JP2005099501A - Optical waveguide constituted by joining optical waveguides together - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は高分子光導波路に関し、特に光集積回路、光インターコネクション用光学部品、光電気混載板等を製造する方法に関する。 The present invention relates to a polymer optical waveguide, and more particularly to a method of manufacturing an optical integrated circuit, an optical component for optical interconnection, an opto-electric hybrid board, and the like.
光部品、あるいは光ファイバの基材としては、光伝搬損失が小さく、伝送帯域が広いという特徴を有する石英ガラスや多成分ガラス等の無機系の材料が広く使用されているが、最近では高分子系の材料も開発され、無機系材料に比べて加工性や価格の点で優れていることから、光導波路用材料として注目されている。例えば、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、あるいは、ポリスチレンのような透明性に優れた高分子をコアとし、そのコア材料よりも屈折率の低い高分子をクラッド材料としたコア−クラッド構造からなる平板型光導波路が作製されている(特許文献1:特開平3−188402号)。これに対して耐熱性の高い透明性高分子であるポリイミドを用い低損失の平板型光導波路が実現されている(特許文献2:特開平2−110500号)。 As base materials for optical components or optical fibers, inorganic materials such as quartz glass and multicomponent glass, which have the characteristics of low light propagation loss and wide transmission band, are widely used. System materials have also been developed and are attracting attention as materials for optical waveguides because they are superior in processability and price compared to inorganic materials. For example, a flat plate type having a core-clad structure in which a polymer having excellent transparency such as polymethyl methacrylate (PMMA) or polystyrene is used as a core and a polymer having a refractive index lower than that of the core material is used as a cladding material. An optical waveguide is manufactured (Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 3-188402). On the other hand, a low-loss flat optical waveguide is realized using polyimide, which is a transparent polymer with high heat resistance (Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 2-110500).
光インターコネクション用には、光導波路は電気配線の代替として検討されている。電気配線で高速伝送が困難とされる伝送距離を光配線で求められるため、例えばマルチアレイの光導波路でかつ長さが20cm以上にわたる光導波路を求められることが多い。しかしながら、高分子光導波路の多くは、スピンコートを用いて作製するために基板の大きさに制限されてしまう。そこで、10インチなどの大きな基板を用いて作成しようとした場合でも、膜厚や加工精度の不均一性などが生じてしまい、例えば長さが20cm以上の光導波路を作成することは非常に困難である。 For optical interconnection, optical waveguides are being considered as an alternative to electrical wiring. Since a transmission distance that makes high-speed transmission difficult with electrical wiring is required with optical wiring, for example, a multi-array optical waveguide with a length of 20 cm or more is often required. However, many polymer optical waveguides are limited to the size of the substrate because they are manufactured using spin coating. Therefore, even when an attempt is made to use a large substrate such as 10 inches, non-uniformity in film thickness and processing accuracy occurs, and it is very difficult to produce an optical waveguide having a length of 20 cm or more, for example It is.
一方、複数の光導波路を光コネクタで接続して長い光導波路を作製することは可能である。しかしながら、数cm以上の横幅の広い光コネクタを製造することは難しい。また、半田リフロー工程がある場合、コネクターの耐熱性に問題がある。
本発明の目的は、上記の問題を回避すべく、簡便に実現できる長尺の光導波路を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a long optical waveguide that can be easily realized in order to avoid the above problems.
本発明者は、鋭意検討した結果、光導波路同士を上下から基板ではさみこみ、接着固定することにより、前記課題を解決することを見出し、本発明を完成させた。すなわち本発明は、複数の光導波路同士がそれぞれの導波方向の端面で接着固定された構造を有する光導波路である。 As a result of intensive studies, the present inventor has found that the above problems can be solved by sandwiching optical waveguides from above and below with a substrate and adhesively fixing them, thereby completing the present invention. That is, the present invention is an optical waveguide having a structure in which a plurality of optical waveguides are bonded and fixed at the end faces in the respective waveguide directions.
接着固定した箇所が部材により上下からはさまれた構造を有することが好ましい。この場合部材と光導波路も接着固定されていることが好ましい。 It is preferable to have a structure in which the bonded and fixed portion is sandwiched from above and below by a member. In this case, it is preferable that the member and the optical waveguide are also bonded and fixed.
さらに本発明は、光導波路に存在する凹みをガイドとして位置合わせをし、複数の光導波路同士をそれぞれの導波方向の端面で接合することを特徴とする光導波路の接合方法である。 Furthermore, the present invention is a method for joining optical waveguides, characterized in that alignment is performed using a dent present in the optical waveguide as a guide, and a plurality of optical waveguides are joined at the end faces in the respective waveguide directions.
本発明による光導波路接合方法を用いることにより、長尺の光導波路が低コストに製造できる。また、多種多様な回路パターンに対しても、接合する各光導波路の回路設計と光導波路フィルムの組み合わせを変えることにより、簡便に多種多様なパターンの光導波路が形成できる。また並列に複数の光導波路を備えたマルチアレイでも、必要な長さを確保した光導波路が得られる。さらに接合部の部材の材質は広く選択できるため、耐熱性を高めることが出来る。 By using the optical waveguide bonding method according to the present invention, a long optical waveguide can be manufactured at low cost. Also, for a wide variety of circuit patterns, a variety of optical waveguides can be easily formed by changing the circuit design of each optical waveguide to be joined and the combination of the optical waveguide film. Even in a multi-array having a plurality of optical waveguides in parallel, an optical waveguide having a required length can be obtained. Furthermore, since the material of the member of a junction part can be selected widely, heat resistance can be improved.
以下、本発明を詳細に説明する。ここでは、ポリイミド光導波路を例に挙げて説明するが、光導波路の材料としてポリイミド以外の光学用材料の樹脂を用いて接合することももちろん可能である。図1に本発明の光導波路同士接合の一例を示す。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. Here, a polyimide optical waveguide will be described as an example, but it is of course possible to use an optical material resin other than polyimide as a material for the optical waveguide. FIG. 1 shows an example of bonding between optical waveguides of the present invention.
まず、シリコンウェハ上に下部クラッド層を形成する。その上に一部がコアとなる層とレジスト層を順次形成する。次に、所望のコアパターンの描いてあるマスクパターンを用いて露光することにより、マスクとなるレジストパターンが形成される。このレジストパターンをマスクとして酸素プラズマで一部がコアとなる層をドライエッチングする。次に、マスクのレジストを剥離液で除去する。次にその上に上部クラッド層を形成する。そして多層の形成されたシオリコンウエハごとフッ酸水溶液に浸漬させ、シリコンウェハから光導波路となる多層を剥離する。こうして光導波路が形成された光導波路フィルムが得られる。 First, a lower clad layer is formed on a silicon wafer. A layer having a core part and a resist layer are sequentially formed thereon. Next, the resist pattern used as a mask is formed by exposing using the mask pattern in which the desired core pattern was drawn. Using this resist pattern as a mask, a layer whose core is partly dry is etched with oxygen plasma. Next, the resist of the mask is removed with a stripping solution. Next, an upper clad layer is formed thereon. Then, the multi-layered silicon wafer is immersed in a hydrofluoric acid aqueous solution, and the multilayer that becomes the optical waveguide is peeled off from the silicon wafer. Thus, an optical waveguide film in which the optical waveguide is formed is obtained.
このようにして得られた光導波路フィルム1を、所望の形状にダイシングソー等で切り出して複数の光導波路フィルムを得ることができる。このうち接合する二枚の光導波路(図1(a))を互いの端部を突き当てるように目視などで粗く位置合せを行い、上下からガラス板やプラスチック板などの部材2などではさむ。この部材の材料は、無機、有機問わず様々な材料を用いることができ、また、フィルムでも構わない。この部材の幅は、光導波路の幅よりも若干大きめとしておく。この部材ではさむとき、光導波路と部材の間にUV硬化あるいは熱硬化型の接着剤3を塗布しておく(図1(b))。その後、部材の上から、ばね(図示せず)などにより荷重をかけ押しつける。これで、膜厚方向の位置合せは完了する。マルチアレイの場合には、マルチアレイの一つの導波路を観察すればよい。
The
次に、光導波路上面からコアパターンを観察し、微動調芯ステージを用いて両者のパターンが合うように位置合せを行う。
このとき、光導波路にダイシングソ−などで形成した溝、あるいは、光導波路製造工程において、溶剤の蒸発などにより生じてしまうコアの延伸方向に形成される光導波路最表面の凹み11をガイドとし(図2(a))、位置合せをしてもよい。例えば図2(b)に示すような、溝や凹みに合う形状を有するプレート12や棒などを、光導波路をはさむ部材の替わりとし、嵌合させることにより微動調芯ステージなどを用いず、位置合せをすることができる(図2(c))。このプレートをそのまま接着固定させてもよいし、位置あわせ後に別の部材ではさんでもよい。その後、接着剤をUV照射や加熱処理により硬化させる。光導波路接合部の上下を部材ではさむことにより、曲げに対する補強だけでなく、接着強度が向上する。また光導波路と部材の接着強度が若干弱かったとしても、部材同士の接着に最適な接着材を用いることにより、光導波路からはみ出した部材同士で接着されるため接着強度が向上し、結果として接合部の強度、特に、引き剥がし強度は向上できる。このようにして、光コネクタを用いず、光導波路同士を接合した長尺の光導波路が作製できる。
Next, the core pattern is observed from the upper surface of the optical waveguide, and alignment is performed using a fine adjustment center stage so that both patterns are matched.
At this time, a groove formed by a dicing saw or the like in the optical waveguide, or a
引き続いて、いくつかの実施例を用いて本発明を更に詳しく説明する。なお、分子構造の異なる種々の高分子の溶液を用いることにより数限りない本発明の高分子光導波路が得られることは明らかである。したがって、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Subsequently, the present invention will be described in more detail using several examples. It is apparent that an unlimited number of polymer optical waveguides of the present invention can be obtained by using various polymer solutions having different molecular structures. Therefore, the present invention is not limited only to these examples.
(実施例1)
5インチシリコンウェハ上に2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)と2,2−ビス(トリフルオロメチル)−4, 4' −ジアミノビフェニル(TFDB)から形成されるポリイミドを上下のクラッド層として、6FDAと4, 4' −オキシジアニリン(ODA)から形成されるポリイミドをコア層として、公知のフォトリソグラフィとドライエッチング技術により光導波路フィルムを形成する。ここで長さ方向が互いに平行な複数のコア層が形成されておりマルチアレイの光導波路となっている。その後、この光導波路が形成されたシリコンウエハを5wt%のフッ酸水溶液中に浸漬させ、シリコンウェハから光導波路を剥し、フィルム光導波路を作製した。フィルム導波路の厚みは80μmとした。光導波路試料間の厚みのばらつきは2μm以内であった。長さ10cm、幅5cmになるように光導波路をダイシングソーにより切り出した。このようにして得られた二枚の光導波路を用いて長さ20cmの光導波路を作製する。
(Example 1)
2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and 2,2-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TFDB) on a 5-inch silicon wafer An optical waveguide film is formed by known photolithography and dry etching techniques using polyimide formed from) as upper and lower cladding layers and polyimide formed from 6FDA and 4,4′-oxydianiline (ODA) as a core layer. To do. Here, a plurality of core layers whose length directions are parallel to each other are formed to form a multi-array optical waveguide. Thereafter, the silicon wafer on which the optical waveguide was formed was immersed in a 5 wt% hydrofluoric acid aqueous solution, and the optical waveguide was peeled off from the silicon wafer to produce a film optical waveguide. The thickness of the film waveguide was 80 μm. The variation in thickness between the optical waveguide samples was within 2 μm. The optical waveguide was cut out with a dicing saw so as to have a length of 10 cm and a width of 5 cm. An optical waveguide having a length of 20 cm is produced using the two optical waveguides thus obtained.
二枚の光導波路を厚さ1mmのガラス板の上に置き、目視でコアパターンが合うように粗く位置合せを行った。そのとき、二枚のフィルム光導波路とガラスの間にUV硬化型接着剤を塗布しておく。次に、上から同様にUV硬化型接着剤を塗布し、厚さ1mmの別のガラス板を置き、軽く押し付けた。その後、上から光学顕微鏡でコアパターンが合うように微動調芯ステージを動かし、位置合せを行った。このとき、観察して合わせるコアパターンは1組で良い。上側のガラス板の上から、中心付近をばねで押さえつけた。スポット型UV照射機により、上下方向からUV照射し、接着剤を硬化させた。このとき、接合部の結合損失は、約0.5dBであった。このようにして、簡便にかつ低結合損失で長さ20cm、幅5cmの光導波路が作製できた。 Two optical waveguides were placed on a glass plate having a thickness of 1 mm, and aligned roughly so that the core pattern was visually matched. At that time, a UV curable adhesive is applied between the two film optical waveguides and the glass. Next, a UV curable adhesive was similarly applied from above, another glass plate having a thickness of 1 mm was placed, and lightly pressed. Then, the fine adjustment center stage was moved so that the core pattern might be matched with the optical microscope from above, and alignment was performed. At this time, one set of core patterns may be observed and aligned. From above the upper glass plate, the vicinity of the center was pressed with a spring. With a spot type UV irradiator, UV was irradiated from above and below to cure the adhesive. At this time, the coupling loss of the junction was about 0.5 dB. In this manner, an optical waveguide having a length of 20 cm and a width of 5 cm could be easily produced with low coupling loss.
(実施例2)
実施例1と同様のフッ素化ポリイミドを用いて光導波路を作製した。フォトリソグラフィとドライエッチング技術により、下部クラッドに複数の溝を形成した。溝にコアとなるフッ素化ポリイミドを埋め込み、熱処理させた。その後、その上から上部クラッドを塗布し、熱処理させた。このとき、溝部には、溶剤の蒸発などにより生じた凹みが形成された。深さ20μm、幅40μmの円弧上の凹みであった。これと嵌合する凸形状がついたポリイミドフィルムをフォトリソグラフィとドライエッチング技術で別途作製した。このポリイミドフィルムを長さ1cm、幅6cm切り出した。また、作製した光導波路を長さ10cm、幅5cmにダイシングソ−で切り出した。
(Example 2)
An optical waveguide was produced using the same fluorinated polyimide as in Example 1. A plurality of grooves were formed in the lower clad by photolithography and dry etching techniques. The groove was filled with fluorinated polyimide as a core and heat-treated. Thereafter, an upper clad was applied from above and heat-treated. At this time, a recess formed by evaporation of the solvent was formed in the groove. It was a depression on an arc having a depth of 20 μm and a width of 40 μm. A polyimide film with a convex shape to be fitted with this was separately produced by photolithography and dry etching techniques. This polyimide film was cut into a length of 1 cm and a width of 6 cm. The produced optical waveguide was cut out with a dicing saw to a length of 10 cm and a width of 5 cm.
このようにして得られた二枚の光導波路を、ホットプレート上に置かれ熱硬化型接着剤が塗布してあるポリイミド基板上に置いた。次に上から薄く接着剤を塗布した凸形状付きポリイミドフィルムを置き、二枚の光導波路の凹みに嵌合させた。このとき、上から、ばねを用いてポリイミドフィルム全体を押さえつけた。その後、ホットプレートを昇温し、150℃/1時間の熱処理を行い、接着固定した。このとき、接合部の結合損失は、約0.7dBであった。このようにして、簡便にかつ低結合損失で長さ20cm、幅5cmの光導波路が作製できた。 The two optical waveguides thus obtained were placed on a polyimide substrate placed on a hot plate and coated with a thermosetting adhesive. Next, a polyimide film with a convex shape thinly coated with an adhesive was placed from above and fitted into the recesses of the two optical waveguides. At this time, the entire polyimide film was pressed from above using a spring. Thereafter, the temperature of the hot plate was raised, and heat treatment was performed at 150 ° C./1 hour to fix the adhesive. At this time, the coupling loss of the junction was about 0.7 dB. In this manner, an optical waveguide having a length of 20 cm and a width of 5 cm could be easily produced with low coupling loss.
特に光集積回路、光インターコネクション用光学部品、光電気混載板等などに用いられる光導波路を提供できる。 In particular, an optical waveguide used for an optical integrated circuit, an optical component for optical interconnection, an opto-electric hybrid board and the like can be provided.
1:光導波路、 2:部材、 3:接着剤、
11:光導波路に形成された凹み、
12:凹みに嵌合させるため凸形状つきプレート。
1: optical waveguide, 2: member, 3: adhesive
11: a dent formed in the optical waveguide,
12: A plate with a convex shape for fitting into the recess.
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