JP2004521761A - 両極性パルスを用い陰極析出物を除去する方法 - Google Patents

Abstract

電解加工処理の間に陰極析出物をオンラインで除去する方法を提供する。プロセス制御手段は、被加工物及び陰極に対して、単極性加工用電圧パルスＵ１と逆極性Ｕ２の電圧パルスを交互にするよう配置される。プロセス制御手段は、動作パラメータに基づきオンラインで陰極析出物の量を決定する構成を有する。動作パラメータが許容レベルを超える場合のみ、プロセス制御手段は単極性加工用電圧パルスＵ１と逆極性Ｕ２の電圧パルスを交互にする。この場合、陰極の磨耗は最小化される。

Description

【０００１】
本発明は、電解液中の導電性被加工物を、被加工物と導電性電極との間に両極性電気パルスを印加することにより電解加工する方法であり、一又は複数の単極性の加工用極性の電圧パルスとそれとは逆の極性の電圧パルスとが交互になり、被加工物と電極との間には電解液が充填された間隙が維持される、ところの方法に関する。
【０００２】
また、本発明は、電解液中の導電性被加工物を、被加工物と導電性電極との間に両極性電気パルスを印加することにより電解加工する装置であり、一又は複数の単極性の加工用極性の電圧パルスとそれとは逆の極性の電圧パルスとが交互になり、被加工物と電極との間には電解液が充填された間隙が維持される、ところの装置に関する。
【０００３】
電解加工は、電解液と電流を供給しつつ、電極の位置で導電性被加工物を溶解させる処理である。この目的のため、電極を被加工物の近傍に配置し、被加工物と電極との間の間隙に電解液を供給すると、被加工物が電極に対して陽極となり、電解液を介して強力な電流が被加工物及び電極を流れる。電流は、所与の振幅及び幅を有する加工用パルスの形で印加される。加工用パルスと加工用パルスの間では、電解液が新しくされる。この作業環境下、被加工物は溶解され、被加工物と電極との間の間隙値は増加する。これを補うため、被加工物と電極は所与の送り速度でお互いに近づけられ、その結果、電極は、被加工物の表面に空洞（ｃａｖｉｔｙ）、又は結果的に孔（ｈｏｌｅ）を形成する。空洞又は孔は電極の形状に対応した形状を有する。この処理は、例えば、硬化金属や合金への複雑な空洞や孔の形成に、また、硬化金属や合金の成形に用いることができる。被加工物の空洞や孔の形状が電極の形状に対応する複写精度（ｃｏｐｙｉｎｇ ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ）は、結果物の品質にとって重要である。
【０００４】
両極性電圧パルスを用いて電解加工を行う方法は、米国特許第５，８３３，８３５号のものが知られている。加工用パルスの極性と逆の極性のパルス成分が、電極の前面（ｆｒｏｎｔ ｓｕｒｆａｃｅ）上の析出物を除去するのに用いられる。その逆極性のパルスの振幅は、電極表面の磨耗状態により制限される。加工用電圧終了後の被加工物と電極間の極性化電圧（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ ｖｏｌｔａｇｅ）の値に基づき検査を行うことにより、この状態は確認される。
【０００５】
この公知の方法には、陰極析出物の程度に係る情報がシステム内で得られないため、陰極析出物の除去処理が制御されないという不具合がある。従って、陰極の表面が完全には清浄にならず、陰極の実効的な幾何学形状に狂いが生じる可能性がある。この結果、電解加工の精度が劣ることになる。
【０００６】
本発明の目的は、電極の前面からの析出物の制御された除去に先立つ陰極析出物の判定処理を改善することにより、電解加工の精度及び効率を改善する方法を提供することである。
【０００７】
本発明による方法は、
電極の前面の清浄度に依存する動作パラメータの第１の値の計測を行うステップであり、前記第１の値は電極の清浄な前面に対応する、ところのステップ；
少なくとも一の単極性加工用電圧パルスが印加された後に、単極性加工用電圧パルス間の合間に前記動作パラメータの第２の値の計測を行うステップ；
前記動作パラメータの第１の値と第２の値のずれの計算を行うステップ；及び
前記計算されたずれがゼロでないときに初めて、少なくとも一の逆極性の電圧パルスを印加するステップ；
から構成されることを特徴とする
上記発明の技術的特徴によれば、清浄な電極表面に対応する、動作パラメータの第１の値の計測を行い、その計測値は、陰極析出物の程度を求めるため基準値として用いられる。加工用パルスの印加後、電極の前面上に析出物が発生することがわかっている。この現象は、間隙において発生する化学反応の生成物を除去するのが困難な状況下において特に顕著である。このように形成される析出物は、主に被加工物に存在する化学元素の水和物及び酸化物から成る。析出物の形成と両極性電解加工下におけるその除去のメカニズムは以下のとおりである。例えば、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ等の金属は、異なる種類の金属の電解加工下において塩の水溶液中でイオン化される。これらのイオン化された金属は、電解液の流れにより陰極の近傍に運ばれ、例えば、Ｆｅ（ＯＨ）_３、Ｃｒ（ＯＨ）_３、Ｎｉ（ＯＨ）_２、Ａｌ（ＯＨ）_３、ＦｅＯＨ（ＮＯ_３）_２、Ｆｅ（ＯＨ）_２ＮＯ_３等の酸化物、水酸化物及び塩を形成する。これらの組成物は更に、［ｍＦｅ（ＯＨ）_３ｎＦｅ^３＋（ｎ−ｘ）ＯＨ⁻］^ｚ＋のようなプラスに帯電したコロイドの形成につながる。基礎となる化学反応は当業者にとって基礎的知識である。これらのコロイドが陰極表面に達すると、陰極析出物の形でそこに堆積する。陰極析出物が形成される物理的過程は、主にプラスに帯電した粒子の電気泳動による移動とそれらの陰極表面への吸着である。両極性モードでは、逆極性の電圧パルスが間隙に印加されると、陰極表面で陽極処理が発生する。この処理は、
２Ｈ_２Ｏ−４ｅ→Ｏ_２＋４Ｈ^＋
という反応による、激しい酸素形成を特徴とする。この酸素形成により、まず析出物層の機械的破壊により、陰極表面から析出物が除去される。次に、ペーハー値が約１〜２で、陰極の近傍に酸が形成される。このように形成された酸の影響の下、陰極表面で数種類の化学反応が起こり、更に析出物が除去される。このように、形成された酸層における析出物の化学的溶解を伴う酸素形成の機械的影響の結果、陰極の前面はクリーニングされる。
【０００８】
陰極析出物の化学及び相組成は被加工物（陽極）の材料により定まり、電極（陰極）の材料とは異なることが可能である。従って、元素組成の異なる析出物が陰極表面に発生した場合、陰極の特性は変化する。陰極の適切な特性を動作パラメータとして選択することにより、析出物の生成を検出することができる。これにより、電極前面上への析出物の形成の程度に係る情報を得ることが可能になる。従って、動作パラメータをオンラインで計測し、その計測値を陰極の清浄な表面に対応する基準値と比較することにより、陰極析出物の程度に係る量的情報が得られる。本発明による方法において、この情報は、動作パラメータの第１の値と第２の値の間にずれが発生した場合、逆極性の電圧パルスを印加することにより、正確に制御されて陰極析出物を除去するために用いられる。逆極性のパルスの振幅、パルスの上り勾配（ｕｐｓｌｏｐｅ）及び幅は、間隙の所与の値について陰極前面の近傍で激しい酸の形成が起こり、その酸の領域は析出物を溶解し電解液中に溶解した析出物を維持するのに十分な厚さとなるように選択される。そのような動作条件の一例は、パルス上り勾配２μｍ以下、結果として生じる間隙における電流密度値少なくとも１０００Ａ／ｃｍ２、パルス幅５〜２０μｓの範囲で達成される。
【０００９】
本発明による方法の一実施例は、動作パラメータの第１の値と第２の値の計算されたずれが予め定められた第３の値よりも大きい場合、各連続する単極性加工用電圧パルスの後に逆極性の電圧パルスを複数回繰返すことを特徴とする。電解処理の効率の観点からは、陰極析出物の除去に対する作用が始まる閾値を定めることが好ましい。この閾値の量は、動作パラメータの第３の値として定められる。この閾値を超えたことが検知された場合、システムは異なるモードに切り替わり、単極性の加工用パルスは複数回繰返される逆極性のパルスと交互にされる。この繰返し回数は、動作パラメータの第３の値に依存する経験的に定まる値に従って予め設定することができる。動作パラメータの値が所定のカットオフ値に達したことが検知された場合、逆極性の電圧パルスの印加を中断することもできる。
【００１０】
本発明による方法の他の実施例は、複数回の繰返しの印加の後、前記計算されたずれが前記第３の値よりも依然として大きい場合、前記逆極性の電圧パルスのパルス幅を所定の増加分だけ増加することを特徴とする。この技法は、陰極析出物の除去効率は、一方で間隙値や電解液の流れのような電解加工の動作条件、他方で逆極性の印加電圧パルスの振幅及び幅に共に依存する積分効果であるという洞察に基づく。
【００１１】
本発明による方法の更に他の実施例は、電極の前面の電極電位の値を動作パラメータとして選択することを特徴とする。この技法は、陰極析出物の化学及び相組成は被加工物（陽極）の材料により定まり、電極（陰極）の材料とは異なることが可能であるという洞察に基づく。従って、元素組成の異なる析出物が陰極表面に発生した場合、陰極の特性は変化する。これにより、電極前面上への析出物の形成に係る情報を得ることが可能になる。電解加工に先立ち、又は、第１の数の加工用パルスの間に陰極電位を計測することにより、析出物のない表面に対応する陰極電位の値が定まる。上述の過程により陰極表面に析出物が形成されるにつれ、陰極電位の絶対値は変化する。陰極電位を定期的に計測することにより、生成された析出物の量を求めることができる。計測は、加工用パルス間の合間に行うことが好ましい。陰極電位の初期値と実際の計測値との間に所定の許容ずれを設定することも可能である。これにより、陰極前面の幾何学形状の許容範囲が定まる。計算されたずれが予め設定された許容ずれよりも大きい場合、逆極性のパルスが印加される。詳細については図面を参照して更に説明する。
【００１２】
本発明の方法による更に他の実施例は、単極性加工用電圧パルス間隔に対応する領域において、電極電位の曲線下の面積を得て、前記動作パラメータとして選択することを特徴とする。この動作パラメータの選択は、電解液の流れが速い、電解液路が小さい、又は間隙値が大きい電解加工状態にとって好ましい。これらの状態においては、動作条件は陰極析出物の大量生成に好適ではなく、結果的に陰極電位の値の変動は少ない。電極電位の曲線を分析することにより陰極析出物の形成を検出することはより高感度である。更なる詳細については図面を参照して説明する。
【００１３】
本発明の方法による更に他の実施例は、陰極電位パルスのフーリエ変換の１次高調波の絶対値を前記動作パラメータとして選択することを特徴とする。この技法は、フーリエ変換の１次高調波の絶対値は、電極表面の陰極析出物の高さを直接計測するものであるという洞察に基づく。更に、加工用極性のパルス間の非常に短い間隔について、フーリエ変換の係数は、陰極電位の絶対値よりも陰極析出物に対して敏感であることがわかっている。更にまた、フーリエ関数の１次高調波の実際値を監視し、それを電極の磨耗を回避するためのシステム制御パラメータとして用いることができる。この技法は、陰極析出物が生成された場合、１次高調波の値は正符号を有するという洞察に基づく。逆極性パルスの印加の結果、電極表面が溶解している場合、フーリエ変換の１次高調波の符号は「正」から「負」に変化する。従って、１次高調波の絶対値及び／又はその符号を監視することにより、電極の磨耗を引き起こすことなく電極表面から陰極析出物を除去することができる。
【００１４】
本発明の方法による更に他の実施例は、単極性加工用電圧パルス間隔に対応する一領域における単極性加工用電圧パルス間の短い間隔について、電極電位の曲線の勾配を得て、前記動作パラメータとして選択することを特徴とする。陰極電位の値は高周波電解加工に対する加工用パルス間で安定しないことがわかっている。従って、電極電位曲線の推移の量的特性を用いることが好ましい。この量的特性は曲線の勾配であり、
【００１５】
【数１】

によって与えられる。ここで、φ_ｉは加工用電圧が切られた後の時間区間ｉにおける電極電位の値である。
【００１６】
曲線の勾配を決定するため電極電位の対応値を計測するための等間隔のサンプル時間を選択することにより、プロセス制御は更に簡単になる。
【００１７】
本発明による方法により、電極の幾何学形状は本質的に変化せず保たれるという事実により、電解加工の複写精度は改善される。このように間隙抵抗の減少により、プロセス効率を約２０％上昇させることが可能となり、被加工物の得られる表面品質も一段向上する。
【００１８】
本発明のこれら及び他の特徴を、図面を参照し更に説明する。
【００１９】
図１は、電極３を用いて導電性被加工物２を電解加工する装置１の概略図を示す。装置１は、被加工物２を置くための基台６、電極３を置くためのホルダ７、及びホルダ７及び基台６をお互いに対して移動するためのアクチュエータ８を含む。基台６及びアクチュエータ８は、電極３と被加工物２との間の作業間隔を高精度に設定可能にする強固な構造を有するシャーシ９に設置される。この装置は更に、電極３と被加工物２との間の作業間隔の結果として形成される間隙４が電解液５で充填されるように、電解液５を充填したタンク１０を含む。この場合、電解液は水中に溶解したＮａＮＯ_３からなる。これに代わり、例えば、ＮａＣｌやＮａＮＯ_３と酸を組み合わせたものなど、他の電解液を使用することもできる。電解液５は、図示しない装置によりポンプで汲み出されて間隙４を流れる。この装置１により、電源装置４０から電極３及び被加工物２を介し間隙４中の電解液５を通り加工用電圧が通じ、被加工物２を加工することができる。電源装置４０は、電圧パルス生成器４１及び制御可能スイッチ４３を含む。印加加工用電圧の極性が正しい場合、電極と被加工物との間が少し離れた位置において、被加工物２の材料はその表面から除去され、電解液５中に溶解する。このようにして得られる空洞の形状は、それに対向する電極の形状により決まる。この装置１は、逆極性Ｕ２の電圧パルス源２１が組み込まれている第２の電源装置２０を更に含む。第２の電源装置は更に、プロセス制御装置３０により操作される制御可能スイッチ２３を含む。加工用パルスＵ１が逆極性パルスＵ２と交互になることが検知された場合、制御可能スイッチ２３及び４３のうちいずれか一方を操作し、間隙（４）に対して適切な極性の電圧パルスを供給する。第１及び第２の電源装置を一体化して構成した単一の電源であり、異なる極性の電圧パルスを交互に供給するようにプロセス制御手段３０によりプログラム可能である電源を用いることもできる。
【００２０】
プロセス制御手段３０は、加工用電圧パルスＵ１の印加に先立ち、又は、最初の加工用電圧パルスが印加される間に、動作パラメータの第１の値、例えば、電極電位の値を決定する。電極電位の値は加工用パルス間において計測することが好ましい。陰極析出物の大部分は、単極性加工用電圧パルスＵ１による処理の最初の１〜５分間に発生することがわかっている。先に説明したように、陰極析出物の発生により電極電位の値は変動する。プロセス制御手段３０は、動作状態における電極電位を計測する。この値を動作パラメータの第２の値と呼ぶ。電極電位の第１の値と電極電位の第２の値とのずれに基づき、制御信号が生成され、制御可能スイッチ２３及び４３を動かし、異なる極性のパルスのどちらか一方を印加する。その結果、陽極処理（ａｎｏｄｅ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）が陰極で開始され、陰極の前面から生成された析出物を除去する。
【００２１】
図２は、清浄な（ｃｌｅａｎ）鋼（１）、析出物のある鋼（２）、析出物のある真鍮（３）、清浄な真鍮（４）の各材料に対する陰極電位及び銀・クロム電極の基準電極電位についての特性曲線を示す。図２からわかるように、対応する電極電位の値は、陰極析出物の存在を判定する信頼性の高い手段となる。加工用パルスの終了後、電極電位の値は対応する安定した値で飽和状態に達するが、これは間隙における平衡に相当する。この安定値は計測に用いられる。しかし、動作状態においては、高周波電解加工のように、加工用パルス間隔は電極電位の値が飽和値に達するには十分ではない。従って、電極電位を表す曲線の勾配を動作パラメータとして用いることが好ましい。これについては、図３を参照して更に説明する。
【００２２】
図３は、電極電位の値を時間の関数として概略的に示す。線ａは、加工用電圧パルスＵ１に対応する加工用電圧Ｕが変動する様子を一例として表す。線ｂは、加工用電圧が切られた後の電極電位が変動する様子を一例として示す。網掛け線は、加工用電圧が切られ、電極電位が線ｂに従って更に変動している時間区間（ｔｉｍｅ ｍｏｍｅｎｔ）を表す。線ｂの勾配は、電極電位φ_ｉの計測値から導出される。図３に概略的に示すように、加工用パルス１に対応する電極電位の変化は、加工用パルスｎに対応するそれとは異なる。電極電位に対する勾配間の相違は、生成された陰極析出物の程度を示す。加工用電圧を切ったほぼ直後の時間区間における電極電位の絶対値に若干変化が生じるという状態については、曲線ｂの下の面積を動作パラメータとして選択することが好ましい。曲線の下の面積は、曲線自体をデジタル化することにより決定することができる。又は、その電荷が曲線下の面積の値に対応するキャパシタンスに亘る電圧を積分することにより、アナログ的に計測することができる。
【００２３】
図４は、生成された陰極析出物を除去するために間隙に亘り逆極性の電圧を印加する形態として可能なものを示す。ａで与えられるパルス列は、単極モードの基準加工用パルス列を示す。本発明の方法によれば、例えば電極電位の計測は、加工用パルス間の合間に行われ、計測値はプロセス制御装置内において、陰極の清浄な表面に対応する電極電位の基準値と比較される。陰極析出物の発生が検知された場合、プロセス制御装置は逆極性のパルスに対する電源装置の制御可能スイッチを動作させる。その結果生じるパルス列の一例を曲線ｂとして示す。そこでは、逆極性のパルスが各単極性加工用電圧パルスの後で印加される。
【００２４】
代替案を図４のｃに示す。そこでは、各連続する単極性加工用電圧パルスの後に逆極性の電圧パルスが複数回繰返される。使用される繰返し回数は、所与の動作条件に対する経験的に確立された最適値に基づき、予め決定することができる。この技法の効果が最適となるのは、この印加の繰返しを、動作パラメータの第１の値と第２の値の間のずれが、例えば複写精度の許容差に対して特徴的な値である予め設定される第３の値を超えたときに、初めて行う場合である。更に、動作パラメータの値が常に計測され、動作パラメータの値が予め設定されたカットオフ値を下回ったと確認された場合、その繰返しを中断することも可能である。そのような形態例を図４にパルス列ｄで示す。
【００２５】
図５は、プロセス制御手段３０の概略機能ブロック構成を示す。パルス化電源生成器４１は、間隙４に印加される単極性加工用電圧パルスを生成する。単極性加工用パルスの振幅及び幅は、パルス制御装置３６により制御される。加工用パルスに先立ち、陰極電位の値がプローブ３３により計測される。この値は動作パラメータの第１の値を構成し、更に、演算装置３４のメモリ部に記憶される。加工用パルス間の合間に、プローブ３３は電極電位の計測を行う。その計測値のそれぞれが動作状態パラメータの第２の値となる。計測値は演算装置３４に送出され、第１の値と第２の値の間のずれが実測される。計算されたずれがゼロでない場合、演算装置３４はパルス制御装置３６に対して制御信号を生成する。そのような制御信号を受け取ると、パルス制御装置は両電源装置４１，２１の制御可能スイッチのいずれかを動作させる。結果として生じるパルス列は、図４の曲線ｂに対応する。プロセス制御手段３０は、プローブ３３を制御するサンプル時間生成器３７を更に含む。陰極析出物の生成が緩やかである適用例においては、各加工用パルス後に動作パラメータを計測する必要なない。
【００２６】
極性の異なる電圧パルスが、動作パラメータの第１の値及び第２の値の間のずれ毎にではなく、選択的に印加されるパルス列をデザインすることも可能である。検知され得るが、軽度の（ｍｉｌｄ）陰極析出物については、結果として得られる電解加工精度が許容範囲内に収まることが考えられる。この場合、陰極析出物の程度が予め設定した許容レベルを超えた場合にのみ、陰極表面のクリーニングを行えばよい。動作パラメータの対応する第３の値は経験的に定めることができ、また、動作パラメータの第１の値とともに演算手段３４のメモリ装置に格納することができる。演算装置３４が、プローブ３３により与えられる動作パラメータの第２の値と第１の値との間の計算されたずれが第３の値を超えたことを検知した場合、パルス制御装置３６に対して制御信号が送出される。この場合、間隙に対するパルスの印加が複数回繰返される。この動作モードの一例は、図４に曲線ｃで示される。予め設定された繰返しの回数は、演算手段３４のメモリ装置に記憶される。パルスの繰返しの終了後、計算されたずれが依然として第３の値を超えていることがわかると、演算装置３４は、逆極性の電圧パルスのパルス幅を増加分（ｉｎｃｒｅｍｅｎｔ）だけ増加するため、パルス制御装置３６に制御信号を送出する。増加分の値は動作条件により定まり、演算手段３４のメモリ装置内で参照用テーブルに記憶されている。５ミリ秒の加工用パルスについて、逆極性の電圧パルスに対する対応パルス増加分は約１ミリ秒であり、逆極性の電圧パルスの初期幅は約２ミリ秒である。上記所与のパルス幅は、下記動作条件において好ましい。１５％ＮａＮＯ３、単極性加工用パルスの振幅８Ｖ、間隙値２０μｍ。
【００２７】
加工用パルスと逆極性のパルスを制御可能に交互にすることができることにより、陰極の磨耗を招くことなく陰極析出物を除去することができる。動作パラメータの実際値の初期値からのずれは、陰極析出物の程度の尺度となる。オンラインで動作パラメータの値を調べることにより、電解加工の精度を最適化するため、上述のような自動プロセス制御を構築することができる。本発明の方法を用いることにより、結果として生じる複写精度の狂いが約２０μｍで、対応する表面粗さが０．２μｍとなることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】電解加工装置の概略図である。
【図２】異なる金属に対する陰極電位に対する特性曲線を示す図である。
【図３】電極電位の値を時間の関数として概略的に示す図である。
【図４】間隙に亘り逆極性の電圧を印加する形態として可能なものを示す図である。
【図５】プロセス制御手段の概略機能ブロック構成を示す図である。

Claims (12)

1. 電解液中の導電性被加工物を、該被加工物と導電性電極との間に両極性電気パルスを印加することにより電解加工する方法であり、一又は複数の単極性の加工用極性の電圧パルスとそれとは逆の極性の電圧パルスとが交互になり、前記被加工物と前記電極との間には電解液が充填された間隙が維持される、ところの方法であって：
   前記電極の前面の清浄度に依存する動作パラメータの第１の値の計測を行うステップであり、前記第１の値は電極の清浄な前面に対応する、ところのステップ；
   少なくとも一の単極性加工用電圧パルスが印加された後に、単極性加工用電圧パルス間の合間に前記動作パラメータの第２の値の計測を行うステップ；
   前記動作パラメータの第１の値と第２の値のずれの計算を行うステップ；及び
   前記計算されたずれがゼロでないときに初めて、少なくとも一の逆極性の電圧パルスを印加するステップ；
   から構成されることを特徴とする方法。
2. 前記動作パラメータの第１の値と第２の値の計算されたずれが予め定められた第３の値よりも大きい場合、各連続する単極性加工用電圧パルスの後に逆極性の電圧パルスを複数回繰返すことを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 前記複数回の繰返しの印加の後、前記計算されたずれが前記第３の値よりも依然として大きい場合、前記逆極性の電圧パルスのパルス幅を所定の増加分だけ増加することを特徴とする請求項２記載の方法。
4. 前記電極の前面の電極電位の値を前記動作パラメータとして選択することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. 単極性加工用電圧パルス間隔に対応する領域において、電極電位の曲線下の面積を得て、前記動作パラメータとして選択することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
6. 陰極電位のフーリエ変換の１次高調波の絶対値を前記動作パラメータとして選択することを特徴とする上記請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
7. 単極性加工用電圧パルス間隔に対応する一領域における単極性加工用電圧パルス間の短い間隔について、電極電位の曲線の勾配を得て、前記動作パラメータとして選択することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
8. 前記勾配は、同一の時間間隔について計測された電極電位間の差に基づき得られることを特徴とする請求項７記載の方法。
9. 電解液中の導電性被加工物を、前記被加工物と導電性電極との間に両極性電気パルスを印加することにより電解加工する装置であり、一又は複数の単極性の加工用極性の電圧パルスとそれとは逆の極性の電圧パルスとが交互になり、前記被加工物と前記電極との間には電解液が充填された間隙が維持される、ところの装置であって：
   電極；
   前記電極と前記被加工物との間に間隙を維持するような空間的関係に前記電極と前記被加工物とを位置付ける手段；
   前記間隙に電解液を供給する手段；
   前記電極及び前記被加工物に接続可能であり前記被加工物と前記電極とに加工用極性Ｕ１の電圧パルスを供給する第１の電源；
   前記電極及び前記被加工物に接続可能であり前記被加工物と前記電極とに逆極性Ｕ２の電圧パルスを供給する第２の電源；
   加工用電圧パルス間の合間に動作パラメータの計測値に基づき制御信号を生成する手段；及び
   前記制御信号に基づき、前記間隙に対し少なくとも一の逆極性Ｕ２の電圧パルスを印加するプロセス制御手段；
   から構成されることを特徴とする装置。
10. 前記制御信号は、前記動作パラメータの第１の計測値及び第２の計測値の間のずれから得られることを特徴とする請求項９記載の装置。
11. 前記制御信号は、前記ずれと前記動作パラメータの予め設定された第３の値とを比較し生成されることを特徴とする請求項１０記載の装置。
12. 前記プロセス制御手段は、電源制御手段及び前記動作パラメータの第１の値及び第２の値の間のずれを計算する演算手段を含むことを特徴とする請求項１０又は１１記載の装置。

Images