JP2004224591A - Double-pipe type gas discharge reactor - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、二重管型無声放電オゾン発生器等の二重管型放電ガス反応器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、図3に示されるように、二重管型無声放電オゾン発生器等の二重管型放電ガス反応器10は、例えばガラス等の誘電性材料で形成された誘電体層11を設置したステンレス鋼等で形成される円筒形内側電極12の外周に放電ギャップ13を介して、誘電体層11を設置したステンレス鋼等で形成される円筒形外側電極14が同心状に配置し、交流電源15と円筒形内外側電極12、14を接続して構成される。
この二重管型放電ガス反応器10に処理すべきガスを供給するガス供給管16は、前記円筒形内側電極12と円筒形外側電極14との環状の放電ギャップ13の円筒形内側電極12の円周に対して直角方向に取り付けられていた。
【0003】
【特許文献1】
特開平7−33405号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の処理すべきガスのガス供給管16の取り付けでは、供給されるガスが図3のように円筒形内側電極12と円筒形外側電極14との放電ギャップ13である環状空隙内で衝突し、処理ガスの流れが乱流となり、その結果二重管型放電ガス反応器10内での処理ガスの滞留時間が不均一となり、放電エネルギーが十分に与えられないため放電処理効率が低下するという問題があった。
【0005】
処理すべきガスの二重管型放電ガス反応器内での流れをピストンフローにするために、ガス分配器をガスの入口およびまたは出口に設置する方法が提案されている。しかし、この方法では、構造が複雑になり、処理すべきガスの流動抵抗が増加し、且つ制作費も嵩むという問題を有するものであった。
【0006】
本発明は、従来技術の問題点を解消した構造が簡単でコストも安価な二重管型放電ガス反応器を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本第1発明は、上記課題を解決するために、二重管型放電ガス反応器において、ガス供給管からのガス供給方向が二重管の内管の円周の接線方向と一致するように構成したことを特徴とする。
【0008】
本第2発明は、本第1発明の二重管型放電ガス反応器において、誘電性材料で形成される内管及び外管からなる二重管の内管の内周に円筒形内側電極を設置し外管の外周に円筒形外側電極を配置したことを特徴とする。
【0009】
【作用】
ガラス等の誘電性材料で形成された二重管の内管及び外管に設置した円筒形内側電極と円筒形外側電極から構成される放電ガス反応器への処理ガスの供給管を、供給されるガスの導入方向が円筒形内側電極を設置した内管の円周の接線方向になるように取り付けることにより、処理ガスは、円筒形内側電極と円筒形外側電極との間の環状空隙を旋回しながら流れるため、結果として近似的にピストンフローとなり、処理ガスに放電エネルギーが均等に与えられ、放電処理効率がアップし、その結果電力効率もアップする。
【0010】
【発明の実施形態】
本発明の実施形態を図により説明する。
図1、図2に示されるように、二重管型放電ガス反応器1は、ガラス等の誘電製材料で形成された内管2と外管3からなる二重管構造となっている。内管2と外管3の上端とが結合し、内管2と外管3との環状空隙4は閉じた状態とされる。内管2の下端は閉じた状態とされる。外管3の下端にはガス排出管5が設置される。また、外管3の上部には処理ガス供給管6が設置される。
【0011】
内管2の内周には、ステンレス鋼等で形成される円筒形内側電極7が設置される。外管3の外周には、ステンレス鋼等で形成される円筒形外側電極8が設置される。一例としてあげれば、円筒形内側電極7の直径60mm、全長1000mm、円筒形内外側電極7,8間の環状空隙4の間隔(放電ギャップ)は1mmとし、交流電源9と円筒形内外側電極2,3とを接続する。
【0012】
図2に示されるように円筒形外側電極3に設置されるガス供給管6は、その処理ガス供給方向が内管2の円周の接線方向となるように設置される。
【0013】
本発明の二重管型放電ガス反応器1の使用実態を説明する。先ず、ガス供給管6を通して環状空隙4に処理ガスを供給して、環状空隙4に処理ガスを充填する。その後、交流電源9により円筒形内外側電極7,8間に電圧を印加すると無声放電が開始される。処理ガス供給管6からは処理ガスが内管2の円周の接線方向に連続的に供給される。内管2の円周の接線方向に供給された所定圧力の処理ガスは、円筒形内外側電極7,8間の環状空隙4を旋回しながら流れ、環状空間4に充填された処理ガスをピストンフローと近似した流れとしてガス排出管5の方向に流す。本発明の処理ガス供給管6の構成により、環状空隙4内の処理ガスの流れは乱流状態にならず、ピストンフローに近似した流れとなるため、処理ガスに放電エネルギーが均等に与えられ、放電処理効率が上昇し、消費電力効率も上昇する。
本発明の処理ガス供給管6の構成を二重管型無声放電オゾン発生器(シーメンス式オゾナイザ)に適用した結果、従来のものに比較し電力効率が15〜23%上昇した。
【0014】
【発明の効果】
ガラス等の誘電性材料で形成された二重管の内管及び外管に設置した円筒形内側電極と円筒形外側電極から構成される放電ガス反応器への処理ガスの供給管を、供給ガスの導入方向が円筒形内側電極を設置した内管の円周の接線方向になるように取り付けることにより、処理ガスは、円筒形内側電極と円筒形外側電極との間の環状空隙を旋回しながら流れるため、結果として近似的にピストンフローとなり、処理ガスに放電エネルギーが均等に与えられ、放電処理効率がアップし、その結果電力効率もアップする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示す正面図。
【図2】本発明の一実施形態の一部断面図。
【図3】従来例を示す一部断面図。
【符号の説明】
1:二重管型放電ガス反応器
2:内管
3:外管
4:環状空隙
5:ガス排出管
6:ガス供給管
7:円筒形内側電極
8:円筒形外側電極
9:交流電源
10:二重管型放電ガス反応器
11:誘電体層
12:円筒形内側電極
13:放電ギャップ
14:円筒形外側電極
15:交流電源
16:ガス供給管[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a double-tube discharge gas reactor such as a double-tube silent discharge ozone generator.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as shown in FIG. 3, a double-tube
A
[0003]
[Patent Document 1]
JP-A-7-33405
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional installation of the
[0005]
In order to make the flow of the gas to be treated in the double tube discharge gas reactor a piston flow, a method has been proposed in which gas distributors are installed at the gas inlet and / or outlet. However, in this method, the structure becomes complicated, flow resistance of the gas to be treated is increased and also had a problem that the bulk-free and production costs.
[0006]
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a double-tube discharge gas reactor having a simple structure that solves the problems of the prior art and that is inexpensive.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, the first aspect of the present invention provides a double-tube discharge gas reactor in which a gas supply direction from a gas supply tube matches a tangential direction of a circumference of an inner tube of the double tube. It is characterized by comprising.
[0008]
According to a second aspect of the present invention, in the double-tube discharge gas reactor according to the first aspect, a cylindrical inner electrode is provided on the inner periphery of the inner tube of the double tube formed of the dielectric material and the inner tube. It is characterized in that it is installed and a cylindrical outer electrode is arranged on the outer periphery of the outer tube.
[0009]
[Action]
The supply pipe of the processing gas to the discharge gas reactor composed of the cylindrical inner electrode and the cylindrical outer electrode installed on the inner tube and the outer tube of the double tube formed of a dielectric material such as glass is supplied. The processing gas is swirled through the annular gap between the cylindrical inner electrode and the cylindrical outer electrode by mounting the gas so that the gas introduction direction is tangential to the circumference of the inner tube on which the cylindrical inner electrode is installed. As a result, the piston gas flows approximately as a result, the discharge energy is evenly applied to the processing gas, the discharge processing efficiency increases, and as a result, the power efficiency also increases.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
As shown in FIGS. 1 and 2, the double-tube discharge gas reactor 1 has a double-tube structure including an
[0011]
A cylindrical
[0012]
As shown in FIG. 2, the
[0013]
The usage of the double-tube discharge gas reactor 1 of the present invention will be described. First, a processing gas is supplied to the annular gap 4 through the
As a result of applying the configuration of the processing
[0014]
【The invention's effect】
The processing gas supply pipe to the discharge gas reactor consisting of the cylindrical inner electrode and the cylindrical outer electrode installed on the inner and outer pipes of a double pipe made of a dielectric material such as glass The process gas is swirled through the annular gap between the cylindrical inner electrode and the cylindrical outer electrode by mounting so that the introduction direction of the cylindrical inner electrode is tangential to the circumference of the inner tube on which the cylindrical inner electrode is installed. As a result, the flow becomes approximately piston flow, the discharge energy is evenly applied to the processing gas, the discharge processing efficiency increases, and as a result, the power efficiency also increases.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of one embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a partial sectional view showing a conventional example.
[Explanation of symbols]
1: Double tube discharge gas reactor 2: Inner tube 3: Outer tube 4: Annular gap 5: Gas discharge tube 6: Gas supply tube 7: Cylindrical inner electrode 8: Cylindrical outer electrode 9: AC power supply 10: Double tube discharge gas reactor 11: Dielectric layer 12: Cylindrical inner electrode 13: Discharge gap 14: Cylindrical outer electrode 15: AC power supply 16: Gas supply pipe
Claims (2)
Priority Applications (1)
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| JP2003011209A JP2004224591A (en) | 2003-01-20 | 2003-01-20 | Double-pipe type gas discharge reactor |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2003011209A JP2004224591A (en) | 2003-01-20 | 2003-01-20 | Double-pipe type gas discharge reactor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004224591A true JP2004224591A (en) | 2004-08-12 |
Family
ID=32900180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2003011209A Pending JP2004224591A (en) | 2003-01-20 | 2003-01-20 | Double-pipe type gas discharge reactor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004224591A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014173573A1 (en) * | 2013-04-24 | 2014-10-30 | Evonik Degussa Gmbh | Method and device for producing polychlorosilanes |
| US9845248B2 (en) | 2013-04-24 | 2017-12-19 | Evonik Degussa Gmbh | Process and apparatus for preparation of octachlorotrisilane |
-
2003
- 2003-01-20 JP JP2003011209A patent/JP2004224591A/en active Pending
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