JP2004335669A - Etching equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】インゴットをエッチングする際のムラを無くす。
【解決手段】エッチング液槽17中にインゴット16を浸漬してエッチング処理する装置10において、外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴット16を搭載するカゴ15を設け、カゴ15の底壁15a上面にインゴット16の円弧面を載置する凹状の円弧面を設け、カゴ15をエッチング液槽17中に浸漬し、揺動手段14でカゴ15を揺動してインゴット16を転動させる。
【選択図】 図1An object of the present invention is to eliminate unevenness in etching an ingot.
In an apparatus for performing an etching process by immersing an ingot in an etching solution tank, a basket for mounting the ingot having an arcuate surface on at least a part of an outer surface is provided, and an upper surface of a bottom wall of the basket is provided. A concave arc surface on which the arc surface of the ingot 16 is placed is provided, the basket 15 is immersed in the etching solution tank 17, and the basket 15 is rocked by the rocking means 14 to roll the ingot 16.
[Selection diagram] Fig. 1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エッチング装置に関し、詳しくは、外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴットをムラ無くエッチング処理するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、化合物半導体であるガリウムヒ素(GaAs)等の製造工程において、インゴット表面の酸化被膜などの不純物を除去して結晶面を得るためにエッチング処理が行われている。特開平4−26124号公報には、インゴットの表面をムラ無くエッチング処理するための方法が開示されており、詳しくは図7に示すように、エッチング容器1内にエッチング液と反応しない物質(石英ガラスやテフロン(R)等)からなる球体4を多数介在させた状態でインゴット3を積み重ねてエッチングを行っている。
【0003】
また、図8に示すように、特開平9−75874号公報では、単結晶ブロック5をカーボンベッド8を介して支持部材7に固着して吊り下げられた状態で、洗浄液槽6で上下動させると共に、洗浄液槽6の底壁および側壁に設けられた超音波印加機構9A、9Bにより低周波の超音波と高周波の超音波とを同時に印加し、単結晶ブロック5に付着した油・砥粒を脱離・除去している。
【0004】
【特許文献1】
特開平4−26124号公報
【0005】
【特許文献2】
特開平9−75874号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図7に示すエッチング方法によると、エッチング処理中にインゴット3の一部に常に球体4と接している箇所があるため、エッチングにムラが発生する問題がある。さらに、インゴット3と球体4とがエッチング容器1内に積み重ねて載置されているだけであることより、エッチング液2が撹拌されずにインゴット3表面近傍のエッチング液2の入れ替わりが為されにくいため、エッチング液2の濃度が不均一となり易い問題がある。
【0007】
また、図8に示す装置においても、単結晶ブロック5は支持部材7およびカーボンベッド8により吊り下げられており、単結晶ブロック5の一部にカーボンベッド8と常に接している箇所があるので、エッチングにムラが生じると共に、単結晶ブロック5を支持部材7に固着する手間が必要となり作業手数が増大する問題がある。さらに、単結晶ブロック5の重量が大きい場合には、支持部材7の構造が大きくなると共にその動力も多く必要となり装置コストが増大する問題がある。
【0008】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、作業手数や装置動力を増大させることなく、インゴットをエッチングする際のムラを無くすことを課題としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、エッチング液槽中にインゴットを浸漬してエッチング処理する装置において、
外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴットを搭載するカゴを設け、該カゴの底壁上面に上記インゴットの円弧面を載置する凹状の円弧面を設け、該カゴを上記エッチング液槽中に浸漬し、揺動手段で上記カゴを揺動して上記インゴットを転動させる構成としていることを特徴とするエッチング装置を提供している。
【0010】
上記構成とすると、上記インゴットの円弧面を凹状の円弧面であるカゴ底壁に載置しているので、上記揺動手段によりカゴを揺動させることによりインゴットをカゴ上で転動させることができる。したがって、カゴに載置されたインゴットをエッチング液槽に浸漬させた状態でインゴットとカゴの接する部位が変化して、インゴットのエッチングのムラを無くすことが可能となる。また、エッチング液槽にカゴを浸漬させた状態で揺動させているので、エッチング液が撹拌されて濃度の均一化が図られ、エッチングのムラを更に低減することができる。さらに、作業者はインゴットをカゴに載せるだけでよいので、従来のような支持部材に固着する等の作業が不要となり、作業効率を向上させることができる。
【0011】
エッチング液槽中にインゴットを浸漬してエッチング処理する装置において、外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴットを搭載するカゴを設け、該カゴの底壁下面に円弧面を設け、上記インゴットの円弧面を載置した該カゴを上記エッチング液槽中に浸漬すると共に、該カゴの底壁下面の円弧面を上記エッチング液槽の底面あるいは上記エッチング液槽内に設けられた水平面の上面側に当接させた状態で、揺動手段により上記カゴを上記底面あるいは上記水平面の上を転がして揺動させ、上記インゴットを転動させる構成としていることを特徴とするエッチング装置を提供している。
【0012】
上記構成とすると、カゴの円弧面である底壁下面を上記エッチング液槽の底面あるいは上記エッチング液槽内に設けられた水平面の上に載せた状態で揺動手段により転がして揺動させているので、カゴ上のインゴットを転動させることができる。したがって、インゴットとカゴの接する部位が変化すると共にエッチング液も撹拌され、インゴットのエッチングのムラを無くすことができる。
しかも、上記カゴの底壁をエッチング液槽の底面あるいは液槽内の水平面に載せてインゴットの重量を受け止めているので、カゴや揺動手段などにかかる負荷を軽減することができ、重量の大きいインゴットであっても対応することが可能となる。また、インゴット重量が直接カゴに負荷されないことで、揺動手段などの駆動力も小さくて済み、装置コストの低減にも貢献する。
【0013】
上記カゴを水平方向に搬送する水平アクチュエータと、
上記カゴを垂直方向に昇降させる垂直アクチュエータと、
上記水平アクチュエータおよび上記垂直アクチュエータを制御する制御手段とを備え、
上記水平アクチュエータおよび上記垂直アクチュエータにより上記インゴットが載置された上記カゴを上記エッチング液槽の内外へ搬送していると共に、上記カゴが上記エッチング液槽に浸漬される時間を制御している。
【0014】
上記構成とすると、インゴットを載置したカゴをエッチング液槽に浸漬する時間を上記制御手段で一定にすることができるので、インゴットのエッチングの品質を一定に保つことが可能となる。また、従来は人手によりカゴを支えたので薬液の飛散のよる火傷や、重いハンドリング作業による疲労が多かったが、本発明によればカゴの搬送を自動化してこれら問題点を解消することができる。
【0015】
上記揺動手段は、ガイドフレームに対して水平方向に固定された揺動用空圧シリンダと、該揺動用空圧シリンダから水平方向に延出するロッド部の先端側に取り付けられると共に上記ガイドフレーム上に摺動自在に載置されたスライダーと、該スライダーの下方に設けられたフック部とを備え、
上記カゴを該フック部に吊り下げた状態で、上記揺動用空圧シリンダを往復運動させることで上記カゴを揺動させる構成とし、上記ロッド部は三位置に停止可能として上記カゴを左傾斜位置、中立位置および右傾斜位置の三位置に停止可能としている。
【0016】
上記構成とすると、空圧シリンダを水平方向にピストン運動させるだけで、スライダーがガイドフレーム上を摺接してスライドし、フック部に吊り下げられたカゴを簡単に揺動させることができる。なお、カゴはフック部に引っ掛けて吊り下げることで遊びを持たせることができるので、カゴをエッチング液槽の底面に当接させて転動させる際に、カゴの運動を阻害することもない。
【0017】
また、上記カゴを左傾斜位置、中立状態および右傾斜位置の三位置に停止させることができるので、インゴットをカゴに載置した状態で搬送する際には中立状態とすることで、インゴットがバランスを崩してカゴから落ちることが無くなると共に、エッチング液槽に浸漬して揺動する際には、中立状態から往復ストロークさせて左傾斜位置、右傾斜位置とすることで、インゴットを広範囲にわたって転動させることが可能となり、エッチングのムラの低減を更に促進することができる。
【0018】
なお、上記揺動手段を制御する制御手段により、上記カゴの揺動回数や揺動速度を所定の値に制御していると、インゴットのエッチングの品質を一定に保つことが可能となる。
【0019】
上記カゴの底壁上面に凹凸または溝を設け、あるいは、上記カゴの底壁をすのこ状または網状としていると好適である。
即ち、カゴの底壁を上記形状とすることでインゴットを多点で支持することができ、エッチング液のインゴット表面への入液が容易になる利点がある。また、インゴットから離脱された異物の粉等が凹部または溝に落ち、あるいは、すのこ状または網状の隙間を通過して落下し、異物がカゴとインゴットとの接面に介在するのを防止することも可能となる。
【0020】
上記カゴ、上記水平アクチュエータ、上記垂直アクチュエータあるいは/および上記揺動手段は耐食性樹脂からなると好ましい。
上記構成とすると、エッチング液の蒸気等による上記カゴや上記水平アクチュエータや上記垂直アクチュエータや上記揺動手段の腐食を防止することができ好適である。なお、耐食性樹脂の具体例としては、硬質塩化ビニールやポリプロピレンやフッ素系樹脂などを用いることで、エッチング液として使用される王水(濃塩酸と濃硝酸の混合液)などに対して良好な耐食性を得ることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を図面を参照して説明する。
図1および図2は、半導体レーザや発光ダイオード、移動体通信用デバイスなどの幅広い分野で使用されるガリウムヒ素(GaAs)、インジウムリン(InP)等の化合物半導体の製造工程において、インゴット16表面に付着した酸化被膜や異物を除去するためのエッチング装置10である。
【0022】
エッチング装置10は、枠組みを形成するフレーム11の上部に水平方向に横断する水平フレーム21を設け、水平フレーム21に対して水平アクチュエータ12を介して垂直アクチュエータ13を取り付けている。水平アクチュエータ12は、水平フレーム21上面に設けられたガイドレール22に、垂直アクチュエータ13の上部より側方に突出した突出片24の下面に設けた摺動部23をスライド嵌合し、空圧シリンダ25によりガイドレール22上をスライド動作させる構成としている。なお、ガイドレール22の両側位置にはウレタン等からなるストッパ33を配置している。
【0023】
垂直アクチュエータ13は空圧シリンダを備え、その下端において旋回部26を介してガイドフレーム27を水平に連結している。ガイドフレーム27は上面をスライド面とすると共に、上方に取付壁28を突設している。図3に示すように、取付壁28には揺動手段を構成する揺動用空圧シリンダ14を固定部34にて固定している。
なお、水平アクチュエータ12および垂直アクチュエータ13は図示しない制御手段により制御され、カゴ15の搬送時間、搬送速度、浸漬時間などをコントロールしている。
【0024】
揺動用空圧シリンダ14は、円筒状のケーシング33に第1ピストン29と第2ピストン30をシール部材37を介して内嵌していると共に、先端開口を円環状の閉鎖部35でシール部材38を介して閉鎖している。
ケーシング33には、圧縮空気の供給孔となる第1ポート33a、第2ポート33b、第3ポート33cが穿設されており、図6に示すように、第2ポート33bの存在位置の内周面より第1ピストン29と第2ピストン30とを仕切るストッパー36を突起させている。
第1ピストン29は、円柱状の摺接部29aと、摺接部29aより突出する棒状の押当部29bとを備えている。第2ピストン30は、円柱状の摺接部30aと、摺接部30aより突出する長尺のロッド部30bと、摺接部30aの端面より穿設され第1ピストン29の押当部29bを内嵌する凹部30cとを備えている。なお、ロッド部30bと閉鎖部35との接触部にはシール部材39を介在させている。また、揺動用空圧シリンダ14は図示しない制御手段により制御され、カゴ15の揺動時間、揺動速度などをコントロールしている。
【0025】
ガイドフレーム27の先端側の上面にはスライダー31が設置され、第2ピストン30のロッド部30bの先端に軸受部31bで連結していると共に、スライダー31の下方にはカゴ15を吊り下げるためのフック部31aが一体的に垂下されている。
カゴ15は、図2および図3に示すように、凹状の円弧面である底壁15aと、両側壁15bと、両側壁15bの上部を連結する軸部15dと、底壁15aの上面に設けられた溝15cと、底壁15aの両端に突設した低側壁15eと、底壁15aに穿設された液抜き用の孔15fとを備えている。
【0026】
エッチング液19を貯留したエッチング液槽17は温水20を貯留した外槽18の中に配置され、それらを設置台32上に設置している。温水は20℃〜50℃としてエッチング液槽17の外壁を介して熱伝達し、エッチング液19の所定の温度に保っている。また、エッチング液19としては王水(濃塩酸と濃硝酸の混合液)を使用している。
【0027】
なお、水平アクチュエータ12、垂直アクチュエータ13、揺動用空圧シリンダ14、カゴ15、ガイドフレーム27、スライダー31等は耐食性樹脂製としており、エッチング液19の蒸気等による腐食を防止している。なお、耐食性樹脂としては、硬質塩化ビニール、ポリプロピレン、フッ素系樹脂などを用いている。
また、強度を更に高めたい場合には、金属を耐食性樹脂でモールドして形成したり、FRP(ガラス繊維強化プラスチック)等で成形してもよい。
さらには、第1・第2ピストン29、30の外周に取り付けられ、ケーシング33と摺接するシール部材37は、ゴム製のOリングにDLC(diamond like carbon)で被覆したものを用いることで、樹脂からなるケーシング33との化学的親和性を無くして摺接音の発生を防止している。なお、通常のOリングやパッキン等でも構わない。
【0028】
次に、揺動用空圧シリンダ14の動作原理について図6(A)〜(C)を用いて説明する。
揺動用空圧シリンダ14から延出するロッド部30bは、第1ポート33a、第2ポート33b、第3ポート33cへ供給される空気の圧力を調節することにより、前進位置と中立位置と後進位置との三位置に停止可能としている。
詳しくは、第1ポート33aに供給される空気圧をP1、第2ポート33bに供給される空気圧をP2、第3ポート33cに供給される空気圧をP3とすると、P1>P3>P2とした場合には、図6(A)に示すように、第1ピストン29がストッパー36に当接するまで前進すると共に、第2ピストン30は押当部29bの先端が凹部の底に当接位置で停止し、ロッド部30bは中立位置となる。
P1>P2>P3とした場合は、図6(B)に示すように、第2ピストン30が閉鎖部35に当接するまで前進し、ロッド部30bは前進位置となる。P3>P2=P1=0とした場合には、図6(C)に示すように、第1ピストン29が左端に当接するまで後進すると共に、第2ピストン30はストッパー36に当接するまで後進し、ロッド部30bは後進位置となる。
【0029】
次に、エッチング装置10を用いたエッチング工程について説明する。
図3に示すように、揺動用空圧シリンダ14が中立位置となった状態で円柱状のインゴット16をカゴ15の底壁15a上に載置し、制御手段で水平アクチュエータ14と垂直アクチュエータ13を制御してカゴ15をエッチング液槽17の直上まで移動させる。
【0030】
そして、垂直アクチュエータ13で降下させてカゴ15をエッチング液19に浸漬させ、カゴ15の底壁15aをエッチング液槽17の底面17aに載置する。これにより、インゴット16の重量がエッチング液槽17の底面17aで受け止められ、カゴ15の軸部15dがフック部31aにかける負荷を軽減することができる。
この状態から、図4に示すように、制御手段(図示せず)で制御された揺動用空圧シリンダ14によりロッド部30bを前進位置へ移動させることでスライダー31がガイドフレーム27上面をスライドして前進し、フック部31aに引っ掛けられた軸部15dを介してカゴ15がエッチング液槽17の底面17aの上を転動され右傾斜位置に揺動し、インゴット16がカゴ15の上で転動する。
【0031】
また、図5に示すように、揺動用空圧シリンダ14によりロッド部30bを後進位置へ移動させることでスライダー31がガイドフレーム27上面をスライドして後進し、フック部31aに引っ掛けられた軸部15dを介してカゴ15がエッチング液槽17の底面17aの上を転動され左傾斜位置に揺動し、インゴット16がカゴ15の上で転動する。
【0032】
上記構成とすると、揺動用空圧シリンダ14によりカゴ15を揺動させることでエッチング液槽17に浸漬されたインゴット16をカゴ15上で転動させることができる。したがって、インゴット16とカゴ15の接する部位が変化すると共に、エッチング液19が撹拌されて濃度の均一化が図られ、インゴット16のエッチングのムラを無くすことが可能となる。また、作業者はインゴット16をカゴ15に載せるだけでよいので、従来のような支持部材に固着する等の作業が不要となり、作業効率を向上させることができる。
しかも、カゴ15の底壁15aがエッチング液槽17の底面17aに置かれた状態で揺動させ、インゴット16重量がカゴ15に直接負荷されないようにしているので、揺動用空圧シリンダ14等の駆動力も小さくて済み、装置コストの低減化を可能にする。
【0033】
また、上記制御手段によりインゴット16を載置したカゴ15をエッチング液槽17に浸漬する時間やカゴ15の揺動回数や揺動速度を所定の値に制御しているので、インゴット16のエッチングの品質を一定に保つことが可能となる。また、従来は人手によりカゴを支えたので薬液の飛散のよる火傷や、重いハンドリング作業による疲労が多かったが、本発明によればカゴ15の搬送を自動化してそれら問題点を解消できる。
【0034】
さらには、カゴ15の底壁15aの上面に溝15cを設けているので、インゴット16を多点で支持することができ、エッチング液19のインゴット16表面への入液が容易になる利点がある。また、インゴット16から離脱された異物の粉等が溝15cに落ち、異物がカゴ15とインゴット16との接面に介在するのを防止することも可能となる。
なお、溝15cの代わりに凹凸を設けてもよいし、あるいは、カゴの底壁自体をすのこ状または網状として、インゴット16より離脱された異物をその隙間より通過させてエッチング液槽17に落下させてもよい。
【0035】
【発明の効果】
以上の説明より明らかなように、本発明によれば、インゴットの円弧面を凹状の円弧面であるカゴ底壁に載置してカゴを揺動させており、インゴットがカゴ上で転動させられて、インゴットとカゴの接する部位を変化させることができると共に、エッチング液が撹拌されて濃度の均一化が図られるので、インゴットのエッチングのムラを無くすことが可能となる。また、作業者はインゴットをカゴに載せるだけでよいので、従来のような支持部材に固着する等の作業が不要となり、作業効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態のエッチング装置の正面図である。
【図2】エッチング装置の側面図である。
【図3】カゴをエッチング液槽に浸漬する前の正面図である。
【図4】右傾斜位置に揺動した状態の正面図である。
【図5】左傾斜位置に揺動した状態の正面図である。
【図6】(A)〜(C)は揺動用空圧シリンダの機構図である。
【図7】従来例を示す図面である。
【図8】別の従来例を示す図面である。
【符号の説明】
10 エッチング装置
12 水平アクチュエータ
13 垂直アクチュエータ
14 揺動用空圧シリンダ
15 カゴ
15a 底壁
15c 溝
15d 軸部
16 インゴット
17 エッチング液槽
17a 底面
18 外槽
19 エッチング液
20 温水
27 ガイドフレーム
29 第1ピストン
30 第2ピストン
30b ロッド部
31 スライダー
31a フック部
31b 軸受部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an etching apparatus, and more particularly to an etching apparatus that uniformly etches an ingot having an arcuate surface on at least a part of its outer surface.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a compound semiconductor such as gallium arsenide (GaAs), an etching process is performed to remove impurities such as an oxide film on an ingot surface and obtain a crystal surface. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-26124 discloses a method for etching the surface of an ingot without unevenness. Specifically, as shown in FIG.
[0003]
In addition, as shown in FIG. 8, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-75874, the
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-4-26124 [0005]
[Patent Document 2]
JP-A-9-75874
[Problems to be solved by the invention]
However, according to the etching method shown in FIG. 7, there is a problem that unevenness occurs in the etching, because there is a portion of the
[0007]
Also in the apparatus shown in FIG. 8, the
[0008]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to eliminate unevenness in etching an ingot without increasing the number of operations and the power of a device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the present invention provides an apparatus for performing an etching process by immersing an ingot in an etching solution tank,
At least a part of the outer surface is provided with a basket on which an ingot having an arc surface is mounted, and a concave arc surface on which the arc surface of the ingot is mounted is provided on the bottom wall of the car, and the basket is placed in the etching solution tank. The present invention provides an etching apparatus characterized in that the basket is immersed and the basket is rocked by a rocking means to roll the ingot.
[0010]
With the above configuration, the arc surface of the ingot is placed on the cage bottom wall which is a concave arc surface, so that the ingot can be rolled on the car by rocking the basket by the rocking means. it can. Therefore, a portion where the ingot and the car come into contact with each other is changed in a state where the ingot placed on the car is immersed in the etching liquid tank, and it is possible to eliminate unevenness of etching of the ingot. Further, since the basket is oscillated while being immersed in the etching liquid tank, the etching liquid is agitated and the concentration is made uniform, so that the unevenness of etching can be further reduced. Further, since the worker only needs to place the ingot on the basket, the work of fixing the ingot to the supporting member as in the related art is unnecessary, and the working efficiency can be improved.
[0011]
In an apparatus for performing an etching process by immersing an ingot in an etching liquid tank, a basket for mounting an ingot having an arc surface on at least a part of an outer surface is provided, and an arc surface is provided on a lower surface of a bottom wall of the car, and the arc of the ingot is provided. The basket on which the surface is placed is immersed in the etching solution tank, and the arc surface of the lower surface of the bottom wall of the basket is brought into contact with the bottom surface of the etching solution tank or the upper surface side of the horizontal plane provided in the etching solution tank. An etching apparatus is provided in which the basket is rolled and rocked on the bottom surface or the horizontal plane by a rocking means in a state of being in contact with the cage, thereby rolling the ingot.
[0012]
With the above configuration, the lower surface of the bottom wall, which is the arc surface of the basket, is rolled and rocked by the rocking means while being placed on the bottom surface of the etching liquid tank or on a horizontal surface provided in the etching liquid tank. Therefore, the ingot on the basket can be rolled. Therefore, the contact portion between the ingot and the basket changes, and the etchant is also stirred, so that unevenness in etching of the ingot can be eliminated.
Moreover, since the bottom wall of the basket is placed on the bottom surface of the etching solution tank or on the horizontal surface in the solution tank to receive the weight of the ingot, the load on the basket and the swinging means can be reduced, and the weight is large. It is possible to deal with even ingots. Further, since the weight of the ingot is not directly applied to the car, the driving force of the rocking means and the like can be reduced, which contributes to a reduction in the cost of the apparatus.
[0013]
A horizontal actuator for transporting the basket in a horizontal direction,
A vertical actuator for vertically moving the basket,
Control means for controlling the horizontal actuator and the vertical actuator,
The horizontal actuator and the vertical actuator transport the basket on which the ingot is placed into and out of the etching solution tank, and control the time during which the basket is immersed in the etching solution tank.
[0014]
With the above configuration, the time for immersing the basket on which the ingot is placed in the etching solution tank can be made constant by the control means, so that the etching quality of the ingot can be kept constant. Conventionally, the basket was supported manually, so burns due to the splashing of the chemical solution and fatigue due to heavy handling work were large, but according to the present invention, these problems can be solved by automating the transport of the basket. .
[0015]
The swing means is attached to a tip end of a swing pneumatic cylinder fixed to the guide frame in a horizontal direction and a rod portion extending in a horizontal direction from the swing pneumatic cylinder. A slider slidably mounted on the slider, and a hook provided below the slider,
With the basket suspended from the hook, the basket is rocked by reciprocating the rocking pneumatic cylinder, and the rod can be stopped at three positions so that the basket is tilted to the left. , And can be stopped at three positions: a neutral position and a right tilt position.
[0016]
With this configuration, the slider can slide and slide on the guide frame by simply moving the pneumatic cylinder in the horizontal direction, and the basket suspended from the hook can be easily swung. In addition, since the basket can be given a play by being hooked and hung on the hook portion, the movement of the basket is not hindered when the basket is rolled by contacting the bottom surface of the etching solution tank.
[0017]
In addition, since the car can be stopped at three positions, that is, a left tilt position, a neutral state, and a right tilt position, when the ingot is transported in a state of being placed on the car, the ingot is balanced by setting the neutral state. In addition to preventing falling from the basket due to collapse, when immersing in the etching solution tank and swinging, the ingot is rolled over a wide range by making a reciprocating stroke from the neutral state to the left tilt position and right tilt position It is possible to further reduce the unevenness of the etching.
[0018]
When the number of times of swinging and the swinging speed of the car are controlled to predetermined values by the control means for controlling the swinging means, the etching quality of the ingot can be kept constant.
[0019]
It is preferable that irregularities or grooves are provided on the upper surface of the bottom wall of the car, or that the bottom wall of the car is made in a saw-tooth or net-like shape.
That is, by making the bottom wall of the basket into the above shape, the ingot can be supported at multiple points, and there is an advantage that the etching liquid can easily enter the ingot surface. Also, it is necessary to prevent foreign matter, etc., which has been detached from the ingot, from falling into the concave portion or the groove, or dropping through a gap in a shape of a saw or a net, and preventing the foreign matter from intervening on the contact surface between the basket and the ingot. Is also possible.
[0020]
It is preferable that the cage, the horizontal actuator, the vertical actuator and / or the oscillating means are made of a corrosion-resistant resin.
With the above configuration, corrosion of the basket, the horizontal actuator, the vertical actuator, and the oscillating means due to the vapor of the etching solution or the like is preferably prevented. Specific examples of the corrosion-resistant resin include hard vinyl chloride, polypropylene, and a fluorine-based resin, which provide good corrosion resistance to aqua regia (a mixture of concentrated hydrochloric acid and concentrated nitric acid) used as an etchant. Can be obtained.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIGS. 1 and 2 show the process of manufacturing a compound semiconductor such as gallium arsenide (GaAs) or indium phosphide (InP) used in a wide range of fields such as a semiconductor laser, a light emitting diode, and a mobile communication device. An
[0022]
The
[0023]
The
The
[0024]
The oscillating
The
The
[0025]
A
As shown in FIGS. 2 and 3, the
[0026]
The
[0027]
The
In order to further increase the strength, the metal may be formed by molding with a corrosion resistant resin, or may be formed with FRP (glass fiber reinforced plastic) or the like.
Further, the
[0028]
Next, the operating principle of the swinging
The
Specifically, assuming that the air pressure supplied to the
When P1>P2> P3, as shown in FIG. 6B, the
[0029]
Next, an etching process using the
As shown in FIG. 3, a column-shaped
[0030]
Then, the
From this state, as shown in FIG. 4, the
[0031]
Also, as shown in FIG. 5, the
[0032]
With the above configuration, the
Moreover, since the
[0033]
Further, since the control means controls the time for immersing the
[0034]
Furthermore, since the
In addition, unevenness may be provided in place of the
[0035]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the present invention, the basket is rocked by placing the arc surface of the ingot on the cage bottom wall which is a concave arc surface, and the ingot is rolled on the basket. As a result, the portion where the ingot contacts the basket can be changed, and the concentration of the etchant can be uniformed by stirring the etchant, so that it is possible to eliminate unevenness in the etching of the ingot. Further, since the worker only needs to place the ingot on the basket, the work such as fixing the ingot to the supporting member as in the related art is unnecessary, and the working efficiency can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view of an etching apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view of the etching apparatus.
FIG. 3 is a front view before a basket is immersed in an etching solution tank.
FIG. 4 is a front view of a state of swinging to a right tilt position.
FIG. 5 is a front view of a state where the rocker has swung to a left tilt position.
FIGS. 6A to 6C are mechanism diagrams of a swinging pneumatic cylinder.
FIG. 7 is a drawing showing a conventional example.
FIG. 8 is a drawing showing another conventional example.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (6)
外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴットを搭載するカゴを設け、該カゴの底壁上面に上記インゴットの円弧面を載置する凹状の円弧面を設け、該カゴを上記エッチング液槽中に浸漬し、揺動手段で上記カゴを揺動して上記インゴットを転動させる構成としていることを特徴とするエッチング装置。In an apparatus for immersing an ingot in an etching solution tank and performing an etching process,
At least a part of the outer surface is provided with a basket on which an ingot having an arc surface is mounted, and a concave arc surface on which the arc surface of the ingot is mounted is provided on the bottom wall of the car, and the basket is placed in the etching solution tank. An etching apparatus characterized in that the basket is immersed and the basket is rocked by a rocking means to roll the ingot.
外面の少なくとも一部に円弧面を有するインゴットを搭載するカゴを設け、該カゴの底壁下面に円弧面を設け、上記インゴットの円弧面を載置した該カゴを上記エッチング液槽中に浸漬すると共に、該カゴの底壁下面の円弧面を上記エッチング液槽の底面あるいは上記エッチング液槽内に設けられた水平面の上面側に当接させた状態で、揺動手段により上記カゴを上記底面あるいは上記水平面の上を転がして揺動させ、上記インゴットを転動させる構成としていることを特徴とするエッチング装置。In an apparatus for immersing an ingot in an etching solution tank and performing an etching process,
At least a part of the outer surface is provided with a cage on which an ingot having an arc surface is mounted, an arc surface is provided on the lower surface of the bottom wall of the cage, and the basket on which the arc surface of the ingot is placed is immersed in the etching solution tank. At the same time, in a state in which the arc surface of the lower surface of the bottom wall of the cage is in contact with the bottom surface of the etching solution tank or the upper surface side of the horizontal surface provided in the etching solution tank, the cage is swung by the rocking means. An etching apparatus, characterized in that the etching apparatus is configured to roll on the horizontal plane and swing to rotate the ingot.
上記カゴを垂直方向に昇降させる垂直アクチュエータと、
上記水平アクチュエータおよび上記垂直アクチュエータを制御する制御手段とを備え、
上記水平アクチュエータおよび上記垂直アクチュエータにより上記インゴットが載置された上記カゴを上記エッチング液槽の内外へ搬送していると共に、上記カゴが上記エッチング液槽に浸漬される時間を制御している請求項1または請求項2に記載のエッチング装置。A horizontal actuator for transporting the basket in a horizontal direction,
A vertical actuator for vertically moving the basket,
Control means for controlling the horizontal actuator and the vertical actuator,
The horizontal actuator and the vertical actuator convey the car on which the ingot is placed into and out of the etching solution tank, and controls a time during which the car is immersed in the etching solution tank. The etching apparatus according to claim 1.
上記カゴを該フック部に吊り下げた状態で、上記揺動用空圧シリンダを往復運動させることで上記カゴを揺動させる構成とし、上記ロッド部は三位置に停止可能として上記カゴを左傾斜位置、中立位置および右傾斜位置の三位置に停止可能としている請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のエッチング装置。The swing means is attached to a tip end of a swing pneumatic cylinder fixed to the guide frame in a horizontal direction and a rod portion extending in a horizontal direction from the swing pneumatic cylinder. A slider slidably mounted on the slider, and a hook portion provided below the slider,
With the basket suspended from the hooks, the basket is rocked by reciprocating the rocking pneumatic cylinder. The etching apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the etching apparatus can be stopped at three positions: a neutral position and a right tilt position.
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