JP2004289571A - Pixel defect mask method for imaging device - Google Patents
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Abstract
【課題】プラズマディスプレイ等の1画素相当の点欠陥を検査するパネル画質検査装置における CCD 欠陥画素を自動特定する手段を有し、CCD 欠陥を検査対象からマスクする方法を提供する。
【解決手段】測定対象に対して撮像装置の位置を移動させながら、複数枚撮像をおこない、各画像を画素単位に積算した1枚の積算画像を作成する。次にこの積算画像を任意のしきい値にて2値化する。
2値化して検出した位置を撮像装置の撮像素子の欠陥位置として特定し、この位置座標を登録し、登録された位置をマスクして検査対象から除外する。
【選択図】 図5A method for masking a CCD defect from an inspection object, comprising means for automatically identifying a CCD defective pixel in a panel image quality inspection apparatus for inspecting a point defect corresponding to one pixel such as a plasma display.
A plurality of images are taken while moving the position of an imaging device with respect to a measurement target, and one integrated image is created by integrating each image in pixel units. Next, this integrated image is binarized at an arbitrary threshold value.
The position detected by binarization is specified as a defect position of the image pickup device of the image pickup device, the position coordinates are registered, and the registered position is masked and excluded from the inspection target.
[Selection diagram] FIG.
Description
【0001】
【発明に属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ等に用いられる発光体の欠落、傷等の点欠陥を検査する検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の検査装置を、図1と図2によって説明する。図1は、従来技術の検査装置の略構成を示すブロック図である。また図2は、従来の検査処理動作を説明するためのフローチャートである。
【0003】
11 は測定対象、12 は CCD 等の撮像素子と光学顕微鏡等の拡大ユニットとを少なくとも備えた撮像装置、13 は検査処理を行なう画像処理部、14 は測定対象 11 を固定する支持台である。
【0004】
支持台 14 には、検査を行なう測定対象 11 が、測定対象面と支持台 14 の x軸方向と y 軸方向に平行に固定される。
【0005】
画像処理部 13 は、撮像装置 12 に測定対象 11 の所望の領域の画像を取得させるために、撮像装置 12 に付属する図示しない駆動ユニット(例えば、x 軸駆動ユニット,y 軸駆動ユニット,焦点軸駆動ユニット)を制御して、撮像装置 12 を駆動する。撮像装置 12 は、測定対象 11 の測定対象面と垂直( z 軸方向、または光軸方向、または焦点軸方向と称する)に設定され、測定対象の所望の領域を撮像し、取得した画像の情報を画像処理部 13 に出力する。
【0006】
画像処理部 13 は、図示しないが、少なくとも CPU を備え所定のプログラムに従って検査装置を制御する。画像処理部 13 は、CPU が予め定められた検査アルゴリズムによって、撮像装置 12 が取得した画像の画像処理を行う。
【0007】
また、画像処理部 13 は、図示しないが、拡大ユニットの焦点を合せるように、撮像装置 12 を制御する。また、画像処理部 13 は、撮像装置 12 が撮像した検査対象 11の画像、画像処理部 13 が解析した結果画像及び検査結果情報を表示する表示部(図示しない)を備える。また、画像処理部 13 は、図1の検査装置を制御するための操作器(図示しない)を備える。
【0008】
測定対象 11 は、例えば、所望の蛍光体等の発光体がその表面上に塗布された、ガラス等の基板で、プラズマディスプレイ、LCD 等である。
【0009】
図1において、まず、測定対象 11 を図示しない周知の手段によって発光させ、測定対象 11 から入射する光学像を撮像装置 12 で撮像する。例えば、測定対象 1 がプラズマディスプレイの場合には、紫外線を基板表面上に照射して、プラズマディスプレイ基板表面上の所望の蛍光体を発光させる。また例えば、測定対象 1 が LCD の場合には、電源を投入してバックライトを点灯させる。
【0010】
撮像装置 12 は、この取得した画像を画像処理部 13 に出力し、画像処理部 13 は、入力された画像を、図2に示す処理フローによって処理し、点欠陥を検出する。以下、図2の従来技術に処理動作について説明する。
【0011】
以下、図2の処理フローについて説明する。
図2(a) は、処理動作のフローチャート、図2(b) は、処理動作を説明するための図である。
【0012】
ステップ 201 では、測定対象 11 を撮像し、画像(原画)を取得する(図2(b) ▲1▼黒塗り部 211 参照)。 x 軸方向。
【0013】
ステップ 202 では、取得した画像の輝度レベル(図2(b) ▲2▼−1:輝度レベル波形 213 参照)について、画素毎に、例えば、図2(b) ▲1▼黒塗り部 211 を横切る直線部分 220 について、x 軸方向に微分し、各画素の輝度レベル変化量を求め、あらかじめ定めた任意のしきい値Iに基いて2値化し(図2(b) ▲2▼−1:微分、▲2▼−2:2値化)、2値化画像(図2(b) ▲2▼−2:2値化波形 214 参照)を得る。即ち、設定したしきい値Iにより、欠陥の位置を検出する。
【0014】
ステップ 203 では、この得られた2値化画像について、周知のラベリング処理を行い、輝度レベル変化のある画素位置を検出し、検出された画素位置付近(図2(b) ▲1▼黒塗り部 211 を含む破線 212 内参照)の領域を抽出する。
【0015】
次にステップ 204 では、抽出された画素位置付近の領域 x1(図2(b) ▲3▼に拡大した図の輝度レベル波形 215 参照)の輝度レベルを比較し、周辺と異なる画素を欠陥として検出する。この▲3▼の図での横幅は、▲1▼の図の破線 212 の x 軸方向の幅である。また比較は、しきい値IIを基準として行い、しきい値II以下の画素領域を画素欠陥として検出する(例えば、特許文献1参照。)。
【0016】
【特許文献1】
特開平8−201228号公報(従来の技術、第4図)
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
前述の従来技術では、例えば CCD 等の撮像装置の撮像素子側に画素欠陥がある場合、検査された測定対象に欠陥がなくても欠陥があるとして誤検出してしまう欠点があった。即ち、図3に示すように、対象を撮像した画像では、実際の欠陥(以降、実欠陥と称する) 31 と撮像素子( CCD )の画素欠陥(以降、CCD 欠陥と称する)32 とが同じように見えるため、実欠陥 31 と CCD 欠陥 32 とを区別することができない。このため、CCD 欠陥 32 を測定対象 11 の実欠陥として誤検出していた。なお、図3では、撮像装置が撮像する一画面分の大きさに対して、画素欠陥(実欠陥、CCD 欠陥)の大きさを強調して、大きく描いている。
【0018】
本発明の目的は、上記のような欠点を除去し、撮像装置の撮像素子側に画素欠陥があっても、その欠陥を測定対象の欠陥としない欠陥検査方法を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法は、事前に CCD 等の撮像素子の CCD 欠陥の画素位置を特定し、その特定した画素位置をマスクすることで誤検出をなくすようにするものである。
【0020】
即ち、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法は、撮像素子によって発光体を撮像し、撮像された画像を画像処理し、発光体の欠陥検出する欠陥検査方法において、撮像素子の欠陥画素を特定してその位置情報を登録し、登録された位置情報の位置をマスク処理することを特徴とする。
【0021】
また、本発明の撮像素子の画素欠陥マスク方法では、撮像素子が発光体を所定の画素数分ずらして撮像することによって複数の画像を取得し、取得された複数の画像の輝度レベルの積算を行って総和画像を作成し、総和画像について、所定のしきい値に基づいて、上記撮像素子の欠陥画素を特定することを特徴とする。
【0022】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の、事前に撮像素子の CCD 欠陥の画素位置を特定する手段について図4と図5によって説明する。図4は、本発明の検査装置の一実施例の概略構成を示すブロック図、図5は、撮像素子の CCD 欠陥の画素位置を特定する方法の一実施例を説明する図である。
【0023】
図4に示すように、撮像装置 12 を、例えば水平(x軸方向)に移動して測定対象 11 を撮像し、所定の距離離れた複数枚の画像を作成する。水平移動する所定距離は、例えば、1画素〜数画素である。
【0024】
次に、各画像を画素毎に積算(累算)して1枚の画像(総和画像)を作成する。
【0025】
この総和画像では、図5に示すように、CCD 欠陥 32 の位置は常に同じ位置に存在し( 32−1 ,32−2 ,32−3 ,‥‥‥ )、実欠陥 31 は、撮像装置 12 を移動する毎に位置が変わっていく( 31−1 ,31−2 ,31−3 ,‥‥‥ )。ここで、310 は総和画像の実欠陥領域、320 は総和画像のCCD 欠陥領域である。
【0026】
このため、総和画素の輝度レベル(図5の総和輝度レベル波形)は、総和画像での実欠陥 31 の画素による領域 310 の輝度レベルは、あまり輝度値が増加せず、CCD 欠陥 32 の画素位置による領域 320 の輝度レベルのみが加算されて輝度値が積算される画像が増加するにつれて増加し、CCD 欠陥32 のみが強調される。
【0027】
従って、任意のしきい値で、この積算画像を2値化することで CCD 欠陥 の画素の位置座標が特定することができる。
【0028】
なお、図5では、1画素分ずつ水平に測定対象を右から左に撮像しており、撮像装置が撮像する一画面分の大きさに対して、画素欠陥(実欠陥、CCD 欠陥)の大きさを強調して、大きく描いている。また、図5の総和画像は、図の1回目から3回目までの画像の輝度値を加算している。
【0029】
また、説明上、図5の総和輝度レベル波形は、総和画像の右半分の直線部分 502 と左半分の直線部分 503 について、それぞれ相当する、垂線 501 で分割された右半分の波形と左半分の波形とを一緒に描いている。
【0030】
この特定された位置座標を登録しておき、検査時における CCD 欠陥をマスク処理することで、 CCD 欠陥を検査時に測定対象の欠陥として誤検出することを防ぐことができる。従って、この方法によれば、撮像装置側の画素欠陥位置では、測定対象の画素について欠陥の有無を判定しないため、撮像装置の画素欠陥による誤検出を除去することができる。
【0031】
マスク処理の方法は、一般的に周知で、例えば、特開2001−175959公報に記載されている。
【0032】
なお、画像処理部 13 が取得した画像は、モニタ 15 に出力することによって、モニタ等の表示装置から観察でき、画像処理結果や検査結果の情報を表示することもできる。
【0033】
上記実施例では、撮像装置を所定距離動かして、積算画像を作成するための各画像を取得したが、測定対象 11 側、例えば、支持台 14 を動かしても良いし、それらの組合せでも良いことは自明である。
【0034】
【発明の効果】
上述のように、従来、撮像素子の欠陥をも、測定対象の欠陥として誤検出してしまっていたが、本発明によれば、撮像素子の欠陥を除去して、測定対象を検査することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の検査装置の概略構成を示すブロック図。
【図2】従来の検査処理動作を説明するためのフローチャート。
【図3】撮像素子の画素欠陥を測定対象の画素欠陥とを説明する図。
【図4】本発明の検査装置の一実施例の概略構成を示すブロック図。
【図5】本発明の撮像素子の CCD 欠陥の画素位置を特定する方法の一実施例を説明する図。
【符号の説明】
11:測定対象、 12:撮像装置、 13:画像処理部、 14:支持台、 15:モニタ、 31,31−1,31−2,31−3,‥‥‥:実欠陥、 32,32−1,32−2,32−3,‥‥‥:CCD 欠陥、 211:黒塗り部、 212:破線部、 213:輝度レベル、 214:2値化波形、 215:輝度レベル波形、 220:直線部、 310,320:領域。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an inspection apparatus for inspecting a point defect such as a missing or scratched luminous body used in a plasma display or the like.
[0002]
[Prior art]
A conventional inspection apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a conventional inspection apparatus. FIG. 2 is a flowchart for explaining a conventional inspection processing operation.
[0003]
Reference numeral 11 denotes an object to be measured, 12 denotes an image pickup device including at least an image pickup device such as a CCD and an enlargement unit such as an optical microscope, 13 denotes an image processing unit for performing an inspection process, and 14 denotes a support for fixing the object to be measured 11.
[0004]
The measurement target 11 to be inspected is fixed to the support base 14 in parallel with the surface to be measured and the x-axis direction and the y-axis direction of the support base 14.
[0005]
The
[0006]
Although not shown, the
[0007]
Further, although not shown, the
[0008]
The measurement target 11 is, for example, a substrate made of glass or the like, on which a luminous body such as a desired phosphor is applied, and is a plasma display, an LCD, or the like.
[0009]
In FIG. 1, first, the measurement target 11 is caused to emit light by well-known means (not shown), and an optical image incident from the measurement target 11 is captured by the imaging device 12. For example, when the measurement target 1 is a plasma display, ultraviolet light is irradiated on the substrate surface to emit a desired phosphor on the plasma display substrate surface. Further, for example, when the measurement target 1 is an LCD, the power is turned on and the backlight is turned on.
[0010]
The imaging device 12 outputs the obtained image to the
[0011]
Hereinafter, the processing flow of FIG. 2 will be described.
FIG. 2A is a flowchart of the processing operation, and FIG. 2B is a diagram for explaining the processing operation.
[0012]
In
[0013]
In
[0014]
In
[0015]
Next, in
[0016]
[Patent Document 1]
JP-A-8-201228 (prior art, FIG. 4)
[0017]
[Problems to be solved by the invention]
In the above-described prior art, for example, when a pixel defect is present on the image pickup device side of an image pickup device such as a CCD, there is a defect that even if the inspected measurement target has no defect, it is erroneously detected as having a defect. That is, as shown in FIG. 3, in an image obtained by imaging a target, an actual defect (hereinafter, referred to as an actual defect) 31 and a pixel defect (hereinafter, referred to as a CCD defect) 32 of an image sensor (CCD) are the same. Therefore, the actual defect 31 and the CCD defect 32 cannot be distinguished. For this reason, the CCD defect 32 was erroneously detected as a real defect of the measurement target 11. In FIG. 3, the size of a pixel defect (actual defect, CCD defect) is emphasized with respect to the size of one screen imaged by the imaging device.
[0018]
An object of the present invention is to provide a defect inspection method that eliminates the above-described defects and that does not make a defect a defect to be measured even if there is a pixel defect on the imaging element side of the imaging device.
[0019]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a pixel defect masking method for an image pickup device according to the present invention specifies a pixel position of a CCD defect of an image pickup device such as a CCD in advance, and masks the specified pixel position for erroneous detection. Is to be eliminated.
[0020]
That is, in the pixel defect mask method for an image sensor according to the present invention, a defective pixel of an image sensor is identified in a defect inspection method in which an image of an illuminant is captured by an image sensor, the captured image is processed, and a defect of the illuminant is detected. Then, the position information is registered, and the position of the registered position information is masked.
[0021]
Further, in the pixel defect mask method for an image sensor according to the present invention, the image sensor captures a plurality of images by shifting the luminous body by a predetermined number of pixels, and integrates the luminance levels of the plurality of acquired images. Then, a total sum image is created, and a defective pixel of the image pickup device is specified for the total sum image based on a predetermined threshold value.
[0022]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
First, a means for specifying a pixel position of a CCD defect of an image sensor in advance according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the inspection apparatus of the present invention, and FIG. 5 is a view for explaining an embodiment of a method for specifying a pixel position of a CCD defect of an image pickup device.
[0023]
As shown in FIG. 4, the imaging device 12 is moved, for example, horizontally (x-axis direction) to capture an image of the measurement target 11, and creates a plurality of images separated by a predetermined distance. The predetermined distance for horizontal movement is, for example, one pixel to several pixels.
[0024]
Next, each image is integrated (accumulated) for each pixel to create one image (sum image).
[0025]
In this total image, as shown in FIG. 5, the position of the CCD defect 32 always exists at the same position (32-1, 32-2, 32-3,...), And the actual defect 31 Each time is moved, the position changes (31-1, 31-2, 31-3,...). Here, 310 is a real defect area of the total image, and 320 is a CCD defect area of the total image.
[0026]
Therefore, the brightness level of the sum pixel (the sum brightness level waveform in FIG. 5) is such that the brightness level of the
[0027]
Therefore, by binarizing this integrated image with an arbitrary threshold value, the position coordinates of the pixel of the CCD defect can be specified.
[0028]
In FIG. 5, the measurement target is horizontally imaged one pixel at a time from right to left, and the size of a pixel defect (actual defect, CCD defect) is larger than the size of one screen imaged by the imaging device. I emphasize it and draw it large. In addition, the brightness values of the first to third images in the figure are added to the total image in FIG.
[0029]
Further, for the sake of explanation, the total luminance level waveform of FIG. 5 is a right half waveform and a left half waveform divided by a
[0030]
By registering the specified position coordinates and masking the CCD defect during the inspection, it is possible to prevent the CCD defect from being erroneously detected as a defect to be measured during the inspection. Therefore, according to this method, the presence / absence of a defect in the pixel to be measured is not determined at the pixel defect position on the imaging device side, so that erroneous detection due to a pixel defect of the imaging device can be eliminated.
[0031]
The method of the mask processing is generally well known, and is described in, for example, JP-A-2001-175959.
[0032]
Note that the image acquired by the
[0033]
In the above embodiment, the imaging device is moved by a predetermined distance to acquire each image for creating an integrated image. However, the measurement target 11 side, for example, the support base 14 may be moved, or a combination thereof may be used. Is self-evident.
[0034]
【The invention's effect】
As described above, conventionally, the defect of the image sensor has also been erroneously detected as a defect of the measurement target. However, according to the present invention, it is possible to remove the defect of the image sensor and inspect the measurement target. It has become possible.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a conventional inspection apparatus.
FIG. 2 is a flowchart for explaining a conventional inspection processing operation.
FIG. 3 is a diagram illustrating a pixel defect of an image sensor and a pixel defect to be measured.
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of an embodiment of the inspection apparatus of the present invention.
FIG. 5 is a view for explaining an embodiment of a method for specifying a pixel position of a CCD defect of the image sensor according to the present invention.
[Explanation of symbols]
11: measurement target, 12: imaging device, 13: image processing unit, 14: support base, 15: monitor, 31, 31-1, 31-2, 31-3, Δ: actual defect, 32, 32- 1, 32-2, 32-3, Δ: CCD defect, 211: black portion, 212: broken line portion, 213: brightness level, 214: binarized waveform, 215: brightness level waveform, 220:
Claims (2)
上記撮像素子の欠陥画素を特定してその位置情報を登録し、
登録された位置情報の位置をマスク処理することを特徴とする撮像素子の画素欠陥マスク方法。In the defect inspection method of imaging the luminous body by the imaging element, performing image processing on the captured image, and detecting the defect of the luminous body,
Identify the defective pixel of the image sensor and register its position information,
A pixel defect masking method for an image sensor, wherein a position of registered position information is masked.
上記撮像素子は、上記発光体を、所定の画素数分ずらして撮像することによって複数の画像を取得し、
該取得された複数の画像の輝度レベルの積算を行って総和画像を作成し、
該総和画像について、所定のしきい値に基づいて、上記撮像素子の欠陥画素を特定することを特徴とする撮像素子の画素欠陥マスク方法。2. The pixel defect mask method for an image sensor according to claim 1,
The imaging device acquires a plurality of images by imaging the luminous body by shifting by a predetermined number of pixels,
A sum total image is created by integrating the brightness levels of the obtained plurality of images,
A pixel defect mask method for an image sensor, wherein a defective pixel of the image sensor is specified for the total image based on a predetermined threshold value.
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