JP2005019678A - Composite circuit board and its manufacturing method - Google Patents
Composite circuit board and its manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005019678A JP2005019678A JP2003182400A JP2003182400A JP2005019678A JP 2005019678 A JP2005019678 A JP 2005019678A JP 2003182400 A JP2003182400 A JP 2003182400A JP 2003182400 A JP2003182400 A JP 2003182400A JP 2005019678 A JP2005019678 A JP 2005019678A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring board
- ceramic
- resin
- via hole
- firing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 200
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 125
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 125
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 69
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 69
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 83
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 18
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 10
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N hydrogen peroxide;sulfuric acid Chemical compound OO.OS(O)(=O)=O XEMZLVDIUVCKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- MMABHMIOCAINNH-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2,5-dione;triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1.O=C1NC(=O)C=C1.O=C1NC(=O)C=C1 MMABHMIOCAINNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は、複数枚のセラミックグリーンシートを積層し焼成して形成されるセラミック配線基板と、Cu箔付き樹脂基材から形成される樹脂配線基板を接合して形成する複合配線基板及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5に示すように、従来の複合配線基板50は、複数枚のセラミックグリーンシートを積層し焼成してなるセラミック配線基板51と、1又は複数枚の樹脂基材からなる樹脂配線基板52がプリプレグ53等で接合されて形成されている。この複合配線基板50に用いられるセラミック配線基板51は、セラミックグリーンシートに孔を穿設し金属導体ペーストを充填する第1のビアホール54と、セラミックグリーンシートの表面に金属導体ペーストで印刷する第1の配線パターン55を有する複数枚のセラミックグリーンシートを積層し、焼成して形成されている。また、樹脂配線基板52は、Cu箔付き樹脂基材に孔が穿設され、あるいはCu箔をエッチングしてパターンが形成され、無電界Cuめっき及び電界Cuめっきが施されることで、第2のビアホール56や第2の配線パターン57等を有し、1又複数枚をプリプレグ53等で接合するようにして形成されている。そして、セラミック配線基板51と樹脂配線基板52が接合されて電気的に導通状態にされた複合配線基板50の樹脂配線基板52の上面には、コンデンサや、半導体素子等の電子部品58が実装される。
【0003】
複合配線基板は、セラミック配線基板と樹脂配線基板をプリプレグを介して接合する時に、両基板を電気的に導通状態とするために、プリプレグに形成されるビアホールを介して行うことが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
また、複合配線基板は、セラミック配線基板と樹脂配線基板を絶縁体層を介して接合する時に、両基板を電気的に導通状態とするために、絶縁体層を貫通して対向する配線パターン間を接続する導電性樹脂バンプを介して行うことが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
【0005】
セラミック配線基板は、セラミックグリーンシートの複数枚を積層し、加圧しながら焼成して平面方向(X、Y方向)の焼成収縮を抑制し、厚み方向(Z方向)に焼成収縮させて形成する方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
【0006】
【特許文献1】
特開平7−142867号公報
【特許文献2】
特開平10−93240号公報
【特許文献3】
特開平5−503498号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述したような従来の複合多層配線基板及びその製造方法は、次のような問題がある。
(1)セラミック配線基板は、通常、複数枚のセラミックグリーンシートを積層して焼成して形成しているが、焼成時にセラミックの平面方向の焼成収縮によって寸法バラツキや、反りが発生し、樹脂配線基板との接合において、接合位置がずれて電気的断線が発生する場合がある。
(2)セラミック配線基板を複数枚のセラミックグリーンシートの積層体の上下面に平面方向の焼成収縮を抑制できる拘束グリーンシートを積層して加圧しながら、又は無加圧で焼成して形成するとき時に、表面に電子部品を搭載するためのキャビティ用の凹部を有して形成する場合には、加圧時に凹部のセラミックグリーンシートに加圧力がかからなかったり、無加圧であっても凹部に拘束グリーンシートを配置するのが難しかったりするので、セラミック配線基板に変形が発生し、平面方向の焼成収縮を抑制してキャビティ部付きのセラミック配線基板を作製することが難しい。
【0008】
(3)セラミック配線基板と樹脂配線基板の電気的接続に、プリプレグに形成するビアホールを用いる場合には、プリプレグにビアホールを形成するのが難しく歩留まりの低下を来している。また、接合時にプリプレグが流動するのでセラミック配線基板と樹脂配線基板の接合位置にズレが発生し電気的断線が発生する場合がある。
(4)セラミック配線基板と樹脂配線基板の電気的接続に導電性樹脂バンプを用いる場合には、導電性樹脂の導通抵抗が比較的大きいので、高信頼性を要求される電子部品を搭載させる場合には信頼性が低くなる。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、寸法精度のよいセラミック配線基板と樹脂配線基板を用いて確実に接合でき、電気的断線がなく、安価で接合部の導通抵抗が低い複合配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記目的に沿う本発明に係る複合配線基板は、第1の配線パターンとビアホールを有し予め焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させて形成されたセラミック配線基板の片面又は両面と、第2の配線パターンとビアホールを有し第2のビアホールと接続する接続パッドを表面に露出して有する樹脂配線基板を接合してなる複合配線基板であって、セラミック配線基板の表面に露出する第1のビアホール、及び/又は第1のビアホールに接続する第1の配線パターンに接続して金属バンプを有し、金属バンプと接続パッドが接続されてセラミック配線基板と樹脂配線基板が電気的に接続され、しかも、樹脂配線基板に、電子部品をセラミック配線基板上に載置し樹脂配線基板で囲繞するキャビティ部を形成するための貫通孔からなる切り欠き部を有する。これにより、平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮するセラミック配線基板と切り欠き部を有する樹脂配線基板の接合によりキャビティ部付きであっても変形がなくて極めて寸法精度をよくすることができる。また、金属バンプを介して接合することによって電気的に導通抵抗を低くし、接続信頼性を高くすることができる。
【0010】
ここで、複合配線基板は、セラミック配線基板がCaO−Al2O3−SiO2−B2O3系ガラスとAl2O3からなり800〜1100℃の焼成温度で焼結できる低温焼成基板であるのがよい。これにより、セラミック配線基板は平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させることが容易にできて、変形や反りを低減することができる。
【0011】
前記目的に沿う本発明に係る複合配線基板の製造方法は、第1の配線パターンとビアホールを設けるセラミック配線基板と第2の配線パターンとビアホールを設ける樹脂配線基板を接合して形成する複合配線基板の製造方法において、セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面にセラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、セラミック配線基板の樹脂配線基板との接合面となる側の第1のビアホールの先端部、及び/又は第1のビアホールと接続する第1の配線パターン上に金属導体ペーストを印刷し、焼成して金属バンプを形成する工程と、樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、セラミック配線基板と樹脂配線基板を重ね合わせて金属バンプと接続パッドを接続させると共に、セラミック配線基板と樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有する。
【0012】
これにより、セラミック配線基板は、拘束グリーンシートを介して加圧又は無加圧焼成することによって変形や、反りを少なくして形成でき、金属導体ペーストの印刷によって金属バンプを容易にビアホールや配線パターンに接続させて強固に接合して形成できる。また、変形の発生しない樹脂配線基板には、キャビティ部用の切り欠き部と金属バンプとの接合用の接続パッドを容易に形成できるので、金属バンプと接続パッドを容易に接続できると共に、間に接着樹脂を介して接合でき、セラミック配線基板と樹脂配線基板を精度よく強固に接合する複合配線基板の製造方法を提供することができる。
【0013】
前記目的に沿う本発明に係る複合配線基板の他の製造方法は、第1の配線パターンとビアホールを設けるセラミック配線基板と第2の配線パターンとビアホールを設ける樹脂配線基板を接合して形成する複合配線基板の製造方法において、セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面にセラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、樹脂配線基板との接合面となる側のセラミック配線基板の第1のビアホールの先端部、及び/又は第1のビアホールと接続する第1の配線パターンの所定位置上に金属バンプを形成するために、セラミック配線基板の接合面となる面上に、所定位置に対応する位置に設けた貫通孔に金属導体ペーストを充填した拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成した後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して金属バンプを形成する工程と、樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、セラミック配線基板と樹脂配線基板を重ね合わせて金属バンプと接続パッドを接続させると共に、セラミック配線基板と樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有する。
【0014】
これにより、セラミック配線基板は、拘束グリーンシートを介して加圧又は無加圧焼成することによって変形や、反りを少なくして形成でき、拘束グリーンシートに形成した貫通孔への金属導体ペーストの充填によって高さが高く、寸法精度のよい金属バンプを容易にビアホールや、配線パターンに接続させて強固に接合して形成できる。また、変形の発生しない樹脂配線基板には、キャビティ部用の切り欠き部と金属バンプとの接合用の接続パッドを容易に形成できるので、金属バンプと接続パッドを容易に接続できると共に、間に接着樹脂を介して接合でき、セラミック配線基板と樹脂配線基板を精度よく強固に接合する複合配線基板の製造方法を提供することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態について説明し、本発明の理解に供する。
ここに、図1は本発明の一実施の形態に係る複合配線基板の説明図、図2(A)〜(C)はそれぞれ同複合配線基板の製造方法で用いられるセラミック配線基板の製造方法の説明図、図3(A)〜(D)はそれぞれ同複合配線基板の製造方法で用いられる樹脂配線基板の製造方法の説明図、図4(A)〜(D)はそれぞれ同複合配線基板の他の製造方法で用いられるセラミック配線基板の製造方法の説明図である。
【0016】
図1に示すように、本発明の一実施の形態に係る複合配線基板10は、複数枚のセラミックグリーンシートの焼成体からなる矩形状のセラミック配線基板11と、1又は複数枚の樹脂基材の接合体からなる矩形状の樹脂配線基板12が接合されて形成されている。この複合配線基板10に用いられるセラミック配線基板11は、例えば、低温焼成基板のセラミックグリーンシートに孔を穿設し、第1のビアホール13用に、例えば、Ag等からなる金属導体ペーストを充填し、第1の配線パターン14用にセラミックグリーンシートの表面に、例えば、Ag等からなる金属導体ペーストで印刷して、例えば、3枚からなるセラミックグリーンシートが積層され、両面から加圧しながら焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させて形成されている。更に、セラミック配線基板11の表面に露出する第1のビアホール13の先端部、及び/又は第1のビアホール13に接続する第1の配線パターン14の所定位置には、金属バンプ15を接続して有している。
【0017】
一方、樹脂配線基板12は、Cu箔付き樹脂基材に孔が穿設され、更に、Cu箔をエッチングしてパターンが形成され、無電界Cuめっき及び電界Cuめっきが施されることで、第2のビアホール16や第2の配線パターン17等を有し、1又複数枚をプリプレグ等で接合するようにして形成されている。更に、樹脂配線基板12には、第2のビアホール16と接続する接続パッド18を表面に露出させて有している。
【0018】
セラミック配線基板11と樹脂配線基板12の接合体からなる複合配線基板10は、セラミック配線基板11の金属バンプ15と、樹脂配線基板12の接続パッド18が接続されることで、電気的接続がなされている。しかも、複合配線基板10は、コンデンサや、半導体素子等の電子部品19をセラミック配線基板11上に載置して樹脂配線基板12で囲繞するキャビティ部20を形成するために、樹脂配線基板12に貫通孔からなる1又は複数個の切り欠き部21を有している。この複合配線基板10は、加圧焼成して極めて寸法精度のよいセラミック配線基板11に、切り欠き部21を有する極めて寸法精度のよい樹脂配線基板12を接合して形成されるので、極めて寸法精度のよいキャビティ部付き配線基板とすることができる。
【0019】
セラミック配線基板11は、これを作製するためのセラミック基材が800〜1100℃の低温の焼成温度で焼結可能な、CaO−Al2O3−SiO2−B2O3系ガラスを、例えば、50〜65重量%(好ましくは、60重量%)と、Al2O3を、例えば、50〜35重量%(好ましくは、40重量%)からなる低温焼成基板であるのがよい。この低温焼成基板は、シート状のセラミックグリーンシートから所望の大きさに切断して、容易に平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向の焼成収縮させて焼成できるので、寸法精度のよいセラミック配線基板11を容易に作製することができる。
【0020】
次いで、本発明の一実施の形態に係る複合配線基板10の製造方法を説明する。
先ず、図2(A)〜(C)を参照しながら、複合配線基板10に用いられるセラミック配線基板11の製造方法を説明する。
図2(A)に示すように、セラミック配線基板11を形成するためのセラミックグリーンシート22は、例えば、800〜1100℃の低温で焼結可能な、CaO−Al2O3−SiO2−B2O3系ガラスと、Al2O3からなるセラミック粉末にバインダー、溶剤、及び可塑剤を添加して混合し、ドクターブレード法等で所望の厚みのシート状にし、所望の大きさの矩形状に切断して形成する。次に、複数枚の各セラミックグリーンシート22には、セラミックグリーンシート22間の導通を形成するための貫通孔をプレス金型やNCマシーン等を使用して穿設する。そして、この貫通孔には、第1のビアホール13を形成するためにAg系等の金属導体ペーストを充填する。また、各セラミックグリーンシート22の表面には、第1の配線パターン14を形成するためにAg系等の金属導体ペーストを用いてスクリーン印刷する。
【0021】
これらのセラミックグリーンシート22は、重ね合わせて積層して積層体を形成し、更に、この積層体には、上下面の最外層表面にセラミックグリーンシート22の焼成温度では焼結しない、例えば、高純度のAl2O3からなる拘束グリーンシート23を積層する。そして、積層体は、拘束グリーンシート23を介して外部より、例えば、約100Nで加圧しながら、又は加圧を行わないで、800〜1100℃程度の低温の焼成温度で焼成されて、例えば、外形寸法が100×100mm程度、厚さが0.5mm程度のセラミック配線基板11を形成している。なお、このセラミック配線基板11は、拘束グリーンシート23で拘束されて焼成されることで、セラミックグリーンシート22の平面方向の焼成収縮が抑制され、セラミックグリーンシート22の厚み方向に焼成収縮されて形成されている。また、セラミック配線基板11は、拘束グリーンシート23を介して加圧されて焼成されることで、セラミックグリーンシート22の平面方向の焼成収縮が抑制され、セラミックグリーンシート22の厚み方向に焼成収縮されて形成されていると同時に、反りや、曲がりが抑制されて形成されている。
【0022】
次に、図2(B)に示すように、第1の配線パターン14と、第1のビアホール13を有するセラミック配線基板11は、セラミック配線基板11の表層に焼結されずに付着して残っている拘束用グリーンシート23の未焼結セラミック23aを剥離除去することで形成される。この拘束用グリーンシート23は、焼成されることで、シート内に含まれていた樹脂、溶剤等が除去されてセラミック粉体のみの未焼結セラミック23aとなっているので、セラミック配線基板11から容易に剥離除去することができる。
【0023】
次に、図2(C)に示すように、セラミック配線基板11には、樹脂配線基板12との接合面となる側の第1のビアホール13の先端部、及び/又は第1のビアホール13と接続する第1の配線パターン14上の所定位置に接続するようにして、例えば、Ag系等の金属導体ペーストを用いてスクリーン印刷し、焼成してセラミック配線基板11の表面から若干盛り上がった形状の金属バンプ15を形成している。
【0024】
次いで、図3(A)〜(D)を参照しながら、複合配線基板10に用いられる樹脂配線基板12の製造方法を説明する。なお、樹脂配線基板12は、Cu箔が接着されたガラスエポキシ基材を、通常のエッチング方式で回路配線パターンを形成した樹脂基板を用いることができるが、ここでは、配線密度の高い樹脂配線基板12の製造方法を説明する。
図3(A)に示すように、両面にCu箔24が接合された、例えば、BT樹脂(ビスマイレイミドトリアジンを主成分にした樹脂)や、ポリイミド樹脂等の高耐熱性、誘電特性、絶縁特性、加工性等に優れる樹脂からなるCu箔付き樹脂基材25には、ドリルマシーンや、パンチングマシーン等を用いて、第2のビアホール16用の貫通孔を穿設している。この貫通孔の壁面、及び表、裏面のCu箔24の表面には、無電界Cuめっき、及び電界Cuめっきを施してCuめっき被膜26を形成し、表、裏面を導通状態とするための第2のビアホール16を形成している。次に、表、裏面のCuめっき被膜26の表面には、感光性のアクリル樹脂を主成分とするドライフィルムを第2のビアホール16の中心部空洞を塞ぎながら展着し、所望のパターンが得られるようにパターンマスクを当接して露光し、現像して形成するフォトリソグラフィ法で、所望のパターンと逆パターンを開口部とするエッチングレジストマスク27を形成している。
【0025】
次に、図3(B)に示すように、エッチングレジストマスク27の開口部から露出するCu箔24、及びCuめっき被膜26からなる金属層には、例えば、塩化第2鉄溶液、塩化第2銅溶液、アルカリエッチャント、又は過酸化水素−硫酸系エッチャント等のエッチング液を噴射させてエッチング処理を行っている。このエッチング処理によって、エッチングレジストマスク27の開口部から露出する金属層を除去し、更に、エッチングレジストマスク27を、例えば、ドライフィルムがアルカリ可溶タイプの場合の剥離液が50℃、3%程度の水酸化ナトリウム水溶液等であるような剥離液を用いて、ドライフィルムを膨潤させながら金属層から剥離除去して第2の配線パターン17を形成している。また、セラミック配線基板11との接合面となる側の面には、金属バンプ15と接続させるための接続パッド18となり、第2のビアホール16と接続している第2の配線パターン17を形成している。
【0026】
次に、図3(C)に示すように、樹脂配線基板12には、所望の位置を切断して貫通孔とし、この貫通孔の壁面でコンデンサや、半導体素子等の電子部品を囲繞するための、例えば、5×5mm程度の切り欠き部21を1又は複数個形成している。
【0027】
次に、図3(D)に示すように、更に、樹脂配線基板12には、セラミック配線基板11との接合面となる側の第2の配線パターン17の内の必要部分である接続パッド18を開口部から露出させ、その他の部分を外部から保護するための絶縁性樹脂等からなる保護膜28を形成している。また、樹脂配線基板12の表面側にも、例えば、半導体素子と電気的に接続させるためのワイヤボンドパッド等を開口部から露出させて形成するための絶縁性樹脂等からなる保護膜28を形成している。
【0028】
次いで、上述のようにして作製されたセラミック配線基板11と、セラミック配線基板11と実質的に同じ外形寸法で、例えば、厚みが0.3mm程度からなる樹脂配線基板12は、重ね合わされてセラミック配線基板11の金属バンプ15と、樹脂配線基板12の接続パッド18が、例えば、半田等を介して接続させて電気的導通を形成している。この接続と共に、セラミック配線基板11と樹脂配線基板12の絶縁体部分は、セラミック配線基板11と樹脂配線基板12の間に予め、例えば、エポキシ接着剤からなる接着樹脂シートを載置させておいたり、重ね合わせた後のセラミック配線基板11と樹脂配線基板12の間に接着樹脂液を注入したりして接合し、複合配線基板10を作製している。
【0029】
次いで、本発明の一実施の形態に係る複合配線基板10の他の製造方法を説明する。
ここでは、前述の本発明の一実施の形態に係る複合配線基板10の製造方法とは、複合配線基板10に用いられるセラミック配線基板11の製造方法が異なり、その外の製造方法は同じであるので、図4(A)〜(D)を参照しながら、セラミック配線基板11の製造方法について詳細に説明し、その外の説明は省略する。
【0030】
図4(A)に示すように、セラミック配線基板11を形成するためのセラミックグリーンシート22は、前述の場合と同様にして形成されている。複数枚のこのセラミックグリーンシート22には、前述の場合と同様な方法で貫通孔に第1のビアホール13を形成するための金属導体ペーストが充填、及び第1の配線パターン14を形成するための金属導体ペーストがスクリーン印刷されている。そして、これらのセラミックグリーンシート22は、前述の場合と同様に重ね合わせて積層して積層体を形成し、更に、この積層体の上下面の最外層表面にセラミックグリーンシート22の焼成温度では焼結しない、拘束グリーンシート23を積層している。積層体は、拘束グリーンシート23を介して外部より加圧しながら、又は加圧は行わないで、前述の場合と同様に低温の焼成温度で焼成されて、セラミック配線基板11を形成している。このセラミック配線基板11は、拘束グリーンシート23で拘束して焼成して、セラミックグリーンシート22の平面方向の焼成収縮を抑制し、セラミックグリーンシート22の厚み方向に焼成収縮して形成している。また、セラミック配線基板11が加圧して焼成される場合には、セラミックグリーンシート22の平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮して形成されると同時に、反りや、曲がりを抑制して形成されている。
【0031】
次に、図4(B)に示すように、第1の配線パターン14と、第1のビアホール13を有するセラミック配線基板11は、前述の場合と同様に、セラミック配線基板11の表層に焼結されずに付着して残っている拘束用グリーンシート23の未焼結セラミック23aを剥離除去することで形成される。この拘束用グリーンシート23は、焼成されるとシート内に含まれていた樹脂、溶剤等が除去されてセラミック粉体のみの未焼結セラミック23aとなっているので、セラミック配線基板11の表面から容易に剥離除去することができる。
【0032】
次に、図4(C)に示すように、セラミック配線基板11の樹脂配線基板12との接合面となる側には、第1のビアホール13の先端部、及び/又は第1のビアホール13と接続する第1の配線パターン14の所定位置に形成され、樹脂配線基板12との接合を行うための金属バンプ15aを形成するために、セラミックグリーンシート22の焼成温度では焼結しない拘束グリーンシート23が積層される。この積層される拘束グリーンシート23には、金属バンプ15aを形成する位置に対応する所定位置に貫通孔が穿設して設けられ、この貫通孔に、例えば、Ag系等の金属導体ペーストが充填されている。そして、拘束グリーンシート23が積層されたセラミック配線基板11を加圧しながら、又は無加圧で、セラミックグリーンシート22の焼成温度で焼成して、第1のビアホール13の先端部、及び/又は第1のビアホール13と接続する第1の配線パターン14上に接合し、貫通孔内に立設する金属バンプ15aを形成している。
【0033】
次に、図4(D)に示すように、焼成後は、セラミック配線基板11の表層に焼結されずに付着して残っている拘束グリーンシート23の未焼結セラミック23aを剥離除去し、セラミック配線基板11上に、寸法精度よく、高さの高い金属バンプ15aを形成している。
【0034】
【発明の効果】
請求項1及びこれに従属する請求項2記載の複合配線基板は、第1の配線パターンとビアホールを有し予め焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させて形成されたセラミック配線基板の片面又は両面と、第2の配線パターンとビアホールを有し第2のビアホールと接続する接続パッドを表面に露出して有する樹脂配線基板を接合してなる複合配線基板であって、セラミック配線基板の表面に露出する第1のビアホール、及び/又は第1のビアホールに接続する第1の配線パターンに接続して金属バンプを有し、金属バンプと接続パッドが接続されてセラミック配線基板と樹脂配線基板が電気的に接続され、しかも、樹脂配線基板に、電子部品をセラミック配線基板上に載置し樹脂配線基板で囲繞するキャビティ部を形成するための貫通孔からなる切り欠き部を有するので、セラミック配線基板と切り欠き部のある樹脂配線基板の接合によりキャビティ部付きであっても変形がなくて極めて寸法精度をよくすることができる。また、金属バンプを介して接合することによって電気的に導通抵抗を低くし、接続信頼性を高くすることができる。
【0035】
特に、請求項2記載の複合配線基板は、セラミック配線基板がCaO−Al2O3−SiO2−B2O3系ガラスとAl2O3からなり800〜1100℃の焼成温度で焼結できる低温焼成基板であるので、平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させることが容易にでき、変形や反りを低減することができる。
【0036】
請求項3記載の複合配線基板の製造方法は、セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面に前記セラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、セラミック配線基板の樹脂配線基板との接合面となる側の第1のビアホールの先端部、及び/又は第1のビアホールと接続する第1の配線パターン上に金属導体ペーストを印刷し、焼成して金属バンプを形成する工程と、樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、セラミック配線基板と樹脂配線基板を重ね合わせて金属バンプと接続パッドを接続させると共に、セラミック配線基板と樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有するので、セラミック配線基板は、拘束グリーンシートを介して加圧又は無加圧焼成することによって変形や、反りを少なくして形成でき、金属導体ペーストの印刷によって金属バンプを容易にビアホールや配線パターンに接続させて強固に接合して形成できる。また、変形の発生しない樹脂配線基板には、キャビティ部用の切り欠き部と金属バンプとの接合用の接続パッドを容易に形成でき、金属バンプと接続パッドを容易に接続できると共に、間に接着樹脂を介して接合でき、セラミック配線基板と樹脂配線基板を精度よく強固に接合する複合配線基板の製造方法を提供することができる。
【0037】
請求項4記載の複合配線基板の製造方法は、セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面にセラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、樹脂配線基板との接合面となる側のセラミック配線基板の第1のビアホールの先端部、及び/又は第1のビアホールと接続する第1の配線パターンの所定位置上に金属バンプを形成するために、セラミック配線基板の接合面となる面上に、所定位置に対応する位置に設けた貫通孔に金属導体ペーストを充填した拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧でセラミックグリーンシートの焼成温度で焼成した後、拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して金属バンプを形成する工程と、樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、セラミック配線基板と樹脂配線基板を重ね合わせて金属バンプと接続パッドを接続させると共に、セラミック配線基板と樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有するので、セラミック配線基板は、拘束グリーンシートを介して加圧又は無加圧焼成することによって変形や、反りを少なくして形成でき、拘束グリーンシートに形成した貫通孔への金属導体ペーストの充填によって高さが高く、寸法精度のよい金属バンプを容易にビアホールや、配線パターンに接続させて強固に接合して形成できる。また、変形の発生しない樹脂配線基板には、キャビティ部用の切り欠き部と金属バンプとの接合用の接続パッドを容易に形成でき、金属バンプと接続パッドを容易に接続できると共に、間に接着樹脂を介して接合でき、セラミック配線基板と樹脂配線基板を精度よく強固に接合する複合配線基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係る複合配線基板の説明図である。
【図2】(A)〜(C)はそれぞれ同複合配線基板の製造方法で用いられるセラミック配線基板の製造方法の説明図である。
【図3】(A)〜(D)はそれぞれ同複合配線基板の製造方法で用いられる樹脂配線基板の製造方法の説明図である。
【図4】(A)〜(D)はそれぞれ同複合配線基板の他の製造方法で用いられるセラミック配線基板の製造方法の説明図である。
【図5】従来の複合配線基板の説明図である。
【符号の説明】
10:複合配線基板、11:セラミック配線基板、12:樹脂配線基板、13:第1のビアホール、14:第1の配線パターン、15、15a:金属バンプ、16:第2のビアホール、17:第2の配線パターン、18:接続パッド、19:電子部品、20:キャビティ部、21:切り欠き部、22:セラミックグリーンシート、23:拘束グリーンシート、23a:未焼結セラミック、24:Cu箔、25:樹脂基材:26:Cuめっき被膜、27:エッチングレジストマスク、28:保護膜[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
The present invention relates to a composite wiring board formed by joining a ceramic wiring board formed by laminating and firing a plurality of ceramic green sheets, and a resin wiring board formed from a resin substrate with Cu foil, and a method for manufacturing the same About.
[0002]
[Prior art]
As shown in FIG. 5, a conventional
[0003]
It has been proposed that the composite wiring board is formed through a via hole formed in the prepreg so as to electrically connect both the ceramic wiring board and the resin wiring board via the prepreg. (For example, refer to Patent Document 1).
[0004]
In addition, the composite wiring board is formed between the wiring patterns facing each other through the insulator layer so as to electrically connect both the ceramic wiring board and the resin wiring board via the insulator layer. It has been proposed to carry out via a conductive resin bump connecting the two (see, for example, Patent Document 2).
[0005]
A method of forming a ceramic wiring board by laminating a plurality of ceramic green sheets, firing while applying pressure, suppressing firing shrinkage in the plane direction (X, Y direction), and firing shrinking in the thickness direction (Z direction). Has been proposed (see, for example, Patent Document 3).
[0006]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 7-142867
[Patent Document 2]
JP-A-10-93240
[Patent Document 3]
JP-A-5-503498
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional composite multilayer wiring board and the manufacturing method thereof as described above have the following problems.
(1) A ceramic wiring board is usually formed by laminating and firing a plurality of ceramic green sheets. However, dimensional variations and warping occur due to firing shrinkage in the planar direction of the ceramic during firing, and resin wiring. In joining with the substrate, the joining position may be shifted and an electrical disconnection may occur.
(2) When a ceramic wiring board is formed by laminating a constrained green sheet capable of suppressing firing shrinkage in the planar direction on the upper and lower surfaces of a laminate of a plurality of ceramic green sheets and firing them while pressing them or applying no pressure. Sometimes, when forming with a cavity recess for mounting electronic parts on the surface, no pressure is applied to the ceramic green sheet in the recess during pressurization, or even if no pressure is applied Therefore, it is difficult to dispose the constraining green sheet in the ceramic wiring board, so that the ceramic wiring board is deformed, and it is difficult to produce a ceramic wiring board with a cavity by suppressing firing shrinkage in the planar direction.
[0008]
(3) When a via hole formed in a prepreg is used for electrical connection between a ceramic wiring substrate and a resin wiring substrate, it is difficult to form a via hole in the prepreg, resulting in a decrease in yield. In addition, since the prepreg flows at the time of bonding, there may be a case where a displacement occurs at the bonding position between the ceramic wiring board and the resin wiring board, resulting in an electrical disconnection.
(4) When conductive resin bumps are used for electrical connection between the ceramic wiring board and the resin wiring board, the conduction resistance of the conductive resin is relatively large, so that electronic components that require high reliability are mounted. Is less reliable.
The present invention has been made in view of such circumstances, and can be reliably bonded using a ceramic wiring board and a resin wiring board with good dimensional accuracy, is not electrically disconnected, is inexpensive, and has low conduction resistance at the bonding portion. An object of the present invention is to provide a composite wiring board and a manufacturing method thereof.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The composite wiring board according to the present invention that meets the above-described object is a ceramic wiring board that has a first wiring pattern and a via hole and is fired in advance to suppress firing shrinkage in the planar direction and is fired and shrunk in the thickness direction. A composite wiring board formed by bonding a single side or both sides and a resin wiring board having a second wiring pattern and a via hole and a connection pad exposed on the surface and connected to the second via hole. The first via hole exposed on the surface and / or the first wiring pattern connected to the first via hole has a metal bump, the metal bump and the connection pad are connected, and the ceramic wiring substrate and the resin wiring substrate Are electrically connected to each other, and a through-hole is formed in the resin wiring board to form a cavity portion on which the electronic component is placed on the ceramic wiring board and surrounded by the resin wiring board. With a cut-out portion made of. This suppresses firing shrinkage in the planar direction, and there is no deformation even when a cavity wiring is provided by joining a ceramic wiring board that fires and shrinks in the thickness direction and a resin wiring board that has a notch, and extremely improves dimensional accuracy. be able to. Further, by joining via metal bumps, the electrical conduction resistance can be lowered and the connection reliability can be increased.
[0010]
Here, as for the composite wiring board, the ceramic wiring board is CaO-Al. 2 O 3 -SiO 2 -B 2 O 3 Glass and Al 2 O 3 It is preferable that the substrate be a low-temperature fired substrate that can be sintered at a firing temperature of 800 to 1100 ° C. Thereby, the ceramic wiring board can suppress firing shrinkage in the planar direction, and can easily be fired and shrunk in the thickness direction, thereby reducing deformation and warpage.
[0011]
A method for manufacturing a composite wiring board according to the present invention that meets the above-described object is a composite wiring board formed by bonding a ceramic wiring board provided with a first wiring pattern and a via hole, and a resin wiring board provided with a second wiring pattern and a via hole. In this manufacturing method, a ceramic wiring board is formed by laminating a constrained green sheet made of ceramic that is not sintered at the firing temperature of the ceramic green sheet on the upper and lower surfaces of a laminate in which a plurality of ceramic green sheets are laminated, A process of suppressing firing shrinkage in the plane direction by firing at a firing temperature of the ceramic green sheet by pressurization, firing and shrinking in the thickness direction, and peeling and removing the unsintered ceramic of the constrained green sheet; The tip end portion of the first via hole on the side of the wiring board that is to be joined to the resin wiring board, and / or the first via A step of printing a metal conductor paste on the first wiring pattern connected to the wire and firing to form a metal bump; a resin wiring board, and a second via hole on the surface using a resin base with Cu foil Forming a connection pad to be connected to the substrate, cutting a desired position of the resin wiring board to form a notch formed of a through hole, and superimposing the ceramic wiring board and the resin wiring board to form metal bumps and connection pads And connecting the ceramic wiring board and the resin wiring board by heating with an adhesive resin therebetween.
[0012]
As a result, the ceramic wiring board can be formed with less deformation and warping by baking with or without pressure through a constrained green sheet, and metal bumps can be easily formed by printing metal conductor paste via holes and wiring patterns. And can be formed by strongly joining. In addition, since a connection pad for joining the notch for the cavity and the metal bump can be easily formed on the resin wiring board that does not deform, the metal bump and the connection pad can be easily connected, It is possible to provide a method of manufacturing a composite wiring board that can be bonded via an adhesive resin and that bonds the ceramic wiring board and the resin wiring board firmly and accurately.
[0013]
Another method of manufacturing a composite wiring board according to the present invention that meets the above-described object is a composite that is formed by bonding a ceramic wiring board that provides a first wiring pattern and a via hole, and a resin wiring board that provides a second wiring pattern and a via hole. In the method for manufacturing a wiring board, a ceramic wiring board is laminated with a constrained green sheet made of ceramic that is not sintered at the firing temperature of the ceramic green sheet on the upper and lower surfaces of a laminate in which a plurality of ceramic green sheets are laminated, and pressurization. Or after firing at the firing temperature of the ceramic green sheet without pressure and suppressing firing shrinkage in the planar direction, firing and shrinking in the thickness direction, and peeling and removing the unsintered ceramic of the constrained green sheet; , The tip end portion of the first via hole of the ceramic wiring board on the side to be the bonding surface with the resin wiring board, and / or the first In order to form a metal bump on a predetermined position of the first wiring pattern connected to the hole, a metal conductor paste is applied to a through hole provided at a position corresponding to the predetermined position on the surface to be a bonding surface of the ceramic wiring board. A step of laminating the filled constrained green sheets and firing them at the firing temperature of the ceramic green sheets with or without pressure, and then peeling and removing the unsintered ceramics of the constrained green sheets to form metal bumps; and resin A connection pad for connecting the wiring board to the second via hole is formed on the surface using a resin base with a Cu foil, and a notch portion including a through hole is formed by cutting a desired position of the resin wiring board. The process and the ceramic wiring board and the resin wiring board are overlapped to connect the metal bumps and the connection pads, and the ceramic wiring board and the resin wiring board are bonded to each other. A step of joining heated through.
[0014]
As a result, the ceramic wiring board can be formed with reduced deformation and warping by baking with or without pressure through the constrained green sheet, and filling the through holes formed in the constrained green sheet with the metal conductor paste Therefore, a metal bump having a high height and good dimensional accuracy can be easily connected to a via hole or a wiring pattern and firmly bonded. In addition, since a connection pad for joining the notch for the cavity and the metal bump can be easily formed on the resin wiring board that does not deform, the metal bump and the connection pad can be easily connected, It is possible to provide a method of manufacturing a composite wiring board that can be bonded via an adhesive resin and that bonds the ceramic wiring board and the resin wiring board firmly and accurately.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention.
FIG. 1 is an explanatory view of a composite wiring board according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2C are diagrams of a method for manufacturing a ceramic wiring board used in the method for manufacturing the composite wiring board, respectively. 3A to 3D are explanatory diagrams of a method of manufacturing a resin wiring board used in the method of manufacturing the composite wiring board, respectively, and FIGS. 4A to 4D are diagrams of the composite wiring board, respectively. It is explanatory drawing of the manufacturing method of the ceramic wiring board used with another manufacturing method.
[0016]
As shown in FIG. 1, a composite wiring board 10 according to an embodiment of the present invention includes a rectangular ceramic wiring board 11 made of a sintered body of a plurality of ceramic green sheets and one or a plurality of resin base materials. A rectangular resin wiring board 12 made of the bonded body is joined and formed. The ceramic wiring board 11 used in the composite wiring board 10 is formed, for example, by making a hole in a ceramic green sheet of a low-temperature fired board and filling a metal conductor paste made of Ag or the like for the first via
[0017]
On the other hand, the resin wiring board 12 has holes formed in the resin base material with Cu foil, and further, a pattern is formed by etching the Cu foil, and electroless Cu plating and electric field Cu plating are applied. 2 via
[0018]
The composite wiring board 10 composed of the joined body of the ceramic wiring board 11 and the resin wiring board 12 is electrically connected by connecting the metal bumps 15 of the ceramic wiring board 11 and the connection pads 18 of the resin wiring board 12. ing. Moreover, the composite wiring board 10 is formed on the resin wiring board 12 in order to form a cavity portion 20 on which the
[0019]
The ceramic wiring board 11 is a CaO-Al that can be sintered at a low firing temperature of 800 to 1100 ° C. 2 O 3 -SiO 2 -B 2 O 3 For example, 50 to 65% by weight (preferably 60% by weight) of glass based on Al 2 O 3 Is a low-temperature fired substrate made of, for example, 50 to 35% by weight (preferably 40% by weight). This low-temperature fired substrate can be cut from a sheet-like ceramic green sheet to a desired size, easily suppressing firing shrinkage in the planar direction, and firing by shrinking in the thickness direction. The substrate 11 can be easily manufactured.
[0020]
Next, a method for manufacturing the composite wiring board 10 according to one embodiment of the present invention will be described.
First, a method for manufacturing a ceramic wiring board 11 used for the composite wiring board 10 will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 2A, the ceramic
[0021]
These ceramic
[0022]
Next, as shown in FIG. 2B, the ceramic wiring board 11 having the
[0023]
Next, as shown in FIG. 2C, the ceramic wiring substrate 11 includes a tip end portion of the first via
[0024]
Next, a method for manufacturing the resin wiring board 12 used in the composite wiring board 10 will be described with reference to FIGS. The resin wiring board 12 can be a glass epoxy base material to which a Cu foil is bonded, and a resin board in which a circuit wiring pattern is formed by a normal etching method. Here, a resin wiring board having a high wiring density is used. 12 manufacturing methods will be described.
As shown in FIG. 3 (A),
[0025]
Next, as shown in FIG. 3B, the metal layer formed of the
[0026]
Next, as shown in FIG. 3 (C), the resin wiring board 12 is cut at a desired position to form a through hole, and a wall surface of the through hole surrounds an electronic component such as a capacitor or a semiconductor element. For example, one or a plurality of
[0027]
Next, as shown in FIG. 3D, the resin wiring board 12 is further provided with a connection pad 18 which is a necessary part of the
[0028]
Next, the ceramic wiring board 11 manufactured as described above and the resin wiring board 12 having substantially the same outer dimensions as the ceramic wiring board 11 and having a thickness of, for example, about 0.3 mm are overlapped to form the ceramic wiring. The metal bumps 15 of the substrate 11 and the connection pads 18 of the resin wiring substrate 12 are connected via, for example, solder or the like to form electrical continuity. Along with this connection, for example, an insulating resin sheet made of an epoxy adhesive is placed between the ceramic wiring board 11 and the resin wiring board 12 in advance on the insulator portion of the ceramic wiring board 11 and the resin wiring board 12. The composite wiring board 10 is manufactured by injecting or bonding an adhesive resin solution between the ceramic wiring board 11 and the resin wiring board 12 after being superposed.
[0029]
Next, another method for manufacturing the composite wiring board 10 according to one embodiment of the present invention will be described.
Here, the manufacturing method of the ceramic wiring board 11 used for the composite wiring board 10 is different from the manufacturing method of the composite wiring board 10 according to the embodiment of the present invention described above, and the other manufacturing methods are the same. Therefore, the manufacturing method of the ceramic wiring substrate 11 will be described in detail with reference to FIGS.
[0030]
As shown in FIG. 4A, the ceramic
[0031]
Next, as shown in FIG. 4B, the ceramic wiring board 11 having the
[0032]
Next, as shown in FIG. 4 (C), the tip of the first via
[0033]
Next, as shown in FIG. 4 (D), after firing, the unsintered ceramic 23a of the constrained
[0034]
【The invention's effect】
The composite wiring board according to
[0035]
Particularly, in the composite wiring board according to
[0036]
4. The method of manufacturing a composite wiring board according to
[0037]
5. The method of manufacturing a composite wiring board according to
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram of a composite wiring board according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 2A to 2C are explanatory views of a method for manufacturing a ceramic wiring board used in the method for manufacturing the composite wiring board, respectively.
FIGS. 3A to 3D are explanatory views of a resin wiring board manufacturing method used in the composite wiring board manufacturing method, respectively.
4A to 4D are explanatory views of a method for manufacturing a ceramic wiring board used in another method for manufacturing the composite wiring board, respectively.
FIG. 5 is an explanatory diagram of a conventional composite wiring board.
[Explanation of symbols]
10: Composite wiring board, 11: Ceramic wiring board, 12: Resin wiring board, 13: First via hole, 14: First wiring pattern, 15, 15a: Metal bump, 16: Second via hole, 17:
Claims (4)
前記セラミック配線基板の表面に露出する前記第1のビアホール、及び/又は該第1のビアホールに接続する前記第1の配線パターンに接続して金属バンプを有し、該金属バンプと前記接続パッドが接続されて前記セラミック配線基板と前記樹脂配線基板が電気的に接続され、しかも、前記樹脂配線基板に、電子部品を前記セラミック配線基板上に載置し前記樹脂配線基板で囲繞するキャビティ部を形成するための貫通孔からなる切り欠き部を有することを特徴とする複合配線基板。Having a first wiring pattern and a via hole, firing in advance to suppress firing shrinkage in the plane direction, firing one side or both sides of the ceramic wiring board formed by firing shrinkage in the thickness direction, and the second wiring pattern and via hole A composite wiring board formed by bonding a resin wiring board having a connection pad that is exposed on the surface and connected to the second via hole;
Metal bumps are connected to the first via holes exposed on the surface of the ceramic wiring substrate and / or the first wiring patterns connected to the first via holes, and the metal bumps and the connection pads are connected to the first via holes. The ceramic wiring board and the resin wiring board are electrically connected to each other, and a cavity portion is formed on the resin wiring board so that an electronic component is placed on the ceramic wiring board and surrounded by the resin wiring board. A composite wiring board having a notch portion formed of a through hole for the purpose.
前記セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面に前記セラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧で前記セラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、前記拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、
前記セラミック配線基板の前記樹脂配線基板との接合面となる側の前記第1のビアホールの先端部、及び/又は該第1のビアホールと接続する前記第1の配線パターン上に金属導体ペーストを印刷し、焼成して金属バンプを形成する工程と、
前記樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に前記第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、前記樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、
前記セラミック配線基板と前記樹脂配線基板を重ね合わせて前記金属バンプと前記接続パッドを接続させると共に、前記セラミック配線基板と前記樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有することを特徴とする複合配線基板の製造方法。In a method for manufacturing a composite wiring board formed by bonding a ceramic wiring board provided with a first wiring pattern and a via hole and a resin wiring board provided with a second wiring pattern and a via hole,
The ceramic wiring board is formed by laminating a constrained green sheet made of ceramic that is not sintered at the firing temperature of the ceramic green sheet on the upper and lower surfaces of a laminate in which a plurality of ceramic green sheets are laminated, and with or without pressure The step of firing at the firing temperature of the ceramic green sheet to suppress firing shrinkage in the planar direction and firing shrinkage in the thickness direction, and then peeling and removing the unsintered ceramic of the constrained green sheet; and
A metal conductor paste is printed on the tip end portion of the first via hole on the side of the ceramic wiring substrate that becomes the bonding surface with the resin wiring substrate and / or on the first wiring pattern connected to the first via hole. And firing to form metal bumps;
A connection pad for connecting the second via hole to the surface of the resin wiring board by using a resin base with a Cu foil is formed, and a notch formed by a through hole by cutting a desired position of the resin wiring board. Forming a part;
The ceramic wiring board and the resin wiring board are overlapped to connect the metal bumps and the connection pads, and the ceramic wiring board and the resin wiring board are heated and bonded via an adhesive resin. A method of manufacturing a composite wiring board, comprising:
前記セラミック配線基板を、セラミックグリーンシートの複数枚を積層する積層体の上下面に前記セラミックグリーンシートの焼成温度では焼結しないセラミックからなる拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧で前記セラミックグリーンシートの焼成温度で焼成して平面方向の焼成収縮を抑制し、厚み方向に焼成収縮させた後、前記拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して形成する工程と、
前記樹脂配線基板との接合面となる側の前記セラミック配線基板の前記第1のビアホールの先端部、及び/又は該第1のビアホールと接続する前記第1の配線パターンの所定位置上に金属バンプを形成するために、前記セラミック配線基板の前記接合面となる面上に、前記所定位置に対応する位置に設けた貫通孔に金属導体ペーストを充填した前記拘束グリーンシートを積層し、加圧、又は無加圧で前記セラミックグリーンシートの焼成温度で焼成した後、前記拘束グリーンシートの未焼結セラミックを剥離除去して前記金属バンプを形成する工程と、
前記樹脂配線基板を、Cu箔付き樹脂基材を用いて表面に前記第2のビアホールと接続する接続パッドを形成すると共に、前記樹脂配線基板の所望の位置を切断して貫通孔からなる切り欠き部を形成する工程と、
前記セラミック配線基板と前記樹脂配線基板を重ね合わせて前記金属バンプと前記接続パッドを接続させると共に、前記セラミック配線基板と前記樹脂配線基板を間に接着樹脂を介して加熱して接合する工程を有することを特徴とする複合配線基板の製造方法。In a method for manufacturing a composite wiring board formed by bonding a ceramic wiring board provided with a first wiring pattern and a via hole and a resin wiring board provided with a second wiring pattern and a via hole,
The ceramic wiring board is formed by laminating a constrained green sheet made of ceramic that is not sintered at the firing temperature of the ceramic green sheet on the upper and lower surfaces of a laminate in which a plurality of ceramic green sheets are laminated, and with or without pressure The step of firing at the firing temperature of the ceramic green sheet to suppress firing shrinkage in the planar direction and firing shrinkage in the thickness direction, and then peeling and removing the unsintered ceramic of the constrained green sheet; and
Metal bumps on the tip of the first via hole of the ceramic wiring board on the side to be a joint surface with the resin wiring board and / or on a predetermined position of the first wiring pattern connected to the first via hole To form the constrained green sheet filled with metal conductor paste in a through hole provided at a position corresponding to the predetermined position on the surface to be the joint surface of the ceramic wiring board, pressurizing, Or after firing at the firing temperature of the ceramic green sheet without pressure, the step of peeling and removing the unsintered ceramic of the constrained green sheet to form the metal bumps;
A connection pad for connecting the second via hole to the surface of the resin wiring board by using a resin base with a Cu foil is formed, and a notch formed by a through hole by cutting a desired position of the resin wiring board. Forming a part;
The ceramic wiring board and the resin wiring board are overlapped to connect the metal bumps and the connection pads, and the ceramic wiring board and the resin wiring board are heated and bonded via an adhesive resin. A method of manufacturing a composite wiring board, comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003182400A JP2005019678A (en) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | Composite circuit board and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003182400A JP2005019678A (en) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | Composite circuit board and its manufacturing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005019678A true JP2005019678A (en) | 2005-01-20 |
Family
ID=34182798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003182400A Pending JP2005019678A (en) | 2003-06-26 | 2003-06-26 | Composite circuit board and its manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005019678A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2007043165A1 (en) * | 2005-10-11 | 2009-04-16 | 富士通株式会社 | Multilayer wiring board and manufacturing method thereof |
| WO2024154834A1 (en) * | 2023-01-19 | 2024-07-25 | 京セラ株式会社 | Electronic element mounting substrate |
-
2003
- 2003-06-26 JP JP2003182400A patent/JP2005019678A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2007043165A1 (en) * | 2005-10-11 | 2009-04-16 | 富士通株式会社 | Multilayer wiring board and manufacturing method thereof |
| JP5185622B2 (en) * | 2005-10-11 | 2013-04-17 | 富士通株式会社 | Multilayer wiring board |
| WO2024154834A1 (en) * | 2023-01-19 | 2024-07-25 | 京セラ株式会社 | Electronic element mounting substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4208631B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device | |
| JP3173410B2 (en) | Package substrate and method of manufacturing the same | |
| JP3531573B2 (en) | Multilayer ceramic electronic component, method of manufacturing the same, and electronic device | |
| TWI469700B (en) | Circuit board with embedded components and manufacturing method thereof | |
| JP5278149B2 (en) | Circuit board and circuit module | |
| JP6139653B2 (en) | Component built-in resin multilayer board | |
| JP5163806B2 (en) | Manufacturing method of component built-in module and component built-in module | |
| JP6502205B2 (en) | Multilayer wiring board and method of manufacturing the same | |
| JP2001332866A (en) | Circuit board and method of manufacturing the same | |
| WO2005071744A1 (en) | Multilayer electronic part and structure for mounting multilayer electronic part | |
| JP4597631B2 (en) | Component built-in wiring board, method of manufacturing component built-in wiring board | |
| JP2001111189A (en) | Wiring circuit board and manufacturing method thereof | |
| JPS6376279A (en) | Connector and semiconductor package construction using the same the same | |
| JP2001119147A (en) | Multilayer substrate with built-in electronic component and method of manufacturing the same | |
| JP2006073684A (en) | Multilayer wiring board and method for manufacturing multilayer wiring board | |
| JP5397012B2 (en) | Component built-in wiring board, method of manufacturing component built-in wiring board | |
| JP4598140B2 (en) | Component built-in wiring board, method of manufacturing component built-in wiring board | |
| JP2002198654A (en) | Wiring board with built-in electric element and method of manufacturing the same | |
| JP2005019678A (en) | Composite circuit board and its manufacturing method | |
| KR20120050834A (en) | Method of manufacturing the package board | |
| JP2007088058A (en) | Multilayer substrate and method of manufacturing same | |
| TW200948239A (en) | A printed circuit board having an embedded component and a method thereof | |
| CN112753289A (en) | Circuit board, manufacturing method thereof and manufacturing method of circuit board assembly | |
| CN111385981B (en) | Diversified assembly printed circuit board and manufacturing method | |
| JP5708883B2 (en) | Electronic component built-in substrate and method for manufacturing electronic component built-in substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051118 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080205 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080916 |