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JP2004327016A - Optical recording disc - Google Patents

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JP2004327016A
JP2004327016A JP2004108605A JP2004108605A JP2004327016A JP 2004327016 A JP2004327016 A JP 2004327016A JP 2004108605 A JP2004108605 A JP 2004108605A JP 2004108605 A JP2004108605 A JP 2004108605A JP 2004327016 A JP2004327016 A JP 2004327016A
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Japan
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recording
layer
recording layer
film
laser beam
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Pending
Application number
JP2004108605A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisashi Koyake
久司 小宅
Hiroaki Takahata
広彰 高畑
Yuichi Kawaguchi
裕一 川口
Koji Mishima
康児 三島
Hiroyasu Inoue
弘康 井上
Takeshi Komaki
壮 小巻
Masaki Aoshima
正貴 青島
Hironori Kakiuchi
宏憲 柿内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】 データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことができる光記録ディスクを提供する。
【解決手段】 支持基板2と、支持基板の一方の主面に、交互に形成されたグルーブGおよびランドLと、グルーブおよびランドが形成された支持基板の一方の主面上に形成され、記録層7と、記録層上に形成された光透過層9とを備えた光記録ディスク1であって、各グルーブの深さGdが15nm以上、25nm以下で、かつ、グルーブの半値幅Gwが150nm以上、230nm以下となるようにグルーブおよびランドが形成され、記録層が無機元素を含んでいることを特徴とする光記録ディスク。
【選択図】 図2
PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress a jitter at the time of data reading within a desired range, suppress occurrence of an error at the time of data reading, and maintain a push-pull signal level at or above a desired value. To provide an optical recording disk capable of performing tracking control as desired.
SOLUTION: A support substrate 2, a groove G and a land L alternately formed on one main surface of the support substrate, and a recording layer formed on one main surface of the support substrate on which the groove and land are formed are formed. An optical recording disk 1 comprising a layer 7 and a light transmitting layer 9 formed on a recording layer, wherein each groove has a depth Gd of 15 nm or more and 25 nm or less, and a half width Gw of the groove is 150 nm. An optical recording disk in which grooves and lands are formed to have a thickness of 230 nm or less and the recording layer contains an inorganic element.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、光記録ディスクに関するものであり、さらに詳細には、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことができる光記録ディスクに関するものである。   The present invention relates to an optical recording disk, more specifically, it is possible to suppress the jitter at the time of data reading within a desired range, it is possible to suppress the occurrence of errors at the time of data reading, The present invention relates to an optical recording disk capable of holding a push-pull signal level at or above a desired value and performing tracking control as desired.

近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、CDやDVDに代表される光記録ディスクが広く用いられている。   In recent years, optical recording disks represented by CDs and DVDs have been widely used as recording media for recording large volumes of digital data.

これらの光記録ディスクは、CD−ROMやDVD−ROMのように、データの追記や書き換えができないタイプのいわゆるROM型光ディスクと、CD−RやDVD−Rのように、データの追記は可能であるが、データの書き換えができないタイプのいわゆる追記型光ディスクと、CD−RWやDVD−RWのように、データの書き換えが可能なタイプのいわゆる書き換え型光ディスクに大別することができる。   These optical recording discs are so-called ROM-type optical discs of a type in which data cannot be additionally written or rewritten, such as a CD-ROM or a DVD-ROM, and data can be additionally written, such as a CD-R or a DVD-R. However, data can be broadly classified into so-called write-once optical disks of a type in which data cannot be rewritten, and so-called rewritable optical disks of a type in which data can be rewritten, such as CD-RW and DVD-RW.

広く知られているように、ROM型光ディスクにおいては、製造段階で、基板に形成されるプリピットにより、データが記録されるのが一般的であり、書き換え型光ディスクにおいては、たとえば、記録層の材料として、相変化材料が用いられ、その相状態の変化に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。   As is widely known, in a ROM type optical disk, data is generally recorded by pre-pits formed on a substrate in a manufacturing stage. In a rewritable type optical disk, for example, a material of a recording layer is used. Generally, a phase change material is used, and data is generally recorded using a change in optical characteristics based on a change in the phase state.

これに対して、追記型光ディスクにおいては、記録層の材料として、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素などの有機色素が用いられ、その化学的変化(場合によっては化学的変化に加えて物理的変形を伴うことがある)に基づく光学特性の変化を利用して、データが記録されるのが一般的である。   On the other hand, in a write-once optical disc, an organic dye such as a cyanine dye, a phthalocyanine dye, or an azo dye is used as a material of a recording layer, and a chemical change (in some cases, a physical change, In general, data is recorded by utilizing a change in optical characteristics based on the above-described data transformation.

そして、さらに、大容量のデータを、高密度に記録し、再生することができるように、記録・再生のために照射するレーザビームとして、400nmないし430nmの波長が短い青色レーザビームを用いるとともに、記録光学系および再生光学系のレンズとして、開口数(NA)の大きいレンズを用い、ポリカーボネートなどによって形成された基板とは反対側から、レーザビームを照射するように構成され、記録層上に、光透過層が設けられた次世代型光記録ディスクが提案されている。   Further, a blue laser beam having a short wavelength of 400 nm to 430 nm is used as a laser beam to be irradiated for recording / reproduction so that large-capacity data can be recorded and reproduced at high density. A lens having a large numerical aperture (NA) is used as a lens of the recording optical system and the reproducing optical system, and a laser beam is irradiated from a side opposite to a substrate formed of polycarbonate or the like. A next-generation optical recording disc provided with a light transmitting layer has been proposed.

このような次世代型光記録ディスクにおいては、記録容量を大きくするため、トラックピッチを、DVDの1/2以下に小さくし、0.25μmないし0.34μmにすることが要求される。   In such a next-generation optical recording disk, in order to increase the recording capacity, it is required that the track pitch be reduced to 1/2 or less of that of DVD, that is, 0.25 μm to 0.34 μm.

しかしながら、このように、トラックピッチを小さくする場合には、グルーブとランドが、所望の形状に形成されていないと、データ読み取り時におけるジッターが大きくなって、エラーが発生しやすく、また、十分なトラッキング制御ができないという問題があった。   However, when the track pitch is reduced as described above, if the grooves and lands are not formed in a desired shape, jitter at the time of reading data increases, errors easily occur, and sufficient There was a problem that tracking control could not be performed.

したがって、本発明は、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことができる光記録ディスクを提供することを目的とするものである。   Therefore, according to the present invention, the jitter at the time of data reading can be suppressed within a desired range, the occurrence of an error at the time of data reading can be suppressed, and the push-pull signal level is maintained at a desired value or more. It is an object of the present invention to provide an optical recording disk capable of performing tracking control as desired.

本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、支持基板と、支持基板の一方の主面に、交互に形成されたグルーブおよびランドと、グルーブおよびランドが形成された支持基板の一方の主面上に形成され、少なくとも一層の記録層を含む光学的機能層と、光学的機能層上に形成された光透過層とを備えた光記録ディスクにおいては、各グルーブの深さGdが15nm以上、25nm以下で、かつ、グルーブの半値幅Gwが150nm以上、230nm以下となるようにグルーブおよびランドを形成することによって、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことが可能になることを見出した。   The inventor of the present invention has conducted intensive studies in order to achieve the object of the present invention. As a result, a supporting substrate, and grooves and lands alternately formed on one main surface of the supporting substrate are formed. An optical recording disk formed on one main surface of the support substrate and having an optical functional layer including at least one recording layer, and a light transmitting layer formed on the optical functional layer, By forming the groove and the land so that the groove depth Gd is 15 nm or more and 25 nm or less, and the half width Gw of the groove is 150 nm or more and 230 nm or less, the jitter at the time of reading data falls within a desired range. It is possible to suppress the occurrence of errors when reading data, and to keep the push-pull signal level at or above a desired value. It can be found that it is possible desired as in, for tracking control.

したがって、本発明の前記目的は、支持基板と、前記支持基板の一方の主面に、交互に形成されたグルーブおよびランドと、前記グルーブおよび前記ランドが形成された前記支持基板の前記一方の主面上に形成され、少なくとも一層の記録層を含む光学的機能層と、前記光学的機能層上に形成された光透過層とを備えた光記録ディスクであって、前記各グルーブの深さGdが15nm以上、25nm以下で、かつ、前記グルーブの半値幅Gwが150nm以上、230nm以下となるように前記グルーブおよび前記ランドが形成され、前記少なくとも一層の記録層が無機元素を含んでいることを特徴とする光記録ディスクによって達成される。   Therefore, the object of the present invention is to provide a supporting substrate, grooves and lands alternately formed on one main surface of the supporting substrate, and one main surface of the supporting substrate on which the grooves and lands are formed. An optical recording disk comprising: an optical functional layer formed on a surface and including at least one recording layer; and a light transmitting layer formed on the optical functional layer, wherein a depth Gd of each groove is provided. Is not less than 15 nm and not more than 25 nm, and the groove and the land are formed such that the half width Gw of the groove is not less than 150 nm and not more than 230 nm, and the at least one recording layer contains an inorganic element. Achieved by the optical recording disk characterized.

本発明において、主面とは、他の面に比して、面積が大きい面をいう。   In the present invention, the main surface refers to a surface having a larger area than other surfaces.

本発明において、好ましくは、光記録ディスクは、400nmないし430nmの波長の光によって、0.8ないし0.9の開口数(NA)を有する対物レンズおよび前記光透過層を介して、0.25ないし0.40μmのトラックピッチで、データを記録、再生可能に構成されている。   In the present invention, it is preferable that the optical recording disk is formed by a light having a wavelength of 400 nm to 430 nm through an objective lens having a numerical aperture (NA) of 0.8 to 0.9 and the light transmitting layer through an optical lens. The data can be recorded and reproduced at a track pitch of from 0.40 μm to 0.40 μm.

本発明の好ましい実施態様においては、前記グルーブが、略台形状断面を有し、前記ランドが、略台形状断面を有している。   In a preferred embodiment of the present invention, the groove has a substantially trapezoidal cross section, and the land has a substantially trapezoidal cross section.

本発明者の研究によれば、グルーブが略台形状断面を有し、ランドが略台形状断面を有するように、グルーブおよびランドを形成することによって、再生されたデータのジッターを十分に低く、抑制し得ることが見出されている。   According to the study of the present inventor, by forming the groove and the land so that the groove has a substantially trapezoidal cross section and the land has a substantially trapezoidal cross section, the jitter of the reproduced data is sufficiently low, It has been found that it can be suppressed.

本発明において、グルーブが略台形状断面を有しているとは、グルーブの頂面および側面が、略平面によって形成されている場合だけでなく、グルーブの頂面および側面が、曲面によって形成されている場合を含み、ランドが略台形状断面を有しているとは、ランドの頂面および側面が、略平面によって形成されている場合だけでなく、ランドの頂面および側面が、曲面によって形成されている場合を含んでいる。   In the present invention, the phrase that the groove has a substantially trapezoidal cross section means that not only when the top surface and the side surface of the groove are formed by a substantially flat surface, but also when the top surface and the side surface of the groove are formed by a curved surface. When the land has a substantially trapezoidal cross-section, not only when the top surface and the side surface of the land are formed by a substantially flat surface, but also when the top surface and the side surface of the land are formed by a curved surface It includes the case where it is formed.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記各グルーブと隣り合った前記ランドとの間の傾斜面の前記支持基板に対する角度θが12°以上、30°以下となるように前記グルーブおよび前記ランドが形成されている。   In a further preferred aspect of the present invention, the grooves and the lands are arranged such that the angle θ of the inclined surface between each of the grooves and the adjacent lands to the support substrate is 12 ° or more and 30 ° or less. Is formed.

本発明者の研究によれば、各グルーブと隣り合ったランドとの間の傾斜面の支持基板に対する角度θが12°以上、30°以下となるようにグルーブおよびランドを形成することによって、再生されたデータのジッターを十分に低く、抑制し得ることが見出されている。   According to the study of the present inventor, by forming the groove and the land such that the angle θ of the inclined surface between each groove and the adjacent land to the support substrate is 12 ° or more and 30 ° or less, the reproduction is performed. It has been found that the jitter of the obtained data can be suppressed sufficiently low.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記各グルーブと隣り合った前記ランドとの間の傾斜面の前記支持基板に対する角度θが12°以上、25°以下となるように前記グルーブおよび前記ランドが形成されている。   In a further preferred aspect of the present invention, the groove and the land are arranged such that the angle θ of the inclined surface between each groove and the adjacent land to the support substrate is 12 ° or more and 25 ° or less. Is formed.

本発明の好ましい実施態様においては、前記グルーブおよび前記ランドが、ウォブル量Wobが、±7nm以上となるように形成されている。   In a preferred embodiment of the present invention, the groove and the land are formed such that a wobble amount Wob is ± 7 nm or more.

本発明者の研究によれば、ウォブル量Wobが、±7nm以上となるように、グルーブおよびランドを形成することによって、ウォブル信号とノイズとのC/N比を向上させることが可能になることが見出されている。   According to the research of the present inventors, it is possible to improve the C / N ratio between a wobble signal and noise by forming a groove and a land so that the wobble amount Wob becomes ± 7 nm or more. Have been found.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記グルーブおよび前記ランドが、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように形成されている。   In a further preferred aspect of the present invention, the groove and the land are formed such that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm.

本発明者の研究によれば、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブおよびランドを形成することによって、残留トラッキングエラーを低い値に保持しつつ、ウォブル信号とノイズとのC/N比を向上させることが可能になることが見出されている。   According to the study of the present inventor, by forming grooves and lands so that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm, the wobble signal and noise can be kept at a low value while maintaining the residual tracking error at a low value. It has been found that it is possible to improve the C / N ratio.

本発明の好ましい実施態様においては、前記少なくとも一つの記録層が、Si、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素を主成分として含む第一の記録膜と、前記第一の記録膜の近傍に設けられ、Cu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素を主成分として含む第二の記録膜とによって構成されている。   In a preferred embodiment of the present invention, the at least one recording layer contains, as a main component, one kind of element selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Mg, C, Al, Zn, In, Cu, Ti and Bi. And a first recording film that is provided in the vicinity of the first recording film and is selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Ti, and Si, and includes an element included in the first recording film. And a second recording film containing a different element as a main component.

本発明者は、光記録ディスクの記録感度を向上させ、再生信号のノイズレベルを低減させるために、鋭意研究を重ねた結果、Si、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素を主成分として含む第一の記録膜と、前記第一の記録膜の近傍に設けられ、Cu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素を主成分として含む第二の記録膜とによって、記録膜が形成されている場合には、レーザビームを用いて、データを記録する際に、レーザビームによって、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合して、記録マークが形成され、反射率を大きく変化させることが可能になり、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合して、記録マークが形成された領域の反射率と、記録マークが形成されていないブランク領域の反射率の大きな差を利用することにより、データを良好な感度で記録することができ、再生された信号中のノイズレベルを低減して、C/N比を向上させることが可能になることを見出した。   The present inventors have conducted intensive studies in order to improve the recording sensitivity of an optical recording disk and reduce the noise level of a reproduced signal, and as a result, have found that Si, Ge, Sn, Mg, C, Al, Zn, In, and Cu , Ti and Bi, a first recording film containing, as a main component, one kind of element selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Ti, and Si provided near the first recording film. When the recording film is formed by a second recording film selected from the group and containing, as a main component, an element different from the element contained in the first recording film, the data is formed using a laser beam. When recording, a laser beam mixes elements contained as a main component in the first recording film with elements contained as a main component in the second recording film to form a recording mark. And greatly change the reflectivity Is possible, and the element contained as a main component in the first recording film and the element contained as a main component in the second recording film are mixed to form an area in which a recording mark is formed. By utilizing the large difference between the reflectance and the reflectance of the blank area where the recording mark is not formed, data can be recorded with good sensitivity, and the noise level in the reproduced signal is reduced. It has been found that the C / N ratio can be improved.

本明細書において、第一の記録膜が、元素を主成分として含むとは、第一の記録膜に含まれる元素のうち、その元素の含有率が最も大きいことをいい、第二の記録膜が元素を主成分として含むとは、第二の記録膜に含まれる元素のうち、その元素の含有率が最も大きいことをいう。   In the present specification, the phrase “the first recording film contains an element as a main component” means that among the elements contained in the first recording film, the content of the element is the largest, and the second recording film "Contains an element as a main component" means that among the elements contained in the second recording film, the content of the element is the largest.

本発明において、第二の記録膜は、レーザビームの照射を受けたときに、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合した領域が形成されるように、第一の記録膜の近傍に位置していればよく、第二の記録膜が、第一の記録膜に接触していることは必ずしも必要でなく、第一の記録膜と第二の記録膜の間に、誘電体層などの一または二以上の他の層が介在していてもよい。   In the present invention, the second recording film, when irradiated with a laser beam, contains an element contained as a main component in the first recording film and a main component in the second recording film. It is sufficient that the second recording film is in contact with the first recording film as long as it is located near the first recording film so that a region in which elements are mixed is formed. Alternatively, one or more other layers such as a dielectric layer may be interposed between the first recording film and the second recording film.

レーザビームが照射されたときに、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合した領域が形成され、記録マークが形成される理由は必ずしも明らかでないが、レーザビームが照射されたときに、第一の記録膜に主成分として含まれている元素および第二の記録膜に主成分として含まれている元素が、部分的にあるいは全体として、溶融ないし拡散し、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合された領域が形成されるものと推測される。   When a laser beam is irradiated, a region where an element contained as a main component in the first recording film and an element contained as a main component in the second recording film are mixed, and a recording mark is formed. Although the reason why is formed is not necessarily clear, when the laser beam is irradiated, the element contained in the first recording film as a main component and the element contained in the second recording film as a main component are A region in which an element that is partially or entirely melted or diffused and contained as a main component in the first recording film and an element contained as a main component in the second recording film is mixed. It is presumed to be formed.

こうして、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合されて、記録マークが形成された領域の再生のためのレーザビームに対する反射率と、ブランク領域の再生のためのレーザビームに対する反射率とは大きく異なるので、反射率の大きな差異を利用して、記録されたデータを高感度で再生することができる。   In this way, the element contained as a main component in the first recording film and the element contained as a main component in the second recording film are mixed to reproduce an area where a recording mark is formed. Since the reflectance with respect to the laser beam is significantly different from the reflectance with respect to the laser beam for reproducing the blank area, recorded data can be reproduced with high sensitivity by utilizing the large difference in reflectance.

本発明の別の好ましい実施態様においては、光学的機能層が、複数の記録層を備え、前記光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Si、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素を主成分として含む第一の記録膜と、前記第一の記録膜の近傍に設けられ、Cu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素を主成分として含む第二の記録膜とによって構成されている。   In another preferred embodiment of the present invention, the optically functional layer comprises a plurality of recording layers, and at least one recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer is formed of Si, Ge, Sn, Mg. , C, Al, Zn, In, Cu, Ti and Bi, a first recording film containing, as a main component, one kind of element selected from the group consisting of: Cu, Al , Zn, Ag, Ti, and Si, and a second recording film mainly containing an element different from the element contained in the first recording film.

光記録ディスクの光学的機能層が複数の記録層を備えている場合には、光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層は、光透過層から最も遠い記録層にデータを記録し、光透過層から最も遠い記録層からデータを再生する場合に、レーザビームが透過するから、光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層の記録マークが形成された領域の光透過率と、記録マークが形成されていないブランク領域の光透過率の差が大きいと、光透過層から最も遠い記録層にデータを記録する際に、レーザビームが透過する光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層の領域が、記録マークが形成された領域であるか、ブランク領域であるかによって、光透過層から最も遠い記録層に照射されるレーザビームの光量が大きく変化するとともに、光透過層から最も遠い記録層からデータを再生する際に、光透過層から最も遠い記録層によって反射され、光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層を透過して、検出されるレーザビームの光量が大きく変化し、その結果、レーザビームが通過する光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層の領域が記録マークが形成された領域であるか、ブランク領域であるかによって、光透過層から最も遠い記録層に対する記録特性や光透過層から最も遠い記録層から再生される信号の振幅が大きく変化してしまうという問題が生じる。   When the optical functional layer of the optical recording disk has a plurality of recording layers, a recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer records data on the recording layer farthest from the light transmitting layer, When data is reproduced from the recording layer farthest from the light transmitting layer, since the laser beam is transmitted, the light transmittance of the region where the recording mark of the recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer is formed, If the difference in the light transmittance of the blank area where the recording mark is not formed is large, when data is recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer, it is different from the recording layer farthest from the light transmitting layer through which the laser beam passes. Depending on whether the area of the different recording layer is the area where the recording mark is formed or the blank area, the light amount of the laser beam applied to the recording layer farthest from the light transmitting layer greatly changes and the light transmitting layer When data is reproduced from the recording layer furthest from the light transmitting layer, the light amount of the laser beam reflected by the recording layer farthest from the light transmitting layer and transmitted through the recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer to be detected. Is greatly changed. As a result, the light transmitting layer differs depending on whether the recording layer area different from the recording layer farthest from the light transmitting layer through which the laser beam passes is the area where the recording mark is formed or the blank area. There is a problem that the recording characteristics for the recording layer furthest from the recording layer and the amplitude of the signal reproduced from the recording layer farthest from the light transmitting layer greatly change.

とくに、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが通過する光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層の領域に、記録マークが形成された領域とブランク領域との境界が含まれている場合には、レーザビームのスポット内における反射率分布が一定とならないため、所望のように、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを再生することは不可能である。   In particular, when reproducing data recorded on the recording layer furthest from the light transmitting layer, a recording mark was formed in a region of the recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer through which the laser beam LB passes. When the boundary between the region and the blank region is included, the reflectance distribution in the spot of the laser beam is not constant, so that the data recorded on the recording layer furthest from the light transmitting layer can be recorded as desired. It is impossible to regenerate.

本発明者は、かかる問題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、第一の記録膜に主成分として含まれているSi、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素と、第二の記録膜に主成分として含まれているCu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素とが、混合して、形成された記録マークの領域の400nmないし430nmの波長のレーザビームに対する光透過率と、第一の記録膜および第二の記録膜のブランク領域の400nmないし430nmの波長のレーザビームLBに対する光透過率との差は4%以下であって、記録マークが形成された領域の光透過率と、ブランク領域の光透過率の差が十分に小さいことを見出した。   The present inventor has conducted intensive studies to solve such a problem, and as a result, has found that Si, Ge, Sn, Mg, C, Al, Zn, In, Cu, One kind of element selected from the group consisting of Ti and Bi, and the first recording film selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Ti and Si contained as main components in the second recording film; Are mixed with an element different from the element contained in the first recording film and the second recording film in terms of light transmittance to a laser beam having a wavelength of 400 nm to 430 nm in the region of the formed recording mark. The difference between the light transmittance of the blank region and the laser beam LB having a wavelength of 400 to 430 nm is 4% or less, and the difference between the light transmittance of the region where the recording mark is formed and the light transmittance of the blank region is sufficient. Small I found the door.

したがって、本発明の別の好ましい実施態様によれば、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層にデータを記録する際に、レーザビームによって、第一の記録膜に主成分として含まれている元素と、第二の記録膜に主成分として含まれている元素とが混合して、記録マークが形成され、反射率を大きく変化させることができ、データを良好な感度で記録することが可能になるとともに、記録マークが形成された領域とブランク領域との400nmないし430nmの波長のレーザビームに対する光透過率の差が4%以下となり、この記録層を介して、400nmないし430nmの波長のレーザビームを照射して、光透過層から最も遠い記録層にデータを記録し、光透過層から最も遠い記録層から、データを再生する場合に、レーザビームが通過する記録層の領域に、記録マークが形成された領域とブランク領域との境界が含まれているときでも、所望のように、光透過層から最も遠い記録層にデータを記録し、光透過層から最も遠い記録層から、データを再生することが可能になる。   Therefore, according to another preferred embodiment of the present invention, when data is recorded in at least one recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer, the main component is applied to the first recording film by the laser beam. Is mixed with the element contained as a main component in the second recording film, a recording mark is formed, the reflectance can be largely changed, and the data can be obtained with good sensitivity. Recording becomes possible, and the difference in light transmittance between a region where a recording mark is formed and a blank region with respect to a laser beam having a wavelength of 400 nm to 430 nm becomes 4% or less. By irradiating a laser beam having a wavelength of 430 nm, data is recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer, and data is reproduced from the recording layer farthest from the light transmitting layer. In this case, even when the area of the recording layer through which the laser beam passes includes the boundary between the area where the recording mark is formed and the blank area, the data is stored in the recording layer farthest from the light transmitting layer as desired. And data can be reproduced from the recording layer farthest from the light transmitting layer.

本発明において、好ましくは、第二の記録膜が、第一の記録膜に接するように、形成されている。   In the present invention, preferably, the second recording film is formed so as to be in contact with the first recording film.

本発明において、光記録ディスクの光学的機能層が、第一の記録膜および第二の記録膜に加えて、一もしくは二以上のSi、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素を主成分として含む記録膜、または、一もしくは二以上のCu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素を主成分として含む記録膜を備えていてもよい。   In the present invention, in addition to the first recording film and the second recording film, one or more of Si, Ge, Sn, Mg, C, Al, Zn, In, A recording film containing, as a main component, one kind of element selected from the group consisting of Cu, Ti, and Bi, or a first film selected from the group consisting of one or more of Cu, Al, Zn, Ag, Ti, and Si. A recording film containing as a main component an element different from the elements contained in the recording film may be provided.

本発明の好ましい実施態様においては、前記第二の記録膜に、Cu、Al、Zn、Ag、Mg,Sn、Au,TiおよびPdよりなる群から選ばれる元素で、前記第二の記録膜に主成分として含まれている元素と異なる少なくとも一種の元素が添加されている。   In a preferred embodiment of the present invention, the second recording film includes an element selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Mg, Sn, Au, Ti and Pd. At least one element different from the element contained as the main component is added.

本発明の好ましい実施態様によれば、光記録ディスクの保存信頼性および記録感度を向上させることが可能になる。   According to a preferred embodiment of the present invention, it is possible to improve the storage reliability and the recording sensitivity of an optical recording disk.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記第二の記録膜に、Al、Zn、SnおよびAuよりなる群から選ばれる元素で、前記第二の記録膜に主成分として含まれている元素と異なる少なくとも一種の元素が添加されている。   In a further preferred aspect of the present invention, the second recording film includes an element selected from the group consisting of Al, Zn, Sn and Au, and an element contained as a main component in the second recording film. At least one different element is added.

本発明のさらに好ましい実施態様によれば、第二の記録膜の酸化あるいは硫化に対する安定性を大幅に向上させることができ、第二の記録膜に主成分として含まれている元素の腐食に起因する第二の記録膜の剥離などの光記録ディスクの外観不良や、長期保存後における光記録ディスクの反射率の変化を効果的に防止することが可能となる。     According to a further preferred embodiment of the present invention, the stability of the second recording film against oxidation or sulfidation can be greatly improved, and the second recording film is caused by corrosion of an element contained as a main component in the second recording film. This makes it possible to effectively prevent poor appearance of the optical recording disk, such as peeling of the second recording film, and changes in the reflectance of the optical recording disk after long-term storage.

本発明の好ましい実施態様においては、前記第一の記録膜に、さらに、Mg、Al、Cu、Ag、Auよりなる群から選ばれ、前記第一の記録膜に主成分として含まれている元素とは異なる1または2以上の元素が添加されている。   In a preferred embodiment of the present invention, the first recording film further includes an element selected from the group consisting of Mg, Al, Cu, Ag, and Au and contained as a main component in the first recording film. One or more elements different from the above are added.

本発明の好ましい実施態様によれば、光記録ディスクの記録感度をさらに向上させることが可能になる。   According to the preferred embodiment of the present invention, it is possible to further improve the recording sensitivity of the optical recording disk.

本発明において、より好ましくは、第一の記録膜が、Si、Ge、Sn、MgおよびAlよりなる群から選ばれる元素を主成分として含んでおり、さらに好ましくは、Si、GeおよびSnよりなる群から選ばれる元素を主成分として含んでいる。   In the present invention, more preferably, the first recording film contains, as a main component, an element selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Mg, and Al, and further preferably, it comprises Si, Ge, and Sn. It contains an element selected from the group as a main component.

第一の記録膜が、Si、Ge、Sn、MgおよびAlよりなる群から選ばれる元素を主成分として含んでいる場合には、再生信号のC/N比をより向上させることが可能となる。   When the first recording film contains, as a main component, an element selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Mg, and Al, it is possible to further improve the C / N ratio of the reproduced signal. .

本発明において、好ましくは、第二の記録膜が、Cuを主成分として含んでいる。   In the present invention, preferably, the second recording film contains Cu as a main component.

Cuを主成分として含む第二の記録膜を、真空蒸着法やスパッタリング法などの気相成長法を用いて成膜した場合には、第二の記録膜の表面平滑性がきわめて高いため、従来に比して、初期の記録特性を向上させることが可能となる。このように、本発明にかかる光記録ディスクは、記録層の表面平滑性が優れているから、とくに、レーザビームのスポットを非常に小さく絞って、データを記録する場合の記録特性を大幅に改善することができる。さらに、Cuは非常に安価であるため、光記録ディスクの材料コストを低減させることができる。   When a second recording film containing Cu as a main component is formed by a vapor deposition method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method, the surface smoothness of the second recording film is extremely high. As a result, the initial recording characteristics can be improved. As described above, since the optical recording disk according to the present invention has excellent surface smoothness of the recording layer, the recording characteristic when recording data is greatly improved, especially when the spot of the laser beam is very small. can do. Further, since Cu is very inexpensive, the material cost of the optical recording disk can be reduced.

本発明の別の好ましい実施態様においては、前記光学的機能層が、少なくとも中間層を介して、積層された複数の記録層を備え、前記複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含んでいる。   In another preferred embodiment of the present invention, the optically functional layer includes a plurality of recording layers stacked at least with an intermediate layer interposed, and a recording layer farthest from a light transmitting layer among the plurality of recording layers. At least one recording layer different from the layer is at least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La. M and an element X that is combined with the metal M by being irradiated with a recording laser beam to form a crystal of a compound with the metal M.

本発明者の研究によれば、複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含むように構成されている場合には、その記録層が、レーザビームに対して、十分な光透過率を有していることが見出されている。   According to the study of the present inventor, at least one of the plurality of recording layers different from the recording layer farthest from the light transmitting layer is composed of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, At least one metal M selected from the group consisting of In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and La, and by being irradiated with a recording laser beam, combined with the metal M, It has been found that the recording layer has a sufficient light transmittance with respect to a laser beam when it is configured to contain the element X that forms a crystal of the compound .

したがって、本発明の別の好ましい実施態様によれば、レーザビームが光透過層から最も遠い記録層に到達するまでに、レーザビームのパワーが低下することを最小限に抑制することができるから、光透過層から最も遠い記録層に、所望のように、データを記録することが可能となり、一方、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを再生する場合にも、光透過層から最も遠い記録層によって反射されたレーザビームが、光入射面に到達するまでに、レーザビームのパワーが低下するのを最小限に抑制できるから、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを、所望のように、再生することが可能となる。   Therefore, according to another preferred embodiment of the present invention, before the laser beam reaches the recording layer farthest from the light transmitting layer, it is possible to minimize the decrease in the power of the laser beam, Data can be recorded on the recording layer furthest from the light transmitting layer as desired, while data recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer can also be reproduced from the light transmitting layer. Since the laser beam reflected by the farthest recording layer reaches the light incident surface, a decrease in the power of the laser beam can be minimized, so that the data recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer can be minimized. Can be reproduced as desired.

また、本発明の別の好ましい実施態様によれば、金属Mと元素Xを含む記録層に、記録用のレーザビームを照射して、金属Mと元素Xを結合させ、化合物の結晶を生成することによって、データを記録するように構成されているから、金属Mと元素Xとの化合物が結晶化された領域と、それ以外の領域とのレーザビームに対する反射率差を大きくすることができ、したがって、光透過層から最も遠い記録層だけでなく、光透過層から最も遠い記録層以外の記録層にも、所望のように、データを記録し、記録したデータを再生することができる。   According to another preferred embodiment of the present invention, a recording layer containing a metal M and an element X is irradiated with a laser beam for recording to combine the metal M and the element X to generate a compound crystal. Thereby, since it is configured to record data, it is possible to increase the difference in the reflectance of the laser beam between the region where the compound of the metal M and the element X is crystallized and the other region, Therefore, data can be recorded on the recording layers other than the recording layer farthest from the light transmission layer as well as the recording layer farthest from the light transmission layer, and the recorded data can be reproduced as desired.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記複数の記録層のうち、レーザビームの光透過層から最も遠い記録層以外のすべての記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含み、前記レーザビームの光透過層に近いほど、厚さが薄くなるように形成されている。   In a further preferred aspect of the present invention, among the plurality of recording layers, all the recording layers other than the recording layer farthest from the laser beam light transmitting layer include Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, and Nb. , Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and at least one metal selected from the group consisting of Zn and La, by being irradiated with a recording laser beam, combined with the metal M, It is formed so as to include a metal M and an element X that forms a crystal of a compound, and to be thinner as it is closer to the light transmitting layer of the laser beam.

本発明のさらに好ましい実施態様によれば、レーザビームの光透過層から最も遠い記録層とは異なる記録層の光透過率を、全体として、より一層向上させることが可能になるから、光透過層から最も遠い記録層に、所望のように、データを記録し、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを、所望のように、再生することが可能となる。   According to a further preferred embodiment of the present invention, the light transmittance of the recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer of the laser beam can be further improved as a whole. The data recorded on the recording layer furthest from the light transmitting layer can be reproduced as desired on the recording layer furthest from the light transmitting layer.

また、本発明者の研究によれば、複数の記録層のうち、レーザビームの光透過層から最も遠い記録層以外のすべての記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームが照射されることにより、金属Mと結合して、金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含み、光透過層に近いほど、厚さが薄くなるように形成されている場合には、光透過層から遠いほど、記録層のレーザビームに対する反射率が高くなることが見出されており、したがって、レーザビームの光透過層から最も遠い記録層以外の記録層からも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   According to the study of the present inventor, among the plurality of recording layers, all of the recording layers other than the recording layer farthest from the laser beam transmission layer are made of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, and Nb. , Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and at least one metal M selected from the group consisting of La and a laser beam for recording are irradiated to combine with the metal M to form the metal M And the element X which forms a crystal of a compound of the formula (1), and when the layer is formed so as to be thinner as it is closer to the light transmitting layer, and as the distance from the light transmitting layer increases, the recording layer reflects the laser beam. The rate has been found to be high, so that data can be reproduced as desired from recording layers other than the recording layer farthest from the light transmitting layer of the laser beam.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記光学的機能層が、前記基板側から、第一の記録層と、第二の記録層と、第三の記録層を、この順に備え、前記第二の記録層が、15nmないし50nmの厚さを有し、前記第三の記録層の厚さと、前記第二の記録層の厚さとの比が0.40ないし0.70となるように、前記第一の記録層、前記第二の記録層および前記第三の記録層が形成されている。   In a further preferred embodiment of the present invention, the optically functional layer comprises a first recording layer, a second recording layer, and a third recording layer in this order from the substrate side, Has a thickness of 15 nm to 50 nm, and the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.40 to 0.70, A first recording layer, the second recording layer, and the third recording layer are formed.

本発明者の研究によれば、光学的機能層が、基板側から、第一の記録層と、第二の記録層と、第三の記録層を、この順に備え、第二の記録層が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層の厚さと、第二の記録層の厚さとの比が0.40ないし0.70となるように、第一の記録層、第二の記録層および第三の記録層が形成されている場合には、第二の記録層によって吸収されるレーザビームの量と、第三の記録層によって吸収されるレーザビームの量をほぼ等しくすることができ、かつ、第二の記録層および第三の記録層のレーザビーム吸収率を十分に高いレベル、すなわち、10%ないし30%に設定し得ることが見出されており、したがって、本発明のさらに好ましい実施態様によれば、第二の記録層と第三の記録層に、同等のパワーの記録用レーザビームを照射することによって、所望のように、データを記録することが可能になる。   According to the study of the present inventor, the optical functional layer includes, from the substrate side, a first recording layer, a second recording layer, and a third recording layer in this order, and the second recording layer is , 15 nm to 50 nm, and the first recording layer and the second recording layer are arranged such that the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.40 to 0.70. When the second recording layer and the third recording layer are formed, the amount of the laser beam absorbed by the second recording layer is substantially equal to the amount of the laser beam absorbed by the third recording layer. And it has been found that the laser beam absorptivity of the second recording layer and the third recording layer can be set to a sufficiently high level, ie, 10% to 30%, According to a further preferred embodiment of the present invention, the second recording layer and the third recording layer By irradiating the recording laser beam power, as desired, it is possible to record the data.

また、本発明者の研究によれば、光学的機能層が、基板側から、第一の記録層と、第二の記録層と、第三の記録層を、この順に備え、第二の記録層が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層の厚さと、第二の記録層の厚さとの比が0.40ないし0.70となるように、第一の記録層、第二の記録層および第三の記録層が形成されている場合には、第二の記録層のレーザビームに対する反射率と、第三の記録層のレーザビームに対する反射率とをほぼ等しくすることができ、かつ、それぞれの反射率を十分に高くし得ることが見出されており、したがって、本発明のさらに好ましい実施態様によれば、第二の記録層および第三の記録層のいずれの記録層からも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   According to the study of the present inventor, the optical functional layer comprises, from the substrate side, a first recording layer, a second recording layer, and a third recording layer, in this order, the second recording layer The first recording layer such that the layer has a thickness between 15 nm and 50 nm and the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is between 0.40 and 0.70. When the second recording layer and the third recording layer are formed, the reflectance of the second recording layer with respect to the laser beam is substantially equal to the reflectance of the third recording layer with respect to the laser beam. And it has been found that the reflectivity of each of them can be sufficiently high, and therefore, according to a further preferred embodiment of the present invention, both of the second recording layer and the third recording layer It is possible to reproduce data from the recording layer as desired.

本発明において、より好ましくは、第三の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が、0.46ないし0.69となるように、第二の記録層および第三の記録層が形成され、最も好ましくは、第三の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が、0.50ないし0.63となるように、第二の記録層および第三の記録層が形成される。   In the present invention, more preferably, the second recording layer and the third recording layer are so set that the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.46 to 0.69. The second recording layer and the third recording layer are most preferably formed such that the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.50 to 0.63. A recording layer is formed.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記光学的機能層が、前記基板側から、第一の記録層と第二の記録層と第三の記録層と第四の記録層とを、この順に備え、第二の記録層が、20nmないし50nmの厚さを有し、前記第三の記録層の厚さと前記第二の記録層の厚さとの比が0.48ないし0.93で、前記第四の記録層の厚さと前記第二の記録層の厚さとの比が0.39ないし0.70となるように、前記第一の記録層、前記第二の記録層、前記第三の記録層および前記第四の記録層が形成されている。   In a further preferred embodiment of the present invention, the optical functional layer, from the substrate side, the first recording layer, the second recording layer, the third recording layer and the fourth recording layer, in this order Wherein the second recording layer has a thickness of 20 nm to 50 nm, and the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.48 to 0.93; The first recording layer, the second recording layer, and the third recording layer so that the ratio of the thickness of the fourth recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.39 to 0.70. A recording layer and the fourth recording layer are formed.

本発明者の研究によれば、光学的機能層が、基板側から、第一の記録層と第二の記録層と第三の記録層と第四の記録層とを、この順に備え、第二の記録層が、20nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が0.48ないし0.93で、第四の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が0.39ないし0.70となるように、第一の記録層、第二の記録層、第三の記録層および第四の記録層が形成されている場合には、第二の記録層によって吸収されるレーザビームの量、第三の記録層によって吸収されるレーザビームの量および第四の記録層によって吸収されるレーザビームの量をほぼ等しくすることができ、かつ、第二の記録層、第三の記録層および第四の記録層のレーザビーム吸収率を十分に高いレベル、すなわち、10%ないし20%に設定し得ることが見出されており、したがって、本発明のさらに好ましい実施態様によれば、第二の記録層、第三の記録層および第四の記録層に、同等のパワーの記録用レーザビームを照射することによって、所望のように、データを記録することが可能になる。   According to the study of the present inventor, the optical functional layer comprises a first recording layer, a second recording layer, a third recording layer, and a fourth recording layer in this order from the substrate side, The second recording layer has a thickness of 20 nm to 50 nm, the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.48 to 0.93, and the thickness of the fourth recording layer is The first recording layer, the second recording layer, the third recording layer, and the fourth recording layer are formed such that the ratio of the thickness to the thickness of the second recording layer is 0.39 to 0.70. If so, the amount of the laser beam absorbed by the second recording layer, the amount of the laser beam absorbed by the third recording layer, and the amount of the laser beam absorbed by the fourth recording layer And the laser beam absorptivity of the second recording layer, the third recording layer, and the fourth recording layer can be sufficient. It has been found that it can be set to a high level, ie 10% to 20%, and therefore according to a further preferred embodiment of the invention, the second recording layer, the third recording layer and the fourth recording layer. By irradiating the recording layer with a recording laser beam having the same power, data can be recorded as desired.

さらに、本発明者の研究によれば、光学的機能層が、基板側から、第一の記録層と第二の記録層と第三の記録層と第四の記録層とを、この順に備え、第二の記録層が、20nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が0.48ないし0.93で、第四の記録層の厚さと第二の記録層の厚さとの比が0.39ないし0.70となるように、第一の記録層、第二の記録層、第三の記録層および第四の記録層が形成されている場合には、第二の記録層のレーザビームに対する反射率、第三の記録層のレーザビームに対する反射率および第四の記録層のレーザビームに対する反射率をほぼ等しくすることができ、かつ、それぞれの反射率を十分に高くし得ることが見出されており、したがって、本発明のさらに好ましい実施態様によれば、第二の記録層、第三の記録層および第四の記録層のいずれの記録層からも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   Furthermore, according to the study of the present inventor, the optical functional layer comprises a first recording layer, a second recording layer, a third recording layer, and a fourth recording layer in this order from the substrate side. The second recording layer has a thickness of 20 nm to 50 nm, and the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.48 to 0.93; The first recording layer, the second recording layer, the third recording layer, and the fourth recording layer such that the ratio of the layer thickness to the second recording layer thickness is 0.39 to 0.70. Is formed, the reflectance of the second recording layer for the laser beam, the reflectance of the third recording layer for the laser beam, and the reflectance of the fourth recording layer for the laser beam may be substantially equal. And it has been found that the respective reflectivities can be sufficiently high, and thus the present invention According to a preferred embodiment, the second recording layer, from any of the recording layers of the third recording layer and the fourth recording layer, the data, as desired, can be reproduced.

本発明において、より好ましくは、前記第三の記録層の厚さと、前記第二の記録層の厚さとの比が0.50ないし0.90で、かつ、前記第四の記録層の厚さと、前記第二の記録層の厚さとの比が0.39ないし0.65となるように、前記第二の記録層、前記第三の記録層および前記第四の記録層が形成され、最も好ましくは、前記第三の記録層の厚さと、前記第二の記録層の厚さとの比が0.57ないし0.80で、かつ、前記第四の記録層の厚さと前記第二の記録層の厚さとの比が0.42ないし0.54となるように、前記第二の記録層、前記第三の記録層および前記第四の記録層が形成される。   In the present invention, more preferably, the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.50 to 0.90, and the thickness of the fourth recording layer is The second recording layer, the third recording layer, and the fourth recording layer are formed such that a ratio with respect to the thickness of the second recording layer is 0.39 to 0.65. Preferably, the ratio of the thickness of the third recording layer to the thickness of the second recording layer is 0.57 to 0.80, and the thickness of the fourth recording layer and the second recording layer The second recording layer, the third recording layer, and the fourth recording layer are formed such that the ratio with the thickness of the layer is 0.42 to 0.54.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記元素Xが、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素によって構成されている。   In a further preferred embodiment of the present invention, the element X is constituted by at least one element selected from the group consisting of S, O, C and N.

S、O、CおよびNは、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属元素Mと高い反応性を有しているため、元素Xとして、好ましく用いることができる。なかでも、6B族の元素であるO、Sは、適度な反応性を有し、7B族の元素であるFやClのように、反応性が高すぎて、記録用のレーザビームを照射せずとも、金属元素Mと反応してしまうといった不具合がなく、とくに好ましい。   S, O, C and N are at least one metal element M selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La. , It can be preferably used as the element X. Above all, O and S, which are Group 6B elements, have appropriate reactivity, and have too high reactivity like F and Cl, which are Group 7B elements, so that they are irradiated with a laser beam for recording. At least, there is no problem of reacting with the metal element M, which is particularly preferable.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記金属Mと前記元素Xを含む少なくとも一層の記録層が、さらに、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を含んでいる。   In a further preferred embodiment of the present invention, at least one recording layer containing the metal M and the element X further contains at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti.

本発明において、金属Mと元素Xを含む少なくとも一層の記録層が、さらに、Mgを含んでいるときは、Mgの含有量は、18.5原子%ないし33.7原子%であることが好ましく、20.0原子%ないし33.5原子%であることが、さらに好ましい。   In the present invention, when at least one recording layer containing the metal M and the element X further contains Mg, the content of Mg is preferably 18.5 atomic% to 33.7 atomic%. More preferably, it is 20.0 atomic% to 33.5 atomic%.

一方、本発明において、金属Mと元素Xを含む少なくとも一層の記録層が、さらにAlを含んでいるときは、Alの含有量は、11原子%ないし40原子%であることが好ましく、18原子%ないし32原子%であることが、さらに好ましい。   On the other hand, in the present invention, when at least one recording layer containing the metal M and the element X further contains Al, the content of Al is preferably 11 to 40 atomic%, and is preferably 18 to 40 atomic%. % To 32 at%.

また、本発明において、金属Mと元素Xを含む少なくとも一層の記録層が、さらにTiを含んでいるときは、Tiの含有量は、8原子%ないし34原子%であることが好ましく、10原子%ないし26原子%であることが、さらに好ましい。   In the present invention, when at least one recording layer containing the metal M and the element X further contains Ti, the content of Ti is preferably from 8 to 34 at%, preferably 10 to 34 at%. % To 26 at%.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記複数の記録層のうち、前記レーザビームの光透過層から最も遠い記録層が、Cuを主成分として含む第一の記録膜と、Siを主成分として含む第二の記録膜とを備えている。   In a further preferred embodiment of the present invention, of the plurality of recording layers, a recording layer farthest from the light transmitting layer of the laser beam, a first recording film containing Cu as a main component, and Si as a main component. And a second recording film.

本発明のさらに好ましい実施態様によれば、前記複数の記録層のうち、前記レーザビームの光透過層から最も遠い記録層が、Cuを成分として含む第一の記録膜と、Siを主成分として含む第二の記録膜とを有しているから、光透過層から最も遠い記録層に記録されたデータを再生したときの再生信号のノイズレベルを、より低く抑えることができ、また、データを記録する前後の反射率差を大きくすることができ、さらに、光記録ディスクを、長期間保存した場合にも、記録されたデータが劣化するのを防止することができ、光記録ディスクの信頼性を高めることが可能となる。   According to a further preferred embodiment of the present invention, of the plurality of recording layers, a recording layer farthest from the laser beam light transmitting layer, a first recording film containing Cu as a component, and Si as a main component Since the second recording film includes a second recording film, the noise level of a reproduced signal when reproducing data recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer can be suppressed to a lower level. The difference in reflectivity before and after recording can be increased, and even when the optical recording disk is stored for a long period of time, the recorded data can be prevented from deteriorating. Can be increased.

本発明の別の好ましい実施態様においては、前記光学的機能層が、少なくとも中間層を介して、積層された複数の記録層を備え、前記複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層以外の少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいる。   In another preferred embodiment of the present invention, the optically functional layer includes a plurality of recording layers stacked at least with an intermediate layer interposed, and a recording layer farthest from a light transmitting layer among the plurality of recording layers. At least one recording layer other than the layer includes at least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and La. , S, O, C and N as at least one element selected from the group consisting of Mg, Al and Ti as additives.

本発明者の研究によれば、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいる場合には、その記録層が、レーザビームに対して、十分な光透過率を有していることが見出されている。   According to the study of the present inventor, at least one recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer is composed of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, and Pb. , Bi, Zn and La, at least one metal selected from the group consisting of S, O, C and N, and at least one element selected from the group consisting of N as a main component, and a group consisting of Mg, Al and Ti It has been found that, when at least one metal selected from the group consisting of additives is contained as an additive, the recording layer has a sufficient light transmittance to a laser beam.

したがって、本発明の別の好ましい実施態様によれば、光透過層から最も遠い記録層に、所望のように、データを記録し、記録したデータを再生することができ、また、光透過層から最も遠い記録層以外の記録層にも、所望のように、データを記録し、記録したデータを再生することができる。   Therefore, according to another preferred embodiment of the present invention, data can be recorded on the recording layer farthest from the light transmitting layer as desired, and the recorded data can be reproduced, and Data can be recorded on the recording layers other than the farthest recording layer as desired, and the recorded data can be reproduced.

本発明において、前記複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層以外のすべての記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいることが好ましい。   In the present invention, among the plurality of recording layers, all the recording layers other than the recording layer farthest from the light transmitting layer are Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, It contains at least one metal selected from the group consisting of Pb, Bi, Zn and La, and at least one element selected from the group consisting of S, O, C and N as main components, and consists of Mg, Al and Ti. It is preferable to include at least one metal selected from the group as an additive.

本発明の好ましい実施態様においては、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含む記録層は、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含むターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を主成分として含むターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成される。   In a preferred embodiment of the present invention, at least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La; The recording layer containing, as a main component, at least one element selected from the group consisting of S, O, C, and N, and at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. At least one metal selected from the group consisting of Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La; and a group consisting of S, O, C and N A target containing, as a main component, at least one selected element; and a target containing, as a main component, at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. Using, by a vapor deposition method, it is formed.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含む記録層は、ZnSとSiOとの混合物あるいはLa、SiOおよびSiの混合物を主成分として含むターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を主成分として含むターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成される。 In a further preferred embodiment of the present invention, at least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La , S, O, C and N, the recording layer containing, as a main component, at least one element selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. target containing a target comprising a mixture or a mixture of La 2 O 3, SiO 2 and Si 3 N 4 and SiO 2 as a main component, which Mg, at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti as a main component And is formed by a vapor deposition method.

本発明のさらに好ましい実施態様においては、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含む記録層は、ZnSとSiOとの混合物あるいはLa、SiOおよびSiの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成される。 In a further preferred embodiment of the present invention, at least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La , S, O, C and N, the recording layer containing, as a main component, at least one element selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. using and a target comprising a mixture or La 2 O 3, a mixture of SiO 2 and Si 3 N 4 and SiO 2, Mg, and a target consisting of at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti, the gas It is formed by a phase growth method.

本発明において、ZnSとSiOとの混合物を含むターゲットを用いる場合には、ターゲットに含まれたZnSとSiOとのモル比を、50:50ないし90:10に設定することが好ましく、約80:20に設定することが、さらに好ましい。 In the present invention, when a target containing a mixture of ZnS and SiO 2 is used, the molar ratio between ZnS and SiO 2 contained in the target is preferably set to 50:50 to 90:10. It is more preferable to set the ratio to 80:20.

ZnSとSiOとの混合物中のZnSのモル比が40%以上であるときは、記録層のレーザビームに対する反射率と光透過率とを、ともに、向上させることができ、ZnSとSiOとの混合物中のZnSのモル比が80%以下であるときは、応力によって、記録層にクラックが発生することを、効果的に、防止することができる。さらに、ZnSとSiOとの混合物中のZnSとSiOのモル比を65:35ないし75:25であるときは、記録層にクラックが発生することを、より効果的に防止しつつ、記録層のレーザビームに対する反射率と光透過率とを、より一層向上させることが可能になる。 When the molar ratio of ZnS in the mixture of ZnS and SiO 2 is 40% or more, the reflectivity and the light transmittance with respect to the laser beam of the recording layer, both, can be improved, ZnS and a SiO 2 When the molar ratio of ZnS in the mixture is 80% or less, it is possible to effectively prevent cracks from being generated in the recording layer due to stress. Further, when the molar ratio of ZnS to SiO 2 in the mixture of ZnS and SiO 2 is 65:35 to 75:25, the occurrence of cracks in the recording layer is more effectively prevented while preventing the recording layer from cracking. It is possible to further improve the reflectance and the light transmittance of the layer with respect to the laser beam.

さらに、本発明において、La、SiOおよびSiの混合物を含むターゲットを用いる場合には、ターゲットに含まれたSiOと、LaおよびSiのモル比を、10:90ないし50:50に設定することが好ましく、La、SiOおよびSiのとのモル比を、20:30:50に設定することが、さらに好ましい。 Further, in the present invention, when a target containing a mixture of La 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4 is used, the molar ratio of SiO 2 contained in the target to La 2 O 3 and Si 3 N 4 Is preferably set to 10:90 to 50:50, and more preferably, the molar ratio to La 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4 is set to 20:30:50.

La、SiOおよびSiの混合物中のSiOのモル比が10%未満であるときは、記録層にクラックが入りやすく、SiOのモル比が50%を越えているときには、屈折率の低下により、記録層の反射率が低下する。一方、SiおよびLaのモル比が50%ないし90%であるときは、記録層の屈折率を高くすることができ、クラックの発生も防止することができる。 When the molar ratio of SiO 2 in the mixture of La 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4 is less than 10%, cracks easily occur in the recording layer, and the molar ratio of SiO 2 exceeds 50%. At times, the reflectance of the recording layer decreases due to the decrease in the refractive index. On the other hand, when the molar ratio of Si 3 N 4 and La 2 O 3 is 50% to 90%, the refractive index of the recording layer can be increased, and the occurrence of cracks can be prevented.

本発明によれば、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことができる光記録ディスクを提供することが可能になる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the jitter at the time of data reading can be suppressed within a desired range, it becomes possible to suppress the occurrence of an error at the time of data reading, and hold the push-pull signal level at or above a desired value. It is possible to provide an optical recording disk capable of performing tracking control as desired.

以下、添付図面に基づいて、本発明の好ましい実施態様につき、詳細に説明を加える。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。   FIG. 1 is an enlarged sectional view of a substantial part of an optical recording disk according to a preferred embodiment of the present invention.

図1に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク1は、追記型光記録ディスクとして構成されており、支持基板2と、反射層3と、第二の誘電体層4と、第二の記録膜5と、第一の記録膜6と、第一の誘電体層8と、光透過層9とを備えている。本実施態様においては、第一の記録膜6と第二の記録膜5とによって、記録層7が形成されている。   As shown in FIG. 1, an optical recording disk 1 according to the present embodiment is configured as a write-once optical recording disk, and includes a support substrate 2, a reflective layer 3, a second dielectric layer 4, It comprises a second recording film 5, a first recording film 6, a first dielectric layer 8, and a light transmitting layer 9. In this embodiment, the recording layer 7 is formed by the first recording film 6 and the second recording film 5.

支持基板2は、光記録ディスク1に求められる機械的強度を確保するための支持体として、機能する。   The support substrate 2 functions as a support for ensuring the mechanical strength required for the optical recording disk 1.

支持基板2を形成するための材料は、光記録ディスク1の支持体として機能することができれば、とくに限定されるものではない。支持基板2は、たとえば、ガラス、セラミックス、樹脂などによって、形成することができる。これらのうち、成形の容易性の観点から、樹脂が好ましく使用される。このような樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、加工性、光学特性などの点から、ポリカーボネート樹脂がとくに好ましく、本実施態様においては、支持基板2は、ポリカーボネート樹脂によって形成されている。   The material for forming the support substrate 2 is not particularly limited as long as it can function as a support for the optical recording disk 1. The support substrate 2 can be formed of, for example, glass, ceramics, resin, or the like. Among these, resins are preferably used from the viewpoint of ease of molding. Examples of such a resin include a polycarbonate resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a polystyrene resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, a silicone resin, a fluorine resin, an ABS resin, and a urethane resin. Among these, a polycarbonate resin is particularly preferable in terms of workability, optical characteristics, and the like. In the present embodiment, the support substrate 2 is formed of a polycarbonate resin.

本実施態様においては、支持基板2は、約1.1mmの厚さを有している。   In the present embodiment, the support substrate 2 has a thickness of about 1.1 mm.

図1に示されるように、支持基板2の一方の主面上には、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLが交互に形成されている。   As shown in FIG. 1, on one main surface of the support substrate 2, grooves G having a substantially trapezoidal cross section and lands L having a substantially trapezoidal cross section are alternately formed.

よく知られているように、支持基板2は、支持基板2の一主面に形成されるべきグルーブGおよびランドLの凹凸パターンと対称の凹凸パターンが、その一主面に形成されたスタンパ(図示せず)を用いて、射出成形法によって、形成される。   As is well known, the support substrate 2 includes a stamper (a stamper) in which a concave / convex pattern symmetrical to the concave / convex pattern of the groove G and the land L to be formed on one principal surface of the support substrate 2 is formed on one principal surface thereof. (Not shown) by an injection molding method.

図2は、グルーブGとランドLの断面形状の詳細を示す略断面図である。   FIG. 2 is a schematic sectional view showing details of the sectional shapes of the groove G and the land L.

図2に示されるように、本実施態様においては、グルーブGとランドLは、それぞれ、略台形状断面を有し、グルーブGの深さGdが、15nm以上、25nm以下で、グルーブGの半値幅Gwが、150nm以上、230nm以下になるように形成されている。   As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the groove G and the land L each have a substantially trapezoidal cross section, the depth Gd of the groove G is 15 nm or more and 25 nm or less, and the groove G is half of the groove G. The value width Gw is formed so as to be 150 nm or more and 230 nm or less.

図2に示されるように、本実施態様においては、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板2の一方の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように、グルーブGとランドLが形成されている。   As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the angle θ of the inclined surface between the adjacent groove G and the land L with respect to one main surface of the support substrate 2 is set to be 12 ° to 30 °. , A groove G and a land L are formed.

支持基板2は、たとえば、ポリカーボネートによって形成され、図1に示されるように、グルーブGおよびランドLが形成された支持基板2の一主面には、スパッタリング法などによって、反射層3が形成されている。   The support substrate 2 is formed of, for example, polycarbonate. As shown in FIG. 1, a reflection layer 3 is formed on one main surface of the support substrate 2 on which the grooves G and the lands L are formed by a sputtering method or the like. ing.

反射層3は、光透過層9を介して、入射したレーザビームLBを反射し、再び、光透過層9から出射させる機能を有している。   The reflection layer 3 has a function of reflecting the incident laser beam LB via the light transmission layer 9 and emitting the laser beam LB from the light transmission layer 9 again.

反射層3の厚さは、とくに限定されるものではないが、10nmないし300nmであることが好ましく、20nmないし200nmであることが、とくに好ましい。   Although the thickness of the reflective layer 3 is not particularly limited, it is preferably from 10 nm to 300 nm, and particularly preferably from 20 nm to 200 nm.

反射層3を形成するための材料は、レーザビームLBを反射できればよく、とくに限定されるものではなく、Mg、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Ag、Pt、Auなどによって、反射層3を形成することができる。これらのうち、高い反射率を有しているAl、Au、Ag、Cu、または、AgとCuとの合金などのこれらの金属の少なくとも1つを含む合金などの金属材料が、反射層3を形成するために、好ましく用いられる。   The material for forming the reflective layer 3 is not particularly limited as long as it can reflect the laser beam LB, and is not particularly limited. Mg, Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ge, Ag, Pt , Au, etc., the reflection layer 3 can be formed. Among them, a metal material such as Al, Au, Ag, Cu having high reflectivity, or an alloy containing at least one of these metals such as an alloy of Ag and Cu forms the reflective layer 3. It is preferably used for forming.

反射層3は、レーザビームLBを用いて、記録層7に記録されたデータを再生するときに、多重干渉効果によって、記録部と未記録部との反射率の差を大きくして、高い再生信号(C/N比)を得るために、設けられている。   When reproducing the data recorded on the recording layer 7 using the laser beam LB, the reflective layer 3 increases the difference in reflectance between the recorded portion and the unrecorded portion due to the multiple interference effect, thereby achieving high reproduction. It is provided to obtain a signal (C / N ratio).

図1に示されるように、反射層3の表面には、スパッタリング法などによって、第二の誘電体層4が形成され、第二の誘電体層4の表面には、スパッタリング法などによって、第二の記録膜5が形成されている。   As shown in FIG. 1, a second dielectric layer 4 is formed on the surface of the reflective layer 3 by a sputtering method or the like, and a second dielectric layer 4 is formed on the surface of the second dielectric layer 4 by a sputtering method or the like. A second recording film 5 is formed.

図1に示されるように、第二の記録膜5の表面には、スパッタリング法などによって、第一の記録膜6が形成され、第一の記録膜6と第二の記録膜5によって記録層7が形成されている。   As shown in FIG. 1, a first recording film 6 is formed on the surface of the second recording film 5 by a sputtering method or the like, and the recording layer is formed by the first recording film 6 and the second recording film 5. 7 are formed.

第一の記録膜6の表面には、図1に示されるように、スパッタリング法などによって、第一の誘電体層8が形成され、第一の誘電体層8の表面には、光透過層9が形成されている。   As shown in FIG. 1, a first dielectric layer 8 is formed on the surface of the first recording film 6 by a sputtering method or the like, and a light transmitting layer is formed on the surface of the first dielectric layer 8. 9 are formed.

第一の誘電体層8および第二の誘電体層4は、記録層7を保護する役割を果たす。したがって、第一の誘電体層8および第二の誘電体層4により、長期間にわたって、記録されたデータの劣化を効果的に防止することができる。また、第二の誘電体層4は、支持基板2などの熱変形を防止する効果があり、したがって、変形に伴うジッターの悪化を効果的に防止することが可能になる。   The first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 serve to protect the recording layer 7. Therefore, the first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 can effectively prevent deterioration of recorded data for a long period of time. Further, the second dielectric layer 4 has an effect of preventing thermal deformation of the support substrate 2 and the like, and therefore, it is possible to effectively prevent deterioration of jitter due to the deformation.

第一の誘電体層8および第二の誘電体層4を形成するための誘電体材料は、透明な誘電体材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、酸化物、硫化物、窒化物またはこれらの組み合わせを主成分とする誘電体材料によって、第一の誘電体層8および第二の誘電体層4を形成することができる。より具体的には、基板2などの熱変形を防止し、記録層7を保護するために、第一の誘電体層8および第二の誘電体層4が、Al、AlN、ZnO、ZnS、GeN、GeCrN、CeO、SiO、SiO、SiNおよびSiCよりなる群から選ばれる少なくとも1種の誘電体材料を主成分として含んでいることが好ましく、ZnS・SiOを主成分として含んでいることがより好ましい。 The dielectric material for forming the first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 is not particularly limited as long as it is a transparent dielectric material. For example, oxide, sulfide, The first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 can be formed of a dielectric material mainly containing nitride or a combination thereof. More specifically, in order to prevent thermal deformation of the substrate 2 and the like and protect the recording layer 7, the first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 are made of Al 2 O 3 , AlN, ZnO. , ZnS, GeN, GeCrN, CeO, SiO, SiO 2 , SiN and SiC, preferably containing at least one dielectric material as a main component, and containing ZnS · SiO 2 as a main component. Is more preferable.

第一の誘電体層8および第二の誘電体層4の層厚は、とくに限定されるものではないが、3ないし200nmであることが好ましい。第一の誘電体層8あるいは第二の誘電体層4の層厚が3nm未満であると、上述した効果が得られにくくなる。一方、第一の誘電体層8あるいは第二の誘電体層4の層厚が200nmを越えると、成膜に要する時間が長くなり、光記録ディスク1の生産性が低下するおそれがあり、さらに、第一の誘電体層8あるいは第二の誘電体層4のもつ応力によって、光記録ディスク1にクラックが発生するおそれがある。   The thicknesses of the first dielectric layer 8 and the second dielectric layer 4 are not particularly limited, but are preferably 3 to 200 nm. If the thickness of the first dielectric layer 8 or the second dielectric layer 4 is less than 3 nm, it is difficult to obtain the above-described effects. On the other hand, if the thickness of the first dielectric layer 8 or the second dielectric layer 4 exceeds 200 nm, the time required for film formation becomes longer, and the productivity of the optical recording disk 1 may be reduced. In addition, cracks may occur in the optical recording disk 1 due to the stress of the first dielectric layer 8 or the second dielectric layer 4.

本実施態様においては、光透過層9は、第二の誘電体層8の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、紫外線を、塗膜に照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、形成されており、図1に示されるように、光透過層9の支持基板2に対向する主面には、支持基板2の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの形状が転写され、支持基板2の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同じ凹凸パターンが形成されている。   In the present embodiment, the light transmitting layer 9 is formed by applying a UV curable resin solution to the surface of the second dielectric layer 8 by a spin coating method to form a coating film, and irradiating the coating film with ultraviolet rays. As shown in FIG. 1, the main surface of the light transmitting layer 9 facing the support substrate 2 is provided with one main surface of the support substrate 2. The shapes of the formed grooves G and lands L are transferred, and the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 2 is formed.

本実施態様にかかる光記録ディスク1においては、開口数(NA)が0.8ないし0.9の対物レンズ(図示せず)を介して、図1において、矢印で示される向きに、400nmないし430nmの波長のレーザビームLBが照射され、光透過層9を通して、記録層7に、レーザビームLBが照射されて、記録層7にデータが記録され、光透過層9を通して、記録層7に、レーザビームLBが照射されて、記録層7からデータが再生されるように構成されている。   In the optical recording disk 1 according to the present embodiment, through an objective lens (not shown) having a numerical aperture (NA) of 0.8 to 0.9, in the direction indicated by the arrow in FIG. The recording layer 7 is irradiated with the laser beam LB having a wavelength of 430 nm and is irradiated with the laser beam LB through the light transmission layer 9 to record data. The recording layer 7 is transmitted through the light transmission layer 9 to the recording layer 7. The data is reproduced from the recording layer 7 by irradiation with the laser beam LB.

本実施態様においては、第一の記録膜6は、Siを主成分として含み、第二の記録膜5は、Cuを主成分として、含んでいる。   In the present embodiment, the first recording film 6 contains Si as a main component, and the second recording film 5 contains Cu as a main component.

光記録ディスク1の記録層7に、レーザビームLBが照射されると、第二の記録膜5に主成分として含まれているCuは、第一の記録膜6に主成分として含まれているSiと、速やかに混合して、混合領域が形成され、記録マークが形成される。こうして、SiとCuが混合して、記録マークが形成された記録層の領域の反射率は、記録層7の記録マークが形成されていないブランク領域の反射率と大きく異なるので、記録層7に、データを速やかに記録することが可能になる。   When the recording layer 7 of the optical recording disk 1 is irradiated with the laser beam LB, Cu contained as a main component in the second recording film 5 is contained as a main component in the first recording film 6. It mixes quickly with Si to form a mixed region and a recording mark. In this way, the reflectivity of the region of the recording layer where the recording marks are formed by mixing Si and Cu is greatly different from the reflectivity of the blank region where the recording marks are not formed of the recording layer 7. Thus, data can be recorded quickly.

光記録ディスク1の記録感度を向上させるために、第一の記録膜6に、さらに、Mg、Al、Cu、Ag、Auよりなる群から選ばれ、第一の記録膜6に主成分として含まれている元素とは異なる1または2以上の元素が添加されていることが好ましい。   In order to improve the recording sensitivity of the optical recording disk 1, the first recording film 6 is further selected from the group consisting of Mg, Al, Cu, Ag, and Au, and is included in the first recording film 6 as a main component. It is preferable that one or more elements different from the added elements are added.

光記録ディスク1の保存信頼性および記録感度を向上させるために、第二の記録膜5に、さらに、Al、Zn、SnおよびAuよりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素が添加されていることが好ましい。   In order to improve the storage reliability and recording sensitivity of the optical recording disk 1, at least one element selected from the group consisting of Al, Zn, Sn and Au is further added to the second recording film 5. Is preferred.

第二の記録膜5に、Al、Zn、SnおよびAuよりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素が添加されている場合には、第二の記録膜5の酸化あるいは硫化に対する安定性を大幅に向上させることができ、第二の記録膜5に主成分として含まれているCuの腐食に起因する第二の記録膜5の剥離などの光記録ディスク1の外観不良や、長期保存後における光記録ディスク1の反射率の変化を効果的に防止することが可能となる。   When at least one element selected from the group consisting of Al, Zn, Sn and Au is added to the second recording film 5, the stability of the second recording film 5 against oxidation or sulfidation is greatly reduced. The appearance of the optical recording disk 1 such as peeling of the second recording film 5 due to the corrosion of Cu contained as a main component in the second recording film 5 and light after long-term storage. A change in the reflectance of the recording disk 1 can be effectively prevented.

光記録ディスク1の記録感度を向上させるために、第二の記録膜5に、さらに、Auが添加されていることがとくに好ましい。   It is particularly preferable that Au is further added to the second recording film 5 in order to improve the recording sensitivity of the optical recording disk 1.

記録層7の厚さ、すなわち、第一の記録膜6および第二の記録膜5の総厚は、レーザビームLBが照射された領域で、第一の記録膜6に主成分として含まれているSiと、第二の記録膜5に主成分として含まれているCuとが、速やかに溶融ないし拡散し、第一の記録膜6に主成分として含まれているSiと、第二の記録膜5に主成分として含まれているCuとが混合された領域が速やかに形成され、記録マークが形成さればよく、とくに限定されるものではないが、第一の記録膜6および第二の記録膜5の総厚は、2nm以上、100nm以下であることが好ましく、2nm以上、50nm以下であることがより好ましい。   The thickness of the recording layer 7, that is, the total thickness of the first recording film 6 and the second recording film 5, is a region irradiated with the laser beam LB, and is included as a main component in the first recording film 6. Si and Cu contained as a main component in the second recording film 5 quickly melt or diffuse, and Si contained as a main component in the first recording film 6 and the second recording film 5 It is sufficient that a region in which Cu contained as a main component in the film 5 is mixed is quickly formed and a recording mark is formed, and the recording mark is not particularly limited. The total thickness of the recording film 5 is preferably from 2 nm to 100 nm, more preferably from 2 nm to 50 nm.

第一の記録膜6および第二の記録膜5の総厚が100nmを越えているときは、第一の記録膜6に主成分として含まれているSiと、第二の記録膜5に主成分として含まれているCuとの混合速度が小さくなり、高速で、データを記録することが困難になる。   When the total thickness of the first recording film 6 and the second recording film 5 exceeds 100 nm, Si contained as a main component in the first recording film 6 and the second recording film 5 mainly contain Si. The mixing speed with Cu contained as a component becomes low, and it becomes difficult to record data at high speed.

その一方で、第一の記録膜6の厚さと第二の記録膜5の総厚が2nm未満の場合には、レーザビームLBを照射する前後の反射率の変化が少なくなり、高い強度の再生信号(C/N比)を得ることができなくなる。   On the other hand, when the thickness of the first recording film 6 and the total thickness of the second recording film 5 are less than 2 nm, the change in reflectance before and after the irradiation of the laser beam LB is small, and high intensity reproduction is performed. A signal (C / N ratio) cannot be obtained.

第一の記録膜6および第二の記録膜5のそれぞれの厚さは、とくに限定されるものではないが、記録感度を十分に向上させ、データを記録する前後の反射率の変化を十分に大きくするためには、第一の記録膜6の厚さが、1nmないし30nmであり、第二の記録膜5の厚さが、1nmないし30nmであることが好ましい。   Although the thickness of each of the first recording film 6 and the second recording film 5 is not particularly limited, the recording sensitivity is sufficiently improved, and the change in reflectance before and after recording data is sufficiently reduced. In order to increase the thickness, it is preferable that the thickness of the first recording film 6 is 1 nm to 30 nm, and the thickness of the second recording film 5 is 1 nm to 30 nm.

さらに、レーザビームLBを照射する前後の反射率の変化を十分に大きくするために、第一の記録膜6の厚さと第二の記録膜5の厚さとの比(第一の記録膜6の厚さ/第二の記録膜5の厚さ)は、0.2ないし5.0であることが好ましい。   Furthermore, in order to sufficiently increase the change in reflectance before and after the irradiation of the laser beam LB, the ratio of the thickness of the first recording film 6 to the thickness of the second recording film 5 (the first recording film 6 (Thickness / thickness of second recording film 5) is preferably 0.2 to 5.0.

図1および図2には図示されていないが、本実施態様においては、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLが形成されている。   Although not shown in FIGS. 1 and 2, in the present embodiment, the groove G and the land L are formed such that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm.

本発明者の研究によれば、以上のように、支持基板2の一主面および光透過層9の支持基板2に対向する主面に、グルーブGおよびランドLが形成された光記録ディスク1においては、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことが可能になることが見出されている。   According to the study of the present inventor, as described above, the optical recording disk 1 having the groove G and the land L formed on one main surface of the support substrate 2 and the main surface of the light transmission layer 9 facing the support substrate 2. In the above, the jitter at the time of data reading can be suppressed within a desired range, the occurrence of an error at the time of data reading can be suppressed, and the push-pull signal level can be maintained at a desired value or more. It has been found that tracking control can be performed as desired.

図3は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。   FIG. 3 is a schematic sectional view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention.

図3に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク10は、追記型光記録ディスクとして構成されており、支持基板11と、透明中間層12と、光透過層13と、支持基板11と透明中間層12との間に設けられたL1層20と、透明中間層12と光透過層13との間に設けられたL1層30とを備えている。   As shown in FIG. 3, the optical recording disk 10 according to the present embodiment is configured as a write-once optical recording disk, and includes a support substrate 11, a transparent intermediate layer 12, a light transmission layer 13, and a support substrate 11. And an L1 layer 20 provided between the transparent intermediate layer 12 and the light transmitting layer 13.

L0層20およびL1層30は、データを記録する記録層であり、本実施態様にかかる光記録ディスク10は、二層の記録層を有している。   The L0 layer 20 and the L1 layer 30 are recording layers for recording data, and the optical recording disk 10 according to the present embodiment has two recording layers.

L0層20は、光入射面13aから遠い記録層を構成し、支持基板11側から、反射膜21、第四の誘電体膜22、L0記録層23および第三の誘電体膜24が積層されて、構成されている。   The L0 layer 20 forms a recording layer far from the light incident surface 13a, and a reflective film 21, a fourth dielectric film 22, an L0 recording layer 23, and a third dielectric film 24 are laminated from the support substrate 11 side. And is configured.

一方、L1層30は、光入射面13aに近い記録層を構成し、支持基板11側から、反射膜31、第二の誘電体膜32、L1記録層33および第一の誘電体膜34が積層されて、構成されている。   On the other hand, the L1 layer 30 constitutes a recording layer close to the light incident surface 13a, and the reflection film 31, the second dielectric film 32, the L1 recording layer 33, and the first dielectric film 34 are arranged from the support substrate 11 side. Stacked and configured.

L0層20に、データを記録し、L0層20に記録されたデータを再生する場合には、光入射面13aに近い側に位置するL1層30を介して、レーザビームLBが照射される。   When data is recorded on the L0 layer 20 and data recorded on the L0 layer 20 is reproduced, the laser beam LB is irradiated via the L1 layer 30 located on the side closer to the light incident surface 13a.

したがって、L1層30は、高い光透過率を有していることが必要である。具体的には、データの記録および再生に用いられるレーザビームLBの波長に対し、L1層30が30%以上の光透過率を有していることが必要であり、40%以上の光透過率を有していることが好ましい。   Therefore, the L1 layer 30 needs to have high light transmittance. Specifically, it is necessary that the L1 layer 30 has a light transmittance of 30% or more with respect to the wavelength of the laser beam LB used for recording and reproducing data, and a light transmittance of 40% or more. It is preferable to have

図1および図2に示された光記録ディスク1と同様に、支持基板11は、たとえば、ポリカーボネートによって形成されている。   Similarly to the optical recording disk 1 shown in FIGS. 1 and 2, the support substrate 11 is made of, for example, polycarbonate.

図3に示されるように、支持基板11の一方の主面上に、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLが交互に形成されており、図1および図2に示された光記録ディスク1と同様に、本実施態様においても、グルーブGとランドLは、グルーブGの深さGdが、15nm以上、25nm以下で、グルーブGの半値幅Gwが、150nm以上、230nm以下になるように形成され、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板11の一方の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように形成されている。   As shown in FIG. 3, a groove G having a substantially trapezoidal cross section and a land L having a substantially trapezoidal cross section are alternately formed on one main surface of the support substrate 11, and FIG. 1 and FIG. Similarly to the optical recording disk 1 shown, also in this embodiment, the groove G and the land L have a depth Gd of the groove G of 15 nm or more and 25 nm or less, and a half value width Gw of the groove G of 150 nm or more. The angle θ of the inclined surface between the adjacent groove G and the land L with respect to one main surface of the support substrate 11 is 12 ° to 30 °.

図3には図示されていないが、本実施態様においても、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLが形成されている。   Although not shown in FIG. 3, also in this embodiment, the groove G and the land L are formed such that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm.

透明中間層12は、L0層20とL1層30とを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる機能を有している。   The transparent intermediate layer 12 has a function of physically and optically separating the L0 layer 20 and the L1 layer 30 from each other with a sufficient distance.

図3に示されるように、透明中間層12の光透過層13に対向する主面には、支持基板11の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されている。   As shown in FIG. 3, on the main surface of the transparent intermediate layer 12 facing the light transmitting layer 13, the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and the lands L formed on one main surface of the support substrate 11 is provided. Is formed.

透明中間層12は、L0層20上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、支持基板11を作製するのに用いたスタンパ(図示せず)と同様の凹凸パターンが形成されたスタンパ(図示せず)を被せた状態で、スタンパを介して、紫外線を照射することによって、形成され、その結果、透明中間層12の光透過層13に対向する主面に、支持基板11の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The transparent intermediate layer 12 is formed by applying a UV curable resin solution onto the L0 layer 20 by a spin coating method to form a coating film, and a stamper used to form the support substrate 11 on the surface of the coating film. In a state where a stamper (not shown) having the same concavo-convex pattern as that of the transparent intermediate layer 12 (not shown) is covered, the stamper is formed by irradiating ultraviolet rays through the stamper. On the main surface facing the transmission layer 13, a concavo-convex pattern similar to the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 11 is formed.

透明中間層12は、5μmないし50μmの厚さを有するように形成されることが好ましく、さらに好ましくは、10μmないし40μmの厚さを有するように、形成される。   The transparent intermediate layer 12 is preferably formed to have a thickness of 5 μm to 50 μm, and more preferably, to have a thickness of 10 μm to 40 μm.

透明中間層12は、L0層20にデータを記録し、L0層20からデータを再生する場合に、レーザビームLBが通過するため、十分に高い光透過性を有している必要がある。   The transparent intermediate layer 12 needs to have sufficiently high light transmittance because the laser beam LB passes when data is recorded on the L0 layer 20 and data is reproduced from the L0 layer 20.

光透過層13は、レーザビームLBを透過させる層であり、その一方の表面によって、光入射面13aが構成されている。   The light transmitting layer 13 is a layer that transmits the laser beam LB, and one surface of the light transmitting layer 13 forms a light incident surface 13a.

図3に示されるように、光透過層13の透明中間層12に対向する主面には、透明中間層12のL1層30側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターン、すなわち、支持基板11のL0層20側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターンと同様の凹凸パターンが形成されている。   As shown in FIG. 3, on the main surface of the light transmission layer 13 facing the transparent intermediate layer 12, a concave and convex pattern of the groove G and the land L formed on the main surface of the transparent intermediate layer 12 on the L1 layer 30 side, That is, an uneven pattern similar to the uneven pattern of the groove G and the land L formed on the main surface of the support substrate 11 on the L0 layer 20 side is formed.

光透過層13は、L1層30上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、紫外線を照射して、塗膜を硬化させることによって形成され、その結果として、透明中間層12のL1層30側の一主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターン、すなわち、支持基板11のL0層20側の一主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターンが、光透過層13の透明中間層12に対向する主面に転写されて、光透過層13の透明中間層12に対向する主面に、支持基板11のL0層20側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The light transmitting layer 13 is formed by applying a UV curable resin solution onto the L1 layer 30 by a spin coating method to form a coating film, and irradiating the surface of the coating film with UV light to cure the coating film. As a result, the concave / convex pattern of the groove G and the land L formed on one main surface of the transparent intermediate layer 12 on the L1 layer 30 side, that is, on the one main surface of the support substrate 11 on the L0 layer 20 side. The formed concavo-convex pattern of the groove G and the land L is transferred to the main surface of the light transmitting layer 13 facing the transparent intermediate layer 12, and the supporting substrate is formed on the main surface of the light transmitting layer 13 facing the transparent intermediate layer 12. An uneven pattern similar to the groove G and the land L formed on the main surface of the L0 layer 20 side of No. 11 is formed.

光透過層13は、30μmないし200μmの厚さを有するように形成されることが好ましい。   The light transmitting layer 13 is preferably formed to have a thickness of 30 μm to 200 μm.

光透過層13は、L1層30にデータを記録し、L1層30からデータを再生する場合に、レーザビームLBが通過するため、十分に高い光透過性を有していることが必要である。   The light transmitting layer 13 needs to have sufficiently high light transmittance because the laser beam LB passes when data is recorded on the L1 layer 30 and data is reproduced from the L1 layer 30. .

図3に示されるように、L0層20に含まれるL0記録層23は、第一のL0記録膜23aと、第一のL0記録膜23aに接する第二のL0記録膜23bとを備えている。   As shown in FIG. 3, the L0 recording layer 23 included in the L0 layer 20 includes a first L0 recording film 23a and a second L0 recording film 23b in contact with the first L0 recording film 23a. .

第一のL0記録膜23aおよび第二のL0記録膜23bは、図1および図2に示された光記録ディスク1の記録層7を構成する第一の記録膜6および第二の記録膜5と同様に形成されており、第一のL0記録膜23aは、Siを主成分として含み、第二のL0記録膜23bは、Cuを主成分として含んでいる。   The first L0 recording film 23a and the second L0 recording film 23b are the first recording film 6 and the second recording film 5 constituting the recording layer 7 of the optical recording disk 1 shown in FIGS. The first L0 recording film 23a contains Si as a main component, and the second L0 recording film 23b contains Cu as a main component.

したがって、L0記録層23にレーザビームLBが照射されると、第一のL0記録膜23aに主成分として含まれているSiと、第二のL0記録膜23bに主成分として含まれているCuとが、速やかに混合して、混合領域が形成されて、L0記録層23に記録マークが形成され、データが記録される。   Therefore, when the L0 recording layer 23 is irradiated with the laser beam LB, Si contained as a main component in the first L0 recording film 23a and Cu contained as a main component in the second L0 recording film 23b are obtained. Are mixed quickly to form a mixed area, a recording mark is formed on the L0 recording layer 23, and data is recorded.

同様にして、図3に示されるように、L1層30に含まれるL1記録層33は、第一のL1記録膜33aと、第一のL1記録膜33aに接する第二のL1記録膜33bを備えている。   Similarly, as shown in FIG. 3, the L1 recording layer 33 included in the L1 layer 30 includes a first L1 recording film 33a and a second L1 recording film 33b in contact with the first L1 recording film 33a. Have.

第一のL1記録膜33aおよび第二のL1記録膜33bは、図1および図2に示された光記録ディスク1の記録層7を構成する第一の記録膜6および第二の記録膜5と同様に形成されており、第一のL1記録膜33aは、Siを主成分として含み、第二のL0記録膜33bは、Cuを主成分として含んでいる。   The first L1 recording film 33a and the second L1 recording film 33b are composed of the first recording film 6 and the second recording film 5 constituting the recording layer 7 of the optical recording disk 1 shown in FIGS. The first L1 recording film 33a contains Si as a main component, and the second L0 recording film 33b contains Cu as a main component.

したがって、L1記録層33にレーザビームLBが照射されると、第一のL1記録膜33aに主成分として含まれているSiと、第二のL1記録膜33bに主成分として含まれているCuとが、速やかに混合して、混合領域が形成されて、L1記録層33に記録マークが形成され、データが記録される。   Accordingly, when the L1 recording layer 33 is irradiated with the laser beam LB, Si contained as the main component in the first L1 recording film 33a and Cu contained as the main component in the second L1 recording film 33b are used. Are quickly mixed to form a mixed area, a recording mark is formed on the L1 recording layer 33, and data is recorded.

L1記録層33は、L0層20に含まれるL0記録層23にデータを記録し、L0層20のL0記録層23からデータを再生する場合に、レーザビームLBが透過するから、L1記録層33の記録マークが形成された領域の光透過率と、L1記録層33の記録マークが形成されていないブランク領域の光透過率の差が大きいと、L0層20に含まれるL0記録層23にデータを記録する際に、レーザビームLBが透過するL1記録層33の領域が、記録マークが形成された領域であるか、ブランク領域であるかによって、L0記録層23に照射されるレーザビームLBの光量が大きく変化するとともに、L0層20のL0記録層23からデータを再生する際に、L0記録層23で反射され、L1層30を透過して、検出されるレーザビームLBの光量が大きく変化し、その結果、レーザビームLBが通過するL1記録層33の領域が記録マークが形成された領域であるか、ブランク領域であるかによって、L0記録層23に対する記録特性やL0記録層23から再生される信号の振幅が大きく変化してしまうという問題が生じる。   The L1 recording layer 33 records data on the L0 recording layer 23 included in the L0 layer 20 and, when reproducing data from the L0 recording layer 23 of the L0 layer 20, transmits the laser beam LB. If the difference between the light transmittance of the area where the recording mark is formed and the light transmittance of the blank area of the L1 recording layer 33 where no recording mark is formed is large, the data is stored in the L0 recording layer 23 included in the L0 layer 20. When recording the laser beam LB, the laser beam LB applied to the L0 recording layer 23 depends on whether the area of the L1 recording layer 33 through which the laser beam LB is transmitted is the area where the recording mark is formed or the blank area. The laser beam L reflected by the L0 recording layer 23, transmitted through the L1 layer 30, and detected when the data is reproduced from the L0 recording layer 23 of the L0 layer 20 while the light amount greatly changes. Greatly changes, and as a result, depending on whether the area of the L1 recording layer 33 through which the laser beam LB passes is the area where the recording mark is formed or the blank area, the recording characteristics for the L0 recording layer 23 and L0 There is a problem that the amplitude of a signal reproduced from the recording layer 23 changes greatly.

とくに、L0記録層23に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが通過するL1記録層33の領域に、記録マークが形成された領域とブランク領域との境界が含まれている場合には、レーザビームLBのスポット内における反射率分布が一定とならないため、所望のように、L0記録層23に記録されたデータを再生することは不可能である。   In particular, when reproducing data recorded on the L0 recording layer 23, the region of the L1 recording layer 33 through which the laser beam LB passes includes a boundary between a region where a recording mark is formed and a blank region. In this case, since the reflectance distribution in the spot of the laser beam LB is not constant, it is impossible to reproduce the data recorded in the L0 recording layer 23 as desired.

本発明者の研究によれば、所望のように、L0記録層23にデータを記録し、L0記録層23から、データを再生するためには、L1記録層33の記録マークが形成された領域の光透過率と、ブランク領域の光透過率の差が、4%以下であることが必要であることが好ましいことが見出されている。   According to the research of the present inventor, in order to record data on the L0 recording layer 23 and reproduce data from the L0 recording layer 23 as desired, the area where the recording mark of the L1 recording layer 33 is formed. It has been found that it is preferable that the difference between the light transmittance of the blank region and the light transmittance of the blank region should be 4% or less.

また、本発明者の研究によれば、SiとCuとが混合して、形成された記録マークの領域の400nmないし430nmの波長のレーザビームLBに対する光透過率と、Siを主成分として含む第一のL1記録膜33aとCuを主成分として含む第二のL1記録膜33bとが積層されたL1記録層33のブランク領域の400nmないし430nmの波長のレーザビームLBに対する光透過率との差は4%以下であり、約405nmの波長のレーザビームLBに対しては、記録マークが形成されたL1記録層33の領域の光透過率と、L1記録層33のブランク領域の光透過率との差は1%以下であることが見出されている。   Further, according to the study of the present inventor, the light transmittance of the region of the formed recording mark with respect to the laser beam LB having a wavelength of 400 nm to 430 nm, which is obtained by mixing Si and Cu, and the ratio of Si containing Cu as a main component. The difference between the light transmittance of the blank region of the L1 recording layer 33, in which one L1 recording film 33a and the second L1 recording film 33b containing Cu as a main component are laminated, with respect to the laser beam LB having a wavelength of 400 to 430 nm is For the laser beam LB having a wavelength of about 405 nm, which is not more than 4%, the light transmittance of the area of the L1 recording layer 33 where the recording mark is formed and the light transmittance of the blank area of the L1 recording layer 33 are shown. The difference has been found to be less than 1%.

したがって、本実施態様においては、L1記録層33の第一のL1記録膜33aがSiを主成分として含み、L1記録層33の第二のL1記録膜33bがCuを主成分として含み、光透過層13を介して、レーザビームLBが照射されたときに、第一のL1記録膜33aに主成分として含まれたSiと、第二のL1記録膜33bに主成分として含まれたCuとが混合して、記録マークが形成されるように構成されているから、L1層30を介して、L0記録層23にレーザビームLBを照射することによって、所望のように、L0記録層23にデータを記録し、L0記録層23に記録されたデータを再生することが可能になる。   Therefore, in the present embodiment, the first L1 recording film 33a of the L1 recording layer 33 contains Si as a main component, the second L1 recording film 33b of the L1 recording layer 33 contains Cu as a main component, and the light transmission When the laser beam LB is irradiated through the layer 13, Si included as a main component in the first L1 recording film 33a and Cu included as a main component in the second L1 recording film 33b are mixed. Since the laser beam LB is applied to the L0 recording layer 23 through the L1 layer 30 so that the recording mark is formed, the data is recorded on the L0 recording layer 23 as desired. And the data recorded on the L0 recording layer 23 can be reproduced.

L1記録層33は、L0層20に含まれるL0記録層23にデータを記録し、L0層20のL0記録層23からデータを再生する場合に、レーザビームLBが透過するから、高い光透過性を有していることが必要であり、そのためには、L1記録層33は、その膜厚が、L0記録層23の膜厚よりも、薄くなるように形成されることが好ましい。   The L1 recording layer 33 has a high light transmittance because the laser beam LB is transmitted when data is recorded on the L0 recording layer 23 included in the L0 layer 20 and data is reproduced from the L0 recording layer 23 of the L0 layer 20. Therefore, it is preferable that the L1 recording layer 33 be formed so that its film thickness is smaller than the film thickness of the L0 recording layer 23.

具体的には、L0記録層23は、2nmないし40nmの膜厚を有するように形成されることが好ましく、L1記録層33は、2nmないし15nmの膜厚を有するように、形成されることが好ましい。   Specifically, the L0 recording layer 23 is preferably formed to have a thickness of 2 nm to 40 nm, and the L1 recording layer 33 is preferably formed to have a thickness of 2 nm to 15 nm. preferable.

L1記録層33およびL0記録層23の膜厚が2nm未満である場合には、レーザビームLBを照射する前後の反射率の変化が少なくなり、高い強度の再生信号(C/N比)を得ることができなくなる。   When the thicknesses of the L1 recording layer 33 and the L0 recording layer 23 are less than 2 nm, the change in reflectance before and after the irradiation of the laser beam LB is small, and a high-intensity reproduction signal (C / N ratio) is obtained. You will not be able to do it.

一方、L1記録層33の膜厚が15nmを越えると、L1層30の光透過率が低下し、L0記録層23へのデータの記録特性およびL0記録層23からのデータの再生特性が悪化してしまう。   On the other hand, if the thickness of the L1 recording layer 33 exceeds 15 nm, the light transmittance of the L1 layer 30 decreases, and the characteristics of recording data on the L0 recording layer 23 and the characteristics of reproducing data from the L0 recording layer 23 deteriorate. Would.

また、L0記録層23の厚さが40nmを越えると、記録感度が悪化してしまう。   On the other hand, if the thickness of the L0 recording layer 23 exceeds 40 nm, the recording sensitivity deteriorates.

さらに、レーザビームLBを照射する前後の反射率の変化を十分に大きくするために、L1記録層33に含まれる第一のL1記録膜33aの厚さと第二のL1記録膜33bの厚さとの比(第一のL1記録膜33aの厚さ/第二のL1記録膜33bの厚さ)およびL0記録層23に含まれる第一のL0記録膜23aの厚さと第二のL0記録膜23bの厚さとの比(第一のL0記録膜23aの厚さ/第二のL0記録膜23bの厚さ)は、0.2ないし5.0であることが好ましい。   Further, in order to sufficiently increase the change in the reflectance before and after the irradiation with the laser beam LB, the thickness of the first L1 recording film 33a included in the L1 recording layer 33 and the thickness of the second L1 recording film 33b are changed. The ratio (the thickness of the first L1 recording film 33a / the thickness of the second L1 recording film 33b) and the thickness of the first L0 recording film 23a included in the L0 recording layer 23 and the second L0 recording film 23b The ratio to the thickness (the thickness of the first L0 recording film 23a / the thickness of the second L0 recording film 23b) is preferably 0.2 to 5.0.

第三の誘電体膜24および第二の誘電体膜22は、L0記録層23を保護する保護膜として機能し、第一の誘電体膜34および第二の誘電体膜32は、L1記録層33を保護する保護膜として機能する。   The third dielectric film 24 and the second dielectric film 22 function as protective films for protecting the L0 recording layer 23, and the first dielectric film 34 and the second dielectric film 32 It functions as a protective film that protects 33.

第一の誘電体膜34、第二の誘電体膜32、第三の誘電体膜24および第四の誘電体膜22の厚さは、とくに限定されるものではないが、10nmないし200nmの厚さを有していることが好ましい。これら誘電体膜の厚さが10nm未満である場合には、保護膜としての機能が十分でなくなり、その一方で、これら誘電体膜の厚みが200nmを超えている場合には、成膜に要する時間が長くなって、生産性が低下したり、内部応力によって、L0記録層23やL1記録層33にクラックが発生するおそれがある。   The thicknesses of the first dielectric film 34, the second dielectric film 32, the third dielectric film 24, and the fourth dielectric film 22 are not particularly limited, but may be 10 nm to 200 nm. Preferably. When the thickness of these dielectric films is less than 10 nm, the function as a protective film is not sufficient. On the other hand, when the thickness of these dielectric films exceeds 200 nm, it is necessary for film formation. The time may be prolonged, the productivity may be reduced, and cracks may occur in the L0 recording layer 23 and the L1 recording layer 33 due to internal stress.

第一の誘電体膜24、第二の誘電体膜22、第三の誘電体膜34および第四の誘電体膜32を形成するための材料は、とくに限定されるものではないが、Al、AlN、SiO、Si、CeO、ZnS、TaOなど、Al、Si、Ce、Zn、Ta、Tiなどの酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物を用いて、第一の誘電体膜24、第二の誘電体膜22、第三の誘電体膜34および第四の誘電体膜32を形成することが好ましく、とくに、ZnS・SiOからなる誘電体を主成分とすることがより好ましい。ここで、「ZnS・SiO」とは、ZnSとSiOとの混合物を意味する。 The material for forming the first dielectric film 24, the second dielectric film 22, the third dielectric film 34, and the fourth dielectric film 32 is not particularly limited, but Al 2 O 3 , AlN, SiO 2 , Si 3 N 4 , CeO 2 , ZnS, TaO, and the like, and oxides, nitrides, sulfides, carbides, and mixtures thereof such as Al, Si, Ce, Zn, Ta, and Ti are used. Te, the first dielectric film 24, the second dielectric film 22, to form the third dielectric film 34 and the fourth dielectric film 32 preferably, in particular, a dielectric made of ZnS · SiO 2 It is more preferable to use as a main component. Here, “ZnS · SiO 2 ” means a mixture of ZnS and SiO 2 .

L1層30に含まれる反射膜31は、光入射面13aから入射されるレーザビームLBを反射し、再び、光入射面13aから出射させる役割を果たすとともに、レーザビームLBの照射によって、L1記録層33に生じた熱を効果的に放熱させる役割を果たす。   The reflection film 31 included in the L1 layer 30 reflects the laser beam LB incident from the light incident surface 13a and emits the laser beam LB again from the light incident surface 13a. It plays the role of effectively dissipating the heat generated in 33.

L0層20のL0記録層23にデータを記録し、L0層20のL1記録層23に記録されたデータを再生する場合には、光入射面13aから入射されるレーザビームLBは、L1層30に含まれる反射膜31を通って、L0層20のL1記録層23に照射されるため、反射膜31の材料としては、光透過率が高く、かつ、熱伝導性が高い材料を用いる必要がある。さらに、反射膜31の材料としては、長期にわたる保存信頼性が高いことも要求される。   When data is recorded on the L0 recording layer 23 of the L0 layer 20 and data recorded on the L1 recording layer 23 of the L0 layer 20 is reproduced, the laser beam LB incident from the light incident surface 13a is applied to the L1 layer 30. The light is irradiated to the L1 recording layer 23 of the L0 layer 20 through the reflection film 31 included in the L0 layer 20. Therefore, it is necessary to use a material having high light transmittance and high thermal conductivity as the material of the reflection film 31. is there. Further, the material of the reflection film 31 is also required to have high long-term storage reliability.

したがって、本実施態様においては、L1層30に含まれている反射膜31は、Agを主成分として含み、0.5原子%ないし5.0原子%のCを添加物として含んでいる。   Therefore, in the present embodiment, the reflection film 31 included in the L1 layer 30 contains Ag as a main component, and contains 0.5 to 5.0 atomic% of C as an additive.

L1層30に含まれる反射膜31の膜厚は、Cの添加量によって、光透過率および熱伝導性が変化するため、Cの添加量を考慮して定めればよいが、通常は、20nm未満であることが好ましく、5nmないし15nmであることがより好ましい。   The thickness of the reflective film 31 included in the L1 layer 30 may be determined in consideration of the added amount of C since the light transmittance and the thermal conductivity change depending on the added amount of C. Is preferably less than 5 nm, more preferably 5 nm to 15 nm.

L0層20に含まれる反射膜21は、光入射面13aから入射されるレーザビームLBを反射し、再び、光入射面13aから出射させる役割を果たすとともに、レーザビームLBの照射によって、L0記録層20に生じた熱を効果的に放熱させる役割を果たす。   The reflection film 21 included in the L0 layer 20 reflects the laser beam LB incident from the light incident surface 13a and emits the laser beam LB again from the light incident surface 13a. 20 plays a role of effectively dissipating the heat generated.

L0層20に含まれる反射膜21は、20nmない200nmの厚さを有するように、形成されることが好ましい。L0層20に含まれる反射膜21の厚さが20nm未満であると、L0記録層23に生成された熱を放熱することが困難になり、その一方で、反射膜21の厚さが200nmを越えていると、反射膜21の成膜に長い時間を要するため、生産性を低下し、内部応力などによって、クラックが発生するおそれがある。   The reflection film 21 included in the L0 layer 20 is preferably formed to have a thickness of 20 nm to 200 nm. If the thickness of the reflection film 21 included in the L0 layer 20 is less than 20 nm, it becomes difficult to radiate the heat generated in the L0 recording layer 23, while the thickness of the reflection film 21 is reduced to 200 nm. If it exceeds, it takes a long time to form the reflective film 21, which lowers productivity and may cause cracks due to internal stress or the like.

L0層20に含まれる反射膜21を形成するための材料は、とくに限定されるものではない。反射膜31と同様の材料によって、反射膜21を形成することができるが、L1層30に含まれる反射膜31とは異なり、L0層20に含まれる反射膜21の材料を選択するにあたっては、光透過率を考慮する必要はない。   The material for forming the reflection film 21 included in the L0 layer 20 is not particularly limited. The reflective film 21 can be formed using the same material as the reflective film 31. However, unlike the reflective film 31 included in the L1 layer 30, when selecting the material of the reflective film 21 included in the L0 layer 20, There is no need to consider light transmittance.

本発明者の研究によれば、以上のように、支持基板11の一主面および透明中間層12の光透過層13に対向する主面に、グルーブGおよびランドLが形成された光記録ディスク10においては、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことが可能になることが見出されている。   According to the study of the present inventors, as described above, the optical recording disk in which the groove G and the land L are formed on one main surface of the support substrate 11 and the main surface of the transparent intermediate layer 12 facing the light transmitting layer 13. In No. 10, the jitter at the time of data reading can be suppressed within a desired range, the occurrence of an error at the time of data reading can be suppressed, and the push-pull signal level can be maintained at or above a desired value. And it has been found that tracking control can be performed as desired.

図4は、本発明の他の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。   FIG. 4 is a schematic sectional view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention.

本実施態様にかかる光記録ディスク40は、追記型光記録ディスクとして構成されており、図4に示されるように、支持基板41と、第一の記録層50と、第一の透明中間層42と、第二の記録層60と、第二の透明中間層43と、第三の記録層70と、光透過層45とを備えている。   The optical recording disk 40 according to the present embodiment is configured as a write-once optical recording disk, and as shown in FIG. 4, a support substrate 41, a first recording layer 50, and a first transparent intermediate layer 42. , A second recording layer 60, a second transparent intermediate layer 43, a third recording layer 70, and a light transmitting layer 45.

第一の記録層50、第二の記録層60および第三の記録層70は、それぞれ、データを記録する記録層であり、本実施態様にかかる光記録ディスク40は、三層の記録層を有している。   The first recording layer 50, the second recording layer 60, and the third recording layer 70 are recording layers for recording data, respectively. The optical recording disc 40 according to the present embodiment has three recording layers. Have.

図4に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク40は、光透過層45にレーザビームLBが照射されるように構成され、光透過層45の一方の表面によって、光入射面45aが構成されている。   As shown in FIG. 4, the optical recording disk 40 according to the present embodiment is configured such that the laser beam LB is irradiated on the light transmitting layer 45, and the light incident surface 45a is formed by one surface of the light transmitting layer 45. Is configured.

図4に示されるように、第一の記録層50が、光入射面45aから最も遠い記録層を構成し、第三の記録層70が、光入射面45aに最も近い記録層を構成している。   As shown in FIG. 4, the first recording layer 50 constitutes a recording layer furthest from the light incident surface 45a, and the third recording layer 70 constitutes a recording layer closest to the light incident surface 45a. I have.

第一の記録層50、第二の記録層60あるいは第三の記録層70にデータを記録し、第一の記録層50、第二の記録層60あるいは第三の記録層70に記録されたデータを再生する場合には、光入射面45a側から、400ないし430nmの波長を有する青色レーザビームLBが照射され、その焦点が、第一の記録層50、第二の記録層60および第三の記録層70のいずれか1つに合わされる。   Data was recorded on the first recording layer 50, the second recording layer 60, or the third recording layer 70, and was recorded on the first recording layer 50, the second recording layer 60, or the third recording layer 70. When reproducing data, a blue laser beam LB having a wavelength of 400 to 430 nm is emitted from the light incident surface 45a side, and the focal points thereof are the first recording layer 50, the second recording layer 60 and the third recording layer 60. To one of the recording layers 70.

したがって、第一の記録層50にデータを記録し、第一の記録層50に記録されたデータを再生するときには、第二の記録層60および第三の記録層70を介して、第一の記録層50に、レーザビームLBが照射され、第二の記録層60にデータを記録し、第二の記録層60に記録されたデータを再生するときには、第三の記録層70を介して、第二の記録層60に、レーザビームLBが照射される。   Therefore, when data is recorded on the first recording layer 50 and data recorded on the first recording layer 50 is reproduced, the first recording layer 60 and the third recording layer 70 pass through the first recording layer 70. When the recording layer 50 is irradiated with the laser beam LB, data is recorded on the second recording layer 60, and when the data recorded on the second recording layer 60 is reproduced, via the third recording layer 70, The second recording layer 60 is irradiated with the laser beam LB.

図1および図2に示された光記録ディスク1と同様に、支持基板41は、たとえば、ポリカーボネートによって形成されている。   Similarly to the optical recording disk 1 shown in FIGS. 1 and 2, the support substrate 41 is formed of, for example, polycarbonate.

図4に示されるように、支持基板41の一方の主面上に、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLが交互に形成されており、図1および図2に示された光記録ディスク1と同様に、本実施態様においても、グルーブGとランドLは、グルーブGの深さGdが、15nm以上、25nm以下で、グルーブGの半値幅Gwが、150nm以上、230nm以下になるように形成され、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板2の一方の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように形成されている。   As shown in FIG. 4, a groove G having a substantially trapezoidal cross section and a land L having a substantially trapezoidal cross section are alternately formed on one main surface of the support substrate 41. Similarly to the optical recording disk 1 shown, also in this embodiment, the groove G and the land L have a depth Gd of the groove G of 15 nm or more and 25 nm or less, and a half value width Gw of the groove G of 150 nm or more. The angle θ of the inclined surface between the adjacent groove G and the land L with respect to one main surface of the support substrate 2 is 12 ° to 30 °.

図4には図示されていないが、本実施態様においても、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLが形成されている。   Although not shown in FIG. 4, also in the present embodiment, the groove G and the land L are formed such that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm.

図4に示されるように、支持基板41の表面上には、第一の記録層50が形成されている。   As shown in FIG. 4, a first recording layer 50 is formed on the surface of the support substrate 41.

図5は、第一の記録層50の略拡大断面図である。   FIG. 5 is a schematic enlarged sectional view of the first recording layer 50.

図5に示されるように、第一の記録層50は、支持基板41上に、反射膜51、第二の誘電体膜52、第二の記録膜53b、第一の記録膜53aおよび第一の誘電体膜54が積層されて、構成されている。   As shown in FIG. 5, the first recording layer 50 includes a reflective film 51, a second dielectric film 52, a second recording film 53b, a first recording film 53a, and a first recording film 53 formed on a support substrate 41. Of dielectric films 54 are laminated.

図5に示されるように、支持基板41の表面には、スパッタリング法などの気相成長法によって、反射膜51が形成されている。   As shown in FIG. 5, a reflective film 51 is formed on the surface of the support substrate 41 by a vapor deposition method such as a sputtering method.

反射膜51は、光入射面45aから入射されるレーザビームLBを反射し、再び、光入射面45aから出射させる役割を果たすとともに、レーザビームLBの照射によって、第二の記録膜53bおよび第一の記録膜53aに生じた熱を効果的に放熱させる役割を果たす。   The reflective film 51 reflects the laser beam LB incident from the light incident surface 45a and emits the laser beam LB again from the light incident surface 45a, and irradiates the second recording film 53b and the first recording film 53b by the irradiation of the laser beam LB. Plays a role in effectively dissipating the heat generated in the recording film 53a.

反射膜51を形成するための材料は、レーザビームLBを反射できればよく、とくに限定されるものではないが、Mg、Al、Ti、Cr、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Ag、Pt、Auなどによって、形成することができる。これらのうちでは、Al、Au、Ag、Cuまたはこれらの合金が、高い反射率と高い熱伝導率を有しているため、反射膜51を形成するために、好ましく使用される。   The material for forming the reflective film 51 is not particularly limited as long as it can reflect the laser beam LB, and is not particularly limited. However, Mg, Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ge, Ag, It can be formed of Pt, Au, or the like. Among them, Al, Au, Ag, Cu or an alloy thereof has a high reflectance and a high thermal conductivity, and is therefore preferably used for forming the reflective film 51.

反射膜51は、20nmないし200nmの厚さを有するように、形成されることが好ましい。反射膜51の厚さが20nm未満であると、反射膜51の反射率を十分に高くすることが困難になるとともに、第一の記録層50に生成された熱を放熱することが困難になり、その一方で、反射膜51の厚さが200nmを越えていると、反射膜51の成膜に長い時間を要するため、生産性を低下し、内部応力などによって、クラックが発生するおそれがある。   The reflection film 51 is preferably formed to have a thickness of 20 nm to 200 nm. When the thickness of the reflective film 51 is less than 20 nm, it is difficult to sufficiently increase the reflectance of the reflective film 51, and it is difficult to radiate the heat generated in the first recording layer 50. On the other hand, if the thickness of the reflective film 51 exceeds 200 nm, it takes a long time to form the reflective film 51, which lowers productivity and may cause cracks due to internal stress and the like. .

図5に示されるように、反射膜51の表面上には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第二の誘電体膜52が形成されている。   As shown in FIG. 5, a second dielectric film 52 is formed on the surface of the reflective film 51 by a vapor deposition method such as a sputtering method.

第二の誘電体膜52は、支持基板41の熱変形を防止する機能を有し、さらに、第一の誘電体膜54とともに、第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bを保護する保護膜として機能する。   The second dielectric film 52 has a function of preventing thermal deformation of the support substrate 41, and further protects the first recording film 53a and the second recording film 53b together with the first dielectric film 54. Functions as a protective film.

第二の誘電体膜52を形成するための材料は、レーザビームLBの波長領域において、透明な誘電体材料であれば、とくに限定されるものではなく、たとえば、酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの組み合わせを主成分とする誘電体材料によって、第二の誘電体膜52を形成することができ、第二の誘電体膜52は、好ましくは、Si、Ge、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Sn、Ca、Ce、V、Cu、FeおよびMgよりなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいは、これらの複合物によって形成される。第二の誘電体膜52を形成するための誘電体材料としては、ZnSとSiOの混合物がとくに好ましく、また、ZnSとSiOのモル比としては、50:50ないし85:15であることが好ましく、略80:20であることが、さらに好ましい。 The material for forming the second dielectric film 52 is not particularly limited as long as it is a transparent dielectric material in the wavelength region of the laser beam LB, and examples thereof include oxides, nitrides, and sulfides. , Fluoride, or a dielectric material mainly containing a combination thereof can form the second dielectric film 52. The second dielectric film 52 is preferably made of Si, Ge, Zn , Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Sn, Ca, Ce, V, Cu, Fe and Mg containing at least one metal selected from the group consisting of oxides, nitrides, sulfides, and fluorides. Or a compound of these. As a dielectric material for forming the second dielectric film 52, a mixture of ZnS and SiO 2 is particularly preferable, and a molar ratio of ZnS to SiO 2 is 50:50 to 85:15. And more preferably about 80:20.

図5に示されるように、第二の誘電体膜52の表面上には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第二の記録膜53bが形成され、さらに、その表面上には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第一の記録膜53aが形成されている。   As shown in FIG. 5, a second recording film 53b is formed on the surface of the second dielectric film 52 by a vapor deposition method such as a sputtering method, and further, a sputtering The first recording film 53a is formed by a vapor growth method such as a method.

第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bは、データを記録する記録膜である。   The first recording film 53a and the second recording film 53b are recording films for recording data.

本実施態様においては、第二の記録膜53bはCuを主成分として含み、第一の記録膜53aはSiを主成分として含んでいる。   In this embodiment, the second recording film 53b contains Cu as a main component, and the first recording film 53a contains Si as a main component.

Cuを主成分として含む第二の記録膜53bには、Al、Zn、Sn、MgおよびAuからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素が添加されていることが好ましい。これらの元素を、Cuを主成分として含む第二の記録膜53bに添加した場合には、再生信号のノイズレベルを低下させることが可能になるとともに、長期間の保存に対する信頼性を向上させることが可能になる。   It is preferable that at least one element selected from the group consisting of Al, Zn, Sn, Mg, and Au is added to the second recording film 53b containing Cu as a main component. When these elements are added to the second recording film 53b containing Cu as a main component, it is possible to reduce the noise level of the reproduced signal and improve the reliability for long-term storage. Becomes possible.

第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bは、その総厚が、2nmないし40nmとなるように形成されることが好ましい。   The first recording film 53a and the second recording film 53b are preferably formed so that the total thickness is 2 nm to 40 nm.

第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bの総厚が、2nm未満の場合には、レーザビームLBを照射する前後の反射率の変化が少なくなり、高いC/N比の再生信号を得ることができなくなり、一方、第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bの総厚が、40nmを越えると、記録感度が悪化してしまう。   When the total thickness of the first recording film 53a and the second recording film 53b is less than 2 nm, the change in reflectance before and after the irradiation of the laser beam LB is small, and a reproduced signal having a high C / N ratio can be reproduced. On the other hand, if the total thickness of the first recording film 53a and the second recording film 53b exceeds 40 nm, the recording sensitivity deteriorates.

第一の記録膜53aおよび第二の記録膜53bのそれぞれの厚さは、とくに限定されるものではないが、第一の記録膜53aの厚さと、第二の記録膜53bの厚さとの比、すなわち、第一の記録膜53aの厚さ/第二の記録膜53bの厚さが、0.2ないし5.0であることが好ましい。   Although the thickness of each of the first recording film 53a and the second recording film 53b is not particularly limited, the ratio of the thickness of the first recording film 53a to the thickness of the second recording film 53b is not particularly limited. That is, it is preferable that the thickness of the first recording film 53a / the thickness of the second recording film 53b is 0.2 to 5.0.

図5に示されるように、第一の記録膜53aの表面には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第一の誘電体膜54が形成されている。   As shown in FIG. 5, a first dielectric film 54 is formed on the surface of the first recording film 53a by a vapor deposition method such as a sputtering method.

第一の誘電体膜54は、第二の誘電体膜52と同様の材料によって形成することができる。   The first dielectric film 54 can be formed of the same material as the second dielectric film 52.

図4に示されるように、第一の記録層50の表面には、第一の透明中間層42が形成されている。   As shown in FIG. 4, on the surface of the first recording layer 50, a first transparent intermediate layer 42 is formed.

第一の透明中間層42は、第一の記録層50と第二の記録層60を物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる機能を有している。   The first transparent intermediate layer 42 has a function of physically and optically separating the first recording layer 50 and the second recording layer 60 from each other with a sufficient distance.

図4に示されるように、第一の透明中間層42の光透過層45に対向する主面には、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されている。   As shown in FIG. 4, the main surface of the first transparent intermediate layer 42 facing the light transmitting layer 45 has the same structure as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41. An uneven pattern is formed.

第一の透明中間層42は、第一の記録層50上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、支持基板41を作製するのに用いたスタンパ(図示せず)と同様の凹凸パターンが形成されたスタンパ(図示せず)を被せた状態で、スタンパを介して、紫外線を照射することによって、形成され、その結果、第一の透明中間層42の光透過層45に対向する主面に、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The first transparent intermediate layer 42 is formed by applying a UV curable resin solution onto the first recording layer 50 by a spin coating method to form a coating film, and forming the support substrate 41 on the surface of the coating film. It is formed by irradiating ultraviolet rays through the stamper with a stamper (not shown) in which the same concavo-convex pattern as the stamper (not shown) used for forming is formed. On the main surface of the first transparent intermediate layer 42 facing the light transmitting layer 45, the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41 is formed.

図4に示されるように、第一の透明中間層42の表面には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第二の記録層60が形成され、第二の記録層60の表面には、第二の透明中間層43が形成されている。   As shown in FIG. 4, a second recording layer 60 is formed on the surface of the first transparent intermediate layer 42 by a vapor deposition method such as a sputtering method. , A second transparent intermediate layer 43 is formed.

第二の透明中間層43は、第二の記録層60と第三の記録層70とを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる機能を有している。   The second transparent intermediate layer 43 has a function of physically and optically separating the second recording layer 60 and the third recording layer 70 from each other with a sufficient distance.

図4に示されるように、第二の透明中間層43の第二の記録層60に対向する主面には、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されている。   As shown in FIG. 4, a plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41 are formed on the main surface of the second transparent intermediate layer 43 facing the second recording layer 60. A similar concavo-convex pattern is formed.

第二の透明中間層43は、第二の記録層60上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、支持基板41を作製するのに用いたスタンパ(図示せず)と同様の凹凸パターンが形成されたスタンパ(図示せず)を被せた状態で、スタンパを介して、紫外線を照射することによって、形成され、その結果、第二の透明中間層43の第二の記録層60に対向する主面に、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The second transparent intermediate layer 43 is formed by applying a UV curable resin solution on the second recording layer 60 by a spin coating method to form a coating film, and forming the support substrate 41 on the surface of the coating film. It is formed by irradiating ultraviolet rays through the stamper with a stamper (not shown) in which the same concavo-convex pattern as the stamper (not shown) used for forming is formed. On the main surface of the second transparent intermediate layer 43 facing the second recording layer 60, the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41 is formed.

第一の透明中間層42は、第一の記録層50にデータを記録し、第一の記録層50に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが通過するから、高い光透過率を有していることが必要であり、また、第二の透明中間層43は、第一の記録層50にデータを記録し、第一の記録層50に記録されたデータを再生するとき、および、第二の記録層60にデータを記録し、第二の記録層60に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが通過するため、高い光透過率を有していることが必要である。   The first transparent intermediate layer 42 has a high light transmittance because the laser beam LB passes when data is recorded on the first recording layer 50 and data recorded on the first recording layer 50 is reproduced. It is necessary that the second transparent intermediate layer 43 records data on the first recording layer 50 and reproduces data recorded on the first recording layer 50. When recording data on the second recording layer 60 and reproducing data recorded on the second recording layer 60, the laser beam LB passes therethrough. is necessary.

第一の透明中間層42および第二の透明中間層43は、それぞれ、5μmないし50μmの厚さを有するように形成されることが好ましく、さらに好ましくは、10μmないし40μmの厚さを有するように、形成される。   Each of the first transparent intermediate layer 42 and the second transparent intermediate layer 43 is preferably formed to have a thickness of 5 μm to 50 μm, and more preferably to have a thickness of 10 μm to 40 μm. ,It is formed.

第二の記録層60は、データを記録する記録層であり、本実施態様においては、単一の記録膜によって構成されている。   The second recording layer 60 is a recording layer for recording data, and in the present embodiment, is constituted by a single recording film.

図4に示されるように、第二の透明中間層43の表面には、スパッタリング法などの気相成長法によって、第三の記録層70が形成されている。   As shown in FIG. 4, a third recording layer 70 is formed on the surface of the second transparent intermediate layer 43 by a vapor deposition method such as a sputtering method.

第三の記録層70は、データを記録する記録層であり、本実施態様においては、単一の記録膜によって構成されている。   The third recording layer 70 is a recording layer for recording data, and in the present embodiment, is constituted by a single recording film.

本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70は、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が添加物として添加されている。   In the present embodiment, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contain Zn, Si, S, and O as main components, and include at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. It is added as an additive.

具体的には、第二の記録層60は、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、第一の透明中間層42の表面に形成される。この過程で、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属が、ZnSとSiOとの混合物に対して、還元剤として作用し、その結果、Znが、Sから分離され、第二の記録層60中に、単体の形で均等に分散される。 Specifically, the second recording layer 60 is formed by a sputtering method using a target composed of a mixture of ZnS and SiO 2 and a target composed of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. The first transparent intermediate layer 42 is formed on the surface of the first transparent intermediate layer 42 by a vapor deposition method such as the above. In this process, at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti acts as a reducing agent on the mixture of ZnS and SiO 2 , so that Zn is separated from S, In the two recording layers 60, they are evenly dispersed in a simple form.

一方、必ずしも明らかではないが、還元剤として用いられたMg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属は、Znから分離されたSあるいはZnS中のSの一部と結合して、化合物を形成するものと考えられる。   On the other hand, although not necessarily clear, at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti used as a reducing agent binds to S separated from Zn or a part of S in ZnS, It is believed to form a compound.

第二の記録層60を形成する際に用いられるターゲットに含まれるZnSとSiOとの混合物のモル比を、50:50ないし90:10に設定することが好ましく、約80:20に設定することが、さらに好ましい。 The molar ratio of the mixture of ZnS and SiO 2 contained in the target used when forming the second recording layer 60 is preferably set to 50:50 to 90:10, and is set to about 80:20. Is more preferable.

ZnSとSiOとの混合物中のZnSのモル比が50%以上であるときは、第二の記録層60のレーザビームLBに対する反射率と光透過率とを、ともに、向上させることができ、ZnSとSiOとの混合物中のZnSのモル比が90%以下であるときは、応力によって、第二の記録層60にクラックが発生することを、効果的に、防止することができる。 When the molar ratio of ZnS in the mixture of ZnS and SiO 2 is 50% or more, both the reflectance and the light transmittance of the second recording layer 60 with respect to the laser beam LB can be improved, When the molar ratio of ZnS in the mixture of ZnS and SiO 2 is 90% or less, generation of cracks in the second recording layer 60 due to stress can be effectively prevented.

さらに、ZnSとSiOとの混合物中のZnSとSiOのモル比を65:35ないし75:25に設定すれば、第二の記録層60にクラックが発生することを、より効果的に防止しつつ、第二の記録層60のレーザビームLBに対する反射率と光透過率とを、より一層向上させることが可能になる。 Further, when the molar ratio of ZnS to SiO 2 in the mixture of ZnS and SiO 2 is set to 65:35 to 75:25, the occurrence of cracks in the second recording layer 60 can be more effectively prevented. In addition, the reflectance and the light transmittance of the second recording layer 60 with respect to the laser beam LB can be further improved.

本実施態様において、第二の記録層60が、Mgを含んでいるときには、Mgの含有量は、18.5原子%ないし33.7原子%であることが好ましく、20原子%ないし33.5原子%であることが、さらに好ましい。   In this embodiment, when the second recording layer 60 contains Mg, the content of Mg is preferably 18.5 atomic% to 33.7 atomic%, and more preferably 20 atomic% to 33.5 atomic%. More preferably, it is atomic%.

他方、第二の記録層60が、Alを含んでいるときには、Alの含有量は、11原子%ないし40原子%であることが好ましく、18原子%ないし32原子%であることが、さらに好ましい。   On the other hand, when the second recording layer 60 contains Al, the content of Al is preferably from 11 to 40 at%, more preferably from 18 to 32 at%. .

また、第二の記録層60が、Tiを含んでいるときには、Tiの含有量は、8原子%ないし34原子%であることが好ましく、10原子%ないし26原子%であることが、さらに好ましい。   When the second recording layer 60 contains Ti, the content of Ti is preferably from 8 to 34 at%, more preferably from 10 to 26 at%. .

本実施態様においては、第二の記録層60と第三の記録層70は、同一の組成を有しており、したがって、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、第三の記録層70が、第二の透明中間層43の表面上に形成される。 In this embodiment, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 have the same composition, and therefore, a target composed of a mixture of ZnS and SiO 2 and a target composed of Mg, Al, and Ti A third recording layer 70 is formed on the surface of the second transparent intermediate layer 43 by a vapor deposition method such as a sputtering method using a target made of at least one metal selected from the group consisting of:

また、本実施態様においては、第二の記録層60は、15nmないし50nmの厚さを有するように形成されており、第三の記録層70は、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように形成されている。   In the present embodiment, the second recording layer 60 is formed to have a thickness of 15 nm to 50 nm, and the third recording layer 70 has a thickness D3 of the third recording layer 70. , And the ratio D3 / D2 to the thickness D2 of the second recording layer 60 is 0.40 to 0.70.

第二の記録層60は、第一の記録層50にデータを記録し、第一の記録層50に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが透過する層であるから、第一の記録層50に記録されたデータを再生したときに、高いレベルの再生信号を得ることができるのに十分な光透過率を有していることが必要である。また、第三の記録層70は、第一の記録層50にデータを記録し、第一の記録層50に記録されたデータを再生するとき、あるいは、第二の記録層60にデータを記録し、第二の記録層60に記録されたデータを再生するときに、レーザビームLBが透過する層であるから、第一の記録層50に記録されたデータを再生したとき、あるいは、第二の記録層60に記録されたデータを再生したときに、高いレベルの再生信号を得ることができるのに十分な光透過率を有していることが必要である。   The second recording layer 60 is a layer through which the laser beam LB passes when data is recorded on the first recording layer 50 and data recorded on the first recording layer 50 is reproduced. When the data recorded in the recording layer 50 is reproduced, it is necessary to have a sufficient light transmittance so that a high-level reproduced signal can be obtained. The third recording layer 70 records data on the first recording layer 50 and reproduces data recorded on the first recording layer 50, or records data on the second recording layer 60. When the data recorded on the second recording layer 60 is reproduced, since the laser beam LB is transmitted therethrough, the data recorded on the first recording layer 50 is reproduced, or When the data recorded in the recording layer 60 is reproduced, it is necessary to have a sufficient light transmittance so that a high-level reproduced signal can be obtained.

その一方で、第二の記録層60に記録されたデータを再生するとき、第二の記録層60によって反射され、光入射面45aから出射したレーザビームLBの強度が検出され、第三の記録層70に記録されたデータを再生するときには、第三の記録層70によって反射され、光入射面45aから出射したレーザビームLBの強度が検出されるから、第二の記録層60および第三の記録層70は、第二の記録層60および第三の記録層70に記録されたデータを再生したときに、高いレベルの再生信号を得ることができるのに十分な反射率を有していることが必要である。   On the other hand, when reproducing the data recorded on the second recording layer 60, the intensity of the laser beam LB reflected by the second recording layer 60 and emitted from the light incident surface 45a is detected, and the third recording is performed. When reproducing the data recorded in the layer 70, the intensity of the laser beam LB reflected by the third recording layer 70 and emitted from the light incident surface 45a is detected. The recording layer 70 has a sufficient reflectance to obtain a high-level reproduction signal when reproducing data recorded on the second recording layer 60 and the third recording layer 70. It is necessary.

本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70は、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでおり、本発明者の研究によれば、第二の記録層60および第三の記録層70が、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいる場合には、400nmないし430nmの波長を有するレーザビームLBに対する光透過率が高いことが見出されている。
また、本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70は、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように形成されており、本発明者の研究によれば、第二の記録層60の厚さD2が、第三の記録層70の厚さD3よりも大きくなるように、第二の記録層60および第三の記録層70を形成した場合には、第二の記録層60および第三の記録層70が、いずれも、400nmないし430nmの波長λを有するレーザビームLBに対して、より一層、高い光透過率を有することが見出されている。
In the present embodiment, each of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contains Zn, Si, S and O as main components, and at least one kind selected from the group consisting of Mg, Al and Ti. According to the study of the present inventors, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contain Zn, Si, S and O as main components, and contain Mg, Al and It has been found that when at least one metal selected from the group consisting of Ti is included as an additive, the light transmittance for a laser beam LB having a wavelength of 400 nm to 430 nm is high.
In the present embodiment, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 have a ratio D3 / D3 of the thickness D3 of the third recording layer 70 to the thickness D2 of the second recording layer 60. D2 is formed to be 0.40 to 0.70, and according to the study of the present inventors, the thickness D2 of the second recording layer 60 is changed to the thickness D3 of the third recording layer 70. When the second recording layer 60 and the third recording layer 70 are formed so as to be larger than each other, both the second recording layer 60 and the third recording layer 70 have a wavelength of 400 nm to 430 nm. It has been found that the laser beam LB having λ has an even higher light transmittance.

したがって、本実施態様によれば、第一の記録層50にデータを記録する場合に、レーザビームLBが、第一の記録層50に到達するまでに、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することが可能になるから、第一の記録層50に、所望のように、データを記録することができ、一方、第一の記録層50に記録されたデータを再生する場合には、第一の記録層50によって反射されたレーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することが可能になるから、第一の記録層50に記録されたデータを、所望のように、再生することが可能になる。   Therefore, according to the present embodiment, when data is recorded on the first recording layer 50, the power of the laser beam LB is reduced before the laser beam LB reaches the first recording layer 50. When the data recorded on the first recording layer 50 is reproduced, the data can be recorded on the first recording layer 50 as desired because it can be minimized. Since it is possible to minimize a decrease in the power of the laser beam LB reflected by the first recording layer 50, the data recorded on the first recording layer 50 And so on.

また、本発明者の研究によれば、第二の記録層60および第三の記録層70が、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60および第三の記録層70を、第二の記録層60の厚さD2が、第三の記録層70の厚さD3よりも大きくなるように形成した場合には、光入射面45aから遠い記録層であるほど、レーザビームLBに対する反射率を高くすることができることが見出されており、したがって、本実施態様によれば、第一の記録層50だけでなく、第二の記録層60および第三の記録層70からも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   According to the study of the present inventors, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contain Zn, Si, S and O as main components and are selected from the group consisting of Mg, Al and Ti. The second recording layer 60 and the third recording layer 70 include at least one metal as an additive, and the thickness D2 of the second recording layer 60 is larger than the thickness D3 of the third recording layer 70. It has been found that, when the recording layer is formed so that the recording layer is farther from the light incident surface 45a, the reflectivity with respect to the laser beam LB can be increased. Data can be reproduced not only from one recording layer 50 but also from the second recording layer 60 and the third recording layer 70 as desired.

さらに、第二の記録層60および第三の記録層70に、同等のパワーの記録用レーザビームLBを照射して、同様にして、データを記録することができるように、第二の記録層60によって吸収されるレーザビームLBの量と、第三の記録層70によって吸収されるレーザビームLBの量がほぼ等しいことが好ましい。   Further, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 are irradiated with a recording laser beam LB having the same power, and the second recording layer 60 and the third recording layer 70 are similarly recorded so that data can be recorded. Preferably, the amount of the laser beam LB absorbed by the third recording layer 70 is substantially equal to the amount of the laser beam LB absorbed by the third recording layer 70.

また、第二の記録層60に記録されたデータおよび第三の記録層70に記録されたデータを、同様にして、再生するためには、レーザビームLBを第二の記録層60にフォーカスして、第三の記録層70を介して、レーザビームLBを第二の記録層60に照射したときの第二の記録層60のレーザビームLBに対する反射率と、レーザビームLBを第三の記録層70にフォーカスして、レーザビームLBを第三の記録層70に照射したときの第三の記録層70のレーザビームLBに対する反射率とがほぼ等しいことが好ましい。   In order to reproduce the data recorded on the second recording layer 60 and the data recorded on the third recording layer 70 in the same manner, the laser beam LB is focused on the second recording layer 60. Then, when the laser beam LB is irradiated to the second recording layer 60 via the third recording layer 70, the reflectance of the second recording layer 60 with respect to the laser beam LB and the laser beam LB are subjected to the third recording. It is preferable that the reflectance of the third recording layer 70 with respect to the laser beam LB when the laser beam LB is irradiated on the third recording layer 70 by focusing on the layer 70 is substantially equal.

本発明者の研究によれば、第二の記録層60が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように、第二の記録層60および第三の記録層70を形成した場合には、第二の記録層60のレーザビームLBによって吸収されるレーザビームLBの量および第三の記録層70によって吸収されるレーザビームLBの量がほぼ等しく、かつ、光透過層45を介して、照射されるレーザビームLBのパワーに対して、第二の記録層60および第三の記録層70の光吸収率が、10%ないし30%の十分な光吸収率を有するように、第二の記録層60および第三の記録層70を形成し得ることが見出されており、したがって、本実施態様によれば、第二の記録層60および第三の記録層70のいずれにも、所望のように、データを記録することが可能となる。   According to the study of the present inventor, the second recording layer 60 has a thickness of 15 nm to 50 nm, and the thickness D3 of the third recording layer 70 and the thickness D2 of the second recording layer 60 are different from each other. When the second recording layer 60 and the third recording layer 70 are formed such that the ratio D3 / D2 becomes 0.40 to 0.70, the laser beam LB of the second recording layer 60 The amount of the absorbed laser beam LB and the amount of the laser beam LB absorbed by the third recording layer 70 are substantially equal, and the power of the laser beam LB irradiated via the light transmitting layer 45 is: The second recording layer 60 and the third recording layer 70 are formed such that the light absorption of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 has a sufficient light absorption of 10% to 30%. It has been found that Lever, in any of the second recording layer 60 and the third recording layer 70, as desired, it is possible to record the data.

さらに、本発明者の研究によれば、第二の記録層60および第三の記録層70が、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60および第三の記録層70を、第二の記録層60が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように、形成した場合には、第二の記録層60の反射率および第三の記録層70の反射率がほぼ等しく、かつ、それぞれが十分な反射率を有するように、第二の記録層60および第三の記録層70を形成し得ることが見出されており、したがって、本実施態様によれば、第二の記録層60および第三の記録層70のいずれからも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   Furthermore, according to the research of the present inventor, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contain Zn, Si, S and O as main components and are selected from the group consisting of Mg, Al and Ti. The second recording layer 60 and the third recording layer 70 each include at least one metal as an additive, and the second recording layer 60 has a thickness of 15 nm to 50 nm. When formed so that the ratio D3 / D2 of the thickness D3 to the thickness D2 of the second recording layer 60 is 0.40 to 0.70, the reflectance of the second recording layer 60 It has been found that the second recording layer 60 and the third recording layer 70 can be formed such that the reflectances of the third and third recording layers 70 are substantially equal and each has a sufficient reflectance. Therefore, according to this embodiment, the second recording layer 60 and the second Both the even recording layer 70 of the data, as desired, can be reproduced.

図4に示されるように、第三の記録層70の表面には、光透過層45が形成されている。   As shown in FIG. 4, on the surface of the third recording layer 70, a light transmitting layer 45 is formed.

光透過層45は、レーザビームLBを透過させる層であり、その一方の表面によって、光入射面45aが構成されている。   The light transmitting layer 45 is a layer that transmits the laser beam LB, and one surface of the light transmitting layer 45 forms a light incident surface 45a.

光透過層45は、30μmないし200μmの厚さを有するように形成されることが好ましい。   The light transmitting layer 45 is preferably formed to have a thickness of 30 μm to 200 μm.

図4に示されるように、光透過層45の第三の記録層70に対向する主面には、第二の透明中間層43の第三の記録層70側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターン、すなわち、支持基板41の第一の記録層50側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターンと同様の凹凸パターンが形成されている。   As shown in FIG. 4, the main surface of the light transmitting layer 45 facing the third recording layer 70 has a groove formed on the main surface of the second transparent intermediate layer 43 on the third recording layer 70 side. An uneven pattern of G and lands L, that is, an uneven pattern similar to the uneven pattern of grooves G and lands L formed on the main surface of the support substrate 41 on the first recording layer 50 side is formed.

光透過層45は、第三の記録層70上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、紫外線を照射して、塗膜を硬化させることによって形成され、その結果として、第二の透明中間層43の第三の記録層70側の一主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターン、すなわち、支持基板41の第一の記録層50側の一主面に形成されたグルーブGおよびランドLの凹凸パターンが、光透過層45の第三の記録層70に対向する主面に転写されて、光透過層45の第三の記録層70に対向する主面に、支持基板41の第一の記録層50側の主面に形成されたグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The light transmitting layer 45 is formed by applying an ultraviolet curable resin solution onto the third recording layer 70 by a spin coating method to form a coating film, and irradiating the surface of the coating film with ultraviolet light to form a coating film. Is cured, and as a result, the concave and convex pattern of the groove G and the land L formed on one main surface of the second transparent intermediate layer 43 on the third recording layer 70 side, that is, the support substrate 41 The concavo-convex pattern of the groove G and the land L formed on one main surface of the first recording layer 50 side is transferred to the main surface of the light transmitting layer 45 facing the third recording layer 70, and the light transmitting layer 45 is formed. An uneven pattern similar to the groove G and the land L formed on the main surface of the support substrate 41 on the first recording layer 50 side is formed on the main surface facing the third recording layer 70.

光透過層45は、第一の記録層50、第二の記録層60あるいは第三の記録層70に、データを記録し、第一の記録層50、第二の記録層60あるいは第三の記録層70に記録されたデータを再生する場合に、レーザビームLBが通過するため、十分に高い光透過性を有している必要がある。   The light transmitting layer 45 records data on the first recording layer 50, the second recording layer 60 or the third recording layer 70, and records the data on the first recording layer 50, the second recording layer 60 or the third recording layer 60. When the data recorded on the recording layer 70 is reproduced, the laser beam LB needs to have a sufficiently high light transmittance because the laser beam LB passes therethrough.

以上のように構成された本実施態様にかかる光記録ディスク40の第一の記録層50に、データを記録するにあたっては、400nmないし430nmの波長を有するレーザビームLBが、光透過層45を介して、第一の記録層50にフォーカスされる。   When recording data on the first recording layer 50 of the optical recording disk 40 according to the present embodiment configured as described above, a laser beam LB having a wavelength of 400 nm to 430 nm is transmitted through the light transmission layer 45. Thus, the first recording layer 50 is focused.

その結果、第一の記録層50が加熱されて、第一の記録膜53aに主成分として含まれているSiと、第二の記録膜53bに主成分として含まれているCuがと混合され、混合領域が形成される。こうして形成された混合領域は、それ以外のブランク領域と、レーザビームLBに対する反射率が大きく異なるため、記録マークとして、利用することができる。   As a result, the first recording layer 50 is heated, and Si contained as a main component in the first recording film 53a and Cu contained as a main component in the second recording film 53b are mixed. , A mixed region is formed. The mixed area formed in this way can be used as a recording mark because the reflectivity of the other blank area to the laser beam LB is significantly different from that of the other blank areas.

本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように、形成されているから、第二の記録層60および第三の記録層70は、レーザビームLBに対して十分に高い光透過率を有しており、したがって、レーザビームLBが、第三の記録層70および第二の記録層60を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することができ、第一の記録層50に、所望のように、データを記録することが可能となる。   In the present embodiment, each of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contains Zn, Si, S, and O as main components, and at least one kind selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. The second recording layer 60 includes a metal as an additive, has a thickness of 15 nm to 50 nm, and has a ratio of a thickness D3 of the third recording layer 70 to a thickness D2 of the second recording layer 60. Since D3 / D2 is formed to be 0.40 to 0.70, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 have a sufficiently high light transmittance for the laser beam LB. Therefore, when the laser beam LB passes through the third recording layer 70 and the second recording layer 60, a decrease in the power of the laser beam LB can be suppressed to a minimum. In the first recording layer 50, , It becomes possible to record data.

一方、第一の記録層50に記録されたデータを再生する場合にも、第三の記録層70および第二の記録層60を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することができ、また、第一の記録層50で反射されたレーザビームLBが、第二の記録層60および第三の記録層70を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することが可能になるから、第一の記録層50に記録されたデータを、所望のように、再生することもできる。   On the other hand, even when data recorded on the first recording layer 50 is reproduced, a decrease in the power of the laser beam LB when transmitting through the third recording layer 70 and the second recording layer 60 is minimized. When the laser beam LB reflected by the first recording layer 50 passes through the second recording layer 60 and the third recording layer 70, the power of the laser beam LB is reduced. Since it is possible to minimize the decrease, the data recorded on the first recording layer 50 can be reproduced as desired.

さらに、本実施態様においては、第一の記録層50と支持基板41との間に、反射膜51が形成されているから、反射膜51によって反射されたレーザビームLBと、第一の記録層50によって反射されたレーザビームLBとが相互干渉し、その結果、データの記録前と記録後の反射率差を大きくすることができ、したがって、第一の記録層50に記録されたデータを、感度よく、再生することができる。   Further, in the present embodiment, since the reflection film 51 is formed between the first recording layer 50 and the support substrate 41, the laser beam LB reflected by the reflection film 51 and the first recording layer The laser beam LB reflected by 50 interferes with each other, and as a result, the difference in reflectivity between before and after recording of data can be increased. Therefore, the data recorded on the first recording layer 50 is Reproducible with good sensitivity.

また、光記録ディスク40の第二の記録層60に、データを記録する場合には、400nmないし430nmの波長を有するレーザビームLBが、光透過層45を介して、第二の記録層60にフォーカスされる。   When data is recorded on the second recording layer 60 of the optical recording disc 40, a laser beam LB having a wavelength of 400 nm to 430 nm is applied to the second recording layer 60 via the light transmitting layer 45. Be focused.

その結果、第二の記録層60が加熱され、加熱された第二の記録層60の領域内に単体の形で含まれているZnが、Sと反応して、結晶状態のZnSとなり、さらに、結晶状態のZnSの周辺に存在する非晶質状態のZnSが、結晶状態のZnSを核として、結晶成長する。こうして、結晶状態のZnSが生成された領域は、それ以外の領域と、400nmないし430nmの波長λを有するレーザビームLBに対する反射率が大きく異なるので、記録マークとして、利用することができ、データが、第二の記録層60に記録される。   As a result, the second recording layer 60 is heated, and Zn contained in a simple form in the region of the heated second recording layer 60 reacts with S to become ZnS in a crystalline state. The amorphous ZnS present around the crystalline ZnS grows with the crystalline ZnS as a nucleus. In this manner, the region where ZnS in a crystalline state is generated has a large difference in reflectivity with respect to the laser beam LB having a wavelength λ of 400 nm to 430 nm from the other region, so that it can be used as a recording mark and data can be used. , On the second recording layer 60.

さらに、光記録ディスク40の第三の記録層70に、データを記録する場合には、400nmないし430nmの波長を有するレーザビームLBが、光透過層45を介して、第三の記録層70にフォーカスされる。   Further, when data is recorded on the third recording layer 70 of the optical recording disc 40, a laser beam LB having a wavelength of 400 nm to 430 nm is applied to the third recording layer 70 via the light transmitting layer 45. Be focused.

本実施態様においては、第三の記録層70は、第二の記録層60と同じ組成を有しているから、レーザビームLBが、第三の記録層70に照射されると、レーザビームLBが照射された第三の記録層70の領域が結晶化され、第二の記録層60と同様に、第三の記録層70にデータが記録される。   In the present embodiment, since the third recording layer 70 has the same composition as the second recording layer 60, when the third recording layer 70 is irradiated with the laser beam LB, the laser beam LB The region of the third recording layer 70 irradiated with is crystallized, and data is recorded on the third recording layer 70 similarly to the second recording layer 60.

本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60が、15nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が、0.40ないし0.70となるように、形成されているから、第二の記録層60によって吸収されるレーザビームLBの量および第三の記録層70によって吸収されるレーザビームLBの量がほぼ等しく、かつ、光透過層45を介して、照射されるレーザビームLBのパワーに対して、第二の記録層20および第三の記録層70の光吸収率が、10%ないし30%の十分な光吸収率を有するように、第二の記録層60および第三の記録層70を形成することができ、したがって、第二の記録層60および第三の記録層70のいずれの記録層にも、データを、所望のように、記録することが可能となる。   In the present embodiment, each of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 contains Zn, Si, S, and O as main components, and at least one kind selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. The second recording layer 60 includes a metal as an additive, has a thickness of 15 nm to 50 nm, and has a ratio of a thickness D3 of the third recording layer 70 to a thickness D2 of the second recording layer 60. Since D3 / D2 is formed to be 0.40 to 0.70, the amount of the laser beam LB absorbed by the second recording layer 60 and the laser absorbed by the third recording layer 70 The light absorptance of the second recording layer 20 and the third recording layer 70 is 10% with respect to the power of the laser beam LB irradiated through the light transmitting layer 45 when the amounts of the beams LB are substantially equal. % To 30% of sufficient light The second recording layer 60 and the third recording layer 70 can be formed so as to have a yield, and therefore, any of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 The data can be recorded as desired.

本発明者の研究によれば、以上のように、支持基板41の一主面、第一の透明中間層42の光透過層45に対向する主面、第二の透明中間層43の光透過層45に対向する主面および光透過層45の支持基板41に対向する主面に、グルーブGおよびランドLが形成された光記録ディスク40においては、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことが可能になることが見出されている。   According to the study of the present inventor, as described above, one main surface of the support substrate 41, a main surface of the first transparent intermediate layer 42 facing the light transmitting layer 45, and a light transmission of the second transparent intermediate layer 43. In the optical recording disk 40 in which the groove G and the land L are formed on the main surface opposing the layer 45 and the main surface opposing the support substrate 41 of the light transmitting layer 45, the jitter at the time of data reading is within a desired range. It is possible to suppress the occurrence of an error at the time of data reading, and to maintain the push-pull signal level at or above a desired value, thereby enabling tracking control to be performed as desired. Has been found.

図6は、本発明のさらに他の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。   FIG. 6 is a schematic sectional view of an optical recording disk according to still another preferred embodiment of the present invention.

図6に示されるように、本実施態様にかかる光記録ディスク100は、支持基板41と、支持基板41の表面上に形成された第一の記録層50と、第一の記録層50の表面上に形成された第一の透明中間層42と、第一の透明中間層42の表面上に形成された第二の記録層60と、第二の記録層60の表面上に形成された第二の透明中間層43と、第二の透明中間層43の表面上に形成された第三の記録層70と、第三の記録層70の表面上に形成された第三の透明中間層44と、第三の透明中間層44の表面上に形成された第四の記録層80と、第四の記録層80の表面上に形成された光透過層45とを備えており、第三の透明中間層44および第四の記録層80が形成され、記録層が四層構造を有している点を除き、図4および図5に示された光記録ディスク40と同様の構成を有している。   As shown in FIG. 6, the optical recording disk 100 according to the present embodiment includes a support substrate 41, a first recording layer 50 formed on the surface of the support substrate 41, and a surface of the first recording layer 50. A first transparent intermediate layer 42 formed thereon, a second recording layer 60 formed on the surface of the first transparent intermediate layer 42, and a second recording layer 60 formed on the surface of the second recording layer 60. A second transparent intermediate layer 43, a third recording layer 70 formed on the surface of the second transparent intermediate layer 43, and a third transparent intermediate layer 44 formed on the surface of the third recording layer 70; A fourth recording layer 80 formed on the surface of the third transparent intermediate layer 44, and a light transmitting layer 45 formed on the surface of the fourth recording layer 80. 4 and 5 except that the transparent intermediate layer 44 and the fourth recording layer 80 are formed and the recording layer has a four-layer structure. It has the same configuration as that of the optical recording disc 40.

第三の透明中間層44は、第三の記録層70と第四の記録層80とを物理的および光学的に十分な距離をもって離間させる役割を果たしている。   The third transparent intermediate layer 44 plays a role of physically and optically separating the third recording layer 70 and the fourth recording layer 80 from each other with a sufficient distance.

図4および図5に示された光記録ディスク40におけるのと同様にして、本実施態様にかかる光記録ディスク100においても、支持基板41の一主面、第一の透明中間層42の光透過層45に対向する主面、第二の透明中間層43の光透過層45に対向する主面および第三の透明中間層44の光透過層45に対向する主面上には、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLが交互に形成されており、本実施態様においても、グルーブGとランドLは、グルーブGの深さGdが、15nm以上、25nm以下で、グルーブGの半値幅Gwが、150nm以上、230nm以下になるように形成され、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板2の一方の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように形成されている。   Similarly to the optical recording disk 40 shown in FIGS. 4 and 5, in the optical recording disk 100 according to the present embodiment, the light transmission of the one main surface of the support substrate 41 and the first transparent intermediate layer 42 is also performed. The main surface facing the layer 45, the main surface facing the light transmitting layer 45 of the second transparent intermediate layer 43, and the main surface facing the light transmitting layer 45 of the third transparent intermediate layer 44 have a substantially trapezoidal shape. Grooves G having a cross section and lands L having a substantially trapezoidal cross section are alternately formed. Also in the present embodiment, the groove G and the land L have a depth Gd of the groove G of 15 nm or more and 25 nm or less. The half width Gw of the groove G is formed to be 150 nm or more and 230 nm or less, and the angle θ of the inclined surface between the adjacent groove G and the land L with respect to one main surface of the support substrate 2 is 12 ° or more. 30 ° It is sea urchin formation.

さらに、第三の透明中間層44の光透過層45に対向する主面には、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されている。   Further, on the main surface of the third transparent intermediate layer 44 facing the light transmitting layer 45, the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41 is formed. I have.

第三の透明中間層44は、第三の記録層70上に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって、塗布して、塗膜を形成し、塗膜の表面に、支持基板41を作製するのに用いたスタンパ(図示せず)と同様の凹凸パターンが形成されたスタンパ(図示せず)を被せた状態で、スタンパを介して、紫外線を照射することによって、形成され、その結果、第三の透明中間層44の光透過層45に対向する主面に、支持基板41の一方の主面に形成された複数のグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成される。   The third transparent intermediate layer 44 is formed by applying a UV curable resin solution on the third recording layer 70 by a spin coating method to form a coating film, and forming the support substrate 41 on the surface of the coating film. It is formed by irradiating ultraviolet rays through the stamper with a stamper (not shown) in which the same concavo-convex pattern as the stamper (not shown) used for forming is formed. On the main surface of the third transparent intermediate layer 44 facing the light transmitting layer 45, the same concavo-convex pattern as the plurality of grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 41 is formed.

また、本実施態様においても、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLが形成されている。   Further, also in the present embodiment, the groove G and the land L are formed such that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm.

第三の透明中間層44は、5μmないし50μmの厚さを有するように形成されることが好ましく、10μmないし40μmの厚さを有するように形成されることが、より好ましい。   The third transparent intermediate layer 44 is preferably formed to have a thickness of 5 μm to 50 μm, and is more preferably formed to have a thickness of 10 μm to 40 μm.

第四の記録層80は、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、第三の透明中間層44の表面上に形成される。 The fourth recording layer 80 is formed by vapor deposition such as sputtering using a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 and a target made of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti. By the method, it is formed on the surface of the third transparent intermediate layer 44.

本実施態様においては、第二の記録層60および第三の記録層70形成したときに用いたターゲットと同じターゲットが用いられ、したがって、第四の記録層80は、第二の記録層60および第三の記録層70と同一の組成を有している。   In the present embodiment, the same target as that used when forming the second recording layer 60 and the third recording layer 70 is used, and therefore, the fourth recording layer 80 is formed by the second recording layer 60 and the third recording layer 70. It has the same composition as the third recording layer 70.

また、本実施態様においては、第二の記録層60が、20nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が0.48ないし0.93、第四の記録層80の厚さD4と、第二の記録層60の厚さD2との比D4/D2が0.39ないし0.70で、かつ、第二の記録層60の厚さD2、第三の記録層70の厚さD3および第四の記録層80の厚さD4が、D2>D3>D4を満たすように、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が形成されている。   In the present embodiment, the second recording layer 60 has a thickness of 20 nm to 50 nm, and the thickness D3 of the third recording layer 70 and the thickness D2 of the second recording layer 60 are different from each other. The ratio D3 / D2 is 0.48 to 0.93, and the ratio D4 / D2 of the thickness D4 of the fourth recording layer 80 to the thickness D2 of the second recording layer 60 is 0.39 to 0.70. The second recording layer 60 has a thickness D2, a third recording layer 70 has a thickness D3 and a fourth recording layer 80 has a thickness D4 that satisfies D2> D3> D4. A recording layer 60, a third recording layer 70, and a fourth recording layer 80 are formed.

本発明者の研究によれば、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60の厚さD2、第三の記録層70の厚さD3および第四の記録層80の厚さD4が、D2>D3>D4を満たすように形成されている場合には、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、レーザビームLBに対して十分に高い光透過率を有することが見出されており、したがって、本実施態様によれば、レーザビームLBが、第四の記録層80、第三の記録層70および第二の記録層60を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することができ、第一の記録層50に、所望のように、データを記録することが可能となる。一方、第一の記録層50に記録されたデータを再生する場合にも、レーザビームLBが、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することができ、また、第一の記録層50によって反射されたレーザビームLBが、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を透過する際に、レーザビームLBのパワーが低下することを最小限に抑制することが可能になるから、第一の記録層50に記録されたデータを、所望のように、再生することが可能となる。   According to the study of the inventor, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 contain Zn, Si, S, and O as main components, respectively, and contain Mg, Al, It contains at least one metal selected from the group consisting of Ti as an additive, and has a thickness D2 of the second recording layer 60, a thickness D3 of the third recording layer 70, and a thickness D4 of the fourth recording layer 80. , D2> D3> D4, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 emit light sufficiently high with respect to the laser beam LB. It has been found that the laser beam LB passes through the fourth recording layer 80, the third recording layer 70, and the second recording layer 60 according to the present embodiment. In addition, the power of the laser beam LB is minimized from being reduced. Win it possible, in the first recording layer 50, as desired, it is possible to record the data. On the other hand, also when reproducing data recorded on the first recording layer 50, when the laser beam LB passes through the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80, , The power of the laser beam LB can be suppressed to a minimum, and the laser beam LB reflected by the first recording layer 50 is applied to the second recording layer 60 and the third recording layer 70. In addition, when the laser beam LB passes through the fourth recording layer 80, it is possible to minimize a decrease in the power of the laser beam LB. Thus, it becomes possible to reproduce.

また、本発明者の研究によれば、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60の厚さD2、第三の記録層70の厚さD3および第四の記録層80の厚さD4が、D2>D3>D4を満たすように形成されている場合には、光入射面45aから遠い記録層であるほど、レーザビームLBに対する反射率を高くすることができることが見出されており、したがって、本実施態様によれば、第一の記録層50だけでなく、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80からも、データを、所望のように、再生することが可能となる。   According to the study of the present inventor, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 are respectively replaced by the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 70. The fourth recording layer 80 includes Zn, Si, S, and O as main components, at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. When the thickness D2, the thickness D3 of the third recording layer 70, and the thickness D4 of the fourth recording layer 80 are formed so as to satisfy D2> D3> D4, it is far from the light incident surface 45a. It has been found that the greater the number of recording layers, the higher the reflectivity with respect to the laser beam LB. Therefore, according to this embodiment, not only the first recording layer 50 but also the second recording layer 60 is used. , Third recording layer 70 and fourth recording layer 8 From also data, as desired, it can be reproduced.

さらに、本発明者の研究によれば、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60が、20nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が0.48ないし0.93で、かつ、第四の記録層80の厚さD4と、第二の記録層60の厚さD2との比D4/D2が0.39ないし0.70となるように形成されている場合には、第二の記録層60によって吸収されるレーザビームLBの量、第三の記録層70によって吸収されるレーザビームLBの量および第四の記録層80によって吸収されるレーザビームLBの量がほぼ等しく、かつ、光透過層45を介して、照射されるレーザビームLBのパワーに対して、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80の光吸収率が、10%ないし20%の十分に高い光吸収率を有するように、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を形成し得ることが見出されており、したがって、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80のいずれの記録層にも、データを、所望のように、記録することが可能となる。   Further, according to the study of the present inventor, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 each contain Zn, Si, S, and O as main components, The second recording layer 60 includes at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti as an additive, has a thickness of 20 nm to 50 nm, has a thickness D3 of the third recording layer 70, The ratio D3 / D2 to the thickness D2 of the second recording layer 60 is 0.48 to 0.93, and the thickness D4 of the fourth recording layer 80 and the thickness D2 of the second recording layer 60 are different from each other. Is formed so that the ratio D4 / D2 becomes 0.39 to 0.70, the amount of the laser beam LB absorbed by the second recording layer 60 and the amount of laser beam LB absorbed by the third recording layer 70 The amount of the laser beam LB absorbed and absorbed by the fourth recording layer 80. The amount of the laser beam LB is substantially equal, and the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer are applied to the power of the laser beam LB irradiated through the light transmitting layer 45. The second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 can be formed so that the light absorption of the layer 80 has a sufficiently high light absorption of 10% to 20%. Therefore, data can be recorded on any of the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 as desired. It becomes.

また、本発明者の研究によれば、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、Zn、Si,SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含み、第二の記録層60が、20nmないし50nmの厚さを有し、第三の記録層70の厚さD3と、第二の記録層60の厚さD2との比D3/D2が0.48ないし0.93で、かつ、第四の記録層80の厚さD4と、第二の記録層60の厚さD2との比D4/D2が0.39ないし0.70となるように形成されている場合には、第二の記録層60の反射率、第三の記録層70の反射率および第四の記録層80の反射率がほぼ等しく、かつ、それぞれが十分な反射率を有するように、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を形成し得ることが見出されており、したがって、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80のいずれの記録層からも、記録したデータを、所望のように、再生することができる。   According to the study of the present inventors, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 each contain Zn, Si, S, and O as main components, The second recording layer 60 includes at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti as an additive, has a thickness of 20 nm to 50 nm, has a thickness D3 of the third recording layer 70, The ratio D3 / D2 to the thickness D2 of the second recording layer 60 is 0.48 to 0.93, and the thickness D4 of the fourth recording layer 80 and the thickness D2 of the second recording layer 60 are different from each other. Are formed so that the ratio D4 / D2 is 0.39 to 0.70, the reflectivity of the second recording layer 60, the reflectivity of the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 so that the reflectivity of the second record is approximately equal and each has sufficient reflectivity. 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer 80 have been found to be able to form, and therefore the second recording layer 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer 80 From any of the recording layers, the recorded data can be reproduced as desired.

本発明者の研究によれば、以上のように、支持基板2の一主面、第一の透明中間層42の光透過層45に対向する主面、第二の透明中間層43の光透過層45に対向する主面および第三の透明中間層44の光透過層45に対向する主面に、グルーブGおよびランドLが形成された光記録ディスク100においては、データ読み取り時におけるジッターを所望の範囲内に抑えることができ、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制することが可能になるとともに、プッシュプル信号レベルを所望値以上に保持することができ、所望のように、トラッキング制御をおこなうことが可能になることが見出されている。   According to the study of the present inventor, as described above, one main surface of the support substrate 2, a main surface of the first transparent intermediate layer 42 opposed to the light transmitting layer 45, and a light transmission of the second transparent intermediate layer 43. In the optical recording disk 100 in which the groove G and the land L are formed on the main surface opposing the layer 45 and the main surface opposing the light transmitting layer 45 of the third transparent intermediate layer 44, jitter during data reading is desired. , It is possible to suppress the occurrence of errors during data reading, and it is possible to maintain the push-pull signal level at or above a desired value, and perform tracking control as desired. Has been found to be possible.

以下、本発明の効果をより一層明確なものにするため、実施例を掲げる。   Hereinafter, examples will be given to further clarify the effects of the present invention.

実施例1
以下のようにして、深さの異なるグルーブが形成されたスタンパ#1ないし#19を作成した。
Example 1
Stampers # 1 to # 19 on which grooves having different depths were formed were prepared as follows.

まず、研磨されたガラス基板上に、カップリング剤層を形成し、カップリング剤層上に、フォトレジストを、スピンコーティング法によって塗布し、85℃で、20分間にわたって、ベーキングして、残留溶剤を除去し、厚さ12nmのフォトレジスト層を形成した。   First, a coupling agent layer is formed on a polished glass substrate, and a photoresist is applied on the coupling agent layer by a spin coating method, and baked at 85 ° C. for 20 minutes to remove residual solvent. Was removed to form a 12-nm-thick photoresist layer.

次いで、ソニー株式会社製のカッティングマシンを用い、トラックピッチを320nmとして、遠紫外レーザ(波長266nm)により、フォトレジスト層を露光した。   Next, the photoresist layer was exposed to light using a cutting machine manufactured by Sony Corporation with a track pitch of 320 nm and a deep ultraviolet laser (wavelength: 266 nm).

その後、現像をおこなって、グルーブ幅を170nmとしたフォトレジスト原盤を得た。   Thereafter, development was performed to obtain a photoresist master having a groove width of 170 nm.

次いで、フォトレジスト原盤のフォトレジスト層の表面に、無電界めっきによって、ニッケルの薄膜を形成した。
さらに、ニッケルの薄膜を下地として、電鋳をおこない、ニッケル電鋳膜を形成し、フォトレジスト原盤から剥離して、マスター盤を作成した。
Next, a nickel thin film was formed on the surface of the photoresist layer of the photoresist master by electroless plating.
Further, using a nickel thin film as a base, electroforming was performed to form a nickel electroformed film, which was peeled off from the photoresist master to prepare a master disk.

次いで、マスター盤の表面を、KMnO溶液に浸漬して、酸化した後、電鋳膜を形成し、マスター盤の表面から、電鋳膜を剥離させて、マスター盤とは凹凸のパターンが逆のマザー盤を得た。 Next, the surface of the master disk is immersed in a KMnO 4 solution and oxidized, an electroformed film is formed, and the electroformed film is peeled off from the surface of the master disk. Motherboard was obtained.

こうして得られたマザー盤を打ち抜き、裏面研磨を施して、スタンパ#1を作製した。   The motherboard thus obtained was punched out and polished on the back surface to produce a stamper # 1.

フォトレジスト層の厚さを変化させて、スタンパ#1と同様にして、グルーブ深さGdの異なるスタンパ#2ないし#19を作製した。   By changing the thickness of the photoresist layer, stampers # 2 to # 19 having different groove depths Gd were manufactured in the same manner as stamper # 1.

こうして作製されたスタンパ#1ないし#19を用いて、以下のようにして、図1に示される光記録ディスクを作製した。   Using the stampers # 1 to # 19 thus manufactured, the optical recording disk shown in FIG. 1 was manufactured as follows.

射出成形によって、直径が120mmで、厚さが1.1mmのポリカーボネート基板を作製し、スタンパ#1ないし#19を用いて、ポリカーボネート基板の表面に、スタンパ#1ないし#19のそれぞれに形成されたグルーブおよびランドを転写して、ポリカーボネート基板の表面に、グルーブおよびランドを形成した。   A polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.1 mm was prepared by injection molding, and formed on the surface of the polycarbonate substrate using the stampers # 1 to # 19, respectively, for the stampers # 1 to # 19. The grooves and lands were transferred to form the grooves and lands on the surface of the polycarbonate substrate.

さらに、ポリカーボネート基板の表面に、Ag、PdおよびCu(原子比98:1:1)よりなる厚さ100nmの反射層を、スパッタリング法によって、形成した。   Further, a reflection layer of Ag, Pd and Cu (atomic ratio 98: 1: 1) with a thickness of 100 nm was formed on the surface of the polycarbonate substrate by a sputtering method.

次いで、反射層の表面に、ZnS(80モル%)−SiO(20モル%)よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、厚さ28nmの第二の誘電体層を形成した。 Next, a 28-nm-thick second dielectric layer was formed on the surface of the reflective layer by a sputtering method using a target made of ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%).

さらに、第二の誘電体層の表面に、スパッタリング法により、6nmの厚さを有するCuAlの第二の記録層を形成した。   Further, a second recording layer of CuAl having a thickness of 6 nm was formed on the surface of the second dielectric layer by a sputtering method.

次いで、第二の記録層の表面に、6nmの厚さを有するSiを主成分として含む第一の記録層を形成した。   Next, a first recording layer having a thickness of 6 nm and containing Si as a main component was formed on the surface of the second recording layer.

さらに、第一の記録層の表面に、ZnS(80モル%)−SiO(20モル%)よりなるターゲットを用いて、スパッタリング法により、厚さ25nmの第一の誘電体層を形成した。 Further, a first dielectric layer having a thickness of 25 nm was formed on the surface of the first recording layer by a sputtering method using a target composed of ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%).

さらに、第二の誘電体層の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、厚さ100μmの光透過層を形成した。   Further, an ultraviolet curable resin solution is applied to the surface of the second dielectric layer by a spin coating method to form a coating film, and the coating film is irradiated with ultraviolet light to cure the ultraviolet curable resin, A light transmitting layer having a thickness of 100 μm was formed.

こうして、深さGdの異なるグルーブが形成された光記録ディスクサンプル#1ないし#19を得た。   Thus, optical recording disk samples # 1 to # 19 on which grooves having different depths Gd were formed were obtained.

次いで、評価装置を用いて、405nmの波長のレーザビームを、開口数NAが0.85の対物レンズを介して、光記録ディスクサンプル#1ないし#19ののそれぞれに照射して、各サンプルプッシュプル信号を測定し、さらに、光記録ディスクサンプル#1ないし#19の記録層に、5トラック連続記録した信号のジッタを測定した。   Next, using an evaluation device, a laser beam having a wavelength of 405 nm is irradiated on each of the optical recording disk samples # 1 to # 19 via an objective lens having a numerical aperture NA of 0.85, and each sample is pushed. The pull signal was measured, and the jitter of a signal recorded continuously for 5 tracks on the recording layer of optical recording disk samples # 1 to # 19 was measured.

グルーブの深さGdとジッタとの関係を測定した結果は、図7に示され、グルーブの深さGdとプッシュプル信号との関係を測定した結果は、図8に示されている。   FIG. 7 shows the result of measuring the relationship between the groove depth Gd and the jitter, and FIG. 8 shows the result of measuring the relationship between the groove depth Gd and the push-pull signal.

図7に示されるように、グルーブの深さGdが25nm以下の場合には、ジッタを10%以下に抑えることができ、したがって、再生信号が安定し、データ読み取り時におけるエラーの発生を抑制し得ることが判明した。   As shown in FIG. 7, when the groove depth Gd is 25 nm or less, the jitter can be suppressed to 10% or less, so that the reproduced signal is stabilized, and the occurrence of an error during data reading is suppressed. It turned out to get.

また、図8に示されるように、グルーブの深さが15nm未満の場合には、プッシュプル信号のレベルが小さくなりすぎ、安定したトラッキング制御をおこなうことが困難になることがわかった。   Further, as shown in FIG. 8, it was found that when the groove depth was less than 15 nm, the level of the push-pull signal was too small, and it was difficult to perform stable tracking control.

したがって、実施例1から、ジッタを10%以下に抑えるとともに、所望のように、トラッキング制御をおこなうことを可能とするためには、15nm以上、25nm以下のグルーブ深さGdを有するグルーブを形成することが必要であることがわかる。   Therefore, from the first embodiment, a groove having a groove depth Gd of 15 nm or more and 25 nm or less is formed in order to suppress jitter to 10% or less and to enable tracking control as desired. It turns out that it is necessary.

実施例2
以下のようにして、ゾーンごとに、半値幅Gwの異なるグルーブが形成されたスタンパ#20を作成した。
Example 2
As described below, a stamper # 20 in which grooves having different half widths Gw were formed for each zone was prepared.

まず、研磨されたガラス基板上に、カップリング剤層を形成し、カップリング剤層上に、フォトレジストを、スピンコーティング法によって塗布し、85℃で、20分間にわたって、ベーキングして、残留溶剤を除去し、厚さ22nmのフォトレジスト層を形成した。   First, a coupling agent layer is formed on a polished glass substrate, and a photoresist is applied on the coupling agent layer by a spin coating method, and baked at 85 ° C. for 20 minutes to remove residual solvent. Was removed to form a 22-nm-thick photoresist layer.

次いで、ソニー株式会社製のカッティングマシンを用い、トラックピッチを320nmとして、遠紫外レーザ(波長266nm)により、フォトレジスト層を露光した。ここに、露光は、フォトレジスト層のゾーンごとに、遠紫外レーザのパワーを変えておこなった。   Next, the photoresist layer was exposed to light using a cutting machine manufactured by Sony Corporation with a track pitch of 320 nm and a deep ultraviolet laser (wavelength: 266 nm). Here, the exposure was performed by changing the power of the far ultraviolet laser for each zone of the photoresist layer.

その後、現像をおこなって、ゾーンごとに、半値幅Gwが異なるグルーブが形成されたフォトレジスト原盤を得た。   Thereafter, development was performed to obtain a photoresist master having grooves formed with different half widths Gw for each zone.

こうして得られたフォトレジスト原盤を用いて、実施例1と同様にして、スタンパ#20を作製した。   Using the photoresist master thus obtained, a stamper # 20 was produced in the same manner as in Example 1.

こうして作製されたスタンパ#20には、20nmのグルーブ深さGdを有するグルーブが形成されていた。   A groove having a groove depth Gd of 20 nm was formed on the stamper # 20 thus manufactured.

次いで、スタンパ#20を用いて、実施例1と同様にして、光記録ディスクサンプル#20を作製した。   Next, an optical recording disk sample # 20 was produced in the same manner as in Example 1 using the stamper # 20.

こうして作製された光記録ディスクサンプル#20のプッシュプル信号を測定し、さらに、光記録ディスクサンプル#20の記録層に、5トラック連続記録した信号のジッタを測定した。   The push-pull signal of the optical recording disk sample # 20 thus manufactured was measured, and further, the jitter of a signal obtained by continuously recording five tracks on the recording layer of the optical recording disk sample # 20 was measured.

測定結果は、図9および図10に示されている。   The measurement results are shown in FIG. 9 and FIG.

図9は、グルーブの半値幅Gwとジッタとの関係を測定した結果を示すグラフであり、図10は、グルーブの半値幅Gwとプッシュプル信号との関係を測定した結果を示すグラフである。図9および図10において、横軸は、走査型電子顕微鏡によって測定したグルーブの半値幅Gwである。   FIG. 9 is a graph showing the result of measuring the relationship between the half width Gw of the groove and the jitter, and FIG. 10 is a graph showing the result of measuring the relationship between the half width Gw of the groove and the push-pull signal. In FIGS. 9 and 10, the horizontal axis is the half width Gw of the groove measured by the scanning electron microscope.

図9に示されるように、グルーブの半値幅Gwが大きいほど、ジッタは小さくなり、その一方で、グルーブの半値幅Gwが150nm未満では、ジッターが悪化し、10%を越えることが判明した。   As shown in FIG. 9, it was found that the larger the half width Gw of the groove was, the smaller the jitter was. On the other hand, when the half width Gw of the groove was less than 150 nm, the jitter was worse and exceeded 10%.

また、図10に示されるように、グルーブの半値幅Gwが大きいほど、プッシュプル信号のレベルが低下し、グルーブの半値幅Gwが230nmを越えると、プッシュプル信号のレベルが小さくなりすぎ、安定したトラッキング制御をおこなうことが困難になることがわかった。   Further, as shown in FIG. 10, the larger the half-width Gw of the groove, the lower the level of the push-pull signal. If the half-width Gw of the groove exceeds 230 nm, the level of the push-pull signal becomes too small, and It has been found that it becomes difficult to perform the tracking control described above.

したがって、実施例2から、ジッタを10%以下に抑えるとともに、所望のように、トラッキング制御をおこなうことを可能とするためには、150nm以上、230nm以下の半値幅Gwを有するグルーブを形成することが必要であることがわかる。   Therefore, from the second embodiment, in order to suppress jitter to 10% or less and to enable tracking control as desired, a groove having a half width Gw of 150 nm or more and 230 nm or less must be formed. Is necessary.

実施例3
以下のようにして、ゾーンごとに、ウォブル量Wobが異なるスタンパ#21を作製した。
Example 3
A stamper # 21 having a different wobble amount Wob for each zone was manufactured as follows.

まず、研磨されたガラス基板上に、カップリング剤層を形成し、カップリング剤層上に、フォトレジストを、スピンコーティング法によって塗布し、85℃で、20分間にわたって、ベーキングして、残留溶剤を除去し、厚さ20nmのフォトレジスト層を形成した。   First, a coupling agent layer is formed on a polished glass substrate, and a photoresist is applied on the coupling agent layer by a spin coating method, and baked at 85 ° C. for 20 minutes to remove residual solvent. Was removed to form a 20-nm-thick photoresist layer.

次いで、ソニー株式会社製のカッティングマシンを用い、トラックピッチを320nmとして、遠紫外レーザ(波長266nm)により、現像後に、グルーブの半値幅Gwが170nmになるように、フォトレジスト層を露光した。   Then, using a cutting machine manufactured by Sony Corporation, the photoresist layer was exposed to light with a track pitch of 320 nm using a deep ultraviolet laser (wavelength: 266 nm) such that the half width Gw of the groove became 170 nm after development.

この際、カッティングマシンのウォブル設定回路に入力する電圧を変えて、ウォブル量を変化させた。このときのウォブル周波数は、1MHzに設定した。   At this time, the wobble amount was changed by changing the voltage input to the wobble setting circuit of the cutting machine. The wobble frequency at this time was set to 1 MHz.

その後、現像をおこなって、ゾーンごとに、ウォブル量が異なるグルーブが形成されたフォトレジスト原盤を得た。   Thereafter, development was performed to obtain a photoresist master having grooves formed with different wobble amounts for each zone.

こうして得られたフォトレジスト原盤を用いて、実施例1と同様にして、スタンパ#21を作製した。   Using the photoresist master thus obtained, a stamper # 21 was manufactured in the same manner as in Example 1.

こうして作製されたスタンパ#21には、18nmのグルーブ深さGdを有するグルーブが形成されていた。   A groove having a groove depth Gd of 18 nm was formed on the stamper # 21 thus manufactured.

こうして得られたスタンパ#21を用いて、実施例1と同様にして、光記録ディスクサンプル#21を作製した。
こうして作製された光記録ディスクサンプル#21につき、ウォブル信号/ノイズ比を、実施例1で用いた評価装置を用いて、評価した。
Using the stamper # 21 thus obtained, an optical recording disk sample # 21 was produced in the same manner as in Example 1.
The wobble signal / noise ratio of the optical recording disk sample # 21 thus manufactured was evaluated using the evaluation apparatus used in Example 1.

評価条件は、次のとおりであった。   The evaluation conditions were as follows.

分解能帯域幅(RBW:Resolution Band Width):3kHz
ウォブル量Wobとウォブル信号/ノイズ比(ウォブルC/N比)との関係を評価した結果は、図11に示されている。
Resolution bandwidth (RBW: Resolution Band Width): 3 kHz
The result of evaluating the relationship between the wobble amount Wob and the wobble signal / noise ratio (wobble C / N ratio) is shown in FIG.

図11に示されるように、ウォブル量Wobが、±7nm以上になるように、グルーブとランドを形成することによって、良好なウォブル信号/ノイズ比(ウォブルC/N比)が得られることが判明した。   As shown in FIG. 11, it has been found that a good wobble signal / noise ratio (wobble C / N ratio) can be obtained by forming a groove and a land so that the wobble amount Wob becomes ± 7 nm or more. did.

一方、実施例1で用いた評価装置から、トラッキングエラー信号を、オシロスコープに入力し、光記録ディスクサンプル#21につき、ウォブル量Wobに対する残留トラッキングエラー成分を測定した。   On the other hand, the tracking error signal was input to the oscilloscope from the evaluation device used in Example 1, and the residual tracking error component with respect to the wobble amount Wob was measured for the optical recording disk sample # 21.

測定結果は、図12に示されている。   The measurement results are shown in FIG.

図12に示されるように、ウォブル量Wobが±25nmを越えると、残留トラッキングエラーが高くなることがわかった。   As shown in FIG. 12, it was found that when the wobble amount Wob exceeds ± 25 nm, the residual tracking error increases.

したがって、実施例3から、良好なウォブル信号/ノイズ比(ウォブルC/N比)を得るためには、ウォブル量Wobが、±7nm以上になるように、グルーブとランドを形成することが必要であり、残留トラッキングエラーを低い値に抑制するためには、ウォブル量Wobが、±25nm以下になるように、グルーブとランドを形成することが必要であることが判明した。   Therefore, from Example 3, in order to obtain a good wobble signal / noise ratio (wobble C / N ratio), it is necessary to form grooves and lands so that the wobble amount Wob is ± 7 nm or more. In order to suppress the residual tracking error to a low value, it has been found that it is necessary to form the groove and the land so that the wobble amount Wob is ± 25 nm or less.

本発明は、以上の実施態様および実施例に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。   The present invention is not limited to the above embodiments and examples, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims, which are also included in the scope of the present invention. It goes without saying that it is a thing.

たとえば、前記実施態様においては、支持基板2の一方の主面上に、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLが交互に形成されているが、支持基板2の一方の主面上に、略台形状断面を有するグルーブGと略台形状断面を有するランドLを交互に形成することは必ずしも必要でない。   For example, in the above embodiment, grooves G having a substantially trapezoidal cross section and lands L having a substantially trapezoidal cross section are alternately formed on one main surface of the support substrate 2. It is not always necessary to alternately form a groove G having a substantially trapezoidal cross section and a land L having a substantially trapezoidal cross section on the main surface of.

また、前記実施態様においては、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板2の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように、グルーブGとランドLが形成されているが、隣り合ったグルーブGとランドLの間の傾斜面の支持基板2の主面に対する角度θが、12°ないし30°となるように、グルーブGとランドLを形成することは必ずしも必要でない。   Further, in the above embodiment, the groove G and the land L are formed so that the angle θ between the adjacent groove G and the land L with respect to the main surface of the support substrate 2 is 12 ° to 30 °. However, it is not possible to form the groove G and the land L such that the angle θ of the inclined surface between the adjacent groove G and the land L with respect to the main surface of the support substrate 2 is 12 ° to 30 °. Not necessarily.

さらに、前記実施態様においては、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLが形成されているが、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように、グルーブGおよびランドLを形成することは必ずしも必要でない。   Further, in the above embodiment, the groove G and the land L are formed so that the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm, but the wobble amount Wob is ± 7 nm to ± 25 nm. It is not always necessary to form the groove G and the land L.

また、図1および図2に示された実施態様においては、光透過層9は、第一の誘電体層8の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に、紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、形成され、光透過層9の支持基板2に対向する主面には、支持基板2の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの形状が転写され、支持基板2の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されており、図3に示された実施態様においては、光透過層13は、L1層30の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に、紫外線照射を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、形成され、光透過層13の支持基板11に対向する主面には、支持基板11の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの形状が転写され、支持基板11の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成され、さらに、図4および図5に示された実施態様においては、光透過層45は、第三の記録層70の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法によって塗布して、塗膜を形成し、塗膜に、紫外線照射を照射して、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、形成され、光透過層45の支持基板41に対向する主面には、支持基板41の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの形状が転写され、支持基板41の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLと同様の凹凸パターンが形成されている。しかしながら、光透過層9、13、45を、第一の誘電体層8、L1層30、第三の記録層70あるいは第四の記録層80の表面に、紫外線硬化性樹脂溶液をスピンコーティング法により塗布して、形成することは必ずしも必要でなく、第一の誘電体層8、L1層30、第三の記録層70あるいは第四の記録層80の表面に、光透過性を有する樹脂シートを接着して、光透過層9、13、45を形成するようにしてもよい。このようにして、光透過層9、13、45を形成した場合には、光透過層9、13、45の支持基板2、11、41に対向する主面に、支持基板2、11、41の一方の主面に形成されたグルーブGおよびランドLの形状が転写されない。   In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the light transmitting layer 9 is formed by applying an ultraviolet curable resin solution to the surface of the first dielectric layer 8 by a spin coating method. The coating film is formed by irradiating an ultraviolet ray to the coating film to cure the ultraviolet curable resin, and the main surface of the light transmitting layer 9 facing the support substrate 2 is provided on one main surface of the support substrate 2. The shapes of the formed grooves G and lands L are transferred, and the same concavo-convex pattern as the grooves G and lands L formed on one main surface of the support substrate 2 is formed. In the above, the light transmitting layer 13 is formed by applying a UV curable resin solution to the surface of the L1 layer 30 by a spin coating method to form a coating film, and irradiating the coating film with UV light to form The light transmitting layer is formed by curing the resin. The shape of the groove G and the land L formed on one main surface of the support substrate 11 is transferred to the main surface of the support substrate 11 facing the third support substrate 11, and the groove G formed on one main surface of the support substrate 11 is transferred. 4 and 5, and in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, the light transmitting layer 45 is formed by applying an ultraviolet curable resin solution on the surface of the third recording layer 70. A main surface of the light transmitting layer 45, which is formed by applying a spin coating method to form a coating film, and irradiating the coating film with ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin, and faces the support substrate 41 of the light transmitting layer 45 The shape of the groove G and the land L formed on one main surface of the support substrate 41 is transferred, and the same concavo-convex pattern as the groove G and the land L formed on one main surface of the support substrate 41 is formed. Have beenHowever, the light-transmitting layers 9, 13, and 45 are applied to the surface of the first dielectric layer 8, the L1 layer 30, the third recording layer 70, or the fourth recording layer 80 by spin coating with an ultraviolet-curable resin solution. It is not absolutely necessary to form the first dielectric layer 8, the L1 layer 30, the third recording layer 70 or the fourth recording layer 80 on the surface of the first dielectric layer 8, the L1 layer 30, or the fourth recording layer 80. May be adhered to form the light transmitting layers 9, 13, 45. When the light transmitting layers 9, 13, and 45 are formed in this manner, the main surfaces of the light transmitting layers 9, 13, and 45 facing the support substrates 2, 11, and 41 support the support substrates 2, 11, and 41. The shapes of the groove G and the land L formed on one of the main surfaces are not transferred.

さらに、図1および図2に示された実施態様においては、第一の記録膜6が光透過層9側に配置され、第二の記録膜5が支持基板2側に配置されているが、第一の記録膜6を支持基板2側に配置し、第二の記録膜5を光透過層9側に配置してもよい。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the first recording film 6 is disposed on the light transmitting layer 9 side, and the second recording film 5 is disposed on the support substrate 2 side. The first recording film 6 may be disposed on the support substrate 2 side, and the second recording film 5 may be disposed on the light transmission layer 9 side.

また、図3に示された実施態様においては、Siを主成分として含む第一のL1記録膜33aが光透過層13側に配置され、Cuを主成分として含む第二のL1記録膜33bが支持基板11側に配置されているが、Siを主成分として含む第一のL1記録膜33aを支持基板11側に配置し、Cuを主成分として含む第二のL1記録膜33bを、光透過層13側に配置してもよい。   Further, in the embodiment shown in FIG. 3, the first L1 recording film 33a containing Si as a main component is disposed on the light transmission layer 13 side, and the second L1 recording film 33b containing Cu as a main component is formed. Although disposed on the support substrate 11 side, the first L1 recording film 33a containing Si as a main component is disposed on the support substrate 11 side, and the second L1 recording film 33b containing Cu as a main component transmits light. It may be arranged on the layer 13 side.

さらに、図3に示された実施態様においては、Siを主成分として含む第一のL0記録膜23aが光透過層13側に配置され、Cuを主成分として含む第二のL0記録膜23bが支持基板11側に配置されているが、Siを主成分として含む第一のL0記録膜23aを支持基板11側に配置し、Cuを主成分として含む第二のL0記録膜23bを、光透過層13側に配置してもよい。   Further, in the embodiment shown in FIG. 3, a first L0 recording film 23a containing Si as a main component is disposed on the light transmission layer 13 side, and a second L0 recording film 23b containing Cu as a main component is formed. Although disposed on the support substrate 11 side, the first L0 recording film 23a containing Si as a main component is disposed on the support substrate 11 side, and the second L0 recording film 23b containing Cu as a main component transmits light. It may be arranged on the layer 13 side.

また、図3に示された実施態様においては、L0層20が、Siを主成分として含む第一のL0記録膜23aと、Cuを主成分として含む第二のL0記録膜23bを備えているが、L0層20が、Siを主成分として含む第一のL0記録膜23aと、Cuを主成分として含む第二のL0記録膜23bとを備えていることは必ずしも必要でなく、L0層20は単一の記録膜によって構成されていてもよい。さらに、L0層20は、支持基板11の表面に形成されたプレピットによって、再生専用の記録層として、構成されていてもよい。   In the embodiment shown in FIG. 3, the L0 layer 20 includes a first L0 recording film 23a containing Si as a main component and a second L0 recording film 23b containing Cu as a main component. However, it is not always necessary for the L0 layer 20 to include the first L0 recording film 23a containing Si as a main component and the second L0 recording film 23b containing Cu as a main component. May be constituted by a single recording film. Further, the L0 layer 20 may be configured as a read-only recording layer by pre-pits formed on the surface of the support substrate 11.

さらに、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80はいずれも、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、形成されているが、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、形成することは必ずしも必要でなく、ZnSとSiOとの混合物を主成分として含むターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を主成分として含むターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を形成することもできる。 Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5 and the embodiment shown in FIG. 6, the second recording layer 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer of the optical recording disks 40 and 100 are provided. Each of the layers 80 is formed by a vapor deposition method such as a sputtering method using a target composed of a mixture of ZnS and SiO 2 and a target composed of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. The second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disks 40 and 100 are formed by combining a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 with Mg, It is indispensable to form by a vapor phase growth method such as a sputtering method using a target made of at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti. Not necessary, by using a target containing a target comprising a mixture of ZnS and SiO 2 as a main component, Mg, at least one metal selected from the group consisting of Al and Ti as a main component, the gas such as a sputtering method The second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 can also be formed by the phase growth method.

また、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80はいずれも、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、形成され、その結果として、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいるが、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を、ZnSとSiOとの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、スパッタリング法などの気相成長法により、形成することは必ずしも必要でなく、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80は、La、SiOおよびSiの混合物を主成分として含むターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を主成分として含むターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成することもできる。このようにして、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を形成した場合には、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80は、それぞれ、La,Si,OおよびNを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含むことになる。 In the embodiments shown in FIGS. 4 and 5 and the embodiment shown in FIG. 6, the second recording layer 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer of the optical recording disks 40 and 100 are used. Each of the layers 80 is formed by a vapor deposition method such as a sputtering method using a target composed of a mixture of ZnS and SiO 2 and a target composed of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. As a result, the optical recording disk 40 contains Zn, Si, S, and O as main components and contains at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. second recording layer 60 of 100, the third recording layer 70 and the fourth recording layer 80, and a target made of a mixture of ZnS and SiO 2, Mg, Al Oyo The second recording layer of the optical recording disks 40 and 100 is not necessarily formed by a vapor growth method such as a sputtering method using a target made of at least one metal selected from the group consisting of Ti. 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer 80 are selected from the group consisting of a target mainly containing a mixture of La 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4 and Mg, Al and Ti. It can also be formed by a vapor deposition method using a target containing at least one metal as a main component. When the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disks 40, 100 are formed in this manner, the second recording layer 60, the third recording layer The layer 70 and the fourth recording layer 80 each contain La, Si, O and N as main components, and contain at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti as an additive.

さらに、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80は、同一の組成を有しているが、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80の間におけるZn、Si、OおよびSの含有量の差が5原子%以下であればよく、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が同一の組成を有していることは、必ずしも必要でない。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5 and the embodiment shown in FIG. 6, the second recording layer 60, the third recording layer 70 and the fourth recording layer of the optical recording disks 40 and 100 are provided. The layer 80 has the same composition, but the difference in the content of Zn, Si, O, and S between the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 is different. 5 atomic% or less, and it is not always necessary that the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disks 40 and 100 have the same composition. Not.

さらに、図4および図5に示された実施態様においては、光記録ディスク40の第二の記録層60および第三の記録層70は、それぞれ、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいるが、光記録ディスク40の第二の記録層60および第三の記録層70が、それぞれ、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいることは必ずしも必要でなく、光記録ディスク40の第二の記録層60および第三の記録層70のうち、少なくとも一層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームLBが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含んでいればよく、光記録ディスク40の第二の記録層60および第三の記録層70の少なくとも一層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物と含んでいてもよい。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 of the optical recording disk 40 each contain Zn, Si, S and O as main components. , Mg, Al, and Ti as additives, the second recording layer 60 and the third recording layer 70 of the optical recording disk 40 are Zn, Si, respectively. , S and O as main components, and it is not always necessary to include at least one kind of metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti as an additive. And at least one layer of the third recording layer 70 is composed of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and La. If it contains at least one selected metal M and an element X that is combined with the metal M by being irradiated with the recording laser beam LB to form a crystal of a compound with the metal M. Preferably, at least one of the second recording layer 60 and the third recording layer 70 of the optical recording disk 40 is made of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi. , Containing at least one metal selected from the group consisting of Zn and La and at least one element selected from the group consisting of S, O, C and N as main components, and selected from the group consisting of Mg, Al and Ti At least one metal may be included as an additive.

また、図6に示された実施態様においては、光記録ディスク100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80は、それぞれ、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいるが、光記録ディスク100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が、それぞれ、Zn、Si、SおよびOを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいることは必ずしも必要でなく、光記録ディスク100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80のうち、少なくとも一層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームLBが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含んでいればよく、光記録ディスク100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80の少なくとも一層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物を含んでいてもよい。   In the embodiment shown in FIG. 6, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disk 100 are made of Zn, Si, S, and O, respectively. It contains at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive, but contains at least one of the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer of the optical recording disk 100. It is not necessary that each of the recording layers 80 include Zn, Si, S, and O as main components and at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti as an additive. At least one of the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disk 100 includes Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, and In. At least one kind of metal M selected from the group consisting of Sn, W, Pb, Bi, Zn, and La, and by being irradiated with a recording laser beam LB, combined with the metal M and At least one of the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disk 100 may include Ni, Cu, and the like. At least one metal selected from the group consisting of Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La, and selected from the group consisting of S, O, C and N At least one element may be included as a main component, and at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti may be included as an additive.

さらに、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットが用いて、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80が形成されているが、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットに代えて、ZnあるいはLaを主成分として含むターゲットを用いて、光記録ディスク40、100の第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を形成することもできる。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, and in the embodiment shown in FIG. 6, an optical recording disk is formed by using a target made of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti. Although the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of 40 and 100 are formed, a target made of at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti Alternatively, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 of the optical recording disks 40 and 100 can be formed using a target containing Zn or La as a main component.

また、図4および図5に示された実施態様においては、光記録ディスク40は、基板41と、光透過層45と、基板41および光透過層45の間に形成された第一の記録層50、第二の記録層60および第三の記録層70を備え、図6に示された実施態様においては、光記録ディスク100は、基板41と、光透過層45と、基板41および光透過層45の間に形成された第一の記録層50、第二の記録層60、第三の記録層70および第四の記録層80を備えているが、本発明は、三層の記録層を有する光記録ディスクおよび四層の記録層を有する光記録ディスクに限定されるものではなく、広く、二層以上の記録層を有する光記録ディスクに適用することができる。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, the optical recording disk 40 includes a substrate 41, a light transmitting layer 45, and a first recording layer formed between the substrate 41 and the light transmitting layer 45. In the embodiment shown in FIG. 6, the optical recording disk 100 comprises a substrate 41, a light transmitting layer 45, a substrate 41 and a light transmitting layer 50, a second recording layer 60 and a third recording layer 70. The first recording layer 50, the second recording layer 60, the third recording layer 70, and the fourth recording layer 80 formed between the layers 45 are provided. The present invention is not limited to an optical recording disk having a recording layer and an optical recording disk having four recording layers, but can be widely applied to an optical recording disk having two or more recording layers.

さらに、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、光記録ディスク40、100の第一の記録層50は、Cuを主成分として含む第一の記録膜53aと、Siを主成分として含む第二の記録膜53bとを有しているが、光記録ディスク40、100の第一の記録層50を、Cuを主成分として含む第一の記録膜53aと、Siを主成分として含む第二の記録膜53bとによって構成することは必ずしも必要でなく、光記録ディスク40、100の第一の記録層50を、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物を含むように形成することもでき、さらには、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームLBが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含むように形成することもできる。   Further, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 5, and in the embodiment shown in FIG. 6, the first recording layer 50 of the optical recording disks 40 and 100 has the first recording layer containing Cu as a main component. The optical recording disks 40 and 100 have a first recording layer 50 containing Cu as a main component, which has a film 53a and a second recording film 53b containing Si as a main component. It is not always necessary to form the first recording layer 50 of the optical recording disks 40 and 100 with Ni, Cu, Si, Ti, Ge. , Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and at least one metal selected from the group consisting of La and at least one element selected from the group consisting of S, O, C, and N With the main component At least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti can be formed so as to include an additive. Further, Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In , Sn, W, Pb, Bi, Zn, and at least one metal M selected from the group consisting of La and a laser beam LB for recording are applied to combine with the metal M, And an element X that forms a crystal of the compound of formula (1).

また、図4および図5に示された実施態様ならびに図6に示された実施態様においては、光記録ディスク40、100の第一の記録層50は、Cuを主成分として含む第一の記録膜53aと、Siを主成分として含む第二の記録膜53bとを有しているが、第一の記録層50に代えて、支持基板41あるいは第一の透明中間層42の表面に、ピットを形成して、データを記録することによって、支持基板41あるいは第一の透明中間層42を再生専用の記録層として利用するようにしてもよい。   In the embodiments shown in FIGS. 4 and 5 and the embodiment shown in FIG. 6, the first recording layer 50 of the optical recording disks 40 and 100 has the first recording layer containing Cu as a main component. It has a film 53a and a second recording film 53b containing Si as a main component. However, instead of the first recording layer 50, a pit is formed on the surface of the support substrate 41 or the first transparent intermediate layer 42. May be formed and the data is recorded, so that the support substrate 41 or the first transparent intermediate layer 42 may be used as a read-only recording layer.

図1は、本発明の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略要部拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged sectional view of a substantial part of an optical recording disk according to a preferred embodiment of the present invention. 図2は、グルーブとランドの断面形状の詳細を示す略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing details of the sectional shapes of the groove and the land. 図3は、本発明の別の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention. 図4は、本発明の他の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of an optical recording disk according to another preferred embodiment of the present invention. 図5は、図4に示された光記録ディスクの第一の記録層の略拡大断面図である。FIG. 5 is a schematic enlarged sectional view of a first recording layer of the optical recording disc shown in FIG. 図6は、本発明のさらに他の好ましい実施態様にかかる光記録ディスクの略斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view of an optical recording disk according to still another preferred embodiment of the present invention. 図7は、実施例1において、グルーブの深さGdとジッタとの関係を測定した結果を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing the result of measuring the relationship between the groove depth Gd and the jitter in Example 1. 図8は、実施例1において、グルーブの深さGdとプッシュプル信号との関係を測定した結果を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing the result of measuring the relationship between the groove depth Gd and the push-pull signal in the first embodiment. 図9は、実施例2において、グルーブの半値幅Gwとジッタとの関係を測定した結果を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing the result of measuring the relationship between the half width Gw of the groove and the jitter in the second embodiment. 図10は、実施例2において、グルーブの半値幅Gwとプッシュプル信号との関係を測定した結果を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing the result of measuring the relationship between the half width Gw of the groove and the push-pull signal in the second embodiment. 図11は、実施例3において、ウォブル量Wobとウォブル信号/ノイズ比との関係を評価した結果を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing the result of evaluating the relationship between the wobble amount Wob and the wobble signal / noise ratio in the third embodiment. 図12は、実施例3において、ウォブル量Wobとトラッキングエラー(残留ノイズ)との関係を測定した結果を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing the result of measuring the relationship between the wobble amount Wob and the tracking error (residual noise) in the third embodiment.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 光記録ディスク
2 支持基板
3 反射層
4 第二の誘電体層
5 第二の記録膜
6 第一の記録膜
7 記録層
8 第一の誘電体層
9 光透過層
10 光記録ディスク
11 支持基板
12 透明中間層
13 光透過層
13a 光入射面
20 L0層
21 反射膜
22 第四の誘電体膜
23 L0記録層
23a 第一のL0記録膜
23b 第二のL0記録膜23b
24 第三の誘電体膜
30 L1層
31 反射膜
32 第二の誘電体膜
33 L1記録層
33a 第一のL1記録膜
33b 第二のL1記録膜
34 第一の誘電体膜
40 光記録ディスク
41 支持基板
42 第一の透明中間層
43 第二の透明中間層
43 第三の透明中間層
45 光透過層
45a 光入射面
50 第一の記録層
51 反射膜
52 第二の誘電体膜
53a 第二の記録膜
53b 第一の記録膜
54 第一の誘電体膜
60 第二の記録層
70 第三の記録層
80 第四の記録層
100 光記録ディスク
G グルーブ
L ランド
LB レーザビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical recording disk 2 Support substrate 3 Reflective layer 4 Second dielectric layer 5 Second recording film 6 First recording film 7 Recording layer 8 First dielectric layer 9 Light transmission layer 10 Optical recording disk 11 Support substrate 12 Transparent intermediate layer 13 Light transmitting layer 13a Light incident surface 20 L0 layer 21 Reflecting film 22 Fourth dielectric film 23 L0 recording layer 23a First L0 recording film 23b Second L0 recording film 23b
24 third dielectric film 30 L1 layer 31 reflection film 32 second dielectric film 33 L1 recording layer 33a first L1 recording film 33b second L1 recording film 34 first dielectric film 40 optical recording disk 41 Support substrate 42 First transparent intermediate layer 43 Second transparent intermediate layer 43 Third transparent intermediate layer 45 Light transmitting layer 45a Light incident surface 50 First recording layer 51 Reflective film 52 Second dielectric film 53a Second Recording film 53b First recording film 54 First dielectric film 60 Second recording layer 70 Third recording layer 80 Fourth recording layer 100 Optical recording disk G Groove L Land LB Laser beam

Claims (16)

支持基板と、前記支持基板の一方の主面に、交互に形成されたグルーブおよびランドと、前記グルーブおよび前記ランドが形成された前記支持基板の前記一方の主面上に形成され、少なくとも一層の記録層を含む光学的機能層と、前記光学的機能層上に形成された光透過層とを備えた光記録ディスクであって、
前記各グルーブの深さGdが15nm以上、25nm以下で、かつ、前記グルーブの半値幅Gwが150nm以上、230nm以下となるように前記グルーブおよび前記ランドが形成され、前記少なくとも一層の記録層が無機元素を含んでいることを特徴とする光記録ディスク。
A support substrate, and grooves and lands alternately formed on one main surface of the support substrate; and at least one layer formed on the one main surface of the support substrate on which the grooves and lands are formed. An optical recording disk including an optical functional layer including a recording layer and a light transmitting layer formed on the optical functional layer,
The grooves and the lands are formed so that the depth Gd of each groove is 15 nm or more and 25 nm or less, and the half width Gw of the groove is 150 nm or more and 230 nm or less, and the at least one recording layer is made of an inorganic material. An optical recording disk comprising an element.
前記グルーブが略台形状断面を有し、前記ランドが略台形状断面を有していることを特徴とする請求項1に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to claim 1, wherein the groove has a substantially trapezoidal cross section, and the land has a substantially trapezoidal cross section. 前記各グルーブと隣り合った前記ランドとの間の傾斜面の前記支持基板に対する角度θが12°以上、30°以下となるように前記グルーブおよび前記ランドが形成されたことを特徴とする請求項2に記載の光記録ディスク。 The groove and the land are formed such that an angle θ of the inclined surface between each groove and the adjacent land to the support substrate is 12 ° or more and 30 ° or less. 3. The optical recording disc according to 2. 前記グルーブおよび前記ランドが、ウォブル量Wobが、±7nm以上となるように形成されたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 4. The optical recording disk according to claim 1, wherein the groove and the land are formed such that a wobble amount Wob is equal to or more than ± 7 nm. 前記グルーブおよび前記ランドが、ウォブル量Wobが、±7nmないし±25nmとなるように形成されたことを特徴とする請求項4に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to claim 4, wherein the groove and the land are formed such that a wobble amount Wob is within a range of ± 7 nm to ± 25 nm. 前記少なくとも一つの記録層が、Si、Ge、Sn、Mg、C、Al、Zn、In、Cu、TiおよびBiよりなる群から選ばれる一種の元素を主成分として含む第一の記録膜と、前記第一の記録膜の近傍に設けられ、Cu、Al、Zn、Ag、TiおよびSiよりなる群から選ばれ、第一の記録膜に含まれた元素とは異なる元素を主成分として含む第二の記録膜とによって構成されたことを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 A first recording film in which the at least one recording layer contains, as a main component, one element selected from the group consisting of Si, Ge, Sn, Mg, C, Al, Zn, In, Cu, Ti, and Bi; The second recording layer is provided in the vicinity of the first recording film and is selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Ti, and Si, and contains, as a main component, an element different from the element contained in the first recording film. 6. The optical recording disk according to claim 1, wherein the optical recording disk is constituted by two recording films. 前記第二の記録膜が、前記第一の記録膜に接するように、形成されていることを特徴とする請求項6に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to claim 6, wherein the second recording film is formed so as to be in contact with the first recording film. 前記第二の記録膜に、Cu、Al、Zn、Ag、Mg,Sn、Au,TiおよびPdよりなる群から選ばれる元素で、前記第二の記録膜に主成分として含まれている元素と異なる元素が添加されていることを特徴とする請求項6または7に記載の光記録ディスク。 An element selected from the group consisting of Cu, Al, Zn, Ag, Mg, Sn, Au, Ti and Pd in the second recording film, and an element contained as a main component in the second recording film; 8. The optical recording disk according to claim 6, wherein a different element is added. 前記第一の記録膜が、Si、GeおよびSnよりなる群から選ばれる元素を主成分として含んでいることを特徴とする請求項6ないし8のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 9. The optical recording disk according to claim 6, wherein the first recording film contains, as a main component, an element selected from the group consisting of Si, Ge, and Sn. 前記第二の記録膜が、Cuを主成分として含んでいることを特徴とする請求項6ないし9のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to any one of claims 6 to 9, wherein the second recording film contains Cu as a main component. 前記光学的機能層が、少なくとも中間層を介して、積層された複数の記録層を備え、前記複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属Mと、記録用のレーザビームが照射されることにより、前記金属Mと結合して、前記金属Mとの化合物の結晶を生成する元素Xとを含んでいることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 The optically functional layer includes a plurality of recording layers stacked at least via an intermediate layer, and among the plurality of recording layers, at least one recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer, At least one metal M selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn, and La, and a recording laser beam are irradiated. The optical recording according to any one of claims 1 to 5, further comprising an element X that forms a crystal of a compound with the metal M by being combined with the metal M. disk. 前記元素Xが、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素によって構成されていることを特徴とする請求項11に記載の光記録ディスク。 The optical recording disk according to claim 11, wherein the element X is composed of at least one element selected from the group consisting of S, O, C, and N. 前記金属Mと前記元素Xを含む少なくとも一層の記録層が、さらに、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を含んでいることを特徴とする請求項11または12に記載の光記録ディスク。 13. The method according to claim 11, wherein at least one recording layer containing the metal M and the element X further contains at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. Optical recording disc. 前記光学的機能層が、少なくとも中間層を介して、積層された複数の記録層を備え、前記複数の記録層のうち、光透過層から最も遠い記録層とは異なる少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含み、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を添加物として含んでいることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の光記録ディスク。 The optically functional layer includes a plurality of recording layers stacked at least via an intermediate layer, and among the plurality of recording layers, at least one recording layer different from the recording layer farthest from the light transmitting layer, At least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La, and S, O, C and N 6. The composition according to claim 1, wherein the composition contains at least one element selected from the group as a main component, and contains at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti as an additive. Item 2. The optical recording disk according to item 1. 前記少なくとも一層の記録層が、Ni、Cu、Si、Ti、Ge、Zr、Nb、Mo、In、Sn、W、Pb、Bi、ZnおよびLaからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属と、S、O、CおよびNからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素とを主成分として含むターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属を主成分として含むターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成されたことを特徴とする請求項14に記載の光記録ディスク。 At least one metal selected from the group consisting of Ni, Cu, Si, Ti, Ge, Zr, Nb, Mo, In, Sn, W, Pb, Bi, Zn and La; , O, C, and N as a main component, and a target containing, as a main component, at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al, and Ti. 15. The optical recording disk according to claim 14, wherein the optical recording disk is formed by a vapor deposition method. 前記少なくとも一層の記録層が、ZnSとSiOとの混合物あるいはLa、SiOおよびSiの混合物からなるターゲットと、Mg、AlおよびTiからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属からなるターゲットとを用いて、気相成長法によって、形成されたことを特徴とする請求項15に記載の光記録ディスク。 The at least one recording layer is a target made of a mixture of ZnS and SiO 2 or a mixture of La 2 O 3 , SiO 2 and Si 3 N 4 , and at least one metal selected from the group consisting of Mg, Al and Ti 16. The optical recording disk according to claim 15, wherein the optical recording disk is formed by a vapor deposition method using a target comprising:
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