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JP2005058848A - 洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水の製造方法、その製造装置、及び洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水 - Google Patents

洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水の製造方法、その製造装置、及び洗浄・消毒・創傷治癒に用いられる水 Download PDF

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JP2005058848A JP2003289669A JP2003289669A JP2005058848A JP 2005058848 A JP2005058848 A JP 2005058848A JP 2003289669 A JP2003289669 A JP 2003289669A JP 2003289669 A JP2003289669 A JP 2003289669A JP 2005058848 A JP2005058848 A JP 2005058848A
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Abstract


【課題】 ｐＨが７に近い、即ち、弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にあって、人体に対する悪影響が低く、しかしながら消毒（殺菌）能力、或いは創傷治癒能力が高い水を提供することである。
【解決手段】 アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水と、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水
とを含む水。
【選択図】 図６

Description

本発明は、洗浄、消毒（殺菌）、或いは創傷治癒に用いられる水に関する。
最近、食塩水を電気分解して得たアノ−ド電解水を洗浄、特に、消毒（殺菌）に用いることが提案されている。尚、このような目的に用いる場合、アノード電解水は、酸化還元電位（ＯＲＰ）が約１１００ｍＶ以上でなければならないと言われている。
このような特性のアノード電解水は、図１５及び図１６に示される如くの電解装置（二室型電解装置）を用いて得られる。
図１５中、５１はアノード室、５２はカソード室である。そして、アノード室５１とカソード室５２とは隔膜（カチオン交換膜）５３で仕切られている。５４はアノード電極、５５はカソード電極である。
そして、食塩水が入口５１ａ，５２ａから供給され、電気分解が行われる。そうすると、アノード室５１の出口５１ｂからアノード電解水が得られ、又、カソード室５２の出口５２ｂからカソード電解水が得られる。
ところで、アノード室５１で起きる反応を示すと、下記の通りである。
（１） ２Ｃｌ− − ２ｅ− →Ｃｌ２
（２） ２Ｈ２Ｏ − ４ｅ− →Ｏ２＋４Ｈ＋
（３） Ｃｌ２ ＋ Ｈ２Ｏ →ＨＣｌＯ＋ＨＣｌ
又、カソード室５２で起きる反応を示すと、下記の通りである。
（４） ２Ｈ２Ｏ ＋ ２ｅ− →Ｈ２＋２ＯＨ−
尚、上記反応を図で示したのが図１６である。
そして、上記反応式および図１６から判る通り、塩素イオンがアノ−ド室５１に移行する。かつ、ナトリウムイオンがカソ−ド室５２に移行する。従って、アノ−ド電解水は塩素イオンによって必ず酸性を示す。又、カソ−ド電解水はナトリウムイオンにより必ずアルカリ性を示す。
ところで、塩素イオンの存在下で生成したアノード電解水を消毒（殺菌）水として用いる場合、アノード電解水のＯＲＰは高い方が消毒（殺菌）の効果に優れていると言われている。そして、アノード電解水のＯＲＰを高くしようとすると、電解電流を多くする必要がある。そして、電解電流が多くなると、塩素イオンやナトリウムイオンの移動量も多くなる。この結果、アノード室では塩素イオン量が多くなる。そして、アノード電解水のｐＨ値は小さなものになる。つまり、アノード電解水は酸性が強いものになる。
しかしながら、ｐＨ値が小さな酸性水は腐食力が強い。例えば、ｐＨが３以下の酸性水は金属を容易に腐食させる。
従って、腐食を引き起こさないようにする為には、消毒（殺菌）水のｐＨが７に近いことが好ましい。
更には、人体の消毒（殺菌）にアノ−ド電解水を使用する場合、例えば手術後における医師や看護婦あるいは患者の洗浄・消毒（殺菌）にアノ−ド電解水を使用する場合、アノード電解水のｐＨは人の血液や体液のｐＨに近い方が好ましい。
しかしながら、図１５に示した従来の二室型電解装置を用いて、ＯＲＰが約１１００ｍＶ以上のアノード電解水を得ようとした場合、このアノード電解水のｐＨは３以下のものとなっていた。すなわち、二室型電解装置によるアノード電解水は酸性度が強い。
従って、このようなアノード電解水を消毒（殺菌）水として用いるのは好ましくない。
ところで、電解装置として、図１５のような二室型電解装置では無く、本発明者などの提案になる三室型電解装置も知られている。この三室型電解装置の概略を図１〜図３に示す。
図１は電解装置の要部を示す概略図である。図２は電極板の平面図である。図３は装置全体を示す概略図である。
１はアノード室、２はカソード室である。３は、アノード室１とカソード室２との間に設けられた中間室である。そして、アノード室１と中間室３とは隔膜４で仕切られている。又、カソード室２と中間室３とは隔膜５で仕切られている。６，７は、図２からも判る通り、多数の孔が形成された電極板である。そして、電極板６，７は隔膜４，５に密着させて積層されている。但し、電極板６はアノード電極であるから、電極板６はアノード室１に面するように設けられている。電極板７はカソード電極であるから、電極板７はカソード室２に面するように設けられている。又、中間室３にはガラスビーズ又はイオン交換樹脂が充填されている。尚、中間室３に供給される水が電解質物質（ＭＸ（Ｘは、例えばＣｌ））を含む場合には、導電性が確保されている。従って、中間室３にイオン交換樹脂を充填してなくても良い。但し、このような場合には、ガラスビーズを充填しておく。
１ａはアノード室入口、１ｂはアノード室出口である。２ａはカソード室入口、２ｂはカソード室出口である。３ａは中間室入口、３ｂは中間室出口である。
８は、アノード室入口１ａ及びカソード室入口２ａに接続されたパイプである。このパイプ８を介して水が供給される。９は、中間室入口３ａと中間室出口３ｂとに接続された循環パイプである。この循環パイプ９の途中に中間室水（例えば、食塩水などの電解質物質が添加された水）タンク１０が設けられている。そして、ポンプ１１の力でタンク１０の食塩水が中間室３に供給される。１２は、貯水用のタンクである。このタンク１２とアノード室出口１ｂとはパイプ１３で接続されている。従って、アノード電解水がタンク１２に貯水される。
このような三室型電解装置を用いた場合、アノード室１やカソード室２には、直接、食塩水が供給されない。従って、アノード電解水中の塩素イオン濃度は低いことが予想される。
しかしながら、中間室３からアノード室１に塩素イオンが移動するのは避けられない。従って、アノード電解水は酸性のものになる。
特開平５−３３９７６９号公報 特開平８−１１６０号公報 特開平１０−１２８３３１号公報 特開平１１−１５１４９３号公報 特開２００１−９６２７５号公報 特開２００１−１９１０７６号公報
従って、本発明が解決しようとする課題は、消毒（殺菌）能力、或いは創傷治癒能力が高いにも拘わらず、その液のｐＨが７に近い、即ち、弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にある水を提供することである。
すなわち、ｐＨが７に近い、即ち、弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にあって、人体に対する悪影響が低く、しかしながら消毒（殺菌）能力、或いは創傷治癒能力が高い水を提供することである。
ところで、図１に示された三室型電解装置を用いた場合と、図１５に示された二室型電解装置を用いた場合とでは、電気分解に際して起きる反応が異なっている。
（Ａ） 三室型電解装置によるカソード電解水は、上記（４）式に従って生成されたＯＨ−とＨ２ガスとが溶解した水と言うだけのものでは無い。すなわち、下記の反応式に従って各種の還元性物質が溶存したものである。
（５） Ｏ２ ＋ ｅ− →Ｏ２ −
（６） ＨＯ２ − ＋ Ｈ２Ｏ ＋ ｅ− →２ＯＨ・＋ＯＨ−
（７） Ｏ２ ＋ Ｈ＋ ＋ ｅ− →ＨＯ２
（８） ２Ｏ２ ＋２Ｈ２ ＋２ｅ− →Ｈ２Ｏ２＋２ＯＨ−
（９） Ｏ２ ＋Ｈ２Ｏ ＋２ｅ− →ＨＯ２ −＋ＯＨ−
そして、上記生成した酸素還元物質は活性酸素の一種である。従って、これらの物質は抗菌活性を有することが予想される。
一方、カソード電解水はアルカリ性である。
従って、このカソード電解水をアノード電解水に加えてｐＨ調整をした場合、アノード電解水自体が持つ酸性値のものよりも中性領域に近づく。すなわち、アノード電解水とカソード電解水とを混合した場合、この混合水のｐＨを６〜８のものにすることは容易である。
かつ、中和に用いたカソード電解水自体が多くの活性種を含むから、カソード電解水の添加はＯＲＰを高める方向に作用する。従って、消毒（殺菌）効果が高まる。この点において、苛性ソーダ等のアルカリを用いてアノード電解水を中和する場合とは全く異なる。
尚、上記反応式で生成する活性種の生成効率は電解槽の構造に依存する。すなわち、三室型電解装置が用いられた場合には、アノ−ド電極６からの酸化物質が拡散して来ることによって、中間室３における溶存酸素濃度は高まる。この溶存酸素は、隔膜５を透過し、カソード電極７表面に供給される。従って、活性種の生成効率が上がる。これに対して、二室型電解装置が用いられた場合には、前記のような現象が起き難い。この為、本願発明のようなことが考えられない。
（Ｂ） ところで、ハロゲンイオンの一つである塩素イオンを三室型電解装置の中間室３に供給した場合、アノ−ド電解水中の残留塩素濃度はアノ−ド室１への水の供給速度に依存することが判って来た。すなわち、三室型電解装置を用いた場合におけるアノ−ド電解水中の残留塩素濃度とアノ−ド室１への水の供給速度との関係を図４に示す。これによれば、流速が小さい程、即ち、アノ−ド室１への水の供給速度が遅い程、残留塩素濃度が高い。
しかしながら、効率を考慮すると、流速は早い方が良い。
従って、残留塩素濃度を高くしながらも、生産効率を高める為には、電解槽に水のバイパスラインを設け、電解槽（アノード室）における水の流量を下げると共に、バイパスラインに水を流すことが考えられる。これによって、水の流量を確保しつつ、残留塩素濃度を上げることが出来る。
（Ｃ） アノード電極６の表面（通水側の面）を不織布で覆うことによって、電解で生成した酸素などのガス成分が滞留し易くなる。すなわち、アノード電極６表面では次の反応が起こり、酸素ガスが出来易くなる。
（１０） ２Ｈ２Ｏ − ４ｅ− →Ｏ２＋４Ｈ＋
（１１） Ｈ２Ｏ ＋ Ｏ２ − ２ｅ− →２Ｈ＋＋Ｏ３
（１２） ２Ｈ２Ｏ − ２ｅ− →２Ｏ・＋４Ｈ＋
（１３） ２Ｈ２Ｏ − ３ｅ− →３Ｈ＋＋ＨＯ２
（１４） ２Ｈ２Ｏ − ２ｅ− →２Ｈ＋＋Ｈ２Ｏ２
つまり、Ｏ３やＯ・等の酸化性物質が生成され易い。そして、これらの物質と中間室から移行した塩素イオンとが反応し、例えば（Ｏ３−Ｃｌ−）の如きの中間体が生成する。これらの中間体は最終的にＨＣｌＯなどに変わる。従って、Ｃｌ２を経ないでＨＣｌＯが生成される。
又、アノード電極の周囲に酸素ガスが滞留することから、結果的に、電流密度が上がる。そして、上記の反応の他に、ＨＯ２やＨ２Ｏ２等の活性酸素種の生成効率が向上する。
ところで、より高いＯＲＰの水を生成する為には、Ｏ３等のより強い酸化性物質の生成効率を向上させることが好ましい。従って、（１１）式に示されるような反応が起きることは好ましい。その為には、アノード極６表面に酸素ガスを滞留させることが好ましい。
よって、アノード電極６の表面（通水側の面）を不織布で覆うことは好ましい。
（Ｄ） アノード室１で生成したＯ２ガスやＣｌ２ガス、更には（Ｏ３−Ｃｌ−）の如きの中間体の水への溶解性は、水が酸性領域よりも中性領域ないしはアルカリ性領域である方が高い。従って、電解によって生成したアノード電解水とカソード電解水とを出来るだけ早く混合させた方が、上記活性種が空気中に蒸散し難くなる。そして、活性種の濃度が高まる。かつ、活性種の寿命も延びる。混合は、電解水の生成後、例えば３００分以内の間に行われる。更に好ましくは３０分以内の間に行われる。勿論、直後に行われるのが最も好ましい。従って、アノード室出口１ｂやカソード室出口２ｂと貯水タンク１２とをパイプで接続し、アノード電解水とカソード電解水とを出来るだけ早く混合する。
つまり、アノード電解水とカソード電解水とを別々に貯水し、洗浄や消毒（殺菌）に際して両者を混合するのでは無い。
そして、上記の考えは次の実験によっても確かめられた。
先ず、図１〜図３に示された三室型電解装置を用いて電解を行った。
アノード室１にはアノード室入口１ａから純水が１．０Ｌ／ｍｉｎの割合で供給された。カソード室２にもカソード室入口２ａから純水が１．０Ｌ／ｍｉｎの割合で供給された。中間室３には中間室入口３ａから飽和食塩水が２．５Ｌ／ｍｉｎの割合で供給された。電極板６，７は、白金メッキしたチタン製のものである。そして、大きさは８０ｃｍ×６０ｃｍである。隔膜４は、フッ素系のカチオン交換膜（デュポン社のナフィオン１１７）とアニオン交換膜（旭ガラス株式会社製のＡＭＶ）とを積層したものである。隔膜５はフッ素系のカチオン交換膜（デュポン社のナフィオン４２４）である。中間室３には直径２ｍｍのガラスビーズを充填した。
比較の為に図１５に示された二室型電解装置を用いて電解を行った。
電極５４，５５の材質及び大きさは電極板６，７のものと同じである。隔膜５３は旭ガラス株式会社製のＡＭＶである。アノード室５１やカソード室５２には、０．０５ｗｔ％の濃度の食塩水が１．０Ｌ／ｍｉｎの割合で供給された。
両者共に電解電流は１２Ａである。
そして、カソード電解水を採取し、活性酸素濃度を測定したので、その結果を表−１に示す。測定方法としてルミノール反応を用いた。尚、ルミノール反応によってＯ２ −やＯ２ ２−等が測定できる。又、酸化還元電位（ＯＲＰ）を測定したので、その結果を表−１に示す。尚、試料電極は白金である。又、カソード電解水のｐＨを測定したので、その結果を表−１に示す。
表−１
蛍光強度（相対値） ＯＲＰ（ｍＶ） ｐＨ
三室型電解装置 １５ ２０ １１．９
二室型電解装置 １ −８９０ １２
この表−１からも判る通り、三室型電解装置を用いた場合のカソード電解水のほうが活性酸素の生成効率が高い。そして、ｐＨは略同じであるにも拘わらず、ＯＲＰは三室型電解装置のカソード電解水の方が非常に高い。尚、一般的に、アルカリ性の還元水には水素ガスが含まれるので、ＯＲＰは−８００ｍＶ以下に下がる。しかしながら、三室型電解装置を用いて得られたカソード電解水のＯＲＰが２０ｍＶであると言う事実は、水素ガスより活性酸素が電位に寄与していることを示している。
次に、残留塩素濃度とアノ−ド室の流量との関係の結果を説明する。
三室型電解装置を用いた場合におけるアノ−ド電解水中の残留塩素濃度とアノ−ド室１への水の供給速度との関係は、図４に示された通りである。図４から明らかな通り、残留塩素濃度と流量との関係はリニアな関係ではない。すなわち、流量が小さくなるほど、単位流量当たりの残留塩素濃度は高くなる。例えば、流量が１．０Ｌ／ｍｉｎの場合、残留塩素濃度は２５ｐｐｍであるが、流量が０．５Ｌ／ｍｉｎの場合、残留塩素濃度は７０ｐｐｍである。流量が０．５Ｌ／ｍｉｎの場合を１．０Ｌ／ｍｉｎに換算すると、残留塩素濃度は３５ｐｐｍになる。このように流量を抑えることで活性種の生成効率は向上する。
従って、図５に示す如くのバイパスライン１４を付設すると、活性種の生成効率が向上することを期待できる。尚、バイパスライン１４はアノード室１と並列的に設けられたものである。すなわち、バイパスライン１４の一端側がパイプ８に接続され、バイパスライン１４の他端側がパイプ１３に接続されている。従って、パイプ８を経由して来た水の一部はアノード室１に送られる。残部の水は、バイパスライン１４を経由し、パイプ１３でアノード電解水と合流する。尚、図５中、図１〜図３と同じ符号は同じ構成を示す。
そして、図５の装置によって電解が行われた場合において、貯水タンク１２に貯水された水の残留塩素濃度、ｐＨ及びＯＲＰを調べたので、その結果を表−２に示す。尚、パイプ８を経由して送られて来る水（流量１Ｌ／ｍｉｎ）は逆浸透膜処理水である。
表−２
アノード室流量 バイパスライン流量 残留塩素濃度 ＯＲＰ(mV) ｐＨ
０．１Ｌ／ｍｉｎ ０．９Ｌ／ｍｉｎ １００ｐｐｍ １１２０ ３．６
０．２Ｌ／ｍｉｎ ０．８Ｌ／ｍｉｎ ９０ｐｐｍ １１３０ ３．３
０．５Ｌ／ｍｉｎ ０．５Ｌ／ｍｉｎ ７０ｐｐｍ １１５０ ３．１
０．７Ｌ／ｍｉｎ ０．３Ｌ／ｍｉｎ ３０ｐｐｍ １１６０ ２．９
１．０Ｌ／ｍｉｎ ０．０Ｌ／ｍｉｎ ２５ｐｐｍ １１７０ ２．８
この表−２から、バイパスラインを経由させる水量を多くし、アノ−ド室に供給する水量を低減することにより、残留塩素（活性種）濃度が高まり、電解効率が向上することが判る。しかも、ｐＨ値は高くなる。すなわち、貯水タンク１２の水の酸性度は弱くなっている。
次に、図５の装置において、アノード電極６の表面をテフロン製の不織布で覆った。そして、逆浸透膜処理水を０．２Ｌ／ｍｉｎの割合でアノ−ド室１に供給した。又、バイパスライン１４には１．８Ｌ／ｍｉｎの割合で水を供給した。従って、全体では２Ｌ／ｍｉｎの割合でアノード電解水が生成することになる。
比較の為に、アノード電極６の表面をテフロン製の不織布で覆わない場合も同様に行った。
そして、貯水タンク１２に溜まったアノード電解水のＯＲＰとｐＨを測定したので、その結果を表−３に示す。
表−３
ＯＲＰ（ｍＶ） ｐＨ
不織布を使用 １１４２ ３．５
不織布を使用せず １１３０ ３．３
この表−３から判る通り、アノード電極を不織布で覆った方が、アノード電解水のｐＨは高い。又、ＯＲＰも高い。
従って、アノード電極を不織布で覆うことは好ましい。
上記知見に基づいて本発明が達成された。
すなわち、前記の課題は、下記の発明によって解決される。
すなわち、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造方法であって、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりアノード電解水を得るアノード電解水生成工程と、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりカソード電解水を得るカソード電解水生成工程と、
前記アノード電解水生成工程で生成されたアノード電解水と前記カソード電解水生成工程で生成されたカソード電解水とを混合する混合工程
とを具備することを特徴とする。
上記発明において、前記カソード電解水生成工程で用いた前記電解装置が、カソード室に区切板が設けられて、前記カソード室がＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有するものであり、
前記混合工程におけるカソード電解水は、
前記電解装置のカソード室における（Ｎ−１）以下の数の室からのカソード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記アノード電解水生成工程で用いた前記電解装置が、アノード室に並行してバイパスラインが設けられた構造を有するものであり、
前記混合工程におけるアノード電解水は、
前記アノード室からのアノード電解水に、前記アノード室を経由せず、前記バイパスラインを経由して来た未電解の水が加えられたものである
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
前記混合工程におけるアノード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであり、更に前記アノード電極のアノード室側表面には多孔性の非導電性材が設けられたものであり、
前記混合工程におけるアノード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間に設けられた隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜とを用いて構成されたものであることを特徴とする。特に、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間に設けられた隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜との積層膜で構成されたものであることを特徴とする。
又、上記発明において、前記多孔性の非導電性材がフッ素樹脂製の不織布であることを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
前記混合工程におけるカソード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記中間室にはイオン交換樹脂が設けられたものであって、
前記混合工程におけるアノード電解水および／またはカソード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水および／またはカソード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記中間室には電解質物質ＭＸ（Ｘはハロゲン）が添加されており、
前記混合工程におけるアノード電解水および／またはカソード電解水は、
前記ＭＸが存する中間室を持つ前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水および／またはカソード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記混合工程で用いられる前記アノード電解水と前記カソード電解水とは同じ電解装置からのものであることを特徴とする。
又、上記発明において、前記混合工程で用いられる前記アノード電解水と前記カソード電解水とは異なる電解装置からのものであることを特徴とする。
又、上記発明において、前記混合工程は、混合水のｐＨが４〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水とを混合する工程であることを特徴とする。すなわち、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合割合は混合水のｐＨが４〜８となるように混合する。
又、上記発明において、前記混合工程は、混合水のｐＨが６〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水とを混合する工程であることを特徴とする。すなわち、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合割合は混合水のｐＨが６〜８となるように混合する。
又、上記発明において、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３００分以内に行われることを特徴とする。特に、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３０分以内に行われることを特徴とする。更には、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後１０分以内に行われることを特徴とする。そして、最も好ましくは、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成直後に行われることを特徴とする。
又、上記発明において、洗浄の代わりに消毒に用いられる水の製造方法であることを特徴とする。
又、上記発明において、洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水の製造方法であることを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置と、
貯水槽と、
前記貯水槽と前記カソード室とを繋ぐ第１の導水路と、
前記貯水槽と前記アノード室とを繋ぐ第２の導水路と、
前記第１の導水路および前記第２の導水路を介して前記貯水槽に導かれたカソード電解水とアノード電解水との混合水のｐＨが４〜８であるようにカソード電解水及び／又はアノード電解水の導入量を制御する制御部
とを具備することを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
前記製造装置は、
電解装置と、
貯水槽とを具備し、
前記電解装置は、
アノード室と、
カソード室と、
前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
前記カソード室には区切板が設けられていて、前記カソード室はＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有し、
前記製造装置は、
前記カソード室における（Ｎ−１）以下の数の室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路
とを有する
ことを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
前記製造装置は、
電解装置と、
貯水槽とを具備し、
前記電解装置は、
アノード室と、
カソード室と、
前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
前記製造装置は、
前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
前記アノード室に並行して設けられ、かつ、前記第２の導水路に接続されたバイパスライン
とを有する
ことを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
前記製造装置は、
電解装置と、
貯水槽とを具備し、
前記電解装置は、
アノード室と、
カソード室と、
前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
前記カソード室には区切板が設けられていて、前記カソード室はＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有し、
前記製造装置は、
前記カソード室における（Ｎ−１）以下の数の室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
前記アノード室に並行して設けられ、かつ、前記第２の導水路に接続されたバイパスライン
とを有する
ことを特徴とする。
上記発明において、前記電解装置が一個であることを特徴とする。
又、上記発明において、Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置を持っており、
前記Ｍ個の電解装置のアノード室の各々と前記貯水槽とは前記第２の導水路によって繋がれており、
前記Ｍ個の電解装置の中の一部の電解装置の前記カソード室と前記貯水槽とが前記第１の導水路によって繋がれ、この一部のカソード室からのカソード電解水のみが前記貯水槽に導かれるよう構成されてなる
ことを特徴とする。
又、上記発明において、Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置を持っており、
Ａ１番目の電解装置における前記カソード室と前記貯水槽とは前記第１の導水路によって繋がれ、かつ、Ａ１番目の電解装置における前記アノード室と前記貯水槽とは前記第２の導水路によって繋がれており、
Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室と前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室とが第３の導水路によって繋がれていて、前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室からのアノード電解水が前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室に導かれるよう構成されてなる
ことを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
前記製造装置は、
Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置と、
貯水槽とを具備し、
前記電解装置は、
アノード室と、
カソード室と、
前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
前記製造装置は、
前記Ｍ個の電解装置のアノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
前記Ｍ個の電解装置の中の一部の電解装置の前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路とを具備し、
前記アノード室からのアノード電解水と前記一部のカソード室からのカソード電解水とが前記貯水槽に導かれるよう構成されてなる
ことを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水の製造装置であって、
前記製造装置は、
Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置と、
貯水槽とを具備し、
前記電解装置は、
アノード室と、
カソード室と、
前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
前記製造装置は、
前記Ａ１番目の電解装置における前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
前記Ａ１番目の電解装置における前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室と前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室とを繋ぐ第３の導水路とを具備し、
前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室からのアノード電解水が前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室に導かれるよう構成されてなる
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものである
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであり、更に前記アノード電極のアノード室側表面には多孔性の非導電性材が設けられたものである
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜とを用いて構成されたものであることを特徴とする。特に、前記隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜との積層膜で構成されたものであることを特徴とする。
又、上記発明において、前記多孔性の非導電性材がフッ素樹脂製の不織布であることを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものである
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記中間室にはイオン交換樹脂が設けられたものであることを特徴とする。
又、上記発明において、前記製造装置は、
前記貯水槽に設けられたｐＨセンサと、
前記ｐＨセンサからの出力信号によって、前記貯水槽の水のｐＨが４〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合割合を調整する調整部
とを有することを特徴とする。
尚、混合割合を調整する手法としては、導水路に設けられた流量計（弁）の開度を調整したり、電解装置に流す電解電流を調整する手法が考えられる。従って、調整部としては、導水路に設けられた弁の開度の調整機構とか、電解装置に流す電解電流の調整機構が挙げられる。
又、上記発明において、洗浄の代わりに消毒に用いられる水の製造装置であることを特徴とする。
又、上記発明において、洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水の製造装置であることを特徴とする。
又、本発明は、
洗浄に用いられる水であって、
前記洗浄水は、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水と、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水
とを含むことを特徴とする。
上記発明において、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３００分以内に行われたものである。特に、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３０分以内に行われることを特徴とする。更には、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後１０分以内に行われることを特徴とする。そして、最も好ましくは、前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成直後に行われることを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
前記アノード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
前記カソード電解水は、
前記電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水である
ことを特徴とする。
又、上記発明において、アノード電解水とカノード電解水とを含む水は、そのｐＨが４〜８であることを特徴とする。特に、アノード電解水とカノード電解水とを含む水は、そのｐＨが６〜８であることを特徴とする。そして、残留塩素濃度が５ｐｐｍ以上のものである。好ましくは１０ｐｐｍ以上である。更に好ましくは２０ｐｐｍ以上である。もっと好ましくは３０ｐｐｍ以上である。そして、好ましくは５００ｐｐｍ以下である。もっと好ましくは４００ｐｐｍ以下である。更に好ましくは３５０ｐｐｍ以下である。
又、上記発明において、洗浄の代わりに消毒に用いられる水であることを特徴とする。
又、上記発明において、洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水であることを特徴とする。
消毒（殺菌）能力が高い。又、創傷治癒能力が高い。
しかしながら、液のｐＨは７に近い。例えば、弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にある。従って、この水が人体の消毒・殺菌に用いられた場合、従来のアノード電解水に比べると、酸性度が低いから、人体に対する副作用が小さい。
消毒（殺菌）・創傷治癒の能力が高いにも拘わらず、従来のアノード電解水に比べると、酸性度が低く、例えば弱酸性領域、或いは中性領域、若しくは弱アルカリ領域にあるものとする為、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水と、
アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たカノード電解水
との混合水を用いる。
［実施例１］
図１に示された三室型（アノード室１、カソード室２、及び前記アノード室１と前記カソード室２との間に設けられた中間室３を具備）の電解槽を用いた。尚、この三室型電解槽自体は公知である。
この三室型電解槽を図６のように組み込んだ装置を開発した。尚、図６の装置と図３に示す装置とは、本実施例においては、カソード室出口２ｂに接続されたパイプ１５がパイプ１３に接続されている点が相違するのみである。
すなわち、実施例１では、カソード電解水の一部が貯水タンク１２に導かれるようにした点に特徴が有る。つまり、貯水タンク１２では、分岐点に設けた弁１６の開度によって、混合割合が異なるものの、アノード電解水とカソード電解水との混合水が得られるようになっている。尚、貯水タンク１２内に設けたｐＨセンサ１７の出力信号によって弁１６の開度が調整され、混合割合が調整される。又、アノード電解水とカソード電解水との混合は、電解水の生成後３分以内において行われていた。
そして、中間室３に飽和食塩水を供給した。又、アノード室１に０．５Ｌ／ｍｉｎの割合で純水を供給した。又、カソード室２に０．０２５Ｌ／ｍｉｎの割合で純水を供給した。そして、電解電流１１Ａの条件で電解を行った。尚、中間室３にはガラスビーズが充填されている。そして、イオン交換樹脂は充填されていない。
このようにして、ｐＨが４〜８の混合水を得た。
そして、この混合水の消毒・殺菌効果を調べたので、その結果を表−４に示す。すなわち、大腸菌を１０６個／ｍｌ含む水溶液１ｍｌと混合水１０ｍｌとを混合し、１分間攪拌した。この後、寒天培地に塗沫し、２５℃で２４時間かけて培養した。この時、大腸菌が認められなかった場合を「０」で表示した。大腸菌の数が１〜１０の場合を「１」で表示した。大腸菌の数が１１〜１００の場合を「２」で表示した。大腸菌の数が１０１〜１０００の場合を「３」で表示した。大腸菌の数が１００１以上の場合を「４」で表示した。
又、混合水のｐＨ、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度についても示す。尚、残留塩素濃度測定にはＫＩ比色法を用いた。従って、本測定には、塩素系のみでなく、他の酸化性物質も含まれることになる。但し、Ｏ２ −等の活性酸素は呈色反応しないので、前記活性種は残留塩素濃度には含まれない。
更に、アノード電解水のみの場合、カソード電解水のみの場合についても、消毒・殺菌効果、ｐＨ、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を示す。
表−４
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ４ １０３０ｍＶ ６０ｐｐｍ ０
５ ９７０ｍＶ ６０ｐｐｍ ０
６ ９１０ｍＶ ５０ｐｐｍ ０
７ ８５０ｍＶ ５０ｐｐｍ ０
８ ７９０ｍＶ ４０ｐｐｍ ０
アノード電解水 ２．５ １１７０ｍＶ ６５ｐｐｍ ０
カソード電解水 １２．４ −２３４ｍＶ ０ １
この表−４から、本発明になるアノード電解水とカソード電解水との混合水は、ｐＨ値が大きくなっても、消毒・殺菌効果に優れたものであることが判る。
そして、ｐＨが２．５のアノード電解水に比べたならば、本発明の混合水（アノード電解水＋カソード電解水）は、弱酸性ないしは弱アルカリ性のものである。従って、人体に対して悪影響が少ないことが理解される。すなわち、消毒・殺菌水としては好ましいことを理解できる。
尚、アノード電解水や本発明の混合水に比べたならば、カソード電解水は消毒・殺菌効果が乏しい。
［実施例２］
実施例１において、中間室３に飽和食塩水を供給する代わりに純水を供給した。しかしながら、純水を供給した場合には、電解電圧を１０００Ｖ以上にしなければならない。そこで、電解電圧を低くする為、中間室３にイオン交換樹脂（デュポン社のナフィオンＮＲ５０（フッ素系カチオン交換樹脂）を充填した。これによって、電解電圧は２０Ｖで済む。電解電流は１０Ａである。尚、イオン交換樹脂としては、アニオン交換樹脂、或いはカチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂との双方を用いることも出来る。
そして、ｐＨが６〜８の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ｐＨ、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−５に示す。
表−５
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ６ ７５０ｍＶ ２ｐｐｍ １
７ ６５０ｍＶ ２ｐｐｍ １
８ ５００ｍＶ ２ｐｐｍ ２
アノード電解水 ５．８ ８５０ｍＶ ３ｐｐｍ ２
カソード電解水 ８．９ −１１０ｍＶ ０ ２
本実施例においても、本発明になるアノード電解水とカソード電解水との混合水は、アノード電解水と同様に、消毒・殺菌効果が有る。そして、混合水のｐＨ値は高くなっている。
本実施例においては、中間室３に塩素イオンを持つ電解質物質の水溶液が供給されていない。従って、表−４との対比から判る通り、アノード電解水やカソード電解水中に含まれる塩素分の濃度が低い。この為、消毒・殺菌効果が実施例１に比べると弱い。
従って、中間室３に塩素イオンを持つ電解質物質が供給されて行われた電解水（アノード電解水＋カソード電解水）を用いる方が好ましい。
［実施例３］
実施例１において、アノード電極６の表面をテフロン製不織布で覆い、そして同様に行った。
そして、ｐＨが４〜８の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ｐＨ、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−６に示す。
表−６
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ４ １０４５ｍＶ ７５ｐｐｍ ０
５ ９８５ｍＶ ７０ｐｐｍ ０
６ ９２５ｍＶ ７０ｐｐｍ ０
７ ８６５ｍＶ ７０ｐｐｍ ０
８ ８０５ｍＶ ６５ｐｐｍ ０
アノード電解水 ２．８ １１６５ｍＶ ８０ｐｐｍ ０
カソード電解水 １２．４ −２３５ｍＶ ０ １
実施例１と対比すると、実施例３の混合水のＯＲＰは高い。従って、実施例１の混合水と比べると、実施例３の混合水は、それだけ消毒・殺菌効果が高いであろうと予想できる。
従って、アノード電極６の表面を不織布で覆った電解装置を用いて得た電解水の方が好ましい。
［実施例４］
実施例１（図６）において、図５に示された如くのバイパスライン１４を設けた。すなわち、三室型電解槽を図７のように組み込んだ装置を作製した。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが４〜８の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ｐＨ、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−７に示す。
表−７
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ４ １０４０ｍＶ ７５ｐｐｍ ０
５ ９８０ｍＶ ７５ｐｐｍ ０
６ ９２０ｍＶ ７０ｐｐｍ ０
７ ８８０ｍＶ ７０ｐｐｍ ０
８ ８２０ｍＶ ６５ｐｐｍ ０
アノード電解水 ２．９ １１６８ｍＶ ８０ｐｐｍ ０
カソード電解水 １２．４ −２３６ｍＶ ０ １
実施例１と対比すると、実施例４の混合水のＯＲＰは高い。従って、実施例１の混合水と比べると、実施例４の混合水は、それだけ消毒・殺菌効果が高いであろうと予想できる。
従って、バイパスライン１４を設けた電解装置を用いて得た電解水の方が好ましい。
［実施例５］
実施例１〜４にあっては、弁１６によって、アノード電解水とカソード電解水との混合割合が調整される。
しかしながら、実施例５にあっては、貯水タンク１２に導かれるカソード電解水が排水されるカソード室の容量をアノード室１の容量より小さくした。このようにしても、アノード電解水とカソード電解水との混合割合を調整できる。
すなわち、図１に示された三室型電解槽のカソード室を仕切板１８によって二つの室２Ａ，２Ｂに区切った。すなわち、図８に示す三室型電解槽を用意した。
尚、仕切板をＮ枚（Ｎは２以上の整数）設け、カソード室を（Ｎ＋１）個の室に分割し、そして１，……，（Ｎ−１）個の室からのカソード電解水を用いるようにしても良い。例えば、カソード室を５室に分割した場合、１室のみからのカソード電解水をアノード電解水に加えた場合、合計２室からのカソード電解水をアノード電解水に加えた場合、合計３室からのカソード電解水をアノード電解水に加えた場合とで、混合に用いるカソード電解水の量が相違する。従って、アノード電解水とカソード電解水との混合水のｐＨ等は相違する。尚、人体に悪影響を与え難い観点から、好ましいｐＨは４〜８である。更に好ましくは６〜８である。最も好ましくは７．４（血液のｐＨ値）である。しかしながら、幾つかの特徴の混合水を得る場合なら別であるが、最適条件の混合水は一つである。従って、最適条件の混合水が得られるようにカソード室を区切っておけば良いから、仕切板は一つでも十分である。従って、本実施例ではカソード室２を二室２Ａ，２Ｂに分割した場合で説明する。
上記図８に示される三室型電解槽を図９に示される給水・排水ラインに組み込んだ。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−８に示す。
表−８
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８６０ｍＶ ７５ｐｐｍ ０
［実施例６］
実施例１〜実施例５は、三室型電解槽（電解装置）を一つしか用いていない。
しかしながら、三室型電解槽（電解装置）を複数個用いることも出来る。例えば、三室型電解槽（電解装置）を二つ用いる。尚、三室型電解槽（電解装置）を三つ以上用いても良いが、三つ以上用いる格別大きなメリットは無い。従って、本実施例では二つ用いた場合で説明する。
すなわち、実施例１で用いた三室型電解槽（電解装置）を二つ用意し、給水・排水ラインが図１０に示されるタイプの装置を作製した。すなわち、第１の三室型電解槽からのアノード電解水およびカソード電解水は全て貯水タンク１２に送られるようにパイプは接続されている。これに対して、第２の三室型電解槽からはアノード電解水のみが貯水タンクに送られるようにパイプは接続されている。そして、飽和食塩水は、第２の三室型電解槽の中間室を経て第１の三室型電解槽の中間室に送られるようにパイプ９が接続されている。
更に、ｐＨセンサ１７からの出力によって、第１の三室型電解槽や第２の三室型電解槽における電解電圧（電解電流）を調整できるようになっている。
すなわち、アノード電解水は二つの三室型電解装置から得、カソード電解水は一つの三室型電解装置から得るようにしたものである。そして、第２の三室型電解装置における電解電圧（電解電流）を調整することによって、第２の三室型電解装置から得るアノード電解水の量が調整される。
因みに、第１の電解槽及び第２の電解槽のアノード室１には０．５Ｌ／ｍｉｎの流量で純水を供給した。又、第１の電解槽及び第２の電解槽のカソード室２には０．２５Ｌ／ｍｉｎの流量で純水を供給した。そして、第１の電解装置の電解電流は１１Ａとした。第２の電解装置の電解電流は貯水タンクのｐＨが７．４になるように制御した。因みに、第２の電解装置の電解電流は１０．５Ａであった。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−９に示す。
表−９
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８４９ｍＶ ５５ｐｐｍ ０
［実施例７］
実施例７と実施例６とは、パイプの接続形態が異なるのみである。すなわち、実施例６において、第２の三室型電解装置のアノード室からのアノード電解水を第１の三室型電解装置のカソード室に供給するようにしたものである（図１１参照）。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−１０に示す。
表−１０
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８５０ｍＶ ６０ｐｐｍ ０
［実施例８］
実施例３（アノード電極６の表面をテフロン製不織布で覆った）の三室型電解装置を二つ用いた。そして、給水・排水ラインを図１２のように構成した。尚、実施例８の給水・排水ラインは、図１０の給水・排水ラインにアノード室バイパスライン１４を設けたものである。又、図１２中、１８は、カソード室出口２ｂと貯水タンク１２とを繋ぐパイプ１５の途中に設けられた水素ガスの脱気装置である。そして、この脱気装置によって安全性が向上する。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。尚、アノード室１とバイパスライン１４とを流れる純水の流量比は、前者：後者＝１：１０である。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−１１に示す。
表−１１
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８７５ｍＶ １１０ｐｐｍ ０
［実施例９］
実施例３（アノード電極６の表面をテフロン製不織布で覆った）の三室型電解装置を二つ用いた。そして、給水・排水ラインを図１３のように構成した。尚、実施例９の給水・排水ラインは、図１１の給水・排水ラインにアノード室バイパスライン１４を設けたものである。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。尚、アノード室１とバイパスライン１４とを流れる純水の流量比は、前者：後者＝１：１０である。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−１２に示す。
表−１２
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８７０ｍＶ １００ｐｐｍ ０
［実施例１０］
実施例５の三室型電解装置を用いた。そして、給水・排水ラインを図１４のように構成した。尚、実施例１０の給水・排水ラインは、図９の給水・排水ラインにアノード室バイパスライン１４を設けたものである。
そして、実施例１と同様に行い、ｐＨが７．４の混合水を得た。尚、アノード室１とバイパスライン１４とを流れる純水の流量比は、前者：後者＝１：１０である。
この混合水の消毒・殺菌効果、ＯＲＰ、及び残留塩素濃度を、実施例１と同様にして調べたので、その結果を表−１３に示す。
表−１３
ｐＨ ＯＲＰ 塩素濃度 消毒・殺菌効果
混合水 ７．４ ８６５ｍＶ ８５ｐｐｍ ０
［実施例１１］
上記実施例１〜実施例１０で得たアノード電解水とカソード電解水との混合水について、消毒・殺菌効果がどの位保たれるかを調べた。
上記においては、消毒・殺菌効果は、大腸菌を用いて調べたものである。
しかしながら、実施例１１では、枯草菌の芽胞を用いて調べた。具体的には、枯草菌の芽胞を１．０×１０6個／ｍｌ含む溶液１ｍｌと電解水１０ｍｌとを混合した。この溶液を寒天培地に塗沫し、２５℃で２４時間かけて培養した。そして、枯草菌の数を調べたので、その結果を表−１４に示す。表−１４中、「０」は枯草菌が認められなかった場合を示す。「１」は枯草菌の数が１〜１０の場合を示す。「２」は枯草菌の数が１１〜１００の場合を示す。「３」は枯草菌の数が１０１〜１０００の場合を示す。「４」は枯草菌の数が１００１〜１００００の場合を示す。「５」は枯草菌の数が１０００１以上の場合を示す。
又、比較の為、図１５に示した二室型電解装置で得たアノード電解水とカソード電解水との混合水、アノード電解水、及びカソード電解水についても同様にして調べた。その結果（菌数）を表−１５に示す。
又、比較の為、三室型電解装置で得たアノード電解水に苛性ソーダを加えてｐＨを７．４に調整した水溶液についても同様にして調べた。その結果（菌数）を表−１６に示す。
表−１４
１分経過後 ５分経過後 １０分経過後
アノード電解水（ｐＨ２．５） ４ ３ ２
カソード電解水（ｐＨ１２．４） ５ ４ ４
混合水（実施例１、ｐＨ５） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ６） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ７） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ８） ４ ３ ２
混合水（実施例３、ｐＨ５） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ６） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ７） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ８） ３ ２ ２
混合水（実施例４、ｐＨ５） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ６） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ７） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ８） ３ ２ ２
混合水（実施例５、ｐＨ７．４） ３ ２ ２
混合水（実施例６、ｐＨ７．４） ３ ２ １
混合水（実施例７、ｐＨ７．４） ３ ２ １
混合水（実施例８、ｐＨ７．４） １ ０ ０
混合水（実施例９、ｐＨ７．４） １ ０ ０
混合水（実施例１０、ｐＨ７．４） １ ０ ０

表−１５
１分経過後 ５分経過後 １０分経過後
アノード電解水（ｐＨ２．６） ５ ４ ３
カソード電解水（ｐＨ１２．３） ５ ５ ５
混合水（ｐＨ７．４） ５ ４ ３

表−１６
１分経過後 ５分経過後 １０分経過後
アノード電解水（ｐＨ７．４） ４ ４ ３
これらの表−１４〜表−１６から次のことが判る。
（１） アノード電解水とカソード電解水との混合水であっても、電解水が二室型電解装置によるものである場合には、消毒・殺菌効果が低い。
（２） 三室型電解装置を用いたアノード電解水を苛性ソーダでｐＨ調整した溶液は、消毒・殺菌効果が低い。ｐＨ調整していないアノード電解水よりも劣っている。
（３） 三室型電解装置を用いたアノード電解水とカソード電解水との混合水は、消毒・殺菌効果が高い。そして、混合水のｐＨはアノード電解水のみのｐＨよりも高い。すなわち、混合水は酸性度が低い。従って、混合水は人体に対する悪影響が低い。
（４） 実施例１と実施例３〜１０とを対比すると、実施例３〜１０で用いられた装置による電解水の方が、消毒・殺菌効果に優れている。
実施例３，８，９は、三室型電解装置のアノード極の表面が不織布で覆われた（技術Ａ）ものである。
実施例４，１０は、三室型電解装置のアノード室にバイパスラインが設けられた（技術Ｂ）ものである。
実施例５，１０は、三室型電解装置のカソード室に仕切板が設けられた（技術Ｃ）ものである。
実施例６，７，８，９は、三室型電解装置を複数個用いた（技術Ｄ）ものである。
中でも、実施例８〜１０のものは消毒・殺菌効果に一段と優れている。
従って、同じ三室型電解装置であっても、技術Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの中の一つだけで無く、二つ以上を採用した装置による電解水の方が好ましい。
又、アノード電解水とカソード電解水との混合水製造後１２カ月経過後に、上記のテストを繰り返したので、その結果（菌数）を表−１７に示す。
表−１７
１分経過後 ５分経過後 １０分経過後
混合水（実施例１、ｐＨ５） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ６） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ７） ４ ３ ２
混合水（実施例１、ｐＨ８） ４ ３ ２
混合水（実施例３、ｐＨ５） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ６） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ７） ３ ２ １
混合水（実施例３、ｐＨ８） ３ ２ ２
混合水（実施例４、ｐＨ５） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ６） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ７） ３ ２ １
混合水（実施例４、ｐＨ８） ３ ２ ２
混合水（実施例５、ｐＨ７．４） ３ ２ ２
混合水（実施例６、ｐＨ７．４） ３ ２ １
混合水（実施例７、ｐＨ７．４） ３ ２ １
混合水（実施例８、ｐＨ７．４） １ ０ ０
混合水（実施例９、ｐＨ７．４） １ ０ ０
混合水（実施例１０、ｐＨ７．４） １ １ ０

これによれば、本発明の混合水は、製造後、長期間保存されていても消毒・殺菌効果が弱くならないことが判る。従って、予め、大量に造り置きすることが出来る。このことは、コストの低廉化をもたらす。
［実施例１２］
本発明の混合水による創傷治療効果を調べた。その結果を表−１８に示す。
尚、本実施例では実施例９で得た混合水を用いた。又、比較の為、実施例１で得たｐＨ２．５のアノード電解水を用いた。又、比較の為、生理食塩水を用いた。又、比較の為、次亜塩素酸を５０ｐｐｍ溶解したｐＨ７．４の生理食塩水を用いた。
テストは、ラットの背中の毛を剃った後、皮膚１ｃｍ2 を切除して創傷部位を形成した。そして、最初の７日間だけ、上記の水溶液を１日２回、創傷面からあふれないように滴下した。そして、以後、創傷部位を放置して、創傷部位の面積をプラニ法で求めた。
表−１８
０日 ７日経過後 １４日経過後 ２４日経過後
混合水 １．１０ ０．２５ ０．０１ ０
アノード電解水 １．０４ ０．３８ ０．０３ ０
生理食塩水 １．０１ ０．７０ ０．１１ ０．０５
次亜塩素酸水溶液 ０．９８ ０．５５ ０．１０ ０．０４

これによれば、本発明の混合水は創傷治癒にも優れていることが判る。
アノード電解水にも創傷治癒効果が認められる。しかしながら、本発明の混合水の方が早く直ることが判る。
しかも、本発明の混合水は、アノード電解水よりも酸性度が弱いから、人体に対する悪影響が少ない。
消毒・殺菌と言った洗浄や創傷治癒において特に有用である。
本発明で用いる三室型電解装置の電解槽の要部概略図 電極板の平面図 三室型電解装置の概略図 残留塩素濃度と流量との関係を示すグラフ バイパスラインを組み込んだ三室型電解装置の概略図 本発明の第１実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第４実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明で用いる三室型電解装置の電解槽の要部概略図 本発明の第５実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第６実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第７実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第８実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第９実施例になる水の製造装置の要部概略図 本発明の第１０実施例になる水の製造装置の要部概略図 二室型電解装置の電解槽の要部概略図 二室型電解装置の電解槽で生じる反応を説明する説明図
符号の説明
１ アノード室
２ カソード室
３ 中間室
４，５ 隔膜
６ アノード電極
７ カソード電極
８ パイプ
１２ タンク（貯水槽）
１３ パイプ（第２の導水路）
１４ バイパスライン
１５ パイプ（第１の導水路）
１６ 弁（調整部）
１７ ｐＨセンサ
代 理 人 宇 高 克 己

Claims (47)

  1. 洗浄に用いられる水の製造方法であって、
    アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりアノード電解水を得るアノード電解水生成工程と、
    アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理によりカソード電解水を得るカソード電解水生成工程と、
    前記アノード電解水生成工程で生成されたアノード電解水と前記カソード電解水生成工程で生成されたカソード電解水とを混合する混合工程
    とを具備することを特徴とする水の製造方法。
  2. 前記カソード電解水生成工程で用いた前記電解装置が、カソード室に区切板が設けられて、前記カソード室がＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有するものであり、
    前記混合工程におけるカソード電解水は、
    前記電解装置のカソード室における（Ｎ−１）以下の数の室からのカソード電解水である
    ことを特徴とする請求項１の水の製造方法。
  3. 前記アノード電解水生成工程で用いた前記電解装置が、アノード室に並行してバイパスラインが設けられた構造を有するものであり、
    前記混合工程におけるアノード電解水は、
    前記アノード室からのアノード電解水に、前記アノード室を経由せず、前記バイパスラインを経由して来た未電解の水が加えられたものである
    ことを特徴とする請求項１又は請求項２の水の製造方法。
  4. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
    前記混合工程におけるアノード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
    ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの水の製造方法。
  5. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであり、更に前記アノード電極のアノード室側表面には多孔性の非導電性材が設けられたものであり、
    前記混合工程におけるアノード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
    ことを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの水の製造方法。
  6. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間に設けられた隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜とを用いて構成されたものであることを特徴とする請求項４又は請求項５の水の製造方法。
  7. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間に設けられた隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜との積層膜で構成されたものであることを特徴とする請求項４又は請求項５の水の製造方法。
  8. 前記多孔性の非導電性材がフッ素樹脂製の不織布であることを特徴とする請求項５の水の製造方法。
  9. 前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
    前記混合工程におけるカソード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水である
    ことを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの水の製造方法。
  10. 前記電解装置の前記中間室にはイオン交換樹脂が設けられたものであって、
    前記混合工程におけるアノード電解水および／またはカソード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水および／またはカソード電解水である
    ことを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの水の製造方法。
  11. 前記電解装置の前記中間室には電解質物質ＭＸ（Ｘはハロゲン）が添加されており、
    前記混合工程におけるアノード電解水および／またはカソード電解水は、
    前記ＭＸが存する中間室を持つ前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水および／またはカソード電解水である
    ことを特徴とする請求項１〜請求項１０いずれかの水の製造方法。
  12. 前記混合工程で用いられる前記アノード電解水と前記カソード電解水とは同じ電解装置からのものであることを特徴とする請求項１〜請求項１１いずれかの水の製造方法。
  13. 前記混合工程で用いられる前記アノード電解水と前記カソード電解水とは異なる電解装置からのものであることを特徴とする請求項１〜請求項１１いずれかの水の製造方法。
  14. 前記混合工程は、混合水のｐＨが４〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水とを混合する工程であることを特徴とする請求項１〜請求項１３いずれかの水の製造方法。
  15. 前記混合工程は、混合水のｐＨが６〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水とを混合する工程であることを特徴とする請求項１〜請求項１３いずれかの水の製造方法。
  16. 前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３００分以内に行われることを特徴とする請求項１〜請求項１５いずれかの水の製造方法。
  17. 前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合は、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３０分以内に行われることを特徴とする請求項１〜請求項１５いずれかの水の製造方法。
  18. 洗浄の代わりに消毒に用いられる水の製造方法であることを特徴とする請求項１〜請求項１７いずれかの水の製造方法。
  19. 洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水の製造方法であることを特徴とする請求項１〜請求項１７いずれかの水の製造方法。
  20. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置と、
    貯水槽と、
    前記貯水槽と前記カソード室とを繋ぐ第１の導水路と、
    前記貯水槽と前記アノード室とを繋ぐ第２の導水路と、
    前記第１の導水路および前記第２の導水路を介して前記貯水槽に導かれたカソード電解水とアノード電解水との混合水のｐＨが４〜８であるようにカソード電解水及び／又はアノード電解水の導入量を制御する制御部
    とを具備することを特徴とする水の製造装置。
  21. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    前記製造装置は、
    電解装置と、
    貯水槽とを具備し、
    前記電解装置は、
    アノード室と、
    カソード室と、
    前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
    前記カソード室には区切板が設けられていて、前記カソード室はＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有し、
    前記製造装置は、
    前記カソード室における（Ｎ−１）以下の数の室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
    前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路
    とを有する
    ことを特徴とする水の製造装置。
  22. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    前記製造装置は、
    電解装置と、
    貯水槽とを具備し、
    前記電解装置は、
    アノード室と、
    カソード室と、
    前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
    前記製造装置は、
    前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
    前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
    前記アノード室に並行して設けられ、かつ、前記第２の導水路に接続されたバイパスライン
    とを有する
    ことを特徴とする水の製造装置。
  23. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    前記製造装置は、
    電解装置と、
    貯水槽とを具備し、
    前記電解装置は、
    アノード室と、
    カソード室と、
    前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
    前記カソード室には区切板が設けられていて、前記カソード室はＮ（Ｎは２以上の整数）個の室に区切られた構造を有し、
    前記製造装置は、
    前記カソード室における（Ｎ−１）以下の数の室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
    前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
    前記アノード室に並行して設けられ、かつ、前記第２の導水路に接続されたバイパスライン
    とを有する
    ことを特徴とする水の製造装置。
  24. 前記電解装置が一個であることを特徴とする請求項２０〜請求項２３いずれかの水の製造装置。
  25. Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置を持っており、
    前記Ｍ個の電解装置のアノード室の各々と前記貯水槽とは前記第２の導水路によって繋がれており、
    前記Ｍ個の電解装置の中の一部の電解装置の前記カソード室と前記貯水槽とが前記第１の導水路によって繋がれ、この一部のカソード室からのカソード電解水のみが前記貯水槽に導かれるよう構成されてなる
    ことを特徴とする請求項２０〜請求項２３いずれかの水の製造装置。
  26. Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置を持っており、
    Ａ１番目の電解装置における前記カソード室と前記貯水槽とは前記第１の導水路によって繋がれ、かつ、Ａ１番目の電解装置における前記アノード室と前記貯水槽とは前記第２の導水路によって繋がれており、
    Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室と前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室とが第３の導水路によって繋がれていて、前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室からのアノード電解水が前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室に導かれるよう構成されてなる
    ことを特徴とする請求項２０〜請求項２３いずれかの水の製造装置。
  27. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    前記製造装置は、
    Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置と、
    貯水槽とを具備し、
    前記電解装置は、
    アノード室と、
    カソード室と、
    前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
    前記製造装置は、
    前記Ｍ個の電解装置のアノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
    前記Ｍ個の電解装置の中の一部の電解装置の前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路とを具備し、
    前記アノード室からのアノード電解水と前記一部のカソード室からのカソード電解水とが前記貯水槽に導かれるよう構成されてなる
    ことを特徴とする水の製造装置。
  28. 洗浄に用いられる水の製造装置であって、
    前記製造装置は、
    Ａ１，……，ＡＭ（Ｍは２以上の整数）個の電解装置と、
    貯水槽とを具備し、
    前記電解装置は、
    アノード室と、
    カソード室と、
    前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室とを具備するものであり、
    前記製造装置は、
    前記Ａ１番目の電解装置における前記カソード室と前記貯水槽とを繋ぐ第１の導水路と、
    前記Ａ１番目の電解装置における前記アノード室と前記貯水槽とを繋ぐ第２の導水路と、
    前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室と前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室とを繋ぐ第３の導水路とを具備し、
    前記Ａｋ＋１（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記アノード室からのアノード電解水が前記Ａｋ（ｋは１，……，Ｍ−１）番目の電解装置における前記カソード室に導かれるよう構成されてなる
    ことを特徴とする水の製造装置。
  29. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものである
    ことを特徴とする請求項２０〜請求項２８いずれかの水の製造装置。
  30. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであり、更に前記アノード電極のアノード室側表面には多孔性の非導電性材が設けられたものである
    ことを特徴とする請求項２０〜請求項２９いずれかの水の製造装置。
  31. 前記隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜とを用いて構成されたものであることを特徴とする請求項２９又は請求項３０の水の製造装置。
  32. 前記隔膜は、アニオン交換膜とフッ素系カチオン交換膜との積層膜で構成されたものであることを特徴とする請求項２９又は請求項３０の水の製造装置。
  33. 前記多孔性の非導電性材がフッ素樹脂製の不織布であることを特徴とする請求項３０の水の製造装置。
  34. 前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものである
    ことを特徴とする請求項２０〜請求項３３いずれかの水の製造装置。
  35. 前記電解装置の前記中間室にはイオン交換樹脂が設けられたものであることを特徴とする請求項２０〜請求項３４いずれかの水の製造装置。
  36. 前記製造装置は、
    前記貯水槽に設けられたｐＨセンサと、
    前記ｐＨセンサからの出力信号によって、前記貯水槽の水のｐＨが４〜８であるように前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合割合を調整する調整部
    とを有することを特徴とする請求項２０〜請求項３５いずれかの水の製造装置。
  37. 洗浄の代わりに消毒に用いられる水の製造装置であることを特徴とする請求項２０〜請求項３６いずれかの水の製造装置。
  38. 洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水の製造装置であることを特徴とする請求項２０〜請求項３６いずれかの水の製造装置。
  39. 洗浄に用いられる水であって、
    前記洗浄水は、
    アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水と、
    アノード室、カソード室、及び前記アノード室と前記カソード室との間に設けられた中間室を具備する電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水
    とを含むことを特徴とする水。
  40. 前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３００分以内に行われたものであることを特徴とする請求項３９の水。
  41. 前記アノード電解水と前記カソード電解水との混合が、前記アノード電解水および前記カソード電解水の生成後３０分以内に行われたものであることを特徴とする請求項３９の水。
  42. 前記電解装置の前記アノード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記アノード室側に多孔性のアノード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記アノード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
    前記アノード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たアノード電解水である
    ことを特徴とする請求項３９〜請求項４１いずれかの水。
  43. 前記電解装置の前記カソード室と前記中間室との間には、前記中間室側に隔膜が設けられ、又、前記カソード室側に多孔性のカソード電極が設けられ、そして前記隔膜と前記カソード電極とが密着して設けられたものであって、前記隔膜はイオン交換膜を用いて構成されたものであり、
    前記カソード電解水は、
    前記電解装置を用いた電解処理により得たカソード電解水である
    ことを特徴とする請求項３９〜請求項４２いずれかの水。
  44. アノード電解水とカノード電解水とを含む水は、そのｐＨが４〜８であることを特徴とする請求項３９〜請求項４３いずれかの水。
  45. アノード電解水とカノード電解水とを含む水は、そのｐＨが６〜８であり、残留塩素濃度が５ｐｐｍ以上のものであることを特徴とする請求項３９〜請求項４４いずれかの水。
  46. 洗浄の代わりに消毒に用いられる水であることを特徴とする請求項３９〜請求項４５いずれかの水。
  47. 洗浄の代わりに創傷治癒用として用いられる水であることを特徴とする請求項３９〜請求項４５いずれかの水。
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