JP2004212944A - Radiation-sensitive composition for color filter, color filter, color liquid crystal display device, and method for forming colored layer for color filter - Google Patents
Radiation-sensitive composition for color filter, color filter, color liquid crystal display device, and method for forming colored layer for color filter Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004212944A JP2004212944A JP2003356400A JP2003356400A JP2004212944A JP 2004212944 A JP2004212944 A JP 2004212944A JP 2003356400 A JP2003356400 A JP 2003356400A JP 2003356400 A JP2003356400 A JP 2003356400A JP 2004212944 A JP2004212944 A JP 2004212944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- meth
- weight
- acid
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【課題】 スリットダイコーターによる塗工時に塗布ムラが発生せず、均一な膜厚の着色層を高い製品歩留まりでかつ高効率に形成しうる、カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ用着色層の形成方法を提供する。
【解決手段】 カラーフィルタ用感放射線性組成物は、(A)顔料、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、(D)光ラジカル発生剤および(E)溶媒を含有し、その粘度をA(mPa・s)、その表面張力をB(mN/m)とし、かつ塗工速度をV(m/s)としたとき、(A×V÷B)の値が4.0×10-2未満であることを特徴とし、スリットダイコーターによる塗工に使用される。
カラーフィルタ用着色層の形成方法は、前記組成物を用い、塗工速度が0.07m/s以上0.15m/s以下であることを特徴とする。
【選択図】 なし
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition for a color filter and a color filter for a color filter, which can form a colored layer having a uniform film thickness with high product yield and high efficiency without causing application unevenness during application by a slit die coater. A method for forming a layer is provided.
The radiation-sensitive composition for a color filter contains (A) a pigment, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, (D) a photoradical generator, and (E) a solvent. When the viscosity is A (mPa · s), the surface tension is B (mN / m), and the coating speed is V (m / s), the value of (A × V ÷ B) is 4 It is characterized by being less than 0.0 × 10 -2 , and is used for coating with a slit die coater.
The method for forming a colored layer for a color filter is characterized in that the composition is used and the coating speed is 0.07 m / s or more and 0.15 m / s or less.
[Selection diagram] None
Description
本発明は、カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタ、カラー液晶表示装置およびカラーフィルタ用着色層の形成方法に関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な、スリットダイコーターによる塗工に使用されるカラーフィルタ用感放射線性組成物、当該カラーフィルタ用感放射線性組成物から形成された着色層を有するカラーフィルタ、当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示装置、および当該カラーフィルタ用感放射線性組成物を用いるカラーフィルタ用着色層の形成方法に関する。 The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter, a color filter, a color liquid crystal display device, and a method for forming a color layer for a color filter. More specifically, the present invention relates to a transmission type or reflection type color liquid crystal display device, and a color image pickup tube. Useful for the production of color filters used in devices and the like, radiation-sensitive composition for color filters used for coating with a slit die coater, color having a colored layer formed from the radiation-sensitive composition for color filters The present invention relates to a filter, a color liquid crystal display device including the color filter, and a method for forming a color filter colored layer using the color filter radiation-sensitive composition.
着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、スピンコーターやスリット・スピンコーターによる塗布が一般的であるが、近年被塗工液を高効率で塗工してコスト低減を図る目的で、スピン機構のない塗工機、即ちスリットダイコーターが注目されている。 In producing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, application by a spin coater or a slit / spin coater is generally performed, but in recent years, a coating liquid is applied with high efficiency to reduce costs. For the purpose, a coating machine without a spin mechanism, that is, a slit die coater has been attracting attention.
また近年では、1枚の基板における面取り数を増やすために、基板サイズの大型化が進んでおり、そのため塗工速度を上げてタクトタイムが過大となるのを防止することが必要とされている。 In recent years, in order to increase the number of chamfers on one substrate, the size of the substrate has been increasing, and therefore, it is necessary to increase the coating speed and prevent the tact time from becoming excessive. .
このスリットダイコーターは、例えば非特許文献1や非特許文献2に紹介されているように、塗工方向に直向するスリットノズルを有するスリットダイを備え、該スリットダイあるいは塗工される基板を塗工方向に移動させつつ、該スリットノズルから被塗工液を吐出させて塗工する装置であり、被塗工液を無駄なく基板に塗工でき、スピナー等の回転系塗工機に比べてタクトタイムが短く、使用エネルギーを節減できる等のメリットがあるとされている。
This slit die coater is provided with a slit die having a slit nozzle directed in the coating direction as introduced in Non-Patent Document 1 and Non-Patent
しかし、スリットダイコーターで塗工する際に塗工速度を上げると、従来のカラーフィルター用感放射線性組成物ではスリットノズルからの吐出速度と基板への濡れ性とのバランスが崩れ、塗布ムラが発生するという問題があった。
本発明の目的は、スリットダイコーターで塗工する際に塗布ムラが発生せず、均一な着色層を高い製品歩留まりでかつ高効率に形成しうる、カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ用着色層の形成方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition for a color filter and a color filter, which can form a uniform colored layer with high product yield and high efficiency without causing application unevenness when coating with a slit die coater. It is an object of the present invention to provide a method for forming a colored layer for use. Still other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.
本発明者らは、スリットダイコーターに関する前記問題について鋭意検討を重ねた結果、カラーフィルタの形成に使用される感放射線性組成物の粘度および表面張力と塗工速度から求められる特定のパラメータが塗工性に密接な関係があることを見い出し、本発明を成すに至った。 The present inventors have conducted intensive studies on the above-mentioned problems relating to the slit die coater. As a result, the specific parameters determined from the viscosity and surface tension of the radiation-sensitive composition used for forming the color filter and the coating speed were applied. The inventors have found that there is a close relationship with the workability, and have accomplished the present invention.
本発明によると、本発明の上記目的および利点は、
(A)顔料、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、(D)光ラジカル発生剤および(E)溶媒を含有する感放射線性組成物において、その粘度をA(mPa・s)、その表面張力をB(mN/m)とし、かつ着色層を形成する際の塗工速度をV(m/s)としたとき、式(A×V÷B)で求められる値が4.0×10-2未満であることを特徴とする、スリットダイコーターによる塗工に使用されるカラーフィルタ用感放射線性組成物によって達成される。
According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are:
In a radiation-sensitive composition containing (A) a pigment, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, (D) a photoradical generator, and (E) a solvent, the viscosity is defined as A (mPa S), when the surface tension is B (mN / m) and the coating speed for forming the colored layer is V (m / s), the value obtained by the formula (A × V ÷ B) Is less than 4.0 × 10 -2, which is achieved by a radiation-sensitive composition for a color filter used for coating with a slit die coater.
なお、本発明でいう「放射線」は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を含むものを意味する。 The term “radiation” as used in the present invention means those including visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray and the like.
本発明によると、前記課題は、第二に、
前記カラーフィルタ用感放射線性組成物を用いて基板上に着色層を形成する方法であって、当該感放射線性組成物の塗工速度が0.07m/s以上であることを特徴とする、スリットダイコーターによるカラーフィルタ用着色層の形成方法、
によって達成される。
According to the present invention, the problem is, secondly,
A method for forming a colored layer on a substrate using the radiation-sensitive composition for a color filter, wherein a coating speed of the radiation-sensitive composition is 0.07 m / s or more. Method for forming a color layer for a color filter by a slit die coater,
Achieved by
本発明によると、スリットダイコーターによる塗工時に塗布ムラが発生せず、均一な膜厚のカラーフィルタ用着色層を高い製品歩留まりでかつ高効率に形成することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating nonuniformity does not generate | occur | produce at the time of application | coating by a slit die coater, and the coloring layer for color filters of a uniform film thickness can be formed with high product yield and high efficiency.
したがって、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ用着色層の形成方法は、電子工業分野におけるカラー液晶表示装置用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの形成に極めて好適に使用することができる。 Therefore, the radiation-sensitive composition for a color filter and the method for forming a color layer for a color filter of the present invention are extremely suitably used for forming various color filters including a color filter for a color liquid crystal display device in the field of electronics. can do.
以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
カラーフィルタ用感放射線性組成物
−(A)顔料−
本発明における顔料としては、カラーフィルタには高純度で高透過性の発色と耐熱性が求められることから、有機顔料が好ましい。
Radiation-sensitive composition for color filter- (A) pigment-
As the pigment in the present invention, an organic pigment is preferable because a color filter is required to have high purity and high transmittance coloration and heat resistance.
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists 社発行)においてピグメントに分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることができる。
C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー211;
C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ71;
C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド97、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド208、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド254;
C.I.ピグメントバイオレット19、ピグメントバイオレット23、ピグメントバイオレット29;
C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン136、C.I.ピグメントグリーン210;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
これらの有機顔料は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
As the organic pigment, for example, a compound classified as a pigment in a color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), specifically, a color index (CI) number as shown below is attached. Can be mentioned.
CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 168, CI Pigment Yellow 211;
CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 71;
CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 254;
CI Pigment Violet 19, Pigment Violet 23, Pigment Violet 29;
CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6,
CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36, CI Pigment Green 136, CI Pigment Green 210;
CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25;
These organic pigments can be used alone or in combination of two or more.
本発明において、有機顔料は、再結晶法、再沈殿法、溶剤洗浄法、昇華法、真空加熱法や、これらの組み合わせにより精製して使用することもできる。 In the present invention, the organic pigment can be purified and used by a recrystallization method, a reprecipitation method, a solvent washing method, a sublimation method, a vacuum heating method, or a combination thereof.
また、無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。 Examples of inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red iron oxide (III), cadmium red, ultramarine blue, navy blue, and chromium oxide green. , Cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black and the like.
これらの無機顔料は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 These inorganic pigments can be used alone or in combination of two or more.
さらに、本発明においては、場合により、前記顔料と共に、染料や天然色素を1種以上併用することもできる。 Further, in the present invention, one or more dyes and natural pigments may be used in combination with the pigment, as the case requires.
本発明において、顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば、特許文献1に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。
また、本発明において、顔料は、所望により、分散剤と共に使用することができる。 In the present invention, the pigment can be used together with a dispersant, if desired.
前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。 Examples of the dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone-based, and fluorine-based surfactants.
前記界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンn−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチレンイミン類のほか、以下商品名で、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)、Disperbyk(ビックケミー・ジャパン(株)製)、ソルスパース(セネカ(株)製)等を挙げることができる。 Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene n-octylphenyl ether, polyoxyethylene n-nonyl Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-top (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), Megaf (Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Florard (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahiguard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Disperbyk (manufactured by Big Chemie Japan KK), Solsperse (Manufactured by Seneca Corporation).
これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 These surfactants can be used alone or in combination of two or more.
分散剤の使用量は、顔料100重量部に対して、好ましくは、50重量部以下、より好ましくは30重量部以下である。 The amount of the dispersant used is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 30 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the pigment.
−(B)アルカリ可溶性樹脂−
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、(A)顔料に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可溶性を有するものである。特に限定されるものではないが、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、1個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。)と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体(以下、「共重合性不飽和単量体」という。)との共重合体(以下、「カルボキシル基含有共重合体」という。)が好ましい。
-(B) Alkali-soluble resin-
As the alkali-soluble resin in the present invention, (A) a developer which acts as a binder for the pigment and which is used in a developing step of producing a color filter, particularly preferably a soluble in an alkali developer It has. Although not particularly limited, an alkali-soluble resin having a carboxyl group is preferable, and in particular, an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups (hereinafter, referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) ) And another copolymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter, referred to as “copolymerizable unsaturated monomer”) (hereinafter, referred to as “carboxyl group-containing copolymer”). Is preferred.
カルボキシル基含有不飽和単量体の例としては、
(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類;
3価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類;
こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕等の2価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロキシアルキル〕エステル類;
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート類
等を挙げることができる。
Examples of carboxyl group-containing unsaturated monomers include:
Unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid;
Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid and anhydrides thereof;
Trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids or anhydrides thereof;
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of divalent or higher polycarboxylic acid such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] phthalate Esters;
Examples thereof include polymer mono (meth) acrylates having a carboxy group and a hydroxyl group at both terminals, such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.
これらのカルボキシル基含有不飽和単量体のうち、こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)およびフタル酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)は、それぞれM−5300およびM−5400(東亞合成(株)製)の商品名で市販されている。 Of these carboxyl group-containing unsaturated monomers, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate and mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate are M-5300 and M-5400 (Toagosei Co., Ltd., respectively). Co., Ltd.).
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The unsaturated monomers containing a carboxyl group may be used alone or in combination of two or more.
また、共重合性不飽和単量体としては、例えば、
スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−クロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物;
Further, as the copolymerizable unsaturated monomer, for example,
Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m Aromatic vinyl compounds such as -vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether;
インデン、1−メチルインデン等のインデン類;
(メタ)メチルアクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングルコール(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類;
Indenes such as indene and 1-methylindene;
(Meth) methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate Rate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8-yl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, etc. Saturated carboxylic esters;
2−アミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;
グリシジル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;
2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 3-dimethyl Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminopropyl (meth) acrylate;
Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate; vinyl carboxylic acid esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類;
(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;
(メタ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の不飽和アミド類;
マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;
Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;
Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;
Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;
Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide;
1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類;
ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー類等を挙げることができる。
Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;
Macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the terminal of a polymer molecular chain, such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane, can be mentioned.
これらの共重合性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 These copolymerizable unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.
本発明におけるカルボキシル基含有共重合体としては、(メタ)アクリル酸を必須成分とし、場合により、こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕およびω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種の化合物をさらに含有するカルボキシル基含有不飽和単量体成分と、スチレン、メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、N−フェニルマレイミド、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも1種との共重合体が好ましい。 As the carboxyl group-containing copolymer in the present invention, (meth) acrylic acid is an essential component, and in some cases, mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate And a carboxyl group-containing unsaturated monomer component further containing at least one compound selected from the group consisting of styrene, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and benzyl ( A copolymer with at least one selected from the group consisting of (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethyl methacrylate macromonomer is preferable.
このような共重合体の具体例としては、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
メタクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/スチレン/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体
(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体等を挙げることができる。
Specific examples of such a copolymer include:
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
Methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,
(Meth) acrylic acid / monosuccinic acid [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer; (meth) acrylic acid / monosuccinic acid [2- ( (Meth) acryloyloxyethyl] / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer Coalescing,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer.
カルボキシル基含有共重合体におけるカルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、好ましくは、5〜50重量%、より好ましくは10〜40重量%である。この場合、前記共重合割合が5重量%未満では、得られる感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方50重量%を超えると、アルカリ現像液に対する溶解性が過大となり、アルカリ現像液により現像する際に、着色層の基板からの脱落や画素表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。 The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight. In this case, if the copolymerization ratio is less than 5% by weight, the solubility of the obtained radiation-sensitive composition in an alkali developer tends to decrease, while if it exceeds 50% by weight, the solubility in an alkali developer becomes poor. When developed with an alkali developer, the coloring layer tends to drop off from the substrate and the pixel surface tends to be rough.
アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好ましくは、3,000〜100,000、より好ましくは5,000〜50,000である。 The weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter referred to as “Mw”) of the alkali-soluble resin measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000.
また、アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC、溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算数平均分子量(以下、「Mn」という。)は、好ましくは、1,000〜40,000、より好ましくは2,000〜20,000である。 Further, the number average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter, referred to as “Mn”) measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin is preferably from 1,000 to 40,000. Preferably it is 2,000-20,000.
また、アルカリ可溶性樹脂のMwとMnの比(Mw/Mn)は、好ましくは1〜5、さらに好ましくは1〜4である。 The ratio (Mw / Mn) of Mw to Mn of the alkali-soluble resin is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4.
本発明においては、このような特定のMwおよびMnを有するアルカリ可溶性樹脂を使用することによって、現像性に優れた感放射線性組成物が得られ、それにより、シャープなパターンエッジを有する画素パターンを形成することができるとともに、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣、地汚れ、膜残り等が発生し難くなる。 In the present invention, by using such an alkali-soluble resin having specific Mw and Mn, a radiation-sensitive composition excellent in developability is obtained, whereby a pixel pattern having a sharp pattern edge can be formed. In addition to the formation, residue, background stain, film residue, and the like hardly occur on the unexposed portion of the substrate and the light shielding layer during development.
本発明において、(B)アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 In the present invention, the alkali-soluble resin (B) can be used alone or in combination of two or more.
本発明における(B)アルカリ可溶性樹脂の使用量は、(A)顔料100重量部に対して、好ましくは、10〜1,000重量部、より好ましくは20〜500重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が10重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方1,000重量部を超えると、相対的に顔料濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となる場合がある。
−(C)多官能性単量体−
本発明における多官能性単量体は、2個以上の重合性不飽和結合を有する単量体である。
The amount of the (B) alkali-soluble resin used in the present invention is preferably 10 to 1,000 parts by weight, more preferably 20 to 500 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (A) pigment. In this case, if the amount of the alkali-soluble resin used is less than 10 parts by weight, for example, alkali developability may be reduced, or background contamination or a film residue may be generated on a substrate or a light shielding layer in an unexposed portion. If the amount exceeds 1,000 parts by weight, the pigment concentration is relatively reduced, so that it may be difficult to achieve a target color density as a thin film.
-(C) polyfunctional monomer-
The polyfunctional monomer in the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.
このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそのジカルボン酸変性物;
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ(メタ)アクリレート類;
両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート類や、
トリス〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。
Examples of such polyfunctional monomers include, for example,
Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;
Di (meth) acrylates of polyalkylene glycol such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;
Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol, and dicarboxylic acid-modified products thereof;
Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin and spirane resin;
Di (meth) acrylates of hydroxyl-terminated polymers such as hydroxyl-terminated hydroxy poly-1,3-butadiene, hydroxyl-terminated polyisoprene, hydroxyl-terminated hydroxypolycaprolactone;
Tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate and the like can be mentioned.
これらの多官能性単量体のうち、3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、着色層の強度および表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。 Among these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and modified products of dicarboxylic acids, specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri ( Preferred are meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like, particularly trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. Acrylate is preferred because it has excellent strength and surface smoothness of the colored layer, and hardly causes background stain, film residue, and the like on the unexposed portion of the substrate and the light-shielding layer.
前記多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The polyfunctional monomers may be used alone or in combination of two or more.
本発明における多官能性単量体の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは、50〜200重量部、より好ましくは75〜150重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が50重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方200重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。 The amount of the polyfunctional monomer used in the present invention is preferably 50 to 200 parts by weight, more preferably 75 to 150 parts by weight, based on 100 parts by weight of the alkali-soluble resin (B). In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than 50 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tend to decrease, while if it exceeds 200 parts by weight, for example, alkali developability decreases. In addition, background contamination, film residue, and the like tend to easily occur on the unexposed portion of the substrate or the light-shielding layer.
また、本発明においては、多官能性単量体の一部を、重合性不飽和結合を1個有する単官能性単量体に置き換えることもできる。 In the present invention, a part of the polyfunctional monomer may be replaced with a monofunctional monomer having one polymerizable unsaturated bond.
前記単官能性単量体としては、例えば、(B)アルカリ可溶性樹脂について例示したカルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量体と同様の単量体や、N−(メタ)アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−ε−カプロラクタムのほか、市販品として、M−5300、M−5400、M−5600(商品名、東亞合成(株)製)等を挙げることができる。 Examples of the monofunctional monomer include, for example, the same monomers as the carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer exemplified for the alkali-soluble resin (B), and N- (meta- ) Acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, and as commercial products, M-5300, M-5400, M-5600 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like. Can be.
これらの単官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体との合計量に対して、好ましくは50重量%以下、より好ましくは20重量%以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が50重量%を超えると、着色層の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがある。 The proportion of the monofunctional monomer used is preferably 50% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, based on the total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of the monofunctional monomer exceeds 50% by weight, the strength and the surface smoothness of the colored layer may be insufficient.
また、本発明における多官能性単量体と単官能性単量体との合計使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは50〜300重量部、より好ましくは75〜180重量部である。この場合、前記合計使用量が50重量部未満では、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方300重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる場合がある。 In the present invention, the total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer is preferably 50 to 300 parts by weight, more preferably 75 to 100 parts by weight of (B) the alkali-soluble resin. 180180 parts by weight. In this case, if the total amount is less than 50 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tend to decrease, while if it exceeds 300 parts by weight, for example, alkali developability decreases or unexposed parts In some cases, background dirt, film residue, and the like easily occur on the substrate or the light-shielding layer.
−(D)光ラジカル発生剤−
本発明における光ラジカル発生剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の露光により、前記(C)多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうるラジカルを発生することができる化合物である。
-(D) Photo-radical generator-
The photo-radical generator in the present invention is obtained by exposing the (C) polyfunctional monomer and optionally a monofunctional monomer by exposure to visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray or the like. A compound capable of generating a radical capable of initiating polymerization.
このような光ラジカル発生剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物等を挙げることができる。 Such photo-radical generators include, for example, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds And the like.
本発明において、光ラジカル発生剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができるが、本発明における光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物およびトリアジン系化合物の群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。 In the present invention, the photoradical generator may be used alone or as a mixture of two or more kinds. Examples of the photoradical generator in the present invention include acetophenone-based compounds, biimidazole-based compounds and triazine-based compounds. At least one member selected from the group is preferable.
本発明における好ましい光ラジカル発生剤のうち、アセトフェノン系化合物の具体例としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン等を挙げることができる。 Among the preferred photoradical generators in the present invention, specific examples of acetophenone-based compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl)-. 2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane -1-one and the like.
これらのアセトフェノン系化合物のうち、特に、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1等が好ましい。 Among these acetophenone-based compounds, in particular, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone -1 and the like are preferable.
前記アセトフェノン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The acetophenone-based compounds can be used alone or in combination of two or more.
本発明において、光ラジカル発生剤としてアセトフェノン系化合物を使用する場合の使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、5〜80重量部、より好ましくは10〜60重量部、さらに好ましくは20〜50重量部である。この場合、アセトフェノン系化合物の使用量が5重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された画素アレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方80重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In the present invention, when the acetophenone-based compound is used as the photoradical generator, the amount used is 5 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (C) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. Parts by weight, more preferably 10 to 60 parts by weight, even more preferably 20 to 50 parts by weight. In this case, if the amount of the acetophenone-based compound is less than 5 parts by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which pixel patterns are arranged according to a predetermined arrangement. If it exceeds the portion, the formed colored layer tends to fall off the substrate during development.
また、ビイミダゾール系化合物の具体例としては、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
Further, specific examples of the biimidazole compound include:
2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl ) -4,4 ', 5,5'-Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole,2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2 '-Bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4 -Dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4', 5 , 5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole.
これらのビイミダゾール系化合物のうち、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等がさらに好ましく、特に2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましい。 Among these biimidazole compounds, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and 2,2′-bis (2 , 4-Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like are more preferred, and in particular, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2. '-Bimidazole is preferred.
前記ビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、未露光部で硬化反応が生じることがないため、露光後の塗膜は、現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、それにより、アンダーカットのない画素パターンが所定の配列に従って配置された高精細な画素アレイを形成することができる。 The biimidazole-based compound is excellent in solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates, and has high sensitivity. Since the curing reaction does not occur in the part, the exposed coating film is clearly divided into a cured part insoluble in the developer and an uncured part having a high solubility in the developer. Accordingly, a high-definition pixel array in which pixel patterns without undercuts are arranged according to a predetermined arrangement can be formed.
前記ビイミダゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The biimidazole compounds can be used alone or in combination of two or more.
本発明において、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を使用する場合の使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、好ましくは0.1〜40重量部、より好ましくは0.1〜30重量部、さらに好ましくは0.1〜20重量部である。この場合、ビイミダゾール系化合物の使用量が0.1重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された画素アレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方40重量部を超えると、現像する際に、形成された着色層が基板から脱落しやすくなる傾向がある。
−水素供与体−
本発明においては、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
In the present invention, when a biimidazole-based compound is used as the photoradical generator, the amount used is preferably based on 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer (C) and the monofunctional monomer. 0.1 to 40 parts by weight, more preferably 0.1 to 30 parts by weight, still more preferably 0.1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the biimidazole-based compound used is less than 0.1 part by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, On the other hand, if it exceeds 40 parts by weight, the formed colored layer tends to fall off the substrate during development.
-Hydrogen donor-
In the present invention, when a biimidazole-based compound is used as the photoradical generator, it is preferable to use a hydrogen donor described below in combination, since the sensitivity can be further improved.
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。 The term "hydrogen donor" as used herein means a compound capable of donating a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound upon exposure.
本発明における水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。 As the hydrogen donor in the present invention, a mercaptan compound, an amine compound and the like defined below are preferable.
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「メルカプタン系水素供与体」という。)からなる。 The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, referred to as “ Mercaptan hydrogen donor ”).
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「アミン系水素供与体」という。)からなる。 Further, the amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, referred to as a compound). , "Amine-based hydrogen donor").
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。 In addition, these hydrogen donors can have a mercapto group and an amino group simultaneously.
以下、これらの水素供与体について、より具体的に説明する。 Hereinafter, these hydrogen donors will be described more specifically.
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。 The mercaptan-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocycles, and can have both benzene rings and heterocycles. It may or may not be formed.
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を2個以上有する場合、少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の1個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、2個の硫黄原子がアルキレン基等の2価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは2個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。 When the mercaptan-based hydrogen donor has two or more mercapto groups, one or more of the remaining mercapto groups is substituted with an alkyl, aralkyl, or aryl group as long as at least one free mercapto group remains. As long as at least one free mercapto group remains, a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms It may have structural units linked in the form of disulfides.
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。 Further, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted at a site other than the mercapto group with a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like.
このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−2,5−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。 Specific examples of such mercaptan-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto- 2,5-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned.
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール等が好ましく、特に2−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。 Among these mercaptan hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and the like are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.
次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。 Next, the amine-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or one or more heterocycles, or can have both a benzene ring and a heterocycle, and when it has two or more of these rings, A condensed ring may or may not be formed.
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の1個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。 In the amine hydrogen donor, one or more of the amino groups may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group, and a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxy It may be substituted by a carbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group or the like.
このようなアミン系水素供与体の具体例としては、4、4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。 Specific examples of such an amine hydrogen donor include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, Examples thereof include ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, and 4-dimethylaminobenzonitrile.
これらのアミン系水素供与体のうち、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が好ましく、特に4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。 Among these amine hydrogen donors, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and the like are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.
アミン系水素供与体は、ビイミダゾール系化合物以外の光重合開始剤の場合においても、増感剤としての作用を有するものである。 The amine-based hydrogen donor has a function as a sensitizer even in the case of a photopolymerization initiator other than the biimidazole-based compound.
本発明において、水素供与体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができるが、1種以上のメルカプタン系水素供与体と1種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された着色層が現像時に基板から脱落し難く、また着色層の強度および感度も高い点で好ましい。 In the present invention, the hydrogen donors can be used alone or as a mixture of two or more. However, the hydrogen donors may be used in combination with one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors. This is preferred because the formed colored layer hardly falls off the substrate during development, and the strength and sensitivity of the colored layer are high.
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせの具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等であり、特に好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである。 Specific examples of the combination of a mercaptan-based hydrogen donor and an amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (Diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and the like can be mentioned, and a more preferred combination is , 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc., and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothione. Is a tetrazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、1:1〜1:4、好ましくは1:1〜1:3である。 The weight ratio of the mercaptan hydrogen donor to the amine hydrogen donor in the combination of the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor is usually 1: 1 to 1: 4, preferably 1: 1 to 1: 4. 3.
本発明において、水素供与体をビイミダゾール系化合物と併用する場合の使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、好ましくは0.1〜30重量部、さらに好ましくは0.1〜20重量部、特に好ましくは0.1〜10重量部である。この場合、水素供与体の使用量が0.1重量部未満であると、感度の改良効果が低下する傾向があり、一方30重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In the present invention, when the hydrogen donor is used in combination with the biimidazole compound, the amount of the hydrogen donor is preferably 0 to 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer (C) and the monofunctional monomer. 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 10 parts by weight. In this case, if the amount of the hydrogen donor is less than 0.1 part by weight, the effect of improving sensitivity tends to decrease, while if it exceeds 30 parts by weight, the formed colored layer falls off the substrate during development. Tend to be easier.
また、前記トリアジン系化合物の具体例としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。 Specific examples of the triazine-based compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2 -(5-Methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxy) Phenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-E Triazine-based compounds having a halomethyl group such as (xystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine Can be mentioned.
これらのトリアジン系化合物のうち、特に2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンが好ましい。 Among these triazine compounds, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine is particularly preferred.
前記トリアジン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The triazine compounds can be used alone or in combination of two or more.
本発明において、光ラジカル発生剤としてトリアジン系化合物を使用する場合の使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、好ましくは1〜40重量部、さらに好ましくは1〜30重量部、特に好ましくは1〜20重量部である。この場合、トリアジン系化合物の使用量が1重量部未満であると、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された画素アレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方40重量部を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In the present invention, when a triazine-based compound is used as a photoradical generator, the amount used is preferably 1 part by weight based on 100 parts by weight of the total of (C) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. The amount is from 40 to 40 parts by weight, more preferably from 1 to 30 parts by weight, particularly preferably from 1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the triazine-based compound is less than 1 part by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel array in which pixel patterns are arranged according to a predetermined arrangement. If it exceeds 40 parts by weight, the formed colored layer tends to fall off the substrate during development.
−添加剤−
本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物には、必要に応じて種々の添加剤を配合することもできる。
-Additive-
The radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention may contain various additives as necessary.
前記添加剤としては、感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解特性をより改善し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用等を示す、有機酸または有機アミノ化合物(但し、前記水素供与体を除く。)を挙げることができる。 As the additive, an organic acid or an organic amino compound (provided that the action of further improving the solubility of the radiation-sensitive composition in an alkaline developer and suppressing the remaining undissolved material after development, etc.) Excluding the hydrogen donor).
前記有機酸としては、分子中に1個以上のカルボキシル基を有する、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。 As the organic acid, an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid having one or more carboxyl groups in a molecule is preferable.
前記脂肪族カルボン酸の例としては、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸類;
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等の脂肪族ジカルボン酸類;
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸類等を挙げることができる。
Examples of the aliphatic carboxylic acid include:
Aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid;
Oxalic, malonic, succinic, glutaric, adipic, pimelic, suberic, azelaic, sebacic, brasilic, methylmalonic, ethylmalonic, dimethylmalonic, methylsuccinic, tetramethylsuccinic Aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid and mesaconic acid;
Examples include aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid.
また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した化合物や、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。 Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include a compound in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group and a compound in which a carboxyl group is bonded to a phenyl group via a carbon chain.
フェニル基含有カルボン酸の例としては、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類;
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類;
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の3価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸等を挙げることができる。
Examples of phenyl group-containing carboxylic acids include
Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid and mesitylene acid;
Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid;
Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melophanic acid, and pyromellitic acid,
Examples include phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidenic acid, coumaric acid, and umbellic acid.
これらの有機酸のうち、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸類が好ましく、特に、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等が好ましく、またフェニル基含有カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸類が好ましく、特にフタル酸が好ましい。 Among these organic acids, from the viewpoints of alkali solubility, solubility in a solvent described below, prevention of background fouling and film residue on a substrate or a light-shielding layer in an unexposed portion, an aliphatic carboxylic acid is an aliphatic carboxylic acid. Dicarboxylic acids are preferred, and malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are particularly preferred. As the phenyl group-containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acids are preferred, and phthalic acid is particularly preferred.
前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The organic acids can be used alone or in combination of two or more.
有機酸の配合量は、(A)〜(D)の各成分および添加剤の合計100重量部に対して、通常、15重量部以下、好ましくは10重量部以下である。この場合、有機酸の配合量が15重量部を超えると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。 The compounding amount of the organic acid is usually 15 parts by weight or less, preferably 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of each of the components (A) to (D) and the additive. In this case, if the amount of the organic acid exceeds 15 parts by weight, the adhesion of the formed colored layer to the substrate tends to decrease.
また、前記有機アミノ化合物としては、分子中に1個以上のアミノ基を有する、脂肪族アミンあるいはフェニル基含有アミンが好ましい。 The organic amino compound is preferably an aliphatic amine or a phenyl group-containing amine having one or more amino groups in the molecule.
前記脂肪族アミンの例としては、
n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチルアミン、i−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、t−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン等のモノ(シクロ)アルキルアミン類;
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルn−プロピルアミン、エチルn−プロピルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−i−プロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−i−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミン等のジ(シクロ)アルキルアミン類;
ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルn−プロピルアミン、ジエチルn−プロピルアミン、メチルジ−n−プロピルアミン、エチルジ−n−プロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリ−i−ブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン、トリ−t−ブチルアミン等のトリ(シクロ)アルキルアミン類;
2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール等のモノ(シクロ)アルカノールアミン類;
ジエタノールアミン、ジ−n−プロパノールアミン、ジ−i−プロパノールアミン、ジ−n−ブタノールアミン、ジ−i−ブタノールアミン等のジ(シクロ)アルカノールアミン類;
トリエタノールアミン、トリ−n−プロパノールアミン、トリ−i−プロパノールアミン、トリ−n−ブタノールアミン、トリ−i−ブタノールアミン等のトリ(シクロ)アルカノールアミン類;
Examples of the aliphatic amine include:
mono (cyclo) alkylamines such as n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine;
Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di-sec-butylamine, di- Di (cyclo) alkylamines such as -t-butylamine;
Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyln-propylamine, diethyln-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri-i-propylamine, tri- tri (cyclo) alkylamines such as n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine and tri-t-butylamine;
Mono (cyclo) alkanolamines such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol and 4-amino-1-butanol;
Di (cyclo) alkanolamines such as diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine and di-i-butanolamine;
Tri (cyclo) alkanolamines such as triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine and tri-i-butanolamine;
3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−1,2−ブタンジオール、4−アミノ−1,3−ブタンジオール、3−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオール、2−ジメチルアミノ−1,3−プロパンジオール、2−ジエチルアミノ−1,3−プロパンジオール等のアミノ(シクロ)アルカンジオール類;
β−アラニン、2−アミノ酪酸、3−アミノ酪酸、4−アミノ酪酸、2−アミノイソ酪酸、3−アミノイソ酪酸等のアミノカルボン酸類
等を挙げることができる。
3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1 Amino (cyclo) alkanediols such as 2,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol;
Examples thereof include aminocarboxylic acids such as β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, and 3-aminoisobutyric acid.
また、フェニル基含有アミンとしては、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。 Examples of the phenyl group-containing amine include a compound in which an amino group is directly bonded to a phenyl group, a compound in which an amino group is bonded to a phenyl group via a carbon chain, and the like.
フェニル基含有アミンの例としては、
アニリン、o−メチルアニリン、m−メチルアニリン、p−メチルアニリン、p―エチルアニリン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−メチル−N,N−ジメチルアニリン等の芳香族アミン類;
o−アミノベンジルアルコール、m−アミノベンジルアルコール、p−アミノベンジルアルコール、p−ジメチルアミノベンジルアルコール、p−ジエチルアミノベンジルアルコール等のアミノベンジルアルコール類;
o−アミノフェノール、m―アミノフェノール、p―アミノフェノール、p−ジメチルアミノフェノール、p−ジエチルアミノフェノール等のアミノフェノール類;
m−アミノ安息香酸、p―アミノ安息香酸、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ安息香酸等のアミノ安息香酸類
等を挙げることができる。
Examples of phenyl group-containing amines include:
Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, Aromatic amines such as N-dimethylaniline;
aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol;
aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol;
Examples thereof include aminobenzoic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid.
これらの有機アミノ化合物のうち、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族アミンとしては、モノ(シクロ)アルカノールアミン類およびアミノ(シクロ)アルカンジオール類が好ましく、特に、2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、5−アミノ−1−ペンタノール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1、3−プロパンジオール、4−アミノ−1、2−ブタンジオール等が好ましく、またフェニル基含有アミンとしては、アミノフェノール類が好ましく、特に、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール等が好ましい。 Of these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamines are preferred as aliphatic amines from the viewpoints of solubility in a solvent described below, prevention of background contamination and film residue on the unexposed portion of the substrate or light-shielding layer, and the like. And amino (cyclo) alkanediols are preferred, especially 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino -1,3-propanediol, 4-amino-1, 2-butanediol and the like are preferable, and as the phenyl group-containing amine, aminophenols are preferable. In particular, o-aminophenol, m-aminophenol, p- Aminophenol and the like are preferred.
前記有機アミノ化合物は、単独でまたは2種以上混合して使用することができる。 The organic amino compounds can be used alone or in combination of two or more.
有機アミノ化合物の配合量は、(A)〜(D)成分および添加剤の合計100重量部に対して、通常、15重量部以下、好ましくは10重量部以下である。この場合、有機アミノ化合物の配合量が15重量部を超えると、形成された着色層の基板との密着性が低下する傾向がある。 The compounding amount of the organic amino compound is usually 15 parts by weight or less, preferably 10 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total of the components (A) to (D) and the additives. In this case, if the amount of the organic amino compound exceeds 15 parts by weight, the adhesion of the formed colored layer to the substrate tends to decrease.
また、その他の添加剤としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤;
ガラス、アルミナ等の充填剤;
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ(フロロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤;
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピル・メチル・ジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピル・メチル・ジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピル・メチル・ジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;
2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;
2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;
1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2−フェニルアゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル等の熱ラジカル発生剤
等を挙げることができる。
Also, as other additives, for example,
A dispersing aid such as a blue pigment derivative or a yellow pigment derivative such as a copper phthalocyanine derivative;
Fillers such as glass and alumina;
High molecular compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, poly (fluoroalkyl acrylate);
Surfactants such as nonionic, cationic and anionic surfactants;
Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-amino Propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, An adhesion promoter such as 3-chloropropyl-methyl-dimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane;
Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol;
UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;
Anticoagulant such as sodium polyacrylate;
Examples thereof include thermal radical generators such as 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile.
−(E)溶媒−
本発明における溶媒としては、感放射線性組成物を構成する(A)〜(D)成分や添加剤を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
-(E) Solvent-
The solvent in the present invention disperses or dissolves the components (A) to (D) and additives constituting the radiation-sensitive composition, does not react with these components, and has appropriate volatility. As long as it can be selected and used as appropriate.
このような溶媒としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
Examples of such a solvent include, for example,
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n- Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene Propylene glycol mono Chirueteru, dipropylene glycol mono -n- propyl ether, dipropylene glycol mono -n- butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ether;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類;
(Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol Other ethers such as dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, 2-heptanone, 3-heptanone and cyclohexanone;
2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類
等を挙げることができる。
Alkyl lactates such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxyacetate Methyl-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-acetic acid -Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate , N-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, acetoacetate Le, other esters such as ethyl 2-oxobutanoate;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and the like can be mentioned.
これらの溶媒のうち、溶解性、顔料の分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、シクロヘキサノン、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましく、さらに好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノン等である。 Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl Ethyl ether, 2-heptanone, 3-heptanone, cyclohexanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl -3-methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-propionate Butyl, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like are more preferable, and propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, ethyl 3-ethoxypropionate, and 3-methoxybutyl acetate are more preferable. And cyclohexanone.
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The solvents may be used alone or in combination of two or more.
また、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。 Further, with the solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate And high boiling solvents such as diethyl maleate, [gamma] -butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate.
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 These high-boiling solvents can be used alone or in combination of two or more.
溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、好ましくは、5〜30重量%、より好ましくは10〜20重量%となる量が望ましい。 The amount of the solvent used is not particularly limited, but from the viewpoint of applicability of the obtained radiation-sensitive composition, stability and the like, the total concentration of each component excluding the solvent of the composition is preferably , 5 to 30% by weight, more preferably 10 to 20% by weight.
カラーフィルタ用感放射線性組成物の特性
本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、その表面張力をB(mN/m)、その粘度をA(mPa・s)とし、かつ着色層を形成する際の塗工速度をV(m/s)としたとき、式(A×V÷B)で求められる値(以下、「AV/B値」という。)が4.0×10-2未満、好ましくは2.0×10-3〜3.5×10-2、特に好ましくは2.0×10-3〜3.0×10-2である特性を有する。この場合、AV/B値が4.0×10-2以上では、塗布ムラを発生しやすくなる傾向がある。
Characteristics of Radiation-Sensitive Composition for Color Filter The radiation-sensitive composition for color filters of the present invention has a surface tension of B (mN / m), a viscosity of A (mPa · s), and a colored layer. Assuming that the coating speed at the time of coating is V (m / s), the value (hereinafter referred to as “AV / B value”) obtained by the formula (A × V ÷ B) is less than 4.0 × 10 −2 . , Preferably 2.0 × 10 −3 to 3.5 × 10 −2 , particularly preferably 2.0 × 10 −3 to 3.0 × 10 −2 . In this case, when the AV / B value is 4.0 × 10 −2 or more, uneven coating tends to occur.
本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、AV/B値が前記要件を満たすことによって、スリットダイコーターにより基板上にカラーフィルタ用着色層を形成する際に、スリットノズルからの吐出速度と基板への濡れ性との高いバランスを確保でき、塗布ムラが発生することがなく、均一な膜厚のカラーフィルタ用着色層を高い製品歩留りでかつ高効率に形成することができる。 When the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention has an AV / B value satisfying the above requirements, when forming a colored layer for a color filter on a substrate by a slit die coater, the discharge speed from a slit nozzle and A high balance with the wettability to the substrate can be ensured, and the color filter coloring layer having a uniform film thickness can be formed with high product yield and high efficiency without causing application unevenness.
また、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物の粘度は、2.0mPa・s〜8.0mPa・sが好ましく、2.0mPa・s〜6.0mPa・sが特に好ましい。 Further, the viscosity of the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention is preferably from 2.0 mPa · s to 8.0 mPa · s, particularly preferably from 2.0 mPa · s to 6.0 mPa · s.
カラーフィルタ用着色層の形成方法
本発明のカラーフィルタ用着色層の形成方法は、前記特性を有するカラーフィルタ用感放射線性組成物を用い、当該感放射線性組成物の塗工速度を0.07m/s以上として、スリットダイコーターにより基板上にカラーフィルタ用着色層を形成する方法からなる。
Method for Forming Color Layer for Color Filter The method for forming the color layer for color filter of the present invention uses a radiation-sensitive composition for a color filter having the above-mentioned properties, and reduces the coating speed of the radiation-sensitive composition to 0.07 m. / S or more, a method of forming a color layer for a color filter on a substrate by a slit die coater.
以下に、本発明のカラーフィルタ用着色層の形成方法についてより具体的に説明する。 Hereinafter, the method for forming a colored layer for a color filter of the present invention will be described more specifically.
まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素アレイを形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物をスリットダイコーターにより塗工する。 First, on the surface of the substrate, if necessary, a light-shielding layer is formed so as to partition a portion where a pixel array is to be formed, and on this substrate, for example, a radiation-sensitive composition in which a red pigment is dispersed is slit. Coating with a die coater.
次いで、プレベークを行って溶媒を蒸発させて塗膜を形成し、この塗膜にフォトマスクを介して露光したのち、特に好ましくはアルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。 Next, a coating film is formed by evaporating the solvent by performing a pre-bake, and after exposing the coating film through a photomask, it is particularly preferably developed using an alkali developer to remove an unexposed portion of the coating film. By dissolving and removing and then post-baking, a pixel array in which red pixel patterns are arranged in a predetermined arrangement is formed.
次いで、緑色または青色の顔料が分散された各感放射線性組成物を用い、前記と同様にして、塗工、プレベーク、露光、現像およびポストベークを行って、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一基板上に形成することにより、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に配置された着色層が得られる。 Next, using each radiation-sensitive composition in which a green or blue pigment is dispersed, coating, pre-baking, exposure, development, and post-baking are performed in the same manner as described above to obtain a green pixel array and a blue pixel array. Are formed on the same substrate to obtain a colored layer in which pixel arrays of three primary colors of red, green and blue are arranged on the substrate.
但し、本発明における各色の画素アレイの形成順は、前記した順序に限られるものではない。 However, the order in which the pixel arrays of each color are formed in the present invention is not limited to the order described above.
塗工厚さは、溶媒除去後の膜厚として、好ましくは、0.1〜10μm、より好ましくは0.2〜8.0μm、特に好ましくは0.2〜6.0μmである。 The coating thickness is preferably from 0.1 to 10 μm, more preferably from 0.2 to 8.0 μm, particularly preferably from 0.2 to 6.0 μm, as the thickness after removing the solvent.
着色層の形成に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。 As the radiation used for forming the colored layer, for example, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, an electron beam, X-ray, or the like can be used, and radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable.
放射線の露光量は、好ましくは10〜10,000J/m2である。 The exposure dose of radiation is preferably 10 to 10,000 J / m 2 .
また、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。 Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, An aqueous solution such as 5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred.
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。 An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkali developer. After the alkali development, the film is usually washed with water.
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。 As a developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle (liquid puddle) developing method, or the like can be applied. The development conditions are preferably at room temperature for 5 to 300 seconds.
カラーフィルタにおける着色層を形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、環状オレフィンの開環重合体やその水素添加物等を挙げることができる。 Examples of a substrate used when forming a colored layer in a color filter include, for example, glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyethersulfone, a ring-opening polymer of cyclic olefin, and hydrogenated hydrogen thereof. Additives and the like can be mentioned.
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。 Further, these substrates may be subjected to an appropriate pretreatment such as a chemical treatment with a silane coupling agent or the like, a plasma treatment, an ion plating, a sputtering, a gas phase reaction method, and a vacuum deposition, if desired.
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物から形成された着色層を有するものである。
Color Filter The color filter of the present invention has a colored layer formed from the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention.
本発明のカラーフィルタは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置のほか、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The color filter of the present invention is extremely useful for a color image pickup tube element, a color sensor and the like in addition to a transmission type or reflection type color liquid crystal display device.
カラー液晶表示装置
本発明のカラー液晶表示装置は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
Color Liquid Crystal Display The color liquid crystal display of the present invention includes the color filter of the present invention.
本発明のカラー液晶表示装置は、適宜の構造をとることができる。例えば、カラーフィルタを、薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板とは別の基板上に作製し、駆動用基板とカラーフィルタ基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることができる。また、薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板の表面上にカラーフィルタを形成した基板と、ITO(錫をドープした酸化インジュウム)電極を形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることもできる。後者の構造は、開口率を格段に向上させることができ、明るく高精細な表示素子が得られることが特徴である。 The color liquid crystal display device of the present invention can have an appropriate structure. For example, a structure in which a color filter is formed on a substrate different from a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is arranged, and the driving substrate and the color filter substrate are opposed to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. it can. In addition, a substrate on which a color filter was formed on the surface of a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) was arranged, and a substrate on which an ITO (tin-doped indium oxide) electrode was formed faced each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. It can also be structured. The latter structure is characterized in that the aperture ratio can be significantly improved and a bright and high-definition display element can be obtained.
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
実施例1
(A)顔料としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントイエロー139との65/35(重量比)混合物40重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/15/35/10/25、Mw=30,000、Mn=10,000)70重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1を50重量部、および(E)溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、組成物(R1)を調製した。
Example 1
(A) 40 parts by weight of a 65/35 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Yellow 139 as a pigment, and (B) methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenyl as an alkali-soluble resin. 70 parts by weight of a maleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/35/10/25, Mw = 30,000, Mn = 10,000), (C) dipentaerythritol hexa as a polyfunctional monomer 80 parts by weight of acrylate, (D) 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 as a photoradical generator, and (E) propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent The composition (R1) was prepared by mixing 1,000 parts by weight. .
組成物(R1)は、粘度をEL型粘度計(東機産業(株)製DVM−EII型:測定温度25℃、20rpmで30秒後に測定される値を粘度値とした)により測定したところ、3.6mPa・sであり、表面張力をダイノメーター((株)島津製作所製)により測定したところ、27mN/mであった。 For the composition (R1), the viscosity was measured by an EL viscometer (DVM-EII, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd .: The value measured at a measuring temperature of 25 ° C. and after 30 seconds at 20 rpm was defined as a viscosity value). It was 3.6 mPa · s, and the surface tension was 27 mN / m as measured by a dynamometer (manufactured by Shimadzu Corporation).
<塗膜の形成>
組成物(R1)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2膜が形成されたソーダガラス基板(1,100mm×1,250mm)表面上に、スリットダイコーター(東京応化工業(株)製TR63210S−CL)を用い、塗工速度を0.07m/s、0.11m/sあるいは0.15m/sとして、1,080mm×1,230mmの範囲(基板の各端縁から内側へそれぞれ10mm入った領域内)に塗工したのち、溶媒を揮発させて、それぞれ膜厚2.0μmの塗膜を形成した基板を3枚作製した。
<Formation of coating film>
The composition (R1) was coated on a surface of a soda glass substrate (1,100 mm × 1,250 mm) on which a SiO 2 film for preventing sodium ions from being eluted was formed, by a slit die coater (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.). Using TR63210S-CL) at a coating speed of 0.07 m / s, 0.11 m / s or 0.15 m / s, a range of 1,080 mm × 1,230 mm (10 mm inward from each edge of the substrate, respectively) After that, the solvent was volatilized to produce three substrates each having a coating film having a thickness of 2.0 μm.
この場合、組成物(R1)のAV/B値は、塗工速度に応じて、順次9.3×10-3、14.7×10-3および20.0×10-3であった。 In this case, the AV / B value of the composition (R1) was 9.3 × 10 −3 , 14.7 × 10 −3, and 20.0 × 10 −3 according to the coating speed.
<塗工性の評価>
塗工後の塗膜表面をナトリウムランプ光で照射して観察した時に、全ての領域においてスジムラ、乾燥ムラなど外観上問題となる塗布ムラが認められなかった場合を良好、塗布ムラが認められた場合を不良として結果を表1に示した。
<Evaluation of coatability>
When the surface of the coated film after coating was irradiated with a sodium lamp and observed, no unevenness in appearance such as uneven streaks and uneven drying was observed in all regions, and good unevenness was observed. The results are shown in Table 1 with the case as bad.
また、図1に示すように、基板1の各端縁から内側へそれぞれ10mm入った細実線で囲んだ領域に形成した塗膜2について、塗膜の端縁部とその近傍部および中央部を含む計35の測定点(黒丸)で膜厚を測定した時に、全ての測定点において膜厚のバラツキが±0.10μmに入っており、非常に均一な塗工性を示した場合を優良、膜厚のバラツキが±0.20μmに入っており、均一な塗工性を示した場合を良好、膜厚のバラツキが±0.20μmを越えている場合を不良として結果を表1に示した。
Further, as shown in FIG. 1, with respect to the
実施例2
(A)顔料としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー138との60/40(重量比)混合物60重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/15/35/10/25、Mw=30,000、Mn=10,000)70重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1を50重量部、および(E)溶媒として3−メトキシブチルアセテート800重量部を混合して、組成物(R2)を調製した。
Example 2
(A) 60 parts by weight of a 60/40 (weight ratio) mixture of CI Pigment Green 36 and CI Pigment Yellow 138 as a pigment, and (B) methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenyl as an alkali-soluble resin. 70 parts by weight of a maleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/35/10/25, Mw = 30,000, Mn = 10,000), (C) dipentaerythritol hexa as a polyfunctional monomer 80 parts by weight of acrylate, (D) 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 as a photo radical generator, and (E) 3-methoxybutyl acetate as a solvent 800 parts by weight were mixed to prepare a composition (R2).
組成物(R2)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measurement of the viscosity and surface tension of the composition (R2) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
実施例3
(A)顔料としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントイエロー139との65/35(重量比)混合物90重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/15/35/10/25、Mw=15,000、Mn=6,000)70重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1を30重量部、および(E)溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,500重量部を混合して、組成物(R3)を調製した。
Example 3
(A) 90 parts by weight of a 65/35 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Yellow 139 as a pigment; and (B) Methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenyl as an alkali-soluble resin. 70 parts by weight of a maleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/35/10/25, Mw = 15,000, Mn = 6,000), (C) dipentaerythritol hexa as a polyfunctional monomer 80 parts by weight of acrylate, (D) 30 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 as a photoradical generator, and (E) propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent The composition (R3) was prepared by mixing 1,500 parts by weight.
組成物(R3)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measuring the viscosity and surface tension of the composition (R3) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
実施例4
(A)顔料としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー138との60/40(重量比)混合物100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/15/35/10/25、Mw=12,000、Mn=5,000)70重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1を30重量部、および(E)溶媒として3−メトキシブチルアセテート1,200重量部を混合して、組成物(R4)を調製した。
Example 4
(A) 100 parts by weight of a 60/40 (weight ratio) mixture of CI Pigment Green 36 and CI Pigment Yellow 138 as a pigment; (B) Methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenyl as an alkali-soluble resin 70 parts by weight of a maleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/35/10/25, Mw = 12,000, Mn = 5,000), (C) dipentaerythritol hexa as a polyfunctional monomer 80 parts by weight of acrylate, (D) 30 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 as a photoradical generator, and (E) 3-methoxybutyl acetate as a solvent The composition (R4) was prepared by mixing 1,200 parts by weight.
組成物(R4)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measurement of the viscosity and surface tension of the composition (R4) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
実施例5
実施例1において、プリピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの量を700重量部に変えた以外は実施例1と同様にして、組成物(R5)を調製した。
Example 5
A composition (R5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of propylene glycol monomethyl ether acetate was changed to 700 parts by weight.
組成物(R5)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measurement of the viscosity and surface tension of the composition (R5) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
実施例6
(A)顔料としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントレッド177との90/10(重量比)混合物80重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/20/30/10/25、Mw=15,000、Mn=6,000)60重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート90重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1/2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンの30/4/2/4(重量比)混合物40重量部、および(E)溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの50/50(重量比)1,400重量部を混合して、組成物(R6)を調製した。
Example 6
(A) 80 parts by weight of a 90/10 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Red 177 as a pigment, and (B) methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenyl as an alkali-soluble resin 60 parts by weight of a maleimide copolymer (copolymerization weight ratio = 15/20/30/10/25, Mw = 15,000, Mn = 6,000), (C) dipentaerythritol hexa as a polyfunctional monomer 90 parts by weight of acrylate, (D) 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 / 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4 as a photoradical generator , 4 ', 5,5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole / 2-mercaptobenzothiazole / 4,4 40 parts by weight of a 30/4/2/4 (weight ratio) mixture of '-bis (diethylamino) benzophenone, and (E) 50/50 (weight ratio) of ethyl 3-ethoxypropionate / propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent. The composition (R6) was prepared by mixing 1,400 parts by weight.
組成物(R6)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measurement of the viscosity and surface tension of the composition (R6) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
実施例7
(A)顔料としてC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との97/3(重量比)混合物80重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体(共重合重量比=15/15/30/10/30、Mw=12,000、Mn=5,000)65重量部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート85重量部、(D)光ラジカル発生剤として2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパノン−1/2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール/2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンの30/3/2/5(重量比)混合物40重量部、および(E)溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/ジエチレングリコ−ルメチルエチルエーテルの45/40/15(重量比)1600重量部を混合して、組成物(R7)を調製した。
Example 7
(A) 80 parts by weight of a 97/3 (weight ratio) mixture of CI Pigment Blue 15: 6 and CI Pigment Violet 23 as a pigment, and (B) methacrylic acid / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N as an alkali-soluble resin 65 parts by weight of a phenylmaleimide copolymer (copolymerization weight ratio: 15/15/30/10/30, Mw = 12,000, Mn = 5,000), (C) dipentane as a polyfunctional monomer 85 parts by weight of erythritol hexaacrylate, (D) 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropanone-1 / 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl)-as a photoradical generator 4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole / 2-mercaptobenzothiazole / 4,4 40 parts by weight of a 30/3/2/5 (weight ratio) mixture of '-bis (diethylamino) benzophenone, and (E) ethyl 3-ethoxypropionate / propylene glycol monomethyl ether acetate / diethylene glycol methyl ethyl ether as a solvent 1600 parts by weight of 45/40/15 (weight ratio) were mixed to prepare a composition (R7).
組成物(R7)の粘度および表面張力を実施例1と同様にして測定した結果およびAV/B値を表1に示した。
また、塗工性の評価を実施例1と同様に行った結果を表1に示した。
Table 1 shows the results of measurement of the viscosity and surface tension of the composition (R7) in the same manner as in Example 1, and the AV / B value.
Table 1 shows the results of the evaluation of the coatability performed in the same manner as in Example 1.
1 基板
2 塗膜
1
Claims (5)
A method for forming a colored layer on a substrate using the radiation-sensitive composition for a color filter according to claim 1 or 2, wherein a coating speed of the radiation-sensitive composition is 0.07 m / s. A method for forming a colored layer for a color filter using a slit die coater, which is characterized by the above.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003356400A JP3860806B2 (en) | 2002-12-19 | 2003-10-16 | Method for forming colored layer for color filter |
| TW092132336A TWI264564B (en) | 2002-12-19 | 2003-11-18 | Radiation sensitive composition for color filter, color filter, manufacturing method of liquid crystal color display, and forming method of colored layer of color filter |
| KR1020030092787A KR100869214B1 (en) | 2002-12-19 | 2003-12-18 | Radiosensitive Composition for Color Filter, Color Filter, Color Liquid Crystal Display Device and Process for Forming Colored Layer for Color Filter |
| CNB2003101248788A CN100350281C (en) | 2002-12-19 | 2003-12-19 | Radioactive-ray sensitive composition for colour optical filter, colouring-layer for mation method and use |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002367767 | 2002-12-19 | ||
| JP2003356400A JP3860806B2 (en) | 2002-12-19 | 2003-10-16 | Method for forming colored layer for color filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004212944A true JP2004212944A (en) | 2004-07-29 |
| JP3860806B2 JP3860806B2 (en) | 2006-12-20 |
Family
ID=32828791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003356400A Expired - Fee Related JP3860806B2 (en) | 2002-12-19 | 2003-10-16 | Method for forming colored layer for color filter |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3860806B2 (en) |
| KR (1) | KR100869214B1 (en) |
| CN (1) | CN100350281C (en) |
| TW (1) | TWI264564B (en) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004126549A (en) * | 2002-08-08 | 2004-04-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition |
| JP2004246340A (en) * | 2003-01-21 | 2004-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | Curable resin composition for die coating, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device |
| JP2004318111A (en) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition |
| JP2004318158A (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Samsung Electronics Co Ltd | Color filter composition, color filter manufacturing method and color filter manufacturing apparatus using the same. |
| JP2005173325A (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive coloring composition and solid-state imaging device using the same |
| JP2005338831A (en) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Samsung Electronics Co Ltd | Organic film photoresist composition for liquid crystal display device, spinless coating method thereof, organic film pattern forming method using the same, and liquid crystal display device manufactured thereby |
| JP2006215160A (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER USING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2007017924A (en) * | 2005-06-09 | 2007-01-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive composition |
| JP2007086560A (en) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Photosensitive resin composition for forming colored layer and method for producing color filter |
| JP2008261947A (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive color composition for translucent liquid crystal display, color filter for translucent liquid crystal display using photosensitive color composition and its manufacturing method, and translucent liquid crystal display |
| CN102298264A (en) * | 2010-05-27 | 2011-12-28 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition for forming cured film, method of manufacturing the same, cured film, method for forming the cured film and display device |
| KR101110577B1 (en) | 2002-08-08 | 2012-02-15 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Coloring photosensitive resin composition |
| JP2012037677A (en) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition, spacer for display element and forming method of the same |
| JP2016155973A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 東京応化工業株式会社 | Non-rotating coating composition and resin composition film forming method |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4407410B2 (en) * | 2004-07-15 | 2010-02-03 | Jsr株式会社 | Radiation sensitive composition for color filter and preparation method thereof |
| CN100510799C (en) * | 2004-10-08 | 2009-07-08 | 富士胶片株式会社 | Color filter, process for manufacturing color filter, and liquid crystal display device |
| KR101119818B1 (en) * | 2004-12-07 | 2012-03-06 | 주식회사 동진쎄미켐 | Photoresist composition for colour filter and preparation method of liquid crystal display colour filter using the same |
| JP4456562B2 (en) * | 2005-12-13 | 2010-04-28 | 東洋インキ製造株式会社 | Coloring composition and color filter using the same |
| CN1991580B (en) * | 2005-12-31 | 2011-02-02 | 财团法人工业技术研究院 | Color photosensitive composition and its production method |
| CN101154043B (en) * | 2006-09-26 | 2011-04-20 | 新应材股份有限公司 | High Resolution Negative Photoresist |
| JP4947294B2 (en) * | 2007-02-23 | 2012-06-06 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element |
| JP5024107B2 (en) * | 2007-03-13 | 2012-09-12 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element |
| TWI559079B (en) * | 2008-11-18 | 2016-11-21 | Sumitomo Chemical Co | Photosensitive resin composition and display device |
| CN102375338A (en) * | 2010-08-16 | 2012-03-14 | Jsr株式会社 | Coloring composition, method for manufacturing the same, coloring pattern, color filter, color display component and method for manufacturing the color filter |
| CN104650281A (en) * | 2014-12-26 | 2015-05-27 | 北京鼎材科技有限公司 | Alkali-soluble resin polymer for color light filter and light-sensitive resin composition |
| CN109445249A (en) * | 2018-10-23 | 2019-03-08 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | The preparation method of Photosensitve resin composition, display equipment and Photosensitve resin composition |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH105690A (en) * | 1996-06-27 | 1998-01-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Application method |
| JPH10142794A (en) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive solution for forming colored image and manufacture of color filter by using the same and color filter |
| JP2000153205A (en) * | 1998-11-24 | 2000-06-06 | Toray Ind Inc | Coating applicator and production of coating member, and producing device of color filter and production method of color filter |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100334426B1 (en) | 1998-07-31 | 2002-05-03 | 기타지마 요시토시 | Photosensitive resin composition and colour filter |
| CN1124520C (en) * | 1999-10-14 | 2003-10-15 | 财团法人工业技术研究院 | Water-dispersible negative photosensitive composition |
| CN1126005C (en) * | 1999-12-30 | 2003-10-29 | 奇美实业股份有限公司 | Photosensitive resin composition |
| JP4081967B2 (en) * | 2000-08-28 | 2008-04-30 | Jsr株式会社 | Radiation sensitive composition for color filter and color filter |
| JP2002258027A (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Jsr Corp | Radiation-sensitive composition for color filter, method for producing the same, color filter and color liquid crystal display device |
-
2003
- 2003-10-16 JP JP2003356400A patent/JP3860806B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-11-18 TW TW092132336A patent/TWI264564B/en not_active IP Right Cessation
- 2003-12-18 KR KR1020030092787A patent/KR100869214B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-12-19 CN CNB2003101248788A patent/CN100350281C/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH105690A (en) * | 1996-06-27 | 1998-01-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Application method |
| JPH10142794A (en) * | 1996-11-14 | 1998-05-29 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive solution for forming colored image and manufacture of color filter by using the same and color filter |
| JP2000153205A (en) * | 1998-11-24 | 2000-06-06 | Toray Ind Inc | Coating applicator and production of coating member, and producing device of color filter and production method of color filter |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101110577B1 (en) | 2002-08-08 | 2012-02-15 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Coloring photosensitive resin composition |
| JP2004126549A (en) * | 2002-08-08 | 2004-04-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition |
| JP2004246340A (en) * | 2003-01-21 | 2004-09-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | Curable resin composition for die coating, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device |
| JP2004318111A (en) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | Colored photosensitive resin composition |
| JP2004318158A (en) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Samsung Electronics Co Ltd | Color filter composition, color filter manufacturing method and color filter manufacturing apparatus using the same. |
| JP2005173325A (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive coloring composition and solid-state imaging device using the same |
| JP2005338831A (en) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Samsung Electronics Co Ltd | Organic film photoresist composition for liquid crystal display device, spinless coating method thereof, organic film pattern forming method using the same, and liquid crystal display device manufactured thereby |
| JP2006215160A (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER USING THE SAME, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| JP2007017924A (en) * | 2005-06-09 | 2007-01-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive composition |
| JP2007086560A (en) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Photosensitive resin composition for forming colored layer and method for producing color filter |
| JP2008261947A (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Toppan Printing Co Ltd | Photosensitive color composition for translucent liquid crystal display, color filter for translucent liquid crystal display using photosensitive color composition and its manufacturing method, and translucent liquid crystal display |
| CN102298264A (en) * | 2010-05-27 | 2011-12-28 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition for forming cured film, method of manufacturing the same, cured film, method for forming the cured film and display device |
| CN102298264B (en) * | 2010-05-27 | 2015-02-18 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive resin composition for forming cured film, method of manufacturing the same, cured film, method for forming the cured film and display device |
| JP2012037677A (en) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jsr Corp | Radiation sensitive composition, spacer for display element and forming method of the same |
| JP2016155973A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 東京応化工業株式会社 | Non-rotating coating composition and resin composition film forming method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3860806B2 (en) | 2006-12-20 |
| CN1508574A (en) | 2004-06-30 |
| TW200417755A (en) | 2004-09-16 |
| CN100350281C (en) | 2007-11-21 |
| KR100869214B1 (en) | 2008-11-18 |
| KR20040054547A (en) | 2004-06-25 |
| TWI264564B (en) | 2006-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3860806B2 (en) | Method for forming colored layer for color filter | |
| KR100887096B1 (en) | Radiation Sensitive Compositions for Color Filters, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Devices | |
| JP3726652B2 (en) | Radiation-sensitive composition, spacer, and color liquid crystal display device | |
| JP4428151B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer and color filter | |
| JP2004287409A (en) | Radiation-sensitive composition for color filter | |
| CN100380141C (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display | |
| JP2006195425A (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display panel | |
| JP4492238B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display panel | |
| JP2005300994A (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display panel | |
| KR101442255B1 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer | |
| JP2006047686A (en) | Radiation sensitive composition for color filter, preparation method thereof, color filter and color liquid crystal display device | |
| JP5010780B2 (en) | Radiation sensitive composition for color liquid crystal display device and color liquid crystal display device | |
| JP3900078B2 (en) | Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device | |
| JP2001154013A (en) | Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display | |
| JP2001272524A (en) | Radiation-sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display | |
| JP2002040225A (en) | Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and color liquid crystal display device | |
| JP2009031709A (en) | Radiation-sensitive composition, color filter and solid-state image sensor for forming color filter for solid-state image sensor | |
| JP4882396B2 (en) | Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and liquid crystal display device | |
| JP4081967B2 (en) | Radiation sensitive composition for color filter and color filter | |
| JP2007304614A (en) | Method for forming colored layer for color liquid crystal display device | |
| JP4496818B2 (en) | Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device | |
| KR100907594B1 (en) | Radiation-sensitive composition for color filters, formation method of a colored layer, a color filter, and a color liquid crystal display device | |
| JP5080715B2 (en) | Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device | |
| JP2002131523A (en) | Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and liquid crystal display device | |
| JP2001324611A (en) | Radiation-sensitive composition for color liquid crystal display device and color liquid crystal display device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031202 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20031202 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050124 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050131 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050325 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050523 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050721 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050802 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20050922 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060811 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060922 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3860806 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090929 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090929 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110929 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110929 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130929 Year of fee payment: 7 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |