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JP2004244320A - 含窒素複素環抗ウイルス剤 - Google Patents

含窒素複素環抗ウイルス剤 Download PDF

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JP2004244320A
JP2004244320A JP2003032772A JP2003032772A JP2004244320A JP 2004244320 A JP2004244320 A JP 2004244320A JP 2003032772 A JP2003032772 A JP 2003032772A JP 2003032772 A JP2003032772 A JP 2003032772A JP 2004244320 A JP2004244320 A JP 2004244320A
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JP2003032772A
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Masahiro Fuji
雅弘 冨士
Norihiro Matsushita
至博 松下
Hideisa Mikamiyama
秀勲 三神山
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Shionogi and Co Ltd
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
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Abstract

【課題】抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、HIVインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素複素環化合物及びそれを含有する医薬、特に抗HIV薬を提供する。
【解決手段】式(II−1)、(II−2)、(II−3)、および(II−4):
【化1】
Figure 2004244320

(Rは置換されていてもよいアリール等;R、R、R、およびRはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、置換されていてもよいヘテロサイクル等;V、V、およびVはそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン等;Wは酸素原子、−N(R)−等;Rは水素原子またはアルキル;XおよびZは酸素原子等;Yはヒドロキシ等)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、HIVインテグラーゼ阻害活性を有する含窒素複素環化合物及びそれを含有する医薬、特に抗HIV薬に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス(Human Immunodeficiency virus、以下HIVと略す)は、後天性免疫不全症候群(Acquired immnodeficiency syndrome、以下エイズと略す)の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤(AZT、3TC等)とプロテアーゼ阻害剤(インディナビル等)が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗HIV薬の開発が期待されている。
また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている(非特許文献1参照)。現在、抗HIV薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤の2種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、または付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗HIV薬の開発が要望されている。
側鎖に1,3−ジオキソブタン酸基または1,3−プロパンジオン基を有するインテグラーゼ阻害剤が、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、特許文献5、および特許文献6に記載されている。
ポリアザナフタレン骨格を有するインテグラーゼ阻害剤が、特許文献7、特許文献8、特許文献9、および特許文献10に記載されている。
その他のインテグラーゼ阻害剤が、特許文献11、特許文献12、特許文献13、および特許文献14に記載されている。
非特許文献2には、鉄(III)キレーターとして、4−ピリドン誘導体が記載されている。
非特許文献3には、4−ピリドン基を有するアクチノマイシンD(Actinomycin D)誘導体が記載されている。
特許文献15、特許文献16、および特許文献17には、4−ピリドン基を有する抗生物質が記載されている。
非特許文献4には、ピリミジン誘導体が記載されている。
【特許文献1】
国際公開第WO99/50245号パンフレット
【特許文献2】
国際公開第WO99/62520号パンフレット
【特許文献3】
国際公開第WO99/62897号パンフレット
【特許文献4】
国際公開第WO99/62513号パンフレット
【特許文献5】
国際公開第WO00/39086号パンフレット
【特許文献6】
国際公開第WO01/00578号パンフレット
【特許文献7】
国際公開第WO2002/30426号パンフレット
【特許文献8】
国際公開第WO2002/30930号パンフレット
【特許文献9】
国際公開第WO2002/30931号パンフレット
【特許文献10】
国際公開第WO2002/36734号パンフレット
【特許文献11】
国際公開第WO01/17968号パンフレット
【特許文献12】
国際公開第WO01/95905号パンフレット
【特許文献13】
国際公開第WO2002/70491号パンフレット
【特許文献14】
国際公開第WO2002/70486号パンフレット
【特許文献15】
国際公開第WO88/06156号パンフレット
【特許文献16】
国際公開第WO88/06588号パンフレット
【特許文献17】
米国特許第4137410号明細書
【非特許文献1】
プロシーディング オブ ナショナル アカデミー オブ サイエンス オブ ディ ユナイテッド ステーツ オブ アメリカ(Proc. Natl. Acad. Sci. USA)1996, 93, p. 13152−13157.
【非特許文献2】
バイオオーガニック アンド メディイシナル ケミストリー(Bioorganic & Medicinal Chemistry) 2001, 9(3), p. 563−573
【非特許文献3】
ジャーナル オブ ディ アメリカン ケミカル ソサイエティー(Journal ofthe American Chemical Society) 1994, 116(6), p. 2243−53
【非特許文献4】
ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミストリー(Journal of Heterocyclic Chemistry) 1979, 16 (7), p. 1423−1424
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意、研究した結果、新規な含窒素芳香族複素環化合物、すなわち式(I):
【化23】
Figure 2004244320
で示される化合物(以下、「本発明化合物」という)、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物が、インテグラーゼの阻害活性を有することを見出した。
さらに、本発明化合物及びそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬、抗レトロウイルス薬、抗HIV薬、抗HTLV−1(Human T cell leukemia virus type1:ヒトT細胞白血病ウイルス1型)薬、抗FIV(Feline immunodeficiency virus : ネコエイズウイルス)薬、抗SIV(Simian immunodeficiency virus :サルエイズウイルス)薬、特に抗HIV薬、インテグラーゼ阻害剤として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、本発明化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物、それらを有効成分として含有する医薬組成物、抗ウイルス薬、抗HIV薬、インテグラーゼ阻害剤、抗HIV用合剤を提供するものであるが、これらは、抗HIV薬としてのみならず、抗AIDS薬、すなわち、エイズおよびその関連臨床的症状、例えばエイズ関連合併症(ARC)、進行性全身化リンパ節症(PGL)、カポジ肉種、カリニ肺炎、突発性血小板減少性紫斑病、エイズ関連神経学的症状、例えば、エイズ痴呆症合併症、エイズ脳症、多発性硬化症又は熱帯性不全対麻痺、並びにまた無症候患者におけるものを含めた抗HIV抗体陽性およびHIV陽性症状の治療に特に有用である。
即ち、本発明は、
(1) 一般式(I):
【化24】
Figure 2004244320
(式中、式:
【化25】
Figure 2004244320
で表される環は、
【化26】
Figure 2004244320
(式中、RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Aから選択される置換基;RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Bから選択される置換基)で表される環;
は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、または置換されていてもよいヘテロサイクル;
およびVはそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン、または置換されていてもよいアルケニレン;
は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO−、−SON(R)−、−N(R)SO−、−O−、−N(R)−、−N(R)CO−、−CON(R)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、または−C(=O)−;
は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよいヘテロアリール;
Wは酸素原子、硫黄原子、−N(R)−、または−CH−;
は水素原子またはアルキル;
Xは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
Yはヒドロキシ、メルカプト、またはアミノ;
Zは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
置換基群A:水素、アルコキシカルボニル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
置換基群B:水素、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(2) 式:
【化27】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化28】
Figure 2004244320
(式中、RおよびRは(1)と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(3) 式:
【化29】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化30】
Figure 2004244320
(式中、R、R、およびRは(1)と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(4) 式:
【化31】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化32】
Figure 2004244320
(式中、Rは(1)と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(5) 式:
【化33】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化34】
Figure 2004244320
(式中、Rは(1)と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(6) Wが−N(R)−(式中、Rは(1)と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(7) V−V−Vが置換されていてもよいアルキレンである化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する(1)記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(8) (1)〜(7)のいずれかに記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療方法。
(請求項9) インテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物を製造するための(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物の使用。
(10) 式(I):
【化35】
Figure 2004244320
(式中、式:
【化36】
Figure 2004244320
で表される環は、
【化37】
Figure 2004244320
(式中、RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Aから選択される置換基;RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Bから選択される置換基)で表される環;
は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、または置換されていてもよいヘテロサイクル;
およびVはそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン、または置換されていてもよいアルケニレン;
は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO−、−SON(R)−、−N(R)SO−、−O−、−N(R)−、−N(R)CO−、−CON(R)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、または−C(=O)−;
は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよいヘテロアリール;
Wは酸素原子、硫黄原子、−N(R)−、または−CH−;
は水素原子またはアルキル;
Xは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
Yはヒドロキシ、メルカプト、またはアミノ;
Zは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
置換基群A:水素、アルコキシカルボニル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
置換基群B:水素、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
ただし、環がA環、Rがフェニル、V−V−Vが単結合、およびWが酸素原子である場合、Rは非置換イミダゾリルではなく;
環がB環、Rがメチル、V−V−Vが単結合、およびWが−NH−である場合、Rは非置換フェニル、非置換ピリジル、トリアゾリル、テトラヒドロイミダゾリルではなく;
環がB環、Rがメチル、V−V−Vが−CH−、およびWが−NH−である場合、Rは非置換フェニルではなく;
環がB環、Rがメチル、V−V−Vが単結合、およびWが酸素原子である場合、Rは、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、または置換されていてもよいシクロアルケニルである)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(11) 式:
【化38】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化39】
Figure 2004244320
(式中、RおよびRは(10)と同意義)である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(12) Wが−N(R)−(式中、Rは(10)と同意義)である(11)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(13) 式:
【化40】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化41】
Figure 2004244320
(式中、R、R、およびRは(10)と同意義)である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(14) Rが水素原子である(13)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(15) 式:
【化42】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化43】
Figure 2004244320
(式中、Rは(10)と同意義)である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(16) 式:
【化44】
Figure 2004244320
で表される環が、
【化45】
Figure 2004244320
(式中、Rは(10)と同意義)である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(17) Wが−N(R)−(式中、Rは(10)と同意義)である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(18) V−V−Vが置換されていてもよいアルキレンである(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(19) Rがハロゲンで置換されたアリールである(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(20) Xが酸素原子、Yがヒドロキシ、およびZが酸素原子である(10)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
(21) (10)〜(20)のいずれかに記載の化合物を有効成分として含有するそのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
(22) エイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療剤として使用する(21)記載の医薬組成物。
(23) (21)に記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療方法。
(24) インテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物を製造するための(21)に記載の化合物の使用。
【0005】
また、以下に示す式(II−1)、(II−2)、(II−3)、および(II−4):
【化46】
Figure 2004244320
(式中、W、X、Y、Z、V、V、V、R、R、R、R、およびRは(1)と同意義)で示される(1)記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩またはそれらの溶媒和物もHIVインテグラーゼ阻害剤として好ましい。
Xとしては、酸素原子が好ましい。
Yとしては、ヒドロキシが好ましい。
Zとしては、酸素原子が好ましい。
Wとしては、−NH−が好ましい。
式:−V−V−V−R(式中、V、V、V、およびRは上記(1)と同意義である。)で示される基としては、例えば、式:−R、式:−CH−R、式:−(CH−R、式:−CH−O−R、式:−CH=CH−R、式:−CH(OH)−R、式:−S−R、式:−SO−R、式:−SO−R、式:−SONH−R、式:−NHSO−R、式:−O−R、式:−NH−R、式:−NHCO−R、式:−CONH−R、式:−C(=O)−O−R、式:−O−C(=O)−R、式:−CO−R、式:−CH=CH−CH−R、式:−CH(OH)−CH−R、式:−S−CH−R、式:−SO−CH−R、式:−SO−CH−R、式:−SONH−CH−R、式:−NHSO−CH−R、式:−O−CH−R、式:−NH−CH−R、式:−NHCO−CH−R、式:−CONH−CH−R、式:−C(=O)−O−CH−R、式:−O−C(=O)−CH−R、式:−CO−CH−R、式:−CH=CH−CH=CH−R、式:−CH=CH−CH(OH)−R、式:−CH=CH−S−R、式:−CH=CH−SO−R、式:−CH=CH−SO−R、式:−CH=CH−SONH−R、式:−CH=CH−NHSO−R、式:−CH=CH−O−R、式:−CH=CH−NH−R、式:−CH=CH−NHCO−R、式:−CH=CH−CONH−R、式:−CH=CH−C(=O)−O−R、式:−CH=CH−O−C(=O)−R、式:−CH=CH−CO−R、式:−CH−CH=CH−R、式:−CH−CH(OH)−R、式:−CH−S−R、式:−CH−SO−R、式:−CH−SO−R、式:−CH−SONH−R、式:−CH−NHSO−R、式:−CH−NH−R、式:−CH−NHCO−R、式:−CH−CONH−R、式:−CH−C(=O)−O−R、式:−CH−O−C(=O)−R、式:−CH−CO−R、式:−CH(OH)−CH=CH−R、式:−S−CH=CH−R、式:−SO−CH=CH−R、式:−SO−CH=CH−R、式:−SONH−CH=CH−R、式:−NHSO−CH=CH−R、式:−O−CH=CH−R、式:−NH−CH=CH−R、式:−NHCO−CH=CH−R、式:−CONH−CH=CH−R、式:−C(=O)−O−CH=CH−R、式:−O−C(=O)−CH=CH−R、式:−CO−CH=CH−R、式:−C−R、式:−CH−CH=CH−CH−R、式:−CH−CH(OH)−CH−R、式:−CH−S−CH−R、式:−CH−SO−CH−R、式:−CH−SO−CH−R、式:−CH−SONH−CH−R、式:−CH−NHSO−CH−R、式:−CH−O−CH−R、式:−CH−NH−CH−R、式:−CH−NHCO−CH−R、式:−CH−CONH−CH−R、式:−CH−C(=O)−O−CH−R、式:−CH−O−C(=O)−CH−R、式:−CH−CO−CH−R、式:−C−CH=CH−R、−CH−CH=CH−CH=CH−R、式:−CH−CH(OH)−CH=CH−R、式:−CH−S−CH=CH−R、式:−CH−SO−CH=CH−R、式:−CH−SO−CH=CH−R、式:−CH−SONH−CH=CH−R、式:−CH−NHSO−CH=CH−R、式:−CH−O−CH=CH−R、式:−CH−NH−CH=CH−R、式:−CH−NHCO−CH=CH−R、式:−CH−CONH−CH=CH−R、式:−CH−C(=O)−O−CH=CH−R、式:−CH−O−C(=O)−CH=CH−R、式:−CH−CO−CH=CH−R、式:−CH=CH−C−R、式:−CH=CH−CH=CH−CH−R、式:−CH=CH−CH(OH)−CH−R、式:−CH=CH−S−CH−R、式:−CH=CH−SO−CH−R、式:−CH=CH−SO−CH−R、式:−CH=CH−SONH−CH−R、式:−CH=CH−NHSO−CH−R、式:−CH=CH−O−CH−R、式:−CH=CH−NH−CH−R、式:−CH=CH−NHCO−CH−R、式:−CH=CH−CONH−CH−R、式:−CH=CH−C(=O)−O−CH−R、式:−CH=CH−O−C(=O)−CH−Rまたは式:−CH=CH−CO−CH−R(式中、Rは、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、または置換されていてもよいヘテロサイクルである。)で示される基等が挙げられる。
特に、式:−V−V−V−R(式中、V、V、V、およびRは上記(1)と同意義である。)で示される基として好ましいのは、
1)VおよびVが単結合である場合、
2)VおよびVが単結合であり、Vが単結合または低級アルキレン(特に−CH−、−(CH−)である場合、
3)VおよびVが単結合であり、Vが単結合または低級アルキレン(特に−CH−、−(CH−)であり、Rが置換されていてもよいアリールまたは置換されていてもよいヘテロアリールの場合、
4)VおよびVが単結合であり、Vが−CH−または−(CH−であり、Rが置換されていてもよいアリール(特にフェニルが好ましい。)の場合、
5)Vが低級アルキレンであり、Vが単結合であり、Vが−O−である場合、
6)Vが−CH−であり、Vが単結合であり、Vが−O−であり、Rが置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリールまたは置換されていてもよいシクロアルキルの場合、
7)Vが−CH−であり、Vが単結合であり、Vが−O−であり、Rが置換されていてもよいアリールの場合、
が好ましい。
式:−V−V−V−Rで示される基の好ましい具体例としては、ベンジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、2−クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2,4−ジフルオロベンジル、3,4−ジフルオロベンジル、、2−トリフルオロメチルベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、4−ヒドロキシベンジル、4−メトキシベンジル、2−ブロモベンジル、3−ブロモベンジル、4−ブロモベンジル、4−フェニルベンジル、2−フェニルエチル、2−(4−フルオロフェニル)エチル、ベンジルオキシ、4−フルオロベンジルオキシ等が挙げられる。
としては、水素原子、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アラルキルオキシアルキル、置換アラルキルオキシアルキル(置換基:ハロゲン)、アリール、アラルキル、または置換アラルキル(置換基:ハロゲン、ハロアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、またはアリール)が好ましい。
具体的には、水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、ヒドロキシメチル、メトキシメチル、ベンジルオキシメチル、2−ヒドロキシエチル、2−メトキシエチル、2−ベンジルオキシエチル、フェニル、ベンジル、2−フルオロベンジル、3−フルオロベンジル、4−フルオロベンジル、2−クロロベンジル、3−クロロベンジル、4−クロロベンジル、2,4−ジフルオロベンジル、3,4−ジフルオロベンジル、2−トリフルオロメチルベンジル、3−トリフルオロメチルベンジル、4−トリフルオロメチルベンジル、4−ヒドロキシベンジル、4−メトキシベンジル、2−ブロモベンジル、3−ブロモベンジル、4−ブロモベンジル、4−フェニルベンジル、2−フェニルエチル、2−(4−フルオロフェニル)エチル、ベンジルオキシメチル、2−ベンジルオキシエチル、4−フルオロベンジルオキシメチル、2−(4−フルオロベンジルオキシ)エチル等が挙げられる。
としては、水素原子、アルキル、シクロアルキル、置換アルキル[置換基:シクロアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アミノ、モノまたはジ置換アミノ(置換基:アルキル等)、ヘテロサイクル、シアノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノまたはジ置換カルバモイル(置換基:アルキル、アリール等)等]、アリール、置換アリール[置換基:アルキル、ハロゲン、アルコキシ、ヒドロキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、ニトロ、アミノ、モノまたはジ置換アミノ(置換基:アシル、アリールカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリール、アルキル等)、ヘテロサイクル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノまたはジ置換カルバモイル(置換基:アルキル、アリール等)、ヘテロサイクルカルボニル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル等]、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール(置換基:アルキル、アリールスルホニル等)、シアノ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、モノまたはジ置換カルバモイル(置換基:アルキル、アリール等)、ヘテロサイクルカルボニル、ヘテロサイクルカルボニル、ヘテロサイクル、置換へテロサイクル[置換基:オキソアルキル、アラルキル、シクロアルキル、アリール、置換アリール(置換基:ハロアルキル、ハロゲン、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ等)、ヘテロアリール、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニル等]、アミノ、置換アミノ[置換基:オキサモイル、置換オキサモイル(置換基:アルキル、アラルキル、アリール等)、アシル、アリールカルボニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリール、アルキル等]が挙げられる。置換ヘテロサイクルにおけるヘテロサイクルとしては、ピペラジノが好ましい。
具体的には、水素原子、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、トリフルオロメチル、メトキシメチル、フェノキシメチル、ベンジルオキシメチル、ジメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、ピロリジノメチル、モルホリノメチル、ピペリジノメチル、ジフェニルメチル、フェニル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロキシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2−フェノキシフェニル、3−フェノキシフェニル、4−フェノキシフェニル、2−ベンジルオキシフェニル、3−ベンジルオキシフェニル、4−ベンジルオキシフェニル、2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、2−アミノフェニル、3−アミノフェニル、4−アミノフェニル、2−アセチルアミノフェニル、3−アセチルアミノフェニル、4−アセチルアミノフェニル、2−ベンゾイルアミノフェニル、3−ベンゾイルアミノフェニル、4−ベンゾイルアミノフェニル、2−メチルスルホニルアミノフェニル、3−メチルスルホニルアミノフェニル、4−メチルスルホニルアミノフェニル、2−フェニルスルホニルアミノフェニル、3−フェニルスルホニルアミノフェニル、4−フェニルスルホニルアミノフェニル、2−(N−メチルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、3−(N−メチルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、4−(N−メチルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、2−(N−メチルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、3−(N−メチルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、4−(N−メチルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、2−(N−メチルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、3−(N−メチルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、4−(N−メチルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、2−(N−フェニルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、3−(N−フェニルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、4−(N−フェニルスルホニル−N−メチルアミノ)フェニル、2−(N−フェニルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、3−(N−フェニルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、4−(N−フェニルスルホニル−N−エチルアミノ)フェニル、2−(N−フェニルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、3−(N−フェニルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、4−(N−フェニルスルホニル−N−フェニルアミノ)フェニル、2−(N−アセチル−N−メチルアミノ)フェニル、3−(N−アセチル−N−メチルアミノ)フェニル、4−(N−アセチル−N−メチルアミノ)フェニル、2−(N−アセチル−N−エチルアミノ)フェニル、3−(N−アセチル−N−エチルアミノ)フェニル、4−(N−アセチル−N−エチルアミノ)フェニル、2−(N−アセチル−N−フェニルアミノ)フェニル、3−(N−アセチル−N−フェニルアミノ)フェニル、4−(N−アセチル−N−フェニルアミノ)フェニル、2−(N−ベンゾイル−N−メチルアミノ)フェニル、3−(N−ベンゾイル−N−メチルアミノ)フェニル、4−(N−ベンゾイル−N−メチルアミノ)フェニル、2−(N−ベンゾイル−N−エチルアミノ)フェニル、3−(N−ベンゾイル−N−エチルアミノ)フェニル、4−(N−ベンゾイル−N−エチルアミノ)フェニル、2−(N−ベンゾイル−N−フェニルアミノ)フェニル、3−(N−ベンゾイル−N−フェニルアミノ)フェニル、4−(N−ベンゾイル−N−フェニルアミノ)フェニル、2−メチルアミノフェニル、3−メチルアミノフェニル、4−メチルアミノフェニル、2−エチルアミノフェニル、3−エチルアミノフェニル、4−エチルアミノフェニル、2−フェニルアミノフェニル、3−フェニルアミノフェニル、4−フェニルアミノフェニル、2−ジメチルアミノフェニル、3−ジメチルアミノフェニル、4−ジメチルアミノフェニル、2−ジエチルアミノフェニル、3−ジエチルアミノフェニル、4−ジエチルアミノフェニル、2−ピロリジノフェニル、3−ピロリジノフェニル、4−ピロリジノフェニル、2−モルホリノフェニル、3−モルホリノフェニル、4−モルホリノフェニル、2−ピペリジノフェニル、3−ピペリジノフェニル、4−ピペリジノフェニル、2−カルボキシフェニル、3−カルボキシフェニル、4−カルボキシフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、3−メトキシカルボニルフェニル、4−メトキシカルボニルフェニル、2−カルバモイルフェニル、3−カルバモイルフェニル、4−カルバモイルフェニル、2−メチルアミノカルボキシフェニル、3−メチルアミノカルボキシフェニル、4−メチルアミノカルボキシフェニル、2−エチルアミノカルボキシフェニル、3−エチルアミノカルボキシフェニル、4−エチルアミノカルボキシフェニル、2−フェニルアミノカルボキシフェニル、3−フェニルアミノカルボキシフェニル、4−フェニルアミノカルボキシフェニル、2−ジメチルアミノカルボニルフェニル、3−ジメチルアミノカルボニルフェニル、4−ジメチルアミノカルボニルフェニル、2−ジエチルアミノカルボニルフェニル、3−ジエチルアミノカルボニルフェニル、4−ジエチルアミノカルボニルフェニル、2−ピロリジノカルボニルフェニル、3−ピロリジノカルボニルフェニル、4−ピロリジノカルボニルフェニル、2−モルホリノカルボニルフェニル、3−モルホリノカルボニルフェニル、4−モルホリノカルボニルフェニル、2−ピペリジノカルボニルフェニル、3−ピペリジノカルボニルフェニル、4−ピペリジノカルボニルフェニル、2−ビフェニル、3−ビフェニル、4−ビフェニル、2−アセチルフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、2−ベンゾイルフェニル、3−ベンゾイルフェニル、4−ベンゾイルフェニル、ナフタレン−1−イル、ナフタレン−2−イル、2−フリル、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−ピラジニル、2−チエニル、3−チエニル、2−キノリニル、3−キノリニル、2−(1,5−ジメチル)ピロリニル、2−(1−フェニルスルホニル)ピロリニル、シアノ、カルボキシル、メトキシカルボニル、カルバモイル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ピロリジノカルボニル、モルホリノカルボニル、ピペリジノカルボニル、シアノメチル、カルボキシルメチル、メトキシカルボニルメチル、カルバモイルメチル、メチルアミノカルボニルメチル、エチルアミノカルボニルメチル、フェニルアミノカルボニルメチル、ジメチルアミノカルボニルメチル、ジエチルアミノカルボニルメチル、ピロリジノカルボニルメチル、モルホリノカルボニルメチル、ピペリジノカルボニルメチル、N−メチル−N−ジメチルアミノオキザリルアミノ、ピロリジノ、モルホリノ、ピペリジノ、2−オキソピロリジノ、2−オキソピペリジノ、2,5−ジオキソピロリジノ、2,5−ジオキソピペリジノ、1,3−ジオキソ−1,3−ジヒドロイソインドリノ、1,1−ジオキソイソチアゾリジノ、1,1−ジオキソ−[1,2]−チアジアナノ、ピペラジノ、N−メチルピペラジノ、N−エチルピペラジノ、N−ベンジルピペラジノ、N−シクロヘキシルピペラジノ、N−ジフェニルメチルピペラジノ、N−フェニルピペラジノ、N−(3−トリフルオロメチルフェニル)ピペラジノ、N−(2−フルオロフェニル)ピペラジノ、N−(4−フルオロフェニル)ピペラジノ、N−(o−トリル)ピペラジノ、N−(m−トリル)ピペラジノ、N−(p−トリル)ピペラジノ、N−(2−クロロフェニル)ピペラジノ、N−(3−クロロフェニル)ピペラジノ、N−(4−クロロフェニル)ピペラジノ、N−(2−メトキシフェニル)ピペラジノ、N−(3−メトキシフェニル)ピペラジノ、N−(4−メトキシフェニル)ピペラジノ、N−(2−ヒドロキシフェニル)ピペラジノ、N−(3−ヒドロキシフェニル)ピペラジノ、N−(4−ヒドロキシフェニル)ピペラジノ、N−(2−ピリジルピペラジノ)、N−(4−ピリジルピペラジノ)、N−エトキシカルボニルピペラジノ、N−(2−フロイル)ピペラジノ、N−アセチルピペラジノ等が好ましい。
としては、水素原子、アルキル、アリール、アラルキル等が好ましい。具体的には、水素原子、メチル、エチル、フェニル、ベンジル等が挙げられる。
としては、水素原子、アルキル、アリール、アラルキル等が好ましい。具体的には、水素原子、メチル、エチル、フェニル、ベンジル等が挙げられる。
本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独で又は他の用語と一緒になって同一の意義を有する。
「アルキレン」は、炭素数1〜6個の直鎖状又は分枝状のアルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレン又はヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜4個の直鎖状のアルキレンであり、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン又はテトラメチレンが挙げられる。
「低級アルキレン」は、炭素数1〜3個の直鎖状又は分枝状のアルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、およびトリメチレンが挙げられる。
「アルケニレン」は、上記「アルキレン」に1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2〜6個の直鎖状又は分枝状のアルケニレン基を意味し、例えば、ビニレン、プロペニレン又はブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数2〜3個の直鎖状のアルケニレンであり、例えば、ビニレン又はプロペニレンが挙げられる。
「アルキル」は、炭素数1〜10個の直鎖状又は分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ぺンチル、イソぺンチル、ネオぺンチル、tert−ぺンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6個のアルキルであり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ぺンチル、イソぺンチル、ネオぺンチル、tert−ぺンチル、n−ヘキシル、イソヘキシルが挙げられる。
「アルケニル」は、上記「アルキル」に1個又はそれ以上の二重結合を有する炭素数2〜8個の直鎖状又は分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1,3−ブタジエニル、3−メチル−2−ブテニル等が挙げられる。
「アリール」は、単環芳香族炭化水素基(フェニル)及び多環芳香族炭化水素基(例えば、1−ナフチル、2−ナフチル、1−アントリル、2−アントリル、9−アントリル、1−フェナントリル、2−フェナントリル、3−フェナントリル、4−フェナントリル、9−フェナントリル等)を意味する。好ましくは、フェニル又はナフチル(1−ナフチル、2−ナフチル)が挙げられる。
「ヘテロアリール」は、単環芳香族複素環式基及び縮合芳香族複素環式基を意味する。
単環芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および/又は窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員の芳香環から誘導される、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
縮合芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、および/または窒素原子を環内に1〜4個含んでいてもよい5〜8員の芳香環が、1〜4個の5〜8員の芳香族炭素環もしくは他の5〜8員の芳香族ヘテロ環と縮合している、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
「ヘテロアリール」としては、例えば、フリル(例えば、2−フリル、3−フリル)、チエニル(例えば、2−チエニル、3−チエニル)、ピロリル(例えば、1−ピロリル、2−ピロリル、3−ピロリル)、イミダゾリル(例えば、1−イミダゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル)、ピラゾリル(例えば、1−ピラゾリル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル)、トリアゾリル(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル、1,2,4−トリアゾリール−3−イル、1,2,4−トリアゾール−4−イル)、テトラゾリル(例えば、1−テトラゾリル、2−テトラゾリル、5−テトラゾリル)、オキサゾリル(例えば、2−オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル)、イソキサゾリル(例えば、3−イソキサゾリル、4−イソキサゾリル、5−イソキサゾリル)、チアゾリル(例えば、2−チアゾリル、4−チアゾリル、5−チアゾリル)、チアジアゾリル、イソチアゾリル(例えば、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、5−イソチアゾリル)、ピリジル(例えば、2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル)、ピリダジニル(例えば、3−ピリダジニル、4−ピリダジニル)、ピリミジニル(例えば、2−ピリミジニル、4−ピリミジニル、5−ピリミジニル)、フラザニル(例えば、3−フラザニル)、ピラジニル(例えば、2−ピラジニル)、オキサジアゾリル(例えば、1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)、ベンゾフリル(例えば、2−ベンゾ[b]フリル、3−ベンゾ[b]フリル、4−ベンゾ[b]フリル、5−ベンゾ[b]フリル、6−ベンゾ[b]フリル、7−ベンゾ[b]フリル)、ベンゾチエニル(例えば、2−ベンゾ[b]チエニル、3−ベンゾ[b]チエニル、4−ベンゾ[b]チエニル、5−ベンゾ[b]チエニル、6−ベンゾ[b]チエニル、7−ベンゾ[b]チエニル)、ベンズイミダゾリル(例えば、1−ベンゾイミダゾリル、2−ベンゾイミダゾリル、4−ベンゾイミダゾリル、5−ベンゾイミダゾリル)、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル(例えば、2−キノキサリニル、5−キノキサリニル、6−キノキサリニル)、シンノリニル(例えば、3−シンノリニル、4−シンノリニル、5−シンノリニル、6−シンノリニル、7−シンノリニル、8−シンノリニル)、キナゾリル(例えば、2−キナゾリニル、4−キナゾリニル、5−キナゾリニル、6−キナゾリニル、7−キナゾリニル、8−キナゾリニル)、キノリル(例えば、2−キノリル、3−キノリル、4−キノリル、5−キノリル、6−キノリル、7−キノリル、8−キノリル)、フタラジニル(例えば、1−フタラジニル、5−フタラジニル、6−フタラジニル)、イソキノリル(例えば、1−イソキノリル、3−イソキノリル、4−イソキノリル、5−イソキノリル、6−イソキノリル、7−イソキノリル、8−イソキノリル)、プリル、プテリジニル(例えば、2−プテリジニル、4−プテリジニル、6−プテリジニル、7−プテリジニル)、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル(例えば、1−アクリジニル、2−アクリジニル、3−アクリジニル、4−アクリジニル、9−アクリジニル)、インドリル(例えば、1−インドリル、2−インドリル、3−インドリル、4−インドリル、5−インドリル、6−インドリル、7−インドリル)、イソインドリル、ファナジニル(例えば、1−フェナジニル、2−フェナジニル)又はフェノチアジニル(例えば、1−フェノチアジニル、2−フェノチアジニル、3−フェノチアジニル、4−フェノチアジニル)等が挙げられる。
「シクロアルキル」は、炭素数3〜10の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数3〜6のシクロアルキルであり、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
「シクロアルケニル」は、炭素数3〜10の環状の非芳香族炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロペニル(例えば、1−シクロプロペニル)、シクロブテニル(例えば、1−シクロブテニル)、シクロペンテニル(例えば、1−シクロペンテン−1−イル、2−シクロペンテン−1−イル、3−シクロペンテン−1−イル)、シクロヘキセニル(例えば、1−シクロヘキセン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル、3−シクロヘキセン−1−イル)、シクロヘプテニル(例えば、1−シクロヘプテニル)、シクロオクテニル(例えば、1−シクロオクテニル)等が挙げられる。特に、1−シクロヘキセン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル、3−シクロヘキセン−1−イルが好ましい。
「ヘテロサイクル」は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子を少なくとも1以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基を意味し、例えば、1−ピロリニル、2−ピロリニル、3−ピロリニル、1−ピロリジニル、2−ピロリジニル、3−ピロリジニル、1−イミダゾリニル、2−イミダゾリニル、4−イミダゾリニル、1−イミダゾリジニル、2−イミダゾリジニル、4−イミダゾリジニル、1−ピラゾリニル、3−ピラゾリニル、4−ピラゾリニル、1−ピラゾリジニル、3−ピラゾリジニル、4−ピラゾリジニル、ピペリジノ、2−ピペリジル、3−ピペリジル、4−ピペリジル、1−ピペラジニル、2−ピペラジニル、2−モルホリニル、3−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル、1,1−ジオキソ−[1,2]−チアジアナノ等が挙げられる。なお、「非芳香族複素環式基」は、非芳香族であれば、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。
「アルコキシ」のアルキル部分は、上記「アルキル」と同意義であり、「アルコキシ」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシなどが挙げられる。特に、メトキシ、エトキシが好ましい。
「アルコキシカルボニル」は、上記「アルコキシ」が置換したカルボニルを意味し、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル等が挙げられる。
「アルコキシアルキル」は、上記「アルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、n−プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、n−ブトキシメチル、イソブトキシメチル、tert−ブトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、n−プロポキシエチル、イソプロポキシエチル、n−ブトキシエチル、イソブトキシエチル、tert−ブトキシエチルなどが挙げられる。
「アルキニル」は、上記「アルキル」に1個又はそれ以上の三重結合を有する炭素数2〜8個のアルキニルを意味し、例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」は、上記「アルキル」が置換したスルホニルを意味し、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、n−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、sec−ブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニル、n−ぺンチルスルホニル、イソぺンチルスルホニル、ネオぺンチルスルホニル、tert−ぺンチルスルホニル、n−ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、n−ヘプチルスルホニル、n−オクチルスルホニル、n−ノニルスルホニル、n−デシルスルホニルなどが挙げられる。
「置換されていてもよいアミノ」は、置換又は非置換のアミノを意味する。
「置換されていてもよいカルバモイル」は、置換又は非置換のカルバモイルを意味する。
「置換されていてもよいアミノ」および「置換されていてもよいカルバモイル」の置換基としては、アルキル(例えば、メチル、エチル、ジメチル等)、アルコキシアルキル(例えば、エトキシメチル、エトキシエチル等)、アシル(例えば、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、トルオイル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、ヒドロキシ、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル等)、アルキルで置換されていてもよいアリールスルホニル(例えば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル等)、アルキレン(例えば、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン)、アルキルで置換されていてもよいアリール(例えば、フェニル、トリチル等)等が挙げられる。
「置換されていてもよいアミノ」である場合は、アミノ基の2つの置換基が隣接する窒素原子と共に硫黄原子を環内に含有していてもよい含窒素ヘテロサイクルを形成してもよく、該環はオキソで置換されていてもよい。
「アルキルチオ」は、上記「アルキル」が硫黄原子に置換した基を意味し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、n−ぺンチルチオ、イソぺンチルチオ、ネオぺンチルチオ、tert−ぺンチルチオ、n−ヘキシルチオ、イソヘキシルチオ、n−ヘプチルチオ、n−オクチルチオ、n−ノニルチオ、n−デシルチオ等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6のアルキルが硫黄原子に置換した基である。
「アルキルチオアルキル」は、上記「アルキルチオ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、メチルチオメチル、エチルチオメチル、n−プロピルチオメチル、イソプロピルチオメチル、n−ブチルチオメチル、イソブチルチオメチル、sec−ブチルチオメチル、tert−ブチルチオメチル、n−ぺンチルチオメチル、イソぺンチルチオメチル、ネオぺンチルチオメチル、tert−ぺンチルチオメチル、n−ヘキシルチオメチル、イソヘキシルチオメチル、n−ヘプチルチオメチル、n−オクチルチオメチル、n−ノニルチオメチル、n−デシルチオメチル、メチルチオエチル、エチルチオエチル、n−プロピルチオエチル、イソプロピルチオエチル、n−ブチルチオエチル、イソブチルチオエチル、sec−ブチルチオエチル、tert−ブチルチオエチル、n−ぺンチルチオエチル、イソぺンチルチオエチル、ネオぺンチルチオエチル、tert−ぺンチルチオエチル、n−ヘキシルチオエチル、イソヘキシルチオエチル、n−ヘプチルチオエチル、n−オクチルチオエチル、n−ノニルチオエチル、n−デシルチオエチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6のアルキルチオが置換した炭素数1〜2のアルキルである。
「ハロアルキル」は、1以上のハロゲンで置換された上記「アルキル」を意味する。特に、炭素数1〜3のハロゲン化アルキルが好ましく、例えば、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、1,1−ジクロロエチル、2,2,2−トリクロロエチルなどが挙げられる。
「ハロアルコキシ」は、上記「ハロアルキル」が酸素原子に置換した基を意味し、例えば、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、1,1−ジクロロエトキシ、2,2,2−トリクロロエトキシなどが挙げられる。
「ハロアルコキシアルキル」は、上記「ハロアルコキシ」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、トリフルオロメトキシメチル、クロロメトキシメチル、ジクロロメトキシメチル、1,1−ジクロロエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、トリフルオロメトキシエチル、クロロメトキシエチル、ジクロロメトキシエチル、1,1−ジクロロエトキシエチル、2,2,2−トリクロロエトキシエチル等が挙げられる。
「アシル」は、上記「アルキル」が置換したカルボニルおよび上記「アリール」が置換したカルボニルを意味し、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル、ベンゾイル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」は、上記「アルキル」が置換したカルボニルを意味し、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、ラウロイル等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」は、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に置換した基を意味し、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、イソバレリルオキシ、ピバロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ラウロイルオキシ等が挙げられる。
「アラルキル」は、1〜3個の上記「アリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル等)等が挙げられる。
「ヘテロアラルキル」は、1〜3個の上記「ヘテロアリール」が置換した上記「アルキル」を意味し、特にアルキル部分の炭素数が1〜4のヘテロアラルキルが好ましい。特に、アルキル部分の炭素数が1又は2のヘテロアラルキルが好ましく、例えば、フリルメチル、チエニルメチル、ピロリルメチル、イミダゾリルメチル、ピラゾリルメチル、トリアゾリルメチル、テトラゾリルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアジアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピリジルメチル、ピリダジニルメチル、ピリミジニルメチル、フラザニルメチル、ピラジニルメチル、オキサジアゾリルメチル、ベンゾフリルメチル、ベンゾチエニルメチル、ベンズイミダゾリルメチル、ジベンゾフリルメチル、ベンゾオキサゾリルメチル、キノキサリルメチル、シンノリニルメチル、キナゾリルメチル、キノリルメチル、フタラジニルメチル、イソキノリルメチル、プリルメチル、プテリジニルメチル、カルバゾリルメチル、フェナントリジニルメチル、アクリジニルメチル、インドリルメチル、イソインドリルメチル、ファナジニルメチル、フェノチアジニルメチル、フリルエチル、チエニルエチル、ピロリルエチル、イミダゾリルエチル、ピラゾリルエチル、トリアゾリルエチル、テトラゾリルエチル、オキサゾリルエチル、イソキサゾリルエチル、チアゾリルエチル、チアジアゾリルエチル、イソチアゾリルエチル、ピリジルエチル、ピリダジニルエチル、ピリミジニルエチル、フラザニルエチル、ピラジニルエチル、オキサジアゾリルエチル、ベンゾフリルエチル、ベンゾチエニルエチル、ベンズイミダゾリルエチル、ジベンゾフリルエチル、ベンゾオキサゾリルエチル、キノキサリルエチル、シンノリニルエチル、キナゾリルエチル、キノリルエチル、フタラジニルエチル、イソキノリルエチル、プリルエチル、プテリジニルエチル、カルバゾリルエチル、フェナントリジニルエチル、アクリジニルエチル、インドリルエチル、イソインドリルエチル、ファナジニルエチル又はフェノチアジニルエチル等が挙げられる。
等が挙げられる。
なお、「アリールオキシ」、「ヘテロアリールオキシ」、「アリールチオ」、「ヘテロアリールチオ」、「アラルキルオキシ」、「ヘテロアラルキルオキシ」、「アラルキルチオ」、「ヘテロアラルキルチオ」、「アリールオキシアルキル」、「ヘテロアリールオキシアルキル」、「アリールチオアルキル」、「ヘテロアリールチオアルキル」、「アリールスルホニル」、「ヘテロアリールスルホニル」、「アラルキルスルホニル」及び「ヘテロアラルキルスルホニル」中の「アリール」、「アラルキル」、「ヘテロアリール」、「ヘテロアラルキル」及び「アルキル」は上記と同意義である。
「置換されていてもよいアルキレン」、「置換されていてもよいアルケニレン」、「置換されていてもよいアルキル」、「置換されていてもよいアルケニル」、「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」が置換基を有する場合、それぞれ同一又は異なる1〜4個の置換基で任意の位置が置換されていてもよい。なお、これらの置換基は、上述の置換基群Bから選択される基と同様に、インテグラーゼ阻害活性を妨害しないような置換基であれば、任意に選択することができる。
置換基の例としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF、CHCF、 CHCCl等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルケニルオキシ(例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル等)、ニトロ、ニトロソ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル(例えば、アルキルカルバモイル(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル等)等)、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキザロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド、オキソ等が挙げられる。
における「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF、CHCF、 CHCCl等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル等)、ニトロ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、オキソ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン(特にF、Cl、Br)、アルコキシ(特にメトキシ)、オキソ等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
、VおよびVの「置換されていてもよいアルキレン」および「置換されていてもよいアルケニレン」の置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF、CHCF、 CHCCl等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル等)、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ等が好ましい。
置換基群Aおよび置換基群Bから選択される基が「置換されていてもよいアリール」、「置換されていてもよいヘテロアリール」、「置換されていてもよいシクロアルキル」、「置換されていてもよいシクロアルケニル」、「置換されていてもよいヘテロサイクル」、「置換されていてもよいアラルキル」、「置換されていてもよいヘテロアラルキル」、「置換されていてもよいアリールオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシ」、「置換されていてもよいアリールチオ」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオ」、「置換されていてもよいアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルオキシ」、「置換されていてもよいアラルキルチオ」、「置換されていてもよいヘテロアラルキルチオ」、「置換されていてもよいアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル」、「置換されていてもよいアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル」、「置換されていてもよいアリールスルホニル」、「置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル」、「置換されていてもよいアラルキルスルホニル」及び「置換されていてもよいヘテロアラルキルスルホニル」である場合、その置換基としては、上記に例示された置換基の中でも、特に、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン(F、Cl、Br、I)、ハロアルキル(例えば、CF、CHCF、 CHCCl等)、アルキル(例えば、メチル、エチル、イソプロピル、tert−ブチル等)、アルケニル(例えば、ビニル)、アルキニル(例えば、エチニル)、シクロアルキル(例えば、シクロプロピル)、シクロアルケニル(例えば、シクロプロペニル)、アルコキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ等)、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル等)、ニトロ、置換されていてもよいアミノ(例えば、アルキルアミノ(例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ等)、アシルアミノ(例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アラルキルアミノ(例えば、ベンジルアミノ、トリチルアミノ)、ヒドロキシアミノ等)、アジド、アリール(例えば、フェニル等)、アラルキル(例えば、ベンジル等)、シアノ、メルカプト、アルキルチオ(例えば、メチルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル)、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、アシル(例えば、ホルミル、アセチル等)、ホルミルオキシ、チオカルバモイル、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、オキソ等が好ましい。特に、アルキル、ハロアルキル、ハロゲン(特にF、Cl、Br)、アルコキシ(特にメトキシ)、オキソ等が好ましく、モノ置換、ジ置換の場合が好ましい。
本発明は、化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩及びそれらの溶媒和物を包含する。本発明化合物の理論上可能なすべての互変異性体、幾何異性体等も、本発明の範囲内である。
プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばDesign of Prodrugs, Elsevier, Amsterdam 1985に記載されている。
HIVは無症候期においても、リンパ節で盛んに増殖していることが知られており、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、リンパ指向性プロドラッグが好ましい。また、HIVにより引き起こされる疾患としてエイズ脳症があり、本発明化合物をプロドラッグ化するにおいては、脳指向性プロドラッグが好ましい。これらリンパ指向性プロドラッグおよび脳指向性プロドラッグとしては、下記のように脂溶性を高めたプロドラッグが好ましい。
本発明化合物がカルボキシを有する場合は、もとになる酸性化合物と適当なアルコールを反応させることによって製造されるエステル誘導体、又はもとになる酸性化合物と適当なアミンを反応させることによって製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいエステルとしては、メチルエステル、エチルエステル、n−プロピルエステル、イソプロピルエステル、n−ブチルエステル、イソブチルエステル、tert−ブチルエステル、モルホリノエチルエステル、N,N−ジエチルグリコールアミドエステル等が挙げられる。
本発明化合物がヒドロキシを有する場合は、例えばヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド又は適当な酸無水物とを反応させることに製造されるアシルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアシルオキシとしては、−O(=O)−CH、−OC(=O)−C、−OC(=O)−(tert−Bu)、−OC(=O)−C1531、−OC(=O)−(m−COONa−Ph)、−OC(=O)−CHCHCOONa、−O(C=O)−CH(NH)CH、−OC(=O)−CH−N(CH等が挙げられる。
本発明化合物がアミノを有する場合は、アミノを有する化合物と適当な酸ハロゲン化物又は適当な混合酸無水物とを反応させることにより製造されるアミド誘導体のようなプロドラッグが例示される。プロドラッグとして特に好ましいアミドとしては、−NHC(=O)−(CH20CH、−NHC(=O)−CH(NH)CH等が挙げられる。
特に本発明化合物においては、置換基Yを化学修飾することによってもプロドラッグ化を達成することができる。例えば、Yにアシル化等を行い、加溶媒分解により又は生理学的条件下において本発明化合物に変換されるか否かを試験すればよい。従って、Yがヒドロキシ、メルカプト又はアミノ以外の置換基であっても、加溶媒分解により又は生理学的条件下において、ヒドロキシ、メルカプト又はアミノに変換される化合物は、本発明のプロドラッグであり、本発明に包含される。例えば、リン酸バッファー(pH7.4)−エタノール中やプラズマ中で本発明化合物に変換される化合物等は、本発明化合物のプロドラッグである。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、塩基性塩として、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩;カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩;アンモニウム塩;トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ブロカイン塩等の脂肪族アミン塩;N,N−ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキルアミン塩;ピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等のヘテロ環芳香族アミン塩;テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩;アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。酸性塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩;メタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸等が挙げられる。
また本発明化合物の溶媒和物、各種溶媒和物も本発明の範囲内であり、例えば、一溶媒和物、二溶媒和物、一水和物、二水和物等が挙げられる。
「阻害」なる用語は、本発明化合物が、インテグラーゼの働きを抑制することを意味する。
「製薬上許容される」なる用語は、予防上又は治療上有害ではないことを意味する。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明化合物の代表的な一般的製造法を以下に説明する。
以下に代表的な製造法を記載するが、特にこれらの製法に限定する意味ではなく、他の製造法によっても本発明化合物を製造することができる。
(A法)
【化47】
Figure 2004244320
(式中、Etはエチル、Rは水酸基の保護基、Rは置換基群Bより選択される置換基、V、V、V、およびRは(1)と同意義)
第1工程
本工程は、式(A)で示される化合物から式(B)で示される化合物を製造する工程である。即ち、ピリミジノンの窒素原子のアルキル化反応である。
式(A)で示される化合物は、Inorg. Chem., 40, 6746 (2001)記載の方法に従って合成することができる。
本工程は、水素化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基存在下、適当な溶媒中、アルキル化剤(RX、X=Cl、Br、I等)と反応させることにより行うことができる。
反応温度としては0℃〜120℃、好ましくは室温〜90℃である。
反応溶媒としては、例えばジメチルホルムアミド、アセトン、テトラヒドロフラン等を使用することができる。
第2工程
本工程は、式(B)で示される化合物から式(C)で示される化合物を製造する工程である。即ち、エステルからアミドへの変換反応である。
本工程は、無溶媒または適当な溶媒中、適当な1級アミンと反応させることにより行うことができる。
反応温度としては室温〜180℃、好ましくは室温〜110℃である。
反応溶媒としては、エタノール、1,4−ジオキサン等を使用することができる。
第3工程
本工程は、式(C)で示される化合物から式(D)で示される化合物を製造する工程である。即ち、フェノール性水酸基の保護基の脱保護工程である。
本工程は、トリアルキルシリルハライド及びヨウ化アルカリ金属の存在下、適当な溶媒中で加熱することにより行うことができる。
トリアルキルシリルハライドとしては、トリメチルシリルクロリドを使用することができる。
ヨウ化アルカリ金属としては、例えば、NaI、KIを使用することができる。
反応温度としては、室温〜100℃が好ましい。
反応溶媒としては、極性溶媒が好ましく、例えば、アセトニトリル等を使用することができる。
なお、本工程は、臭化水素/酢酸を使用し、加熱下で行うことができる。臭化水素/酢酸としては、47%臭化水素水溶液/酢酸が好ましい。
また、150〜220℃でピリジニウムクロリドを使用しても、本工程を行うことができる。
(B法)
【化48】
Figure 2004244320
(式中、Etはエチル、R10は水酸基の保護基、Rは置換基群Bより選択される置換基、V、V、V、およびRは(1)と同意義)
第1工程
本工程は、式(E)で示される化合物から式(F)で示される化合物を製造する工程である。即ち、アルコキシ酢酸エステルとシュウ酸エステルとの縮合、続くイソチオ尿素との反応によるピリミジノン環形成工程である。
式(E)で示される化合物は、Bull. Soc. Chim. France, 51, 691 (1932)記載の方法に従って合成することができる。
本工程の第1段階である適当なアルコキシ酢酸エステルとシュウ酸エステルとの縮合は、水素化ナトリウム等の塩基存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
反応温度としては室温〜90℃が好ましい。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等を使用することができる。
本工程の第2段階であるイソチオ尿素との反応は、ナトリウムエトキシドなどの塩基存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
反応温度としては室温〜90℃が好ましい。
反応溶媒としては、エタノール等を使用することができる。
第2工程
本工程は、式(F)で示される化合物から式(G)で示される化合物を製造する工程である。A法第1工程と同様に行うことができる。
第3工程
本工程は、式(G)で示される化合物から式(H)で示される化合物を製造する工程である。即ち、エステルの加水分解と続く1級アミンとの縮合反応である。
本工程の第1段階であるエステルの加水分解は、水酸化リチウム等の塩基存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
反応温度としては0℃〜室温が好ましい。
反応溶媒としては、メタノール等を使用することができる。
本工程の第2段階である1級アミンとの縮合反応は、1級アミンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールやN−ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
反応温度としては0〜90℃、好ましくは室温〜50℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。
第4工程
本工程は、式(H)で示される化合物から式(I)および(J)で示される化合物を製造する工程である。即ち、スルフィドからスルホンへの酸化反応である。
本工程は、適当な酸化剤の存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
酸化剤としては、オキソン(登録商標)、m−クロロ過安息香酸等を使用することができる。
反応温度としては0℃〜80℃、好ましくは室温〜50℃である。
反応溶媒としては、オキソン(登録商標)を酸化剤として用いる場合には含水メタノールが好ましい。
第5工程
本工程は、式(I)で示される化合物から式(K)で示される化合物を製造する工程である。即ち、含窒素求核剤によるスルホンを脱離基とする求核置換反応である。
本工程は、適当な含窒素求核剤の存在下、適当な溶媒中または無溶媒で行うことができる。必要ならば、水素化ナトリウム等の塩基を添加することもできる。
反応温度としては0〜120℃、好ましくは室温〜90℃である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を使用することができる。
第6工程
本工程は、式(K)で示される化合物から式(L)で示される化合物を製造する工程である。A法第3工程と同様に行うことができる。
第7工程
本工程は、式(J)で示される化合物から式(M)で示される化合物を製造する工程である。A法第3工程と同様に行うことができる。
(C法)
【化49】
Figure 2004244320
(式中、R10は水酸基の保護基、Rは置換基群Bより選択される置換基、V、V、およびVは(1)と同意義)
第1工程
本工程は、式(N)で示される化合物から式(O)で示される化合物を製造する工程である。即ち、カルボン酸と1級アミンとの縮合反応である。
本工程は、1級アミンを縮合剤の存在下、適当な溶媒中で行うことができる。
式(N)で示される化合物は、Tetrahedron, 57, 3479 (2001)記載の方法に従って合成することができる。
縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩を使用することができる。必要ならば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールやN−ヒドロキシスクシンイミド等の試薬を添加することもできる。
反応温度としては0〜90℃、好ましくは室温〜50℃である。
反応溶媒としては、広く非プロトン性溶媒が使用でき、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等が好ましい。
第2工程
本工程は、式(O)で示される化合物から式(P)で示される化合物を製造する工程である。A法第3工程と同様に行うことができる。
(D法)
C環およびD環を有する化合物は、J. Chem. Research (S), 1993, 282−3等の記載に基づいて得られる出発原料を用いることにより、上記(A法)〜(C法)に記載の方法と同様の方法で合成することができる。
次に本発明化合物の使用方法について説明する。
本発明化合物は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として有用である。本発明化合物は、ウイルスのインテグラーゼに対して顕著な阻害作用を有する。よって本発明化合物は、動物細胞内で感染時に少なくともインテグラーゼを産出して増殖するウイルスに起因する各種疾患に対して、予防又は治療効果が期待でき、例えば、レトロウイルス(例、HIV−1、HIV−2、HTLV−1、SIV、FIV等)に対するインテグラーゼ阻害剤として有用であり、抗HIV薬等として有用である。
また、本発明化合物は、逆転写酵素阻害剤および/またはプロテアーゼ阻害剤等の異なる作用メカニズムを有する抗HIV薬と組み合わせて併用療法に用いることもできる。特に現在、抗インテグラーゼ阻害剤は上市されておらず、本発明化合物と逆転写酵素阻害剤および/またはプロテアーゼ阻害剤とを組み合わせて併用療法に用いることは有用である。
さらに、上記の使用としては、抗HIV用合剤としてのみならず、カクテル療法等のように、他の抗HIV薬の抗HIV活性を上昇させるような併用剤としての使用も含まれる。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、HIVやMLVをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
本発明化合物は、経口的又は非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤;水剤;油性懸濁剤;またはシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性または油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗HIV薬としては、特に経口剤が好ましい。
本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体または希釈剤とともに組み合わせる(例えば混合する)ことによって製造される。本発明化合物の製剤は、周知の、容易に入手できる成分を用いて既知の方法により製造される。
本発明化合物の医薬組成物を製造する際、活性成分は担体と混合されるかまたは担体で希釈されるか、カプセル、サッシェー、紙、あるいは他の容器の形態をしている担体中に入れられる。担体が希釈剤として働く時、担体は媒体として働く固体、半固体、又は液体の材料であり、それらは錠剤、丸剤、粉末剤、口中剤、エリキシル剤、懸濁剤、エマルジョン剤、溶液剤、シロップ剤、エアロゾル剤(液体媒質中の固体)、軟膏にすることができ、例えば、10%までの活性化合物を含む。本発明化合物は投与に先立ち、製剤化するのが好ましい。
当業者には公知の適当な担体はいずれもこの製剤のために使用できる。このような製剤では担体は、固体、液体、または固体と液体の混合物である。例えば、静脈注射のために本発明化合物を2mg/mlの濃度になるよう、4%デキストロース/0.5%クエン酸ナトリウム水溶液中に溶解する。固形の製剤は粉末、錠剤およびカプセルを包含する。固形担体は、香料、滑沢剤、溶解剤、懸濁剤、結合剤、錠剤崩壊剤、カプセル剤にする材料としても役立つ1又はそれ以上の物質である。経口投与のための錠剤は、トウモロコシデンプン、アルギン酸などの崩壊剤、および/又はゼラチン、アカシアなどの結合剤、およびステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸、滑石などの滑沢剤とともに炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、ラクトース、リン酸カルシウムなどの適当な賦形剤を含む。
粉末剤では担体は細かく粉砕された活性成分と混合された、細かく粉砕された固体である。錠剤では活性成分は、適当な比率で、必要な結合性を持った担体と混合されており、所望の形と大きさに固められている。粉末剤および錠剤は約1〜約99重量%の本発明の新規化合物である活性成分を含んでいる。適当な固形担体は、炭酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、滑石、砂糖、ラクトース、ペクチン、デキストリン、デンプン、ゼラチン、トラガカントゴム、メチルセルロース、ナトリウムカルボキシメチルセルロース、低融点ワックス、ココアバターである。
液体製剤は懸濁剤、エマルジョン剤、シロップ剤、およびエリキシル剤を含む。活性成分は、滅菌水、滅菌有機溶媒、または両者の混合物などの製薬上許容し得る担体中に溶解又は懸濁することができる。活性成分はしばしば適切な有機溶媒、例えばプロピレングリコール水溶液中に溶解することができる。水性デンプン、ナトリウムカルボキシメチルセルロース溶液、または適切な油中に細かく砕いた活性成分を散布することによってその他の組成物を製造することもできる。
本発明化合物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によっても異なるが、通常、経口投与の場合、成人1日あたり約0.05mg〜3000mg、好ましくは、約0.1mg〜1000mgを、要すれば分割して投与すればよい。また、非経口投与の場合、成人1日あたり約0.01mg〜1000mg、好ましくは、約0.05mg〜500mgを投与する。
【0007】
【実施例】
以下に本発明の実施例を示す。反応は通常、窒素気流中で行い、また反応溶媒には、モレキュラーシーブス等で乾燥したものを用いた。抽出液の乾燥は、硫酸ナトリウム又は硫酸マグネシウム等で行なった。
(試薬)
n−ブチルリチウム=1.5mol/lヘキサン溶液
水素化ナトリウム=60%オイルサスペンジョン
(略号)
Et=エチル;Bn=ベンジル;MeOH=メタノール;EtOH=エタノール;DMF=N,N−ジメチルホルムアミド;THF=テトラヒドロフラン;DMSO=ジメチルスルホキシド;HOBt=1−ヒドロキシベンゾトリアゾール;WSCD=1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩
実施例1
化合物A−1
【化50】
Figure 2004244320
第1工程
文献 (Inorg. Chem., 40, 6746 (2001)) 既知の化合物1 (302 mg, 1.00 mmol)に、室温で4−フルオロベンジルアミン (1.20 g) を加え、18時間攪拌した。反応混合物を2 mol/L塩酸に加えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール (10:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物2 (214 mg) を無色結晶として収率56%で得た。
NMR (CDCl) δ: 2.54 (3H, s), 3.55 (3H, s), 4.49 (2H, d, J=6.0Hz), 5.27 (2H, s), 6.98 (2H, m), 7.18−7.35 (5H, m), 7.42 (2H, m), 7.80 (1H, brt).第2工程
化合物2 (76.0 mg, 0.199 mmol) およびヨウ化ナトリウム (238 mg, 1.59 mmol) のアセトニトリル (4 ml) 溶液に、室温でクロロトリメチルシラン (0.200 ml, 1.58 mmol) を加え、1時間攪拌した。反応液を水に加えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール (10:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物A−1 (46.0 mg) を無色結晶として収率82%で得た。
融点: 152−153 ℃
NMR (CDCl) δ: 2.44 (3H, s), 3.55 (3H, s), 4.57 (2H, d, J=6.3Hz), 7.05 (2H, m), 7.31 (2H, m), 7.94 (1H, brt).実施例1の合成法に準じ、化合物A−2〜3を合成した。
【化51】
Figure 2004244320
化合物A−2
融点: 182−183 ℃
NMR (CDCl) δ: 2.45 (3H, s), 2.85 (3H, t, J=7.5Hz), 3.44 (3H, s), 3.50 (2H, m), 7.12 (2H, m), 7.27 (2H, m), 8.85 (1H, brt), 12.22 (1H, brs).化合物A−3
融点: 216−217 ℃
NMR (CDCl) δ: 2.42 (3H, s), 4.58 (2H, d, J=6.0Hz), 7.06 (2H, m), 7.33 (2H, m), 8.02 (1H, brt).
実施例2
化合物A−4
【化52】
Figure 2004244320
第1工程
文献 (Inorg. Chem., 40, 6746 (2001)) 既知の化合物3 (500 mg, 1.74 mmol)のジメチルホルムアミド (8 ml) 溶液に氷冷下、60%水素化ナトリウム (83.0 mg, 2.08 mmol) を加え、室温で20分間攪拌した後、2−(2−ブロモエトキシ)テトラヒドロ−2H−ピラン (434 mg, 2.09 mmol) を加え、2時間攪拌した。反応液を水に加えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。酢酸エチルで溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物4 (258 mg) を無色油状物として収率36%で得た。
NMR (CDCl) δ: 1.32 (3H, t, J=6.9Hz), 1.40−1.80 (6H, m), 2.66 (3H, s),3.45 (1H, m), 3.60−3.80 (2H, m), 4.05 (1H, m), 4.15−4.35 (2H, m), 4.35 (2H, q, J=6.9Hz), 4.50 (1H, m), 5,22 (1H, d, J=10.8Hz), 5,27 (1H, d, J=10.8Hz), 7.20−7.50 (5H, m).
第2工程
化合物4 (258 mg, 0.619 mmol) に、室温で4−フルオロベンジルアミン (0.800ml) を加え、20時間攪拌した。反応混合物を2 mol/L塩酸に加えた後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール (10:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物5 (55 mg) を無色結晶として収率21%で得た。
NMR (CDCl) δ: 2.61 (3H, s), 3.99 (2H, m), 4.20 (2H, t, J=4.8Hz), 4.47 (2H, d, J=5.7Hz), 5.23 (2H, s), 6.97 (2H, m), 7.22 (2H, m), 7.27−7.40 (5H, m), 7.81 (1H, brt).
第3工程
実施例1第2工程に記載の合成法に準じ、化合物5から化合物A−4を得た。
融点: 156−157 ℃
NMR (CDCl) δ: 2.53 (3H, s), 3.98 (2H, m), 4.22 (2H, t, J=5.1Hz), 4.57 (2H, d, J=6.3Hz), 7.05 (2H, m), 7.32 (2H, m), 7.96 (1H, brt), 11.88 (1H,
s).
実施例3
化合物A−5
【化53】
Figure 2004244320
第1工程
文献 (Bull. Soc. Chim. France, 51, 691 (1932)) 既知の化合物6 (14.2 g, 55.5 mmol) およびシュウ酸ジエチル (7.50 ml, 55.2 mmol) のTHF (100 ml) −エタノール (0.2 ml) の混合溶液に、氷冷下、60%水素化ナトリウム (2.37 g, 59.3 mmol) を加え、室温で23時間攪拌した。溶媒を減圧下留去して得られた褐色油状物のエタノール (100 ml)溶液に、室温でナトリウムエトキシド (3.75 g, 55.1 mmol) および臭化水素酸S−エチルイソチオ尿素 (10.2 g, 55.0 mmol) を加え、60℃で2.5時間攪拌した。溶媒を減圧下留去した後、水 (100 ml) およびクロロホルム (100 ml) を加え、2 mol/L塩酸で中和し、クロロホルムで抽出した。抽出液を水洗した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル (3:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物7 (5.78 g) を黄色油状物として収率31%で得た。
NMR (CDCl) δ: 1.31 (3H, t, J=7.2Hz), 1.38 (3H, t, J=7.2Hz), 3.21 (2H, q, J=7.2Hz), 4.33 (2H, q, J=7.2Hz), 5.25 (2H, s), 7.28−7.51 (5H, m), 11.28 (1H, brs).
第2工程
化合物7 (2.79 g, 8.34 mmol) のアセトン (25 ml) 溶液に、室温で炭酸カリウム (1.73 g, 12.5 mmol) およびヨウ化メチル (0.780 ml, 12.5 mmol) を加え、1.5時間攪拌した後、氷冷下、水 (25 ml) を加え、クロロホルムで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル (5:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物8 (2.35 g) を無色油状物として収率81%で得た。
NMR (CDCl) δ: 1.30 (3H, t, J=7.2Hz), 1.39 (3H, t, J=7.2Hz), 3.22 (2H, q, J=7.2Hz), 3.53 (3H, s), 4.32 (2H, q, J=7.2Hz), 5.19 (2H, s), 7.26−7.50 (5H, m).
第3工程
化合物8 (1.28 g, 3.67 mmol) のメタノール (18 ml) −水(18 ml) の混合懸濁液に、室温でオキソン(登録商標) (3.68 g, 5.99 mmol) を加え75分間攪拌した後、50℃で2時間攪拌した。反応液に氷冷下、水 (18 ml) を加えることによって析出した結晶をろ取し、水洗した後、減圧下加熱乾燥することによって、化合物9 (846 mg) を無色結晶として収率61%で得た。
NMR (CDCl) δ: 1.29 (3H, t, J=7.2Hz), 1.54 (3H, t, J=7.2Hz), 3.68 (2H, q, J=7.2Hz), 3.88 (3H, s), 4.32 (2H, q, J=7.2Hz), 5.42 (2H, s), 7.30−7.49 (5H, m).
第4工程
[1,2]チアジナン1,1−ジオキシド (172 mg, 1.27 mmol) のテトラヒドロフラン(8 ml) 溶液に氷冷下、60%水素化ナトリウム (51.7 mg, 1.29 mmol) を加え、30分間攪拌した後、化合物9 (400 mg, 1.05 mmol) を加え、室温で75分間、50℃で45分間攪拌した。反応液に氷冷下、水 (8 ml) を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル (2:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物10 (443 mg) を無色結晶として収率100%で得た。
NMR (CDCl) δ: 1.30 (3H, t, J=7.2Hz), 1.61 (1H, m), 2.26−2.61 (3H, m),2.99 (1H, m), 3.50−3.70 (2H, m), 4.01 (1H, m), 4.32 (2H, q, J=7.2Hz), 5.21 (1H, d, J=10.7Hz), 5.37 (1H, d, J=10.7Hz), 7.26−7.52 (5H, m).第5工程
化合物10 (401 mg, 0.951 mmol) のメタノール (8 ml) 溶液に、室温で1 mol/L水酸化リチウム水溶液を加え、2.5時間攪拌した。氷冷下、反応液に2 mol/L塩酸を加え中和した後、飽和食塩水 (15 ml) を加え、クロロホルムで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することによって得られたカルボン酸の粗生成物、4−フルオロベンジルアミン (0.130 ml, 1.14 mmol) および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール (12.7 mg, 0.0940 mmol) のジメチルホルムアミド(10 ml) 懸濁液に、室温で1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩 (216 mg, 1.13 mmol) を加え、3時間攪拌した。反応液に水 (30 ml)を滴下することによって析出した結晶をろ取し、水洗した後、減圧下加熱乾燥することによって、化合物11 (238 mg) を無色結晶として収率50%で得た。
NMR (DMSO−d) δ: 1.58 (1H, m), 2.19 (3H, m), 3.40−3.60 (2H, m), 3.49 (3H, s), 3.78 (2H, m), 4.43 (2H, d, J=6.6Hz), 5.12 (2H, s), 7.08 (2H, m),
7.28−7.44 (7H, m), 8.95 (1H, brt).
第6工程
化合物11 (200 mg, 0.400 mmol) およびピリジン塩酸塩 (2.0 g) の混合物を180℃で5分間攪拌した。反応混合物に放冷後、水 (10 ml) を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することによって得られた結晶性の残さをアセト二トリルで再結晶を行い、化合物A−5 (105 mg) を無色結晶として収率64%で得た。
融点: 222−224 ℃ (アセトニトリル)
NMR (CDCl) δ: 1.78 (1H, m), 2.06 (1H, m), 2.35 (2H, m), 3.24 (2H, m), 3.64 (3H, s), 3.77 (2H, m), 4.56 (1H, dd, J=6.3, 15.0Hz), 4.64 (1H, dd, J=6.3, 15.0Hz), 7.07 (2H, m), 7.32 (2H, m), 7.52 (1H, brt), 12.22 (1H, s).
実施例4
化合物A−6
【化54】
Figure 2004244320
第1工程
実施例3第2工程に記載の合成法に準じ、文献 (Inorg. Chem., 40, 6746 (2001)) 既知の化合物3から化合物12を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.33 (3H, t, J=7.2Hz), 2.48 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.36 (2H, q, J=7.2Hz), 5.23 (2H, s), 5.31 (2H, s), 6.85 (2H, d, J=8.7Hz), 7.10 (2H, d, J=8.7Hz), 7.27−7.52 (5H, m).
第2工程
実施例3第5工程に記載の合成法に準じ、化合物12から化合物13を得た。
NMR (CDCl) δ: 2.47 (3H, s), 3.79 (3H, s), 4.49 (2H, d, J=6.9Hz), 5.22 (2H, s), 5.35 (2H, s), 6.85 (2H, d, J=9.0Hz), 6.98 (2H, m), 7.08 (2H, d,J=9.0Hz), 7.22 (2H, m), 7.26−7.43 (5H, m), 7.85 (1H, brt).第3工程
実施例1第2工程に記載の合成法に準じ、化合物13から化合物A−6を得た。
融点: 150−151 ℃
NMR (CDCl) δ: 2.38 (3H, s), 3.78 (3H, s), 4.56 (2H, d, J=6.3Hz), 5.22 (2H, s), 6.84 (2H, d, J=8.7Hz), 7.04 (2H, m), 7.15 (2H, d, J=8.7Hz), 7.30 (2H, m), 7.85 (1H, brt), 11.95 (1H, s).実施例5
化合物A−7, A−8
【化55】
Figure 2004244320
第1工程
実施例3第1工程に記載の合成法に準じ、メトキシ酢酸メチル (14) から化合物15を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.39 (3H, t, J=7.2Hz), 1.40 (3H, t, J=7.2Hz), 3.20 (2H, q, J=7.2Hz), 3.97 (3H, s), 4.40 (2H, q, J=7.2Hz), 11.07 (1H, brs).第2工程
実施例3第2工程に記載の合成法に準じ、化合物15から化合物16を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.39 (3H, t, J=7.2Hz), 1.40 (3H, t, J=7.2Hz), 3.22 (2H, q, J=7.2Hz), 3.51 (3H, s), 3.94 (3H, s), 4.40 (2H, q, J=7.2Hz).第3工程
実施例3第5工程に記載の合成法に準じ、化合物16から化合物17を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.37 (3H, t, J=7.2Hz), 3.16 (2H, q, J=7.2Hz), 3.51 (3H, s), 3.97 (3H, s), 4.58 (2H, d, J=5.7Hz), 7.03 (2H, m), 7.31 (2H, m), 7.65 (1H, brt).
第4工程
実施例3第3工程に記載の合成法に準じ、化合物17から化合物18 (収率28%) と化合物19 (収率49%) を得た。
化合物18
NMR (CDCl) δ: 1.55 (3H, t, J=7.2Hz), 3.71 (2H, q, J=7.2Hz), 3.87 (3H, s), 4.13 (3H, s), 4.59 (2H, d, J=6.0Hz), 7.05 (2H, m), 7.30 (2H, m), 7.54 (1H, brt).
化合物19
NMR (CDCl) δ: 3.35 (3H, s), 3.95 (3H, s), 4.60 (2H, d, J=6.0Hz), 7.06 (2H, m), 7.29 (2H, m), 8.32 (1H, brs), 8.41 (1H, brs).第5工程
化合物18 (250 mg, 0.652 mmol) に、室温でモルホリン (0.500 ml) を加え、90℃で15分間攪拌した。反応混合物に氷冷下、水 (5 ml) を加えた後、2 mol/L塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール (50:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物20 (131 mg) を無色油状物として収率53%で得た。
NMR (CDCl) δ: 3.17 (4H, m), 3.52 (3H, s), 3.83 (4H, m), 3.96 (3H, s), 4.58 (2H, d, J=6.0Hz), 7.03 (2H, m), 7.32 (2H, m), 7.75 (1H, brt).第6工程
化合物20 (131 mg, 0.348 mmol) およびヨウ化ナトリウム (417 mg, 2.78 mmol) のアセトニトリル (5 ml) 溶液に、室温でクロロトリメチルシラン (0.355 ml, 2.80 mmol) を加え、40分間攪拌した後、16時間加熱還流した。反応液に氷冷下、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 (5 ml) を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去することによって得られた結晶性の残さを酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルで再結晶を行い、化合物A−7 (67.1 mg) を無色結晶として収率53%で得た。
融点: 158−159 ℃ (酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル)
NMR (CDCl) δ: 3.05 (4H, m), 3.56 (3H, s), 3.83 (4H, m), 4.59 (2H, d, J=6.6Hz), 7.06 (2H, m), 7.32 (2H, m), 7.75 (1H, brt), 11.76 (1H, s).第7工程
化合物19 (2.27 g, 7.39 mmol)の酢酸 (20 ml) 溶液に、室温で47%臭化水素酸水溶液 (20 ml) を加え、7時間加熱還流した。反応液に氷冷下、2 mol/L水酸化ナトリウム水溶液を加え中和することによって析出した結晶をろ取し、水洗した後、減圧下加熱乾燥することによって、化合物A−8 (1.64 g) を無色結晶として収率76%で得た。
融点: 287−289 ℃
NMR (DMSO−d) δ: 3.23 (3H, s), 4.53 (2H, d, J=5.7Hz), 7.21 (2H, m), 7.42 (2H, m), 8.93 (1H, brt), 9.92 (1H, brs).実施例5の合成法に準じ、化合物A−9〜12を合成した。
【化56】
Figure 2004244320
化合物A−9
融点: 154−156 ℃ (酢酸エチル)
NMR (CDCl) δ: 0.97 (3H, t, J=7.5Hz), 1.65 (2H, m), 3.30 (2H, m), 3.44 (3H, s), 4.28 (1H, brt), 4.58 (2H, d, J=6.3Hz), 7.05 (2H, m), 7.31 (2H, m), 7.84 (1H, brt), 11.21 (1H, s).
化合物A−10
融点: 237−239 ℃ (アセトニトリル)
NMR (DMSO−d) δ: 2.85 (3H, s), 3.27 (3H, s), 4.45 (2H, d, J=6.3Hz), 6.79 (1H, brs), 7.15 (2H, m), 7.35 (2H, m), 9.14 (1H, brt).化合物A−11
融点: 238−241 ℃ (メタノール)
NMR (DMSO−d) δ: 2.86 (3H, s), 3.10−3.74 (8H, m), 3.40 (3H, s), 4.48 (2H, d, J=6.6Hz), 7.17 (2H, m), 7.37 (2H, m), 9.27 (1H, brt), 12.00 (1H, s).
化合物A−12
融点: 249−250 ℃ (アセトニトリル)
NMR (DMSO−d) δ: 3.20−3.34 (8H, m), 3.45 (3H, s), 4.48 (2H, d, J=6.3Hz), 6.81 (1H, m), 6.99 (2H, m), 7.17 (2H, m), 7.24 (2H, m), 7.38 (2H, m),9.22 (1H, brt), 11.93 (1H, s).
実施例6
化合物A−13, A−14
【化57】
Figure 2004244320
第1工程
実施例3第1工程に記載の合成法に準じ、文献 (Bull. Soc. Chim. France, 51, 691 (1932)) 既知の化合物6から化合物20を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.36 (3H, t, J=7.2Hz), 4.40 (2H, q, J=7.2Hz), 5.37 (2H, s), 7.30−7.56 (8H, m), 8.19 (2H, m), 12.78 (1H, brs).
第2工程
実施例1第1工程に記載の合成法に準じ、化合物20から化合物21を得た。
NMR (DMSO−d) δ: 4.43 (2H, d, J=6.3Hz), 5.17 (2H, s), 7.07 (2H, m), 7.28−7.62 (10H, m), 8.12 (2H, m), 9.04 (1H, brt), 13.15 (1H, brs).
第3工程
実施例1第2工程に記載の合成法に準じ、化合物21から化合物A−13を得た。
融点: 236−237 ℃
NMR (DMSO−d) δ: 4.52 (2H, d, J=6.3Hz), 7.17 (2H, m), 7.40 (2H, m), 7.52 (3H, m), 8.24 (2H, m), 9.62 (1H, brt), 12.88 (1H, brs).第4工程
実施例3第2工程に記載の合成法に準じ、化合物20から化合物22を得た。
NMR (CDCl) δ: 1.31 (3H, t, J=7.2Hz), 3.49 (3H, s), 4.34 (2H, q, J=7.2Hz), 5.34 (2H, s), 7.28−7.55 (10H, m), 8.19 (2H, m), 12.78 (1H, brs).
第5工程
実施例1第1工程に記載の合成法に準じ、化合物22から化合物23を得た。
NMR (CDCl) δ: 3.48 (3H, s), 4.51 (2H, d, J=6.0Hz), 5.38 (2H, s), 6.97 (2H, m), 7.23 (2H, m), 7.30−7.40 (3H, m), 7.46−7.56 (7H, m), 7.78 (1H,brt).
第6工程
実施例1第2工程に記載の合成法に準じ、化合物23から化合物A−14を得た。
融点: 141−142 ℃
NMR (CDCl) δ: 3.46 (3H, s), 4.56 (2H, d, J=6.3Hz), 7.02 (2H, m), 7.29 (2H, m), 7.40−7.55 (5H, m), 7.92 (1H, brt), 12.15 (1H, s).
実施例6の合成法に準じ、化合物A−15〜16を合成した。
【化58】
Figure 2004244320
化合物A−15
融点: 249−250 ℃
NMR (DMSO−d) δ: 4.52 (2H, d, J=6.3Hz), 7.17 (2H, m), 7.35 (2H, m), 7.40 (2H, m), 8.33 (2H, m), 9.65 (1H, brt), 12.58 (1H, brs), 12.96 (1H, brs).
化合物A−16
融点: 151−152 ℃
NMR (CDCl) δ: 3.46 (3H, s), 4.56 (2H, d, J=6.0Hz), 7.03 (2H, m), 7.19 (2H, m), 7.29 (2H, m), 7.44 (2H, m), 7.88 (1H, brt), 12.17 (1H, s).
実施例7
【化59】
Figure 2004244320
化合物A−17
第1工程
p−トルニトリル (24) (11.7 g, 99.9 mmol) および塩酸ヒドロキシルアンモニウム (27.0g, 389 mmol) のエタノール (50 ml) −水 (50 ml) の混合溶液に、室温で炭酸カリウム (26.8 g, 194 mmol) を加え、15分間攪拌した後、2.5時間加熱還流した。エタノールを減圧下留去した後、水を加えることによって析出した結晶をろ取し、水洗した後、減圧下加熱乾燥することによって、化合物25 (13.8 g) を無色結晶として収率92%で得た。
NMR (DMSO−d) δ: 2.29 (3H, s), 5.71 (2H, s), 7.15 (2H, d, J=8.1Hz), 7.54 (2H, d, J=8.1Hz), 9.50 (1H, s).
第2工程
化合物25 (4.50 g, 30.0 mmol) のクロロホルム (17 ml) 溶液に、室温でアセチレンジカルボン酸ジメチル (3.75 ml, 30.5 mmol) を加え、40分間加熱還流した。溶媒を減圧下留去して得られた褐色油状物のキシレン (30 ml) 溶液を1.5時間加熱還流した後、反応液を0℃に冷却することによって析出した結晶をろ取し、減圧下加熱乾燥することによって、化合物26 (1.90 g) を無色結晶として収率24%で得た。
NMR (DMSO−d) δ: 2.36 (3H, s), 3.85 (3H, s), 7.30 (2H, d, J=8.1Hz), 7.92 (2H, d, J=8.1Hz), 10.55 (1H, brs), 12.81 (1H, brs).
第3工程
化合物26 (1.90 g, 7.30 mmol) のジメチルホルムアミド (15 ml) 溶液に、室温で炭酸カリウム (3.05 g, 22.1 mmol) およびヨウ化メチル (1.40 ml, 22.5 mmol) を加え、23時間攪拌した後、氷冷下、水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。ヘキサン−酢酸エチル (1:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物27 (690 mg) を無色油状物として収率33%で得た。
NMR (CDCl) δ: 2.42 (3H, s), 3.47 (3H, s), 3.93 (3H, s), 4.06 (3H, s), 7.29 (2H, d, J=8.4Hz), 7.39 (2H, d, J=8.4Hz).
第4工程
化合物27から実施例1第1工程に記載の合成法に準じ、化合物28を得た。
NMR (DMSO−d) δ: 2.36 (3H, s), 3.38 (3H, s), 3.82 (3H, s), 4.37 (2H, d,J=6.0Hz), 7.13 (2H, m), 7.30−7.40 (4H, m), 7.51 (2H, d, J=8.1Hz), 8.89(1H, t, J=6.0Hz).
第5工程
化合物28から実施例5第6工程に記載の合成法に準じ、化合物A−17を得た。
融点: 181−182 ℃
NMR (DMSO−d) δ: 2.38 (3H, s), 3.31 (3H, s), 4.44 (2H, d, J=6.3Hz), 7.14 (2H, m), 7.30−7.40 (4H, m), 7.53 (2H, d, J=8.1Hz), 9.34 (1H, t, J=6.3Hz), 12.42 (1H, s).
実施例8
化合物B−1
【化60】
Figure 2004244320
第1工程
文献 (Tetrahedron, 57, 3479 (2001)) 既知の化合物29 (3.00 g, 8.95 mmol)、4−フルオロベンジルアミン (1.20 ml, 10.5 mmol) および1−ヒドロキシベンゾトリアゾール (123 mg, 0.910 mmol) のジメチルホルムアミド (30 ml) 懸濁液に、室温で1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩 (2.06 g, 10.7 mmol) を加え、2.5時間攪拌した。反応液に、室温で水 (60 ml) を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水および飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去することによって得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム−メタノール (40:1 v/v) で溶出して得られた目的物の分画を減圧下濃縮することによって、化合物30(2.58 g) を無色結晶として収率65%で得た。
NMR (CDCl) δ: 4.59 (2H, d, J=6.3Hz), 5.14 (2H, s), 5.19 (2H, s), 6.96−7.04 (3H, m), 7.26−7.33 (5H, m), 7.36−7.46 (7H, m), 7.95 (1H, brt), 8.22 (1H, d, J=5.1Hz).
第2工程
化合物30から実施例3第6工程に記載の合成法に準じ、化合物B−1を得た。
融点: 258−260 ℃(メタノール)
NMR (DMSO−d) δ: 4.51 (2H, d, J=5.7Hz), 6.75 (1H, brs), 7.16 (2H, m), 7.38 (2H, m), 7.70 (1H, brs), 9.82 (1H, brs).実施例8の合成法に準じ、化合物B−2を合成した。
【化61】
Figure 2004244320
化合物B−2
融点: 208−210 ℃(メタノール)
NMR (DMSO−d) δ: 2.85 (2H, t, J=6.9Hz), 3.55 (2H, dd, J=6.9, 6.9Hz), 6.71 (1H, brs), 7.11 (2H, m), 7.28 (2H, m), 7.68 (1H, brs), 9.29 (1H, brs).
試験例
本発明化合物のインテグラーゼ阻害作用を以下に示すアッセイ法に基づき調べた。
(1)DNA溶液の調製
アマシャムファルマシア社により合成された以下の各DNAを、KTEバッファー液(組成:100mM KCl, 1mM EDTA, 10mM Tris−塩酸 (pH 7.6)) に溶解させることにより、基質DNA溶液(2 pmol/ml)およびターゲットDNA溶液(5 pmol/ml)を調製した。各溶液は、一旦煮沸後、ゆるやかに温度を下げて相補鎖同士をアニーリングさせてから用いた。
(基質DNA配列)
5’− Biotin−ACC CTT TTA GTC AGT GTG GAA AAT CTC TAG CAG T−3’
3’− GAA AAT CAG TCA CAC CTT TTA GAG ATC GTC A−5’
(ターゲットDNA配列)
5’− TGA CCA AGG GCT AAT TCA CT−Dig−3’
3’−Dig−ACT GGT TCC CGA TTA AGT GA −5’
(2)阻害率(IC50値)の測定
Streptavidin(Vector Laboratories社製)を0.1M炭酸バッファー液(組成: 90 mM NaCO, 10 mM NaHCO)に溶かし、濃度を 40 μg/mlにした。この溶液、各50 mlをイムノプレート(NUNC社製)のウエルに加え、4℃で一夜静置、吸着させる。次に各ウエルをリン酸バッファー(組成: 13.7 mM NaCl, 0.27 mM KCl, 0.43 mM NaHPO, 0.14 mM KHPO)で2回洗浄後、1% スキムミルクを含むリン酸バッファー 300 mlを加え、30 分間ブロッキングした。さらに各ウエルをリン酸バッファーで2回洗浄後、基質DNA溶液(2 pmol/ml) 50 mlを加え、振盪下、室温で30 分間吸着させた後、リン酸バッファーで2回、次いで蒸留水で1回洗浄した。
次に上記方法で調製した各ウエルに、バッファー(組成:150 mM MOPS (pH7.2), 75 mM MnCl, 50 mM 2−mercaptoethanol, 25% glycerol, 500 μg/ml bovineserum albumin −fraction V)12 ml、蒸留水39 mlから調製した反応溶液51 mlを加えた。次にインテグラーゼ溶液(30 pmol)9mlを加え、良く混合した。ネガティブコントロール(NC)としてのウエルには、希釈液(組成: 20 mM MOPS (pH7.2), 400 mM potassium glutamete, 1 mM EDTA, 0.1% NP−40, 20% glycerol, 1 mM DTT, 4 M urea)9mlを加えプレートミキサーを用いて良く混合した。
プレートを30 ℃で60分インキュベート後、反応液を捨て、250 mlのバッファーで3回洗浄した。
次に各ウエルにバッファー(組成:150 mM MOPS (pH7.2), 75 mM MnCl, 50 mM 2−mercaptoethanol, 25% glycerol, 500 μg/ml bovine serum albumin −fraction V)12 ml、蒸留水41 mlから調製した反応溶液53 mlを加える。さらに各ウエルに被検化合物のDMSO溶液6 mlを加え、ポジティブコントロール(PC)としてのウエルには、DMSO 6 mlを加え、プレートミキサーを用いてよく混合する。プレートを30 ℃で30分インキュベート後、ターゲットDNA (5 pmol/ml)1mlを加え、プレートミキサーを用いてよく混合した。
各プレートを30 ℃で10分間インキュベート後、反応液を捨て、リン酸バッファーで2回洗浄した。次にアルカリフォスファターゼ標識した抗ジゴキシゲニン抗体(ヒツジFabフラグメント:ベーリンガー社製)を抗体希釈液で2000倍に希釈して100 ml加え、 30 ℃で1時間結合させた後、0.05 % Tween20を含むリン酸バッファーで2回、リン酸バッファーで1回、順次洗浄した。次に、アルカリフォスファターゼ呈色バッファー(組成:10 mMパラニトロフェニルホスフェート(Vector Laboratories社製), 5 mM MgCl, 100 mM NaCl, 100 mM Tris−塩酸(pH 9.5))を150 ml加えて30 ℃で2時間反応させ、1N NaOH溶液50 mlを加え反応を止めた後、各ウエルの吸光度(OD405nm)を測定し、以下の計算式に従い阻害率を求めた。
阻害率(%)=100[1−[(C abs.− NC abs.) / (PC abs.− NC abs.)]]
C abs.;化合物のウエルの吸光度
NC abs.:NCの吸光度
PC abs.:PCの吸光度
次にIC50値は、上記の阻害率を用いて以下の計算式で求められる。
すなわち阻害率50 %をはさむ2点の濃度において、xμg/mlの濃度で阻害率X %、yμg/mlの濃度で阻害率Y %をそれぞれ示す時、IC50(μg/ml)= x−[(X−50)(x−y)/(X−Y)]となる。
阻害率50%に相当する化合物濃度(IC50)を以下の表に示す。表中の化合物No.は実施例の化合物No.を示す。
【表1】
Figure 2004244320
上記に示した化合物以外の本発明化合物も、上記同様、あるいはそれ以上のインテグラーゼ阻害活性を示した。
また、本発明化合物は、代謝に対する安定性が高く、優れたインテグラーゼ阻害剤である。
製剤例
以下に示す製剤例1〜8は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。「活性成分」なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらのプロドラッグ、それらの製薬的に許容される塩又はそれらの溶媒和物を意味する。
(製剤例1)
硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する:
Figure 2004244320
(製剤例2)
錠剤は下記の成分を用いて製造する:
Figure 2004244320
成分を混合し、圧縮して各重量665mgの錠剤にする。
(製剤例3)
以下の成分を含有するエアロゾル溶液を製造する:
Figure 2004244320
活性成分とエタノールを混合し、この混合物をプロペラント22の一部に加え、−30℃に冷却し、充填装置に移す。ついで必要量をステンレススチール容器へ供給し、残りのプロペラントで希釈する。バブルユニットを容器に取り付ける。
(製剤例4)
活性成分60mgを含む錠剤は次のように製造する:
活性成分 60mg
デンプン 45mg
微結晶性セルロース 35mg
ポリビニルピロリドン(水中10%溶液) 4mg
ナトリウムカルボキシメチルデンプン 4.5mg
ステアリン酸マグネシウム 0.5mg
滑石 1mg
合計 150mg
活性成分、デンプン、およびセルロースはNo.45メッシュU.S.のふるいにかけて、十分に混合する。ポリビニルピロリドンを含む水溶液を得られた粉末と混合し、ついで混合物をNo.14メッシュU.S.ふるいに通す。このようにして得た顆粒を50℃で乾燥してNo.18メッシュU.S.ふるいに通す。あらかじめNo.60メッシュU.S.ふるいに通したナトリウムカルボキシメチルデンプン、ステアリン酸マグネシウム、および滑石をこの顆粒に加え、混合した後、打錠機で圧縮して各重量150mgの錠剤を得る。
(製剤例5)
活性成分80mgを含むカプセル剤は次のように製造する:
活性成分 80mg
デンプン 59mg
微結晶性セルロース 59mg
ステアリン酸マグネシウム 2mg
合計 200mg
活性成分、デンプン、セルロース、およびステアリン酸マグネシウムを混合し、No.45メッシュU.S.のふるいに通して硬質ゼラチンカプセルに200mgずつ充填する。
(製剤例6)
活性成分225mgを含む坐剤は次のように製造する:
活性成分 225mg
飽和脂肪酸グリセリド 2000mg
合計 2225mg
活性成分をNo.60メッシュU.S.のふるいに通し、あらかじめ必要最小限に加熱して融解させた飽和脂肪酸グリセリドに懸濁する。ついでこの混合物を、みかけ2gの型に入れて冷却する。
(製剤例7)
活性成分50mgを含む懸濁剤は次のように製造する:
活性成分 50mg
ナトリウムカルボキシメチルセルロース 50mg
シロッ 1.25ml
安息香酸溶液 0.10ml
香料 q.v.
色素 q.v.
精製水を加え合計 5ml
活性成分をNo.45メッシュU.S.のふるいにかけ、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよびシロップと混合して滑らかなペーストにする。安息香酸溶液および香料を水の一部で希釈して加え、攪拌する。ついで水を十分量加えて必要な体積にする。
(製剤例8)
静脈用製剤は次のように製造する:
活性成分 100mg
飽和脂肪酸グリセリド 1000ml
上記成分の溶液は通常、1分間に1mlの速度で患者に静脈内投与される。
【0008】
【発明の効果】
本発明化合物は、インテグラーゼ阻害活性を有し、抗ウイルス薬、抗HIV薬等として、エイズ等の治療に有効である。

Claims (24)

  1. 式(I):
    Figure 2004244320
    (式中、式:
    Figure 2004244320
    で表される環は、
    Figure 2004244320
    (式中、RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Aから選択される置換基;RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Bから選択される置換基)で表される環;
    は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、または置換されていてもよいヘテロサイクル;
    およびVはそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン、または置換されていてもよいアルケニレン;
    は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO−、−SON(R)−、−N(R)SO−、−O−、−N(R)−、−N(R)CO−、−CON(R)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、または−C(=O)−;
    は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよいヘテロアリール;
    Wは酸素原子、硫黄原子、−N(R)−、または−CH−;
    は水素原子またはアルキル;
    Xは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
    Yはヒドロキシ、メルカプト、またはアミノ;
    Zは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
    置換基群A:水素、アルコキシカルボニル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
    置換基群B:水素、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  2. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、RおよびRは請求項1と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  3. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、R、R、およびRは請求項1と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  4. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、Rは請求項1と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  5. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、Rは請求項1と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  6. Wが−N(R)−(式中、Rは請求項1と同意義)である化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  7. −V−Vが置換されていてもよいアルキレンである化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有する請求項1記載のインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  8. 請求項1〜7のいずれかに記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療方法。
  9. インテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物を製造するための請求項1〜7のいずれかに記載の化合物の使用。
  10. 式(I):
    Figure 2004244320
    (式中、式:
    Figure 2004244320
    で表される環は、
    Figure 2004244320
    (式中、RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Aから選択される置換基;RおよびRはそれぞれ独立して置換基群Bから選択される置換基)で表される環;
    は置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、または置換されていてもよいヘテロサイクル;
    およびVはそれぞれ独立して単結合、置換されていてもよいアルキレン、または置換されていてもよいアルケニレン;
    は単結合、置換されていてもよいアルキレン、置換されていてもよいアルケニレン、−CH(OH)−、−S−、−SO−、−SO−、−SON(R)−、−N(R)SO−、−O−、−N(R)−、−N(R)CO−、−CON(R)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−、または−C(=O)−;
    は水素、置換されていてもよいアルキル、置換されていてもよいアルケニル、置換されていてもよいアリール、または置換されていてもよいヘテロアリール;
    Wは酸素原子、硫黄原子、−N(R)−、または−CH−;
    は水素原子またはアルキル;
    Xは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
    Yはヒドロキシ、メルカプト、またはアミノ;
    Zは酸素原子、硫黄原子、またはNH;
    置換基群A:水素、アルコキシカルボニル、アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
    置換基群B:水素、ハロゲン、アルコキシカルボニル、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、ニトロ、ヒドロキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルスルホニル、置換されていてもよいアミノ、アルキルチオ、アルキルチオアルキル、ハロアルキル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシアルキル、置換されていてもよいシクロアルキル、置換されていてもよいシクロアルケニル、置換されていてもよいヘテロサイクル、ニトロソ、アジド、アミジノ、グアニジノ、シアノ、イソシアノ、メルカプト、置換されていてもよいカルバモイル、スルファモイル、スルホアミノ、ホルミル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ヒドラジノ、モルホリノ、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいアラルキル、置換されていてもよいヘテロアリールアルキル、置換されていてもよいアリールオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールオキシ、置換されていてもよいアリールチオ、置換されていてもよいヘテロアリールチオ、置換されていてもよいアラルキルオキシ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルオキシ、置換されていてもよいアラルキルチオ、置換されていてもよいヘテロアリールアルキルチオ、置換されていてもよいアリールオキシアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールオキシアルキル、置換されていてもよいアリールチオアルキル、置換されていてもよいヘテロアリールチオアルキル、置換されていてもよいアリールスルホニル、置換されていてもよいヘテロアリールスルホニル、置換されていてもよいアラルキルスルホニル、および置換されていてもよいヘテロアリールアルキルスルホニルからなる群;
    ただし、環がA環、Rがフェニル、V−V−Vが単結合、およびWが酸素原子である場合、Rは非置換イミダゾリルではなく;
    環がB環、Rがメチル、V−V−Vが単結合、およびWが−NH−である場合、Rは非置換フェニル、非置換ピリジル、トリアゾリル、テトラヒドロイミダゾリルではなく;
    環がB環、Rがメチル、V−V−Vが−CH−、およびWが−NH−である場合、Rは非置換フェニルではなく;
    環がB環、Rがメチル、V−V−Vが単結合、およびWが酸素原子である場合、Rは、置換されていてもよいアリール、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよいシクロアルキル、または置換されていてもよいシクロアルケニルである)で示される化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  11. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、RおよびRは請求項10と同意義)である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  12. Wが−N(R)−(式中、Rは請求項10と同意義)である請求項11記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  13. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、R、R、およびRは請求項10と同意義)である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  14. が水素原子である請求項13記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  15. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、Rは請求項10と同意義)である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  16. 式:
    Figure 2004244320
    で表される環が、
    Figure 2004244320
    (式中、Rは請求項10と同意義)である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  17. Wが−N(R)−(式中、Rは請求項10と同意義)である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  18. −V−Vが置換されていてもよいアルキレンである請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  19. がハロゲンで置換されたアリールである請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  20. Xが酸素原子、Yがヒドロキシ、およびZが酸素原子である請求項10記載の化合物、そのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物。
  21. 請求項10〜20のいずれかに記載の化合物を有効成分として含有するそのプロドラッグ、それらの製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を有効成分として含有するインテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物。
  22. エイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療剤として使用する請求項21記載の医薬組成物。
  23. 請求項21に記載の医薬組成物を投与することを特徴とするエイズまたはエイズ関連合併症の発症予防または治療方法。
  24. インテグラーゼ阻害剤として使用する医薬組成物を製造するための請求項21に記載の化合物の使用。
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