturing method according to claim 1, wherein the resin film forming step includes a cutting step of cutting a surface of the resin film. 6. 前記切削加工ステップでは、前記基材をその法線周りに回転させた状態で切削工具を適用し、該切削工具を前記基材の回転半径方向に走査することにより切削を行うことを特徴とする請求項5に記載の表示板の製造方法。   In the cutting step, the cutting tool is applied in a state where the base material is rotated around the normal line, and the cutting is performed by scanning the cutting tool in the rotational radius direction of the base material. The manufacturing method of the display board of Claim 5. 前記樹脂膜成形工程は、前記切削加工ステップの後に、前記樹脂膜の表面を研磨する研磨加工ステップを含むことを特徴とする請求項5又は6に記載の表示板の製造方法。   The method for manufacturing a display plate according to claim 5, wherein the resin film forming step includes a polishing step of polishing a surface of the resin film after the cutting step. 前記樹脂膜は可視光を透過可能な光透過性を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の表示板の製造方法。   The method for manufacturing a display panel according to claim 1, wherein the resin film has a light-transmitting property capable of transmitting visible light. 請求項1乃至8のいずれか一項に記載の表示板の製造方法により製造されたことを特徴とする表示板。   A display board manufactured by the method for manufacturing a display board according to claim 1. 請求項9に記載の表示板を備えたことを特徴とする計時装置。
A time measuring device comprising the display panel according to claim 9.
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