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JP2005172999A - Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus - Google Patents

Electro-optical device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus Download PDF

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JP2005172999A
JP2005172999A JP2003410302A JP2003410302A JP2005172999A JP 2005172999 A JP2005172999 A JP 2005172999A JP 2003410302 A JP2003410302 A JP 2003410302A JP 2003410302 A JP2003410302 A JP 2003410302A JP 2005172999 A JP2005172999 A JP 2005172999A
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electro
sealing material
conductive particles
optical device
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JP2003410302A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasutaka Masunaga
靖隆 増永
Satoshi Hasegawa
敏 長谷川
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

【課題】 シール材に含まれる導電性粒子の凝集による、隣接する電極パターン同士のショート等の発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 シール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、シール材は、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含んでいる。
【選択図】 図8

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device, a method of manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus that are less likely to cause short-circuit between adjacent electrode patterns due to aggregation of conductive particles contained in a sealing material.
An electro-optic comprising: a first substrate and a second substrate arranged to face each other with a sealant interposed therebetween; and an electro-optic material sandwiched between the first substrate and the second substrate. In the apparatus, the first substrate has a first electrode pattern on the surface, the second substrate has a second electrode pattern on the surface, electrical wiring, and an external connection terminal on at least one side. The sealing material includes an insulating adhesive as a base material, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting the cell gap. .
[Selection] Figure 8

Description

本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を含む電子機器に関する。
特に、異方導電性のシール材を介して、一対の基板を接合した場合にも、隣接する電極パターン間でのショートの発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びこのような電気光学装置を含む電子機器に関する。
The present invention relates to an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device.
In particular, even when a pair of substrates are bonded via an anisotropically conductive sealing material, an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device, and a method for manufacturing such an electro-optical device, in which the occurrence of short-circuits between adjacent electrode patterns is small. The present invention relates to an electronic apparatus including an electro-optical device.

従来、互いに対向配置される一対の基板の一方に形成した走査電極と、他方の基板に形成したデータ電極とを、ドットマトリクス状の複数の点で交差させることによって画素を形成し、それらの画素に印加する電圧を選択的に変化させることによって、当該画素に含まれる液晶物質を通過する光を変調させ、文字等の像を表示する液晶表示装置が多用されている。
かかる液晶表示装置は、通常、第1の電極パターン(走査電極)を有する第1の基板と、第2の電極パターン(データ電極)及び外部接続用端子を有する第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の外周面に沿って配置されるとともに、第1の基板及び第2の基板を貼り合わせるためのシール材と、第1の基板及び第2の基板の間に封入された液晶と、から構成されている。また、このような液晶表示装置に使用されるシール材としては、絶縁性接着剤中に、導電性粒子を含んで構成される異方導電性のシール材が一般的である。そして、かかるシール材によって、第2の基板上の電気配線と、第1の基板上の第1の電極パターンとが、電気的に接続されている。
しかしながら、シール材中に含まれる導電性粒子は凝集しやすく、その凝集個数や、隣接する電極パターン間の距離によっては、電極パターン同士を電気的に接続してしまう場合があった。したがって、ショートが発生し、画像欠陥が見られる場合があった。
Conventionally, pixels are formed by crossing a scan electrode formed on one of a pair of substrates opposed to each other and a data electrode formed on the other substrate at a plurality of points in a dot matrix shape, and these pixels A liquid crystal display device that displays an image such as a character by modulating light passing through a liquid crystal substance included in the pixel by selectively changing a voltage applied to the pixel is widely used.
Such a liquid crystal display device usually has a first substrate having a first electrode pattern (scanning electrode), a second substrate having a second electrode pattern (data electrode) and an external connection terminal, and the first substrate. Arranged along the outer peripheral surfaces of the first substrate and the second substrate, and sealed between the first substrate and the second substrate, and a sealing material for bonding the first substrate and the second substrate together Liquid crystal. Moreover, as a sealing material used for such a liquid crystal display device, an anisotropic conductive sealing material comprising conductive particles in an insulating adhesive is generally used. And the electrical wiring on the 2nd board | substrate and the 1st electrode pattern on the 1st board | substrate are electrically connected by this sealing material.
However, the conductive particles contained in the sealing material are likely to aggregate, and depending on the number of aggregates and the distance between adjacent electrode patterns, the electrode patterns may be electrically connected. Therefore, a short circuit occurs and image defects may be seen.

そこで、このような問題を解決するために、シール材とは異なるものの、導電性粒子を絶縁性バインダー中に分散させた異方性導電膜が提案されている。より具体的には、図18に示すように、絶縁性バインダー中に、導電性微粒子と、その直径よりも小さい径の絶縁性微粒子と、を混在させるとともに、導電性微粒子が集中して存在する領域と、絶縁性微粒子が集中して存在する領域とを形成した異方性導電膜である(例えば、特許文献1参照)。
特開2002−75488号公報(特許請求の範囲)
Thus, in order to solve such problems, an anisotropic conductive film in which conductive particles are dispersed in an insulating binder has been proposed, although it is different from a sealing material. More specifically, as shown in FIG. 18, the conductive fine particles and the insulating fine particles having a diameter smaller than the diameter are mixed in the insulating binder, and the conductive fine particles are concentrated. This is an anisotropic conductive film in which a region and a region where insulating fine particles are concentrated are formed (see, for example, Patent Document 1).
JP 2002-75488 A (Claims)

しかしながら、特許文献1に記載された異方性導電膜は、導電性微粒子が集中して存在する領域と、絶縁性微粒子が集中して存在する領域とを、安定して作成することは困難であり、歩留まりが低いという問題が見られた。また、当該導電性微粒子の直径よりも小さい径の絶縁性微粒子を使用しているために、導電性微粒子の存在しない領域においては、セルギャップにバラつきが生じて、凝集粒子が形成しやすくなるという問題が見られた。さらに、導電性微粒子の分散性を定量的に判断する手法がなく、工業的規模の電気光学装置等の生産において、その検査方法が確立できないという問題が見られた。
したがって、特許文献1に記載された異方性導電膜を、異方導電性のシール材にそのまま適用したとしても、ショートが発生し、画像欠陥が生じやすいという問題が未だ見られた。
However, it is difficult for the anisotropic conductive film described in Patent Document 1 to stably create a region where conductive fine particles are concentrated and a region where insulating fine particles are concentrated. There was a problem that the yield was low. In addition, since the insulating fine particles having a diameter smaller than the diameter of the conductive fine particles are used, the cell gap varies in a region where the conductive fine particles are not present, and aggregated particles are easily formed. There was a problem. Furthermore, there is no method for quantitatively determining the dispersibility of the conductive fine particles, and there has been a problem that the inspection method cannot be established in the production of an industrial-scale electro-optical device or the like.
Therefore, even if the anisotropic conductive film described in Patent Document 1 is applied to an anisotropic conductive sealing material as it is, there still remains a problem that a short circuit occurs and an image defect is likely to occur.

そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、電気光学装置に使用されるシール材を、導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含んだ構成とすることにより、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を定量的に制御できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、電気光学装置において、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を制御して、凝集粒子の発生を効率的に抑制し、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止できる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、このような電気光学装置の効率的な製造方法を提供するとともに、このような電気光学装置を含む電子機器を提供することである。
Accordingly, the inventors of the present invention have made diligent efforts and included a sealing material used in an electro-optical device, including dispersible particles for dispersing conductive particles and a spacer for adjusting a cell gap. The inventors have found that the dispersibility of the conductive particles contained in the sealing material can be quantitatively controlled by using the configuration, and the present invention has been completed.
That is, the present invention controls the dispersibility of the conductive particles contained in the sealing material in the electro-optical device, effectively suppresses the generation of aggregated particles, and effectively prevents the occurrence of shorts between adjacent electrode patterns. It is an object of the present invention to provide an electro-optical device that can be prevented. Another object of the present invention is to provide an efficient manufacturing method of such an electro-optical device and to provide an electronic apparatus including such an electro-optical device.

本発明によれば、異方導電性のシール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置であって、
第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、
第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含む電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、シール材に含まれる分散性粒子によって、導電性粒子同士の接触が阻害され、かつ、スペーサによって、導電性粒子の横方向の広がりが制御されるため、導電性粒子の分散性を制御して、凝集粒子の発生を効率的に抑制し、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができる。
According to the present invention, the first substrate and the second substrate that are arranged to face each other via the anisotropic conductive sealing material, and the electro-optic sandwiched between the first substrate and the second substrate. An electro-optic device comprising a substance,
The first substrate comprises a first electrode pattern on the surface,
The second substrate includes a second electrode pattern on the surface, electrical wiring, and an external connection terminal on at least one side,
The sealing material is provided with an electro-optical device including an insulating adhesive, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting a cell gap. The problem can be solved.
That is, the dispersible particles contained in the sealing material inhibit the contact between the conductive particles, and the spacers control the lateral spread of the conductive particles, thereby controlling the dispersibility of the conductive particles. Thus, the generation of aggregated particles can be efficiently suppressed, and the occurrence of short circuits between adjacent electrode patterns can be effectively prevented.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材において、導電性粒子の分散性を示す指標であって、下記式(1)で示される分散性指数(P1)を2以上の値とすることが好ましい。   Further, in configuring the electro-optical device of the present invention, the sealing material is an index indicating the dispersibility of the conductive particles, and the dispersibility index (P1) represented by the following formula (1) is a value of 2 or more. It is preferable to do.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A1:シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B1:最大個数がA1である凝集粒子の数
B1:B1の階乗
ただし、ある最大個数の凝集粒子が存在しない場合には、累積の計算において、その最大個数に対応したe-[1/(A1-1)]/NB1の値を0とする(以下、同様である)。
e: Natural log base A1: In aggregated particles made of conductive particles contained in the sealing material, the maximum number of conductive particles arranged in one direction per unit area B1: Number of aggregated particles having the maximum number A1 N B1 : Factorial of B1 However, if there is no maximum number of aggregated particles, the value of e − [1 / (A1-1)] / N B1 corresponding to the maximum number is 0 in the cumulative calculation (Hereinafter the same).

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、シール材に含まれる分散性粒子の平均粒径を0.3s〜0.9s(μm)の範囲内の値とすることが好ましい。   Further, in configuring the electro-optical device of the present invention, when the average particle size of the conductive particles contained in the sealing material is s (μm), the average particle size of the dispersible particles contained in the sealing material is 0. A value in the range of 3 s to 0.9 s (μm) is preferable.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、第1の電極パターン又は第2の電極パターンにおける、隣接する電極パターン間の距離を2.5s〜5s(μm)の範囲内の値とすることが好ましい。   Further, in configuring the electro-optical device of the present invention, when the average particle diameter of the conductive particles contained in the sealing material is s (μm), the first electrode pattern or the second electrode pattern is adjacent. It is preferable to set the distance between the electrode patterns to a value in the range of 2.5 s to 5 s (μm).

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれるスペーサのアスペクト比を1:2〜1:6の範囲内の値とすることが好ましい。   In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable to set the aspect ratio of the spacer included in the sealing material to a value in the range of 1: 2 to 1: 6.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、シール材に含まれる分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内の値とするとともに、スペーサの添加量を3〜30重量%の範囲内の値とすることが好ましい。   Further, in configuring the electro-optical device of the present invention, when the addition amount of the conductive particles contained in the sealing material is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles contained in the sealing material is 50 to 300% by weight. It is preferable to set the added amount of the spacer to a value within the range of 3 to 30% by weight.

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、外部接続用端子が異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続してあるとともに、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含み、かつ、下記式(2)で示される分散性指数(P2)を2以上の値とすることが好ましい。   In constructing the electro-optical device of the present invention, the external connection terminal is electrically connected to at least the connection substrate through the anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film is insulatively bonded. A dispersibility index (P2) represented by the following formula (2) is set to a value of 2 or more, including an agent, conductive particles, and dispersible particles for dispersing the conductive particles. preferable.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A2:異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B2:一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がA2である凝集粒子数
B2:B2の階乗
ただし、ある最大個数の凝集粒子が存在しない場合には、累積の計算において、その最大個数に対応したe-[1/(A2-1)]/NB2の値を0とする(以下、同様である)。
e: base of natural logarithm A2: maximum number of conductive particles arranged in one direction in aggregated particles made of conductive particles contained in anisotropic conductive film B2: maximum number of conductive particles arranged in one direction is A2 A certain number of aggregated particles N B2 : factorial of B2 However, if there is no maximum number of aggregated particles, e − [1 / (A2-1)] / N corresponding to the maximum number in the cumulative calculation The value of B2 is set to 0 (the same applies hereinafter).

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の平均粒径をt(μm)としたときに、異方性導電膜に含まれる分散性粒子の平均粒径を0.3t〜0.9t(μm)の範囲内の値とすることが好ましい。   Further, in constituting the electro-optical device of the present invention, when the average particle diameter of the conductive particles contained in the anisotropic conductive film is t (μm), the dispersive particles contained in the anisotropic conductive film The average particle diameter is preferably set to a value within the range of 0.3 t to 0.9 t (μm).

また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、異方性導電膜に含まれる分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内の値とすることが好ましい。   Further, in constituting the electro-optical device of the present invention, when the addition amount of the conductive particles contained in the anisotropic conductive film is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles contained in the anisotropic conductive film Is preferably set to a value within the range of 50 to 300% by weight.

また、本発明の別の態様は、異方導電性のシール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含むとともに、第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、
絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、第1の基板及び第2の基板を接合する電気光学装置の製造方法である。
In another aspect of the present invention, the first substrate and the second substrate, which are opposed to each other with an anisotropic conductive sealant interposed therebetween, are sandwiched between the first substrate and the second substrate. The first substrate includes a first electrode pattern on the surface, and the second substrate includes at least one side of the second electrode pattern, the electric wiring, and the second electrode pattern on the surface. A method for manufacturing an electro-optical device having an external connection terminal on the side,
Using a sealing material including an insulating adhesive, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting a cell gap, the first substrate and the first substrate 2 is a method of manufacturing an electro-optical device for bonding two substrates.

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シール材として、導電性粒子の分散性を示す指標であって、下記式(1)で示される分散性指数(P1)が2以上の値であるシール材を使用することが好ましい。   In carrying out the method for manufacturing the electro-optical device of the present invention, the sealing material is an index indicating the dispersibility of the conductive particles, and the dispersibility index (P1) represented by the following formula (1) is 2 or more. It is preferable to use a sealing material having a value of.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A1:シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B1:最大個数がA1である凝集粒子の数
B1:B1の階乗
e: Natural log base A1: In aggregated particles made of conductive particles contained in the sealing material, the maximum number of conductive particles arranged in one direction per unit area B1: Number of aggregated particles having the maximum number A1 N B1 : B1 factorial

また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、外部接続用端子を、異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続する工程を含み、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含むとともに、かつ、下記式(2)で示される導電性粒子の分散性指数(P2)が2以上の値であることが好ましい。   In carrying out the method of manufacturing the electro-optical device of the present invention, the method includes the step of electrically connecting the external connection terminal to at least the connection substrate through the anisotropic conductive film, And an insulating adhesive, conductive particles, and dispersible particles for dispersing the conductive particles, and the dispersibility index (P2) of the conductive particles represented by the following formula (2) Is preferably a value of 2 or more.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A2:異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B2:一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がA2である凝集粒子数
B2:B2の階乗
e: base of natural logarithm A2: maximum number of conductive particles arranged in one direction in aggregated particles made of conductive particles contained in anisotropic conductive film B2: maximum number of conductive particles arranged in one direction is A2 A certain aggregate particle number N B2 : Factorial of B2

また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器である。   According to still another aspect of the invention, there is provided an electronic apparatus including any one of the electro-optical devices described above.

以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments relating to an electro-optical device, an electro-optical device manufacturing method, and an electronic apparatus including the electro-optical device according to the invention will be specifically described below with reference to the drawings.
However, this embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.

[第1実施形態]
第1実施形態は、シール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置である。
そして、かかる電気光学装置において、
第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、
第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むことを特徴とする。
以下、図1〜図11を適宜参照しながら、本発明の第1実施形態の電気光学装置について、カラーフィルタ基板(第1の基板)、及び素子基板(第2の基板)を用いた液晶表示装置10を例に採って説明する。
[First Embodiment]
1st Embodiment contains the 1st board | substrate and 2nd board | substrate which are opposingly arranged through a sealing material, and the electro-optical material pinched | interposed between the said 1st board | substrate and 2nd board | substrate. An electro-optical device.
In such an electro-optical device,
The first substrate comprises a first electrode pattern on the surface,
The second substrate includes a second electrode pattern on the surface, electrical wiring, and an external connection terminal on at least one side,
The sealing material includes an insulating adhesive, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting a cell gap.
Hereinafter, a liquid crystal display using a color filter substrate (first substrate) and an element substrate (second substrate) for the electro-optical device according to the first embodiment of the present invention with reference to FIGS. The apparatus 10 will be described as an example.

1.液晶表示装置の基本構造
まず、図1〜図2を参照して、本発明の第1実施形態に係る電気光学装置としての液晶表示装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板および偏光板について具体的に説明する。なお、図1は、本発明の第1実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル200を示す概略斜視図であり、図2は、液晶パネル200の模式的な概略断面図である。
また、図1に示される液晶パネル200は、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル200であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
なお、本実施形態においてはパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルを例にとって説明するが、TFD素子(Thin Film Diode)やTFT素子(Thin Film Transistor)等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても構わない。
1. Basic Structure of Liquid Crystal Display Device First, referring to FIGS. 1 to 2, the basic structure of a liquid crystal display device as an electro-optical device according to the first embodiment of the present invention, that is, a cell structure, wiring, or a retardation plate The polarizing plate will be specifically described. 1 is a schematic perspective view showing a liquid crystal panel 200 constituting the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic schematic cross-sectional view of the liquid crystal panel 200.
Further, the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 1 is a liquid crystal panel 200 having a passive matrix structure, and an illuminating device such as a backlight or a front light, a case body, etc., which are not shown, are appropriately attached as necessary. As a result, a liquid crystal display device is obtained.
In this embodiment, a liquid crystal panel having a passive matrix structure will be described as an example. However, the liquid crystal panel has an active matrix structure using a nonlinear element such as a TFD element (Thin Film Diode) or a TFT element (Thin Film Transistor). It may be a liquid crystal panel.

(1)セル構造
図1に示すように、液晶パネル200は、ガラス板や合成樹脂板等を基体とする第1の基板(カラーフィルタ基板)12と、これに対向配置される、ガラス板や合成樹脂板等を基体とする第2の基板(素子基板)14とが、シール材230を介して貼り合わせられている。そして、カラーフィルタ基板12と、素子基板14とが形成する空間であって、シール材230の内側部分に対して、開口部230aを介して液晶を注入した後、封止材231にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図2に示すように、カラーフィルタ基板12と素子基板14との間に液晶232が充填されていることが好ましい。
(1) Cell structure As shown in FIG. 1, a liquid crystal panel 200 includes a first substrate (color filter substrate) 12 having a glass plate or a synthetic resin plate as a base, and a glass plate or A second substrate (element substrate) 14 having a synthetic resin plate or the like as a base is bonded through a sealing material 230. The liquid crystal is injected into the space formed by the color filter substrate 12 and the element substrate 14 into the inner portion of the sealing material 230 through the opening 230a, and then sealed with the sealing material 231. It is preferable to have a cell structure.
That is, as shown in FIG. 2, the liquid crystal 232 is preferably filled between the color filter substrate 12 and the element substrate 14.

(2)配線
図1に示すように、第2の基板14の内面(第1の基板12に対向する表面)上に、複数のストライプ状のデータ電極(第2の電極パターン)26を形成し、第1の基板12の内面(第2の基板14に対向する表面)上には、複数のストライプ状の走査電極(第1の電極パターン)19を形成することが好ましい。また、データ電極26は、表示領域害において、電気配線29に対して接続することが好ましい。さらに、もう一方の走査電極19を、第2の基板14上の電気配線28に対して、導電性粒子を含むシール材230を介して導電接続することが好ましい。
そして、データ電極と走査電極との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Aを構成することになる。
なお、以下の説明においては、第2の電極パターンには、データ電極及び電気配線を含むものとする。
(2) Wiring As shown in FIG. 1, a plurality of stripe-shaped data electrodes (second electrode patterns) 26 are formed on the inner surface of the second substrate 14 (the surface facing the first substrate 12). A plurality of stripe-shaped scanning electrodes (first electrode patterns) 19 are preferably formed on the inner surface of the first substrate 12 (the surface facing the second substrate 14). Further, the data electrode 26 is preferably connected to the electric wiring 29 in the display area harm. Furthermore, it is preferable that the other scanning electrode 19 is conductively connected to the electric wiring 28 on the second substrate 14 through a sealing material 230 containing conductive particles.
And the intersection area | region of a data electrode and a scanning electrode comprises many pixels arranged in matrix form, and the arrangement | sequence of these many pixels comprises the liquid crystal display area A as a whole.
In the following description, the second electrode pattern includes data electrodes and electrical wiring.

また、図1に示すように、第2の基板14は、第1の基板12の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部14Tを有し、この基板張出部14T上には、データ電極26、電気配線28、29および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部(外部接続用端子)219が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部14T上に、これらデータ電極26、電気配線28、29および入力端子部(外部接続用端子)219に対して電気接続すべく、例えば、図3(a)に示すように、異方性導電膜80を介して、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子(IC)261を実装することが好ましい。
さらに、基板張出部14Tの端部には、入力端子部(外部接続用端子)219に電気接続すべく、例えば、図3(a)に示すように、異方性導電膜80を介して、フレキシブル配線基板110を実装することが好ましい。
Further, as shown in FIG. 1, the second substrate 14 has a substrate overhanging portion 14T that protrudes outward from the outer shape of the first substrate 12, and on the substrate overhanging portion 14T, data It is preferable that an input terminal portion (external connection terminal) 219 including an electrode 26, electrical wirings 28 and 29, and a plurality of wiring patterns formed independently is formed.
Further, in order to electrically connect the data electrode 26, the electric wirings 28 and 29, and the input terminal portion (external connection terminal) 219 on the substrate overhanging portion 14T, for example, as shown in FIG. It is preferable to mount a semiconductor element (IC) 261 incorporating a liquid crystal driving circuit or the like through the anisotropic conductive film 80.
Further, an end of the substrate overhanging portion 14T is electrically connected to an input terminal portion (external connection terminal) 219 via, for example, an anisotropic conductive film 80 as shown in FIG. The flexible wiring board 110 is preferably mounted.

ここで、図3(a)〜(b)に示すように、異方性導電膜80を介して、外部接続用端子219と、半導体素子(IC)261やフレキシブル配線基板110を電気接続する場合、当該異方性導電膜80が、絶縁性接着剤81と、導電性粒子83と、当該導電性粒子83を分散させるための分散性粒子85と、を含むとともに、かつ、下記式(2)で示される導電性粒子83の分散性指数(P2)が2以上の値であることが好ましい。
この理由は、分散性指数(P2)が2以上の値であれば、凝集粒子の発生数が抑制され、外部接続用端子における隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができるためである。
Here, as shown in FIGS. 3A and 3B, the external connection terminal 219 is electrically connected to the semiconductor element (IC) 261 and the flexible wiring board 110 through the anisotropic conductive film 80. The anisotropic conductive film 80 includes an insulating adhesive 81, conductive particles 83, and dispersible particles 85 for dispersing the conductive particles 83, and the following formula (2) It is preferable that the dispersibility index (P2) of the conductive particles 83 represented by is a value of 2 or more.
The reason for this is that if the dispersibility index (P2) is a value of 2 or more, the number of aggregated particles is suppressed, and it is possible to effectively prevent the occurrence of short circuits between adjacent electrode patterns in the external connection terminals. This is because it can.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A2:異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B2:一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がA2である凝集粒子数
B2:B2の階乗
e: base of natural logarithm A2: maximum number of conductive particles arranged in one direction in aggregated particles made of conductive particles contained in anisotropic conductive film B2: maximum number of conductive particles arranged in one direction is A2 A certain aggregate particle number N B2 : Factorial of B2

(3)位相差板および偏光板
図1に示される液晶パネル200において、図2に示すように、第1の基板12の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板(1/4波長板)250および偏光板251が配置されていることが好ましい。
そして、第2の基板14の外面においても、位相差板(1/4波長板)240および偏光板241が配置されていることが好ましい。
(3) Retardation Plate and Polarizing Plate In the liquid crystal panel 200 shown in FIG. 1, as shown in FIG. 2, a retardation plate (in order to recognize a clear image display at a predetermined position of the first substrate 12). 1/4 wavelength plate) 250 and polarizing plate 251 are preferably disposed.
Further, it is preferable that a retardation plate (¼ wavelength plate) 240 and a polarizing plate 241 are also disposed on the outer surface of the second substrate 14.

2.カラーフィルタ基板(第1の基板)
(1)基本的構成
カラーフィルタ基板12は、図2に示すように、基本的に、ガラス板や合成樹脂板等からなる基体13と、着色層16と、遮光層18と、第1の電極パターン(走査電極)19と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板12において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、第1のガラス基板(基体)13と、着色層16との間に、図2に示すように、反射層(半透過反射板)212を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板12において、図2に示すように、画素毎に着色層16が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層(表面保護層あるいはオーバーコート層)215により、被覆してあることが好ましい。このようにして、着色層16と平坦化層(表面保護層)215とによってカラーフィルタが形成されることになる。さらに、電気絶縁性を向上させるための絶縁層(図示せず。)を設けることも好ましい。
2. Color filter substrate (first substrate)
(1) Basic Configuration As shown in FIG. 2, the color filter substrate 12 is basically composed of a base 13 made of a glass plate, a synthetic resin plate, or the like, a colored layer 16, a light shielding layer 18, and a first electrode. A pattern (scanning electrode) 19 is preferable.
When the color filter substrate 12 requires a reflection function, for example, in a transflective liquid crystal display device used for a mobile phone or the like, a first glass substrate (base body) 13, a colored layer 16, As shown in FIG. 2, it is preferable to provide a reflective layer (semi-transmissive reflective plate) 212 therebetween.
Further, in the color filter substrate 12, as shown in FIG. 2, a colored layer 16 is formed for each pixel, and a planarizing layer (surface protective layer or overcoat layer) made of a transparent resin such as an acrylic resin or an epoxy resin is formed thereon. ) 215. In this way, a color filter is formed by the colored layer 16 and the planarization layer (surface protective layer) 215. It is also preferable to provide an insulating layer (not shown) for improving electrical insulation.

(2)着色層
また、図2に示す着色層16は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Y(イエロー)、M(マゼンダ)、C(シアン)等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術(エッチング法)によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
(2) Colored layer In addition, the colored layer 16 shown in FIG. 2 is usually made to exhibit a predetermined color tone by dispersing a colorant such as a pigment or a dye in a transparent resin. An example of the color tone of the colored layer is a primary color filter composed of a combination of three colors R (red), G (green), and B (blue), but is not limited to this. ), M (magenta), C (cyan), and other various color tones.
Such a colored layer usually has a predetermined color by applying a colored resist made of a photosensitive resin containing a coloring material such as a pigment or a dye on the surface of the substrate, and removing unnecessary portions by a photolithography technique (etching method). A colored layer having a pattern can be formed. And when forming the colored layer of a some color tone, the said process is repeated.
In addition, a stripe arrangement is often used as the arrangement pattern of the colored layers, but various pattern shapes such as an oblique mosaic arrangement and a delta arrangement can be adopted in addition to the stripe arrangement.

(3)遮光層
また、図2に示すように、画素毎に形成された着色層16の間の画素間領域に、遮光層(ブラックマトリクス、あるいはブラックマスクと称する場合もある。)18を形成することが好ましい。
このようなブラックマトリクス18としては、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、R(赤)層、G(緑)層、B(青)層の三層構造とすることも好ましい。
(3) Light Shielding Layer Further, as shown in FIG. 2, a light shielding layer (sometimes referred to as a black matrix or a black mask) 18 is formed in an inter-pixel region between the colored layers 16 formed for each pixel. It is preferable to do.
Examples of such a black matrix 18 include those in which three colorants of R (red), G (green), and B (blue) are dispersed in a resin or other base material, or black pigments or dyes. A material in which a coloring material such as a resin is dispersed in a resin or other base material can be used. In addition, since an excellent shielding effect can be obtained without using a black material such as carbon, an R (red) layer, a G (green) layer, and a B (blue) layer can be obtained using an additive color method. A layer structure is also preferable.

(4)反射層
また、図2に示すように、第1のガラス基板13の表面には、反射層212が形成されていることが好ましい。この反射層212は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、反射層212には、画素毎に、反射面を有する反射部212rと、開口部212aとが設けられていることが好ましい。
(4) Reflective Layer As shown in FIG. 2, it is preferable that a reflective layer 212 is formed on the surface of the first glass substrate 13. The reflective layer 212 is preferably composed of a metal thin film made of aluminum, aluminum alloy, chromium, chromium alloy, silver, silver alloy, or the like. The reflective layer 212 is preferably provided with a reflective portion 212r having a reflective surface and an opening 212a for each pixel.

(5)第1の電極パターン(走査電極)
(5)−1 配列
図2に示すように、平坦化層215の上に、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる走査電極(第1の電極)19を形成することが好ましい。かかる第1の電極パターンとしての走査電極19は、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
(5) First electrode pattern (scanning electrode)
(5) -1 Arrangement As shown in FIG. 2, it is preferable to form a scanning electrode (first electrode) 19 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) on the planarization layer 215. . The scanning electrode 19 as the first electrode pattern is preferably configured in a stripe shape in which a plurality of transparent electrodes are arranged in parallel.

(5)−2 端部位置
カラーフィルタ基板(第1の基板)における第1の電極パターンの端部位置は、シール材の外縁より内側に存在することが好ましい。すなわち、図4(a)に示すように、かかる液晶表示装置を平面的に透視した場合に、第1の電極パターン19がシール材230の外縁230aより外側に存在しないように配置されていることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、シール材を介してカラーフィルタ基板および素子基板を貼り合わせた後は、第1の電極パターンが外部に露出することがなくなるためである。したがって、金属フレームや異物の接触によるショートやコロージョンの発生を効果的に防ぐことができる。
ただし、カラーフィルタ基板(第1の基板)における第1の電極パターンは、通常、導電性粒子を含むシール材を介して、素子基板における電気配線と電気的に導通を取ることが必要である。そのため、図4(a)に示すように、第1の電極パターン19の端部位置は、シール材230の内縁よりも外側に存在することが好ましい。このように構成することにより、第1の電極パターンと素子基板における電気配線とが電気的に導通されるとともに、ショートやコロージョンの発生を確実に防止することができる。
なお、後述するように、電極パターンを形成する際に、露光工程を二回設けるなどして、製造段階において電極パターンに静電気が滞留することを防止できるために、シール材の外側に電極パターンを配置して、かかる静電気を除去する必要がないという事実も判明している。
(5) -2 End Position The end position of the first electrode pattern on the color filter substrate (first substrate) is preferably present inside the outer edge of the sealing material. That is, as shown in FIG. 4A, when the liquid crystal display device is seen through in plan view, the first electrode pattern 19 is disposed so as not to exist outside the outer edge 230a of the sealing material 230. Is preferred.
This is because the first electrode pattern is not exposed to the outside after the color filter substrate and the element substrate are bonded to each other through the sealing material. Therefore, it is possible to effectively prevent the occurrence of a short circuit or corrosion due to contact of a metal frame or a foreign object.
However, the first electrode pattern on the color filter substrate (first substrate) usually needs to be electrically connected to the electrical wiring on the element substrate through a sealing material containing conductive particles. Therefore, as shown in FIG. 4A, the end position of the first electrode pattern 19 is preferably present outside the inner edge of the sealing material 230. With this configuration, the first electrode pattern and the electric wiring on the element substrate are electrically connected, and occurrence of a short circuit or corrosion can be reliably prevented.
As will be described later, when forming the electrode pattern, it is possible to prevent static electricity from staying in the electrode pattern at the manufacturing stage by providing an exposure process twice, so that the electrode pattern is provided outside the sealing material. It has also been found that there is no need to place and remove such static electricity.

また、カラーフィルタ基板12の各辺に存在する、複数の第1の電極パターンの端部位置が均一であることが好ましい。すなわち、図4(a)に示すように、第1のガラス基板13の縁部13aの一辺側に存在する、複数の第1の電極パターン19の端部19aと、当該第1のガラス基板13の縁部13aとの距離が実質的に等しいことが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、各電極パターンと、シール材との接触面積が均一化されるためである。したがって、各電極パターンと、素子基板上の電気配線との導通特性が良好に保たれ、優れた画像表示を実現することができる。また、このように構成することにより、電気光学装置のセルギャップの均一化を図ることができるためである。
Further, it is preferable that the end positions of the plurality of first electrode patterns existing on each side of the color filter substrate 12 are uniform. That is, as shown to Fig.4 (a), the edge part 19a of the some 1st electrode pattern 19 which exists in the one side of the edge part 13a of the 1st glass substrate 13, and the said 1st glass substrate 13 It is preferable that the distance to the edge portion 13a is substantially equal.
This is because the contact area between each electrode pattern and the sealing material is made uniform by configuring in this way. Accordingly, the conduction characteristics between each electrode pattern and the electric wiring on the element substrate are kept good, and an excellent image display can be realized. In addition, with this configuration, the cell gap of the electro-optical device can be made uniform.

(5)−3 第1の電極パターン間の距離
また、図5に示すように、隣接する第1の電極パターン19間の距離を20〜50μmの範囲内の値とすることが好ましい。すなわち、後述するように、通常、シール材に含まれる導電性粒子の粒径が10μm程度であることを考慮して、隣接する第1の電極パターン19間の距離を定めることが好ましい。
この理由は、かかる距離が20μm未満の値となると、隣接する第1の電極パターン間でショートが発生し、画像欠陥等が生じる場合があるためである。一方、かかる距離が50μmを超えると、画素領域以外の面積が大きくなり、高精細な画像を表示させることが困難となる場合があるためである。
したがって、隣接する第1の電極パターン間の距離を22〜45μmの範囲内とすることがより好ましく、25〜40μmの範囲内とすることがさらに好ましい。
(5) -3 Distance between First Electrode Patterns As shown in FIG. 5, the distance between adjacent first electrode patterns 19 is preferably set to a value in the range of 20 to 50 μm. That is, as will be described later, it is preferable to determine the distance between the adjacent first electrode patterns 19 in consideration that the particle diameter of the conductive particles contained in the sealing material is usually about 10 μm.
This is because if the distance is less than 20 μm, a short circuit may occur between the adjacent first electrode patterns, and an image defect or the like may occur. On the other hand, when the distance exceeds 50 μm, the area other than the pixel region becomes large, and it may be difficult to display a high-definition image.
Accordingly, the distance between the adjacent first electrode patterns is more preferably in the range of 22 to 45 μm, and further preferably in the range of 25 to 40 μm.

(5)−4 高さ(厚さ)
また、第1の電極パターンの高さ(厚さ)を1〜20μmの範囲内の値とすることが好ましく、2〜15μmの範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、第1の電極パターンの高さ(厚さ)が1μm未満の値となると、電気抵抗の値が過度に大きくなってしまう場合があるためである。一方、第1の電極パターンの高さ(厚さ)が20μmを超えると、セルギャップにバラつきが生じたり、あるいは、電気光学装置の薄型化を図ることが困難になる場合があるためである。
(5) -4 Height (thickness)
The height (thickness) of the first electrode pattern is preferably set to a value in the range of 1 to 20 μm, and more preferably set to a value in the range of 2 to 15 μm.
This is because when the height (thickness) of the first electrode pattern is less than 1 μm, the electrical resistance value may become excessively large. On the other hand, if the height (thickness) of the first electrode pattern exceeds 20 μm, the cell gap may vary or it may be difficult to reduce the thickness of the electro-optical device.

(6)配向膜(第1の配向膜)
また、図2に示すように、第1の電極パターン(走査電極)19の上には、ポリイミド樹脂等からなる第1の配向膜217が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜217を設けることにより、カラーフィルタ基板12を液晶表示装置等に使用した場合に、電気光学物質(液晶)の配向駆動を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
(6) Alignment film (first alignment film)
As shown in FIG. 2, it is preferable that a first alignment film 217 made of polyimide resin or the like is formed on the first electrode pattern (scanning electrode) 19.
The reason for this is that by providing the alignment film 217 as described above, when the color filter substrate 12 is used in a liquid crystal display device or the like, the alignment drive of the electro-optical material (liquid crystal) can be easily performed by voltage application. Because.

3.素子基板(第2の基板)
(1)基本構造
図1および図2に示すように、カラーフィルタ基板12と対向するもう一方の素子基板(第2の基板)14は、基本的に、ガラス板や合成樹脂板等からなる基体27上に、データ電極26と、電気配線28、29と、から構成してあることが好ましい。
また、図2に示すように、データ電極26上には、第1の基板12における第1の配向膜と同様のポリイミド樹脂等からなる第2の配向膜224が形成されていることが好ましい。
なお、第1実施形態の液晶表示装置の例では、着色層が第1の基板12上に設けてあるが、着色層を、かかる素子基板14上に設けることも好ましい。また、アクティブマトリクス型の液晶パネルを使用した電気光学装置である場合には、素子基板上に、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる画素電極をさらに有するとともに、TFD(Thin Film Diode)や、TFT(Thin Film Transistor)等の非線形素子を介して、データ電極と接続されることが好ましい。
3. Element substrate (second substrate)
(1) Basic Structure As shown in FIGS. 1 and 2, the other element substrate (second substrate) 14 facing the color filter substrate 12 is basically a substrate made of a glass plate, a synthetic resin plate, or the like. 27 is preferably composed of a data electrode 26 and electrical wirings 28 and 29.
As shown in FIG. 2, a second alignment film 224 made of the same polyimide resin or the like as the first alignment film on the first substrate 12 is preferably formed on the data electrode 26.
In the example of the liquid crystal display device of the first embodiment, the colored layer is provided on the first substrate 12, but it is also preferable to provide the colored layer on the element substrate 14. Further, in the case of an electro-optical device using an active matrix type liquid crystal panel, a pixel electrode made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) is further provided on the element substrate, and TFD (Thin Film) It is preferably connected to the data electrode via a non-linear element such as a diode or TFT (Thin Film Transistor).

(2)第2の電極パターン
(2)−1 データ電極
また、素子基板には、図4(b)に示すように、第2の電極パターンの一つであるデータ電極26を設けることが好ましい。かかるデータ電極26は、図4(b)に示すように、複数の透明電極が、並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、かかるデータ電極は、図4(b)に示すように、一端側が外部接続用端子219となる電気配線29に接続されるとともに、シール材230の外側であって、第2のガラス基板27における基板張出し部14Tまで延設されていることが好ましい。
なお、隣接するデータ電極等の間の距離や、データ電極の高さについては、上述の第1の電極パターンと同様とすることが好ましい。
(2) Second Electrode Pattern (2) -1 Data Electrode Further, as shown in FIG. 4B, the data electrode 26 that is one of the second electrode patterns is preferably provided on the element substrate. . As shown in FIG. 4B, the data electrode 26 is preferably formed in a stripe shape in which a plurality of transparent electrodes are arranged in parallel.
In addition, as shown in FIG. 4B, the data electrode is connected to the electrical wiring 29 that has one end side serving as the external connection terminal 219, and is outside the sealing material 230 and on the second glass substrate 27. It is preferable to extend to the substrate overhanging portion 14T.
Note that the distance between adjacent data electrodes and the height of the data electrodes are preferably the same as those in the first electrode pattern described above.

(2)−2 電気配線
また、素子基板には、図4(b)に示すように、第2の電極パターンの一つである電気配線28、29を設けることが好ましい。かかる電気配線28についても、複数の金属膜が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、かかる電気配線は、シール材230の外側であって、第2の基板14における基板張出し部14Tまで延設され、一端側が外部接続用端子219とされていることが好ましい。そして、図6(a)〜(c)に示すように、電気配線28の端部のうち、外部接続用端子219となる端部とは反対側の端部28aが、シール材230を介してカラーフィルタ基板(第1の基板)12上の走査電極(第1の電極パターン)19と電気的に導通されることが好ましい。
なお、図6(a)及び(b)は、素子基板14における、外部接続用端子28aが存在する箇所と垂直な2辺まで電気配線28を配設して、カラーフィルタ基板12上の走査電極19と導通を取っている例を示している。また、図6(c)は、素子基板14における、外部接続用端子28aが存在する箇所であって、電気配線29が存在しない部分を利用して、カラーフィルタ基板12上の走査電極19と導通を取っている例を示している。
さらに、TFDやTFT等のアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルの場合には、図7に示すように、電気配線29が、外部入力端子部219から対面方向に延設され、データ線が形成されるとともに、非線形素子31を介して、画素電極20に接続されることとなる。
(2) -2 Electrical Wiring Further, as shown in FIG. 4B, electrical wirings 28 and 29, which are one of the second electrode patterns, are preferably provided on the element substrate. The electrical wiring 28 is also preferably configured in a stripe shape in which a plurality of metal films are arranged in parallel.
In addition, it is preferable that the electrical wiring extends outside the sealing material 230 to the substrate overhanging portion 14T of the second substrate 14 and has one end side as an external connection terminal 219. As shown in FIGS. 6A to 6C, among the ends of the electrical wiring 28, the end 28 a opposite to the end serving as the external connection terminal 219 is interposed via the sealing material 230. It is preferable that the scanning electrode (first electrode pattern) 19 on the color filter substrate (first substrate) 12 is electrically connected.
6A and 6B show scanning electrodes on the color filter substrate 12 by arranging the electrical wiring 28 up to two sides of the element substrate 14 perpendicular to the location where the external connection terminals 28a exist. 19 shows an example in which electrical continuity is established. FIG. 6C shows a portion of the element substrate 14 where the external connection terminal 28a is present, and the portion where the electrical wiring 29 is not present is used for electrical connection with the scanning electrode 19 on the color filter substrate 12. An example is shown.
Further, in the case of a liquid crystal panel having an active matrix type structure such as TFD or TFT, as shown in FIG. 7, an electrical wiring 29 is extended in the facing direction from the external input terminal portion 219 to form a data line. In addition, the pixel electrode 20 is connected via the nonlinear element 31.

(2)−3 端部位置
また、第1実施形態に係る液晶表示装置においては、図4(b)及び図6(a)〜(c)に示すように、第2の基板14における外部接続用端子219が設けられていない側の第2の電極パターン(データ電極26及び電気配線28を含む。以下同様)の端部26a、28aが、上述したカラーフィルタ基板における第1の電極パターンの端部と同様に、シール材230の外縁230aより内側に存在することが好ましい。この理由は、このように構成することにより、金属フレームや異物の接触によるショートやコロージョンの発生を防止できるためである。
なお、第2の電極パターンの端部と、シール材の外縁及びガラス基板の縁部との距離や、隣接するデータ電極等の間の距離、高さについても、上述の第1の電極パターンと同様とすることが可能である。したがって、ここでの説明は省略する。
(2) -3 End Position Further, in the liquid crystal display device according to the first embodiment, as shown in FIGS. 4B and 6A to 6C, external connection on the second substrate 14 is performed. The ends 26a, 28a of the second electrode pattern (including the data electrode 26 and the electrical wiring 28; the same applies hereinafter) on the side where the terminal 219 is not provided are the ends of the first electrode pattern on the color filter substrate described above. It is preferable that it exists inside the outer edge 230a of the sealing material 230 similarly to a part. The reason for this is that by configuring in this way, it is possible to prevent the occurrence of a short circuit or corrosion due to contact of a metal frame or foreign matter.
The distance between the edge of the second electrode pattern and the outer edge of the sealing material and the edge of the glass substrate, and the distance and height between adjacent data electrodes, etc. The same can be done. Therefore, the description here is omitted.

4.シール材
(1)基本的構成
シール材は、第1の基板(カラーフィルタ基板)と、第2の基板(素子基板)とを貼り合わせるとともに、素子基板上の第2の電極パターンと、カラーフィルタ基板上の第1の電極パターン(走査電極)とを導通させるための部材である。
そして、第1実施形態の電気光学装置に使用されるシール材は、図8に示すように、絶縁性接着剤61と、導電性粒子63と、当該導電性粒子63を分散させるための分散性粒子65と、セルギャップを調整するためのスペーサ67と、を含むことを特徴としている。すなわち、シール材中における、分散性粒子65と、スペーサ67との協同により、導電性粒子の凝集を防止して、当該導電性粒子の分散性が制御され、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができる。
4). Sealing material (1) Basic configuration The sealing material is formed by bonding a first substrate (color filter substrate) and a second substrate (element substrate), a second electrode pattern on the element substrate, and a color filter. It is a member for conducting the first electrode pattern (scanning electrode) on the substrate.
As shown in FIG. 8, the sealing material used in the electro-optical device of the first embodiment is an insulating adhesive 61, conductive particles 63, and dispersibility for dispersing the conductive particles 63. It is characterized by including particles 65 and a spacer 67 for adjusting the cell gap. That is, by cooperating with the dispersible particles 65 and the spacers 67 in the sealing material, the aggregation of the conductive particles is prevented, the dispersibility of the conductive particles is controlled, and a short circuit between adjacent electrode patterns is prevented. Occurrence can be effectively prevented.

(2)絶縁性接着剤
絶縁性接着剤の種類としては、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等が使用できるが、より具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂等を使用することができる。ただし、耐熱性や耐湿性、さらには透明性に優れることからエポキシ樹脂を使用することが好ましい。
また、絶縁性接着剤の添加量に関し、シール材の全体量を100重量%としたときに、絶縁性接着剤の添加量を50〜98重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる添加量が50重量%未満の値となると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。一方、かかる添加量が98重量%を超えると、導通性が確保できない場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を100重量%としたときに、絶縁性接着剤の添加量を55〜93重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、60〜88重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(2) Insulating adhesive As the type of insulating adhesive, a photocurable resin, a thermosetting resin, or the like can be used. More specifically, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, amide resin, imide Resin or the like can be used. However, it is preferable to use an epoxy resin because it is excellent in heat resistance, moisture resistance, and transparency.
Further, regarding the addition amount of the insulating adhesive, when the total amount of the sealing material is 100% by weight, the addition amount of the insulating adhesive is preferably set to a value within the range of 50 to 98% by weight.
This is because the adhesiveness of the sealing material may be reduced when the amount added is less than 50% by weight. On the other hand, if the added amount exceeds 98% by weight, conductivity may not be ensured.
Therefore, when the total amount of the sealing material is 100% by weight, the amount of the insulating adhesive added is more preferably in the range of 55 to 93% by weight, and in the range of 60 to 88% by weight. More preferably, it is a value.

(3)導電性粒子
導電性粒子は、基材としての絶縁性接着剤中に含まれ、素子基板上の電気配線及びカラーフィルタ基板上の走査電極の双方に接することにより、それらの間の導通を取るための材料である。かかる導電性粒子の種類としては、Ni、Ag、Au、Pd等の金属粒子、又はプラスチック粒子の表面にAu等で金属メッキしたもの等を、好適に使用することができる。
また、導電性粒子の平均粒径を1〜10μmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、導電性粒子の平均粒径が1μm未満の値となると、素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通性の確保が困難になる場合があるためである。一方、導電性粒子の平均粒径が10μmを超えると、セルギャップが大きくなってしまい、液晶パネルの薄型化を図ることが困難になったり、隣接する電極パターン間で、ショートが発生しやすくなったりする場合があるためである。
したがって、導電性粒子の平均粒径を2〜9μmの範囲内の値とすることがより好ましく、3〜8μmの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
(3) Conductive particles Conductive particles are contained in an insulating adhesive as a base material, and are in contact with both the electrical wiring on the element substrate and the scanning electrode on the color filter substrate, thereby conducting between them. Is a material to take. As the kind of the conductive particles, metal particles such as Ni, Ag, Au, and Pd, or those obtained by metal plating with Au or the like on the surface of plastic particles can be preferably used.
Moreover, it is preferable to make the average particle diameter of electroconductive particle into the value within the range of 1-10 micrometers.
This is because, when the average particle size of the conductive particles is less than 1 μm, it may be difficult to ensure the electrical connection between the electric wiring on the element substrate and the scan electrode on the color filter substrate. . On the other hand, if the average particle size of the conductive particles exceeds 10 μm, the cell gap becomes large, making it difficult to reduce the thickness of the liquid crystal panel, and it is easy to cause a short circuit between adjacent electrode patterns. It is because there is a case where it is.
Therefore, the average particle size of the conductive particles is more preferably set to a value within the range of 2 to 9 μm, and further preferably set to a value within the range of 3 to 8 μm.

また、導電性粒子の添加量に関し、シール材の全体量を100重量%としたときに、導電性粒子の添加量を1〜50重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる添加量が1重量%未満の値となると、素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通性の確保が困難になる場合があるためである。一方、かかる添加量が50重量%を超えると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を100重量%としたときに、導電性粒子の添加量を5〜45重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、10〜40重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, regarding the addition amount of electroconductive particle, when the whole quantity of a sealing material is 100 weight%, it is preferable to make the addition amount of electroconductive particle into the value within the range of 1-50 weight%.
The reason for this is that if the amount added is less than 1% by weight, it may be difficult to ensure the electrical connection between the electrical wiring on the element substrate and the scan electrode on the color filter substrate. On the other hand, if the amount added exceeds 50% by weight, the adhesiveness of the sealing material may be lowered.
Accordingly, when the total amount of the sealing material is 100% by weight, it is more preferable that the amount of the conductive particles added is in the range of 5 to 45% by weight, and the value in the range of 10 to 40% by weight. More preferably.

(4)分散性粒子
分散性粒子は、上述した導電性粒子の間に介在して、導電性粒子が接触して、結合することを有効に防止するとともに、シール材中における導電性粒子の分散性を制御するための材料である。すなわち、逆に、分散性粒子を添加しない場合、例えば、複数の導電性粒子が結合して、凝集することにより、素子基板上の隣接する走査電極同士が電気的に接続され、ショートが発生しやすくなるためである。
ここで、かかる分散性粒子の構成材料としては、シリカ、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、及びその水素化物(SEBS)、エチレン−アクリル酸エステル共重合体等を好適に使用することができる。中でも、硬度や圧縮特性が高く、さらには優れた透明性を有することから、シリカを使用することが好ましい。
(4) Dispersible particles Dispersible particles are interposed between the above-described conductive particles to effectively prevent the conductive particles from coming into contact with each other and to disperse the conductive particles in the sealing material. It is a material for controlling sex. That is, conversely, when no dispersible particles are added, for example, a plurality of conductive particles are combined and aggregated, so that adjacent scanning electrodes on the element substrate are electrically connected to each other, and a short circuit occurs. This is because it becomes easier.
Here, the constituent material of such dispersible particles includes silica, epoxy resin, polyester resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, and hydride thereof (SEBS), ethylene-acrylate ester copolymer. A polymer etc. can be used conveniently. Among them, it is preferable to use silica because of its high hardness and compression characteristics and excellent transparency.

また、分散性粒子の平均粒径に関し、上述した導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、分散性粒子の平均粒径を0.3s〜0.9s(μm)の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性粒子の平均粒径が0.3s(μm)未満の値となると、導電性粒子を均一に分散させることが困難となり、導電性粒子が凝集してしまう場合があるためである。一方、かかる分散性粒子の平均粒径が0.9s(μm)を超えると、導電性粒子を、素子基板上の電気配線及びカラーフィルタ基板上の走査電極の双方に接触させることが困難となり、導通性が低下する場合があるためである。
したがって、導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、分散性粒子の平均粒径を0.4s〜0.85s(μm)の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5s〜0.8s(μm)の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、より具体的には、分散性粒子の平均粒径を1〜7μmの範囲内の値とすることが好ましい。
Regarding the average particle size of the dispersible particles, the average particle size of the dispersible particles is in the range of 0.3 s to 0.9 s (μm), where s (μm) is the average particle size of the conductive particles described above. It is preferable to set the value within the range.
This is because, when the average particle size of the dispersible particles is less than 0.3 s (μm), it is difficult to uniformly disperse the conductive particles, and the conductive particles may aggregate. It is. On the other hand, when the average particle size of the dispersible particles exceeds 0.9 s (μm), it is difficult to bring the conductive particles into contact with both the electrical wiring on the element substrate and the scanning electrode on the color filter substrate. This is because the conductivity may be lowered.
Therefore, when the average particle size of the conductive particles is s (μm), the average particle size of the dispersible particles is more preferably set to a value within the range of 0.4 s to 0.85 s (μm). More preferably, the value is in the range of 5 s to 0.8 s (μm).
More specifically, the average particle diameter of the dispersible particles is preferably set to a value within the range of 1 to 7 μm.

また、分散性粒子の添加量に関し、上述した導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性粒子の添加量が50重量%未満の値となると、導電性粒子を均一に分散させることが困難となり、導電性粒子が凝集してしまう場合があるためである。一方、かかる分散性粒子の添加量が300重量%を超えると、導通性粒子の分散性にバラつきが生じ、導通性が低下する場合があるためである。
したがって、導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、分散性粒子の添加量を60〜250重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、70〜200重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Further, regarding the addition amount of the dispersible particles, when the above-described addition amount of the conductive particles is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles is preferably set to a value within the range of 50 to 300% by weight.
This is because when the amount of the dispersible particles added is less than 50% by weight, it is difficult to uniformly disperse the conductive particles, and the conductive particles may aggregate. On the other hand, when the added amount of the dispersible particles exceeds 300% by weight, the dispersibility of the conductive particles varies and the conductivity may be lowered.
Therefore, when the addition amount of the conductive particles is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles is more preferably set to a value within the range of 60 to 250% by weight, and within the range of 70 to 200% by weight. More preferably, it is a value.

(5)スペーサ
スペーサは、シール材中に含まれ、セルギャップを調整するための部材である。すなわち、かかるスペーサを含むことにより、シール材の接着領域全体におけるセルギャップを、均一に保持することができるためである。
かかるスペーサの材料としては、プラスチックファイバー、グラスファイバー、シリカ粒子等を好適に使用することができるが、比較的軽量で分散させやすく、かつ、優れた圧縮特性を有することから、プラスチックファイバーを使用することが好ましい。
(5) Spacer The spacer is included in the sealing material and is a member for adjusting the cell gap. That is, by including such a spacer, the cell gap in the entire adhesion region of the sealing material can be uniformly maintained.
As a material for the spacer, plastic fiber, glass fiber, silica particles and the like can be suitably used, but plastic fiber is used because it is relatively light and easy to disperse and has excellent compression characteristics. It is preferable.

また、スペーサとしては、粒子状物を使用することもできるが、長径および短径を有する棒状物を使用することも好ましい。その場合、スペーサにおけるアスペクト比(長径:短径)を1:2〜1:6の範囲内とすることが好ましい。
この理由は、かかるアスペクト比が1:2未満となると、グリップ力が低下して、移動しやすくなり、均一に分散させることが困難になる場合があるためであり、一方、かかるアスペクト比が1:6を超えると、スペーサの長軸方向からの圧力に対する強度が低下して、セルギャップを均一に保持することが困難になる場合があるためである。
したがって、スペーサのアスペクト比を1:2〜1:5の範囲内の値とすることがより好ましく、1:2〜1:3の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、スペーサとして粒子状物を使用する場合には、上述した分散性粒子との相違点として、分散性粒子の平均粒径を100%としたときに、当該スペーサの平均粒径を105〜200%の範囲内の値とすることが好ましい。
As the spacer, a particulate material can be used, but it is also preferable to use a rod-shaped material having a major axis and a minor axis. In that case, it is preferable that the aspect ratio (major axis: minor axis) of the spacer is in the range of 1: 2 to 1: 6.
The reason for this is that when the aspect ratio is less than 1: 2, the gripping force is reduced, and it is easy to move, and it may be difficult to uniformly disperse, while the aspect ratio is 1. If it exceeds 6, the strength against the pressure from the long axis direction of the spacer decreases, and it may be difficult to keep the cell gap uniform.
Accordingly, the spacer aspect ratio is more preferably set to a value within the range of 1: 2 to 1: 5, and further preferably set to a value within the range of 1: 2 to 1: 3.
In addition, when using a particulate matter as a spacer, when the average particle diameter of a dispersible particle is 100% as a difference from the dispersible particle | grains mentioned above, the average particle diameter of the said spacer is 105-200. It is preferable to set the value within the range of%.

また、スペーサの添加量に関し、シール材の全体量を100重量%としたときに、スペーサの添加量を1〜30重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるスペーサの添加量が3重量%未満の値となると、セルギャップにバラつきが生じる場合があるためである。一方、かかるスペーサの添加量が30重量%を超えると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を100重量%としたときに、スペーサの添加量を1.5〜25重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、2.5〜20重量%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Further, regarding the added amount of the spacer, when the total amount of the sealing material is 100% by weight, the added amount of the spacer is preferably set to a value within the range of 1 to 30% by weight.
This is because when the added amount of the spacer is less than 3% by weight, the cell gap may vary. On the other hand, if the added amount of the spacer exceeds 30% by weight, the adhesiveness of the sealing material may be lowered.
Therefore, when the total amount of the sealing material is 100% by weight, it is more preferable that the added amount of the spacer is within the range of 1.5 to 25% by weight, and within the range of 2.5 to 20% by weight. More preferably, the value of

(6)分散性指数
分散性指数(P1)は、シール材における導電性粒子の分散度合いを示す指標である。すなわち、シール材に含まれる導電性粒子が、過度に結合して凝集することなく、均一に分散して存在していることを示す指標である。したがって、かかる分散性指数が大きいほど、凝集粒子が少なく、より均一に導電性粒子がシール材中に存在していることを示している。
ここで、凝集粒子とは、複数の導電性粒子が結合して形成されている粒子と定義される(以下、同様とする)。そして、かかる導電性粒子の分散性指数(P1)は、単位面積として、10mm角のシール材を顕微鏡等により観察して、凝集粒子における、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数及び当該凝集粒子の数を測定した上で、下記式(1)により算出することができる。
(6) Dispersibility index The dispersibility index (P1) is an index indicating the degree of dispersion of the conductive particles in the sealing material. That is, it is an index indicating that the conductive particles contained in the sealing material are uniformly dispersed without being excessively bonded and aggregated. Therefore, it is shown that the larger the dispersibility index, the fewer the aggregated particles and the more uniformly the conductive particles are present in the sealing material.
Here, the aggregated particles are defined as particles formed by combining a plurality of conductive particles (hereinafter the same). The dispersibility index (P1) of the conductive particles is determined by observing a 10 mm square sealing material as a unit area with a microscope or the like, and the maximum number of conductive particles arranged in one direction in the aggregated particles and the aggregated particles. Can be calculated by the following formula (1).

Figure 2005172999
Figure 2005172999

e: 自然対数の底
A1:シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
B1:最大個数がA1である凝集粒子の数
B1:B1の階乗
e: Natural log base A1: In aggregated particles made of conductive particles contained in the sealing material, the maximum number of conductive particles arranged in one direction per unit area B1: Number of aggregated particles having the maximum number A1 N B1 : B1 factorial

ここで、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数(A1)とは、複数の導電性粒子からなる一つの凝集粒子において、いくつかの方向に並んだ導電性粒子のうちの最大個数を意味する。例えば、図9(e)に示すような凝集粒子の場合には、X方向には3個、Y方向には2個の導電性粒子が並んでおり、その最大個数(A1)はX方向に並んだ導電性粒子の数である3となる。また、同様に、図9に示す他の凝集粒子の場合においても、いくつかの方向に並んだ導電性粒子のうちの最大個数を、それぞれ図中に示してある。すなわち、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数(A1)とは、2〜n(nは自然数であって、通常最大6個程度)の間の数の組み合わせであって、図9の場合には、2、3、4の3種類存在することになる。
また、最大個数がA1である凝集粒子の数(B1)とは、例えば、図9(a)〜(c)に示すような3種類の2個凝集粒子がそれぞれ2個存在していた場合、最大個数2であるB1は6となり、図9(d)〜(g)に示すような4種類の3個凝集粒子がそれぞれ2個存在していた場合、最大個数3であるB1は8となり、図(h)に示すような1種類の4個凝集粒子が2個存在していた場合、最大個数4であるB1は2となる。
また、NB1は、B1の階乗を意味しており、例えば、最大個数2であるB1が6の場合、そのNB1は、720(=6×5×4×3×2×1)となり、最大個数3であるB1が8の場合、そのNB1は、40320(=8×7×6×5×4×3×2×1)となり、最大個数4であるB1が2の場合、そのNB1は2(=2×1)となる。
Here, the maximum number (A1) of conductive particles arranged in one direction means the maximum number of conductive particles arranged in several directions in one aggregated particle composed of a plurality of conductive particles. . For example, in the case of aggregated particles as shown in FIG. 9 (e), three conductive particles are arranged in the X direction and two conductive particles are arranged in the Y direction, and the maximum number (A1) is in the X direction. The number of conductive particles arranged is 3. Similarly, in the case of other aggregated particles shown in FIG. 9, the maximum number of conductive particles arranged in several directions is shown in the drawing. That is, the maximum number (A1) of conductive particles arranged in one direction is a combination of numbers between 2 and n (n is a natural number, usually about 6 at the maximum). There are three types of 2, 3, and 4.
In addition, the number of aggregated particles having the maximum number A1 (B1) is, for example, when two types of two aggregated particles as shown in FIGS. 9A to 9C exist, respectively. B1 that is the maximum number 2 is 6, and when there are two four kinds of three aggregated particles as shown in FIGS. 9D to 9G, B1 that is the maximum number 3 is 8, In the case where there are two types of four aggregated particles as shown in the figure (h), the maximum number B1 is 2.
N B1 means the factorial of B1. For example, when B1, which is the maximum number 2, is 6, N B1 is 720 (= 6 × 5 × 4 × 3 × 2 × 1). If the the maximum number 3 B1 is 8, its N B1 is, 40320 (= 8 × 7 × 6 × 5 × 4 × 3 × 2 × 1) , and when B1 is 2 is the maximum number 4, the N B1 is 2 (= 2 × 1).

なお、e- [1/(A1-1)]/NB1の値をそれぞれ具体的に算出した指数表を、表1に示す。 Table 1 shows an index table in which the value of e − [1 / (A1-1)] / N B1 is specifically calculated.

Figure 2005172999
Figure 2005172999

したがって、図9(a)〜(h)に示すような凝集粒子が上述した数だけ存在していた場合、分散性指数(P1)は、0.70164(=0.0038+4e-5+0.6978)となる。
そして、第1実施形態に係る電気光学装置に使用されるシール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を2以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性指数が2未満の値となると、シール材中において凝集粒子が偏って存在することとなり、存在割合が高い領域では、隣接する電極パターン同士が、凝集粒子を介して電気的に接続される場合があるためである。また、一方で、導電性粒子の存在割合が低い領域においては、素子基板における走査電極と、カラーフィルタ基板における電気配線との導通が不十分となる場合があるためである。
ただし、かかる分散性指数の値を過度に大きくすることは、その制御をする上では困難になる場合がある。
よって、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を2.2〜5の範囲内の値とすることがより好ましく、2.5〜4の範囲内の値とすることがさらに好ましい
Therefore, when there are as many aggregated particles as shown in FIGS. 9A to 9H as described above, the dispersibility index (P1) is 0.701164 (= 0.0038 + 4e −5 +0.6978). It becomes.
And it is preferable to make the dispersibility index of the conductive particles contained in the sealing material used in the electro-optical device according to the first embodiment a value of 2 or more.
The reason for this is that when the dispersibility index is less than 2, the aggregated particles are present in a biased manner in the sealing material. In a region where the presence ratio is high, adjacent electrode patterns are electrically connected via the aggregated particles. This is because there is a case where the connection is made. On the other hand, this is because in a region where the proportion of conductive particles is low, conduction between the scan electrode on the element substrate and the electric wiring on the color filter substrate may be insufficient.
However, excessively increasing the value of the dispersibility index may be difficult for the control.
Therefore, the dispersibility index of the conductive particles contained in the sealing material is more preferably set to a value within the range of 2.2 to 5, and further preferably set to a value within the range of 2.5 to 4.

次いで、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数(P1)と、分散性粒子の平均粒径及び添加比率と、の関係について説明する。
まず、図10を参照して、分散性指数と、分散性粒子の平均粒径との関係について説明する。図10中、縦軸は分散性指数を示し、横軸は導電性粒子の平均粒径を1(μm)としたときの、分散性粒子の平均粒径を示している。この図10から明らかなように、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を2以上の値とするためには、導電性粒子の平均粒径を1(μm)としたときに、分散性粒子の平均粒径を0.3(μm)以上の値とすることが有効であることが理解される。
次に、図11を参照して、分散性指数と、導電性粒子の添加量を100重量%としたときの、分散性粒子の添加量を示している。この図11から明らかなように、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を2以上の値とするためには、導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内とすることが有効であることが理解される。
なお、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数(P1)について詳述したが、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の分散性指数(P2)についても、図10に示す関係が得られることが判明している。
Next, the relationship between the dispersibility index (P1) of the conductive particles contained in the sealing material and the average particle diameter and addition ratio of the dispersible particles will be described.
First, the relationship between the dispersibility index and the average particle diameter of the dispersible particles will be described with reference to FIG. In FIG. 10, the vertical axis indicates the dispersibility index, and the horizontal axis indicates the average particle diameter of the dispersible particles when the average particle diameter of the conductive particles is 1 (μm). As is apparent from FIG. 10, in order to set the dispersibility index of the conductive particles contained in the sealing material to a value of 2 or more, the dispersion is performed when the average particle diameter of the conductive particles is 1 (μm). It is understood that it is effective to set the average particle size of the active particles to a value of 0.3 (μm) or more.
Next, with reference to FIG. 11, the dispersibility index and the amount of dispersible particles added when the amount of conductive particles added is 100% by weight are shown. As is apparent from FIG. 11, in order to set the dispersibility index of the conductive particles contained in the sealing material to a value of 2 or more, when the addition amount of the conductive particles is 100% by weight, the dispersible particles It is understood that it is effective to make the amount of addition in the range of 50 to 300% by weight.
In addition, although the dispersibility index (P1) of the electroconductive particle contained in a sealing material was explained in full detail, the relationship shown in FIG. 10 also exists about the dispersibility index (P2) of the electroconductive particle contained in an anisotropic conductive film. It has been found that it can be obtained.

[第2実施形態]
本発明の第2実施形態は、シール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を備えるとともに、第1の基板は、基板としての第1のガラス基板上に第1の電極パターンを有し、第2の基板は、基板としての第2のガラス基板上に第2の電極パターン及び外部接続用端子を有する電気光学装置の製造方法である。
そして、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、第1の基板と、第2の基板とを、接合する電気光学装置の製造方法である。
以下、図12〜図16を参照しながら、本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態について、パッシブマトリクス型構造の液晶表示装置の製造方法を例に採って、詳細に説明する。
[Second Embodiment]
According to a second embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate that are arranged to face each other with a sealant interposed therebetween, and an electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate The first substrate has a first electrode pattern on a first glass substrate as a substrate, and the second substrate has a second electrode on a second glass substrate as a substrate. This is a method of manufacturing an electro-optical device having a pattern and an external connection terminal.
And, using a sealing material including an insulating adhesive as a base material, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting the cell gap, This is a method of manufacturing an electro-optical device that joins a first substrate and a second substrate.
Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 12 to 16 taking a method for manufacturing a liquid crystal display device having a passive matrix structure as an example.

1.構成
製造対象の電気光学装置として、カラーフィルタ基板(第1の基板)及びその対向基板としての素子基板(第2の基板)を使用した液晶表示装置を例にとって説明するが、カラーフィルタ基板及び素子基板の構成については、第1の実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
1. A liquid crystal display device using a color filter substrate (first substrate) and an element substrate (second substrate) as an opposite substrate as an electro-optical device to be manufactured will be described as an example. Since the configuration of the substrate is the same as that of the first embodiment, a description thereof is omitted here.

(1)カラーフィルタ基板(第1の基板)の製造
(1)−1 カラーフィルタの形成
図12(a)に示すように、第1のガラス基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、反射層212、及び着色層16、遮光層18を順次形成することが好ましい。
ここで、開口部212aを備えた反射層212は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を第1のガラス基板13上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより形成される。
また、着色層16は、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層212等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによっても形成することができる。なお、複数の色の着色層16を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
また、かかる着色層16を重ね合わせることにより、遮光層18を形成することが好ましい。あるいは、カーボン等の黒色材料を使用して、遮光層18を形成することも好ましい。
(1) Manufacture of color filter substrate (first substrate) (1) -1 Formation of color filter As shown in FIG. 12 (a), on the first glass substrate, a portion corresponding to an image display area is provided. The reflective layer 212, the colored layer 16, and the light shielding layer 18 are preferably formed sequentially.
Here, the reflective layer 212 having the opening 212a is formed by depositing a metal material or the like on the first glass substrate 13 by vapor deposition or sputtering, and then patterning using a photolithography technique. Is done.
The colored layer 16 is formed by applying a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as a pigment or a dye is dispersed on the reflective layer 212 and the like, and sequentially performing pattern exposure and development processing thereon. Can also be formed. In addition, when forming the colored layer 16 of several colors in an array, the said process is repeated for every color.
Moreover, it is preferable to form the light shielding layer 18 by superimposing the colored layers 16. Alternatively, it is also preferable to form the light shielding layer 18 using a black material such as carbon.

(1)−2 保護膜の形成
次いで、図12(b)に示すように、第1の基板12上に全面的に透光保護層215Xを形成する。この透光保護層215Xは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、上記透光保護層215Xに、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図12(c)に示すように、画像表示領域に限定された保護膜215を形成する。この工程によって、透光保護層215Xから画像表示領域以外の領域、すなわち、図2に示すシール材230の外側に配置される領域とほぼ同じ領域上から透光性素材が欠落されることが好ましい。このように実施することにより、セルギャップの均一化を図ることができるためである。
(1) -2 Formation of Protective Film Next, as shown in FIG. 12B, a light transmissive protective layer 215 </ b> X is formed on the entire surface of the first substrate 12. This translucent protective layer 215X can be made of, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, an imide resin, a fluorine resin, or the like. These resins are applied onto a substrate in an uncured state having fluidity, and are cured by appropriate means such as drying, photocuring, and thermosetting. As a coating method, a spin coating method, a printing method, or the like can be used.
Next, the light transmissive protective layer 215X is patterned by using a photolithography technique to form a protective film 215 limited to the image display region as shown in FIG. Through this step, it is preferable that the translucent material is omitted from the translucent protective layer 215X from the area other than the image display area, that is, from the substantially same area as the area disposed outside the sealant 230 shown in FIG. . This is because the cell gap can be made uniform by carrying out in this way.

(1)−3 走査電極(第1の電極パターン)の形成
次いで、図12(d)に示すように、保護膜215上に、全面的にITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体材料からなる透明導電層19Xを形成することが好ましい。この透明導電層19Xは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、透明導電層19Xに対して、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図12(e)に示すように走査電極(第1の電極パターン)19を形成することが好ましい。
より詳細には、まず、図13(a)〜(b)に示すように、保護膜215を含む第1のガラス基板13上に、全面的に透明導電材料からなる透明導電層19Xを形成する。ここで、図13(b)に示すように、透明導電層19Xを積層するにあたり、あらかじめ、TaやSiO等からなる下地層81を形成することも好ましい。この理由は、形成される透明導電層19Xの結晶性等を均一化させて、保護膜及びガラス基板に対する透明導電層の密着性を高めることができるためである。
次いで、図13(c)に示すように、透明導電層19X上に所定のレジスト材料86´を塗布した後、図13(d)に示すように、所定のマスクパターン87を施した上で露光して、現像する(S7)ことにより、図13(e)に示すように、レジスト材料86を塗布した後、所定形状にパターニングする。そして、図13(f)に示すように、透明導電材料19Xに対してエッチング処理を行った後、再び露光、及び現像して、レジスト材料を剥離する。
このようにして、図13(g)及び図12(d)に示すように、所定パターン(図示せず)の走査電極(第1の電極パターン)19を形成することが好ましい。このように形成された走査電極(第1の電極パターン)は、静電気の発生が少ないことが判明しているためである。なお、図12(d)は、図13(g)のXX断面を矢印方向に見た図を示している。
(1) -3 Formation of Scan Electrode (First Electrode Pattern) Next, as shown in FIG. 12D, a transparent conductor material such as ITO (indium tin oxide) is entirely formed on the protective film 215. It is preferable to form a transparent conductive layer 19X made of The transparent conductive layer 19X can be formed by sputtering, for example. Then, it is preferable to pattern the transparent conductive layer 19X using a photolithography technique to form the scanning electrode (first electrode pattern) 19 as shown in FIG.
More specifically, first, as shown in FIGS. 13A to 13B, a transparent conductive layer 19X made of a transparent conductive material is formed on the entire first glass substrate 13 including the protective film 215. . Here, as shown in FIG. 13B, it is also preferable to form a base layer 81 made of Ta 2 O 5 , SiO 2 or the like in advance when the transparent conductive layer 19X is laminated. This is because the crystallinity and the like of the formed transparent conductive layer 19X can be made uniform, and the adhesion of the transparent conductive layer to the protective film and the glass substrate can be improved.
Next, as shown in FIG. 13C, after applying a predetermined resist material 86 'on the transparent conductive layer 19X, as shown in FIG. 13D, a predetermined mask pattern 87 is applied and exposed. Then, by developing (S7), as shown in FIG. 13E, a resist material 86 is applied and then patterned into a predetermined shape. Then, as shown in FIG. 13 (f), the transparent conductive material 19 </ b> X is subjected to an etching process, and then exposed and developed again to peel off the resist material.
In this way, it is preferable to form the scanning electrode (first electrode pattern) 19 having a predetermined pattern (not shown) as shown in FIGS. 13 (g) and 12 (d). This is because the scan electrode (first electrode pattern) formed in this way has been found to generate less static electricity. In addition, FIG.12 (d) has shown the figure which looked at the XX cross section of FIG.13 (g) in the arrow direction.

(2)素子基板(第2の基板)の製造
(2)−1 電気配線の形成
電気配線は、スパッタリング法等により、第2の基板上に、導電性の金属材料、例えば、クロム、アルミニウム、チタン、モリブデン等を、通常、50〜300nmの厚さに全面的に形成した後、それをフォトリソグラフィ技術やエッチング法を用いて、パターニングすることにより、第2の電極パターンの一つである電気配線を形成することが好ましい。
以下、詳細に説明する。まず、図14(a)に示すように、ガラス基板27上に、全面的に導電性の金属膜材料28´をスパッタリング法等により積層し、図14(b)に示すように、その上からレジスト材料82を全面的に塗布する。次いで、図14(c)に示すように、開口部83bを有するフォトマスク83を介して、例えば、開口部83bに対応した位置のみに光を照射し、パターン露光した後、図14(d)に示すように現像して、マスクの開口部83bに対応した箇所のみにレジスト82´を残す。
(2) Manufacture of element substrate (second substrate) (2) -1 Formation of electrical wiring Electrical wiring is formed on a second substrate by a conductive metal material, for example, chromium, aluminum, by sputtering or the like. Titanium, molybdenum, or the like is generally formed to a thickness of 50 to 300 nm, and then patterned by using a photolithography technique or an etching method. It is preferable to form wiring.
Details will be described below. First, as shown in FIG. 14 (a), a conductive metal film material 28 'is laminated on the entire surface of the glass substrate 27 by sputtering or the like, and from above, as shown in FIG. 14 (b). A resist material 82 is applied over the entire surface. Next, as shown in FIG. 14C, light is irradiated, for example, only to a position corresponding to the opening 83b through a photomask 83 having an opening 83b, and after pattern exposure, FIG. Development is performed to leave a resist 82 'only at a location corresponding to the opening 83b of the mask.

次いで、図15(a)に示すように、エッチング法により、レジスト25´に被覆されていない箇所の導電性の金属膜材料28´を除去した後、さらに図15(b)に示すように、レジスト25´を除去して、パターン化された電気配線28を形成する。
その後、図15(c)に示すように、電気配線28の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜23を形成することが好ましい。より具体的には、電気配線28が形成されたガラス基板27を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、電気配線28との間に所定電圧を印加して、電気配線28の表面を酸化させることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 15A, after removing the conductive metal film material 28 ′ in the portion not covered with the resist 25 ′ by etching, as shown in FIG. 15B, The resist 25 'is removed to form a patterned electrical wiring 28.
Thereafter, as shown in FIG. 15C, it is preferable to form the oxide film 23 by oxidizing the surface of the electric wiring 28 by an anodic oxidation method. More specifically, after immersing the glass substrate 27 on which the electrical wiring 28 is formed in an electrolytic solution such as a citric acid solution, a predetermined voltage is applied between the electrolytic solution and the electrical wiring 28, It is preferable to oxidize the surface of the electrical wiring 28.

(2)−2 データ電極の形成
次いで、図示しないが、第1の電極パターンの形成方法と同様に、スパッタリング法等により、ITO(インジウムスズ酸化物等)等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、第2の電極パターンの一つとしてのデータ電極を形成することが好ましい。
(2) -2 Formation of Data Electrode Next, although not shown, a transparent conductive material made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide, etc.) is formed by sputtering or the like in the same manner as the first electrode pattern forming method. After the layer is formed, it is preferable to form a data electrode as one of the second electrode patterns by patterning using a photolithography technique.

(3)貼り合わせ工程
(3)−1 シール材の印刷
図16(a)に示すように、カラーフィルタ基板上において、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材230を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域を囲むようにパターニングして形成することが好ましい。この理由は、このように実施することにより、隣接する電極パターン同士が電気的に接続され、断線や、ショートが発生することを有効に防止しつつ、素子基板上の走査電極と、カラーフィルタ基板上の電気配線との導通を、確実に取ることができるためである。このとき使用できるシール材については、第1実施形態で説明したシール材と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、シール材の印刷位置に関し、図16(a)に示すように、シール材230の外縁230aと、第1の電極パターン19の端部19aとを、実質的に一致させて印刷することが好ましい。この理由は、このような位置にシール材を印刷することにより、第1の電極パターンの端部を位置合わせの目安にできるために、シール材の印刷位置決めを容易にすることができるためである。また、後述するプリベーク工程を経て、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合わせる際に、ダミー電極によって、シール材が基板の外側方向に流動することを防止することが容易になるためである。したがって、シール材と、第1の電極パターンとの接触面積を比較的大きく確保することができるためである。よって、第1の電極パターンと、カラーフィルタ基板における走査電極との導通を確実に取ることができるとともに、金属フレームや異物の接触によるショートや、コロージョンの発生を有効に防止することができる。
なお、本実施形態においては、カラーフィルタ基板上にシール材を形成しているが、素子基板上に印刷することも好ましい。
(3) Bonding Step (3) -1 Printing of Sealing Material As shown in FIG. 16 (a), on the color filter substrate, an insulating adhesive as a base material, conductive particles, and the conductive particles. It is preferable to form a sealant 230 containing dispersible particles for dispersing the liquid and spacers for adjusting the cell gap by patterning so as to surround the display region by screen printing or a dispenser. The reason for this is that, by carrying out in this way, adjacent electrode patterns are electrically connected to each other, and while effectively preventing disconnection or short-circuiting, the scanning electrode on the element substrate and the color filter substrate This is because electrical connection with the upper electrical wiring can be ensured. Since the sealing material that can be used at this time can be the same as the sealing material described in the first embodiment, description thereof is omitted here.
Further, regarding the printing position of the sealing material, as shown in FIG. 16A, the outer edge 230a of the sealing material 230 and the end portion 19a of the first electrode pattern 19 may be printed so as to substantially coincide with each other. preferable. This is because the end of the first electrode pattern can be used as a guide for alignment by printing the sealing material at such a position, so that the printing material can be easily positioned. . In addition, when the color filter substrate and the element substrate are bonded to each other through a pre-bake process, which will be described later, it is easy to prevent the sealing material from flowing toward the outside of the substrate by the dummy electrode. Therefore, a relatively large contact area between the sealing material and the first electrode pattern can be ensured. Therefore, the first electrode pattern and the scanning electrode on the color filter substrate can be reliably connected to each other, and the occurrence of short circuit and corrosion due to the contact of the metal frame and the foreign matter can be effectively prevented.
In this embodiment, the sealing material is formed on the color filter substrate, but it is also preferable to print on the element substrate.

(3)−2 圧着
次いで、シール材が積層された素子基板に対して、カラーフィルタ基板を重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持して、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合せることが好ましい。このとき、図16(c)に示すように、シール材230の外縁230aが、走査電極19や、データ電極26、電気配線28の所定の端部位置よりも外側になるように貼り合わせることが好ましい。
このようにして、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合わせた際に、カラーフィルタ基板における走査電極、素子基板における外部接続用端子となる箇所以外のデータ電極、電気配線が、外部に露出させないことが可能になる。したがって、金属フレームや異物の接触によるショートや、コロージョンの発生を効果的に防止できる電気光学装置を得ることができる。
(3) -2 Pressure bonding Next, the color filter substrate is overlapped and bonded to the element substrate on which the sealing material is laminated, and then the pressure filter is held while heating to bond the color filter substrate and the element substrate. It is preferable to combine them. At this time, as shown in FIG. 16C, the sealing material 230 is bonded so that the outer edge 230a is outside the predetermined end positions of the scanning electrode 19, the data electrode 26, and the electric wiring 28. preferable.
In this way, when the color filter substrate and the element substrate are bonded together, the scanning electrode on the color filter substrate, the data electrode other than the portion serving as the external connection terminal on the element substrate, and the electrical wiring should not be exposed to the outside. Is possible. Therefore, it is possible to obtain an electro-optical device that can effectively prevent the occurrence of short circuit and corrosion due to contact of a metal frame or a foreign object.

(4)液晶の注入および偏光板の配置
次いで、カラーフィルタ基板および素子基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、電気光学物質(液晶)を注入した後、封止材等にて封止することが好ましい。そして、例えば、第1の基板および第2の基板のそれぞれの外面に、偏光板を配置するとともに、液晶分子の配向方向を制御することにより、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を得ることができる。
(4) Injection of liquid crystal and arrangement of polarizing plate Next, after the electro-optic material (liquid crystal) is injected into the space formed by the color filter substrate and the element substrate and into the inner portion of the sealing material, the sealing material It is preferable to seal with etc. For example, a normally black mode liquid crystal display device can be obtained by disposing polarizing plates on the outer surfaces of the first substrate and the second substrate and controlling the alignment direction of the liquid crystal molecules. .

[第3実施形態]
本発明に係る第3実施形態として、第1実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
図17は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル200と、これを制御するための制御手段1200とを有している。また、図17中では、液晶パネル200を、パネル構造体200Aと、半導体素子(IC)等で構成される駆動回路200Bと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段1200は、表示情報出力源1210と、表示処理回路1220と、電源回路1230と、タイミングジェネレータ1240とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源1210は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ1240によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路1220に供給するように構成されていることが好ましい。
[Third Embodiment]
As a third embodiment according to the present invention, an electronic apparatus including the liquid crystal display device according to the first embodiment will be specifically described.
FIG. 17 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the electronic apparatus of the present embodiment. This electronic apparatus includes a liquid crystal panel 200 and a control unit 1200 for controlling the liquid crystal panel 200. In FIG. 17, the liquid crystal panel 200 is conceptually divided into a panel structure 200 </ b> A and a drive circuit 200 </ b> B composed of a semiconductor element (IC) or the like. The control unit 1200 preferably includes a display information output source 1210, a display processing circuit 1220, a power supply circuit 1230, and a timing generator 1240.
The display information output source 1210 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning unit that tunes and outputs digital image signals. It is preferable that the display information is supplied to the display information processing circuit 1220 in the form of an image signal of a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 1240.

また、表示情報処理回路1220は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路200Bへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路200Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路1230は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、シール材に含まれる導電性粒子が、過度に凝集しないで、適度に分散して存在している液晶表示装置を使用している。そのために、電極パターンの断線やショートの発生がなく、信頼性に優れた電子機器とすることができる。
The display information processing circuit 1220 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information. It is preferable to supply the image information to the driving circuit 200B together with the clock signal CLK. Further, the driving circuit 200B preferably includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 1230 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.
And if it is the electronic device of this embodiment, the liquid crystal display device in which the electroconductive particle contained in a sealing material does not aggregate too much, and exists moderately is used. Therefore, the electrode pattern is not broken or short-circuited, and an electronic device having excellent reliability can be obtained.

本発明によれば、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を向上させて、隣接する電極パターン間でのショートの発生を防止することができ、電気光学物質として液晶分子を用いた電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を用いた装置(FED:Field Emission DisplayやSCEED:Surface-Conduction Electron-Emitter Display)、無機又は有機エレクトロルミネッセンス装置等に使用することができる。   According to the present invention, it is possible to improve the dispersibility of the conductive particles contained in the sealing material and prevent the occurrence of a short circuit between adjacent electrode patterns, and electro-optical using liquid crystal molecules as an electro-optical material. Devices and electronic devices such as mobile phones and personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electrophoresis devices, electronic notebooks, calculators, word processors, work Used for stations, videophones, POS terminals, electronic devices equipped with touch panels, devices using electron-emitting devices (FED: Field Emission Display or SCEED: Surface-Conduction Electron-Emitter Display), inorganic or organic electroluminescence devices, etc. be able to.

さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えて使用することができる。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルはパッシブマトリクス型の構造を備えているが、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂COGタイプの構造を有しているが、半導体素子(ICチップ)を直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やTAB基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
Furthermore, the electro-optical device and the electronic apparatus of the present invention are not limited to the illustrated examples described above, and can be used with various modifications without departing from the gist of the present invention. For example, the liquid crystal panel described in each of the above embodiments has a passive matrix structure, but an active matrix type electro-optical device using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) or a TFD (thin film diode). It can also be applied to.
Further, the liquid crystal panel of the above embodiment has a so-called COG type structure, but a flexible wiring board or a TAB board is connected to a liquid crystal panel that is not a structure in which a semiconductor element (IC chip) is directly mounted, for example, a liquid crystal panel. It may be configured as described above.

本発明に係る第1実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。1 is a schematic perspective view showing an external appearance of a liquid crystal panel constituting an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 液晶パネルを模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a liquid crystal panel typically. (a)〜(b)は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置に使用される異方性導電膜を説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate the anisotropic electrically conductive film used for the electro-optical apparatus of 1st Embodiment which concerns on this invention. (a)は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置に使用するカラーフィルタ基板の部分概略平面図であり、(b)は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置に使用する素子基板の部分概略平面図である。(A) is a partial schematic plan view of a color filter substrate used in the electro-optical device of the first embodiment according to the present invention, and (b) is used in the electro-optical device of the first embodiment according to the present invention. It is a partial schematic plan view of an element substrate. 走査電極の端部位置を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the edge part position of a scanning electrode. (a)〜(c)は、それぞれ素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通位置について説明するために供する図である。(A)-(c) is a figure provided in order to demonstrate the conduction | electrical_connection position of the electrical wiring on an element board | substrate, and the scanning electrode on a color filter board | substrate, respectively. アクティブマトリクス型構造の電気光学装置に使用する素子基板の配線例を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the example of wiring of the element substrate used for the electro-optical apparatus of an active matrix type structure. 本発明に係る第1実施形態の電気光学装置に使用されるシール材を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the sealing material used for the electro-optical apparatus of 1st Embodiment which concerns on this invention. (a)〜(h)は、凝集粒子における、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数について説明するために供する図である。(A)-(h) is a figure provided in order to demonstrate the maximum number of the electroconductive particle arranged in one direction in an aggregated particle. 分散性指数と、分散性粒子の平均粒径との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a dispersibility index and the average particle diameter of a dispersible particle. 分散性指数と、分散性粒子の添加量との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a dispersibility index and the addition amount of a dispersible particle. (a)〜(d)は、カラーフィルタ基板を形成するための製造工程を示す断面図である(その1)。(A)-(d) is sectional drawing which shows the manufacturing process for forming a color filter substrate (the 1). (a)〜(g)は、カラーフィルタ基板を形成するための製造工程を示す断面図である(その2)。(A)-(g) is sectional drawing which shows the manufacturing process for forming a color filter substrate (the 2). (a)〜(c)は、素子基板を形成するための製造工程を示す断面図である(その1)。(A)-(c) is sectional drawing which shows the manufacturing process for forming an element substrate (the 1). (a)〜(c)は、素子基板を形成するための製造工程を示す断面図である(その2)。(A)-(c) is sectional drawing which shows the manufacturing process for forming an element substrate (the 2). (a)〜(c)は、電気光学装置の製造工程を示す平面図である。(A)-(c) is a top view which shows the manufacturing process of an electro-optical apparatus. 本発明に係る電子機器の実施形態の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of embodiment of the electronic device which concerns on this invention. 従来の電気光学装置に使用する異方性導電膜を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the anisotropic conductive film used for the conventional electro-optical apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10:電気光学装置(液晶表示装置)、12:カラーフィルタ基板(第1の基板)、13:第1のガラス基板、13a:基板の縁部、14:素子基板(第2の基板)、27:第2のガラス基板、19:走査電極(第1の電極パターン)、19a:走査電極の端部、26:データ電極(第2の電極パターン)、26a:データ電極の端部、28・29:電気配線、28a:電気配線の端部、31:二端子型非線形素子(TFD素子)、60:シール材、61:絶縁性接着剤、63:導電性粒子、65:分散性粒子、67:スペーサ、80:異方性導電膜、81:絶縁性接着剤、83:導電性粒子、85:分散性粒子、200:液晶パネル、230:シール材、230a:シール材の外縁 10: electro-optical device (liquid crystal display device), 12: color filter substrate (first substrate), 13: first glass substrate, 13a: edge of substrate, 14: element substrate (second substrate), 27 : Second glass substrate, 19: scan electrode (first electrode pattern), 19a: end of scan electrode, 26: data electrode (second electrode pattern), 26a: end of data electrode, 28, 29 : Electrical wiring, 28a: end of electrical wiring, 31: two-terminal nonlinear element (TFD element), 60: sealing material, 61: insulating adhesive, 63: conductive particles, 65: dispersible particles, 67: Spacer, 80: anisotropic conductive film, 81: insulating adhesive, 83: conductive particles, 85: dispersible particles, 200: liquid crystal panel, 230: sealing material, 230a: outer edge of sealing material

Claims (13)

異方導電性のシール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、
前記第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、
前記第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
前記シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むことを特徴とする電気光学装置。
Electricity including a first substrate and a second substrate that are arranged to face each other with an anisotropic conductive sealing material, and an electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate In an optical device,
The first substrate comprises a first electrode pattern on the surface,
The second substrate includes a second electrode pattern on the surface, electrical wiring, and an external connection terminal on at least one side,
The sealing material includes an insulating adhesive, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting a cell gap. .
前記シール材において、下記式(1)で示される導電性粒子の分散性指数(P1)を2以上の値とすることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
Figure 2005172999
e: 自然対数の底
A1:シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒
子の最大個数
B1:シール材の単位面積あたりに含まれる、最大個数がA1である凝集粒子の数
B1:B1の階乗
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the sealing material has a dispersibility index (P1) of conductive particles represented by the following formula (1) of 2 or more.
Figure 2005172999
e: Natural logarithm base A1: In aggregated particles made of conductive particles contained in the sealing material, the maximum number of conductive particles arranged in one direction B1: The maximum number contained per unit area of the sealing material is A1. Number of agglomerated particles N B1 : Factorial of B1
前記シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、前記シール材に含まれる分散性粒子の平均粒径を0.3s〜0.9s(μm)の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。   When the average particle size of the conductive particles contained in the sealing material is s (μm), the average particle size of the dispersible particles contained in the sealing material is in the range of 0.3 s to 0.9 s (μm). The electro-optical device according to claim 1, wherein 前記シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をs(μm)としたときに、前記第1の電極パターン又は第2の電極パターンにおける、隣接する電極パターン間の距離を2.5s〜5s(μm)の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気光学装置。   When the average particle diameter of the conductive particles contained in the sealing material is s (μm), the distance between adjacent electrode patterns in the first electrode pattern or the second electrode pattern is 2.5 s to 5 s. The electro-optical device according to claim 1, wherein the value is within a range of (μm). 前記シール材に含まれるスペーサのアスペクト比を1:2〜1:6の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein an aspect ratio of the spacer included in the sealing material is set to a value in a range of 1: 2 to 1: 6. 前記シール材に含まれる導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、前記シール材に含まれる分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内の値とするとともに、前記スペーサの添加量を3〜30重量%の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の電気光学装置。   When the addition amount of the conductive particles contained in the sealing material is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles contained in the sealing material is set to a value within the range of 50 to 300% by weight, and the spacer 6. The electro-optical device according to claim 1, wherein the additive amount is set to a value within a range of 3 to 30% by weight. 前記外部接続用端子が異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続してあるとともに、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含み、かつ、下記式(2)で示される導電性粒子の分散性指数(P2)を2以上の値とすることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の電気光学装置。
Figure 2005172999
e: 自然対数の底
A2:異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電
性粒子の最大個数
B2:異方性導電膜の単位面積あたりに含まれる、最大個数がA1である凝集粒子の数
B2:B2の階乗
The external connection terminal is electrically connected to at least a connection substrate through an anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film includes an insulating adhesive, conductive particles, and conductive particles. And a dispersibility index (P2) of the conductive particles represented by the following formula (2) is set to a value of 2 or more. The electro-optical device according to any one of the above.
Figure 2005172999
e: natural logarithm base A2: in aggregated particles composed of conductive particles contained in anisotropic conductive film, maximum number of conductive particles arranged in one direction B2: included per unit area of anisotropic conductive film, Number of aggregated particles with maximum number A1 N B2 : Factorial of B2
前記異方性導電膜に含まれる導電性粒子の平均粒径をt(μm)としたときに、前記異方性導電膜に含まれる分散性粒子の平均粒径を0.3t〜0.9t(μm)の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の電気光学装置。   When the average particle diameter of the conductive particles contained in the anisotropic conductive film is t (μm), the average particle diameter of the dispersible particles contained in the anisotropic conductive film is 0.3 t to 0.9 t. The electro-optical device according to claim 1, wherein the electro-optical device has a value in a range of (μm). 前記異方性導電膜に含まれる導電性粒子の添加量を100重量%としたときに、前記異方性導電膜に含まれる分散性粒子の添加量を50〜300重量%の範囲内の値とすることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の電気光学装置。   When the addition amount of the conductive particles contained in the anisotropic conductive film is 100% by weight, the addition amount of the dispersible particles contained in the anisotropic conductive film is a value within the range of 50 to 300% by weight. The electro-optical device according to claim 1, wherein 異方導電性のシール材を介して対向配置される第1の基板及び第2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含むとともに、前記第1の基板は、表面上に第1の電極パターンを備え、前記第2の基板は、表面上に第2の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備えた電気光学装置の製造方法において、
絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、前記第1の基板及び第2の基板を接合することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
And a first substrate and a second substrate that are disposed opposite to each other with an anisotropic conductive sealing material, and an electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate. The first substrate has a first electrode pattern on the surface, the second substrate has a second electrode pattern on the surface, electrical wiring, and an external connection terminal on at least one side. In a method for manufacturing an electro-optical device comprising:
Using a sealing material including an insulating adhesive, conductive particles, dispersible particles for dispersing the conductive particles, and a spacer for adjusting a cell gap, the first substrate and A method of manufacturing an electro-optical device, comprising bonding a second substrate.
前記シール材として、下記式(1)で示される導電性粒子の分散性指数(P1)が2以上の値であるシール材を使用することを特徴とする請求項10に記載の電気光学装置の製造方法。
Figure 2005172999
e: 自然対数の底
A1:シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒
子の最大個数
B1:シール材の単位面積あたりに含まれる、最大個数がA1である凝集粒子の数
B1:B1の階乗
11. The electro-optical device according to claim 10, wherein a sealing material having a dispersibility index (P1) of conductive particles represented by the following formula (1) of 2 or more is used as the sealing material. Production method.
Figure 2005172999
e: Natural logarithm base A1: In aggregated particles made of conductive particles contained in the sealing material, the maximum number of conductive particles arranged in one direction B1: The maximum number contained per unit area of the sealing material is A1. Number of agglomerated particles N B1 : Factorial of B1
前記外部接続用端子を、異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続する工程を含み、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含むとともに、かつ、下記式(2)で示される導電性粒子の分散性指数(P2)が2以上の値であることを特徴とする請求項10または11に記載の電気光学装置の製造方法。
Figure 2005172999
e: 自然対数の底
A2:異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電
性粒子の最大個数
B2:異方性導電膜の単位面積あたりに含まれる、最大個数がA2である凝集粒子の数
B2:B2の階乗
Including a step of electrically connecting the external connection terminal to at least a connection substrate through an anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film comprising an insulating adhesive, conductive particles, and the conductive The dispersibility index (P2) of the electroconductive particle shown by following formula (2) is 2 or more values while containing the dispersible particle for disperse | distributing particle | grains. Or a method of manufacturing the electro-optical device according to 11.
Figure 2005172999
e: natural logarithm base A2: in aggregated particles composed of conductive particles contained in anisotropic conductive film, maximum number of conductive particles arranged in one direction B2: included per unit area of anisotropic conductive film, Number of aggregated particles whose maximum number is A2 N B2 : Factorial of B2
請求項1〜9のいずれかに記載された電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007248694A (en) * 2006-03-15 2007-09-27 Epson Imaging Devices Corp Electro-optical device, and electronic apparatus
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WO2016002837A1 (en) * 2014-07-02 2016-01-07 積水化学工業株式会社 Liquid crystal display element and liquid crystal display element sealing agent

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