JP2004128105A - Ｘ線発生装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ミラーの交換が簡単にできる等の利点を有するＸ線発生装置及びそれを備える露光装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線発生装置１は、球状の真空容器２を備えている。真空容器２上流側の開口２ａ内には、ミラー（第１ミラー）１０が組み込まれている。このミラー１０は、真空容器２上流側の壁の一部を構成している。ミラー１０の反射面１０ａは真空容器２内に位置しており、ミラー１０の裏面１０ｂは真空容器２外の大気側に露出している。ミラー１０の裏面１０ｂには、水冷ジャケット１５が取り付けられている。水冷ジャケット１５は、ミラー裏面１０ｂの大気側に設けられているため、配管１５ａの引き回し等が容易で構成が簡素である。また、水冷ジャケット１５が大気側に露出しているため、交換やメンテナンスも容易である。
【選択図】　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｘ線顕微鏡やＸ線分析装置、Ｘ線露光装置等のＸ線機器に装備されるＸ線発生装置と、それを備える露光装置に関する。特には、ミラーの交換が簡単にできる等の利点を有するＸ線発生装置等に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年、Ｘ線分析装置やＸ線露光装置等のＸ線機器の光源として、レーザープラズマＸ線源や放電プラズマＸ線源が注目されている。
レーザープラズマＸ線源（以下、ＬＰＸと呼ぶ）は、励起用のレーザー光を真空容器内の標的材料に集光照射してプラズマを生成し、このプラズマからＸ線を輻射させるものである。このＬＰＸは、小型でありながらアンジュレータ（シンクロトロンラジエーション）に匹敵するほどの輝度をもつ。
【０００３】
放電プラズマＸ線源は、電極にパルス高電圧を印加して放電を起こし、この放電で動作ガスをイオン化してプラズマを生成し、このプラズマから輻射されるＸ線を利用する。この放電プラズマＸ線源は、小型であり、輻射されるＸ線量が多く、低コストであり、さらにＬＰＸに比べて投入電力に対するＸ線の変換効率が高いという特徴がある。放電プラズマＸ線源の代表的なものは、デンスプラズマフォーカスＸ線源（以下、ＤＰＦＸと呼ぶ）である。
【０００４】
このようなＬＰＸやＤＰＦＸにおいては、標的材料やプラズマ近傍の部材（電極等）が、プラズマ生成時に原子やイオン状の粒子となって周囲に飛び散る（このような粒子を飛散粒子あるいはデブリと呼ぶ）。飛散粒子は、プラズマの周囲に配置された多層膜ミラー等のＸ線ミラーに付着・堆積し易く、ミラーの反射率を低下させる。このため、ＬＰＸやＤＰＦＸにおいては、多層膜ミラーをある一定期間ごとに新たなミラーに交換する必要がある。
【０００５】
前述のＸ線源を備えるＸ線発生装置においては、プラズマから輻射されるＸ線が最初に入射するミラー（第１ミラー）は、プラズマ発生チャンバ（真空容器）の内部に取り付けられている。そのため、以下に述べるような問題がある。
（１）第１ミラーを交換する際には、チャンバ内部で第１ミラーの取り外し・再取り付けを行わなければならず、ミラー交換作業に時間と手間がかかる。
（２）第１ミラーを内包する構成上、プラズマ発生チャンバが大型化してしまう。さらに、ミラーはプラズマＸ線源からの熱負荷を受けて温度が上昇するため、適宜冷却する必要があるが、それ用の冷却機構も複雑化してしまう。
【０００６】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、ミラーの交換が簡単にできる等の利点を有するＸ線発生装置及びそれを備える露光装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記の課題を解決するため、本発明のＸ線発生装置は、標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線源と、　該Ｘ線源を収容する真空容器と、　前記Ｘ線源から輻射されるＸ線が入射するミラーと、を具備し、　前記ミラーあるいはミラーを保持している部材が、前記真空容器の壁の一部を構成していることを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、ミラーあるいはミラーを保持している部材が真空容器の壁の一部を構成しているので、性能の劣化したミラーを大気側から素早く新しいミラーと交換できる。
【０００９】
本発明のＸ線発生装置においては、前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の裏面が真空容器外側に露出しているものとすることができる。
この場合、ミラーあるいはミラー保持部材を真空容器外から冷却することができるため、冷却手段を配置することが容易になる。特に真空容器外が大気の場合は、ミラーの熱が裏面側から大気に放熱されるので、ミラーの温度上昇を抑えることができる。
【００１０】
本発明のＸ線発生装置においては、前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の裏面にミラー冷却機構を設けることができる。
この場合、ミラー冷却機構を用いてミラーの温度上昇を抑えることができる。さらに、ミラー冷却機構を大気側（ミラー裏面側）に設けることができるので、冷却機構の構成が簡素化する（例えば冷却機構が水冷ジャケットである場合は、配管の引き回しが簡単になる）。また、冷却機構が大気側に露出していると、メンテナンスも容易になる。
【００１１】
本発明のＸ線発生装置においては、前記標的材料をプラズマ化するレーザー光を発生させるレーザー光源を具備し、　前記レーザー光が、前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の一部を透過、あるいは、前記ミラーに開けられた開口部を通過して、前記真空容器内に入射するものとすることができる。
固体ターゲットの場合、プラズマから輻射されるＸ線は、レーザー光の入射方向に強い強度をもつ。したがって、本手段によれば、Ｘ線源で発生したＸ線を有効にミラーに導くことができ、Ｘ線発生装置から射出するＸ線の光量を高めることができる。
【００１２】
本発明のＸ線発生装置においては、前記ミラーの位置及び姿勢を検出する検出手段と、　該ミラーの位置及び姿勢を調整する調整手段と、　前記検出手段からの信号を受けて、該ミラーが所定の位置及び姿勢をとるように、前記調整手段を制御する制御手段と、　をさらに具備するものとすることができる。
この場合、ミラーを正規の位置及び姿勢に正確にセットすることができる。したがって、ミラーの交換時やメンテナンス時等に装置のアライメントを崩すことがなく、装置の精度を維持することができる。
【００１３】
本発明の露光装置は、請求項１〜４いずれか１項記載のＸ線発生装置と、　該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、　該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、　を具備することを特徴とする。
本発明によれば、性能の劣化したミラーを素早く簡単に新たなミラーと交換でき、Ｘ線発生装置を素早く正常状態に復帰できるので、メンテナンスに要する時間や費用を削減できるとともに、装置稼動率を向上させることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施の形態に係るＸ線発生装置を有する露光装置を模式的に示す図である。
図２は、図１のＸ線発生装置におけるミラー位置・姿勢調整部を示す図である。
なお、以下の説明では、レーザー光及びＸ線の光路に沿って、図１の左側を上流側といい、図１の右側を下流側（後段の光学系側）という。
【００１５】
本実施の形態では、本発明に係るＸ線発生装置をレーザープラズマＸ線源に適用した例について述べる。
図１の露光装置の上流側には、Ｘ線発生装置１が配置されている。このＸ線発生装置１は、球状の真空容器２を備えている。この真空容器２には、真空ポンプ（真空排気装置）３が付設されている。真空容器２内は、真空ポンプ３で排気されている。真空容器２内が真空ポンプ３で減圧されることで、プラズマＰから輻射されたＸ線が減衰しないようになっている。
【００１６】
真空容器２内には、ステンレス製のガスジェットノズル４が配置されている。このガスジェットノズル４は、ガスボンベに繋がるバルブ（ともに図示されず）に接続されている。ガスボンベ内にはキセノン（Ｘｅ）等のターゲットガスが充填されている。ガスボンベ内のターゲットガスは、配管等を介してバルブに送られ、ガスジェットノズル４から真空容器２内に噴出される。この噴出されたターゲットガスが、プラズマＰを生成する際の標的材料となる。
【００１７】
真空容器２の上流側には、開口２ａが形成されている。この開口２ａ内には、ミラー（第１ミラー）１０が組み込まれている。このミラー１０は、真空容器２上流側の壁の一部を構成している。ミラー１０の反射面１０ａは真空容器２内に位置しており、ミラー１０の裏面１０ｂは真空容器２外の大気側に露出している。なお、真空容器２の開口２ａとミラー１０の側周面間には、磁性流体シール９が介装されており、両者間はシールされている。
【００１８】
ミラー１０は、この例では回転放物面形状の反射面１０ａを有する低熱膨張ガラス製（例えばゼロデュアーやＵＬＥ等）ミラーである。ミラー１０の反射面１０ａには、面中心の一部を除いてＭｏ／Ｓｉ製の多層膜１２がコートされている。この多層膜１２は、波長１３．５ｎｍのＸ線を反射するように構成されている。ミラー１０は、その焦点位置にプラズマＰが位置するように配置されている。プラズマＰから輻射されたＸ線のうち、波長１３．５ｎｍのＸ線がミラー１０の反射面１０ａで反射し、Ｘ線光束Ｅとなって後段の光学系に導かれる。
【００１９】
ミラー１０の裏面１０ｂには、水冷ジャケット（ミラー冷却機構）１５が取り付けられている。水冷ジャケット１５の配管１５ａは、図示せぬ水源・ポンプに繋がっている。水冷ジャケット１５は、プラズマＰからの輻射熱を受けて温度が上昇したミラー１０を冷却するためのものである。この水冷ジャケット１５は、ミラー裏面１０ｂの大気側に設けられているため、配管１５ａの引き回し等が容易で構成が簡素である。また、水冷ジャケット１５が大気側に露出しているため、メンテナンスも容易である。
【００２０】
ミラー１０の裏面１０ｂよりも上流側には、レーザー光源５が配置されている。ミラー１０とレーザー光源５間には、レンズ６が配置されている。このレンズ６は、レーザー光源５から放出されたＹＡＧレーザー光Ｌを、ガスジェットノズル４の先に集光する。この際、ＹＡＧレーザー光Ｌは、ミラー１０の中心（多層膜１２がコートされていない箇所）を透過する。集光されたＹＡＧレーザー光Ｌがターゲットガスに照射されることで、プラズマＰが生成され、このプラズマＰからＸ線が輻射される。なお、この際ガスジェットノズル４から噴出されたターゲットガスは、プラズマＰが生成された後に、真空ポンプ３で真空容器２外に排気される。なお、本実施例では、レンズ６を別途設けたが、ミラー１０のレーザー光が通過する部分を凸形状としてレンズの役割を兼ねるものとし、レンズ６を省くこともできる。
【００２１】
ミラー１０の裏面１０ｂ側には、鍔状に張り出したフランジ部１３が形成されている。このフランジ部１３は、真空容器２外面に形成された係合突起１４に係合している。真空容器２とミラー１０のフランジ部１３間には、ピエゾ素子８（調整手段）が取り付けられている。このピエゾ素子８は、ミラーを交換した後、ミラーを正規の位置・姿勢に調整するためのアクチュエータである。図２に示すように、ピエゾ素子８は制御装置３３に接続されており、この制御装置３３からの信号に応じて作動する。なお、本実施例では、ミラー部材としてレーザー光に対して透明な材料を用いているが、シリコンやアルミニウム、銅等の不透明材料を用いてもよい。この場合には、ミラーのレーザー光が通過する部分に開口を設け、その部分にレーザー光に対して透明な部材（例えば石英等）を取り付けるようにしてもよい。シリコンやアルミニウム、銅等の金属をミラー部材として用いると、熱伝導率が高いため冷却効率が高くなる。
【００２２】
図２に示すように、真空容器２内には、半導体レーザー３０及びフォトダイオード３１（検出手段）が配置されている。これら半導体レーザー３０・フォトダイオード３１で、ミラー１０の位置や姿勢を検出する。半導体レーザー３０は、一例でミラー１０の周囲に３個以上配置されている。フォトダイオード３１は、各半導体レーザー３０に対応して、ミラー１０の周囲に配置されている。これら半導体レーザー３０及びフォトダイオード３１は、ミラー１０の反射面１０ａ側に配置されており、ミラー１０で反射したＸ線を遮らない位置に配置されている。半導体レーザー３０及びフォトダイオード３１は、前述のピエゾ素子８と同様に制御装置３３に接続されており、この制御装置３３にミラー１０の位置・姿勢検出信号を出力する。なお、図２では、図１のガスジェットノズル４やレーザー光源５、レンズ６等は描かれていない。
【００２３】
各半導体レーザー３０から出たビームは、ミラー１０の反射面１０ａの一点に当たって反射し、それぞれ対応するフォトダイオード３１に入射する。各フォトダイオード３１の受光面は４分割されており、これら４分割された各受光面のそれぞれから検出信号を取り出すことができる。１つのフォトダイオードからの４つの検出信号は、制御装置３３に入力される。制御装置３３は、この検出信号に基づいてピエゾ素子８を制御し、ガスジェットノズル４やミラー１０の位置、後段の光学系（図１参照）のアライメントが調整される。
【００２４】
ここで、前述の構成を有するＸ線発生装置１の総合的な作用について述べる。レーザー光源５から放出されたＹＡＧレーザー光Ｌは、レンズ６及びミラー１０の中央を透過してガスジェットノズル４の直上に集光される。ガスジェットノズル４から超音速で噴出されたターゲットガスは、集光されたＹＡＧレーザー光Ｌのエネルギを受けて高温になり、プラズマＰを生成する。このプラズマ中のイオンが低ポテンシャル状態へ遷移する際に、Ｘ線を放出する。ミラー１０に入射したＸ線のうち、波長１３．５ｎｍ付近のＸ線がミラー反射面１０ａに形成された多層膜１２で反射してＸ線光束Ｅとなり、真空容器２の下流側から後段の光学系（図１参照）へと導かれる。
【００２５】
ミラー１０の反射面１０ａには、プラズマＰからの輻射熱で熱負荷が加わるが、ミラー１０は水冷ジャケット１５で冷却されているため、温度上昇が低く抑えられる。あるいは、ミラー１０の裏面１０ｂが大気側に露出しているため、ミラー１０の熱が大気に放熱され、これによっても温度上昇が抑えられる。
【００２６】
Ｘ線発生装置１の長時間の稼動に伴い、プラズマＰからの飛散粒子がミラー１０の反射面１０ａに堆積すると、ミラー１０の反射面１０ａで反射されるＸ線の光量が低下してくる。こうなると、元のミラーを新たなミラーに交換する必要がある。この交換作業の際は、ミラー１０が真空容器２の壁の一部を構成しているので、性能の劣化したミラーを大気側から素早く簡単に新たなミラーと交換できる。そのため、Ｘ線発生装置１を素早く元の状態に復帰できる。
【００２７】
ここで、新たに設置したミラーの位置は、元のミラーがあった位置とは僅かにずれる可能性がある。このような位置ずれが生じた場合、図２に示す半導体レーザー３０からのレーザーの反射光の、フォトダイオード３１上で検出される位置が変化する。そのため、フォトダイオード３１から出力される検出値も変化する。そこで、フォトダイオード３１の出力値が、元のミラーを調整した時の初期状態の条件とほぼ一致するように、制御装置３３がピエゾ素子８を駆動する。こうすることにより、元のミラー位置と同じ位置に新たなミラーを配置することができる。なお、本実施例では、ミラー位置調整手段としてピエゾ素子を用いたが、これに限らず、モーター等のミラー位置を変化させることができるものであれば、他の様々なものを用いることができる。
【００２８】
図１に戻って、Ｘ線発生装置１を有するＸ線露光装置の全体構成について説明する。
真空容器２の下流側には、真空室２０が接続されている。この真空室２０内には、フィルター２１及び開口板２３が配置されている。フィルター２１は、例えば厚さ０．１μｍのジルコニウム（Ｚｒ）からなり、プラズマＰからの可視・紫外光をカットする。開口板２３は、円盤状をしており、フィルター２１の下流側に配置されている。この開口板２３の中心には、ピンホール２３ａが形成されている。開口板２３のピンホール２３ａ周囲の箇所は、散乱したＸ線や、ミラー１０によって反射されずに直接下流側に放出されているＸ線等を遮る役割を果たす。また、ピンホールの上流側と下流側で差動排気を行い、下流側の真空度を上げるためにも使用される。
【００２９】
真空室２０において、開口板２３の下方にはゲートバルブ２５が設けられている。Ｘ線発生装置１のミラー交換等のメンテナンスの際には、このゲートバルブ２５を閉じて、下流の照明光学系４１と真空容器２とを隔離する。なお、この実施例では、フィルター２１をピンホール２３ａの上流側に配置しているが、フィルター２１をピンホール２３ａの下流側に配置してもよい。このようにすると、フィルター２１に照射されるＸ線はミラー１０で反射されたＸ線のみとなるため、フィルター２１に吸収されるＸ線による熱負荷が小さくなる利点がある。
【００３０】
真空室２０の下方には、露光チャンバ４０が設置されている。露光チャンバ４０内には、照明光学系４１やマスク４３、投影光学系４５等が配置されている。照明光学系４１は、フライアイ光学系の反射鏡等で構成されており、ミラー１０で反射したＸ線光束を成形し、図１の右上に向かって照射する。照明光学系４１の図１の右上には、反射型マスク４３が配置されている。反射型マスク４３の反射面にも多層膜からなる反射膜が形成されている。この反射膜には、ウェハ４９に転写するパターンに応じたマスクパターンが形成されている。反射型マスク４３の下流側には、順に投影光学系４５、ウェハ４９が配置されている。投影光学系４５は、複数の反射鏡等からなり、反射型マスク４３で反射されたＸ線を所定の縮小倍率（例えば１／４）に縮小し、ウェハ４９上に投影する。なお、図１では、照明光学系４１や投影光学系４５の寸法は、Ｘ線発生装置１に対して小さく描かれている。
【００３１】
露光動作を行う際には、照明光学系４１により反射型マスク４３の反射面にＸ線を照射する。その際、投影光学系４５に対して反射型マスク４３及びウェハ４９を投影光学系の縮小倍率により定まる所定の速度比で相対的に同期走査する。これにより、反射型マスク４３の回路パターンの全体をウェハ４９上の複数のショット領域の各々にステップアンドスキャン方式で転写する。なお、ウェハ４９のチップは例えば２５×２５ｍｍ角である。
【００３２】
なお、前述の実施の形態においては、以下のような改変を行うこともできる。
図３は、ミラー位置・姿勢調整部の他の例を示す平面図である。
前述の実施の形態では、ミラー１０の位置・姿勢を検出する半導体レーザー３０・フォトダイオード３１を真空容器２内に配置している（図２参照）が、このフォトダイオード３１に代えて、図３に示すように、開口板２３の上流側の面に４分割されたフォトダイオード３１ａ〜３１ｄを配置することもできる。この場合、ミラー１０の位置がずれると、Ｘ線がピンホール２３ａ内側を通過せず、フォトダイオード３１ａ〜３１ｄのいずれかに当たる。あるいは、いずれかのフォトダイオードに照射される面積が大きくなり、各フォトダイオードの出力信号強度が変化する。この際のフォトダイオードの検出結果に基づき、ミラーの位置・姿勢を調整することができる。さらに、フォトダイオードの分割数を多くすることにより、一層精密にミラー位置を調整することができる。
【００３３】
なお、この例では検出器としてフォトダイオードを用いているが、他の検出手段でもよい。例えば、ピンホールの周囲に、図３のように周囲から電気的に絶縁された金属板（例えば金等）を配置し、各金属板とグランドとの間に個々に電流計を接続したものでもよい。この場合は、ミラーの位置がずれて各金属板に照射される面積が変わると、金属板から放出される光電子数が変化し、各金属板に接続されている各電流計の指示値が変化するので、これを元にミラーの位置、姿勢を調整することができる。また、金属板に流入する電流量ではなく、金属板から放出される光電子数をモニターしてもよい。
【００３４】
図４は、Ｘ線発生装置の他の例を示す図である。
前述の実施の形態では、レーザー光源５から放出されたＹＡＧレーザー光Ｌが、ミラー１０の中心を透過して集光される構成であるが、図４に示すように、ミラー１０を通さず、ミラー１０の側方からＹＡＧレーザー光Ｌを照射して集光させることもできる。このように構成した場合は、ＹＡＧレーザー光Ｌの透過に伴うミラー１０の温度上昇が起こらないので、ミラー反射面１０ａの多層膜１２の温度上昇も起こりにくくなる。そのため、多層膜１２が劣化しにくく、ミラー１０の反射率の低下を抑えることができる。
【００３５】
図５（Ａ）はＸ線発生装置の他の例を示す図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＸ線発生装置のミラーの正面図である。
図１や図２、図４に示す前述の各実施の形態では、ミラー１０の裏面１０ｂ側に、フランジ部１３が一体に形成され、ミラー自体が真空容器２の一部をなす構成であるが、図５（Ａ）に示すように、ミラー１０´を真空容器２に対して保持するミラー保持部材１６を用いる構成とすることもできる。このミラー保持部材１６は、前述と同様のフランジ部１３を有し、真空容器２の一部をなす。ミラー１０´は、真空容器２内においてミラー保持部材１６に取り付けられている。図５（Ｂ）に示すように、この例のミラー１０´は、複数（図では６個）のセグメントミラーからなっており、全セグメントミラーで回転放物面状のミラーが構成される。各セグメントミラーは、それぞれピエゾ素子（位置調整機構）１７を介してミラー保持部材１６に取り付けられている。図５のような例は、予め一体のミラーではなく、複数のセグメントミラーで一つのミラーを構成する場合等に適している。
【００３６】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ミラーの交換時間を短縮できる、あるいは、ミラーの冷却が容易である等の利点を有するＸ線発生装置及びそれを備える露光装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係るＸ線発生装置を有する露光装置を模式的に示す図である。
【図２】図１のＸ線発生装置におけるミラー位置・姿勢調整部を示す図である。
【図３】ミラー位置・姿勢調整部の他の例を示す平面図である。
【図４】Ｘ線発生装置の他の例を示す図である。
【図５】図５（Ａ）はＸ線発生装置の他の例を示す図であり、図５（Ｂ）は図５（Ａ）のＸ線発生装置のミラーの正面図である。
【符号の説明】
１　Ｘ線発生装置　　　　　　　　　　　　　　２　真空容器
３　真空ポンプ　　　　　　　　　　　　　　　４　ガスジェットノズル
５　レーザー光源　　　　　　　　　　　　　　６　レンズ
８　ピエゾ素子（調整手段）　　　　　　　　　９　磁性流体シール
１０　ミラー（第１ミラー）
１０ａ　反射面　　　　　　　　　　　　　　　１０ｂ　裏面
１２　多層膜
１５　水冷ジャケット（ミラー冷却機構）　　　１５ａ　配管
２０　真空室　　　　　　　　　　　　　　　　２１　フィルター
２３　開口板　　　　　　　　　　　　　　　　２３ａ　ピンホール
２５　ゲートバルブ　　　　　　　　　　　　　３３　制御装置
３０　半導体レーザー（検出手段）
３１（３１ａ〜３１ｄ）　フォトダイオード（検出手段）
４０　露光チャンバ　　　　　　　　　　　　　４１　照明光学系
４３　反射型マスク　　　　　　　　　　　　　４５　投影光学系
４９　ウェハ
Ｐ　プラズマ　　　　　　　　　　　　　　　　Ｅ　Ｘ線光束
Ｌ　ＹＡＧレーザー光

Claims (6)

1. 標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線源と、
   該Ｘ線源を収容する真空容器と、
   前記Ｘ線源から輻射されるＸ線が入射するミラーと、
   を具備し、
   前記ミラーあるいはミラーを保持している部材が、前記真空容器の壁の一部を構成していることを特徴とするＸ線発生装置。
2. 前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の裏面が真空容器外側に露出していることを特徴とする請求項１記載のＸ線発生装置。
3. 前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の裏面にミラー冷却機構が設けられていることを特徴とする請求項２記載のＸ線発生装置。
4. 前記標的材料をプラズマ化するレーザー光を発生させるレーザー光源を具備し、
   前記レーザー光が、前記ミラーあるいはミラーを保持している部材の一部を透過、あるいは、前記ミラーに開けられた開口部を通過して、前記真空容器内に入射することを特徴とする請求項１、２又は３記載のＸ線発生装置。
5. 前記ミラーの位置及び姿勢を検出する検出手段と、
   該ミラーの位置及び姿勢を調整する調整手段と、
   前記検出手段からの信号を受けて、該ミラーが所定の位置及び姿勢をとるように、前記調整手段を制御する制御手段と、
   をさらに具備することを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のＸ線発生装置。
6. 請求項１〜５いずれか１項記載のＸ線発生装置と、
   該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、
   該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、
   を具備することを特徴とする露光装置。

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