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JP2004281705A - Signal transmitting circuit and its manufacturing method - Google Patents

Signal transmitting circuit and its manufacturing method Download PDF

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JP2004281705A
JP2004281705A JP2003070812A JP2003070812A JP2004281705A JP 2004281705 A JP2004281705 A JP 2004281705A JP 2003070812 A JP2003070812 A JP 2003070812A JP 2003070812 A JP2003070812 A JP 2003070812A JP 2004281705 A JP2004281705 A JP 2004281705A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
input terminal
wiring
signal transmission
protection circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003070812A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryosuke Usui
良輔 臼井
Shinko Oda
真弘 小田
Hideki Mizuhara
秀樹 水原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2003070812A priority Critical patent/JP2004281705A/en
Publication of JP2004281705A publication Critical patent/JP2004281705A/en
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To protect a circuit element from electrostatic breakdown and, at the same time, to transmit high-speed signals in a semiconductor circuit. <P>SOLUTION: The semiconductor circuit contains an input terminal 50, a protective circuit 56 which discharges a voltage of a prescribed value or higher when the voltage is impressed, and a cell 10 containing the circuit element. The protective circuit 56 and cell 10 are connected to the input terminal 50 in branched states. On wiring 18c connected with the cell 10, a resistor R<SB>2</SB>is disposed so that the resistance value of the wiring 18c may become higher than that of the wiring 18b connected with the protective circuit 56. In addition, a section 54 to be cut is formed on the wiring 18b. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、信号伝達回路およびその製造方法に関する。本発明は、とくに、所定の製造工程中には回路素子の静電破壊を防止するとともに、その製造工程終了後には回路素子への高速信号の伝達を可能とする信号伝達回路およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体回路には、実装時や搬送時における静電破壊を防止するため、静電気に起因して回路素子に侵入する高電圧パルスを抑制するための保護回路が設けられている。たとえば、特許文献1には、静電対策としてトランジスタ型保護回路、および直列抵抗とを備えた半導体回路が開示されている。これにより、外部からの信号は、保護回路を介してして内部回路へ伝達されるため、静電破壊を防止することができるようになっている。
【0003】
ところで、特許文献2には、冗長回路やテスト工程等の製造過程でのみ使用し、製品完成後に不要となる特殊回路をヒューズで切断する技術が開示されている。ここでは、入力端子は入力保護回路を介してヒューズに接続され、さらにヒューズを介して被分離回路と接続されている。ヒューズを切断することにより、被分離回路を入力端子から切り離すことができる。
【0004】
【特許文献1】
特開平5−102411号公報
【特許文献2】
特開平7−86516号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した特許文献1に記載の従来の保護回路を有する半導体回路においては、半導体回路の製造後においても、内部回路へは、保護回路を介して信号が伝達されるため、高速信号を入力する場合に内部回路へ入力される信号速度が低下するという問題があった。たとえば上述した特許文献2においても、入力保護回路は、入力端子とヒューズとの間に設けられており、ヒューズを切断することにより被分離回路を切り離した後も入力保護回路が入力端子に接続する構成となっている。
【0006】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その目的は、回路素子に入力される信号速度を低下させることなく、静電破壊を防止する技術を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、回路素子に信号を伝達する信号伝達回路が提供される。この信号伝達回路は、入力端子と、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、入力端子と回路素子とを保護回路を経由して接続する第一の経路と、入力端子と回路素子とを保護回路を経由することなく接続する第二の経路と、を含み、第二の経路は、第一の経路を切断することにより入力端子と回路素子とを電気的に接続するように構成される。
【0008】
このようにしておけば、第一の経路を切断するまでは第一の経路を介して入力端子と回路素子とが電気的に接続されるので、回路素子を保護回路により保護することができる。一方、第一の経路を切断することにより、第二の経路を介して入力端子と回路素子とが電気的に接続されるので、入力端子に入力された高速信号を遅滞なく回路素子に伝達することができる。
【0009】
ここで、保護回路を経由して接続するとは、入力された信号に対して保護回路の機能が果たされるように接続されることをいう。第一の経路において、保護回路は、入力端子と回路素子とを接続する配線上に設けられていてもよく、入力端子と回路素子とを接続する配線から分岐した配線上に設けられていてもよい。
【0010】
本発明の信号伝達回路において、第二の経路上には、抵抗が設けられてよく、当該抵抗は、第二の経路における抵抗値が第一の経路における抵抗値よりも高くなるように構成されてよい。
【0011】
これにより、第一の経路を切断するまでは、入力端子に入力された信号は、第一の経路を介して回路素子に伝達される。そのため、入力端子に高電圧が印加された場合、保護回路において電圧が放電されるので、回路素子を保護することができる。第一の経路には、たとえばヒューズ回路を設けておくことができ、そのヒューズ回路に大電流を流すことにより切断することができる。また、ヒューズ回路近傍に発熱体を設けておき、発熱体を発熱させることにより、第一の経路を切断することもできる。さらに、第一の経路を酸やアルカリにより切断される材料で構成された配線とし、酸やアルカリを滴下することにより切断することもできる。また、レーザー光を照射することにより第一の経路を切断することもできる。
【0012】
本発明によれば、回路素子に信号を伝達する信号伝達回路が提供される。この信号伝達回路は、入力端子と、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、保護回路および回路素子とを分岐して入力端子に接続する接続手段と、を含む。
【0013】
このようにしておけば、保護回路を切り離しても、入力端子と回路素子とを接続した状態とすることができる。
【0014】
本発明の信号伝達回路において、接続手段は、入力端子と保護回路とを接続する第一の分岐配線と、入力端子と回路素子とを接続する第二の分岐配線と、を含むことができ、第二の分岐配線上には、抵抗が設けられてよく、当該抵抗は、第二の分岐配線における抵抗値が第一の分岐配線における抵抗値よりも高くなるように構成されてよい。
【0015】
このようにすれば、入力端子から入力された信号は、第一の分岐配線に優先的に伝達され、保護回路を経由した後に第二の分岐配線に伝達されるので、高電圧が印加された場合に、回路素子を保護回路により保護することができる。保護回路が必要な工程が終了した後、第一の分岐配線を切断することにより、入力端子と回路素子とを保護回路を経由することなく接続することができ、入力端子から高速信号が入力された場合も、遅滞なく回路素子に伝達することができる。
【0016】
本発明の信号伝達回路において、第一の分岐配線を覆う絶縁膜をさらに含んでよく、絶縁膜には第一の分岐配線が露出する開口部が形成されてよい。
【0017】
このように構成された開口部に、たとえばレーザー光を照射したり、圧力を印加したり、酸を滴下することにより、第一の分岐配線を切断することができる。
【0018】
本発明の信号伝達回路において、第一の分岐配線はアルミニウム、銅、銀、金のいずれか、またはこれらの合金により構成されてよく、第一の分岐配線は、開口部に酸を滴下することにより切断されてよい。また、第一の分岐配線をアルミニウムにより構成する場合、開口部にアルカリ性溶液を滴下することにより切断することもできる。
【0019】
本発明によれば、基板上に形成された回路素子に信号を伝達する信号伝達回路の製造方法が提供される。この信号伝達回路の製造方法は、基板上に、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路を形成する工程と、基板上に、入力端子を形成する工程と、基板上に、入力端子と保護回路とを接続する第一の分岐配線と、入力端子と回路素子とを接続する第二の分岐配線と、を含む接続手段を形成する工程と、基板上に、第一の分岐配線を覆う絶縁膜を形成する工程と、第一の分岐配線の一部が露出するように、絶縁膜に開口部を形成する工程と、を含む。
【0020】
このように構成された開口部に、たとえばレーザー光を照射したり、圧力を印加したり、酸を滴下することにより、第一の分岐配線を切断することができる。
【0021】
本発明の信号伝達回路の製造方法において、第一の分岐配線をアルミニウム、銅、銀、金のいずれか、またはこれらの合金により構成することができ、開口部から露出した第一の分岐配線に酸を滴下することにより当該第一の分岐配線を切断することができる。第一の分岐配線を金により構成する場合、開口部に王水を滴下することにより切断することができる。また、第一の分岐配線をアルミニウムにより構成する場合、開口部にアルカリ性溶液を滴下することにより切断することもできる。
【0022】
本発明によれば、回路素子と、入力端子と、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、入力端子と回路素子とを保護回路を経由して接続する第一の経路と、入力端子と回路素子とを保護回路を経由することなく接続する第二の経路と、を含み、第二の経路は、第一の経路を切断することにより入力端子と回路素子とを電気的に接続するように構成されたことを特徴とする半導体回路が提供される。
【0023】
本発明によれば、回路素子と、入力端子と、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、保護回路および回路素子とを分岐して入力端子に接続する接続手段と、を含むことを特徴とする半導体回路が提供される。
【0024】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の実施の形態における半導体回路を概念的に示す図である。
本実施の形態において、半導体回路は、セル部10と、入力端子50と、保護回路56と、これらを電気的に接続する配線18を含む。この半導体回路は、入力端子50とセル部10とを保護回路56を経由して接続する第一の経路と、入力端子50とセル部10とを保護回路56を経由することなく接続する第二の経路とを含む。半導体回路は、入力端子50からの信号が第一の経路または第二の経路のいずれを通じてセル部10に入力されるかを選択する接続手段53をさらに含む。
【0025】
セル部10には、たとえば、トランジスタ、ダイオード、ICチップ等の半導体素子、またはチップコンデンサ、チップ抵抗等の受動素子等の回路素子が設けられる。保護回路56は、入力端子50から過剰電圧や静電気による高電圧が印加されたときに、高電圧を放電する。これにより、セル部10が静電破壊されるのを防ぐ。接続手段53は、半導体回路の所定の製造工程中、たとえば前工程、搬送、ダイシング、およびリードフレームへのマウント作業等の静電破壊が起こりやすい工程においては、第一の経路を通じて信号が入力されるよう選択し、その後の工程においては第二の経路を通じて信号が入力されるよう選択する。これにより、前工程終了後には保護回路を経由することなく入力端子50とセル部10を接続するので、入力端子50に入力された信号を遅滞なくセル部10に伝達することができる。
【0026】
図2は、本実施の形態における半導体回路を具体的に示す模式図である。ここで、半導体回路は、入力端子50に接続された配線18aと、保護回路56に接続された配線18bと、セル部10に接続された配線18cとを含む。接続手段53は、配線18a上に形成された第一の抵抗Rと、配線18c上に形成された第二の抵抗Rと、配線18b上に形成された被切断部54とを含む。ここで被切断部54の抵抗をRとする。被切断部54は、たとえばヒューズ回路である。配線18c上には内部保護回路52が設けられている。内部保護回路52は、保護回路56と同様、セル部10を保護する機能を有するが、保護回路56に比べて能力が小さく、信号の遅滞の影響がない程度のものである。
【0027】
本実施の形態の半導体回路において、被切断部54の抵抗Rの抵抗値は、第二の抵抗Rの抵抗値よりも低くなるように構成される。このように構成することにより、配線18bおよび配線18cがともに配線18aに接続した状態では、入力端子50から入力した信号は保護回路56を経由してセル部10に伝達される。そのため、入力端子50に過剰電圧や静電気の影響による電圧が印加された場合、保護回路56においてこれらの電圧が放電される。これにより、過剰電圧や静電気からセル部10を保護することができる。
【0028】
一方、被切断部54を切断することにより、入力端子50に入力した信号が保護回路56を経由することなくセル部10に伝達されるようにすることができる。
【0029】
次に、被切断部54を切断する方法を説明する。被切断部54は、種々の方法で切断することができるが、たとえば配線18bの一部を細く形成しておき、配線18bに大電流を流したり、熱を加えることにより切断することができる。また、配線18bを酸やアルカリの滴下、レーザー光の照射、圧力の印加等で切断することもできる。
【0030】
図3は、被切断部54の構成の一例を示す図である。ここで、被切断部54は、配線18bの一部を細く形成した細線である。半導体回路は、被切断部54に接続された入力端子58をさらに有する。入力端子58は、絶縁膜により覆われた構成としておくことが好ましい。このようにすれば、入力端子50から電圧が印加されても配線18bには大電流が流れず、半導体回路の所定の製造工程中に被切断部54が切断されてしまうのを防ぐことができる。所定の製造工程が終了した後、入力端子58を覆う絶縁膜にプローブを刺し、プローブを入力端子58に電気的に接続して入力端子58から配線18bに大電流を流すことにより被切断部54において配線18bを切断することができる。ここで、第一の抵抗Rの抵抗値は第二の抵抗Rの抵抗値よりも低くなるように構成される。このようにしておけば、配線18bを流れる大電流は、配線18cへ流れることなく、配線18aを介して入力端子50へ導かれる。これにより、セル部10を保護しつつ、配線18bに大電流を流して被切断部54を切断することができる。被切断部54を切断することにより、その後の工程では入力端子50に入力した信号を保護回路56を経由することなくセル部10に伝達することができ、高速信号を遅延なくセル部10に伝達することができる。
【0031】
図4は、被切断部54の構成の他の例を示す図である。ここでも、被切断部54は、配線18bの一部を細く形成した細線である。半導体回路は、配線18bの細線部分の近傍に設けられた発熱手段60を含む。発熱手段は、電圧の印加により発熱する抵抗とすることができる。また、半導体回路は、発熱手段60に電圧を印加するための入力端子58を含む。このように構成すると、入力端子58に電圧を印加することにより発熱手段60を発熱させて被切断部54を切断することができる。
【0032】
図5は、本実施の形態の半導体回路の他の例を示す図である。図5(a)は半導体回路の上面図である。ここで、保護回路56およびセル部10は絶縁層22で覆われており、記載を省略している。絶縁層22には配線18bが露出する開口部60が形成されている。
【0033】
図4(b)は図4(a)のA−A’断面図である。半導体回路は、基板20を有し、セル部10および保護回路56は基板20上に形成される。セル部10、保護回路56、抵抗R、配線18a、配線18b、および配線18cは絶縁層22で覆われている。配線18a〜配線18cは、アルミニウム、銅、銀、または金など比較的低抵抗の金属、あるいはこれらの合金により構成される。開口部60は、たとえばレーザー等で形成することができる。このように構成された半導体回路において、開口部60に酸を滴下することにより、被切断部54において、配線18bを切断することができる。また、開口部60からレーザー光を照射することにより、配線18bを切断することもできる。
【0034】
本実施の形態における半導体回路によれば、被切断部54を切断する前は、保護回路56を経由して各種信号がセル部10に伝達されるため、過剰電圧や静電気による高電圧が印加された場合でもセル部10を静電破壊から保護することができる。一方、被切断部54を切断した後は、各種信号は保護回路56を経由することなくセル部10に伝達されるので、高速信号を遅延なくセル部10に伝達することができる。
【0035】
このような回路は、とくに限定されないが、たとえば同一のインタポーザ上の異なる回路素子どうしを接続するのに好ましく用いられる。同一のインタポーザ上にある回路素子は、電位差が生じないので、過剰電圧の印加のおそれがないからである。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、半導体回路の製造工程において回路素子を静電破壊から保護するとともに所定の工程終了後は回路素子へ高速信号を伝達することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における半導体回路を概念的に示す図である。
【図2】本発明の実施の形態における半導体回路を具体的に示す模式図である。
【図3】図2に示した被切断部の構成の一例を示す図である。
【図4】図2に示した被切断部の構成の他の例を示す図である。
【図5】図2に示した被切断部の構成の他の例を示す図である。
【符号の説明】
10 セル部、 18、18a、18b、18c 配線、 20 基板、 22絶縁層、 50 入力端子、 52 内部保護回路、 53 接続手段、 54 被切断部、 56 保護回路、 58 入力端子、 60 開口部。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a signal transmission circuit and a method for manufacturing the signal transmission circuit. The present invention particularly relates to a signal transmission circuit that prevents electrostatic breakdown of a circuit element during a predetermined manufacturing process, and that can transmit a high-speed signal to the circuit element after the manufacturing process is completed, and a method of manufacturing the same. .
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A semiconductor circuit is provided with a protection circuit for suppressing a high-voltage pulse that enters a circuit element due to static electricity in order to prevent electrostatic destruction during mounting and transport. For example, Patent Literature 1 discloses a semiconductor circuit including a transistor-type protection circuit and a series resistor as a countermeasure against static electricity. Thus, a signal from the outside is transmitted to the internal circuit via the protection circuit, so that electrostatic breakdown can be prevented.
[0003]
By the way, Patent Document 2 discloses a technique in which a special circuit which is used only in a manufacturing process such as a redundant circuit or a test process and becomes unnecessary after a product is completed is cut with a fuse. Here, the input terminal is connected to a fuse via an input protection circuit, and further connected to a circuit to be separated via a fuse. By cutting the fuse, the circuit to be separated can be separated from the input terminal.
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-5-102411 [Patent Document 2]
JP-A-7-86516 [0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional semiconductor circuit having the protection circuit described in Patent Document 1, since a signal is transmitted to the internal circuit through the protection circuit even after the semiconductor circuit is manufactured, a high-speed signal is input. In such a case, there is a problem that the speed of the signal input to the internal circuit is reduced. For example, in Patent Document 2 described above, the input protection circuit is provided between the input terminal and the fuse, and the input protection circuit is connected to the input terminal even after disconnecting the circuit to be separated by cutting the fuse. It has a configuration.
[0006]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a technique for preventing electrostatic breakdown without lowering a signal speed input to a circuit element.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, a signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element is provided. The signal transmission circuit has an input terminal, a protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied, a first path that connects the input terminal and the circuit element via the protection circuit, A second path connecting the input terminal and the circuit element without passing through the protection circuit, and the second path electrically disconnects the input terminal and the circuit element by cutting the first path. Configured to connect.
[0008]
With this configuration, the input terminal and the circuit element are electrically connected via the first path until the first path is disconnected, so that the circuit element can be protected by the protection circuit. On the other hand, by cutting the first path, the input terminal and the circuit element are electrically connected via the second path, so that the high-speed signal input to the input terminal is transmitted to the circuit element without delay. be able to.
[0009]
Here, the connection via the protection circuit means that the input signal is connected so that the function of the protection circuit is performed. In the first path, the protection circuit may be provided on a wiring connecting the input terminal and the circuit element, or may be provided on a wiring branched from the wiring connecting the input terminal and the circuit element. Good.
[0010]
In the signal transmission circuit of the present invention, a resistor may be provided on the second path, and the resistance is configured such that a resistance value in the second path is higher than a resistance value in the first path. May be.
[0011]
Thus, until the first path is disconnected, the signal input to the input terminal is transmitted to the circuit element via the first path. Therefore, when a high voltage is applied to the input terminal, the voltage is discharged in the protection circuit, so that the circuit element can be protected. For example, a fuse circuit can be provided in the first path, and the fuse circuit can be cut by flowing a large current through the fuse circuit. In addition, a heating element may be provided in the vicinity of the fuse circuit, and the first path may be disconnected by causing the heating element to generate heat. Further, the first path may be a wiring made of a material that can be cut by an acid or an alkali, and the wiring may be cut by dropping an acid or an alkali. Further, the first path can be cut by irradiating a laser beam.
[0012]
According to the present invention, a signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element is provided. The signal transmission circuit includes an input terminal, a protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied, and a connection unit that branches the protection circuit and the circuit element to connect to the input terminal. .
[0013]
By doing so, the input terminal and the circuit element can be connected even if the protection circuit is disconnected.
[0014]
In the signal transmission circuit of the present invention, the connection means may include a first branch wiring connecting the input terminal and the protection circuit, and a second branch wiring connecting the input terminal and the circuit element, A resistor may be provided on the second branch line, and the resistor may be configured such that a resistance value of the second branch line is higher than a resistance value of the first branch line.
[0015]
With this configuration, the signal input from the input terminal is preferentially transmitted to the first branch wiring, and is transmitted to the second branch wiring after passing through the protection circuit, so that a high voltage is applied. In this case, the circuit element can be protected by the protection circuit. After the process requiring the protection circuit is completed, by cutting the first branch wiring, the input terminal and the circuit element can be connected without passing through the protection circuit, and a high-speed signal is input from the input terminal. In this case, it can be transmitted to the circuit element without delay.
[0016]
The signal transmission circuit of the present invention may further include an insulating film covering the first branch wiring, and the insulating film may have an opening for exposing the first branch wiring.
[0017]
The first branch wiring can be cut by, for example, irradiating a laser beam, applying pressure, or dropping an acid to the opening configured as described above.
[0018]
In the signal transmission circuit of the present invention, the first branch wiring may be made of any of aluminum, copper, silver, and gold, or an alloy thereof, and the first branch wiring may be obtained by dropping an acid into the opening. May be cut. When the first branch wiring is made of aluminum, it can be cut by dropping an alkaline solution into the opening.
[0019]
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element formed on a substrate. The method for manufacturing a signal transmission circuit includes a step of forming a protection circuit that discharges a voltage equal to or higher than a predetermined value on a substrate; a step of forming an input terminal on the substrate; Forming a connection means including a first branch wiring for connecting the input terminal and the protection circuit, and a second branch wiring for connecting the input terminal and the circuit element; Forming an insulating film covering the branch wiring, and forming an opening in the insulating film so that a part of the first branch wiring is exposed.
[0020]
The first branch wiring can be cut by, for example, irradiating a laser beam, applying pressure, or dropping an acid to the opening configured as described above.
[0021]
In the method for manufacturing a signal transmission circuit according to the present invention, the first branch wiring can be made of any of aluminum, copper, silver, and gold, or an alloy thereof, and the first branch wiring is exposed to the first branch wiring from the opening. By dropping the acid, the first branch wiring can be cut. When the first branch wiring is made of gold, it can be cut by dropping aqua regia into the opening. When the first branch wiring is made of aluminum, it can be cut by dropping an alkaline solution into the opening.
[0022]
According to the present invention, a circuit element, an input terminal, a protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or more than a predetermined value is applied, and a first circuit that connects the input terminal and the circuit element via the protection circuit Path, and a second path for connecting the input terminal and the circuit element without passing through the protection circuit, the second path, the input terminal and the circuit element by cutting the first path Are provided so as to be electrically connected to each other.
[0023]
According to the present invention, a circuit element, an input terminal, a protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied, and a connection unit that branches the protection circuit and the circuit element to connect to the input terminal And a semiconductor circuit comprising:
[0024]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a diagram conceptually showing a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
In the present embodiment, the semiconductor circuit includes the cell section 10, the input terminal 50, the protection circuit 56, and the wiring 18 for electrically connecting these. This semiconductor circuit includes a first path connecting the input terminal 50 and the cell unit 10 via the protection circuit 56, and a second path connecting the input terminal 50 and the cell unit 10 without passing through the protection circuit 56. And the route. The semiconductor circuit further includes a connection unit 53 that selects whether the signal from the input terminal 50 is input to the cell unit 10 through the first path or the second path.
[0025]
The cell unit 10 is provided with a circuit element such as a semiconductor element such as a transistor, a diode, and an IC chip, or a passive element such as a chip capacitor and a chip resistor. The protection circuit 56 discharges a high voltage when an excessive voltage or a high voltage due to static electricity is applied from the input terminal 50. This prevents the cell unit 10 from being electrostatically damaged. The connection unit 53 receives a signal through the first path during a predetermined manufacturing process of the semiconductor circuit, for example, in a process in which electrostatic breakdown easily occurs, such as a pre-process, transport, dicing, and mounting work on a lead frame. And in a subsequent step, a signal is selected to be input through the second path. As a result, since the input terminal 50 and the cell unit 10 are connected without passing through the protection circuit after the end of the previous process, the signal input to the input terminal 50 can be transmitted to the cell unit 10 without delay.
[0026]
FIG. 2 is a schematic diagram specifically showing the semiconductor circuit in the present embodiment. Here, the semiconductor circuit includes a wiring 18a connected to the input terminal 50, a wiring 18b connected to the protection circuit 56, and a wiring 18c connected to the cell unit 10. Connecting means 53 includes a first resistor R 1 which is formed on the wiring 18a, and the second resistor R 2 which is formed on the wiring 18c, and the cutting portion 54 formed on the wiring 18b. Here the resistance of the cutting portions 54 and R 3. The cut portion 54 is, for example, a fuse circuit. An internal protection circuit 52 is provided on the wiring 18c. Like the protection circuit 56, the internal protection circuit 52 has a function of protecting the cell unit 10, but has a smaller capacity than the protection circuit 56, and is of such a degree as not to be affected by signal delay.
[0027]
In the semiconductor circuit of this embodiment, the resistance value of the resistor R 3 of the cutting portion 54 is configured to be lower than the second resistance value of the resistance R 2 of. With this configuration, when both the wiring 18b and the wiring 18c are connected to the wiring 18a, a signal input from the input terminal 50 is transmitted to the cell unit 10 via the protection circuit 56. Therefore, when an excessive voltage or a voltage due to the influence of static electricity is applied to the input terminal 50, these voltages are discharged in the protection circuit 56. Thereby, the cell unit 10 can be protected from excessive voltage and static electricity.
[0028]
On the other hand, by cutting the cut portion 54, the signal input to the input terminal 50 can be transmitted to the cell unit 10 without passing through the protection circuit 56.
[0029]
Next, a method of cutting the cut portion 54 will be described. The portion to be cut 54 can be cut by various methods. For example, a portion of the wiring 18b may be formed to be thin, and the cutting may be performed by applying a large current to the wiring 18b or applying heat. In addition, the wiring 18b can be cut by dropping an acid or alkali, irradiating a laser beam, applying pressure, or the like.
[0030]
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the configuration of the cut portion 54. Here, the cut portion 54 is a thin line formed by thinning a part of the wiring 18b. The semiconductor circuit further has an input terminal 58 connected to the cut section 54. It is preferable that the input terminal 58 be configured to be covered with an insulating film. In this way, even if a voltage is applied from the input terminal 50, a large current does not flow through the wiring 18b, and it is possible to prevent the cut portion 54 from being cut during a predetermined semiconductor circuit manufacturing process. . After the predetermined manufacturing process is completed, a probe is stabbed in an insulating film covering the input terminal 58, the probe is electrically connected to the input terminal 58, and a large current is caused to flow from the input terminal 58 to the wiring 18b. In this case, the wiring 18b can be cut. Here, the resistance value of the first resistor R 1 is configured to be lower than the resistance value of the second resistor R 2. By doing so, a large current flowing through the wiring 18b is guided to the input terminal 50 via the wiring 18a without flowing to the wiring 18c. Thus, a large current can be applied to the wiring 18b to cut the cut-off portion 54 while protecting the cell portion 10. By cutting the portion to be cut 54, a signal input to the input terminal 50 can be transmitted to the cell unit 10 without passing through the protection circuit 56 in a subsequent process, and a high-speed signal is transmitted to the cell unit 10 without delay. can do.
[0031]
FIG. 4 is a diagram showing another example of the configuration of the cut portion 54. Here, the cut portion 54 is also a thin line formed by thinning a part of the wiring 18b. The semiconductor circuit includes a heating means 60 provided near the thin line portion of the wiring 18b. The heat generating means may be a resistor that generates heat when a voltage is applied. Further, the semiconductor circuit includes an input terminal 58 for applying a voltage to the heating means 60. With this configuration, by applying a voltage to the input terminal 58, the heat generating means 60 generates heat, and the cut target portion 54 can be cut.
[0032]
FIG. 5 is a diagram illustrating another example of the semiconductor circuit of the present embodiment. FIG. 5A is a top view of the semiconductor circuit. Here, the protection circuit 56 and the cell unit 10 are covered with the insulating layer 22, and the description is omitted. An opening 60 for exposing the wiring 18b is formed in the insulating layer 22.
[0033]
FIG. 4B is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. The semiconductor circuit has the substrate 20, and the cell unit 10 and the protection circuit 56 are formed on the substrate 20. The cell section 10, the protection circuit 56, the resistor R 2 , the wiring 18a, the wiring 18b, and the wiring 18c are covered with the insulating layer 22. The wirings 18a to 18c are made of a relatively low-resistance metal such as aluminum, copper, silver, or gold, or an alloy thereof. The opening 60 can be formed by, for example, a laser or the like. In the semiconductor circuit thus configured, the wiring 18b can be cut at the cut portion 54 by dropping acid into the opening 60. The wiring 18b can be cut by irradiating a laser beam from the opening 60.
[0034]
According to the semiconductor circuit of the present embodiment, before cutting the cut target portion 54, various signals are transmitted to the cell portion 10 via the protection circuit 56, so that an excessive voltage or a high voltage due to static electricity is applied. In this case, the cell section 10 can be protected from electrostatic breakdown. On the other hand, after cutting the cut portion 54, various signals are transmitted to the cell unit 10 without passing through the protection circuit 56, so that a high-speed signal can be transmitted to the cell unit 10 without delay.
[0035]
Such a circuit is not particularly limited, but is preferably used, for example, for connecting different circuit elements on the same interposer. This is because no circuit element on the same interposer has a potential difference, so there is no possibility of applying an excessive voltage.
[0036]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to protect a circuit element from electrostatic destruction in a manufacturing process of a semiconductor circuit and to transmit a high-speed signal to the circuit element after a predetermined step is completed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram conceptually showing a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram specifically showing a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a configuration of a cut portion illustrated in FIG. 2;
FIG. 4 is a diagram showing another example of the configuration of the section to be cut shown in FIG. 2;
FIG. 5 is a diagram showing another example of the configuration of the section to be cut shown in FIG. 2;
[Explanation of symbols]
Reference Signs List 10 cell portion, 18, 18a, 18b, 18c wiring, 20 substrate, 22 insulating layer, 50 input terminal, 52 internal protection circuit, 53 connection means, 54 cut portion, 56 protection circuit, 58 input terminal, 60 opening.

Claims (7)

回路素子に信号を伝達する信号伝達回路であって、
入力端子と、
所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、
前記入力端子と前記回路素子とを前記保護回路を経由して接続する第一の経路と、
前記入力端子と前記回路素子とを前記保護回路を経由することなく接続する第二の経路と、
を含み、
前記第二の経路は、前記第一の経路を切断することにより前記入力端子と前記回路素子とを電気的に接続するように構成されたことを特徴とする信号伝達回路。
A signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element,
An input terminal,
A protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied,
A first path connecting the input terminal and the circuit element via the protection circuit,
A second path connecting the input terminal and the circuit element without passing through the protection circuit;
Including
The signal transmission circuit, wherein the second path is configured to electrically connect the input terminal and the circuit element by cutting the first path.
請求項1に記載の信号伝達回路において、
前記第二の経路上には、抵抗が設けられ、当該抵抗は、前記第二の経路における抵抗値が第一の経路における抵抗値よりも高くなるように構成されたことを特徴とする信号伝達回路。
The signal transmission circuit according to claim 1,
A signal is provided on the second path, wherein the resistance is configured such that a resistance value of the second path is higher than a resistance value of the first path. circuit.
回路素子に信号を伝達する信号伝達回路であって、
入力端子と、
所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路と、
前記保護回路および前記回路素子とを分岐して前記入力端子に接続する接続手段と、
を含むことを特徴とする信号伝達回路。
A signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element,
An input terminal,
A protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied,
Connection means for branching the protection circuit and the circuit element and connecting to the input terminal;
A signal transmission circuit comprising:
請求項3に記載の信号伝達回路において、
前記接続手段は、前記入力端子と前記保護回路とを接続する第一の分岐配線と、
前記入力端子と前記回路素子とを接続する第二の分岐配線と、を含み、
前記第二の分岐配線上には、抵抗が設けられ、当該抵抗は、第二の分岐配線における抵抗値が前記第一の分岐配線における抵抗値よりも高くなるように構成されたことを特徴とする信号伝達回路。
The signal transmission circuit according to claim 3,
A first branch wiring that connects the input terminal and the protection circuit,
Including a second branch wiring that connects the input terminal and the circuit element,
A resistor is provided on the second branch line, and the resistor is configured such that a resistance value of the second branch line is higher than a resistance value of the first branch line. Signal transmission circuit.
請求項4に記載の信号伝達回路において、
前記第一の分岐配線を覆う絶縁膜をさらに含み、
前記絶縁膜には前記第一の分岐配線が露出する開口部が形成されたことを特徴とする信号伝達回路。
The signal transmission circuit according to claim 4,
Further comprising an insulating film covering the first branch wiring,
A signal transmission circuit, wherein an opening for exposing the first branch wiring is formed in the insulating film.
基板上に形成された回路素子に信号を伝達する信号伝達回路の製造方法であって、
前記基板上に、所定値以上の電圧が印加されると当該電圧を放電する保護回路を形成する工程と、
前記基板上に、入力端子を形成する工程と、
前記基板上に、前記入力端子と前記保護回路とを接続する第一の分岐配線と、前記入力端子と前記回路素子とを接続する第二の分岐配線と、を含む接続手段を形成する工程と、
前記基板上に、前記第一の分岐配線を覆う絶縁膜を形成する工程と、
前記第一の分岐配線の一部が露出するように、前記絶縁膜に開口部を形成する工程と、
を含むことを特徴とする信号伝達回路の製造方法。
A method for manufacturing a signal transmission circuit for transmitting a signal to a circuit element formed on a substrate,
Forming a protection circuit that discharges the voltage when a voltage equal to or higher than a predetermined value is applied to the substrate,
Forming an input terminal on the substrate;
A step of forming a connection means on the substrate, the first branch line connecting the input terminal and the protection circuit, and the second branch line connecting the input terminal and the circuit element; ,
Forming an insulating film covering the first branch wiring on the substrate;
Forming an opening in the insulating film so that a part of the first branch wiring is exposed;
A method for manufacturing a signal transmission circuit, comprising:
請求項6に記載の信号伝達回路の製造方法において、
前記第一の分岐配線をアルミニウム、銅、銀、金、またはこれらの合金により構成し、前記開口部から露出した前記第一の分岐配線に酸を滴下することにより当該第一の分岐配線を切断することを特徴とする信号伝達回路の製造方法。
The method for manufacturing a signal transmission circuit according to claim 6,
The first branch wiring is made of aluminum, copper, silver, gold, or an alloy thereof, and the first branch wiring is cut by dropping an acid on the first branch wiring exposed from the opening. A method of manufacturing a signal transmission circuit.
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