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JP2005022962A - Glass composition, mixture, paste, green sheet and PDP - Google Patents

Glass composition, mixture, paste, green sheet and PDP Download PDF

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JP2005022962A
JP2005022962A JP2004173142A JP2004173142A JP2005022962A JP 2005022962 A JP2005022962 A JP 2005022962A JP 2004173142 A JP2004173142 A JP 2004173142A JP 2004173142 A JP2004173142 A JP 2004173142A JP 2005022962 A JP2005022962 A JP 2005022962A
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mol
glass
paste
glass composition
glass substrate
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Pending
Application number
JP2004173142A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Kuromitsu
祥郎 黒光
Ryuji Uesugi
隆二 植杉
Kunio Sugamura
邦夫 菅村
Seiji Toyoda
誠司 豊田
Shigeru Fujino
茂 藤野
Hiromichi Takebe
博倫 武部
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 無鉛で作業温度を550℃より低下でき熱膨張率が所望の値となる耐水性の高いガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、35モル%以上かつ45モル%以下のPと、45モル%以上かつ55モル%以下のZnOと、5モル%以上かつ15モル%以下のCaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物と、を含む。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass having high water resistance that is lead-free and capable of lowering the working temperature from 550 ° C. and having a desired coefficient of thermal expansion.
SOLUTION As glass components, 35 mol% or more and 45 mol% or less of P 2 O 5 , 45 mol% or more and 55 mol% or less of ZnO, and 5 mol% or more and 15 mol% or less of CaO, SrO. And an oxide of one or more alkaline earth metals selected from the group consisting of BaO.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、PDP(plasma display panel:プラズマディスプレイパネル)、等に用いて好適なガラス組成物、混合体、ペースト、グリーンシートに関するものである。   The present invention relates to a glass composition, a mixture, a paste, and a green sheet suitable for use in a plasma display panel (PDP) and the like.

PDPは、通常多数の微小な放電セルを縦横(マトリクス状)に配列し、必要な部分のセルを放電発光させることにより、文字や図形が表示されるようになっている。このPDPは、電極構造の点で金属電極がガラス誘電体材料で覆われるAC型と、放電空間に金属電極が露出しているDC型とに分類される。   In a PDP, a large number of minute discharge cells are usually arranged vertically and horizontally (in a matrix), and characters and figures are displayed by causing discharge of the necessary portions of cells. This PDP is classified into an AC type in which a metal electrode is covered with a glass dielectric material in terms of an electrode structure, and a DC type in which the metal electrode is exposed in a discharge space.

例えばAC型のPDPは、ガラス基板上に所定の間隔をあけて形成された複数のバリアリブ(隔壁)を介して前面ガラスとなる別のガラス基板を被せることにより構成される。前面ガラス基板のガラス基板への対向面にはMgO(酸化マグネシウム)等の保護膜により被覆された表示電極及び誘電体層が形成され、ガラス基板と前面ガラス基板とバリアリブにて区画形成された微細空間(以下、放電セルという)内にはアノード放電極であるアドレス電極及び蛍光体層がそれぞれ形成され、アドレス電極は必要に応じて絶縁層(誘電体層)により保護される。また放電セル内には放電ガスが注入される。
このように構成されたPDPでは、表示電極とアドレス電極との間に電圧を印加して放電セル内の蛍光体層を選択的に放電発光させることにより、文字や図形を表示できるようになっている。
For example, an AC-type PDP is configured by covering another glass substrate serving as a front glass through a plurality of barrier ribs (partitions) formed on a glass substrate at predetermined intervals. A display electrode and a dielectric layer covered with a protective film such as MgO (magnesium oxide) are formed on the surface of the front glass substrate facing the glass substrate, and the surface is finely divided by the glass substrate, the front glass substrate, and the barrier rib. In a space (hereinafter referred to as a discharge cell), an address electrode and a phosphor layer, which are anode discharge electrodes, are formed, and the address electrode is protected by an insulating layer (dielectric layer) as necessary. A discharge gas is injected into the discharge cell.
In the PDP configured as described above, characters and figures can be displayed by applying a voltage between the display electrode and the address electrode to selectively discharge the phosphor layer in the discharge cell. Yes.

上記PDPのガラス基板上に形成されるバリアリブおよび絶縁層(誘電体)のガラス組成物として、特許文献1が開示されている。しかし、上記特許文献1のような従来のガラス組成物では、鉛成分を含有するため、ガラス組成物の密度が大きいためガラス基板の重量増大や、ガラス基板の反り発生という問題点や、さらに、近年環境汚染原因への配慮をする必要があり、無鉛の材質を使用したいという要求が非常に大きくなっていた。
これらの点を解消するために、鉛成分を含まないガラスが、特許文献2〜4に開示されている。これらの技術には、燐酸系ガラス等の無鉛ガラスとアルミナ等セラミック成分とを含むものなどが記載されている。
Patent document 1 is disclosed as a glass composition of a barrier rib and an insulating layer (dielectric) formed on the glass substrate of the PDP. However, in the conventional glass composition such as Patent Document 1 described above, since it contains a lead component, the density of the glass composition is large, so that the glass substrate is increased in weight and the glass substrate is warped. In recent years, it has been necessary to consider the causes of environmental pollution, and there has been a great demand for using lead-free materials.
In order to eliminate these points, the glass which does not contain a lead component is disclosed by patent documents 2-4. These techniques include those containing lead-free glass such as phosphate glass and ceramic components such as alumina.

また、PDPにおいて、バリアリブに用いられるガラスセラミック複合材に対して要求される特性としては、曲げ強度等の機械的特性が優れるだけでなく、プラズマ発生による蛍光体層からの光をパネル前面に効率よく反射させ、輝度を向上させるために可視光での光反射特性が高いことが求められる。また、PDP使用時の温度上昇などに対応するために、バリアリブとガラス基板との熱膨張率を一定範囲に収める必要がある。
このような要請から、セラミック成分としてはアルミナが採用されることがあった。
特開平3−170346号公報 特開平8−301631号公報 特開平11−322365号公報
In addition, in the PDP, the properties required for the glass-ceramic composite material used for the barrier rib are not only excellent mechanical properties such as bending strength, but also light from the phosphor layer due to plasma generation to the front surface of the panel. In order to reflect well and improve luminance, it is required to have a high light reflection characteristic in visible light. Moreover, in order to cope with the temperature rise when using the PDP, it is necessary to keep the thermal expansion coefficient between the barrier rib and the glass substrate within a certain range.
From such a request, alumina is sometimes used as a ceramic component.
Japanese Patent Laid-Open No. 3-170346 Japanese Patent Laid-Open No. 8-301631 JP-A-11-322365

しかし、上記特許文献2,3の技術では、焼成温度を下げるためPを多量に含んでいるが、Pを多量に含むと、ガラスの熱膨張率がガラス基板に対して大きくなり、セラミックフィラーを多量に添加して、熱膨張率をガラス基板と整合させる必要があり、このフィラーの多量の添加により、焼成後の構造が多孔質になり、強度が低下し、更に放電特性も低下する問題点があった。
また、Pを低減した場合には焼成温度が高くなるという問題がある。
However, in the technique of Patent Documents 2 and 3, but includes a P 2 O 5 in a large amount to lower the sintering temperature, when containing a large amount of P 2 O 5, the thermal expansion coefficient of the glass is the glass substrate It is necessary to add a large amount of ceramic filler to match the thermal expansion coefficient with that of the glass substrate. By adding a large amount of this filler, the structure after firing becomes porous, the strength is reduced, and the discharge is further reduced. There was a problem that the characteristics also deteriorated.
Further, there is a problem that the firing temperature becomes higher in the case of reducing the P 2 O 5.

PDPに使用するガラス組成物には、次の様な特性を有するという要求がある。
1.熱膨張率α=(85±5)×10−7/℃
2.作業温度(焼成温度)Tw≦550℃
ここで、1.はガラス組成物とガラス基板との熱膨張率が異なりすぎないためであり、2.は、焼成温度が高いとガラス基板の反り等が発生しやすくなるためである。
The glass composition used for PDP is required to have the following characteristics.
1. Thermal expansion coefficient α = (85 ± 5) × 10 −7 / ° C.
2. Working temperature (firing temperature) Tw ≦ 550 ° C
Here, 1. Is because the thermal expansion coefficients of the glass composition and the glass substrate are not too different. This is because if the firing temperature is high, the glass substrate is likely to warp.

さらに、上記の各特許文献には、P,ZnO,MgO,CaO,BaO,SiO,B,Al,TiO,MoO,などがガラス組成物に含まれる物質として記載されるが、このような無鉛物質の組み合わせで、作業温度(焼成温度)を低下するための軟化点を低下することができ、同時に、PDP前面ガラス基板に使用することのできない結晶質となってしまうことなくガラス質(非晶質)を維持する組成物は知られていなかった。 Further, in each of the above patent documents, P 2 O 4 , ZnO, MgO, CaO, BaO, SiO 2 , B 2 O 3 , Al 2 O 3 , TiO, MoO, etc. are included as substances contained in the glass composition. Although described, the combination of such lead-free materials can lower the softening point for lowering the working temperature (firing temperature), and at the same time, becomes a crystalline material that cannot be used for the PDP front glass substrate. There has been no known composition that maintains vitreousness (amorphous).

本発明は、無鉛で、かつ、耐水性を維持し、熱膨張率が所望の値となるとともに、PDPに使用した場合にガラス基板に生じる熱歪みをできるだけ低減するために作業温度(焼成温度)を550℃より低下することができ、かつ、結晶質化してしまうことなくガラス(非晶質)を維持するガラス組成物を提供することを目的としている。   The present invention is lead-free, maintains water resistance, has a desired coefficient of thermal expansion, and has a working temperature (firing temperature) in order to reduce as much as possible the thermal strain generated in the glass substrate when used in a PDP. An object of the present invention is to provide a glass composition capable of lowering the temperature from 550 ° C. and maintaining the glass (amorphous) without being crystallized.

さらに、本発明の目的は、無鉛で耐水性を維持し、ガラス基板との熱膨張率を整合させて、ガラス基板との間でクラックの発生を防止するバリアリブまたは誘電体、ペースト、混合体、および、PDPを提供することにある。   Furthermore, the object of the present invention is to provide a barrier rib or dielectric, paste, mixture, which maintains lead-free water resistance, matches the coefficient of thermal expansion with the glass substrate, and prevents cracks from occurring with the glass substrate. And providing a PDP.

本発明は、鉛を含まないガラス組成物であって、
本発明は、ガラス成分として、
35モル%以上かつ45モル%以下のPと、
45モル%以上かつ55モル%以下のZnOと、
5モル%以上かつ15モル%以下のCaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物と、
を含むことにより上記課題を解決した。
本発明において、ZnOとPとの比ZnO/Pが1より大きいことが望ましい。
本発明は、また、ガラス成分として、
ZnOと、Pと、SrOと、
0重量%以上かつ1.5重量%以下Al,SiO,CaO,KO,PbO,B,CuO,Fe,SOおよびNiOからなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物と、
を含むことができる。
本発明の混合体は、上記のガラス組成物に、セラミックフィラー物としてアルミナ,チタニア,ジルコン,シリカ,コーディエライト,ムライト,β−ユークリプタイト,スポジューメン,アノーサイト,セルシアン,フォルステライト及びチタン酸アルミニウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上のセラミックを混合したことが好ましい。
前記セラミックフィラー物の粒径が、0.05〜0.5μmの範囲とされてなることができる。
本発明のペーストは、上記のガラス組成物又は上記の混合体と、樹脂と、溶剤とを含むことが望ましい。
本発明のグリーンシートは、上記のガラス組成物又は上記の混合体と、樹脂と、溶剤とを含むこともある。
本発明のバリアリブは、上記のペースト又は上記のグリーンシートを焼成したことが可能である。
本発明の誘電体は、上記のペースト又は上記のグリーンシートを焼成した手段を採用することができる。
本発明のPDPは、少なくとも上記のバリアリブかまたは上記の誘電体の一方を有する。
The present invention is a glass composition containing no lead,
In the present invention, as a glass component,
35 mol% or more and 45 mol% or less of P 2 O 5 ,
45 mol% or more and 55 mol% or less of ZnO;
One or more alkaline earth metal oxides selected from the group consisting of 5 mol% or more and 15 mol% or less of CaO, SrO, and BaO;
The above-mentioned problem was solved by including.
In the present invention, it is desirable that the ratio ZnO / P 2 O 5 between ZnO and P 2 O 5 is greater than 1.
The present invention also provides a glass component
ZnO, P 2 O 5 , SrO,
0 wt% or more and 1.5 wt% or less selected from the group consisting of Al 2 O 3 , SiO 2 , CaO, K 2 O, PbO, B 2 O 3 , CuO, Fe 2 O 3 , SO 3 and NiO One or more oxides;
Can be included.
The mixture of the present invention comprises the above glass composition, alumina, titania, zircon, silica, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodomen, anorsite, celsian, forsterite and titanic acid as ceramic fillers. It is preferable to mix one or more ceramics selected from the group consisting of aluminum.
The ceramic filler material may have a particle size in a range of 0.05 to 0.5 μm.
The paste of the present invention desirably contains the above glass composition or the above mixture, a resin, and a solvent.
The green sheet of this invention may contain said glass composition or said mixture, resin, and a solvent.
The barrier rib of the present invention can be obtained by firing the paste or the green sheet.
The dielectric of the present invention can employ means for firing the above paste or the above green sheet.
The PDP of the present invention has at least one of the barrier ribs or the dielectric.

本発明のガラス組成物は、ガラス成分として、上記のような成分比でP、とZnと、Ca,Sr,Baから選択される1種類以上と、を含むガラス組成物とされ、または、ガラス成分として、上記のような成分比でPと、ZnOと、CaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1以上のアルカリ土類金属の酸化物と、を含むのもとされることにより、このガラス組成物では、鉛成分を含ず上記誘電体(絶縁体)の耐水性を維持した状態で、作業温度Tw(焼成温度)を550℃より低くして、しかもガラス(非結晶質)の状態を維持することができる。
このため、ガラス基板に歪みを発生させることなく、また、鉛成分を含まないため上記誘電体の重量を軽減でき、環境を汚染することもなく、さらにPが比較的少ないため、上記誘電体の耐水性を向上することができる。さらに、熱膨張率を
α=(85±5)×10−7/℃
の範囲に設定することができ、バリアリブや誘電体にクラックを生じることがない。
The glass composition of the present invention is a glass composition containing, as a glass component, P, Zn, and one or more selected from Ca, Sr, and Ba in the above component ratio, or glass. As a component, P 2 O 5 , ZnO, and one or more alkaline earth metal oxides selected from the group consisting of CaO, SrO, and BaO are included in the above component ratio. Thus, in this glass composition, the working temperature Tw (firing temperature) is set lower than 550 ° C. while maintaining the water resistance of the dielectric (insulator) without containing a lead component, and glass (non-crystalline). Quality) can be maintained.
Therefore, the glass substrate is not distorted, and does not contain a lead component, so that the weight of the dielectric can be reduced, the environment is not polluted, and P 2 O 5 is relatively small. The water resistance of the dielectric can be improved. Furthermore, the coefficient of thermal expansion is α = (85 ± 5) × 10 −7 / ° C.
In this range, the barrier rib and the dielectric do not crack.

さらに、本発明は、ガラス成分として、ZnOと、Pと、SrOと、0重量%以上かつ1.5重量%以下のAl,SiO,CaO,KO,PbO,CuO,B,Fe,SOおよびNiOからなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物と、を含むことにより、ガラス基板に歪みを発生させることなく、また、鉛成分を含まないため上記誘電体の重量を軽減でき、環境を汚染することもなく、さらにPが比較的少ないため、上記誘電体の耐水性を向上することができる。さらに、熱膨張率を
α=(85±5)×10−7/℃
の範囲に設定することができ、バリアリブや誘電体にクラックを生じることがない。
Furthermore, the present invention provides ZnO, P 2 O 5 , SrO, and 0 wt% or more and 1.5 wt% or less of Al 2 O 3 , SiO 2 , CaO, K 2 O, PbO, By including one or more oxides selected from the group consisting of CuO, B 2 O 3 , Fe 2 O 3 , SO 3 and NiO, without causing distortion in the glass substrate, Since the lead component is not contained, the weight of the dielectric can be reduced, the environment is not polluted, and the P 2 O 5 content is relatively small, so that the water resistance of the dielectric can be improved. Furthermore, the coefficient of thermal expansion is α = (85 ± 5) × 10 −7 / ° C.
In this range, the barrier rib and the dielectric do not crack.

本発明は、また、上記のガラス組成物に、セラミックフィラー物としてアルミナ,チタニア,ジルコン,シリカ,コーディエライト,ムライト,β−ユークリプタイト,スポジューメン,アノーサイト,セルシアン,フォルステライト及びチタン酸アルミニウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上のセラミックを混合した混合体である。この混合体では、ガラス組成物にセラミックフィラー物を混合することにより、焼成後に得られたバリアリブや誘電体の強度を向上することができる。   The present invention also provides the above glass composition with alumina, titania, zircon, silica, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodomen, anorsite, celsian, forsterite and aluminum titanate as ceramic fillers. It is a mixture in which one or more ceramics selected from the group consisting of: In this mixture, the strength of the barrier ribs and dielectric obtained after firing can be improved by mixing the ceramic filler with the glass composition.

上記ガラス組成物又は混合体に、樹脂(高分子樹脂)と溶剤とを混合してバリアリブまたは誘電体用のペーストを作製するか、或いは上記ガラス組成物又は混合体に、高分子樹脂と溶剤とを混合してバリアリブ又は誘電体用グリーンシートを作製することが好ましい。また上記ガラス組成物又は混合体を焼成して誘電体、或いはFPDのバリアリブ又は絶縁層(誘電体層)を形成することが好ましい。更に上記ガラス又は混合体に、導電体粉末,抵抗体粉末又は誘電体粉末と、高分子樹脂と、溶剤とを含むペーストを作製し、それを基板に塗布し、乾燥・焼成して、導電体、抵抗体又は誘電体用厚膜を形成することが好ましい。   The glass composition or mixture is mixed with a resin (polymer resin) and a solvent to produce a barrier rib or dielectric paste, or the glass composition or mixture is mixed with a polymer resin and a solvent. It is preferable to produce a barrier rib or a dielectric green sheet by mixing. The glass composition or mixture is preferably fired to form a dielectric, or an FPD barrier rib or insulating layer (dielectric layer). Further, a paste containing a conductor powder, a resistor powder or a dielectric powder, a polymer resin, and a solvent is prepared on the glass or the mixture, applied to a substrate, dried and fired, and then a conductor. It is preferable to form a thick film for a resistor or a dielectric.

本発明によれば、ガラス成分として、35モル%以上かつ45モル%以下のPと、45モル%以上かつ55モル%以下のZnOと、5モル%以上かつ15モル%以下のCaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物と、を含むことにより、作業温度Tw(焼成温度)を550℃より低くして、しかもガラス(非結晶質)の状態を維持することができるとともに、耐水性を向上することができ、さらに、熱膨張率αを8510−7〜90×10−7/℃の範囲に設定することができる。 According to the present invention, as a glass component, 35 mol% or more and 45 mol% or less of P 2 O 5 , 45 mol% or more and 55 mol% or less of ZnO, and 5 mol% or more and 15 mol% or less of CaO. , SrO and BaO, and one or two or more alkaline earth metal oxides, thereby reducing the working temperature Tw (firing temperature) to less than 550 ° C. and glass ( Amorphous state can be maintained, the water resistance can be improved, and the coefficient of thermal expansion α can be set in the range of 8510 −7 to 90 × 10 −7 / ° C.

以下、本発明に係るガラス組成物、混合体、ペースト、グリーンシート、バリアリブおよびPDPの一実施形態を、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment of a glass composition, a mixture, a paste, a green sheet, a barrier rib, and a PDP according to the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施形態においては、各元素を酸化物換算で表すと、図1の三角組成図に点A,B,C,D,E,Fで囲まれる範囲として示すように、ガラス成分として、35モル%以上かつ45モル%以下のPと、45モル%以上かつ55モル%以下のZnOと、5モル%以上かつ15モル%以下のCaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物と、を含むものである。
なお、図1では、アルカリ度類金属の酸化物としてSrOを選択したガラス化形成範囲の例を示している。
In this embodiment, when each element is expressed in terms of oxide, as shown in the triangular composition diagram of FIG. 1 as a range surrounded by points A, B, C, D, E, and F, as a glass component, 35 mol. % And 45 mol% or less of P 2 O 5 , 45 mol% or more and 55 mol% or less of ZnO, and 5 mol% or more and 15 mol% or less of CaO, SrO and BaO 1 And an oxide of two or more alkaline earth metals.
In addition, in FIG. 1, the example of the vitrification formation range which selected SrO as an alkali metal oxide is shown.

を35モル%以上かつ45モル%以下に限定したのは、35モル%以下ではガラスを形成できず、45モル%を越えると焼成物の耐水性が悪く、焼成物の熱膨張率がガラス基板の熱膨張率より高くなるからである。なお、熱膨張率の上昇防止と軟化点の低減と耐水性劣化の防止の点から、上記Pは38モル%以上かつ42モル%未満であることが更に好ましい。またZnOを45モル%以上かつ55モル%以下に限定したのは、45モル%未満では熱膨張率が高くなり、55モル%を越えると軟化点が高くなるからであり、このZnOは48〜52モル%であることが更に好ましい。 The reason why P 2 O 5 is limited to 35 mol% or more and 45 mol% or less is that glass cannot be formed if it is 35 mol% or less, and if it exceeds 45 mol%, the water resistance of the fired product is poor and the thermal expansion of the fired product. This is because the rate becomes higher than the thermal expansion coefficient of the glass substrate. Incidentally, from the viewpoint of prevention of reduction and water resistance deterioration of the rise prevention and softening point of the thermal expansion coefficient, it is more preferable that the P 2 O 5 is less than 38 mol% or more and 42 mol%. Further, the reason why ZnO is limited to 45 mol% or more and 55 mol% or less is that if it is less than 45 mol%, the coefficient of thermal expansion becomes high, and if it exceeds 55 mol%, the softening point becomes high. More preferably, it is 52 mol%.

CaO、SrO及びBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物を5モル%以上かつ15モル%以下に限定したのは、5モル%未満では軟化点が高くなる不具合があり、また、図1の三角組成図に示すように、15モル%を越えるとガラスにならない不具合があるからであり、この酸化物は8〜12モル%であることがさらに好ましい。ここで、図1においては、白丸はガラス状体を示しており、また、黒丸は非ガラス状態、つまり結晶質となった状態を示している。つまり、図1に符号Mで示す実線よりも上側の範囲がガラス化する組成範囲である。   The reason why the oxide of one or more alkaline earth metals selected from the group consisting of CaO, SrO and BaO is limited to 5 mol% or more and 15 mol% or less is that the softening point is less than 5 mol%. This is because there is a problem that it becomes high, and as shown in the triangular composition diagram of FIG. 1, if it exceeds 15 mol%, there is a problem that it does not become glass, and this oxide is more preferably 8 to 12 mol%. . Here, in FIG. 1, white circles indicate a glassy body, and black circles indicate a non-glass state, that is, a crystalline state. That is, the range above the solid line indicated by the symbol M in FIG.

一方、セラミックフィラー物としては、ジルコン,アルミナ,チタニア,コーディエライト,ムライト,β−ユークリプタイト,スポジューメン,アノーサイト,セルシアン,フォルステライト及びチタン酸アルミニウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上のセラミックを含む。ガラス組成物にセラミックフィラー物を混合するのは、例えば上記ガラス組成物を用いたPDP用バリアリブをガラス基板上に形成する場合、このバリアリブの強度を上げるためである。   On the other hand, the ceramic filler is one or two selected from the group consisting of zircon, alumina, titania, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodumene, anorthite, celsian, forsterite and aluminum titanate. Contains more than seed ceramics. The reason why the ceramic filler is mixed with the glass composition is to increase the strength of the barrier rib when, for example, a PDP barrier rib using the glass composition is formed on a glass substrate.

[1]ガラス組成物の粉末の作製方法
本実施形態のガラス試料の調整においては(NH)3PO・3HO(95%)、ZnO(99.9%)と、SrCO(99.99%)を用いた。各粉末を、酸化物換算でP:35モル%以上かつ45モル%以下、ZnO:45モル%以上かつ55モル%以下、CaO,SrO及びBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物:5モル%以上かつ15モル%未満、の比で秤量した。上記の組成比、および所定の組成比で混合した約0.03kgのバッチを、アルミナるつぼを用いて1200℃で1時間溶融した。これらの融液についてはその一部はカーボン板上に約0.01kg流し出し冷却した後、粉砕用アルミナ乳鉢で細かく砕き、325#(メッシュ)のふるいを用いて分級しガラス粉末を得た。
[1] Preparation Method of Glass Composition Powder In the preparation of the glass sample of this embodiment, (NH 4 ) 3 PO 4 .3H 2 O (95%), ZnO (99.9%), and SrCO 3 (99. 99%) was used. Each powder is selected from the group consisting of P 2 O 5 : 35 mol% or more and 45 mol% or less, ZnO: 45 mol% or more and 55 mol% or less, CaO, SrO and BaO in terms of oxides or Two or more alkaline earth metal oxides were weighed in a ratio of 5 mol% or more and less than 15 mol%. A batch of about 0.03 kg mixed at the above composition ratio and a predetermined composition ratio was melted at 1200 ° C. for 1 hour using an alumina crucible. About a part of these melts were poured out on a carbon plate and cooled, and then finely crushed in an alumina mortar for pulverization, and classified using a 325 # (mesh) sieve to obtain glass powder.

[1−2]ガラス化確認
上記融液を冷却し、粉砕分級を施して得た粉末試料については、X線回折装置(XRD)を用い、回折角θ=10〜70°の範囲で測定をおこない、ガラス化の有無を確認した。
[1-2] Vitrification confirmation About the powder sample obtained by cooling the melt and subjecting it to pulverization classification, measurement was performed in the range of diffraction angle θ = 10 to 70 ° using an X-ray diffractometer (XRD). And the presence or absence of vitrification was confirmed.

[1−3]熱膨張率の測定
熱膨張率測定用の試料については、融液をカーボンモールド内に流し込んだ後、ガラス転位温度Tg付近で1時間アニールをおこなった。アニール後に得られた試料は3mm×3mm×15mmの棒状に切り出し、各面を研磨した後測定用資料とした。
測定は、試料と同形状のα−Alを標準試料とする熱機械分析装置を用い、昇温速度5℃/minで測定し、温度範囲25〜300℃までの熱膨張率(α)を求めた。
[1-3] Measurement of coefficient of thermal expansion For the sample for measuring the coefficient of thermal expansion, the melt was poured into a carbon mold, and then annealed for 1 hour near the glass transition temperature Tg. The sample obtained after annealing was cut into a 3 mm × 3 mm × 15 mm rod shape, and each surface was polished and used as a measurement material.
The measurement is carried out using a thermomechanical analyzer with α-Al 2 O 3 having the same shape as the sample as a standard sample at a temperature rising rate of 5 ° C./min, and a coefficient of thermal expansion (α )

[1−4]作業温度Twの決定
粉末状試料を12mmφ×5mmのペレット状に成形し、その成形体をPDP用基板ガラスの上に載置し、ガラスを30°傾斜させて、所定の温度で30分焼成をおこなった。上記ガラス試料が軟化流動を起こし始めたときの温度を作業温度(Tw)とした。
[1-4] Determination of working temperature Tw A powdery sample is formed into a 12 mmφ × 5 mm pellet, the molded body is placed on a PDP substrate glass, and the glass is inclined by 30 ° to a predetermined temperature. And baked for 30 minutes. The temperature at which the glass sample started to cause softening flow was taken as the working temperature (Tw).

[2]混合体の作製方法
上記ガラス組成物の粉末と、アルミナ,チタニア,ジルコン,シリカ,コーディエライト,ムライト,β−ユークリプタイト,スポジューメン,アノーサイト,セルシアン,フォルステライト及びチタン酸アルミニウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上のセラミック粉末(セラミックフィラー物の粉末)とを所定の体積比になるように秤量し、ボールミル等を用いて大気中において1〜24時間混合し、混合体を得る。
[2] Method for preparing mixture From powder of the above glass composition and alumina, titania, zircon, silica, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodomen, anorthite, celsian, forsterite and aluminum titanate One or two or more ceramic powders selected from the group consisting of (ceramic filler powder) are weighed so as to have a predetermined volume ratio, and mixed in the atmosphere using a ball mill or the like for 1 to 24 hours, A mixture is obtained.

[3]ガラスペースト,ガラス−セラミック混合ペースト及びグリーンシートの作製方法
上記ガラス組成物の粉末又は混合体に対し、エチルセルロース(EC)やアクリル樹脂等の高分子樹脂と、溶媒として純水、α−テルピネオールやブチルカルビトールアセテート等を添加して所定の重量比になるように調整し、3本ロール等で十分に混練することにより、ペーストを得る。
なお、混合体中のセラミックフィラー物の粉末はガラス組成物の粉末の重量に対して5〜30重量%の範囲であることが好ましく、かつガラス組成物の粉末の容積に対して30容積%以下であることが好ましい。セラミックフィラー物の粉末が30重量%以上かつ30容積%以上になると、焼成して得られた誘電体が多孔質になり、好ましくないからである。またペーストの各成分の配合比は、ガラス組成物の粉末及びセラミックフィラー物を70〜90重量%、高分子樹脂を1〜5重量%、溶剤を8〜25重量%であることが好ましい。またこのペーストを用いてグリーンシートを作製してもよい。
[3] Method for Producing Glass Paste, Glass-Ceramic Mixed Paste and Green Sheet For the above glass composition powder or mixture, polymer resin such as ethyl cellulose (EC) or acrylic resin, pure water as a solvent, α- A paste is obtained by adding terpineol, butyl carbitol acetate, or the like so as to obtain a predetermined weight ratio and sufficiently kneading with a three roll or the like.
The ceramic filler powder in the mixture is preferably in the range of 5 to 30% by weight with respect to the weight of the glass composition powder, and 30% by volume or less with respect to the volume of the glass composition powder. It is preferable that This is because if the powder of the ceramic filler is 30% by weight or more and 30% by volume or more, the dielectric obtained by firing becomes porous, which is not preferable. Moreover, it is preferable that the compounding ratio of each component of a paste is 70 to 90 weight% of the powder of a glass composition and a ceramic filler material, 1 to 5 weight% of polymer resins, and 8 to 25 weight% of a solvent. Moreover, you may produce a green sheet using this paste.

[4]誘電体の作製方法
上記ガラス組成物の粉末又は混合体ををプレス成形法により所定の形状に成形し、或いは上記ペーストをスクリーン印刷法,押出し成形法,射出成形法等により所定の形状に成形した後に、この成形体を120℃でオーブン中に静置し溶媒を蒸発させて乾燥した混合物を、550℃以下で焼成することにより誘電体を得る。
[4] Dielectric production method The powder or mixture of the glass composition is formed into a predetermined shape by a press molding method, or the paste is formed into a predetermined shape by a screen printing method, an extrusion molding method, an injection molding method, or the like. Then, the molded body is allowed to stand in an oven at 120 ° C. to evaporate the solvent and baked at 550 ° C. or lower to obtain a dielectric.

[5]導電体ペースト又は抵抗体ペーストの作製方法
上記ガラス組成物の粉末又は混合体に対し、導電体粉末又は抵抗体粉末と、高分子樹脂と、溶剤とを添加し、3本ロール等で十分に混練することにより、ペーストを得る。
上記導電体粉末としてはAg,Ag−Pd,Ag−Pt,Au,Al,等が用いられ、抵抗体粉末としてはRuO,PbRu6.5,Ag−Pd等が用いられることが好ましい。また高分子樹脂としてはエチルセルロース,アクリル樹脂等が用いられ、溶剤としてはα−テルピネオール,ブチルカルビトールアセテート等が用いられることが好ましい。
[5] Method for Producing Conductor Paste or Resistor Paste Add the conductor powder or resistor powder, the polymer resin, and the solvent to the powder or mixture of the glass composition, By fully kneading, a paste is obtained.
As the conductive powder Ag, Ag-Pd, Ag- Pt, Au, Al, etc. are used, RuO 2, as the resistive powder Pb 2 Ru 2 O 6.5, the Ag-Pd or the like is used Is preferred. In addition, it is preferable to use ethyl cellulose, acrylic resin or the like as the polymer resin, and α-terpineol, butyl carbitol acetate or the like as the solvent.

なお、ペースト中の各成分の配合比は、ガラス組成物の粉末及びセラミックフィラー物が5〜45重量%、導電体粉末又は抵抗体粉末が50〜90重量%、高分子樹脂が1〜5重量%、溶剤が4〜25重量%であることが好ましい。上記ペーストをスクリーン印刷法などにより、所定の形状にパターニングし、乾燥・焼成することにより導電体厚膜又は抵抗体厚膜を得る。   In addition, the compounding ratio of each component in the paste is 5 to 45% by weight for the glass composition powder and ceramic filler, 50 to 90% by weight for the conductor powder or resistor powder, and 1 to 5% for the polymer resin. %, And the solvent is preferably 4 to 25% by weight. The paste is patterned into a predetermined shape by screen printing or the like, dried and baked to obtain a conductor thick film or a resistor thick film.

次に上記ガラス−セラミック混合ペーストを用いてサンドブラスト法によりPDP用バリアリブの作製方法を説明する。   Next, a method for producing PDP barrier ribs by the sand blasting method using the glass-ceramic mixed paste will be described.

図2に示すように、先ずガラス基板10上に、上記ペーストを用いてテーブルコーター法によりペースト膜11を形成する。次いでこのペースト膜11を有するガラス基板10を100〜200℃の温度で10〜30分間乾燥した後に、300〜400℃の温度で0.5〜3時間仮焼成を行う。この仮焼成を行ったペースト膜11表面にラミネータを用いて感光性ドライフィルムレジスト12(以下、DFRという)を積層した後に、DFR12上にフィルムマスク13を置き、中心波長254nmの紫外線を照射し、露光を行う。次に露光を行ったガラス基板10に対し、濃度が0.1〜5%のNaCO水溶液を噴霧し、未露光部を除去し、現像を行う。この現像を行ってDFRパターン層16を有するガラス基板10に対し、アルミナ粉末等の砥粒を用いてサンドブラストを行い、DFRパターン層16が形成されていない部分を除去することにより、ガラス基板10上にリブ状物18を形成する。更に温度550℃以下で0.1〜2時間焼成を行うことにより、ガラス基板10上にバリアリブ14を形成する。 As shown in FIG. 2, first, a paste film 11 is formed on a glass substrate 10 by the table coater method using the paste. Next, the glass substrate 10 having the paste film 11 is dried at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes, and then pre-baked at a temperature of 300 to 400 ° C. for 0.5 to 3 hours. After laminating a photosensitive dry film resist 12 (hereinafter referred to as DFR) on the surface of the paste film 11 subjected to the pre-baking, a film mask 13 is placed on the DFR 12 and irradiated with ultraviolet rays having a central wavelength of 254 nm. Perform exposure. Next, a Na 2 CO 3 aqueous solution having a concentration of 0.1 to 5% is sprayed on the exposed glass substrate 10 to remove an unexposed portion, and development is performed. By performing this development, the glass substrate 10 having the DFR pattern layer 16 is subjected to sand blasting using abrasive grains such as alumina powder, and the portion where the DFR pattern layer 16 is not formed is removed. A rib-like object 18 is formed on the substrate. Furthermore, the barrier rib 14 is formed on the glass substrate 10 by baking at a temperature of 550 ° C. or less for 0.1 to 2 hours.

図3は本発明の第2の実施の形態を示す(厚膜印刷法によるPDP用バリアリブの作製方法)。   FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention (a method for producing a barrier rib for PDP by a thick film printing method).

この実施の形態では、ガラス基板10の表面に上記ペーストを厚膜印刷法により所定のパターンで位置合わせをして重ね塗りした後に100〜200℃で10〜30分間乾燥することにより、ガラス基板10上にペースト膜31を形成する。この工程を多数回繰返してペースト膜31を所定の高さに形成した後に550℃以下で焼成することにより、ガラス基板10上に所定の間隔をあけてバリアリブ34を形成する。なお、図示しないがガラス基板上に、上記ペーストを用いてスクリーン印刷によりベタ膜を形成し、この基板を100〜200℃の温度で10〜30分間乾燥した後に、550℃以下の温度で0.5〜3時間焼成を行うことにより、基板上に誘電体層(白色絶縁層)を形成してもよい。   In this embodiment, the paste is aligned on the surface of the glass substrate 10 by a thick film printing method in a predetermined pattern and repeatedly applied, and then dried at 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes. A paste film 31 is formed thereon. This process is repeated many times to form the paste film 31 at a predetermined height, followed by baking at 550 ° C. or lower, thereby forming the barrier ribs 34 on the glass substrate 10 with a predetermined interval. Although not shown, a solid film is formed on the glass substrate by screen printing using the paste, and the substrate is dried at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes. A dielectric layer (white insulating layer) may be formed on the substrate by baking for 5 to 3 hours.

図4は本発明の第3の実施の形態を示す(AC型PDPにおける背面パネルの作製方法)。   FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention (a method for manufacturing a back panel in an AC type PDP).

先ずガラス基板10上に、Ag等の導電ペーストをスクリーン印刷法により所定の間隔をあけて50〜200μm幅の帯状のパターンを形成し、温度100〜200℃で10〜30分間乾燥した後に、温度550〜580℃で0.1〜1時間焼成することにより、ガラス基板10上にアドレス電極51を形成する。このガラス基板10上に、上記第1の実施の形態で作製されたペーストを用いてスクリーン印刷法によりペースト膜を形成し、温度100〜200℃で10〜30分間乾燥した後に、温度550℃以下で0.5〜3時間焼成することにより、ガラス基板10上に誘電体層52を形成する。   First, a conductive paste such as Ag is formed on the glass substrate 10 by a screen printing method at a predetermined interval to form a band-like pattern having a width of 50 to 200 μm and dried at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes. The address electrode 51 is formed on the glass substrate 10 by baking at 550 to 580 ° C. for 0.1 to 1 hour. A paste film is formed on the glass substrate 10 by the screen printing method using the paste produced in the first embodiment and dried at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes, and then a temperature of 550 ° C. or less. The dielectric layer 52 is formed on the glass substrate 10 by baking at 0.5 to 3 hours.

次いでこのガラス基板10上に、上記第1の実施の形態で作製されたペーストを用いてテーブルコーター法によりペースト膜11を形成し、温度100〜200℃で10〜30分間乾燥した後に、温度300〜400℃で0.5〜3時間仮焼成する。この仮焼成したペースト膜11表面にラミネータを用いてDFR12を積層した後に、DFR12上にフィルムマスク13を置き、中心波長254nmの紫外線を照射し、露光を行う。次に露光を行ったガラス基板10に対し、濃度が0.1〜5%のNa2CO3水溶液を噴霧し、未露光部を除去し、現像を行う。この現像を行ってDFRパターン層16を有するガラス基板10に対し、アルミナ粉末等の砥粒を用いてサンドブラストを行い、DFRパターン層16が形成されていない部分のペースト膜11を除去することにより、ガラス基板10上に誘電体層52を介してリブ状物18を形成する。   Next, a paste film 11 is formed on the glass substrate 10 by the table coater method using the paste prepared in the first embodiment, and dried at a temperature of 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes. Pre-baking is performed at ˜400 ° C. for 0.5 to 3 hours. After laminating the DFR 12 on the surface of the temporarily fired paste film 11, the film mask 13 is placed on the DFR 12, and ultraviolet light having a central wavelength of 254 nm is irradiated for exposure. Next, the exposed glass substrate 10 is sprayed with an aqueous solution of Na2CO3 having a concentration of 0.1 to 5% to remove the unexposed portion and develop. By performing this development, the glass substrate 10 having the DFR pattern layer 16 is subjected to sand blasting using abrasive grains such as alumina powder, and the paste film 11 where the DFR pattern layer 16 is not formed is removed. Ribs 18 are formed on the glass substrate 10 via the dielectric layer 52.

このガラス基板10を温度550℃以下で0.1〜2時間焼成することにより、ガラス基板10上に誘電体層52を介してバリアリブ14を形成する。更にバリアリブ14間のセル17内面に、図示しないが紫外線により赤色,緑色又は青色を発光する蛍光体粉末からなるペーストを用いて、それぞれスクリーン印刷法により落とし込み印刷を行い、温度100〜200℃で10〜30分間乾燥した後に、温度450〜550℃で0.1〜2時間焼成することにより、AC型PDP用背面板50を得る。   The glass substrate 10 is baked at a temperature of 550 ° C. or lower for 0.1 to 2 hours to form the barrier ribs 14 on the glass substrate 10 with the dielectric layer 52 interposed therebetween. Further, on the inner surface of the cell 17 between the barrier ribs 14, a paste made of phosphor powder that emits red, green, or blue light by ultraviolet rays is used, but printing is performed by screen printing, respectively, at a temperature of 100 to 200 ° C. After drying for ˜30 minutes, the AC type PDP back plate 50 is obtained by baking at a temperature of 450 to 550 ° C. for 0.1 to 2 hours.

図5及び図6は本発明の第4の実施の形態を示す(くし歯を有するブレードによるPDP用バリアリブの作製方法)。   5 and 6 show a fourth embodiment of the present invention (a method for manufacturing a PDP barrier rib using a blade having comb teeth).

発明者らはガラス基板全面にバリアリブ用ペーストをベタ塗りした後、先端に細かい凹凸形状を施したブレード(刃)を用いてペーストを掻き取るブレード成形法(Blade deforming process)を採用した。この方法は、所望の形状を有するバリアリブが得られるとともに工程を短縮できることと、基板から不要なペーストを除去した後もそのペーストを再利用できることから、PDPの製造プロセスで最もコストのかかる工程において、低コストにてバリアリブを形成できる点を特徴としている。図4において、符号10はガラス基板、71はペースト膜、72はブレード、72aはエッジ、72bはくし歯、73はリブ状物である。   The inventors adopted a blade deforming process (Blade deforming process) in which a barrier rib paste was applied over the entire surface of the glass substrate, and then the paste was scraped off using a blade having a fine irregular shape at the tip. In this method, barrier ribs having a desired shape can be obtained and the process can be shortened, and the paste can be reused even after the unnecessary paste is removed from the substrate. Therefore, in the most expensive process in the PDP manufacturing process, It is characterized in that barrier ribs can be formed at low cost. In FIG. 4, reference numeral 10 denotes a glass substrate, 71 denotes a paste film, 72 denotes a blade, 72a denotes an edge, 72b denotes a comb tooth, and 73 denotes a rib-like object.

上記ブレード72には複数のくし歯72bが等間隔にかつ同一方向に形成される。このブレード72はペーストとの反応やペーストに溶解されることのない金属、セラミック又はプラスチック等により作られ、特に、寸法精度、耐久性の観点からセラミック若しくはFe,Ni,Co基の合金が好ましい。   The blade 72 has a plurality of comb teeth 72b formed at equal intervals and in the same direction. The blade 72 is made of a metal, ceramic, plastic, or the like that does not react with the paste or dissolve in the paste, and in particular, a ceramic or an alloy of Fe, Ni, Co base is preferable from the viewpoint of dimensional accuracy and durability.

ブレード72又はガラス基板10の移動により、ガラス基板10表面に塗布されたペーストのうちブレード72のくし歯72bに対応する箇所はくし歯72bの間の隙間に移動するか若しくは掃き取られ、くし歯72bの間の隙間に位置するペーストのみがガラス基板10上に残存してガラス基板10表面にセラミックキャピラリリブ73が形成される。くし歯の溝の深さがペースト膜71の厚さより大きい場合にはブレード72又はガラス基板10を移動するときに掃き取られたペーストが溝に入り込み、ペースト膜71の厚さ以上の高さを有するリブ状物73を形成できる。   Due to the movement of the blade 72 or the glass substrate 10, the portion of the paste applied to the surface of the glass substrate 10 corresponding to the comb teeth 72b of the blade 72 moves to or is swept away from the comb teeth 72b. Only the paste located in the gap between them remains on the glass substrate 10 and the ceramic capillary ribs 73 are formed on the surface of the glass substrate 10. When the depth of the comb-tooth groove is larger than the thickness of the paste film 71, the paste swept away when moving the blade 72 or the glass substrate 10 enters the groove, and the height of the paste film 71 or more is increased. The rib-like product 73 can be formed.

このようして形成されたリブ状物73は、100〜200℃で10〜30分間乾燥されて、焼成することにより図5に示すバリアリブ74になる。
このときの焼成は550℃以下0.1〜2時間程度である。
The rib-like material 73 formed in this manner is dried at 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes and baked to form the barrier rib 74 shown in FIG.
Firing at this time is 550 ° C. or less for about 0.1 to 2 hours.

図7及び図8は本発明の第5の実施の形態を示す(くし歯を有するブレードによるPDP用バリアリブ及びPDP用誘電体層の作製方法)。   7 and 8 show a fifth embodiment of the present invention (a method for producing a PDP barrier rib and a PDP dielectric layer using a blade having comb teeth).

この実施の形態では、ガラス基板10の表面に上記ペーストを塗布して形成されたペースト膜71に対して、くし歯72bを有するブレード72のエッジ72aをガラス基板10表面から所定の高さ浮上した状態でブレード72又はガラス基板10を一定方向に移動することにより、ガラス基板10表面にリブ下地層91が形成され、このリブ下地層91上にリブ状物92が形成される(図7)。   In this embodiment, the edge 72a of the blade 72 having comb teeth 72b is levitated to a predetermined height from the surface of the glass substrate 10 with respect to the paste film 71 formed by applying the paste to the surface of the glass substrate 10. By moving the blade 72 or the glass substrate 10 in a certain direction in the state, a rib foundation layer 91 is formed on the surface of the glass substrate 10, and a rib-like object 92 is formed on the rib foundation layer 91 (FIG. 7).

上記リブ下地層91およびリブ状物92は100〜200℃で10〜30分間乾燥されて、550℃以下0.1〜2時間焼成されることにより、図8に示すガラス基板10上に形成された誘電体層93と、この誘電体層93上に形成されたバリアリブ94となる。   The rib base layer 91 and the rib-like material 92 are formed on the glass substrate 10 shown in FIG. 8 by drying at 100 to 200 ° C. for 10 to 30 minutes and firing at 550 ° C. or less for 0.1 to 2 hours. The dielectric layer 93 and the barrier rib 94 formed on the dielectric layer 93 are formed.

上記の各実施形態のバリアリブを用いて、PDPを製造することができる。
図9および図10に示すように、AC型のPDP20は背面ガラス基板10上に所定の間隔をあけて形成されたバリアリブ14を介して前面ガラス基板23を被せることにより構成される。前面ガラス基板23の両面のうち背面ガラス基板10に対向する面には表示電極26および透明誘電体層27を介して保護膜24aが形成される。
背面ガラス基板10と前面ガラス基板23とバリアリブ14とにより多数の放電セル28が区画形成され、背面ガラス基板10上には放電セル28内に位置しかつ上記表示電極26に対向するようにアドレス電極29が形成される。また放電セル28内にはバリアリブ14の側面から背面ガラス基板10の上面にかけて蛍光体層21が形成される。更に放電セル28内には放電ガスが注入される。
A PDP can be manufactured using the barrier rib of each of the above embodiments.
As shown in FIGS. 9 and 10, the AC type PDP 20 is configured by covering a front glass substrate 23 via barrier ribs 14 formed on the rear glass substrate 10 at a predetermined interval. A protective film 24 a is formed on the surface of the front glass substrate 23 facing the back glass substrate 10 via the display electrode 26 and the transparent dielectric layer 27.
A large number of discharge cells 28 are defined by the rear glass substrate 10, the front glass substrate 23, and the barrier ribs 14, and address electrodes are located on the rear glass substrate 10 so as to be located in the discharge cells 28 and to face the display electrodes 26. 29 is formed. In the discharge cell 28, a phosphor layer 21 is formed from the side surface of the barrier rib 14 to the upper surface of the rear glass substrate 10. Further, a discharge gas is injected into the discharge cell 28.

次に本発明のバリアリブ又は誘電体層用ペーストにおける実施例を比較例とともに詳しく説明する。   Next, examples of the barrier rib or dielectric layer paste of the present invention will be described in detail together with comparative examples.

<実施例1>
モル%比で、
SrO:ZnO:P=10:50:40
を含むガラス粉末(ガラス組成物)を用意した。
上記ガラス粉末は、具体的には、Pとして(NHPO・3HOを、ZnO,SnOとしてSnCO をそれぞれ所定の成分になるように混合し、前述の[1]ガラス組成物の粉末の作製方法に準じてガラス組成物を作製しこれを実施例1とした。
<Example 1>
In mole% ratio,
SrO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 50: 40
A glass powder (glass composition) was prepared.
Specifically, the glass powder is prepared by mixing (NH 4 ) 3 PO 4 .3H 2 O as P 2 O 5 and SnCO 3 as ZnO and SnO so as to be predetermined components, respectively, A glass composition was prepared according to the method for preparing a glass composition powder, and this was designated as Example 1.

<実施例2〜10>
同様にして、モル%比で次の比率で含むガラス粉末(ガラス組成物)を実施例1と同様に作成し各実施例とした。
<Examples 2 to 10>
Similarly, a glass powder (glass composition) containing the following ratio by mol% was prepared in the same manner as in Example 1 and used as each Example.

実施例2
SrO:ZnO:P=10:55:35
実施例3
SrO:ZnO:P=10:60:30
実施例4
CaO:ZnO:P=10:50:40
実施例5
CaO:ZnO:P=10:45:45
実施例6
CaO:ZnO:P=12:45:43
実施例7
BaO:ZnO:P=10:50:40
実施例8
BaO:ZnO:P=15:45:40
実施例9
BaO:ZnO:P=5:55:40
実施例10
SrO:CaO:BaO:ZnO:P=4:3:3:50:40
Example 2
SrO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 55: 35
Example 3
SrO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 60: 30
Example 4
CaO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 50: 40
Example 5
CaO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 45: 45
Example 6
CaO: ZnO: P 2 O 5 = 12: 45: 43
Example 7
BaO: ZnO: P 2 O 5 = 10: 50: 40
Example 8
BaO: ZnO: P 2 O 5 = 15: 45: 40
Example 9
BaO: ZnO: P 2 O 5 = 5: 55: 40
Example 10
SrO: CaO: BaO: ZnO: P 2 O 5 = 4: 3: 3: 50: 40

<比較例>
同様にして、モル%比で、
比較例1
SrO:ZnO:P=15:55:30
比較例2
SrO:ZnO:P=5:55:50
を含むガラス粉末(ガラス組成物)を実施例1と同様に作成し各比較例とした。
<Comparative example>
Similarly, in mole% ratio,
Comparative Example 1
SrO: ZnO: P 2 O 5 = 15: 55: 30
Comparative Example 2
SrO: ZnO: P 2 O 5 = 5: 55: 50
The glass powder (glass composition) containing was prepared in the same manner as in Example 1 and used as comparative examples.

なお、上記の実施例比較例において、アルカリ土類金属の酸化物であるCaO,BaOとしては、それぞれCaCO,BaCOを使用した。 In the comparative example of the above example, CaCO 3 and BaCO 3 were used as CaO and BaO, which are alkaline earth metal oxides, respectively.

<比較試験及び評価>
上記の各実施例比較例の焼成後、上記[1−2]ガラス化確認に従いガラス化したかどうかを観察するとともに、上記[1−4]作業温度Twの決定に従い作業温度を決定し、また、上記[1−3]熱膨張率の測定に従って熱膨張率を測定した。これらの結果を表1に示す。
<Comparison test and evaluation>
After firing each of the comparative examples of the above examples, whether or not the glass was vitrified according to the above [1-2] Vitrification confirmation was determined, and the working temperature was determined according to the determination of the above [1-4] working temperature Tw. The thermal expansion coefficient was measured according to the measurement of the above [1-3] thermal expansion coefficient. These results are shown in Table 1.

耐水性試験
粉末状試料を12mmφ×5mmのペレット状に成形し、その上記[1−4]の作業温度Twにて焼成をおこなった試料を水中に1時間入れ、その重量変化から耐水性を評価した。この結果も表1に記載する。
ここで、重量変化が1%未満のサンプルを0.1%以上のサンプルを×とした。
Water resistance test A powdered sample was molded into a 12 mmφ x 5 mm pellet, and the sample fired at the working temperature Tw of the above [1-4] was placed in water for 1 hour, and the water resistance was evaluated from its weight change. did. The results are also shown in Table 1.
Here, a sample having a weight change of less than 1% was evaluated as x when a sample was 0.1% or more.

Figure 2005022962
Figure 2005022962

上記の結果から、図1における点A,点B,点C,点D,点E,点Fで囲まれた範囲から外れると、ガラス化しない、作業温度が高くなる、熱膨張率が所定の範囲外となる、耐水性が悪くなり好ましくないことがわかる。   From the above results, if it deviates from the range surrounded by point A, point B, point C, point D, point E, and point F in FIG. 1, it does not vitrify, the working temperature becomes high, and the coefficient of thermal expansion is predetermined. It turns out that it falls outside the range and the water resistance deteriorates.

<他の実施例>
また、表2、表3に他の実施例として、本発明のガラス粉末(ガラス組成物)の組成を記載する。

Figure 2005022962
Figure 2005022962
この分析結果によれば、ガラス成分として、ZnOと、Pと、SrOと、0重量%以上かつ1.5重量%以下Al,SiO,CaO,KO,PbO,CuO,B,Fe,SOおよびNiOからなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物と、を含むことがわかる。 <Other embodiments>
Moreover, the composition of the glass powder (glass composition) of this invention is described in Table 2, Table 3 as another Example.
Figure 2005022962
Figure 2005022962
According to this analysis result, ZnO, P 2 O 5 , SrO, 0 wt% or more and 1.5 wt% or less Al 2 O 3 , SiO 2 , CaO, K 2 O, PbO, 1 or 2 or more types of oxides selected from the group consisting of CuO, B 2 O 3 , Fe 2 O 3 , SO 3 and NiO.

本発明に係るガラス組成物の一実施形態におけるSrO,ZnO,P,の組成比とガラス化の可否を示す三角組成図である。SrO in an embodiment of the glass composition according to the present invention, ZnO, is a triangular composition diagram indicating whether or not P 2 O 5, the composition ratio of the vitrification. 本発明第1実施形態のPDP用バリアリブを作製するための工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the process for producing the barrier rib for PDP of 1st Embodiment of this invention. 本発明第2実施形態のPDP用バリアリブを作製するための工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the process for producing the barrier rib for PDP of 2nd Embodiment of this invention. 本発明第3実施形態のPDP用バリアリブ及びPDP用誘電体層を作製するための工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the process for producing the barrier rib for PDP and the dielectric material layer for PDP of 3rd Embodiment of this invention. 本発明第4実施形態のリブ状物の成形状態を示す斜視図。The perspective view which shows the molding state of the rib-shaped object of this invention 4th Embodiment. 図5のA−A線断面におけるリブ状物を乾燥,加熱及び焼成することにより得たPDP用バリアリブを示す断面図。Sectional drawing which shows the barrier rib for PDP obtained by drying, heating, and baking the rib-like thing in the AA line cross section of FIG. 本発明第5実施形態のリブ下地層付バリアリブの成形状態を示す図4に対応する斜視図。The perspective view corresponding to FIG. 4 which shows the molding state of the rib rib with a rib foundation layer of 5th Embodiment of this invention. 図7のB−B線断面におけるリブ下地層付バリアリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得たバリアリブを示す図6に対応する断面図。Sectional drawing corresponding to FIG. 6 which shows the barrier rib obtained by drying, heating, and baking the rib rib with a rib foundation layer in the BB line cross section of FIG. 本発明の実施形態に係るPDPにおける前面ガラス基板の断面図である。It is sectional drawing of the front glass substrate in PDP which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るPDPの要部断面図である。It is principal part sectional drawing of PDP which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 ガラス基板
14,34,74,94 バリアリブ
52,93、27 誘電体層

10 Glass substrate 14, 34, 74, 94 Barrier rib 52, 93, 27 Dielectric layer

Claims (10)

ガラス成分として、
35モル%以上かつ45モル%以下のPと、
45モル%以上かつ55モル%以下のZnOと、
5モル%以上かつ15モル%以下のCaO,SrOおよびBaOからなる群より選ばれた1種又は2種以上のアルカリ土類金属の酸化物と、
を含むガラス組成物。
As a glass component,
35 mol% or more and 45 mol% or less of P 2 O 5 ,
45 mol% or more and 55 mol% or less of ZnO;
One or more alkaline earth metal oxides selected from the group consisting of 5 mol% or more and 15 mol% or less of CaO, SrO, and BaO;
A glass composition comprising:
ZnOとPとの成分比ZnO/Pが1より大きいことを特徴とする請求項1記載のガラス組成物。 Glass composition according to claim 1, wherein the component ratio ZnO / P 2 O 5 and ZnO and P 2 O 5 being greater than 1. ガラス成分として、
ZnOと、Pと、SrOと、
0重量%以上かつ1.5重量%以下のAl,SiO,CaO,KO,PbO,B,CuO,Fe,SOおよびNiOからなる群より選ばれた1種又は2種以上の酸化物と、
を含む請求項1または2記載のガラス組成物。
As a glass component,
ZnO, P 2 O 5 , SrO,
0 wt% or more and 1.5 wt% or less of Al 2 O 3, SiO 2, CaO, K 2 O, PbO, B 2 O 3, CuO, selected from the group consisting of Fe 2 O 3, SO 3 and NiO One or more oxides,
The glass composition of Claim 1 or 2 containing.
請求項1から3のいずれか記載のガラス組成物に、セラミックフィラー物としてアルミナ,チタニア,ジルコン,シリカ,コーディエライト,ムライト,β−ユークリプタイト,スポジューメン,アノーサイト,セルシアン,フォルステライト及びチタン酸アルミニウムからなる群より選ばれた1種又は2種以上のセラミックを混合した混合体。 The glass composition according to any one of claims 1 to 3, wherein alumina filler, titania, zircon, silica, cordierite, mullite, β-eucryptite, spodomen, anorsite, celsian, forsterite and titanium are used as ceramic fillers. A mixture obtained by mixing one or more ceramics selected from the group consisting of aluminum oxide. 前記セラミックフィラー物の粒径が、0.05〜0.5μmの範囲とされてなる請求項4記載の混合体。 The mixture according to claim 4, wherein the ceramic filler has a particle size in the range of 0.05 to 0.5 μm. 請求項1から3のいずれか記載のガラス組成物又は請求項4または5記載の混合体と、樹脂と、溶剤とを含むペースト。 A paste comprising the glass composition according to any one of claims 1 to 3 or the mixture according to claim 4 or 5, a resin, and a solvent. 請求項1から3のいずれか記載のガラス組成物又は請求項4または5記載の混合体と、樹脂と、溶剤とを含むグリーンシート。 A green sheet comprising the glass composition according to any one of claims 1 to 3 or the mixture according to claim 4 or 5, a resin, and a solvent. 請求項6記載のペースト又は請求項7記載のグリーンシートを焼成したバリアリブ。 The barrier rib which baked the paste of Claim 6, or the green sheet of Claim 7. 請求項6記載のペースト又は請求項7記載のグリーンシートを焼成した誘電体。 A dielectric obtained by firing the paste according to claim 6 or the green sheet according to claim 7. 少なくとも請求項8記載のバリアリブまたは請求項9記載の誘電体の一方を有するPDP。

A PDP having at least one of a barrier rib according to claim 8 or a dielectric according to claim 9.

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