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JP2005161138A - 水処理方法および水処理装置 - Google Patents

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JP2005161138A JP2003400854A JP2003400854A JP2005161138A JP 2005161138 A JP2005161138 A JP 2005161138A JP 2003400854 A JP2003400854 A JP 2003400854A JP 2003400854 A JP2003400854 A JP 2003400854A JP 2005161138 A JP2005161138 A JP 2005161138A
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Yoshitaka Yamaki
由孝 八巻
Naomichi Yonekawa
直道 米川
Yukio Noguchi
幸男 野口
Yasunori Matsui
恭則 松井
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Abstract

【課題】装置コスト、ランニングコストを低減させるとともにオゾンの使用効率を高めた水処理方法を提供する。
【解決手段】被処理水を過酸化水素の存在下でオゾンと接触させる第1の酸化分解工程と、第1の酸化分解工程を経た被処理水に紫外線を照射する第2の酸化分解工程とを備えている。第1の酸化分解工程では、高濃度のTOCが効率的に除去され、第2の酸化分解工程では、低濃度となったTOCがさらに低い濃度にまで酸化分解される。
【選択図】図1

Description

本発明は、水処理方法および水処理装置に係り、特に、半導体や液晶工場などの洗浄工程で用いられた排水中の界面活性剤などの有機物を分解して、超純水装置の原水として再利用するのに適した水処理方法および水処理装置に関する。
従来から、半導体や液晶工場などの洗浄工程で用いられた排水中の界面活性剤などの有機物を分解し超純水装置の原水として再利用するための水処理方法としていくつかの促進酸化処理方法(AOP:Advanced Oxidation Process)が提案されている。
この促進酸化処理方法は、OHラジカル(・OH:ヒドロキシルラジカル)を生成させてOHラジカルの強力な酸化作用を利用した水の浄化技術であり、OHラジカルの生成手段と、このOHラジカルを用いて水中の有機物を酸化分解処理する手段とを備えている。
OHラジカルの生成手段の代表的なものとして、(a)オゾンと過酸化水素を被処理水に溶解させる方法や(b)被処理水に過酸化水素を溶解させた状態で紫外線を照射する方法が知られている。
(a)の方法は、全有機炭素(以下、TOCという。)値が5ppmを超えるような高濃度有機物処理に特に効果的であり、高濃度のTOCを酸化分解するためにオゾン含有ガスを多量に必要とすることから、いわゆるバブリングによる気液接触手段が有効であることが知られている。
しかし、この方法は、TOC値が高い被処理水に対しては有効であるが、TOCの酸化分解が進んでTOC値が低くなると除去効率が悪くなり、このため、高いTOC除去率を得るためには、オゾンを多量に必要とし、オゾン発生量の多い高価なオゾナイザーを必要としたり、オゾナイザーの必要台数が増えて、設備コストが高くなるという問題があった。
すなわち、通常、TOCの酸化分解反応は、ノニオン系の界面活性剤あるいはIPAなど非イオン性の有機物が有機酸に分解され、生成した有機酸が炭酸にまで分解されることにより、反応が進むと考えられている。ところで、超純水製造装置においては、有機酸および炭酸はイオン交換樹脂によってイオン成分として脱イオン可能である。
このため、有機酸は、オゾンなどによってそれ以上分解される必要はないが、実際には、オゾンと過酸化水素によって有機酸が炭酸にまで分解され、このときオゾンが消費されるため、オゾンの実効的な分解効率が悪化してしまう。特に、オゾン処理は、有機酸を分解し難いと考えられており、このためさらにオゾンの分解効率が悪くなっている。
一方(b)の方法は、照射される紫外線のうち、TOC分解に用いられる割合はわずかであると考えられている。また、Hの存在は、反応の促進剤にはなるが、光を阻害する原因にもなるため、光はランプ近傍において、ほとんど消失してしまいランプから遠い部分において届きにくくなる。そのため、紫外線照射とHの組合せで比較的TOC濃度の高い被処理水の処理は効率が悪いと考えられる。
また、(b)の方法では、紫外線の照射量とTOC除去量がほぼ比例するため、TOCが高濃度の被処理水を処理しようとすると多数本の紫外線ランプが必要となって装置コストが非常に高価なものになる上に、紫外線ランプは、通常、ランプ出力が一年で、60〜80%に減衰するため、メンテナンスが煩雑になるという問題がある。
ちなみに、ランプ本数は、300m/hの装置で、照射量を5kW・h/m以上とすると、必要なランプ本数は、一万本を超えてしまい現実的ではない。また、ランプ本数の増加は、そのまま設置スペースの増加に比例してしまうという問題もある。
また、(c)被処理水にオゾンを溶解した後紫外線照射装置で紫外線を照射して、オゾン処理と紫外線照射の2段階でTOCを酸化分解する方法も検討されているがオゾンは溶解度が低いため処理効率も悪く、例えば、TOC濃度が5ppmを超えるような被処理水の処理システムではTOC濃度を1ppm以下にすることが難しいという問題があった。
さらに、(d)被処理水にオゾンを溶解させた後、さらに過酸化水素を添加して紫外線照射を行うようにした方法も検討されているが、このようなシステムでもTOC濃度を1ppm以下にすることは難しいという問題がある。
またさらに、(e)微生物を利用してTOCを分解除去する方法も知られているが、この方法は、安価に実施できる反面、設置スペースを広く必要とし、かつ界面活性剤を多く含むような被処理水は微生物の成長が阻害されるため安定した処理が難しいという問題があった。
特開2003−94076号公報
上述したように、被処理水中のTOCを除去するための従来の方法では、(a)オゾンと過酸化水素を被処理水に溶解させる方法にはTOC値が低くなると除去効率が悪くなるという問題があり、(b)被処理水に過酸化水素を溶解させた状態で紫外線を照射する方法には高濃度TOCを処理するのに(a)の方法よりもさらに設備コストが高くなる上に、メンテナンスに手間がかかり、ランニングコストも高いという問題があり、(c)被処理水にオゾンを溶解した後紫外線照射を照射する2段階でTOCを分解する方法や(d)被処理水にオゾンを溶解した後、さらに過酸化水素を添加して紫外線を照射する方法には、オゾンの溶解度が低いため処理効率が低いという問題があり、(e)微生物を利用してTOCを分解除去する方法には、設置スペースを広く必要とし、かつ界面活性剤を多く含むような被処理水は微生物の成長を阻害するため安定した処理が難しいという問題があった。
本発明者らは、これら従来の水処理方法の問題を解消すべく鋭意研究を進めた結果、高いTOC濃度の被処理水に対して除去効率の高いオゾンと過酸化水素の組合わせにより処理し、この処理によりTOC濃度の低くなった被処理水を到達TOC濃度の低い紫外線照射と組合わせて処理を行うことにより、高いTOC濃度の被処理水を、低い設備コスト、低いランニングコストで、高いTOC除去効率が得られることを見出し、本発明を完成した。
本発明者らの実験によれば、オゾンと過酸化水素の組合わせにより処理では、図2に示すように、TOC濃度が2.5ppm程度までは、オゾナイザーによるオゾン発生量と到達TOC濃度の関係は、オゾン発生量を増加させれば、到達TOC濃度がそれに対応して低下する関係にあるが、それよりTOC濃度が低い領域では、オゾン発生量を増加させても到達TOC濃度はあまり低下せず、非常に除去効率が低くなってしまうのである。一方、紫外線照射による酸化分解では、単位時間・単位被処理水量あたりの紫外線照射量とTOC濃度の減少量とは相当低い濃度までほぼ比例関係にあり、かつ紫外線照射量が低くてすめば必要な紫外線ランプの本数も少なくなり、装置コストが安くなる上に、メンテナンスが容易になり、ランニングコストも低廉になる。
すなわち、本発明は、TOC濃度の高い第1の酸化分解工程では、TOC除去効率の高い、オゾンと過酸化水素の組合わせを使用し、TOC濃度が低くなった第2の酸化分解工程では、高濃度TOCの被処理水の処理では、装置コスト、ランニングコストが非常に高いが、低濃度TOC被処理水を対象とするときには、装置コスト、ランニングコストが安価となり、かつ酸化分解を低濃度においてもさほど効率を低下させずに行うことのできる紫外線照射による酸化分解を行うことにより、装置コスト、ランニングコストを低減させるとともにオゾンの使用効率を高めたものである。
したがって、本発明は、被処理水を過酸化水素の存在下でオゾンと接触させる第1の酸化分解工程と、第1の酸化分解工程の被処理水に紫外線を照射する第2の酸化分解工程とを具備したことを特徴としている。
以下、各酸化分解工程について説明する。
(第1の酸化分解工程)
本発明の第1の酸化分解工程では、TOCが機構により酸化分解するものと推測される。
すなわち、オゾンおよび過酸化水素は、
+O→ ・OH+HO +O ………[1]
HO +O → ・OH+O +O …………[2]
に示されるように相互に反応して、OΗラジカルを生成する。
一方、アルカリ性側において、オゾンと過酸化水素は、
+OH→ HO +H O ………[3]
→ HO +H+ …………[4]
+OH→ HO +O …………[5]
のように塩基と反応して、HOラジカルが生成する。なお、ここで生成したHO は、オゾンと反応して上記OΗラジカルの生成にも関与する。したがって、被処理水中のオゾンの濃度が高いほど、OΗラジカルおよびHOラジカルの生成が多くなる。
そして、上記反応により生成したOΗラジカルおよびHOラジカルにより、
RH+・OH → ・R+HO …………[6]
・R+O(O ) → 酸化生成物 …………[7]
RH+HO → 酸化生成物+HO …………[8]
の反応が進行して有機物が酸化分解される。
第1の酸化分解工程における被処理水とオゾンとの接触は、通常、放電管を利用した放電式オゾナイザーまたは純水を電解する電解式オゾナイザーによって生成されたオゾン含有ガスを被処理水中に、バブリング等の手段により気液接触させることにより行われる。
気液接触により、気相中のオゾンは、液相中に溶解するとともに、上述したような液相反応が行われる。上記反応は、瞬時であるため、酸化分解後の処理水中に溶存オゾンはほとんど残存しない。また、逆に溶存オゾンが多数存在する場合は、Hの注入量が不足しているか、またはpHが6以下であり、この時、一般に分解効率が悪くなる。この場合は、適宜Hの注入量またはpHをコントロールすればよい。また、注入するH量は、オゾンを瞬時に分解させる促進剤となるが、この量は、足りなくなると必要なラジカルの生成が不足し、多すぎると逆にラジカルの生成が過剰となり、かつ、これらラジカルは瞬時に消失してしまうため、かえってTOC分解効率は低くなる。したがって、pHの値は適正値にコントロールする必要がある。
オゾン含有ガスを被処理水中に溶解させる方法としては、オゾン含有ガスを被処理水中にバブリングさせる方法やエゼクターを用いて注入する方法が採られる。
通常、オゾンの分解反応は瞬時であり、かつ、自己分解によっても消失してしまうため、予め過酸化水素を注入し、その後、オゾンガスを気液接触させるか、過酸化水素をオゾン反応槽へオゾンと同時に注入することが望ましい。
第1の工程では、pH調整のため塩基が添加される。
塩基の添加量は、処理水において、pHが6以上となる量であればよい。酸化分解反応においては、有機酸または炭酸が多量に生成するのでpHは低下する。そのため、被処理水のpHは、例えば、10程度として処理水のpHを6以上にコントロールすることが望ましい。
処理水のpHが7〜10の範囲において、高いTOC除去率が得られる。
また、処理水のpHが、10以上であれば、その高pH条件がヒドロキシラジカルの生成を促すため、Hは、注入しなくても高い分解効率が得られる。この場合、処理水のpHが高pHであるため、純水の排水回収などに用いる場合は、その点につき注意が必要である。
第1の酸化分解工程を反応タンクを用いて行う場合には、オゾンは溶解度が低く、被処理水から離脱し易いので、予め過酸化水素と塩基を被処理水に先に添加したものを反応タンクに供給しておき、この中にオゾン含有ガスをバブリングやエゼクターにより溶解させることが望ましい。
なお、過酸化水素の添加量は、上記の反応が行われるのに必要な量であればよい。具体的には、被処理水のTOC濃度に応じて、H /TOC(重量比)が、0.5〜2の範囲となるように添加される。
(第2の酸化分解工程)
第2の酸化分解工程に使用される紫外線照射装置には、185nmの波長の紫外線を照射する低圧紫外線酸化用ランプや254nmの波長の紫外線を照射する低圧殺菌用ランプを有する装置が用いられる。185nmの波長の紫外線は、OHラジカルを生成して生成したOHラジカルにより有機物の分解が行われる。また、254nmの波長の場合、紫外線は過酸化水素との反応によりHOラジカルやOHラジカルを生成して有機物の分解を行う。
低圧紫外線酸化用ランプを用いても、実際の185nmの波長の紫外線の相対強度の存在比率は小さく、一方、254nmの波長の存在比率は低圧殺菌用ランプとほとんど同じであるので、いずれの紫外線ランプを使用しても効率は殆ど変わらない。
第2の酸化分解工程においても過酸化水素が存在することが好ましく、その場合の被処理水中の過酸化水素の濃度は、過酸化水素とTOCの濃度比(重量)が、5〜20の範囲であることが望ましい。
第2の酸化分解工程では、生成したOΗラジカルやHOラジカルによる [6],[8]の反応により有機酸にまで分解される他、185nmの波長の紫外線によりTOCが無機炭酸にまで分解される。
第2の酸化分解工程における被処理水のpH値も6以上であることが望ましく、7〜10の範囲であることがより望ましい。
第2の酸化分解工程においては、分解するTOCの量はわずかであるため、被処理水と処理水のpHは、大きくはかわらない。そのため、被処理水が6以上であれば、特にpH調整のための塩基を注入する必要はない。また、第2の酸化分解工程においては、第1の酸化分解反応におけるオゾン処理のように、pHの低下による分解効率の低下は極端ではない。
なお、本発明においては、必要に応じて、第1の酸化分解工程と第2の酸化分解工程の間に、活性炭処理工程やイオン交換処理工程を挿入して第2の酸化分解におけるTOC負荷を減少させることもできる。
すなわち、第1の酸化分解工程後の反応槽出口においては、分解によって生成した有機酸も多数存在している。これらは、イオン交換樹脂により容易に除去されるため、第2の酸化分解工程の前に、イオン交換処理工程を挿入することにより、第2の酸化分解工程の負荷を軽減することが可能となる。
なお、過酸化水素を含む水をイオン交換樹脂ないし耐酸化性のない膜処理などに通水すると劣化の原因となるので、これらの水は、活性炭で処理して過酸化水素を除去した後通水することが望ましい。処理水を活性炭が設置された純水装置の原水に回収する場合には、特に、追加して設置する必要はない。
なお、過酸化水素を除去する手段としては、還元剤の注入や金属を担持した触媒樹脂を用いる方法もあるが、活性炭は過酸化水素が含有されるとその飽和吸着が抑制され、有機物除去能力を長く維持できる上に有機酸の分解により生じた非イオン性の有機物もある程度除去することができるので本発明に適している。
また、本発明においては、第2の酸化分解工程の後にイオン交換処理工程を付加することにより、再生水のTOC濃度をより低くしたり、任意の箇所にpH計を設けて塩基の添加量をフィードバック制御して被処理水のpH管理を自動的に行わせることも可能である。
本発明によれば、第1の酸化分解工程において高濃度のTOCが効率的に除去され、第2の酸化分解工程において低濃度となったTOCがさらに低い濃度にまで酸化分解される。
本発明においては、酸化分解効率は高いが到達TOC濃度が比較的高い過酸化水素−オゾンによる第1の酸化分解工程と、酸化分解効率は低いが到達TOC濃度が低い紫外線照射による第2の酸化分解工程とを組み合わせることにより、オゾン発生量の低いオゾナイザーや出力が低い(紫外線照射ランプ本数の少ない)紫外線照射装置のように比較的安価な装置を用いて高いTOC除去率を達成することができる。
次に本発明の実施例について説明する。
図1は、本発明の実施例および比較例に用いた水処理装置の構成を示す図である。
この水処理装置は、一次純水が供給される純水(被処理水)タンク1、オゾン反応槽2、気液分離槽3、紫外線照射装置4、これらを順に接続する配管系5、被処理水を純水タンク1からオゾン反応槽2、気液分離槽3を経て紫外線照射装置4へ給送するポンプ6,7、オゾン反応槽2及び紫外線照射装置4に供給される被処理水へポンプ8,9により所定の量の過酸化水素を注入する過酸化水素注入装置10,11、オゾン反応槽2に供給される被処理水へポンプ12により所定の量のアルカリ(NaOH)を添加するアルカリ添加装置13、オゾン反応槽2中の被処理水にオゾン含有ガスをバブリングにより溶解させるオゾナイザー14から主要部分が構成されている。符号15は、この実施例のTOC供給源である界面活性剤を貯蔵するタンクであり、この界面活性剤は、ポンプ16により被処理水中に所定の量ずつ注入される。符号17は被処理水の流量計、18は気液分離槽3で被処理水から分離されたオゾン含有ガスからオゾンを分解除去するためのオゾン分解装置であり、オゾン含有ガスは、このオゾン分解装置18を経て大気に放出される。
この実施例の装置では、純水タンク1からポンプ6により配管系5に送り出された純水には、界面活性剤タンク15から一定量の界面活性剤(TOC)が注入されて模擬の被処理水(試料水)とされる。
この被処理水は、図示を省略したpH計によりpHが測定されpH値が6より低いときには、アルカリ添加装置13からアルカリが注入されてpHが6以上とされる。さらに、過酸化水素注入装置10からは過酸化水素がH /TOC (重量比)が、0.5〜2となるように注入される。
アルカリとオゾンの添加された被処理水は、反応槽2に送られ、このオゾン反応槽2において被処理水中にオゾナイザー14からオゾンがバブリングにより過飽和又は10ppm以上の濃度となるように溶解されてTOCの相当部分が酸化分解される(第1の酸化分解工程)。
オゾン反応槽2から送り出されたTOC濃度の低くなった被処理水には、過酸化水素タンク11から過酸化水素が過酸化水素/TOC(濃度比)で5〜20となる量だけ注入されて、気液分離槽3に送られる。なお、第1の酸化分解工程の済んだ被処理水には、注入した過酸化水素のうち約半分以上が反応槽出口において残存しているので、第2の酸化分解工程においてはその残存する過酸化水素を利用して、過酸化水素を新たに注入せずに紫外線照射を行うようにしてもよい。
この後、被処理水は気液分離槽3から紫外線照射装置4に送られ、ここで例えば波長245nmの紫外線が照射されて被処理水中の残存するTOCが分解除去される(第2の酸化分解工程)。
なお、純水装置の原水として使用するための回収装置として用いる場合には、TOC成分のうち、イオン交換樹脂により補足できる成分(有機酸)を無視した値をもってTOC除去性能を評価することができる。このため、本実施例においては、試料水を混床式イオン交換樹脂に通水した後のTOC値をもって結果を評価した。
次に実施例について説明する。
図1の装置を用いて、純水タンク1から純水を1m/hの供給量で配管系5に給送しつつ界面活性剤(NCW−101)を純水中(TOC)を注入してTOC濃度14.8ppmの試料水c20℃)とした。また、オゾナイザー14で生成させたオゾン含有ガスを86g・O/m(試料水) 注入するとともに、過酸化水素供給タンク10から過酸化水素を反応槽2の入口側で20ppmとなる量注入した。また、アルカリ添加装置13からアルカリ(NaOH)を注入して反応槽2出口のpHを6.99とした(第1の酸化還元工程)。
また、紫外線照射装置(日本フォトサイエンス社製)4の紫外線照射量は、1.45kW・h/mとした(第2の酸化還元工程)。
この実施例において、反応槽2出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、2.1ppmであり、紫外線照射装置4出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、1.0ppmであった。
TOC濃度を15.1ppm、反応槽2出口のpHを7.35、オゾン含有ガスを84g・O/m(試料水)、過酸化水素を反応槽2の入口側で20ppm、紫外線照射装置4の入口側で80ppmとなる量添加した以外は、実施例1と同じ条件で試料水の処理を行った。
この実施例において、反応槽2出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、2.3ppmであり、紫外線照射装置4出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、0.45ppmであった。
反応槽2出口のpHを7.65、紫外線照射量を0.725kW・h/mとした
以外は、実施例2と同じ条件で試料水の処理を行った。
この実施例において、反応槽2出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、2.3ppmであり、紫外線照射装置4出口の試料水を混床式のイオン交換樹脂カラムを通してそのTOC濃度を測定したところ、0.83ppmであった。
比較例
紫外線照射装置4を不作動とし、オゾナイザー14のオゾン発生量を増加させてTOCの酸化分解を行ったところ、TOC濃度を0.71ppmにするのに、オゾン発生量を173g・O/m(試料水)必要とすることがわかった。
すなわち、実施例1〜3では、TOC濃度が約15ppmの試料水をTOC濃度2.3にするのに、約84g・O/mのオゾン含有ガスを要したが、比較例では、これが約2倍必要としていることがわかる。
本発明の一実施例の構成を概略的に示す図。 オゾナイザーのオゾン発生量と到達TOC濃度との関係を示すグラフ。
符号の説明
1…純水(被処理水)タンク、2…オゾン反応槽、3…気液分離槽、4…紫外線照射装置、5…配管系、6,7…ポンプ、10,11…過酸化水素注入装置、13…アルカリ添加装置、14…オゾナイザー、15…界面活性剤タンク。

Claims (9)

  1. 被処理水を過酸化水素の存在下でオゾンと接触させる第1の酸化分解工程と、
    第1の酸化分解工程を経た被処理水に紫外線を照射する第2の酸化分解工程と
    を具備したことを特徴とする水処理方法。
  2. 第2の酸化分解工程は、過酸化水素の存在下で行われることを特徴とする請求項1記載の水処理方法。
  3. 第1の酸化分解工程における被処理水とオゾンとの接触は、被処理水とオゾン含有ガスとを接触させることにより行われる請求項1又は2記載の水処理方法。
  4. 第1の酸化分解工程における被処理水のpHは6以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の水処理方法。
  5. 第1の酸化分解工程における被処理水中の過酸化水素と全有機炭素(以下、TOCという。)の濃度比(重量比)が、0.5〜2であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の水処理方法。
  6. 第2の酸化分解工程における被処理水中の過酸化水素とTOCの濃度比が、5〜20であることを特徴とする請求項5項記載の水処理方法。
  7. 被処理水タンクと、オゾン反応槽と、紫外線照射槽と、これらを順に接続する配管系と、前記純水タンクから前記オゾン反応槽を経て前記紫外線照射槽へ被処理水を給送するポンプと、前記オゾン反応槽に供給される被処理水へ過酸化水素を注入する過酸化水素注入装置と
    を備えたことを特徴とする水処理装置。
  8. 前記紫外線照射槽に供給される被処理水へ過酸化水素を注入する過酸化水素注入装置を備えたことを特徴とする請求項7記載の水処理装置。
  9. 前記オゾン反応槽に供給される純水のpHを調整するpH調整装置を備えたことを特徴とする請求項7又は8記載の水処理装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008093558A (ja) * 2006-10-11 2008-04-24 Nomura Micro Sci Co Ltd 水処理方法及び水処理装置
JP2010501349A (ja) * 2006-08-25 2010-01-21 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 基板研磨液のユースポイント処理のための方法及びシステム
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