[go: up one dir, main page]

JP2005048764A - 真空ポンプ制御システム - Google Patents

真空ポンプ制御システム Download PDF

Info

Publication number
JP2005048764A
JP2005048764A JP2004100900A JP2004100900A JP2005048764A JP 2005048764 A JP2005048764 A JP 2005048764A JP 2004100900 A JP2004100900 A JP 2004100900A JP 2004100900 A JP2004100900 A JP 2004100900A JP 2005048764 A JP2005048764 A JP 2005048764A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum pump
control
wire
compressor
cryopump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004100900A
Other languages
English (en)
Inventor
Masamichi Ando
正道 安藤
John M Borchers
エム.ボーチャーズ ジョン
Gary Ash
アッシュ ギャリー
Ralph Longsworth
ロングスワース ラルフ
Jin Lin Gao
リン ガオ ジン
Dan Stefan
ダン ステファン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Publication of JP2005048764A publication Critical patent/JP2005048764A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B49/00Control, e.g. of pump delivery, or pump pressure of, or safety measures for, machines, pumps, or pumping installations, not otherwise provided for, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B47/00
    • F04B49/06Control using electricity
    • F04B49/065Control using electricity and making use of computers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

【要約書】
【課題】1つの制御用コンピュータにより、複数のクライオポンプを制御すると共に、コンプレッサと組み合わされている、クライオポンプ制御システムを提供することにある。
【解決手段】真空ポンプ制御システムは、データ線11〜16を介して、複数台の真空ポンプ6と少なくとも1台のコンプレッサ9を制御用コンピュータ2とドライバ3からなる1台の制御装置17に接続して1ワイヤネットワークを構成する。また、前記制御用コンピュータ2は前記各真空ポンプ用の共通プログラムおよび個別プログラムを選択実行できるように備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、真空ポンプ制御システムに係り、特にクライオポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオターボポンプおよびドライポンプ等の複数の真空ポンプ、並びに、コンプレッサを制御容易に且つ着脱容易に接続する真空ポンプ制御システムに関する。
真空ポンプ、例えば、クライオポンプは、1段目のクライオパネルで60〜100Kに冷却して水等を凝縮し、2段目で窒素ガス等を凝縮する特性を有することから、スパッタリング装置等の半導体製造装置における真空チャンバ内を高真空状態にするのに用いられる。
そこで以下の説明は、真空ポンプとしてクライオポンプを用いた制御システムを、スパッタリング装置に適用した実施例について行う。
図4は、従来のスパッタリング装置の平面概略図である。特に高温リフロースパッタリング装置の構成を説明する平面概略図である。
図4に示す高温リフロースパッタリング装置50は、マルチチャンバタイプの装置であり、基体となるセパレーションチャンバ51内に中継チャンバCHA65とCHB66、
バッファーチャンバBCH52およびトランスファーチャンバTCH53を配置し、このバッファーチャンバBCH52およびトランスファーチャンバTCH53の周囲に気密に接続されたそれぞれ4つのプロセスチャンバCH1(61)、CH2(62)、CH3(63)およびCH4(64)、2つの前処理(デガス処理:表面の不純物を除去する処理、オリエント処理:ウエハを平らにする処理、等)のためのプリヒートチャンバCHE58およびCHF59、2つのロードロックチャンバLLA56およびLLB57、からなるチャンバ配置をとる。
図4の高温リフロースパッタリング装置50は、説明のためバッファーチャンバBCH52とトランスファーチャンバTCH53を内部が見えるように破断して示した平面図になっている。
各チャンバBCH52、TCH53、CH1(61)、CH2(62)、CH3(63)、CH4(64)、CHE58およびCHF59は、専用又は兼用の後記する排気系および吸気系を備え、所定の圧力まで排気又は吸気される。各チャンバ同士の接続部分には、ゲートバルブとなるスリットバルブ(図示省略)が設けられている。
バッファーチャンバBCH52およびトランスファーチャンバTCH53の内部には、チャンバ間でウエハの搬送を行うための搬送機構として多関節のロボットアーム54、55を含む多関節ロボットが用いられる。多関節ロボットは、いずれか一方のロードロックチャンバLLA56又はLLB57からウエハを1枚ずつ取り出し、プリヒートチャンバCHE58およびCHF59、中継チャンバCHA65とCHB66、各プロセスチャンバCH1(61)、CH2(62)、CH3(63)、CH4(64)に送って順次スパッタリング処理を行い、処理終了後、いずれか一方のロードロックチャンバLLA56又はLLB57に戻す。
バッファーチャンバBCH52は、下方にバッファーポンプ67を連通配置して、チャンバ内を10-4Pa(パスカル)に真空引きして高真空に保つ。トランスファーチャンバTCH53は、同じく下方にトランスファーポンプ68を連通配置して、チャンバ内を10-5Paに真空引きして高真空に保つ。
プロセスチャンバは、スリットバルブ(図示省略)を備えた気密容器からなり、電気的に接地されている。プロセスチャンバ内は、排気系により、10-7Pa程度に排気される。排気系は、ターボ分子ポンプやクライオポンプ等の複数段の真空ポンプを備える。例えばクライオポンプの場合には、排気バルブは、後記する安全バルブ、ラフバルブおよびベントバルブから構成される。
また、スパッタ放電用ガスを導入する放電用ガス導入バルブ(図示省略)が設けられており、アルゴン等のスパッタ率の高いガスをチャンバ内に所定の流量で導入できるようになっている。
この実施例では、プロセスチャンバを4室としたが、製造する製品のプロセス数に応じてチャンバ数および工程数が異なる。これに応じてチャンバ数も変更し、製造工程も変更する。それに伴って、制御手段を制御工程に追加したり制御工程から削除したりする。この変更が従来は困難であった。
この実施例の工程は、高温リフロースパッタリング処理を対象とした例を示した。基本的には、工程数とチャンバ数は整合すればよく任意の数に設定できる。
(クライオポンプ)
前記のバッファーチャンバBCH52、トランスファーチャンバTCH53、各プロセスチャンバCH1(61)〜CH4(64)、前処理チャンバCHE58およびCHF59には、その下方にクライオポンプ(図示省略)が配備されている。
図5は、クライオポンプの側部断面図であり、図6におけるb−b’断面図である。
図6は、クライオポンプの一部断面を含む平面図であり、図5におけるa−a’断面図である。
図5では、前記各チャンバを真空チャンバ7として示し、その真空チャンバ7の下方にスリットバルブ71を介してクライオポンプ73が配置されている。
クライオポンプ73は、フランジ部を備えると共に、モータケース部を突設した基体となるハウジング部75と、前記基体から突出するシリンダ部76、77と、輻射シールド板81、ルーバー80、クライオパネル82、真空容器72から構成される。
1段目のシリンダ部76は、1段ステージ78の1st温度に設定する。1st温度は、80〜100Kの任意の設定値に制御できる。
2段目のシリンダ部77は、2段ステージ79の2nd温度に設定する。2nd温度は、20K以下となる。2段目のシリンダ部77は、ルーバー80を備えた輻射シールド板81に収納され、2段目のシリンダ部77の先端部にはクライオパネル82等を備える。
真空チャンバ7に連設される真空容器72は、安全弁83を備えると共に機械的な回転ポンプ(図示省略)で吸引されるラフバルブ84と、窒素(N2)供給用のパージバルブ85と、ベントバルブ86を備えて気密に形成される。また、真空容器72には、クライオポンプ73の1段ステージ78および2段ステージ79の温度を測定する温度センサ(図示省略)に接続されている温度センサコネクタ87、および、内部の圧力センサ(真空計)(図示省略)に接続されている圧力センサコネクタ88が突設されている。
クライオポンプ73は、ルーバー80、クライオパネル82等を気体分子の固化温度以下に冷却し、そこへ気体分子の凝縮固化、又は、活性炭の冷却による気体分子の吸着により、高真空を達成する。
クライオポンプ73は、冷却温度が比較的高い1段ステージ78には輻射シールド板81を設け、冷却温度が低い第2段ステージ78を被服している。輻射シールド板81は、常温から来る輻射熱を遮断する目的で設けられ、第2段ステージ79への熱侵入を抑え、冷凍能力を向上させる。輻射シールド板81の先端にルーバー80を設け、気体分子の入り口を形成する。ルーバー80は、輻射シールド板81によって冷却されているので、比較的固化する温度の高い気体分子等を凝縮する。2段ステージ79は、20K以下まで冷却されるので、酸素、窒素等の凝縮を行う。また、クライオパネル82に含まれる活性炭を冷却し、活性炭の微細孔にも水素等の凝縮点の低いガスの吸着を行う。
真空引きの工程は、以下の(1)から(3)になる。まず、
(1)プロセスチャンバ内を機械的な回転ポンプ(図示省略)によりラフバルブ84を介して粗く10Pa程度まで真空引きする。クライオポンプ73による冷却が開始できるようにある程度以上の真空状態にまで真空引きする。
(2)次に、クライオポンプ73を運転して、プロセスチャンバCH1(61)〜CH4(64)内を10-7Pa程度の高真空にする。
(3)その後、スパッタリングのためのプロセスガスが導入される。
このクライオポンプ73には、様々なセンサ、バルブやモータ等の制御部品が取り付けられている。このため、クライオポンプはこれら制御部品を制御することにより真空排気を行っている。そのため、チャンバからのクライオポンプの着脱は膨大な時間と手間がかかることになる。
一般的に、1つのスパッタリング装置には複数台のクライオポンプが使われており、それら複数台のクライオポンプを運転するためのコントローラには、様々な方式がある。従来のコントローラには、例えば図7(a)、図7(b)、図7(c)に示す方式がある。
図7は従来の複数台のクライオポンプを制御する各種クライオポンプ制御システムを示す説明図である。図7(a)、図7(b)、図7(c)はそれぞれ従来のクライオポンプ制御システムを説明する説明図である。
図7(a)のクライオポンプ制御システム(例えば、特許文献1参照)は、各クライオポンプが個々に専用の演算処理装置内蔵のコントローラを備えており、それら複数台のコントローラがネットワーク統合コントローラにそれぞれ通信ネットワークケーブルにて接続される方式である。
図7(b)のクライオポンプ制御システム(例えば、特許文献2参照)は、各クライオポンプに通信変換部(通信部およびI/O(入出力)処理部)を設けて、それら複数台のクライオポンプを統合コントローラに通信ネットワークにて接続し、複数台運転を行う方式である。
図7(c)のクライオポンプ制御システム(例えば、特許文献3参照)は、図7(a)と同様に各クライオポンプ個々に専用の演算処理装置内蔵のコントローラを備えており、それら複数台のコントローラが、ネットワーク統合コントローラにそれぞれ、RS232Cケーブルにて接続される方式である。
また、クライオポンプ制御システムには、制御の為の各種センサのデータを取り込む計測システムを設けているが、このような計測システムを含む一般的な計測システム、即ち、複数のセンサ等を計測制御装置に配線接続する従来型計測システムは、動作電圧をとるためのDC(直流)電源線とグラウンド(接地:以下、「GND」という)線が各センサと計測制御装置に共通に配線され、センサ出力信号を取り込むためのアナログ信号線がそれぞれのセンサと計測制御装置の間に配線されており、各センサそれぞれがDC電源線とGND線とアナログ信号線に接続されている。
特開2000−73949号公報 特開2001−99062号公報 特開平10−54369号公報
図7(a)の各クライオポンプそれぞれに専用の演算処理装置を内蔵したコントローラを設け、前記コントローラを通信ネットワークケーブルでネットワーク統合コントローラに接続する方式の場合、クライオポンプを運転するために必要な装置が全てコントローラに内蔵されているため、コントローラサイズが大きくなり、クライオポンプのサイズおよび重量が増大する。このため、重量の増大した装置の設置、メンテナンス等の作業を行う上でまた扱いにくいという欠点がある。また、複数台のクライオポンプを通信ケーブルにて直列に(連続的)に接続しているため、任意のクライオポンプの増設、取り外しする際、他のクライオポンプの通信ケーブルの付け替えを行う必要があり、作業性も悪い。
図7(b)の各クライオポンプに通信変換部(通信部およびI/O処理)を設け、それら複数台のクライオポンプの通信変換部を統合コントローラと通信ネットワークにて接続し、複数台のクライオポンプの運転を行う方式では、クライオポンプの設置台数に関わらず、必ず統合コントローラが必要となり、クライオポンプ少数運転系統の場合においてコスト増大につながることがある。また、複数台のクライオポンプを同一ネットワークに接続するための接続ターミナルが別途必要となるため、ネットワークの配線が煩雑になる。
図7(c)の各クライオポンプそれぞれに専用の演算処理装置内蔵のコントローラを設け、それら複数のコントローラが、ネットワーク統合コントローラにそれぞれRS232Cケーブルにて接続される方式では、図7(a)と同様にコントローラサイズが大きくなり、クライオポンプのサイズおよび重量も増大する。このため、設置およびメンテナンス等の作業を行う上で扱いにくくなる。また、ネットワーク統合コントローラは1台であるため、クライオポンプの設置台数に関わらず、RS232Cコネクタおよびインターフェース部を必ず1系統における最大運転台数分用意しておかなければならず、コスト増につながる。
また、RS232Cケーブルにてコントローラとネットワーク統合コントローラを接続するため、接続可能距離が短いという問題もある。
図7(a)および図7(b)においては、各クライオポンプが同一ネットワーク上に存在していることから、どのクライオポンプへの指令であるかを判別するために、アドレス等の情報を付記した通信プロトコルの作成が必要となる。このため、アプリケーションソフトウエアを作成する上で作業量が増えると共に、アドレス等の付け替え、確認等のメンテナンス作業が多くなる。
また、従来型計測システムの場合、各センサ単位では、+5V電源線とGND線とアナログ信号線の都合3本の配線が必要であり、特にセンサが広い範囲に散在している場合、線材の量が増大する。更に、各センサから計測制御装置へのアナログ信号線はセンサの位置に応じて他のアナログ信号線と重複するのでその分配線が輻輳し線材の量が増大する。配線が輻輳すると、配線スペースおよび配線作業量が増大してしまう。また、計測制御装置から電源をまとめて供給すると、各センサのグランド電位にドリフトが発生することがある。すなわち、信号グラウンドを流れる電流などの影響で時間変動する。
また、例えば、スパッタリング工程では複数のプロセスチャンバを使用してスパッタリングを行う。このとき、製作する半導体によっては、使用するプロセスチャンバの数が変更されることもあり、任意のチャンバにおいてクライオポンプを停止させる場合がある。このときに、該当するクライオポンプをメンテナンス(停止等)する必要がある。しかし、従来は1台だけ1連の工程から外すことができなかったが、そのクライオポンプをクライオポンプの通信ネットワークから自由に着脱できると、メンテナンス上有利である。
本発明の目的は、1つの制御装置により、複数の真空ポンプ、コンプレッサを着脱自在に接続すると共に容易に制御する真空ポンプ制御システムを提供することにある。
本発明の他の目的は、個々の真空ポンプ等の被制御装置のための、マイクロプロセッサや内蔵されたプログラムを有しない、電子的操作モジュールを備えた真空ポンプ制御システムを提供することにある。
本発明の他の目的は、並列化手段又は直列化手段又はそれら両手段により、前記制御装置の単一データポートへ各ポンプのデータポートを接続するための手段を備えた真空ポンプ制御システムを提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、以下の解決手段を採用する。
本発明は、複数のクライオポンプ等の真空ポンプやコンプレッサを工程数に応じて1連の工程に組み合わせるために、前記真空ポンプやコンプレッサを取り込んで、1ワイヤデバイスにより1ワイヤネットワークを構成することを特徴とする。この1ワイヤネットワークを1つの制御装置により制御するように構成する。
また、真空ポンプに1ワイヤデバイスからなる操作モジュールを設け、また、コンプレッサに1ワイヤデバイスからなるコンプレッサモジュールを設け、前記両モジュールを含む1ワイヤネットワークを介して制御用コンピュータにより真空ポンプやコンプレッサを制御するように構成する。
具体的には、以下の様になる。
(1)真空ポンプ制御システムは、複数台の真空ポンプと少なくとも1台のコンプレッサがデータ線を介して制御用コンピュータと通信用のドライバからなる1台の制御装置に接続されて1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする。
(2)上記(1)記載の真空ポンプ制御システムは、前記真空ポンプをクライオポンプとしたことを特徴とする。
(3)上記(1)又は(2)記載の真空ポンプ制御システムは、前記制御装置を構成する制御用コンピュータが前記各クライオポンプ用の共通プログラムおよび個別プログラムを選択実行できるように備えたことを特徴とする。
(4)上記(1)乃至(3)のいずれか1項記載の真空ポンプ制御システムは、前記真空ポンプに少なくとも1ワイヤデバイスからなる操作モジュールを設け、前記制御用コンピュータと前記真空ポンプが前記操作モジュールを介して前記データ線により接続されて1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする。
(5)上記(1)乃至(3)のいずれか1項記載の真空ポンプ制御システムは、前記コンプレッサに少なくとも1ワイヤデバイスからなるコンプレッサモジュールを設け、前記制御用コンピュータと前記コンプレッサが前記コンプレッサモジュールを介して前記データ線により接続されて1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする。
(6)上記(4)記載の真空ポンプ制御システムは、前記操作モジュールが、前記真空ポンプを運転するために、前記データ線に接続された、センサの出力信号を伝送するためのアナログ−デジタルコンバータ機能を有する1ワイヤデバイス、インバータ速度指令を伝送するためのデジタルポテンショメータ機能を有する1ワイヤデバイス、バルブ制御指令およびインバータエラー接点検出信号を伝送するための入出力機能を有する1ワイヤデバイス、から構成されていることを特徴とする。
(7)上記(5)記載の真空ポンプ制御システムは、前記コンプレッサモジュールが、コンプレッサを運転するために、前記データ線に接続された、センサの出力信号を伝送するためのアナログ−デジタルコンバータ機能を有する1ワイヤデバイス、インバータ速度指令を伝送するためのデジタルポテンショメータ機能を有する1ワイヤデバイス、バルブ制御指令およびインバータエラー接点検出信号を伝送するための入出力機能を有する1ワイヤデバイス、から構成されていることを特徴とする。
本発明は、1つの制御用コンピュータと通信用のドライバからなる1台の制御装置により、複数の真空ポンプ例えばクライオポンプをコントロールすると共に、コンプレッサと組み合わせて真空ポンプ制御システムを構成したので、前記制御用コンピュータは、前記真空ポンプ制御システムにおける前記真空ポンプおよびコンプレッサそれぞれのための共通の内蔵プログラムを使用するか、又は、個々の真空ポンプ等のための特殊なプログラム要素を使用することができるようになる。
また、個々の真空ポンプ等の被制御装置のための、マイクロプロセッサや内蔵されたプログラムを有しない、電子的な操作モジュールを有するので、個々の操作モジュールの複雑さ(例えばマイクロプロセッサを組み込み動作するように設定する必要がない)、サイズ(例えばマイクロプロセッサ等を組み込むスペースが不要になる)および製造コストを減少させる。特に、制御用コンピュータの内蔵プログラムを変更するだけで、システムに用いられている制御アルゴリズムを変更したりアップグレードしたりできるようになる。
また、並列化手段又は直列化手段又はそれら両手段により、前記制御装置、特に制御用コンピュータの単一データポートへ各真空ポンプ等のデータポートを接続するための手段を構成したので、配線ルートの変更の柔軟性、経済性、冗長性が許容される。
また、制御信号および測定データの伝送系、または通信系が、1ワイヤデバイスの分岐接続用ハブ(分岐用IC DS2409)およびプロセッサを不要とする各種機能素子(汎用I/OデバイスDS2405、センサデバイスDS2450およびDS2890)を用いて1ワイヤネットワークとして構成したので、制御装置の制御用コンピュータは、コンプレッサや真空ポンプ(クライオポンプ等)の運転状態を表す各種センサからの検出データを取り込んで、必要な運転指令を作成し、その運転指令を着脱自在に設けたコンプレッサモジュールおよび操作モジュールへ容易に伝送することができる。
1ワイヤシステムを用いるので、従来設けることができなかった程の多数のデバイスを長いケーブル長で広範囲に配置できるので、従来の制御方式では接続できなかった多数の制御対象を着脱自在に且つ広範囲に接続制御することができるようになる。
インバータで発生する高周波ノイズを隣接配置されるフィルタにより減衰させるので、半導体製造装置等の高周波ノイズをきらう装置に取り付けられる真空ポンプおよび操作モジュールが発生するノイズの影響を抑制できるようになる。
本発明に用いる真空ポンプ制御システムは、基本的に、制御用コンピュータと通信ドライバからなる1台の制御装置に、1ワイヤシステムに基づく1ワイヤネットワークを介して、被制御装置および測定器を接続したことを特徴とする。本発明は、特に真空ポンプとしてクライオポンプを用いた制御システムに代表される。以下、被制御装置を、操作モジュール、コンプレッサモジュールに限定し、全体をクライオポンプの制御システムに限定して説明する。
1ワイヤシステム(1線式システム)とは、現在のところダラス・セミコンダクタ社が開発した計測制御用のバスシステムに代表され、基本的には、1本(シグナルグラウンド(接地:SG)線も入れるとデータ線(データバス)とで合計2本になる)の信号線で、分岐用ハブを介して長く配線され、測定データや制御指令等の信号の伝送と、接続されている1ワイヤデバイスへの動作電力の供給を行い、広範囲の計測制御を可能にするシステムである。このシステムは、制御用コンピュータに所定(例えば200m)範囲に散在する数十個(例えば30個)のセンサや制御ポートを1ワイヤデバイスにより芋づる式に接続し、各センサの情報を収集したり、給電したり、簡単な制御を行うことができ、1ワイヤプロトコルにより動作する。以下、1ワイヤシステムの説明に用いる各種デバイスとして、ダラス・セミコンダクタ社製のデバイスを「DS」を付けて用いる。
1ワイヤデバイスは、1ワイヤシステムを構成し、信号伝送や給電等の機能を有する前記各種デバイスを意味する。1ワイヤデバイスはICチップとして構成される。前記ICチップは、小さなキャパシタンスを内蔵しているので、データ線(データバス)から通信用の電力をチャージして電源を構成することができる。
1ワイヤシステムを構成するケーブルは、合計2線で、データ線又はデータバスと前記SG線とからなる。
1ワイヤネットワークは、被制御対象を特定せずに、1ワイヤシステムとして動作するように構成したネットワークを意味する。
1ワイヤシステムでは、計測制御装置とそれぞれのセンサに共通のGND線とデジタルデータ線を配線し、各センサをそれぞれGND線とデジタルデータ線に接続する。各センサの内蔵ICでA/D変換を行い、デジタル信号を計測制御装置に送るので、アナログの微弱信号線に発生するドリフトの問題が起こらない。
また、この1ワイヤシステムではデジタルデータ線を使ってセンサ等のデバイスに動作電力を供給する。
1ワイヤシステムに用いる3端子素子は、内蔵のパワー・サプライ・センサによって、自動的に給電方法を切り換えるようになっている。
デバイス毎のIDコードは、デバイスの種類を特定する8ビットファミリコード、48ビットシリアル番号コード、エラーチェックコードとなる8ビットCRC(サイクリック冗長チェック)コードから構成される。
図1は本発明の真空ポンプ制御システムのブロック構成図である。真空ポンプ(例えば、クライオポンプ等)、コンプレッサ、真空チャンバー、および相互接続データ線だけではなく、ホストコンピュータ、制御用コンピュータ、ドライバー、および操作モジュールの相互接続を示す真空ポンプ制御システムのブロック図である。
図1は、複合真空チャンバ7、真空ポンプ6、コンプレッサ9からなる代表的な真空システムの基本配置を示す。
システムは、すべての真空システム、物質操作、およびプロセスを制御するために、特にホストコンピュータ1を備える。このシステムは、存在する技術およびオペレーティングシステムのいくつかを用いる。
制御用コンピュータ2は、多種の真空ポンプ6およびコンプレッサ9を制御する。制御用コンピュータ2は、真空ポンプ6の機能を管理するソフトウエアを実行するようになっている。特に、ホストコンピュータ1は、RS−232プロトコル又は他の適用可能なプロトコルを用いることができるデータ線10を介して制御用コンピュータ2に接続される。
同様に、制御用コンピュータ2は、RS−232プロトコル又は他のプロトコルで動作している他のデータ線11を介してドライバ3に接続されている。
ドライバ3は、コンピュータレベルで用いられているプロトコルを操作モジュール5に組み込まれているプロトコルに変換する。
ドライバ3と任意の操作モジュール5、コンプレッサモジュール8、又は他の機能のモジュールの間で、データバスが構成されている。
このシステムを制御するためには、制御用コンピュータ2とドライバ3からなる制御装置17が必要となる。ホストコンピュータ1は、このシステムをクライアント(客先)が使用するために接続する。
操作モジュール5は、半導体デバイスからなる1ワイヤシステムのための、ダラスセミコンダクタ株式会社、ダラス、TX(テキサス州)により開発されたプロトコルを使用する。(なお、ダラスセミコンダクタ株式会社の1ワイヤデバイスを含む1ワイヤシステムに関する技術は、以下のURLにアクセスすることにより、その詳細を知ることができる。
(http://japan.maxim−ic.com/pl_list.cfm/filter/21/In/jp)
操作モジュール5は、真空ポンプの各コンポーネントの制御用電源を有し、個別のケーブルにて接続されている。
正確には、一本の線(グランド(GND:接地)線を含めて2本)がデータの送信とデバイスへの給電を行い、他の線が共通接地線を形成する。
実際には、データ線と共通接地線を構成する1対の撚線を用いることにより配信システムを構成する。
1ワイヤ規格のデバイス(1ワイヤデバイス)は、スイッチ、ポテンショメータ、温度センサ、アナログ−デジタル(A/D)変換器、タイマー、およびメモリを含む。
各デバイスは、アドレスコードを供給すると共にデバイスの機能を同定するために用いられる独自の64ビットシリアルナンバーを有する。
重要なことは、これらデバイスが基本的にコンピュータの能力を有しないことである。
ハイ(2.8−6.0ボルト)からロー(2.3−0ボルト)の入力線の電圧レベルを変えることにより作り出されるパルスの連続からなるコマンドおよび戻りの応答信号がデバイスに与えられる。
その結果、デバイスは、アクション(例えば、デバイス中のスイッチを開放する)を行うか又はコード化された値(例えば、A/Dコンバータにより変換された電圧)を送信する。すべてのデバイスは、外部からのコマンドによりアクションを行う。
すべての1ワイヤデバイスは同じデータ入力線に接続されている。この場合、入力線は常時オンラインですべてのデバイスにバスとして関係付けられる。すべてのデバイスは、バスに入るためのコマンドに含まれるアドレスをデコードする。複数種類のデバイスは、個々の専用アドレスが与えられたときにのみ、コマンドに従った動作を行う。
命令を出すために参照される、制御用コンピュータ2のソフトウエア中に作られているデバイスのリスト又はマップは、デバイスに送られる。
制御用コンピュータソフトウエアが参照するデバイスは種々のモジュール中に設けられている。
コマンドはデバイスに取り込まれると共にアドレス指定されるので、対象とするシステムのすべてのデバイスは、基本的にドライバ3及び制御用コンピュータ2にパラレル形式で接続される。
ドライバ3を操作モジュール5又は他のタイプのモジュールへ接続する他の方法でも望む効果を達成することができる。
そのため、ドライバ3は対の撚り線を介して能動的なマルチポートのハブ4a、4bに接続される。ハブ4a、4bは任意の点で必要とされるだけのデータ線および共通線の分岐接続を形成する。
基本的には接続されるハブの数に制限はない。例えば、12ポートハブは、1個の入力ポートと11個の出力ポートとして使用できる。能動状態のポートの任意の1個は入力ポートとして使用することができる。ハブ4aから、他のデータ線13は個々の操作モジュール5又は他のハブ4bへ配線される。
実用的な配線案の他の例は、データ線15を介したハブ4bからコンプレッサモジュール8への接続配線として示されている。
コンプレッサモジュール8(又は他の機能モジュール)は、ループ状に通過する形式で配線される1対の同一のコネクタを含む。
そのため、両コネクタは一体に接続される共通接地ターミナルおよび一体に接続されるデータ入力線を有する。
コネクタのデータ入力線は、コンプレッサモジュール8中のデバイスに取り付けられる。
このため、丁度、このデータ線16がハブ4bを第2のコンプレッサモジュール8に接続したかのように、他のデータ線16は、ループ状に通過するコネクタを介して共通データバスを第2のコンプレッサモジュール8へリンクするように用いられ得る。
冗長化の目的のために、ループ状に通過するコネクタの設備は、2個のハブ4a、4bのように、2つのソースから接続されるデータ線12〜15が接続できるようになっている。同様に、ハブ4a、4bは2以上のパラレルパス(並列経路)を介して接続される。
一般に、ドライバ3からの任意の動作状態の1ワイヤデバイスのトータル長さは、受動的なハブを用いると200m以上になる。もし必要なら、アクティーブリピータの使用がレンジを延ばすことができる。
この発明に述べられている特別な機構は、低温真空ポンプ6の制御のために用いられていると共にヘリウム用のコンプレッサ9と組み合わされるようになっている。
操作モジュールの使用は、低温真空ポンプ6に制限されるものではなく、ターボ分子真空ポンプおよび他のタイプの制御に応用されうる。
1ワイヤシステムは、広いバンド幅性能を有するので、ドライバ3から延びるシングルデータ線は多くのデバイスを有効に制御できる。
その場合、ドライバ3は、例えば、個々の1ワイヤデータバスを経由するように、RS−232データを取り込むためにマルチ1ワイヤ出力ポートを有するように構成される。
同様に、制御用コンピュータ2はマルチRS−232(又は他のフォーマット)データポートとして構成される。
制御用コンピュータ2のソフトウエアは、種々のポートによりどのデバイスがアドレスされているのか探知する。
1ワイヤデバイスは、1ワイヤデータ線の2.8−6.0ボルトレベルにより給電される。
しかし、制御モジュール(操作モジュールとコンプレッサモジュール)もまたリレー、バルブアクチュエータソレノイド、ランプおよび他の接続デバイスのような補助デバイスの範囲への給電のタスクを有する。
それゆえ、50/60HzのAC(交流)皮相電力200―240ボルトは、電源コードを介して制御モジュールへ給電される。
内部電圧変換器およびDC(直流)電源は、入力電圧をアクセサリーのために必要な電圧レベルへ変換する。このことはバルブソレノイドおよびアクセサリーのリレーコネクタへ供給される24VAC電源を生成する。
加うるに、制御モジュールは、温度センサ、スイッチ終端器からの入力、又はトランジスタロジック(代表的には0−5V)入力を受け取る。
制御モジュールの内部A/Dコンバータはまれに電圧をパルスに変換することから、大きな自由は制御モジュールそれ自身の機能の追加又は変更により得られる。
制御用コンピュータレベルでのソフトウエアのブロックの変更により、例えば、センサーの特性を曲げるようにする異なる校正や応答が容易に調節できるようになる。
コンプレッサモジュール8は独自の機能の組み合わせ(セット)を有する。その機能は、圧力を供給し、圧力を戻すコンプレッサ9の電圧を常時モニターすることにある。加うるに、任意の温度スイッチの状態をモニターする。コンプレッサモジュール8は、コンプレッサモジュール8をコンプレッサ9へ接続するマルチピンコネクタの動作中のピンから電源を引き出す。
以上で説明した真空ポンプは、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオターボポンプおよびドライポンプ等任意のポンプに、上で述べた態様により同じように対応できる。
(実施例1の効果)
本発明の実施例1は、マイクロプロセッサ、ディスプレイおよびキーボードを1つの制御装置17に設け、各真空ポンプ(クライオポンプ)6には内蔵していないので、システムを低コストで構成することができる。
また、ソフトウエアが制御用コンピュータ2に内蔵されており、ハードウエア固有のプログラマブルメモリを持っていないので、ソフトウエアのアップグレードが簡単にできるようになる。
真空ポンプ(クライオポンプ)6用の操作モジュール5およびコンプレッサモジュール8にマイクロプロセッサおよびプログラムを持たないので、モジュールの複雑さ、サイズ、および製造コストの低減を図ることができる。
各モジュールが同一通信バスに並列に接続されているので、ハブ4a、4bを使用することによって、任意のクライオポンプを任意のタイミングで、増設したり取り外したりすることができるようになる。
制御用コンピュータ2のソフトウエアをモデファイおよびアップグレードすることによって、各モジュールのプロトコルのバージョンアップができるようになる。また、各真空ポンプ(クライオポンプ)のプロトコルを共通とするか、個別とするか制御用コンピュータ2のソフトウエアを変更することによって自由に選択できる。
また、制御信号および測定データの伝送系、または通信系が、1ワイヤデバイスの分岐接続用ハブ(分岐用IC DS2409)およびプロセッサを不要とする各種機能素子(汎用I/OデバイスDS2405、センサデバイスDS2450およびDS2890)を用いて1ワイヤシステムとして構成したので、制御装置17の制御用コンピュータ2は、コンプレッサ9や真空ポンプ(クライオポンプ)6の運転状態を表す各種センサからの検出データを取り込んで、必要な運転指令を作成し、その運転指令を着脱自在に設けたコンプレッサモジュール8および操作モジュール5へ容易に伝送することができる。
1ワイヤシステムを用いるので、普通に設けても30デバイスで200mのケーブル長を確保でき、従来の制御方式では接続できなかった多数の制御対象を着脱自在に且つ広範囲に接続制御することができるようになる。
インバータで発生する高周波ノイズを隣接配置されるフィルタにより減衰させるので、半導体製造装置等の高周波ノイズをきらう装置に取り付けられる真空ポンプ(クライオポンプ)および操作モジュールの発生ノイズの影響を問題とする必要が無くなる。
また、1ワイヤシステムはツイストされた通信ケーブル、例えば電話用ツイストペア線を用いるので、ノイズを抑制することが可能となる。
また、信号波形の整形手段としてスルーレート制御とアクテイブプルアップを使用すると信号の誘起電圧や高調波成分をカットすることが可能となる。
1ワイヤシステム用のデバイスには、それぞれIDが付されているので、このIDをデバイス自体の他にデバイスを取り付けた対象機器のIDとして管理することが可能になる。1ワイヤシステム用のデバイスの追加や削除は、各デバイスがIDをもっているので、従来のようにIDの付け直しをする必要がなくなり、メンテナンスが簡単になる。
1ワイヤシステムではデータ線によって測定データや制御指令の伝送と動作電力の給電ができるので、従来よりも配線数を少なくすることが可能になる。
図2は、本発明の操作モジュールのブロック構成図である。但し、各素子の電源ラインは省略してある。
図3は、本発明の操作モジュールの1部破断した実装構成図である。前記図6の構成と同じものは同じ符号で表してある。
操作モジュール20は、SG(シグナルグランド:基準点)を含むバスケーブル(信号線と前記SG線の2本)と各種負荷の間に接続された1ワイヤデバイス群および、その1ワイヤデバイスにより制御される各種素子群を収納している。
図2の代表的な操作モジュール20は、センサ、インバータ、バルブ等を対象とした直接通信と負荷の変換を行う機能を備える。
1ワイヤデバイスとしては、センサデバイスDS2450(機能:クワッド入力、8ビットADC(アナログ・デジタルコンバータ))21、センサデバイスDS2890(機能:シングルチャネル256タップ、デジタルポテンショメータ)22、メモリデバイスDS2405(容量16Kb、メモリタイプEPROM、ID識別用)23、24が用いられる。
1ワイヤシステムを構成するデータ線およびSG線にDS2450(21)の一方側端子が接続され、DS2450(21)の他方側端子と前記SG線にアンプの一方側端子が接続され、アンプ25の他方側端子にセンサ31が接続される。
センサ31としては、例えば、クライオポンプの1段レベル温度センサ、2段レベル温度センサ、ハウジング温度センサ、真空容器に設けた真空度センサ又は圧力センサ、等が接続される。
同じく、DS2890(22)の他方側端子と前記SG線にD/Aコンバータ(デジタル・アナログコンバータ)26の一方側端子が接続され、D/Aコンバータ26の他方側端子と前記SG線にインバータ速度指令手段32が接続される。インバータ速度指令手段32は、真空ポンプ(クライオポンプ)のモータの速度を制御するために給電電圧又は給電電流を制御する。給電電力は、別電源、例えば24〜220VAC電源から供給される。他の例として、インバータ速度指令手段32の代わりに、ヒータのPWM制御をインバータ制御手段により行うことも可能である。
一方のDS2405(23)の他方端子にはフォトカプラ27を介してバルブ制御手段33が接続される。バルブ制御手段33は前記SGに接地されている。フォトカプラ27には、光源用電源PS1(28)とバルブ用電源PS2(29)が接続される。バルブ制御手段33として、パージバルブ用ソレノイド、ラフバルブ用ソレノイド、ゲートバルブ用ソレノイド等が接続される。
他方のDS2405(24)の他方端子と前記SGにはインバータエラー接点検出手段(34)が接続されている。
図3に、操作モジュール5の実装例を例示する。操作モジュール5は、クライオポンプのハウジング部75に、クライオポンプモータ用のインバータ35、および、インバータ35の発生する高周波ノイズを除去するためのフィルタ36と共にケースに収納されて取り付けられる。この操作モジュール5は、1ワイヤネットワーク(図示省略)に接続されている。これにより、操作モジュールと被制御対象を近接配置して、直接接続する制御線を短くし、長距離の展開に適した1ワイヤネットワークのみを長く配線する。
(実施例2の効果)
1ワイヤシステムを構成するデータ線に、クライオポンプ制御用の操作モジュール5を接続したので、制御システムへのクライオポンプの着脱を、1ワイヤシステムへの操作モジュール単位での着脱によって容易に行えるようになり、工程の変更を容易に行うことができるようになる。
インバータ35に近接してフィルタ36を設けたので、インバータ35で発生するノイズを最短距離で抑制することができる。
インバータ35とモータの制御線の配線距離を短くできるので、ネットワークから操作モジュールとクライオポンプを容易に着脱できるようになる。
前記実施例2では、被制御対象として真空ポンプ(クライオポンプ)制御用の操作モジュールを説明したが、この実施例3では、コンプレッサ制御用のコンプレッサモジュール8を対象として説明する。
コンプレッサモジュール8のブロック構成図は、基本的に、図2に示したものと同じになる。制御態様は異なる。センサ31はコンプレッサ9の状態を検出し、インバータ速度指令手段32はコンプレッサ用のモータを駆動するインバータの速度指令を出力し、バルブ制御手段33は圧縮空気のタンクのバルブの開閉を制御し、インバータエラー接点検出手段34はインバータのエラー接点を検出するように切り替わるだけで、この実施例3は前記実施例2の場合と基本的に異ならない。
(実施例3の効果)
1ワイヤシステムを構成するデータ線に、コンプレッサ制御用のコンプレッサモジュールを接続したので、制御システムへのコンプレッサの着脱を、1ワイヤシステムへの操作モジュール単位での着脱により容易に工程の変更を行うことができるようになる。
また、同じく、インバータ35に近接してフィルタ36を設けたので、インバータ35で発生するノイズを最短距離で抑制することができる。インバータ35とモータの制御線の配線距離を短くできるので、ネットワークから操作モジュールとクライオポンプを容易に着脱できるようになる。
以上に開示された本発明の各モジュールを備えた1ワイヤシステムおよびそれに基づいて構成できる1ワイヤネットワークに関する技術思想は、被制御対象を任意に特定できるものであることから、任意の対象に適用できる。特に、一連の工程の変更が従来困難であったもの、例えば、共通工程の多い少量多品種生産ラインとか、ラインを組むことが困難な生産ライン、特に制御用ケーブルの配線が困難な生産ライン等に特に有用である。
本発明の真空ポンプ制御システムのブロック構成図である。 本発明の操作モジュールのブロック構成図である。 本発明の操作モジュールの1部破断した実装構成図である。 従来のスパッタリング装置の平面概略図である。 クライオポンプの側部断面図であり、図6におけるb−b’断面図である。 クライオポンプの一部断面を含む平面図であり、図5におけるa−a’断面図である。 従来の複数台のクライオポンプを制御する各種クライオポンプ制御システムを示す説明図である。
符号の説明
1 ホストコンピュータ(客先装置)
2 制御用コンピュータ
3 ドライバ
4a、4b ハブ
5、20 操作モジュール
6 真空ポンプ
7 真空チャンバ
8 コンプレッサモジュール
9 コンプレッサ
10、11、12、13、14、15、16 データ線(データバス)
17 制御装置
21 センサデバイス(DS2450)
22 センサデバイス(DS2890)
23、24 メモリデバイス(DS2405)
25 アンプ
26 D/Aコンバータ
27 フォトカプラ
28 PS1(光源用電源)
29 PS2(バルブ制御手段用電源)
31 センサ
32 インバータ速度指令手段
33 バルブ制御手段
34 インバータエラー接点検出手段
35 インバータ
36 フィルタ
71 スリットバルブ
72 真空容器
73 クライオポンプ
75 ハウジング部
76 1段目のシリンダ部
77 2段目のシリンダ部
78 1段ステージ
79 2段ステージ
80 ルーバー
81 輻射シールド板
82 クライオパネル


Claims (7)

  1. 複数台の真空ポンプと少なくとも1台のコンプレッサがデータ線を介して制御用コンピュータと通信用のドライバからなる1台の制御装置に接続されて1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする真空ポンプ制御システム。
  2. 前記真空ポンプをクライオポンプとしたことを特徴とする請求項1記載の真空ポンプ制御システム。
  3. 前記制御装置を構成する制御用コンピュータは前記各真空ポンプ用の共通プログラムおよび個別プログラムを選択実行できるように備えたことを特徴とする請求項1又は2記載の真空ポンプ制御システム。
  4. 前記真空ポンプに少なくとも1ワイヤデバイスからなる操作モジュールを設け、前記制御用コンピュータと前記真空ポンプが前記操作モジュールを介して前記データ線により接続され1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の真空ポンプ制御システム。
  5. 前記コンプレッサに少なくとも1ワイヤデバイスからなるコンプレッサモジュールを設け、前記制御用コンピュータと前記コンプレッサが前記コンプレッサモジュールを介して前記データ線により接続されて1ワイヤネットワークを構成したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の真空ポンプ制御システム。
  6. 前記操作モジュールは、前記真空ポンプを運転するために、前記データ線に接続された、センサの出力信号を伝送するためのアナログ−デジタルコンバータ機能を有する1ワイヤデバイス、インバータ速度指令を伝送するためのデジタルポテンショメータ機能を有する1ワイヤデバイス、バルブ制御指令およびインバータエラー接点検出信号を伝送するための入出力機能を有する1ワイヤデバイス、から構成されていることを特徴とする請求項4項記載の真空ポンプ制御システム。
  7. 前記コンプレッサモジュールは、前記コンプレッサを運転するために、前記データ線に接続された、センサの出力信号を伝送するためのアナログ−デジタルコンバータ機能を有する1ワイヤデバイス、インバータ速度指令を伝送するためのデジタルポテンショメータ機能を有する1ワイヤデバイス、バルブ制御指令およびインバータエラー接点検出信号を伝送するための入出力機能を有する1ワイヤデバイス、から構成されていることを特徴とする請求項4項記載の真空ポンプ制御システム。
JP2004100900A 2003-07-29 2004-03-30 真空ポンプ制御システム Pending JP2005048764A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US49077203P 2003-07-29 2003-07-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005048764A true JP2005048764A (ja) 2005-02-24

Family

ID=34272473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004100900A Pending JP2005048764A (ja) 2003-07-29 2004-03-30 真空ポンプ制御システム

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20050034465A1 (ja)
JP (1) JP2005048764A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011007652A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 株式会社 アルバック 減圧システム及び真空処理装置
WO2011052675A1 (ja) * 2009-10-29 2011-05-05 株式会社アルバック ポンプユニット,ロードロックチャンバの排気装置,及び真空装置
JP2011131963A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Mitsubishi Electric Corp エレベータ制御装置
JP2014164762A (ja) * 2013-02-21 2014-09-08 Dspace Digital Signal Processing & Control Engineering Gmbh 制御装置テストシステムに接続されるハードウェアコンポーネントのインベントリを実施するための方法
KR20180061742A (ko) * 2016-11-30 2018-06-08 재단법인 한국섬유기계융합연구원 크라이오 펌프용 극저온 온도 제어 시스템
US10025883B2 (en) 2013-02-22 2018-07-17 Dspace Digital Signal Processing And Control Engineering Gmbh Method for generating a configuration for a control unit test system
JP2021028823A (ja) * 2019-08-12 2021-02-25 プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー 真空システム及び真空システム内の電子モジュールを識別するための方法
WO2022190760A1 (ja) * 2021-03-11 2022-09-15 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080000246A1 (en) * 2006-06-28 2008-01-03 Computime, Ltd. Conveying Temperature Information in a Controlled Variable Speed Heating, Ventilation, and Air Conditioning (HVAC) System
US20080078189A1 (en) * 2006-09-28 2008-04-03 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Communication network system
WO2008094357A2 (en) * 2007-01-29 2008-08-07 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Expander speed control
KR101508110B1 (ko) * 2008-01-22 2015-04-06 브룩스 오토메이션, 인크. 크라이오 펌프 네트워크
US8877001B2 (en) * 2009-05-07 2014-11-04 Applied Materials, Inc. Shuttered gate valve
CN103261816B (zh) * 2010-10-08 2015-11-25 住友美国低温学公司 快速降温的低温制冷机
CN104746033B (zh) * 2013-12-30 2017-02-08 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 Ito‑pvd设备抽真空控制的方法及系统
CN104746018B (zh) * 2013-12-31 2017-03-22 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 腔室压力读取方法及设备
US9937990B2 (en) 2014-08-01 2018-04-10 Circor Pumps North America, Llc Intelligent sea water cooling system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5265431A (en) * 1991-06-18 1993-11-30 Helix Technology Corporation Electronically controlled cryopump and network interface
US5375424A (en) * 1993-02-26 1994-12-27 Helix Technology Corporation Cryopump with electronically controlled regeneration
US6272400B1 (en) * 1998-07-13 2001-08-07 Helix Technology Corporation Vacuum network controller
JP4274648B2 (ja) * 1999-09-29 2009-06-10 住友重機械工業株式会社 クライオポンプの制御装置
US6643787B1 (en) * 1999-10-19 2003-11-04 Rambus Inc. Bus system optimization
US7092771B2 (en) * 2002-11-14 2006-08-15 Rockwell Automation Technologies, Inc. Industrial control and monitoring method and system

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI463072B (zh) * 2009-07-15 2014-12-01 Ulvac Inc 減壓系統與真空處理裝置
CN102428275A (zh) * 2009-07-15 2012-04-25 株式会社爱发科 减压系统及真空处理装置
JP5466235B2 (ja) * 2009-07-15 2014-04-09 株式会社アルバック 減圧システム及び真空処理装置
WO2011007652A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 株式会社 アルバック 減圧システム及び真空処理装置
WO2011052675A1 (ja) * 2009-10-29 2011-05-05 株式会社アルバック ポンプユニット,ロードロックチャンバの排気装置,及び真空装置
JPWO2011052675A1 (ja) * 2009-10-29 2013-03-21 株式会社アルバック ポンプユニット,ロードロックチャンバの排気装置,及び真空装置
JP2011131963A (ja) * 2009-12-22 2011-07-07 Mitsubishi Electric Corp エレベータ制御装置
US9633144B2 (en) 2013-02-21 2017-04-25 Dspace Digital Signal Processing And Control Engineering Gmbh Method for performing an inventory of the hardware components connected to a control unit test system
JP2014164762A (ja) * 2013-02-21 2014-09-08 Dspace Digital Signal Processing & Control Engineering Gmbh 制御装置テストシステムに接続されるハードウェアコンポーネントのインベントリを実施するための方法
US10025883B2 (en) 2013-02-22 2018-07-17 Dspace Digital Signal Processing And Control Engineering Gmbh Method for generating a configuration for a control unit test system
KR20180061742A (ko) * 2016-11-30 2018-06-08 재단법인 한국섬유기계융합연구원 크라이오 펌프용 극저온 온도 제어 시스템
JP2021028823A (ja) * 2019-08-12 2021-02-25 プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー 真空システム及び真空システム内の電子モジュールを識別するための方法
WO2022190760A1 (ja) * 2021-03-11 2022-09-15 住友重機械工業株式会社 クライオポンプ
JPWO2022190760A1 (ja) * 2021-03-11 2022-09-15
TWI825586B (zh) * 2021-03-11 2023-12-11 日商住友重機械工業股份有限公司 低溫泵
US12492847B2 (en) 2021-03-11 2025-12-09 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Cryopump

Also Published As

Publication number Publication date
US20050034465A1 (en) 2005-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005048764A (ja) 真空ポンプ制御システム
JP2005264938A (ja) 真空ポンプシステム
CN1301343C (zh) 真空排气系统及其监视·控制方法
US10641256B2 (en) Vacuum pump with abatement function
TW202030820A (zh) 可選擇速率的底部淨化設備及方法
EP2923751A1 (en) Multi-stage vacuum pump with abatement function
CN109923311B (zh) 用于商用车的压缩机系统
JP7554648B2 (ja) クライオポンプシステムおよびその監視方法
US6233948B1 (en) Control apparatus for a plurality of cryopumps
CN114008736B (zh) 多个真空腔室排气系统和抽空多个真空腔室的方法
CN111120259B (zh) 气泵装置及其工作方法、气泵吸盒以及桌面机器人
TWM607111U (zh) 晶圓倉儲充氣控制系統
JP5253517B2 (ja) 真空処理装置のデータ収集システム
CA2570235A1 (en) Industrial controller and method for providing an industrial controller
US20180023719A1 (en) Exhaust system and control device
TWM605384U (zh) 晶圓儲存盒充氣控制櫃體
EP4330549B1 (en) A valve module for a vacuum pumping system
WO2003046959A1 (en) Plasma processing system
JP2024519509A (ja) 真空ポンプシステムのための流体ルーティング
WO2022229643A1 (en) Semiconductor processing system
CN113544438A (zh) 空调机的室外机以及空调系统
JP4643469B2 (ja) インターロック制御装置
CN223261022U (zh) 连接装置
CN217440262U (zh) 一种小型真空负压站
HK40060378B (en) Air conditioner outdoor unit and air-conditioning system

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050328

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20050705

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060614

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080909

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080911

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081027

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090728