JP2005050950A - Hollow package and semiconductor device - Google Patents
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Abstract
【課題】放熱性の向上を図ると共に薄型化が可能である中空パッケージ及び半導体装置を提供する。
【解決手段】樹脂皮膜2が形成された放熱板3と、リードフレーム4とを備え、放熱板の樹脂皮膜が形成された面を除く全面が露出する様に放熱板及びリードフレームが樹脂封止された中空パッケージ1と、放熱板の樹脂皮膜が形成された面に接着剤6により接着されると共にリードフレームとAu細線8によって接続された半導体チップ7と、半導体チップの上方に配置され、中空パッケージの開口部を閉塞するリッド9とを備える半導体装置。
【選択図】 図2A hollow package and a semiconductor device are provided which can improve heat dissipation and can be thinned.
A heat dissipation plate 3 having a resin film 2 and a lead frame 4 are provided, and the heat dissipation plate and the lead frame are sealed with resin so that the entire surface except the surface on which the resin film is formed is exposed. The hollow package 1, the semiconductor chip 7 bonded to the surface on which the resin film of the heat sink is formed by the adhesive 6 and connected by the lead frame and the Au thin wire 8, and disposed above the semiconductor chip, the hollow A semiconductor device comprising a lid 9 for closing an opening of a package.
[Selection] Figure 2
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は中空パッケージ及び半導体装置に関する。詳しくは、放熱性に優れた中空パッケージ及び半導体装置に係るものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体装置用、特に固体撮像装置用パッケージとしてセラミックからなるウインドフレームとベースフレームとの間に低融点ガラスを介してリードフレームを挟み込んだサーディップパッケージが広く使われていた。
しかし、近年、パッケージの低コスト化、高精度化及び軽量化の要求から中空プラスチックパッケージが用いられる様になってきている。
【0003】
ここで、中空プラスチックパッケージは、図3に示す様に、成型後に半導体素子搭載のための中空部分101を確保するように加工されたモールド成型金型の間に、予め所定のパターンがエッチングまたはプレス等の手法により形成された42アロイ等の金属からなるリードフレーム102を挟み、熱硬化型エポキシ樹脂等からなるモールド樹脂103を金型中へ射出することにより成型され、その後、インナーリード104に金めっき等が施され、更にアウターリード105が所定の形状に曲げられる。
【0004】
その後、半導体素子106は中空プラスチックパッケージの中空部分の底部のモールド樹脂に直接銀ペースト等によりダイボンドされ、半導体素子上のアルミニウム電極107とインナーリードとの間に金細線108をワイヤーボンディングすることにより相互の電気的導通を確保したうえで、中空プラスチックパッケージの開口部をふさぐ様にして、ガラス等の平板透光性材料からなるリッド109を熱硬化型エポキシ樹脂等からなる接着剤を介して取り付けることにより固体撮像装置を得ることができる。
【0005】
ところで、従来広く使われていたサーディップパッケージの場合、パッケージの材質であるセラミックの熱伝導率が約16W/(m・K)と高く、半導体素子の動作時の発熱のほとんどはパッケージの裏面のベースフレームを通じて大気中に放熱できるので、半導体素子として、例えば固体撮像素子を搭載した場合、暗時の撮像で現れる白色欠陥(以下、暗時白点と言う)のレベルは問題にならない程度であった。
【0006】
しかし、サーディップパッケージの代わりに中空プラスチックパッケージが固体撮像装置用パッケージとして使われるに至り、暗時白点レベルが無視できない様になってきている。即ち、中空プラスチックパッケージの場合、パッケージの材質であるモールド樹脂の熱伝導率が約0.8W/(m・K)とセラミックのそれの約1/20程度であるため、半導体素子の動作時の発熱を充分に大気中に放熱することができず、そのため、固体撮像素子自体の温度が上昇し、暗時白点レベルが悪化する様になった。
【0007】
上記した様な不具合を解消すべく、半導体素子の動作時に発生する熱を放熱する効果を有する半導体装置として、放熱効果を有する耐湿板を中空プラスチックパッケージの半導体素子搭載面底部の樹脂内に埋め込んだ半導体装置(例えば、特許文献1参照。)、リードフレームの一部であるアイランド部を放熱効果を有する金属板で構成した半導体装置(例えば、特許文献2参照。)及びアイランド上に放熱機構部品を固定し、この放熱機構部品上に銀ペースト等により半導体素子をダイボンドした構造を有する半導体装置が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。
【0008】
【特許文献1】
特許第3080236号明細書 (第1−3頁、第1図)
【0009】
【特許文献2】
特許第2539111号明細書 (第1−4頁、第2図)
【0010】
【特許文献3】
特許第3054576号明細書 (第1−4頁、第1図)
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した様な、放熱効果を有する耐湿板が樹脂内に完全に埋め込まれた構造では、半導体素子の動作時の発熱が耐湿板から樹脂を介して外部に放出されることとなるために、充分な放熱性が得られない。
【0012】
また、上記した様な、アイランド部を有するリードフレームでは、アイランド部そのものの板厚がパッケージ厚さに比して薄くなり、代わって熱伝導性の低い樹脂が厚くなるために、充分な放熱性が得られない。更に、リードフレームと導通しているアイランド部の金属面が外部に露出した構造では、めっきの必要の無い面までめっきがされてしまい、めっきコストが増大するという不具合がある。
【0013】
また、上記した様な、半導体素子と放熱機構部品とを直に接続して熱の移動経路を確保する方法では、半導体装置の組立後、半導体素子裏面とリードフレームやパッケージ裏面に露出したアイランド部とが電気的に接続され、半導体素子の動作に悪影響を及ぼすことが懸念される。
【0014】
また、最近のAV機器は年々小型化のニーズが強まり、AV機器に搭載される半導体装置も高密度実装、軽量化の観点から軽薄短小の半導体装置が求められているのが実情である。
【0015】
本発明は以上の点に鑑みて創案されたものであって、放熱性の向上を図ると共に、薄型化が可能である中空パッケージ及び半導体装置を提供することを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に係る中空パッケージは、絶縁層が半導体チップを搭載する面に形成された放熱板と、半導体チップとボンディングワイヤーによって接続されるリードフレームとを備え、前記放熱板の前記半導体チップを搭載する面を除く全面が露出する様に前記放熱板及び前記リードフレームが樹脂封止された。
【0017】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る半導体装置は、絶縁層が形成された放熱板と、リードフレームとを備え、前記放熱板の絶縁層が形成された面を除く全面が露出する様に前記放熱板及び前記リードフレームが樹脂封止された中空パッケージと、前記絶縁層が形成された面に搭載されると共に、前記リードフレームとボンディングワイヤーによって接続された半導体チップと、該半導体チップの上方に配置され、前記中空パッケージの開口部を閉塞するリッドを備える。
【0018】
ここで、絶縁層が半導体チップを搭載する面に形成された放熱板によって、モールド樹脂によって放熱板と半導体チップの絶縁性を担保する必要が無くなり、半導体装置の薄型化を図ることができる。
即ち、半導体チップを搭載する面に絶縁層を有しない場合には、図4で示す様に、放熱板110と半導体チップとの絶縁性を担保すべく放熱板と半導体チップの間にモールド樹脂を介在させる必要があったが、半導体チップを搭載する面に絶縁層を有する場合には、モールド樹脂によって放熱板と半導体チップの絶縁性を担保する必要が無くなることにより、半導体装置の薄型化を図ることができる。なお、トランスファーモールド法により中空パッケージを成型することを考慮すると、モールド樹脂が流動するためには0.3mm程度の幅が必要であり、図4中符号Aで示す放熱板と半導体チップの間に介在させるモールド樹脂の厚みも0.3mm程度は必要であった。
【0019】
また、放熱板の半導体チップを搭載する面を除く全面が露出する様に放熱板及びリードフレームが樹脂封止されたことによって、半導体チップの動作時の発熱を中空パッケージから露出した放熱板を介して外部へと放出することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。
図1は本発明を適用した中空パッケージの一例を説明するための模式的な断面図であり、ここで示す中空パッケージ1は、その表面に1010Ωの抵抗値を有する膜厚が2μm程度の樹脂皮膜2が形成された1W/(m・K)以上の熱伝導率を持つ放熱板3と、中空パッケージに搭載される半導体チップとボンディングワイヤーによって電気的に接続されるリードフレーム4が、放熱板の樹脂皮膜が形成された面、即ち、半導体チップを搭載する面を除く全面が露出する様にモールド樹脂5によって封止がなされている。また、リードフレームは樹脂皮膜が形成された面とインナーリード部が接する様に配置されている。
【0021】
ここで、放熱板に形成する絶縁層は、信号のリーク電流値を一定レベル以下に抑えることができれば充分であり、必ずしも樹脂皮膜である必要は無く、酸化物、硫化物、窒化物等であっても構わない。
なお、放熱板が絶縁性材料で形成された場合には、放熱板に絶縁層を形成する必要が無いのは勿論である。
【0022】
また、放熱板は、金属、無機化合物、酸化物、樹脂またはこれらの複合物からなる1W/(m・K)以上の熱伝導率を有する素材によって形成したものである。放熱板の素材としては、例えば、Cu、Al、Fe、WC、AlN、Al2O3等から選択して使用することができるが、充分な放熱性を得るために熱伝導率は1W/(m・K)以上が必要であり、好ましくは10W/(m・K)以上である。ここで、熱伝導率が1W/(m・K)未満の場合には、暗時白点が問題となることがある。
なお、放熱板の形状は、半導体チップの大きさと同程度以上であることが望ましいが、半導体チップの1/2程度の面積の放熱板であれば放熱性を確保できるものと考えられる。
【0023】
また、中空パッケージを成型する封止樹脂は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、またはポリスルホン樹脂等の耐熱性可塑正樹脂によって成形された方が好ましい。
【0024】
更にリードフレームは、42アロイや銅合金等で形成するのが望ましく、リードフレームには必要に応じてNiめっき、Agめっき、Auめっき、半田めっき等を必要な部位に施すことができる。
【0025】
ここで、リードフレームは半導体チップと外部基板とを電気的に接続することができれば充分であって、必ずしも樹脂皮膜が形成された放熱板とインナーリード部が接する様に配置される必要は無いが、インナーリード部を放熱板で支持することによって放熱板に搭載される半導体チップとインナーリード部のワイヤーボンディング精度の向上が期待できるために、リードフレームは樹脂皮膜が形成された放熱板とインナーリード部が接する様に配置された方が好ましい。
【0026】
上記した本発明を適用した中空パッケージでは、放熱板の半導体チップを搭載する側の面に樹脂皮膜が形成されているために、半導体チップと放熱板の間の絶縁性を担保する必要が無く、半導体チップと放熱板の間にモールド樹脂を介在させる必要が無いために、半導体装置の薄型化が可能となる。
また、半導体チップを搭載する面を除く全面が露出しており、高い放熱性を実現することが可能である。
【0027】
また、リードフレームが樹脂皮膜が形成された面とインナーリード部が接する様に配置されたことによって、インナーリード部と放熱板との間にモールド樹脂が介在することなく、半導体装置の薄型化が可能となる。
更に、インナーリード部が放熱板によって支持されているために、放熱板に搭載される半導体チップとインナーリード部のワイヤーボンディング精度の向上が期待できる。
【0028】
なお、上記した本発明を適用した中空パッケージにおける放熱板の樹脂皮膜が形成された面に熱伝導性材料からなる接着剤6で半導体チップ7を接着し、半導体チップとインナーリード部をAu細線8でワイヤーボンディングを行った後に、中空パッケージの開口部をガラス等の平板透光性材料からなるリッド9で閉塞することによって、図2で示す様な本発明を適用した半導体装置を得ることができる。
【0029】
【発明の効果】
以上述べてきた如く、本発明の中空パッケージ及び半導体装置では、放熱性の向上を図ると共に、薄型化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した中空パッケージの一例を説明するための模式的な断面図である。
【図2】本発明を適用した半導体装置の一例を説明するための模式的な断面図である。
【図3】従来の中空プラスチックパッケージを説明するための模式的な斜視図である。
【図4】従来の半導体装置を説明するための模式的な断面図である。
【符号の説明】
1 中空パッケージ
2 樹脂皮膜
3 放熱板
4 リードフレーム
5 モールド樹脂
6 接着剤
7 半導体チップ
8 Au細線
9 リッド[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a hollow package and a semiconductor device. Specifically, the present invention relates to a hollow package and a semiconductor device excellent in heat dissipation.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a sardip package in which a lead frame is sandwiched between a window frame made of ceramic and a base frame via a low-melting glass has been widely used as a package for a semiconductor device, particularly a solid-state imaging device.
However, in recent years, hollow plastic packages have come to be used due to demands for cost reduction, high accuracy, and light weight of the package.
[0003]
Here, as shown in FIG. 3, in the hollow plastic package, a predetermined pattern is etched or pressed in advance between mold dies processed so as to secure a
[0004]
Thereafter, the
[0005]
By the way, in the case of a sardip package that has been widely used in the past, the thermal conductivity of the ceramic, which is the material of the package, is as high as about 16 W / (m · K), and most of the heat generated during operation of the semiconductor element is on the back side of the package. Since heat can be radiated into the atmosphere through the base frame, for example, when a solid-state image sensor is mounted as a semiconductor element, the level of white defects (hereinafter referred to as dark white points) that appear in dark imaging is not a problem. It was.
[0006]
However, instead of the sardip package, a hollow plastic package has been used as a package for a solid-state imaging device, and the white point level in the dark cannot be ignored. That is, in the case of a hollow plastic package, the thermal conductivity of the mold resin that is the material of the package is about 0.8 W / (m · K), which is about 1/20 that of ceramics. The generated heat could not be sufficiently dissipated into the atmosphere, and as a result, the temperature of the solid-state imaging device itself rose, and the white point level in the dark became worse.
[0007]
In order to solve the problems as described above, as a semiconductor device having an effect of radiating heat generated during operation of the semiconductor element, a moisture-resistant plate having a heat radiation effect is embedded in the resin at the bottom of the semiconductor element mounting surface of the hollow plastic package. A semiconductor device (for example, refer to Patent Document 1), a semiconductor device (for example, refer to Patent Document 2) in which an island part which is a part of a lead frame is formed of a metal plate having a heat dissipation effect, and a heat dissipation mechanism component on the island. There has been proposed a semiconductor device having a structure in which a semiconductor element is die-bonded with silver paste or the like on a heat dissipation mechanism component (see, for example, Patent Document 3).
[0008]
[Patent Document 1]
Japanese Patent No. 3080236 (page 1-3, Fig. 1)
[0009]
[Patent Document 2]
Japanese Patent No. 2539111 (page 1-4, FIG. 2)
[0010]
[Patent Document 3]
Japanese Patent No. 3054576 (page 1-4, FIG. 1)
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the structure in which the moisture-resistant plate having a heat dissipation effect as described above is completely embedded in the resin, heat generated during operation of the semiconductor element is released from the moisture-resistant plate to the outside through the resin. , Sufficient heat dissipation cannot be obtained.
[0012]
In addition, in the lead frame having an island part as described above, the plate thickness of the island part itself is thinner than the package thickness, and instead the resin having low thermal conductivity is thickened. Cannot be obtained. Furthermore, in the structure in which the metal surface of the island portion that is electrically connected to the lead frame is exposed to the outside, there is a problem in that plating is performed up to a surface that does not require plating, which increases the plating cost.
[0013]
Further, in the method for securing the heat transfer path by directly connecting the semiconductor element and the heat dissipation mechanism parts as described above, the island portion exposed on the back surface of the semiconductor element and the lead frame or the back surface of the package after the assembly of the semiconductor device. Are electrically connected, and there is a concern that the operation of the semiconductor element may be adversely affected.
[0014]
In recent years, the demand for miniaturization of AV equipment has been increasing year by year, and the semiconductor devices mounted on the AV equipment are demanding light, thin and small semiconductor devices from the viewpoint of high-density mounting and light weight.
[0015]
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a hollow package and a semiconductor device that can improve heat dissipation and can be thinned.
[0016]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a hollow package according to the present invention includes a heat sink having an insulating layer formed on a surface on which a semiconductor chip is mounted, and a lead frame connected to the semiconductor chip by a bonding wire, The heat radiating plate and the lead frame were sealed with resin so that the entire surface of the heat radiating plate except the surface on which the semiconductor chip was mounted was exposed.
[0017]
In order to achieve the above object, a semiconductor device according to the present invention includes a heat sink having an insulating layer and a lead frame, and the entire surface of the heat sink excluding the surface on which the insulating layer is formed. A hollow package in which the heat sink and the lead frame are resin-sealed so as to be exposed, a semiconductor chip mounted on the surface on which the insulating layer is formed, and connected to the lead frame by a bonding wire, A lid is provided above the semiconductor chip and closes the opening of the hollow package.
[0018]
Here, the heat sink formed on the surface on which the insulating chip is mounted on the semiconductor chip eliminates the need to secure the insulating property between the heat sink and the semiconductor chip by the mold resin, and the semiconductor device can be thinned.
That is, when there is no insulating layer on the surface on which the semiconductor chip is mounted, as shown in FIG. 4, a mold resin is placed between the heat sink and the semiconductor chip to ensure the insulation between the
[0019]
In addition, the heat sink and the lead frame are sealed with resin so that the entire surface excluding the surface on which the semiconductor chip is mounted is exposed, so that heat generated during operation of the semiconductor chip is passed through the heat sink exposed from the hollow package. Can be released to the outside.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings to provide an understanding of the present invention.
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining an example of a hollow package to which the present invention is applied. The
[0021]
Here, the insulating layer formed on the heat radiating plate is sufficient if the signal leakage current value can be suppressed to a certain level or less, and does not necessarily need to be a resin film, and may be oxide, sulfide, nitride, or the like. It doesn't matter.
Of course, when the heat sink is formed of an insulating material, it is not necessary to form an insulating layer on the heat sink.
[0022]
The heat sink is made of a material having a thermal conductivity of 1 W / (m · K) or more made of a metal, an inorganic compound, an oxide, a resin, or a composite thereof. As a material for the heat sink, for example, Cu, Al, Fe, WC, AlN, Al 2 O 3 and the like can be selected and used. In order to obtain sufficient heat dissipation, the thermal conductivity is 1 W / ( m · K) or more is required, and preferably 10 W / (m · K) or more. Here, when the thermal conductivity is less than 1 W / (m · K), the white point in the dark may be a problem.
Although the shape of the heat sink is desirably about the same as or larger than the size of the semiconductor chip, it is considered that heat dissipation can be ensured if the heat sink has an area about half that of the semiconductor chip.
[0023]
The sealing resin for molding the hollow package is preferably molded from a thermosetting resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, a phenol resin, or an unsaturated polyester resin, or a heat-resistant plastic positive resin such as a polysulfone resin.
[0024]
Furthermore, the lead frame is desirably formed of 42 alloy, copper alloy, or the like, and the lead frame can be subjected to Ni plating, Ag plating, Au plating, solder plating, or the like as required.
[0025]
Here, it is sufficient that the lead frame can electrically connect the semiconductor chip and the external substrate, and it is not always necessary that the heat dissipation plate on which the resin film is formed and the inner lead portion are in contact with each other. The lead frame can be expected to improve the wire bonding accuracy between the semiconductor chip mounted on the heat sink and the inner lead by supporting the inner lead with the heat sink. It is preferable that they are arranged so that the portions are in contact with each other.
[0026]
In the above-described hollow package to which the present invention is applied, since the resin film is formed on the surface of the heat radiating plate on which the semiconductor chip is mounted, there is no need to ensure the insulation between the semiconductor chip and the heat radiating plate. Therefore, it is not necessary to interpose a mold resin between the heat sink and the semiconductor device.
Further, the entire surface excluding the surface on which the semiconductor chip is mounted is exposed, and high heat dissipation can be realized.
[0027]
In addition, since the lead frame is disposed so that the surface on which the resin film is formed and the inner lead portion are in contact with each other, the semiconductor device can be made thinner without any molding resin interposed between the inner lead portion and the heat sink. It becomes possible.
Furthermore, since the inner lead portion is supported by the heat sink, it is expected that the wire bonding accuracy between the semiconductor chip mounted on the heat sink and the inner lead portion will be improved.
[0028]
The semiconductor chip 7 is bonded to the surface of the hollow package to which the present invention is applied with the resin film of the heat radiating plate with an adhesive 6 made of a heat conductive material, and the semiconductor chip and the inner lead portion are connected to the Au thin wire 8. After wire bonding is performed, the opening of the hollow package is closed with a lid 9 made of a flat light-transmitting material such as glass, whereby a semiconductor device to which the present invention is applied as shown in FIG. 2 can be obtained. .
[0029]
【The invention's effect】
As described above, the hollow package and the semiconductor device of the present invention can improve heat dissipation and can be thinned.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a hollow package to which the present invention is applied.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a semiconductor device to which the present invention is applied.
FIG. 3 is a schematic perspective view for explaining a conventional hollow plastic package.
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining a conventional semiconductor device.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (6)
半導体チップとボンディングワイヤーによって接続されるリードフレームとを備え、
前記放熱板の前記半導体チップを搭載する面を除く全面が露出する様に前記放熱板及び前記リードフレームが樹脂封止された
ことを特徴とする中空パッケージ。A heat sink having an insulating layer formed on the surface on which the semiconductor chip is mounted;
A semiconductor chip and a lead frame connected by bonding wires;
A hollow package, wherein the heat radiating plate and the lead frame are resin-sealed so that the entire surface excluding the surface on which the semiconductor chip is mounted is exposed.
ことを特徴とする請求項1に記載の中空パッケージ。The hollow package according to claim 1, wherein an inner lead portion of the lead frame is in contact with a surface on which the semiconductor chip is mounted.
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の中空パッケージ。The hollow package according to claim 1, wherein the heat radiating plate has a thermal conductivity of 1 W / (m · K) or more.
前記絶縁層が形成された面に搭載されると共に、前記リードフレームとボンディングワイヤーによって接続された半導体チップと、
該半導体チップの上方に配置され、前記中空パッケージの開口部を閉塞するリッドを備える
ことを特徴とする半導体装置。A hollow package comprising a heat sink having an insulating layer formed thereon and a lead frame, wherein the heat sink and the lead frame are resin-sealed so that the entire surface excluding the surface on which the insulating layer is formed is exposed. When,
A semiconductor chip mounted on the surface on which the insulating layer is formed, and connected to the lead frame by a bonding wire;
A semiconductor device comprising a lid disposed above the semiconductor chip and closing an opening of the hollow package.
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 4, wherein an inner lead portion of the lead frame is in contact with a surface on which the insulating layer is formed.
ことを特徴とする請求項4または請求項5に記載の半導体装置。The semiconductor device according to claim 4, wherein the heat dissipation plate has a thermal conductivity of 1 W / (m · K) or more.
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