JP2005158668A - 高温特性が優秀な有機電界発光表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は有機電界発光表示素子に係り、基板、基板上に形成されている第1電極、第2電極と第1電極及び第2電極間に少なくとも一つの発光層を含む有機膜層を含み、発光層は少なくとも一つの燐光ドーパントを含み、ドーパントはL3M、L2ML’で表現されることを特徴とする有機電界発光表示装置を提供することによって、高温駆動特性及び保管特性を向上させてsデバイスの画素縮小現象を防止する。Mは、転移金属であってIr、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、LとL’との炭素と窒素で配位される二座(bidendate)配位子であってLとL’のうち少なくとも一つは配位子内Cの数が15以上である。
【選択図】図1
Description
基板と;前記基板上に形成されている第1電極と;第2電極と前記第1電極及び第2電極間に少なくとも一つの発光層を含む有機膜層を含み、前記発光層は少なくとも一つの燐光ドーパントを含み、前記ドーパントはL2ML’で表現されることを特徴とする有機電界発光表示装置を提供する。
前記Mは、転移金属であって、Ir、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記LとL’との炭素と窒素で配位される二座(bidendate)配位子であって、LとL’のうち少なくとも一つは配位子内Cの数が15以上である。
基板と;前記基板上に形成されている第1電極と;第2電極と前記第1電極及び第2電極間に少なくとも一つの発光層を含む有機膜層を含み、前記発光層は少なくとも一つの燐光ドーパントを含み、前記ドーパントはL3Mで表現されることを特徴とする有機電界発光表示装置を提供する。
L2ML’またはL3Mで表現され、前記Mは転移金属であってIr、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記LとL’との炭素と窒素で配位される二座(bidendate)配位子であってLとL’のうち少なくとも一つは配位子内Cの数が15以上であることを特徴とする発光化合物を提供する。
前記Mは、転移金属であって、Ir、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記Lは炭素と窒素で配位される二座(bidendate)配位子であって配位子内Cの数が15以上である。
前記LとL’のうち少なくとも一つは、配位子内六角形のリング構造を少なくとも二個を有することが望ましい。
ITO透明電極上に、有機電界発光表示装置の正孔注入層として、フタロシアニン銅(copper phthalocyanine;CuPc)を10−6トール(torr)の真空下で10nm厚さに蒸着した後、正孔輸送層としてN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(N,N’−di(1−naphtyl)−N,N’−diphenylbenzidine;NPD)を、10−6トールの真空下で50nmの厚さに蒸着した。NPD蒸着後、発光層としてカルバゾルビフェニル(carbazolebiphenyl;CBP)に下記式27のトリス(1−フェニルキノリン)イリジウム(tris(1−phenylquinoline)Iridium)を10%の濃度に蒸着して、発光層を30nm厚さに形成した。発光層蒸着後、正孔阻止層としてビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(biphenoxy−bi(8−quinolinolato)aluminium;BAlq)を5nm厚さに蒸着後、電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(tris(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を10−6トールの真空下で20nm厚さに蒸着した。電子輸送層蒸着後、電子注入層としてLiFを1nmの厚さに蒸着した。最後に金属電極としてAlをLiF電子注入層上に300nmの厚さに蒸着した後、メタル缶(metalcan)及び酸化バリウム(BaO)を利用して封止した。
ITO透明電極上に、有機電界発光表示装置の正孔注入層として、フタロシアニン銅(CuPc)を10−6トールの真空下で10nm厚さに蒸着した後、正孔輸送層としてN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(N,N’−di(1−naphtyl)−N,N’−diphenylbenzidine;NPD)を10−6トールの真空下で50nmの厚さに蒸着した。NPD蒸着後、発光層としてカルバゾルビフェニル(carbazolebiphenyl;CBP)に下記式28のトリス(1−フェニルキノリン)イリジウム(tris(1−phenylquinoline)Iridium)を10%の濃度に蒸着して、発光層を30nm厚さに形成した。発光層蒸着後、正孔阻止層としてビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(biphenoxy−bi(8−quinolinolato)aluminium;BAlq)を5nm厚さに蒸着後、電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(tris(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を10−6トールの真空下で20nm厚さに蒸着した。電子輸送層蒸着後、電子注入層としてLiFを1nmの厚さに蒸着した。最後に金属電極としてAlをLiF電子注入層上に300nmの厚さに蒸着した後、メタル缶及び酸化バリウムを利用して封止した。
ITO透明電極上に、有機電界発光表示装置の正孔注入層としてフタロシアニン銅(CuPc)を10−6トールの真空下で10nm厚さに蒸着した後、正孔輸送層としてN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(N,N’−di(1−naphtyl)−N,N’−diphenylbenzidine;NPD)を10−6トールの真空下で50nmの厚さに蒸着した。NPD蒸着後、発光層としてカルバゾルビフェニル(carbazolebiphenyl;CBP)にビス(1−フェニルイソキノリン)イリジウムアセチルアセトナト(bis(1−phenylisoquinoline)Iridiumacetylacetonate)を10%の濃度に蒸着して発光層を30nm厚さに形成した。発光層蒸着後、正孔阻止層としてビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(biphenoxy−bi(8−quinolinolato)aluminium;BAlq)を5nm蒸着後電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(tris(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を10−6トールの真空下で20nm厚さに蒸着した。電子輸送層蒸着後、電子注入層としてLiFを1nmの厚さに蒸着した。最後に金属電極としてAlをLiF電子注入層上に300nmの厚さに蒸着した後、メタル缶及び酸化バリウムを利用して封止した。
ITO透明電極上に、有機電界発光表示装置の正孔注入層としてフタロシアニン銅(CuPc)を10−6トールの真空下で10nm厚さに蒸着した後、正孔輸送層としてN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(N,N’−di(1−naphtyl)−N,N’−diphenylbenzidine;NPD)を10−6トールの真空下で50nmの厚さに蒸着した。NPD蒸着後、発光層としてカルバゾルビフェニル(carbazolebiphenyl;CBP)にビス(1−フェニルキノリン)イリジウムテトラメチルヘプタンジオン(bis(1−phenylquinoline)iridiumtetramethylheptanedione)を10%の濃度に蒸着して発光層を30nm厚さに形成した。発光層蒸着後、正孔阻止層としてビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(biphenoxy−bi(8−quinolinolato)aluminium;BAlq)を5nm厚さに蒸着後、電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(tris(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を10−6トールの真空下で20nm厚さに蒸着する。電子輸送層蒸着後、電子注入層としてLiFを1nmの厚さに蒸着した。最後に金属電極としてAlをLiF電子注入層上に300nmの厚さに蒸着した後、メタル缶及び酸化バリウムを利用して封止した。
ITO透明電極上に、有機電界発光表示装置の正孔注入層としてフタロシアニン銅(CuPc)を10−6トールの真空下で10nm厚さに蒸着した後、正孔輸送層としてN,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(N,N’−di(1−naphtyl)−N,N’−diphenylbenzidine;NPD)を10−6トールの真空下で50nmの厚さに蒸着した。NPD蒸着後、発光層としてカルバゾルビフェニル(carbazolebiphenyl;CBP)にトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(tris(2−phenylpyridine)iridium)を5%の濃度に蒸着して発光層を30nm厚さに形成した。発光層蒸着後、正孔阻止層としてビフェノキシ−ビ(8−キノリノラト)アルミニウム(biphenoxy−bi(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を5nm厚さに蒸着後、電子輸送層としてトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(tris(8−quinolinolato)aluminium;Alq)を10−6トールの真空下で20nm厚さに蒸着した。電子輸送層蒸着後、電子注入層としてLiFを1nmの厚さに蒸着した。最後に金属電極としてAlをLiF電子注入層上に300nmの厚さに蒸着した後、メタル缶及び酸化バリウムを利用して封止した。
2 電子注入層
3 電子伝達層
4 発光層
5 正孔伝達層
6 正孔注入層
7 陽極
Claims (25)
- 基板と前記基板上に形成されている第1電極と第2電極と前記第1電極及び第2電極間に少なくとも一つの発光層を含む有機膜層を含み、前記発光層は少なくとも一つの燐光ドーパントを含み、前記ドーパントはL2ML’(前記Mは、転移金属であってIr、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記LとL’との炭素と窒素で配位される二座配位子であってLとL’のうち少なくとも一つは配位子内Cの数が15以上である)で表現されることを特徴とする有機電界発光表示装置。
- 前記LとL’のうち少なくとも一つは、配位子内六角形のリング構造を少なくとも二個を有することを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記発光層は、各々副画素として赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層で構成されたことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色発光層は、蛍光発光層であることを特徴とする請求項3に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色発光層は、前記燐光ドーパントを含んで前記LとL’のうちいずれか一つは配位子内Cの数が15未満であるドーパントを含むことを特徴とする請求項3に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層及び正孔抑制層のうち1以上の層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色発光層が蛍光発光層である場合には前記正孔抑制層は赤色及び緑色発光層上部にだけ形成されるものであることを特徴とする請求項8に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色蛍光発光層は共通層であって、基板全面にかけて前記赤色及び緑色燐光発光層上部に形成されるものであることを特徴とする請求項4に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記第1電極がアノード電極である場合第2電極はカソード電極であって、前記第1電極がカソード電極である場合第2電極はアノード電極であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界発光表示装置。
- 基板と;前記基板上に形成されている第1電極と;第2電極と前記第1電極及び第2電極間に少なくとも一つの発光層を含む有機膜層を含み、前記発光層は少なくとも一つの燐光ドーパントを含み、前記ドーパントはL3M(前記Mは、転移金属であってIr、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記Lは炭素と窒素で配位される二座配位子であって配位子内Cの数が15以上である)で表現されることを特徴とする有機電界発光表示装置。
- 前記Lは、配位子内六角形のリング構造を少なくとも二個を有することを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記発光層は、各々副画素として赤色、緑色、及び青色を具現する発光層を含むことを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色発光層は、蛍光発光層であることを特徴とする請求項16に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色蛍光発光層は共通層であって、基板全面にかけて赤色及び緑色燐光発光層上部に形成されるものであることを特徴とする請求項17に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記有機膜層は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層及び正孔抑制層のうち1以上の層をさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記青色発光層が蛍光発光層である場合には前記正孔抑制層は、赤色及び緑色発光層上部にだけ形成されるものであることを特徴とする請求項19に記載の有機電界発光表示装置。
- 前記第1電極がアノード電極である場合第2電極はカソード電極であって、前記第1電極がカソード電極である場合第2電極はアノード電極であることを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光表示装置。
- L2ML’またはL3Mで表現され、前記Mは転移金属であってIr、Pt、Zn、及びOsで構成された群から選択された1種の金属であって、前記LとL’との炭素と窒素で配位される二座配位子であってLとL’のうち少なくとも一つは配位子内Cの数が15以上であることを特徴とする発光化合物。
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