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JP2004342681A - Laser oscillator - Google Patents

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JP2004342681A
JP2004342681A JP2003134633A JP2003134633A JP2004342681A JP 2004342681 A JP2004342681 A JP 2004342681A JP 2003134633 A JP2003134633 A JP 2003134633A JP 2003134633 A JP2003134633 A JP 2003134633A JP 2004342681 A JP2004342681 A JP 2004342681A
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aperture
order
laser oscillator
mode
laser
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Tomohiro Kyodo
友博 京藤
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

【課題】反射鏡とアパーチャで構成する光共振器の最適化を行うことで所望のビームモードを得る。
【解決手段】所定のガス流をもったレーザ媒質を励起させるための電極と、励起光を増幅するための反射鏡と、レーザの発振モードを規定するアパーチャとを備えたレーザ発振器において、励起光が光軸に対しゲイン分布の方向性をもつとき、放電方向及びガス流方向のビームモード次数が同一になるよう上記各方向の上記アパーチャの開口比率を最適化する。
【選択図】 図1
A desired beam mode is obtained by optimizing an optical resonator including a reflecting mirror and an aperture.
A laser oscillator having an electrode for exciting a laser medium having a predetermined gas flow, a reflector for amplifying the excitation light, and an aperture for defining an oscillation mode of the laser is provided. Has a directionality of a gain distribution with respect to the optical axis, the aperture ratio of the aperture in each direction is optimized so that the beam mode orders in the discharge direction and the gas flow direction are the same.
[Selection diagram] Fig. 1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ発振器のビームモードの真円度を改善する方法に関するものである。
【0002】
【従来技術】
電極間に電力を投入することにより、充満したレーザガス分子を励起し、部分反射鏡と全反射鏡で構成された光共振器によりレーザ光を増幅し、レーザビーム光軸を中心にレーザビームが部分反射鏡より出力される。
このときアパーチャにより光共振領域を制限することで、所望のビームモードの形状とその次数、並びに出力を得る構成となっている。
すなわち、真円のビームモードが欲しい場合はアパーチャ開口部を真円形状にし、楕円のビームモードが欲しい場合は、アパーチャ開口部を楕円形状にするといった、アパーチャの開口部の形状は所望のビームモードと同じ形状としていた。
また、アパーチャ開口部の大きさは加工に適したモード次数となるように決定する必要がある。
モード次数は、アパーチャの開口径をD、反射鏡により決定されるアパーチャ上でのビーム径をwとしたとき、D/wで推測することができ、D/wが大きいとモード次数は高く、D/wが小さいとモード次数は低くなる。例えば、集光性のよいビームが必要である場合には前記アパーチャの開口径を小さくすることで次数の低いシングルモードとし、大出力が必要である場合には前記アパーチャの開口径を大きくすることで次数の高いマルチモードとなるようにしていた。
このビームモードの次数について考慮されたものとしては、例えば、特開平1−253977号公報に示されるように、開口断面を変化させてレーザ発振モードを変化させることが行われていた。
【0003】
【特許文献1】特開平1−253977号公報 (第2頁、第1図)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来、上述したような三軸直交型ガスレーザ発振器を用いて、プリント基板などの穴あけ加工を行い場合には、あけられる穴の真円性が重要となる。
ここで、穴の真円性を達成すべく、所望のビームモード形状が真円となるように、アパーチャ開口の形状を真円で形成したとしてもしたとしても、実際に出力するビームモードを観察すると、必ずしも真円形状で得られない事例が発生し、所望する形状の穴があかないといった問題点があった。
【0005】
本発明は、このような課題を解決すべく、反射鏡とアパーチャで構成する光共振器の最適化を行うことで所望のビームモードを得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るレーザ発振器は、励起光を増幅するための反射鏡と、レーザの発振モードを規定するアパーチャとにより構成された光共振器を備えたレーザ発振器において、励起光が光軸に対しゲイン分布の方向性をもつとき、各方向のビームモード次数が同一になるよう上記各方向の上記光共振器の構成部分を最適化したものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
まず、本発明に係る光共振器の最適化に関する原理について図2を用いて説明する。
図2は、放電方向、ガス流方向、光軸方向がそれぞれ直交する三軸直交型ガスレーザ発振器において、反射鏡、アパーチャ5、電極幅、電極間ギャップ、ガス組成、ガス圧力、ガス流速を同じとし、また、反射鏡は同心円状に曲率をもつ形状、アパーチャ5の開口部は真円形状で、かつ光共振領域が電極1に当たらない最大径としたとき、投入電力により放電方向、ガス流方向のそれぞれのゲイン分布がどのように変化するかを説明するための模式図である。
図において、投入電力をW1、W2、W3(W1>W2>W3)と変化させた場合の放電方向の平均的なゲイン分布を23、24、25、ビームモードを29a、30b、31c、ガス流方向の平均的なゲイン分布を20、21、22、ビームモードを26e、27f、28g、最終的に出力されるビームモードを32ae、33bf、34cg、レーザ発振閾値を13で示す。
なお、記号a〜gはモード次数を示し、a>b>c、e>f>g、a≒e、b>f、c>gであるとする。
【0008】
次に、図を用いてゲイン分布とビームモードの関係について説明する。
放電方向は23から25に示すようにトップハット形状のゲイン分布が得られ、投入電力を変化させると大きさが異なる相似系の分布となる。
このゲイン分布をアパーチャで切り出し、光共振させるとレーザ発振閾値を上回り、出力するビームモードはa次の29aからc次の31cとなる。
このように放電方向は端の部分までレーザ発振閾値以上のゲインが均一な分布となっているため、比較的次数の高いビームモードが得られる。
これに対し、ガス流方向は電極端部分での電界強度は電極中央付近と比較して弱いため、放電に寄与する投入電力が位置により異なり、図の20から22に示すように端の部分が放電閾値の影響を受けた分布となる。
このゲイン分布をアパーチャで切り出し、光共振させると得られるビームモードはe次の26eからg次の28gとなる。
このようにガス流方向では、投入電力を低くするとレーザ発振閾値以上のゲインは中央と端部で大きく異なるため、比較的次数の低いビームモードが得られる。
【0009】
以上より、投入電力がW1のときに形成されるゲイン分布においては、放電方向、ガス流方向のどちらも比較的高次のビームモードが得られるため、結果として出力されるビームモードは方向性のない高次(a次≒e次)のビームモード、すなわち真円でかつ高次のビームモード32aeとなる。
これに対し、投入電力がW2のときに形成されるゲイン分布においては、放電方向は比較的高次(b次)のビームモードであるが、ガス流方向は比較的低次(f次)のビームモードであるため、結果として出力されるビームモードは方向性を持つビームモード(a次>f次)、すなわち放電方向に長い楕円のビームモード33bfとなる。
また、投入電力がW3のときに形成されるゲイン分布においては、放電方向は比較的低次(c次)のビームモード、ガス流方向は最低次(g次)のビームモードとなるため、結果として出力されるビームモードはW2のとき同様方向性を持ち、かつW2と比較して全体的に低次(c次>g次)のビームモード34cgとなる。
【0010】
以上、図2では投入電力を変化させた場合について示したが、電極幅、電極間ギャップ、ガス組成、ガス圧力、ガス流速などを変化させた場合についても同様に放電方向とガス流方向のゲイン分布が変化し、結果としてビームモードが変化する。
また、光共振に関わる反射鏡、アパーチャを変化させた場合についても、ゲインの取り出し領域が変化するので、結果としてビームモードが変化する。
本発明は、ゲイン分布の違いによりビームモードが変化することに着目し、特に、所望のビームモードを得る手段として、反射鏡、アパーチャで構成する光共振器を最適化するものである。
【0011】
実施の形態1.
実施の形態1では、上述した原理を三軸直交型ガスレーザ発振器において、大きなピークパワーでかつ短いパルス幅のパルスレーザを出力する場合に適用する。
図1は、実施の形態1に係るレーザ発振器を説明するための模式図である。
図において、電極1間に電力を投入することにより、充満したレーザガス分子を励起放電2する。
そして、部分反射鏡と全反射鏡で構成された光共振器により誘導放出が始まり、レーザ光を増幅し、レーザビーム光軸6を中心にレーザビーム8が部分反射鏡4より出力される。
この時、アパーチャ5により光共振領域を制限することで、所望のビームモードの形状とその次数、並びに出力を得る構成となっている。
レーザガスは、送風機9により循環され、所定のガス流10となる。
また、11はガス流方向のゲイン分布、12は放電方向のゲイン分布、14〜16はガス流方向のビームモード、17〜19は放電方向のビームモードを示している。
また、記号D1からD4はアパーチャの開口径を示し、D4>D1>D2>D3であるとする。
【0012】
さて、大きなピークパワーでかつ短いパルス幅のパルスレーザを出力するためには、短い時間に大きな投入電力を印加する必要がある。
そのため、ガス圧力は高く、ガス組成はレーザ媒質成分を多く含んだ組成にし、ガス流速は速くする必要があり、それぞれは理論的にある範囲内に制限される。また、投入電力、電極間ギャップ、及び電極幅は次のような制限がある。
一般的にレーザ出力を大きくするには、放電領域を大きくする必要がある。
放電領域はガス圧力、ガス組成、ガス流速、投入電力、電極間ギャップ、及び電極幅によって決定される。
特に電極間ギャップと電極幅は空間的に制限を与えるパラメータである。
従って、電極間ギャップと電極幅を大きくしないと物理的に大きな放電領域を得られないが、これらを大きくするには、投入電力を大きくする必要がある。
投入電力に関しては、コスト、設置面積等の理由から電源の製作上制限がある。従って、電極ギャップと電極幅を大きくするにも限界があり、その結果、大きなレーザ出力を得るためには、放電領域に対する光共振領域の割合を最大限に大きくする必要がある。
このように様々な制限の中からレーザ出力を可能な限り大きくするようなレーザ発振器を構成する場合、同心円状のゲイン分布を形成することが困難となることがある。
【0013】
図1はこの状態を示したもので、放電方向とガス流方向のゲイン分布がそれぞれ11、12と異なるため、アパーチャの開口部が真円形状でかつ光共振領域が電極に当たらない最大径D1である場合、出力されるビームモードは放電方向に長い楕円型のモードとなる。
このようなとき、真円形状のアパーチャの開口径をD3まで小さくし、放電方向とガス流方向のビームモードを15と18のように等しくすることで真円のビームモードを得る方法があるが、この方法ではモードボリュームが大幅に減少するため、大きなピークパワーを得ることが困難である。
【0014】
そこで、本実施の形態では、アパーチャの開口部を放電方向が短い楕円形状とすることで、この課題を解決するものである。
すなわち、前述したように真円形状のアパーチャでは放電方向はモード次数が高いので、モード次数を減らすように光共振できる光路をアパーチャの開口をD2に狭くすることで制限し、逆にガス流方向はモード次数が比較的低いので、モード次数を大きくなるようにアパーチャの開口をD4に広げる。
その結果、放電方向とガス流方向のモード次数が一致し、同心円状のビームモード、すなわち真円のビームモードを得る。
なお、この際にはモードボリュームはそれほど低下しないので大きなピークパワーを得る。
【0015】
具体的には、放電方向の開口D2と、ガス流方向の開口D4の関係は、以下のように設定する。
まず、ガス圧力、ガス組成、ガス流速、投入電力、電極間ギャップ、及び電極幅により決定されるゲイン分布を計算する。
次に、光共振器並びにアパーチャにより得られるレーザビームモード次数を計算し、ガス流方向と放電方向のモード次数が同一となるようにアパーチャを最適化する。
このとき、ガス流方向の開口D4は放電幅と同じ程度とし、放電方向の開口D2をガス流方向のモード次数と同一になるように最適化することで、同心円状でかつ最大限のモード次数とすることができ、大きなレーザ出力を得ることができる。
実験で構成したレーザ発振器においては、D2はD4の0.7〜0.9倍程度の幅とすることで、ガス流方向のモード次数と同一になり、同心円状のビームモードを得た。
【0016】
以上のように本発明によれば、ゲイン分布が同心円状でないレーザ発振器において、放電方向が短い楕円形状の開口を持つアパーチャを用いることにより、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
また、上記ではアパーチャの開口部を楕円形状としたが、長径の方向に直線部を含む長円形状であっても適用でき、上記同様、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
また、上記では三軸直行型ガスレーザ発振器において、大きなピークパワーでかつ短いパルス幅のパルスレーザを出力する場合について適用したが、他のレーザ発振器においてもゲイン分布が同心円状でないとき、ゲイン分布を考慮して光共振器の最適化を実施することにより、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
【0017】
なお、従来の特開平1−253977号公報に開示されて技術は、開口部が真円形状のアパーチャを共振光軸と直行する軸を回転することにより、光軸断面よりみた投影を楕円とする方法である。
この方法では、D/wが大きく、光共振長が短く、かつ回転角度を大きくする必要がある場合、回転方向へのモード偏りが発生する。
その結果、モードの軸対称性を損なう新たな原因となり、本発明が課題とする同心円状のビームモードを得ることが困難となる。
【0018】
実施の形態2.
上記実施の形態1では、アパーチャの形状は固定のものとしたが、放電方向の開口径を可変としたアパーチャとしてもよい。
図3、4は本実施の形態2に係る図であり、図3は本実施の形態2のレーザ発振器を説明するための模式図、図4はレーザ発振器に搭載するアパーチャの仕組みを説明する模式図である。
図3に示すレーザ発振器は、実施の形態1と同様、三軸直交型ガスレーザ発振器において大きなピークパワーでかつ短いパルス幅のパルスレーザを出力するレーザ発振器とする。
図において、35はガス流方向のビームモード、36〜38は放電方向のビームモード、39〜41は光共振が行える領域を示す。
また、図1と図3の違いはアパーチャの形状のみであるから、図3のレーザ発振器に形成されるゲイン分布は実施の形態1で示した図1のレーザ発振器で形成されるゲイン分布11、12と同じである。
また、図4における42は真円形状の開口部を持つ遮蔽物、43、44は遮蔽板、45は遮蔽板を固定し、かつY方向に駆動する駆動部、46は基台、47は駆動部45の軸、48はアパーチャの開口部中心、49、50はそれぞれ48を中心とする中心軸である。
また、記号Dy、D5からD7は遮蔽板間距離、h〜kはモード次数を示し、それぞれD5>D6>D7、h>i>j、i≒kとする。
【0019】
次に、動作を説明する。
図4に示すように、本発明におけるアパーチャは、開口部が真円形状である遮蔽物42と2枚の遮蔽板43、44を組み合わせたビーム遮蔽構造によりビームモードを制限し、かつ前記遮蔽板2枚はそれぞれ中心軸51を中心に駆動する仕組みを持つ構成となっている。
従って、遮蔽板間距離Dyを変化させることにより、Y方向の光共振ができる領域を変化させることができる。
また、基台46に冷却水を循環させることで、前記アパーチャにおける前記遮蔽物42は基台46をとおして、前記遮蔽板43、44は駆動部45と基台46をとおしてそれぞれ間接的に冷却する構造となっている。
【0020】
図3では、前記アパーチャの遮蔽板の駆動方向を放電方向として使用し、遮蔽物42の開口部をφD5の真円形状とした。
また、φD5は光共振領域が電極に当たらない最大径とする。
まず、遮蔽板間距離DyがD5のときを考えると、光共振ができる領域はφD5の真円39となる。
従って、このときに得られるビームモードは実施の形態1で示したD1の場合と同じで放電方向は次数が高く(h次)、ガス流方向は次数の低い(k次)モードとなるため、結果として真円性の悪い(h次>k次)、放電方向に長い楕円のビームモードとなる。
次に、遮蔽板間距離DyがD6のときを考えると、光共振ができる領域は40となる。
従って、ガス流方向はそのままで放電方向のモード次数が下がる(i次<h次)。
従って、このとき得られるビームモードは放電方向とガス流方向の次数がほぼ等しくなるため(i次≒k次)、結果として真円性の良いビームモードとなる。
次に、遮蔽板間距離DyがD7のときを考えると、光共振ができる領域は41となる。
従って、ガス流方向はそのままでD6のときよりもさらに放電方向のモード次数が下がる(j次<<h次)。
従って、このとき得られるビームモードはガス流方向のほうが放電方向に比べて次数が低くなるため(j次<k次)、結果として真円性の悪い、ガス流方向に長い楕円のビームモードとなる。
【0021】
以上のように本発明によれば、前記のようにゲイン分布が同心円状でないレーザ発振器において、放電方向に駆動する遮蔽板43と44の間隔を調整することで、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
【0022】
また、本発明は製作上問題となる組立誤差に対して特に効果を発揮する。
図3で示すレーザ発振器において、電極幅、電極間ギャップ、電極間の位置関係などは、多少の組立誤差があり、それぞれはゲイン分布に影響を与えるため、得られるビームモードは製作するごとに多少異なる。
従って、本発明により連続的にモード次数を調整することにより組立誤差を打ち消し、出力を低下させることなくビームモードの真円性を向上する効果がある。
【0023】
また、上記説明では、遮蔽物42の開口部の真円形状としたが、楕円形状としてもよい。
その効果として、前記のようにゲイン分布が同心円状でないレーザ発振器において、あらかじめ短径・長径の比率があるばらつきの範囲内であることが分かっている場合、組立誤差によるゲイン分布の違いを微調整により補正することができるので、駆動部で大きくなったアパーチャを必要最低限まで小さくできる効果がある。
【0024】
実施の形態3.
実施の形態1、2では、アパーチャの形状の最適化について示したが、部分反射鏡或いは全反射鏡、或いはその両方の内面曲率を最適化してもよい。
図5、6は実施の形態3に係る図であり、図5は本発明のレーザ発振器を説明するための模式図、図6は前記レーザ発振器に搭載する反射鏡の構造を説明するための模式図である。
図5に示すレーザ発振器は、実施の形態1、2と同様、三軸直交型ガスレーザ発振器において大きなピークパワーでかつ短いパルス幅のパルスレーザを出力するレーザ発振器とする。
図において、51はガス流方向のビームモード、52〜54は放電方向のビームモード、55〜57は光共振するビーム光路を示す。
また、図1と図5の違いは反射鏡の形状のみであるから、図5のレーザ発振器に形成されるゲイン分布は実施の形態1で示した図1のレーザ発振器で形成されるゲイン分布11、12と同じである。
また、記号Ry、R0からR3は反射鏡の内面曲率、w1からw3は反射鏡により決定されるアパーチャ上での放電方向のビーム径、l〜oはモード次数を示し、それぞれR1<R2<R3、R0=R1、l>m>n、m≒oとする。
【0025】
本発明における反射鏡は、図6に示すように内面曲率がX、Y方向で異なる形状である。
図5におけるガス流方向をX方向、放電方向をY方向とし、反射鏡3は同心円状に曲率R0を持ち、反射鏡4のX方向の内面曲率をR0、Y方向の内面曲率RyをR1、R2、R3と変化させた場合について動作を説明する。
但し、アパーチャの開口部は真円形状でかつ光共振領域が電極に当たらない最大径であるとする。
【0026】
まず、反射鏡4の内面曲率RyがR1のとき(X方向の内面曲率R0と同じ)、すなわち同心円状の反射鏡であるとき、反射鏡3と4により決定される放電方向の光共振するビーム光路は図における55のようになる。
従って、アパーチャ上での放電方向のビーム径はw1となり、このとき得られるビームモードは実施の形態1で示したD1のときと同じで放電方向は次数が高く(l次)、ガス流方向は次数の低い(o次)モードとなるため、結果として真円性の悪い(l次>o次)、放電方向に長い楕円のビームモードとなる。
次に反射鏡4の内面曲率RyがR2のときを考えると、反射鏡3と4により決定される放電方向の光共振するビーム光路は図における56のようになる。
従って、アパーチャ上での放電方向のビーム径はw2(w2>w1)となり、D/wはR1のときと比較して小さくなるため、モード次数は下がる(m次<l次)。結果として、放電方向とガス流方向の次数がほぼ等しくなるため(m次≒o次)、真円性の良いビームモードとなる。
次に反射鏡4の内面曲率RyがR3のときを考えると、反射鏡3と4により決定される放電方向の光共振するビーム光路は図における57のようになる。
従って、アパーチャ上での放電方向のビーム径はw3(w3>>w1)となり、D/wはR2のときと比較してさらに小さくなるため、モード次数はさらに下がる(n次<<l次)。結果として真円性の悪い(n次<o次)、ガス流方向に長い楕円のビームモードとなる。
【0027】
以上の説明から反射鏡の内面曲率は以下のように設定する。
まず、ガス圧力、ガス組成、ガス流速、投入電力、電極間ギャップ、及び電極幅により決定されるゲイン分布を計算する。
次に、光共振器並びにアパーチャにより得られるレーザビームモード次数を計算し、ガス流方向と放電方向のモード次数が同一となるように反射鏡の内面曲率を最適化する。
このとき、所望のビームモード次数をガス流方向で得られるように、ガス流方向の内面曲率を選び、その後、モード次数が同一となるように放電方向の内面曲率を最適化をすることで、効率よく最適化を実施することができる。
【0028】
以上のように本発明によれば、前記のようにゲイン分布が同心円状でないレーザ発振器において、放電方向とガス流方向の内面曲率の異なる反射鏡を搭載することにより、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
また、反射鏡の内面曲率は、連続して変化させる仕組みを持つ機構としてもよい。
その効果として、実施の形態2同様、連続的にモード次数を調整することができ、それにより組立誤差を打ち消し、出力を低下させることなく、ビームモードの真円性を向上する効果がある。
【0029】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明におけるレーザ発振器を用いることにより、従来技術では達成しきれていなかったビームモードの真円性の向上を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1におけるレーザ発振器を説明するための模式図である。
【図2】本発明の原理を説明するための模式図。
【図3】実施の形態2におけるレーザ発振器を説明するための模式図である。
【図4】実施の形態2におけるアパーチャの構造を説明するための模式図である。
【図5】実施の形態3におけるレーザ発振器を説明するための模式図である。
【図6】実施の形態3における反射鏡の構造を説明するための模式図である。
【符号の簡単な説明】
1 電極、2 励起放電、3 部分反射鏡、4 全反射鏡、5 アパーチャ、6 レーザビーム光軸、10 ガス流。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for improving the roundness of a beam mode of a laser oscillator.
[0002]
[Prior art]
By supplying power between the electrodes, the filled laser gas molecules are excited, the laser light is amplified by an optical resonator composed of a partial reflection mirror and a total reflection mirror, and the laser beam is partially focused on the laser beam optical axis. Output from the reflector.
At this time, by restricting the optical resonance region by the aperture, the desired beam mode shape, its order, and output are obtained.
In other words, the shape of the aperture opening is the desired beam mode, such as making the aperture opening a perfect circular shape if a perfect circular beam mode is desired, and making the aperture opening an elliptical shape if an elliptical beam mode is desired. It had the same shape as.
Further, the size of the aperture opening needs to be determined so as to have a mode order suitable for processing.
The mode order can be estimated by D / w, where D is the aperture diameter of the aperture, and w is the beam diameter on the aperture determined by the reflecting mirror. If D / w is large, the mode order is high. When D / w is small, the mode order is low. For example, when a beam with good condensing properties is required, the aperture diameter of the aperture is reduced to a single mode with a low order, and when a large output is required, the aperture diameter of the aperture is increased. , So that a high-order multi-mode is achieved.
In order to consider the order of the beam mode, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-253977, the laser oscillation mode is changed by changing the aperture cross section.
[0003]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-253977 (page 2, FIG. 1)
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Conventionally, when a hole is formed in a printed circuit board or the like using the above-described three-axis orthogonal gas laser oscillator, the roundness of the hole to be drilled is important.
Here, to achieve the perfect circularity of the hole, even if the shape of the aperture opening is formed as a perfect circle so that the desired beam mode shape becomes a perfect circle, the beam mode actually output is observed. Then, a case where a perfect circular shape is not always obtained occurs, and there is a problem that a hole having a desired shape is not formed.
[0005]
An object of the present invention is to obtain a desired beam mode by optimizing an optical resonator including a reflecting mirror and an aperture in order to solve such a problem.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
A laser oscillator according to the present invention is a laser oscillator including an optical resonator configured by a reflector for amplifying excitation light and an aperture for defining an oscillation mode of the laser, wherein the excitation light has a gain with respect to an optical axis. When the distribution has directivity, the components of the optical resonator in each direction are optimized so that the beam mode order in each direction is the same.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
First, the principle of optimization of the optical resonator according to the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 2 shows a three-axis orthogonal gas laser oscillator in which the discharge direction, the gas flow direction, and the optical axis direction are orthogonal to each other, in which the reflecting mirror, the aperture 5, the electrode width, the gap between the electrodes, the gas composition, the gas pressure, and the gas flow rate are the same. When the reflecting mirror has a concentrically curved shape, the opening of the aperture 5 has a perfect circular shape, and the optical resonance region has a maximum diameter that does not hit the electrode 1, the direction of discharge and the direction of gas flow depend on the input power. FIG. 9 is a schematic diagram for explaining how each gain distribution changes.
In the figure, when the input power is changed to W1, W2, W3 (W1>W2> W3), the average gain distribution in the discharge direction is 23, 24, 25, the beam mode is 29a, 30b, 31c, and the gas flow is The average gain distribution in the direction is indicated by 20, 21, 22, the beam mode is indicated by 26e, 27f, 28g, the finally output beam mode is indicated by 32ae, 33bf, 34cg, and the laser oscillation threshold is indicated by 13.
Symbols a to g indicate the mode order, and assume that a>b> c, e>f> g, a 、 e, b> f, and c> g.
[0008]
Next, the relationship between the gain distribution and the beam mode will be described with reference to the drawings.
In the discharge direction, a top hat-shaped gain distribution is obtained as shown from 23 to 25, and a similar system distribution having different magnitudes when the input power is changed.
When this gain distribution is cut out by an aperture and optically resonated, the gain exceeds the laser oscillation threshold value, and the output beam mode changes from the a-order 29a to the c-order 31c.
As described above, since the distribution of the gain equal to or higher than the laser oscillation threshold has a uniform distribution up to the end in the discharge direction, a relatively high-order beam mode can be obtained.
On the other hand, in the gas flow direction, the electric field strength at the electrode end portion is weaker than that near the center of the electrode, so that the input power contributing to the discharge differs depending on the position, and as shown in FIGS. The distribution is affected by the discharge threshold.
When this gain distribution is cut out by an aperture and optically resonated, the beam mode obtained is changed from e-order 26e to g-order 28g.
Thus, in the gas flow direction, when the input power is reduced, the gain above the laser oscillation threshold greatly differs between the center and the end, so that a relatively low-order beam mode can be obtained.
[0009]
As described above, in the gain distribution formed when the input power is W1, a relatively high-order beam mode can be obtained in both the discharge direction and the gas flow direction. There is no higher-order (a-order ≒ e-order) beam mode, that is, a perfect circular and higher-order beam mode 32ae.
On the other hand, in the gain distribution formed when the input power is W2, the discharge direction is a relatively high-order (b-order) beam mode, but the gas flow direction is a relatively low-order (f-order). Since the beam mode is used, the resulting beam mode is a directional beam mode (order a> f), that is, an elliptical beam mode 33bf that is long in the discharge direction.
In the gain distribution formed when the input power is W3, the discharge direction is a relatively low-order (c-order) beam mode, and the gas flow direction is the lowest-order (g-order) beam mode. Is the same as that in the case of W2, and is a lower (c-order> g-order) beam mode 34cg as a whole compared to W2.
[0010]
As described above, FIG. 2 shows the case where the input power is changed. However, when the electrode width, the gap between the electrodes, the gas composition, the gas pressure, the gas flow rate, and the like are changed, the gains in the discharge direction and the gas flow direction are similarly changed. The distribution changes, and consequently the beam mode changes.
Also, when the reflecting mirror and the aperture related to the optical resonance are changed, the gain extraction region changes, and as a result, the beam mode changes.
The present invention focuses on the fact that a beam mode changes due to a difference in gain distribution, and particularly optimizes an optical resonator including a reflecting mirror and an aperture as means for obtaining a desired beam mode.
[0011]
Embodiment 1 FIG.
In the first embodiment, the above-described principle is applied to a case where a three-axis orthogonal gas laser oscillator outputs a pulse laser having a large peak power and a short pulse width.
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the laser oscillator according to the first embodiment.
In the figure, by supplying power between the electrodes 1, the filled laser gas molecules are excited and discharged 2.
Then, stimulated emission is started by the optical resonator constituted by the partial reflection mirror and the total reflection mirror, the laser light is amplified, and the laser beam 8 is outputted from the partial reflection mirror 4 around the laser beam optical axis 6.
At this time, by restricting the optical resonance region by the aperture 5, a desired beam mode shape, its order, and output are obtained.
The laser gas is circulated by a blower 9 to form a predetermined gas flow 10.
Also, 11 is a gain distribution in the gas flow direction, 12 is a gain distribution in the discharge direction, 14 to 16 are beam modes in the gas flow direction, and 17 to 19 are beam modes in the discharge direction.
Symbols D1 to D4 indicate the aperture diameter of the aperture, and it is assumed that D4>D1>D2> D3.
[0012]
Now, in order to output a pulse laser having a large peak power and a short pulse width, it is necessary to apply a large input power in a short time.
Therefore, the gas pressure must be high, the gas composition must include a large amount of laser medium components, and the gas flow rate must be high, and each is theoretically limited to a certain range. Further, the input power, the gap between the electrodes, and the electrode width have the following restrictions.
Generally, to increase the laser output, it is necessary to increase the discharge area.
The discharge area is determined by gas pressure, gas composition, gas flow rate, input power, gap between electrodes, and electrode width.
In particular, the inter-electrode gap and the electrode width are parameters that spatially limit.
Accordingly, a physically large discharge region cannot be obtained unless the gap between the electrodes and the electrode width are increased. However, in order to increase them, it is necessary to increase the input power.
Regarding the input power, there are restrictions on the production of the power supply due to reasons such as cost and installation area. Therefore, there is a limit in increasing the electrode gap and the electrode width. As a result, in order to obtain a large laser output, it is necessary to maximize the ratio of the optical resonance region to the discharge region.
When configuring a laser oscillator that maximizes the laser output from various restrictions as described above, it may be difficult to form a concentric gain distribution.
[0013]
FIG. 1 shows this state. Since the gain distributions in the discharge direction and the gas flow direction are different from 11 and 12, respectively, the aperture of the aperture has a perfect circular shape and the maximum diameter D1 at which the optical resonance region does not hit the electrode. , The output beam mode is an elliptical mode long in the discharge direction.
In such a case, there is a method of obtaining a perfect circular beam mode by reducing the aperture diameter of the perfect circular aperture to D3 and equalizing the beam modes in the discharge direction and the gas flow direction as 15 and 18. In this method, since the mode volume is greatly reduced, it is difficult to obtain a large peak power.
[0014]
Therefore, in the present embodiment, this problem is solved by making the opening of the aperture an elliptical shape having a short discharge direction.
That is, as described above, in the case of a perfect circular aperture, the discharge direction has a high mode order, so that the optical path capable of optical resonance is reduced by reducing the aperture of the aperture to D2 so as to reduce the mode order, and conversely, the gas flow direction. Since the mode order is relatively low, the aperture of the aperture is widened to D4 so as to increase the mode order.
As a result, the mode orders in the discharge direction and the gas flow direction match, and a concentric beam mode, that is, a perfect circular beam mode is obtained.
In this case, a large peak power is obtained because the mode volume does not decrease so much.
[0015]
Specifically, the relationship between the opening D2 in the discharge direction and the opening D4 in the gas flow direction is set as follows.
First, a gain distribution determined by the gas pressure, the gas composition, the gas flow rate, the input power, the gap between the electrodes, and the electrode width is calculated.
Next, the laser beam mode order obtained by the optical resonator and the aperture is calculated, and the aperture is optimized so that the mode order in the gas flow direction and the discharge direction becomes the same.
At this time, the opening D4 in the gas flow direction is set to be approximately the same as the discharge width, and the opening D2 in the discharge direction is optimized so as to be the same as the mode order in the gas flow direction. And a large laser output can be obtained.
In the laser oscillator constructed in the experiment, the width of D2 was about 0.7 to 0.9 times the width of D4, so that the mode order in the gas flow direction was the same, and a concentric beam mode was obtained.
[0016]
As described above, according to the present invention, in a laser oscillator in which the gain distribution is not concentric, by using an aperture having an elliptical opening with a short discharge direction, the circularity of the beam mode can be reduced without lowering the output. It has the effect of improving.
In the above description, the aperture of the aperture is elliptical. However, the present invention can be applied to an elliptical shape including a straight line in the direction of the major axis. It has the effect of improving.
In the above description, the case where a pulse laser having a large peak power and a short pulse width is output in a three-axis orthogonal gas laser oscillator is applied.However, when the gain distribution is not concentric in other laser oscillators, the gain distribution is considered. By optimizing the optical resonator in this way, there is an effect of improving the roundness of the beam mode without lowering the output.
[0017]
The technique disclosed in the conventional Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-253977 discloses that the projection as viewed from the optical axis cross section is made elliptical by rotating an aperture whose opening is a perfect circle and orthogonal to the resonance optical axis. Is the way.
In this method, when D / w is large, the optical resonance length is short, and the rotation angle needs to be large, a mode bias in the rotation direction occurs.
As a result, it becomes a new cause of deteriorating the axial symmetry of the mode, and it becomes difficult to obtain the concentric beam mode which is the subject of the present invention.
[0018]
Embodiment 2 FIG.
In the first embodiment, the aperture has a fixed shape. However, the aperture may have a variable opening diameter in the discharge direction.
3 and 4 are diagrams according to the second embodiment. FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a laser oscillator according to the second embodiment. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a mechanism of an aperture mounted on the laser oscillator. FIG.
The laser oscillator shown in FIG. 3 is a laser oscillator that outputs a pulse laser having a large peak power and a short pulse width in a three-axis orthogonal gas laser oscillator, as in the first embodiment.
In the figure, 35 is a beam mode in the gas flow direction, 36 to 38 are beam modes in the discharge direction, and 39 to 41 are regions where optical resonance can be performed.
Further, since the difference between FIG. 1 and FIG. 3 is only the shape of the aperture, the gain distribution formed in the laser oscillator of FIG. 3 is the gain distribution 11 formed by the laser oscillator of FIG. Same as 12.
In FIG. 4, reference numeral 42 denotes a shielding object having a perfect circular opening, 43 and 44 denote shielding plates, 45 denotes a driving unit that fixes the shielding plate and drives the Y direction, 46 denotes a base, and 47 denotes a driving unit. The axis of the portion 45, 48 is the center of the opening of the aperture, and 49 and 50 are the central axes centered on 48, respectively.
Symbols Dy and D5 to D7 denote inter-shield plate distances, and h to k denote mode orders, where D5>D6> D7, h>i> j, and i ≒ k.
[0019]
Next, the operation will be described.
As shown in FIG. 4, the aperture according to the present invention restricts a beam mode by a beam shielding structure in which an opening 42 having a perfect circular shape and two shielding plates 43 and 44 are combined. Each of the two sheets has a structure for driving around a center axis 51.
Therefore, by changing the distance Dy between the shielding plates, it is possible to change the region where optical resonance in the Y direction can be performed.
Further, by circulating the cooling water through the base 46, the shield 42 in the aperture passes through the base 46, and the shielding plates 43 and 44 indirectly pass through the drive unit 45 and the base 46, respectively. It has a cooling structure.
[0020]
In FIG. 3, the driving direction of the shield plate of the aperture is used as the discharge direction, and the opening of the shield 42 is formed into a perfect circle of φD5.
ΦD5 is the maximum diameter at which the optical resonance region does not hit the electrode.
First, considering the case where the distance Dy between the shielding plates is D5, the region where optical resonance can occur is a perfect circle 39 of φD5.
Accordingly, the beam mode obtained at this time is the same as the case of D1 shown in the first embodiment, and the discharge direction is a high-order (h-order) mode and the gas flow direction is a low-order (k-order) mode. As a result, an elliptical beam mode having a poor roundness (hth order> kth order) and long in the discharge direction is obtained.
Next, considering the case where the distance Dy between the shielding plates is D6, the area where optical resonance can occur is 40.
Therefore, the mode order in the discharge direction is reduced while keeping the gas flow direction unchanged (i-order <h-order).
Therefore, in the beam mode obtained at this time, the order in the discharge direction and the gas flow direction is substantially equal (i-th order ≒ k-th order), and as a result, the beam mode has good circularity.
Next, assuming that the distance Dy between the shielding plates is D7, the region where optical resonance can occur is 41.
Accordingly, the mode order in the discharge direction is further lower than that in the case of D6 while keeping the gas flow direction as it is (j order << h order).
Therefore, the beam mode obtained at this time has a lower order in the gas flow direction than in the discharge direction (j-order <k-order). As a result, an elliptical beam mode with poor circularity and long in the gas flow direction is obtained. Become.
[0021]
As described above, according to the present invention, in the laser oscillator whose gain distribution is not concentric as described above, by adjusting the interval between the shield plates 43 and 44 driven in the discharge direction, the beam can be reduced without lowering the output. This has the effect of improving the roundness of the mode.
[0022]
Further, the present invention is particularly effective against assembly errors which are problematic in manufacturing.
In the laser oscillator shown in FIG. 3, the electrode width, the gap between the electrodes, the positional relationship between the electrodes, etc., have some assembling errors, each of which affects the gain distribution. different.
Therefore, the present invention has the effect of continuously adjusting the mode order to cancel out the assembly error and to improve the roundness of the beam mode without lowering the output.
[0023]
Further, in the above description, the opening of the shield 42 is a perfect circle, but may be an ellipse.
As an effect, in a laser oscillator whose gain distribution is not concentric as described above, if it is known in advance that the ratio of the minor axis to the major axis is within a certain range of variation, fine adjustment of a difference in gain distribution due to an assembly error is performed. Therefore, there is an effect that the aperture increased by the driving unit can be reduced to the minimum necessary.
[0024]
Embodiment 3 FIG.
In the first and second embodiments, the optimization of the aperture shape has been described. However, the inner surface curvature of the partial reflecting mirror, the total reflecting mirror, or both may be optimized.
5 and 6 are diagrams according to the third embodiment, FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a laser oscillator of the present invention, and FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a structure of a reflecting mirror mounted on the laser oscillator. FIG.
The laser oscillator shown in FIG. 5 is a three-axis orthogonal gas laser oscillator that outputs a pulse laser having a large peak power and a short pulse width, similarly to the first and second embodiments.
In the drawing, reference numeral 51 denotes a beam mode in a gas flow direction, 52 to 54 denote beam modes in a discharge direction, and 55 to 57 denote beam optical paths for optical resonance.
Also, the difference between FIG. 1 and FIG. 5 is only the shape of the reflecting mirror, so that the gain distribution formed in the laser oscillator of FIG. 5 is the gain distribution 11 formed by the laser oscillator of FIG. , 12.
Symbols Ry, R0 to R3 indicate the inner surface curvature of the reflecting mirror, w1 to w3 indicate the beam diameter in the discharge direction on the aperture determined by the reflecting mirror, and l to o indicate the mode orders, respectively, R1 <R2 <R3. , R0 = R1, l>m> n, m ≒ o.
[0025]
The reflecting mirror in the present invention has a shape whose inner surface curvature differs in the X and Y directions as shown in FIG.
In FIG. 5, the gas flow direction is the X direction, the discharge direction is the Y direction, the reflecting mirror 3 has a concentric curvature R0, the inner surface curvature of the reflecting mirror 4 in the X direction is R0, and the inner surface curvature Ry in the Y direction is R1. The operation in the case where R2 and R3 are changed will be described.
However, it is assumed that the aperture of the aperture has a perfect circular shape and has a maximum diameter such that the optical resonance region does not hit the electrode.
[0026]
First, when the inner surface curvature Ry of the reflecting mirror 4 is R1 (same as the inner surface curvature R0 in the X direction), that is, when the reflecting mirror is a concentric reflecting mirror, an optically resonating beam in the discharge direction determined by the reflecting mirrors 3 and 4 is used. The optical path is as shown in FIG.
Accordingly, the beam diameter in the discharge direction on the aperture is w1, and the beam mode obtained at this time is the same as that of D1 shown in the first embodiment, the order of the discharge direction is high (l order), and the gas flow direction is Since the mode is a low-order (o-order) mode, as a result, an elliptical beam mode that is inferior in roundness (1st> o-order) and is long in the discharge direction is obtained.
Next, assuming that the inner surface curvature Ry of the reflecting mirror 4 is R2, the beam optical path for optical resonance in the discharge direction determined by the reflecting mirrors 3 and 4 is as shown in FIG.
Accordingly, the beam diameter in the discharge direction on the aperture is w2 (w2> w1), and D / w is smaller than that in the case of R1, so that the mode order is reduced (m-order <l-order). As a result, the order of the discharge direction and the order of the gas flow become substantially equal (m-order ≒ o-order), so that a beam mode with good circularity is obtained.
Next, assuming that the inner surface curvature Ry of the reflecting mirror 4 is R3, the beam optical path for optical resonance in the discharge direction determined by the reflecting mirrors 3 and 4 is as shown in FIG.
Accordingly, the beam diameter in the discharge direction on the aperture becomes w3 (w3 >> w1), and D / w becomes smaller as compared with the case of R2, so that the mode order further decreases (n-order << l-order). . As a result, an elliptical beam mode that is inferior in circularity (nth order <oth order) and is long in the gas flow direction is obtained.
[0027]
From the above description, the inner surface curvature of the reflecting mirror is set as follows.
First, a gain distribution determined by the gas pressure, the gas composition, the gas flow rate, the input power, the gap between the electrodes, and the electrode width is calculated.
Next, the laser beam mode order obtained by the optical resonator and the aperture is calculated, and the inner surface curvature of the reflecting mirror is optimized so that the mode order in the gas flow direction and the discharge direction becomes the same.
At this time, the inner surface curvature in the gas flow direction is selected so that a desired beam mode order can be obtained in the gas flow direction, and then the inner surface curvature in the discharge direction is optimized so that the mode order is the same. Optimization can be performed efficiently.
[0028]
As described above, according to the present invention, in a laser oscillator having a gain distribution that is not concentric as described above, by mounting a reflecting mirror having different inner surface curvatures in the discharge direction and the gas flow direction, without lowering the output, This has the effect of improving the roundness of the beam mode.
Further, a mechanism having a mechanism for continuously changing the inner surface curvature of the reflecting mirror may be employed.
As an effect, similarly to the second embodiment, the mode order can be continuously adjusted, thereby canceling an assembly error and improving the circularity of the beam mode without lowering the output.
[0029]
【The invention's effect】
As described above, by using the laser oscillator of the present invention, it is possible to improve the roundness of the beam mode, which has not been achieved by the conventional technology.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a laser oscillator according to a first embodiment.
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the principle of the present invention.
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a laser oscillator according to a second embodiment.
FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a structure of an aperture according to a second embodiment.
FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a laser oscillator according to a third embodiment.
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a structure of a reflecting mirror according to a third embodiment.
[Brief description of reference numerals]
1 electrode, 2 excitation discharge, 3 partial reflection mirror, 4 total reflection mirror, 5 aperture, 6 laser beam optical axis, 10 gas flow.

Claims (6)

励起光を増幅するための反射鏡と、レーザの発振モードを規定するアパーチャとにより構成された光共振器を備えたレーザ発振器において、
励起光が光軸に対しゲイン分布の方向性をもつとき、各方向のビームモード次数が同一になるよう上記各方向の上記光共振器の構成部分を最適化したことを特徴とするレーザ発振器。
In a laser oscillator including an optical resonator configured by a reflector for amplifying the pump light and an aperture that defines an oscillation mode of the laser,
A laser oscillator characterized in that, when the pump light has a directionality of a gain distribution with respect to an optical axis, components of the optical resonator in the respective directions are optimized so that the beam mode order in the respective directions is the same.
各方向のビームモード次数を同一にすべく、アパーチャの開口部を楕円形状とする、或いは、反射鏡の内面曲率を各方向により異なる形状とすることを特徴とする請求項1に記載のレーザ発振器。2. The laser oscillator according to claim 1, wherein the aperture of the aperture is made elliptical or the inner surface curvature of the reflecting mirror is made different in each direction so that the beam mode order in each direction is the same. . 所定のガス流をもったレーザ媒質を励起させるための電極と、励起光を増幅するための反射鏡と、レーザの発振モードを規定するアパーチャとを備えたレーザ発振器において、
励起光が光軸に対しゲイン分布の方向性をもつとき、放電方向及びガス流方向のビームモード次数が同一になるよう上記各方向の上記アパーチャの開口比率を最適化していることを特徴とするレーザ発振器。
An electrode for exciting a laser medium having a predetermined gas flow, a reflecting mirror for amplifying the excitation light, and a laser oscillator having an aperture that defines an oscillation mode of the laser,
When the excitation light has the directionality of the gain distribution with respect to the optical axis, the aperture ratio of the aperture in each direction is optimized so that the beam mode orders in the discharge direction and the gas flow direction are the same. Laser oscillator.
アパーチャの開口部を放電方向を短径とする楕円形状にしたことを特徴とする請求項3記載のレーザ発振器。4. The laser oscillator according to claim 3, wherein the aperture of the aperture has an elliptical shape with a short diameter in the discharge direction. 放電方向を短径とした楕円形状は、ガス流方向の径に対して、0.7〜0.9倍程度の幅とすることを特徴とする請求項4に記載のレーザ発振器。5. The laser oscillator according to claim 4, wherein the elliptical shape having a shorter diameter in the discharge direction has a width of about 0.7 to 0.9 times the diameter in the gas flow direction. 6. 遮蔽板を放電方向に光軸を中心として移動させることにより、アパーチャの開口部を可変とすることを特徴とする請求項1乃至3に記載のレーザ発振器。4. The laser oscillator according to claim 1, wherein the opening of the aperture is made variable by moving the shielding plate around the optical axis in the discharge direction.
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