JP2005044278A - Pressure control device - Google Patents
Pressure control device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005044278A JP2005044278A JP2003279965A JP2003279965A JP2005044278A JP 2005044278 A JP2005044278 A JP 2005044278A JP 2003279965 A JP2003279965 A JP 2003279965A JP 2003279965 A JP2003279965 A JP 2003279965A JP 2005044278 A JP2005044278 A JP 2005044278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- valve
- pressure control
- diaphragm
- valve body
- fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
【課題】 流体の流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持して圧力制御精度を高める。
【解決手段】 第1の圧力制御弁Aは、第1の弁体27と第1の弁座25とで構成する絞り部を通過する流体の流れ方向が、第1の弁体27の閉弁の方向と同じとし、第2の圧力制御弁Bは、第2の弁体47と第2の弁座45とで構成する絞り部を通過する流体の流れ方向が、第2の弁体47の開弁の方向と同じとする。
【選択図】 図1PROBLEM TO BE SOLVED: To improve pressure control accuracy by keeping a desired secondary pressure constant even when the flow rate of fluid varies.
A first pressure control valve A is configured such that the flow direction of a fluid passing through a throttle portion formed by a first valve body 27 and a first valve seat 25 is such that the first valve body 27 is closed. The second pressure control valve B is configured so that the flow direction of the fluid passing through the throttle portion constituted by the second valve body 47 and the second valve seat 45 is the same as that of the second valve body 47. Same as the valve opening direction.
[Selection] Figure 1
Description
この発明は、ダイアフラムの変位量に応じて弁体が移動し、絞り部の有効通路断面積を変化させる圧力制御弁を備えた圧力制御装置に関する。 The present invention relates to a pressure control device including a pressure control valve that moves a valve body in accordance with a displacement amount of a diaphragm and changes an effective passage sectional area of a throttle portion.
圧力制御装置として、例えば下記特許文献1に記載のものが知られている。
これは、弁本体の内部に、入口部および出口部を有する流体通路を設けるとともに、流体通路に弁座および弁体からなる絞り部を設け、ダイアフラムにより仕切った二つのダイアフラム室のそれぞれに、互いに異なる圧力を導入するように配管接続する。そして、ダイアフラムと弁体とは弁棒を介して互いに連結し、ダイアフラムの変位量に応じて弁体が移動して絞り部の有効断面積が変化する。 This is because a fluid passage having an inlet portion and an outlet portion is provided inside the valve body, a throttle portion including a valve seat and a valve body is provided in the fluid passage, and each of the two diaphragm chambers partitioned by the diaphragm is mutually connected. Connect pipes to introduce different pressures. The diaphragm and the valve body are connected to each other via a valve rod, and the valve body moves in accordance with the amount of displacement of the diaphragm to change the effective cross-sectional area of the throttle portion.
このような圧力制御装置が作動する場合には、流体は、入口部から流体通路内へ入り、絞り部で弁体を開弁方向に移動させるとともに減圧されて、出口部から排出される。これによりダイヤフラムに作用する圧力に応じて調圧がなされる。 When such a pressure control device operates, the fluid enters the fluid passage from the inlet portion, moves the valve body in the valve opening direction at the throttle portion, is decompressed, and is discharged from the outlet portion. As a result, the pressure is adjusted according to the pressure acting on the diaphragm.
上述のような従来の圧力制御装置においては、絞り部を通過する流体が弁体に与える流体力は、通過流量が増えてゆくほど大きくなるため、この影響(流体力)が大きくなると、ダイアフラム両側のダイアフラム室の圧力差による力のバランスが崩れてしまい、結果として流量が変動する場合には、調圧後の二次圧力が所望の値からずれてしまうという問題点がある。 In the conventional pressure control device as described above, the fluid force applied to the valve body by the fluid passing through the throttle portion becomes larger as the passage flow rate increases, so that when this influence (fluid force) increases, both sides of the diaphragm When the balance of force due to the pressure difference in the diaphragm chamber is lost and the flow rate fluctuates as a result, there is a problem that the secondary pressure after pressure adjustment deviates from a desired value.
そこで、この発明は、流体の流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持して圧力制御精度を高めることを目的としている。 Accordingly, an object of the present invention is to increase the pressure control accuracy by keeping a desired secondary pressure constant even when the flow rate of the fluid fluctuates.
前記目的を達成するために、この発明は、入口部と出口部との間の流体通路に、弁座および弁体を備えた絞り部を形成し、前記弁体と連結するダイアフラムにより仕切った二つのダイアフラム室のそれぞれに、互いに異なる圧力を導入するとともに、前記ダイアフラムの変位量に応じて前記弁体が移動し前記絞り部の有効通路断面積を変化させる圧力制御弁を備えた圧力制御装置において、前記圧力制御弁を、前記流体通路に対して並列になるように複数配置し、前記複数の圧力制御弁のうち少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れ方向が前記弁体の閉弁の方向と同じ成分を有し、別の少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れの方向が前記弁体の開弁の方向と同じ成分を有するものである構成とする。 In order to achieve the above object, the present invention forms a throttle portion having a valve seat and a valve body in a fluid passage between an inlet portion and an outlet portion, and is divided by a diaphragm connected to the valve body. In a pressure control apparatus comprising a pressure control valve that introduces different pressures into each of the two diaphragm chambers and moves the valve body in accordance with the displacement amount of the diaphragm to change the effective passage sectional area of the throttle portion A plurality of the pressure control valves are arranged in parallel with the fluid passage, and at least one of the plurality of pressure control valves has a flow direction of the fluid passing through the throttle portion of the valve body. It has the same component as the valve closing direction, and at least one of the other components has the same component as the valve opening direction of the valve body in the flow direction of the fluid passing through the throttle portion.
この発明によれば、流体の通過流量が増加した場合に、複数の弁体のうち少なくとも一つは、流体力の作用により基準バランス位置より閉弁側に動く一方、別の少なくとも一つは、逆に基準バランス位置より開弁側に動くことになり、全体としては流体力の影響をキャンセルすることが可能となり、つまり流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持することができ、結果として圧力制御精度が高まることになる。 According to this invention, when the flow rate of the fluid increases, at least one of the plurality of valve bodies moves to the valve closing side from the reference balance position by the action of fluid force, while at least one of the other valve bodies Conversely, the valve moves from the reference balance position to the valve opening side, and the influence of the fluid force can be canceled as a whole, that is, the desired secondary pressure is kept constant even when the flow rate fluctuates. As a result, the pressure control accuracy is increased.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づき説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、この発明の第1の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。入口部としてのガス供給ポート1から圧力(一次圧)P0で供給したガスは、ボディ2内に互いに並列に形成してある、流体通路としての第1のガス通路3および第2のガス通路5を通って出口部としてのガス排出ポート7へ、圧力(二次圧)P1で排出される。
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a pressure control device showing a first embodiment of the present invention. The gas supplied at the pressure (primary pressure) P0 from the
第1のガス通路3は、ガス供給ポート1からガス排出ポート7に至る間に、第1の屈曲部9で左方向の図中で上方へ、第2の屈曲部11で右方向の図中で右水平方向へ、第3の屈曲部13で右方向の図中で下方へ、第4の屈曲部15で左方向の図中で右水平方向へ、それぞれ90度の角度で屈曲している。
The
また、第2のガス通路5は、ガス供給ポート1からガス排出ポート7に至る間に、第1のガス通路5における前記した第1の屈曲部9より下流の第1の屈曲部17で左方向の図中で上方へ、第2の屈曲部19で右方向の図中で右水平方向へ、第3の屈曲部21で右方向の図中で下方へ、第1のガス通路3における前記した第4の屈曲部15より上流の第4の屈曲部23で左方向の図中で右水平方向へ、それぞれ90度の角度で屈曲している。
The
第1のガス通路3および第2のガス通路5を、上記したような屈曲形状とすることで、ガス供給ポート1とガス排出ポート7とは、同一直線状に位置することになる。
By making the
第1のガス通路3の第1の屈曲部9と第2の屈曲部11との間には、第1の弁座25を設け、この第1の弁座25とで絞り部を構成する第1の弁体27を、第1の屈曲部9側から第1の弁座25に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第1の弁体27の閉弁の方向と同じ成分を有している。
A
第1の弁体27は、第1の弁座25と反対側のガス通路内壁との間に設けた第1の下部スプリング29によって閉弁方向に押し付けられている。また、第1の弁体27の上記第1の下部スプリング29と反対側に第1の弁棒31の一端を連結し、第1の弁棒31の他端を第1のダイアフラム33に連結している。
The
第1のダイアフラム33は、ボディ2内に形成してある第1の差圧室35内に設置してあり、この第1の差圧室35を、弁棒31と反対側の第1の上部ダイアフラム室37と、弁棒31側の第1の下部ダイアフラム室39との二つの空間に仕切っている。第1の上部ダイアフラム室37にはガス供給ポート1と同等の圧力P0を導入する一方、第1の下部ダイアフラム室39にはガス排出ポート7と同等の圧力P1を導入する。
The
第1の上部ダイアフラム室37内には、第1の弁棒31を第1の弁体27が開弁する方向に押し付ける第1の上部スプリング41を設けてある。この第1の上部スプリング41と前記した第1の下部スプリング29の初期セット荷重は、設定したい二次圧P1の大きさに応じて、第1の差圧室35における差圧による第1のダイアフラム33に生じる力とバランスするよう設定する。
A first
また、第1の弁棒31は、第1のガス通路3と第1の差圧室35との間のボディ2に形成した貫通孔2aに移動可能に挿入してあり、この貫通孔2aの第1のガス通路3および第1の差圧室35のそれぞれの近傍には、シール材42,43を設けてある。
The
第2のガス通路5の上記した第3の屈曲部21と第4の屈曲部23との間には、第2の弁座45を設け、この第2の弁座45とで絞り部を構成する第2の弁体47を、第4の屈曲部23側から第2の弁座45に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第2の弁体47の開弁の方向と同じ成分を有している。
A
第2の弁体47は、第2の弁座45と反対側のガス通路内壁との間に設けた第2の下部スプリング49によって閉弁方向に押し付けられている。また、第2の弁体47の上記第2の下部スプリング49と反対側に第2の弁棒51の一端を連結し、第2の弁棒51の他端を第2のダイアフラム53に連結している。
The
第2のダイアフラム53は、ボディ2内に形成してある第2の差圧室55内に設置してあり、この第2の差圧室55を、弁棒51と反対側の第2の上部ダイアフラム室57と、弁棒51側の第2の下部ダイアフラム室59との二つの空間に仕切っている。第2の上部ダイアフラム室57にはガス供給ポート1と同等の圧力P0を導入する一方、第2の下部ダイアフラム室59にはガス排出ポート7と同等の圧力P1を導入する。
The
第2の上部ダイアフラム室57内には、第2の弁棒51を第2の弁体57が開弁する方向に押し付ける第2の上部スプリング61を設けてある。この第2の上部スプリング61と前記した第2の下部スプリング49の初期セット荷重は、設定したい二次圧P1の大きさに応じて、第2の差圧室55における差圧による第2のダイアフラム53に生じる力とバランスするよう設定する。
A second
また、第2の弁棒51は、第2のガス通路5と第2の差圧室55との間のボディ2に形成した貫通孔2bに移動可能に挿入してあり、この貫通孔2bの第2のガス通路5および第2の差圧室55のそれぞれの近傍には、シール材62,63を設けてある。
The
なお、第1のガス通路3は、第2の弁棒51を避けるようにボディ2内に形成してあるものとする。
It is assumed that the
このように、上記第1の実施形態における圧力制御装置は、第1の弁体27および第1のダイアフラム33などを有する第1の圧力制御弁Aと、第2の弁体47および第2のダイアフラム53などを有する第2の圧力制御弁Bとを備えている。
As described above, the pressure control device according to the first embodiment includes the first pressure control valve A having the
次に、第1の実施形態における第1,第2の各圧力制御弁A,Bそれぞれの動作および、全体としての動作について説明する。 Next, the operation of each of the first and second pressure control valves A and B in the first embodiment and the operation as a whole will be described.
図2(a)は、第1の圧力制御弁Aの動作説明図である。第1の弁体27および第1の弁棒31についての力の釣り合いを考えると、第1の上部ダイアフラム室37と第1の下部ダイアフラム室39との圧力差によって発生する図中で下向きの力(差圧力)Fp、第1の下部スプリング29の初期セット荷重によって発生する図中で上向きの力(スプリング力)Fs、およびガスが第1の弁体27と第1の弁座25との隙間すなわち絞り部を通過するときに、第1の弁体27に与える図中で上向きの力(流体力)Fqの三つの力が存在する。
FIG. 2A is an operation explanatory diagram of the first pressure control valve A. FIG. Considering the balance of forces on the
このうち流体力Fqは、図2(b)のように、ガスの流量Qの増加とともに大きくなるため、バランスを保つために第1の弁体27は、自動的に差圧力Fpを増やすように、つまり二次圧P1を減らして第1の上部ダイアフラム室37と第1の下部ダイアフラム室39との差圧を大きくするように動くことになる。すなわち、次式(1)が成り立つ。
Of these, the fluid force Fq increases as the gas flow rate Q increases as shown in FIG. 2B, so that the
Fp=Fs+Fq…(1)
図3(a)は、第2の圧力制御弁Bの動作説明図である。上記した第1の圧力制御弁Aと同様、第2の弁体47および第2の弁棒51についての力の釣り合いを考えると、第2の上部ダイアフラム室57と第2の下部ダイアフラム室59との圧力差によって発生する図中で下向きの力(差圧力)Fp、第2の下部スプリング49の初期セット荷重によって発生する図中で上向きの力(スプリング力)Fs、およびガスが第2の弁体47と第2の弁座45との隙間すなわち絞り部を通過するときに、第2の弁体47に与える図中で下向きの力(流体力)Fqの三つの力が存在する。
Fp = Fs + Fq (1)
FIG. 3A is an operation explanatory diagram of the second pressure control valve B. FIG. Similar to the first pressure control valve A described above, when considering the balance of forces on the
このうち流体力Fqは、図3(b)のように、ガスの流量Qの増加とともに大きくなるため、バランスを保つために第2の弁体47は、自動的に差圧力Fpを減らすように、つまり二次圧P1を増やして第2の上部ダイアフラム室57と第2の下部ダイアフラム室59との差圧を小さくするように動くことになる。すなわち、次式(2)が成り立つ。
Of these, the fluid force Fq increases as the gas flow rate Q increases, as shown in FIG. 3B, so that the
Fp=Fs−Fq…(2)
上記図2で説明した第1の圧力制御弁Aの力の釣り合い式(1)と、図3で説明した第2の圧力制御弁Bの力の釣り合い式(2)とを組み合わせると、図4に示すように、Fp=Fsとなり、流体力Fqの差圧力Fpへの影響がキャンセルできることがわかる。
Fp = Fs−Fq (2)
4 is combined with the force balance equation (1) of the first pressure control valve A described in FIG. 2 and the force balance equation (2) of the second pressure control valve B described in FIG. As can be seen from the graph, Fp = Fs, and the influence of the fluid force Fq on the differential pressure Fp can be canceled.
このように、上述した第1の実施形態によれば、流体力Fqの差圧力Fpへの影響を無効にすることが可能となり、つまり流体力Fqが変動しても、第1,第2の各ダイアフラム33,53の上下に作用する差圧を一定に保つことができる。このことは、第1,第2の各弁体27,47を通過するガスの流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧P2を一定に保持することができ、結果として圧力制御装置の圧力制御精度が高まるという効果が得られることになる。
Thus, according to the first embodiment described above, it is possible to invalidate the influence of the fluid force Fq on the differential pressure Fp, that is, even if the fluid force Fq fluctuates, The differential pressure acting on the top and bottom of each
図5は、この発明の第2の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第2のガス通路50を、ガス供給ポート1から第2の弁体47の設置付近まで直線状とし、第2の弁体47の上流側で右方向(図中で下方向)へ屈曲する第1の屈曲部170を設けるとともに、第2の弁体47の下流側で左方向(図中で右水平方向)へ屈曲する第2の屈曲部190を設け、さらにその下流側で左方向(図中で上方向)へ屈曲する第3の屈曲部210、およびガス排出ポート7に向けて右方向(図中で右水平方向)へ屈曲する第4の屈曲部230を、それぞれ設けてある。
FIG. 5 is an overall configuration diagram of a pressure control device showing a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the
第4の屈曲部230は、第1のガス通路3における前記した第4の屈曲部15との合流部となっており、この合流部からガス排出ポート7に連通し、このガス排出ポート7と、ガス供給ポート1から第1の屈曲部170に至る直線部分の第1のガス通路50とは、上下高さ位置が同じとなっている。
The fourth
このため、第1の屈曲部9から左方向の図中で上方へ屈曲している第2のガス通路3に設置する第1の圧力制御弁Aは、第1の圧力制御弁Bより上方に位置していることになる。その他の構成については、第1の実施形態と同様である。
For this reason, the first pressure control valve A installed in the
この第2の実施形態では、ガス供給ポート1からガス排出ポート7へとつなぐ第1,第2の各ガス通路3,50のどちらを経由しても、その各経路における90度で屈曲する屈曲部の数は、第1から第4のまでの4箇所となっており、この屈曲部の数は、前記図1に示した第1の実施形態も同様である。
In this second embodiment, the bending that bends at 90 degrees in each of the first and
このように、第1,第2の各ガス通路3,50(5)の屈曲部の数を同じとすることで、ガスがこれら各ガス通路3,50(5)のどちらを通過しても、屈曲部による通路抵抗が等しくなる。これにより、第1,第2の各圧力制御弁A,Bへのガス流量の配分が均等化し、第1,第2の各弁体27,47に作用する流体力の大きさも等しくなり、流体力キャンセル作用がより精度よく実現できることにより、圧力制御装置の圧力制御精度をより一層高めることが可能となる。
Thus, by making the number of bent portions of the first and
すなわち、複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも二つは、入口部と出口部との間における屈曲部の総数を互いに同じとしたため、ガス通路途中の屈曲部によって生じる通路抵抗について、複数のガス通路間における差が微小となり、各圧力制御弁への流量の配分をより均等化でき、つまり圧力制御装置の圧力制御精度をより一層高めることが可能となる。 That is, at least two of the plurality of fluid passages provided corresponding to the plurality of pressure control valves have the same total number of bent portions between the inlet portion and the outlet portion, and thus are generated by the bent portion in the middle of the gas passage. Regarding the passage resistance, the difference between the plurality of gas passages becomes minute, and the distribution of the flow rate to each pressure control valve can be made more uniform, that is, the pressure control accuracy of the pressure control device can be further increased.
図6は、この発明の第3の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第2のガス通路5における第1の屈曲部17より上流に、ガスの流れを遮断する遮断弁65を設けている。この遮断弁65は、図示しない流量計あるいは差圧計が測定したガス流量信号あるいはガス圧力信号に基づき遮断弁制御回路67が出力する制御信号によって駆動する。その他の構成は前記図1に示した第1の実施形態と同じである。
FIG. 6 is an overall configuration diagram of a pressure control device showing a third embodiment of the present invention. In this embodiment, a
図7は、第3の実施形態における遮断弁65の動きを制御するためのフローチャートであり、以下にそのアルゴリズムを説明する。
FIG. 7 is a flowchart for controlling the movement of the
まず、現在のガス流量Qnを流量計あるいは差圧計によって測定、あるいは算出し(ステップS1)、あらかじめ設定した弁開閉切替流量Qcとの大小関係を、Qn≧Qcによって比較する(ステップS2)。ここで、Qn≧Qcが成立しない場合、すなわち現在のガス流量Qnが弁開閉切替流量Qcより小さい場合には、前記ステップS1に戻ってガス流量Qnの更新を行う。逆にQn≧Qcが成立する場合は、遮断弁65に開信号を出力し(ステップS3)、第1,第2の各圧力制御弁A,Bの双方を用いた圧力制御を開始する。 First, the current gas flow rate Qn is measured or calculated by a flow meter or a differential pressure meter (step S1), and the magnitude relationship with a preset valve opening / closing switching flow rate Qc is compared by Qn ≧ Qc (step S2). If Qn ≧ Qc does not hold, that is, if the current gas flow rate Qn is smaller than the valve opening / closing switching flow rate Qc, the process returns to step S1 to update the gas flow rate Qn. Conversely, if Qn ≧ Qc is established, an open signal is output to the shutoff valve 65 (step S3), and pressure control using both the first and second pressure control valves A and B is started.
続いて現在のガス流量Qnの測定を再度行ってガス流量Qの更新を行った後(ステップS4)、弁開閉切替流量Qcとの大小関係を、Qn<Qcによって比較する(ステップS5)。ここで、Qn<Qcが成立しない場合、すなわち現在のガス流量Qnが弁開閉切替流量Qc以上の場合は、前記ステップS4に戻ってガス流量Qnの更新を行う。逆にQn<Qcの場合には、遮断弁65に閉信号を出力し(ステップS6)、第1の圧力制御弁Aのみを用いた圧力制御を開始する。 Subsequently, after the current gas flow rate Qn is measured again and the gas flow rate Q is updated (step S4), the magnitude relationship with the valve opening / closing switching flow rate Qc is compared by Qn <Qc (step S5). If Qn <Qc does not hold, that is, if the current gas flow rate Qn is equal to or greater than the valve opening / closing switching flow rate Qc, the process returns to step S4 to update the gas flow rate Qn. Conversely, if Qn <Qc, a close signal is output to the shutoff valve 65 (step S6), and pressure control using only the first pressure control valve A is started.
上述した第3の実施形態によれば、流体力の影響が小さい小流量制御時には、片側のみの第1の圧力制御弁Aで圧力制御をすることができ、つまり圧力制御弁一つあたりの通過流量が平均的に増えることで、圧力制御が困難になる弁体の微小開度領域を使用しなくてもよくなり、結果として、特に小流量域での圧力制御精度のさらなる向上が期待できる。 According to the third embodiment described above, at the time of small flow control with little influence of fluid force, the pressure control can be performed by the first pressure control valve A on only one side, that is, the passage per pressure control valve. By increasing the flow rate on average, it is not necessary to use a minute opening region of the valve body that makes pressure control difficult, and as a result, further improvement in pressure control accuracy can be expected particularly in a small flow rate region.
すなわち、複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも一つに、流体の流れを遮断する遮断弁を設けたため、流体力の影響が小さい小流量制御時には、一つまたは少数の弁のみで圧力制御をすることができ、つまり圧力制御弁一つあたりの通過流量が平均的に増えることで、圧力制御が困難になる弁体の微小開度領域を使用しなくてもよくなり、結果として、特に小流量域での圧力制御精度のさらなる向上が期待できる。 That is, at least one of the plurality of fluid passages provided corresponding to the plurality of pressure control valves is provided with a shut-off valve that shuts off the flow of fluid. It is possible to control the pressure only with this valve, that is, it is not necessary to use the minute opening area of the valve body that makes pressure control difficult because the passage flow rate per pressure control valve increases on average. As a result, further improvement in pressure control accuracy can be expected particularly in a small flow rate region.
図8は、この発明の第4の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第1の弁棒69および第2の弁棒71のそれぞれの上端を、連結棒73で互いに連結して一体化し、連結棒73の長手方向中央の上部を、連結具75を介して一つの共通ダイアフラム77に連結している。
FIG. 8 is an overall configuration diagram of a pressure control device showing a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, the upper ends of the
共通ダイアフラム77は、共通差圧室79を、ガス供給ポート1と同等の圧力P0が導入される、連結具75と反対側の上部共通ダイアフラム室81と、ガス排出ポート7と同等の圧力P1が導入される、連結具75側の下部共通ダイアフラム室83との二つの空間に仕切っている。
The
上部共通ダイアフラム室81内には、連結具75を第1,第2の各弁体27,47が開弁する方向に押し付ける上部共通スプリング85を設けてある。この上部共通スプリング85と、前記した第1の下部スプリング29および第2の下部スプリング49の初期セット荷重は、設定したい二次圧P1の大きさに応じて、共通差圧室79における差圧による共通ダイアフラム77に生じる力とバランスするよう設定する。
In the upper
また、第1の弁棒69を移動可能に挿入してある貫通孔2aの上端および、第2の弁棒71を移動可能に挿入してある貫通孔2bの上端は、連結棒移動空間2cに突出し、この連結棒移動空間2cに連結棒73が上下動可能に収容してある。さらに連結棒移動空間2cと共通差圧室79とを連通する貫通孔2d内に連結具75を移動可能に挿入し、貫通孔2dの共通差圧室79近傍にはシール材87を設けてある。その他の構成は、前述した第1の実施形態と同じである。
The upper end of the through
上述した第4の実施形態によれば、共通ダイアフラム77および、共通ダイアフラム77によって共通差圧室79を形成することで、これらを一つにまとめることができて装置全体を簡素化でき、保守や調整の手間が省くことができる。さらに、部品点数低減によるコスト低減効果も得ることができる。
According to the fourth embodiment described above, by forming the
すなわち、複数の圧力制御弁における各弁体のうち少なくとも二つを、互いに一体化した弁棒によって一つの共通ダイアフラムに連結したため、ダイアフラムおよび、ダイアフラムを挟む二つのダイアフラム室を簡素化でき、さらに部品点数低減によるコスト低減効果も得ることができる。 That is, since at least two of the valve bodies in the plurality of pressure control valves are connected to one common diaphragm by the valve rods integrated with each other, the diaphragm and the two diaphragm chambers sandwiching the diaphragm can be simplified. A cost reduction effect due to the reduction in the number of points can also be obtained.
図9は、この発明の第5の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、ガス供給ポート1とガス排出ポート7との間に形成してある流体通路としての第1のガス通路103および第2のガス通路105を、互いに同一直線状に位置するガス供給ポート1およびガス排出ポート7を中心として図中で上下にそれぞれ配置している。
FIG. 9 is an overall configuration diagram of a pressure control device showing a fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, the
つまり、第1のガス通路103は、第1の屈曲部107で左方向(図中で上方)へ、第2の屈曲部109で右方向(図中で右水平方向)へ、第3の屈曲部111で右方向(図中で下方)へ、さらに第4の屈曲部113で左方向(図中で右水平方向)へ、それぞれ90度の角度で屈曲してガス排出ポート7へ連通する。
That is, the
一方、第2のガス通路105は、第1の屈曲部115で右方向(図中で下方)へ、第2の屈曲部117で左方向(図中で右水平方向)へ、第3の屈曲部119で左方向(図中で上方)へ、さらに第4の屈曲部121で右方向(図中で右水平方向)へ、それぞれ90度の角度で屈曲してガス排出ポート7へ連通する。
On the other hand, the
第2のガス通路105の上記した第3の屈曲部119と第3の屈曲部121との間には、第2の弁座123を設け、この第2の弁座123とで絞り部を構成する第2の弁体47を、第3の屈曲部119側から第2の弁座123に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第2の弁体47の閉弁の方向と同じ成分を有している。また、この第2の弁体47は、第2の弁座123と反対側のガス通路内壁との間に設けた下部スプリング125によって、閉弁方向に押し付けられている。
A
一方、第1のガス通路103の上記した第3の屈曲部111と第4の屈曲部113との間には、第1の弁座127を設け、この第1の弁座127とで絞り部を構成する第1の弁体27を、第4の屈曲部113側から第1の弁座127に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第1の弁体27の開弁の方向と同じ成分を有している。
On the other hand, a
また、第1の弁体27と第2の弁体47とは、第2の弁棒129によって互いに連結し、第1の弁体27の第3の屈曲部111側は、第1の弁棒131の一端に連結し、第1の弁棒131の他端は、共通ダイアフラム133に連結している。
The
共通ダイアフラム133は、ボディ2内に形成してある共通差圧室135内に設置してあり、この共通差圧室135は、共通ダイアフラム133によって、ガス供給ポート1と同等の圧力P0が導入される、第1の弁棒131と反対側の上部共通ダイアフラム室137と、ガス排出ポート7と同等の圧力P1が導入される、第1の弁棒131側の下部共通ダイアフラム室139との二つの空間に仕切ってある。
The
上部共通ダイアフラム室137内には、第1の弁棒131を第1,第2の各弁体27,47が開弁する方向に押し付ける上部共通スプリング141を設けてある。この上部共通スプリング141と、前記した下部共通スプリング125の初期セット荷重は、設定したい二次圧P1の大きさに応じて、共通差圧室135における差圧による共通ダイアフラム133に生じる力とバランスするよう設定する。
In the upper
また、第1の弁棒131は、第1のガス通路103と共通差圧室135との間のボディ2に形成した貫通孔2eに移動可能に挿入してあり、この貫通孔2eの第1のガス通路103および共通差圧室135のそれぞれの近傍には、シール材142,143を設けてある。
The
上述した第5の実施形態によれば、共通ダイアフラム133および、共通ダイアフラム133によって共通差圧室135を形成することで、これらを一つにまとめることができて装置全体の簡素化と部品点数低減ができることはもちろん、弁棒を複数個別に用意する必要がなく、第1の弁棒131および第2の弁棒129を互いに直線状となるよう一体化したものを使用できるので、さらなるコスト低減効果が得られる上に、圧力制御装置全体の軽量化、小スペース化にも寄与することが期待できる。
According to the fifth embodiment described above, by forming the
すなわち、互いに一体化した弁棒相互は、同一直線状に連結しているため、ダイアフラムおよび、ダイアフラムを挟む二つのダイアフラム室を簡素化できることはもちろん、弁棒を一体化した1本に削減でき、さらなるコスト低減効果が得られる上に、圧力制御装置全体の軽量化、小スペース化にも寄与することが期待できる。 That is, since the valve stems integrated with each other are connected in the same straight line, the diaphragm and the two diaphragm chambers sandwiching the diaphragm can be simplified, and the valve stem can be reduced to one integrated, In addition to the further cost reduction effect, it can be expected to contribute to the weight reduction and space saving of the entire pressure control device.
A 第1の圧力制御弁
B 第2の圧力制御弁
1 ガス供給ポート(入口部)
3,103 第1のガス通路(流体通路)
5,50,105 第2のガス通路(流体通路)
7 ガス排出ポート(出口部)
9,17,170,107,115 第1の屈曲部
11,19,190,109,117 第2の屈曲部
13,21,210,111,119 第3の屈曲部
15,23,230,113,121 第4の屈曲部
25,127 第1の弁座(絞り部)
27 第1の弁体(絞り部)
33 第1のダイアフラム
37 第1の上部ダイアフラム室
39 第1の下部ダイアフラム室
47 第2の弁体(絞り部)
45,123 第2の弁座(絞り部)
53 第2のダイアフラム
57 第2の上部ダイアフラム室
59 第2の下部ダイアフラム室
65 遮断弁
69,131 第1の弁棒(互いに一体化した弁棒)
71,129 第2の弁棒(互いに一体化した弁棒)
77,133 共通ダイアフラム
81,137 上部共通ダイアフラム室
83,139 下部共通ダイアフラム室
A 1st pressure control valve B 2nd
3,103 first gas passage (fluid passage)
5, 50, 105 Second gas passage (fluid passage)
7 Gas exhaust port (exit part)
9, 17, 170, 107, 115 First
27 First valve element (throttle part)
33
45,123 Second valve seat (throttle part)
53
71, 129 Second valve stem (integrated valve stem)
77,133 Common diaphragm 81,137 Upper common diaphragm chamber 83,139 Lower common diaphragm chamber
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003279965A JP2005044278A (en) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | Pressure control device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003279965A JP2005044278A (en) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | Pressure control device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005044278A true JP2005044278A (en) | 2005-02-17 |
Family
ID=34265928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003279965A Pending JP2005044278A (en) | 2003-07-25 | 2003-07-25 | Pressure control device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005044278A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522528A (en) * | 2010-03-18 | 2013-06-13 | ヒプテック ゲーエムベーハー | FUEL SUPPLEMENT SYSTEM HAVING PRESSURE CONTROL UNIT FOR SUPPLYING FUEL AND CONTROL UNIT HAVING THE PRESSURE CONTROL |
-
2003
- 2003-07-25 JP JP2003279965A patent/JP2005044278A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013522528A (en) * | 2010-03-18 | 2013-06-13 | ヒプテック ゲーエムベーハー | FUEL SUPPLEMENT SYSTEM HAVING PRESSURE CONTROL UNIT FOR SUPPLYING FUEL AND CONTROL UNIT HAVING THE PRESSURE CONTROL |
| US9880568B2 (en) | 2010-03-18 | 2018-01-30 | Hyptec Gmbh | Pressure regulators for feeding fuel, and fuel-supplying system comprising a regulating unit that consists of said pressure regulators |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6035893A (en) | Shutoff-opening devices and fluid control apparatus comprising such devices | |
| US6273139B1 (en) | Fluid control apparatus | |
| CN1920723B (en) | Fluid operated position regulator | |
| KR20040102040A (en) | Mass flow controller | |
| KR102087645B1 (en) | Pressure-type flow rate control device | |
| KR101163851B1 (en) | Fluid control apparatus | |
| EP2166423A1 (en) | Balanced fluid valve | |
| US10261522B2 (en) | Pressure-type flow rate control device | |
| EP3762802B1 (en) | Solenoid operated valve for reducing excessive piping pressure in a fluid distribution system | |
| JP7061808B2 (en) | Fittings and fluid controls | |
| JP4022438B2 (en) | Constant flow valve and constant flow mixing method | |
| KR102878409B1 (en) | Arrangement and method for controlled valve flow | |
| JP2005044278A (en) | Pressure control device | |
| US6408879B1 (en) | Fluid control device | |
| CN101410770B (en) | Valve arrangement for connecting heat exchangers of hot water extraction plants to remote heating networks | |
| US8297306B2 (en) | Fluid regulator | |
| US7806136B2 (en) | Wafer-type direct-acting valve | |
| CN101410771B (en) | Valve arrangement for connecting heat exchangers of hot water extraction plants to remote heating networks | |
| WO2023047754A1 (en) | Valve device, fluid control device, fluid control method, semiconductor manufacturing device, and semiconductor manufacturing method | |
| JP2006057645A (en) | Channel block structure | |
| JP2005202736A (en) | Pressure reducing valve system | |
| JP4874059B2 (en) | Pressure operating system | |
| JP2554610Y2 (en) | valve | |
| JP2005291481A (en) | Integrated valve | |
| JPH0835580A (en) | Flow control valve |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060529 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081202 |