JP2004119942A

JP2004119942A - 紫外線照射装置

Info

Publication number: JP2004119942A
Application number: JP2002285159A
Authority: JP
Inventors: Koji Hosoya; 細谷　浩二; Hiromi Sakamoto; 坂元　弘実; Shingo Ezaki; 江崎　真伍
Original assignee: Japan Storage Battery Co Ltd
Current assignee: Japan Storage Battery Co Ltd
Priority date: 2002-09-30
Filing date: 2002-09-30
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】エキシマランプ１の側方に反射面２ａを配置すると共に照射ガスＧ_１を送ることにより、空気中であっても広い範囲に真空紫外線を照射することができる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】空気中に配置したエキシマランプ１から放射される真空紫外線を被処理物Ｗの表面に照射する紫外線照射装置において、エキシマランプ１の側方に反射パイプ２を配置して、この反射パイプ２に反射面２ａを形成すると共に、この反射面２ａに開口されたノズル孔２ｂから不活性ガスを主体とする照射ガスＧ_１を送り出すようにした構成とする。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、空気中に配置したエキシマランプ等の紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物の表面に照射する紫外線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
エキシマランプは、放電用ガスとして例えばキセノンが用いられた場合、中心波長が１７２ｎｍの高エネルギーの真空紫外線を放射する。そこで、主に１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線を放射する低圧水銀灯に代えて、液晶表示装置のガラス基板や半導体ウエハ等の精密洗浄を行う紫外線照射装置の光源として用いられることが多くなっている。真空紫外線は、波長が２００ｎｍ以下５０ｎｍ以上の範囲の紫外線をいう。この真空紫外線は、空気中の酸素に吸収されてオゾンを発生させるので、この空気中で液晶表示装置のガラス基板等の被処理物の表面に照射することにより、発生したオゾンと透過した真空紫外線の相乗効果によって被処理物の表面の有機物等を分解飛散させて洗浄を行うことができる。ただし、この真空紫外線は、酸素に吸収されるために、空気中では直ぐに減衰して短い距離しか到達することができず、しかも、波長が短くなるほど空気中での吸収率が急激に上昇する。即ち、空気中では、例えば波長が１８５ｎｍの場合には、１０ｍｍ程度の距離を進む間に約１０％の真空紫外線が吸収されることになるが、波長が１７２ｎｍの場合には、さらに短い距離で真空紫外線のほとんどが吸収される。
【０００３】
上記エキシマランプは、合成石英ガラス製の放電容器内に放電用ガスを封入し、これに高周波の高電圧を印加することにより誘電体バリア放電を起こさせて真空紫外線を放射するものである。そして、従来は、二重構造の円筒管や小径の円筒管に放電用ガスを封入した放電容器が使われることが多かった（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
しかしながら、最近では、方形箱形の放電容器１ａを用いたエキシマランプ１も開発されている（例えば、特許文献２参照。）。図３に薄く細長い方形箱形の放電容器１ａを用いたエキシマランプ１の例を示す。この放電容器１ａは、横断面が横長の薄い方形となる長尺な合成石英ガラス製の管の両端を塞ぎ、内部にキセノンガスを充填したものであり、薄く細長い方形箱形となる。また、この放電容器１ａは、平坦な上下面にそれぞれ金属薄膜をパターン形成することにより電極１ｂ，１ｃを形成している。放電容器１ａの上面の電極１ｂは、この平坦な上面のほぼ全面に形成されているが、下面の電極１ｃは、網目状のパターンに形成され、この網目の隙間から下方に紫外線を照射することができるようになっている。
【０００５】
上記方形箱型のエキシマランプ１は、放電容器１ａの下面から被処理物の表面までの間隔が３ｍｍ程度となるように極めて接近して配置し、波長１７２ｎｍの高エネルギーの真空紫外線が被処理物の表面に到達する前に空気中で減衰してしまわないようにする必要がある。このため、紫外線照射装置は、本来であれば、図４に示すように、複数本のエキシマランプ１を側方にほとんど隙間なく横並びに配置することにより、各エキシマランプ１の放電容器１ａの下面からそれぞれ下方の被処理物Ｗの表面にむらなく照射することが好ましい。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−２４３９２０号公報（図４）
【特許文献２】
特開２０００−２６０３９６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、エキシマランプ１をほとんど隙間なく並べて所定の面積範囲に真空紫外線が均一に照射されるようにすると、非常に多くの本数のエキシマランプ１が必要となり、紫外線照射装置が高価なものになるという問題があった。そして、この問題は、放電容器の形状には必ずしも直接かかわりなく、例えば小径の円筒管からなる放電容器を用いたエキシマランプを空気中に配置した紫外線照射装置が従来からあり、この場合もエキシマランプをほとんど隙間なく並べるので、このエキシマランプの本数が非常に多くなる。
【０００８】
また、エキシマランプは、放電用ガスがエキシマ発光により真空紫外線を周囲に放射状に放射するので、被処理物の表面だけに向けて放射するのではない。このため、エキシマランプをほとんど隙間なく並べて使用すると、放電容器の側面等から放射された真空紫外線は処理に使用されず無駄になることが多かった。特に、薄い方形箱型のエキシマランプ１は、本来被処理物の表面に真空紫外線を照射するための放電容器１ａの下面よりも、側面からの方が、単位面積当たりの真空紫外線の放射量が多くなり、この真空紫外線を有効に利用することができなかった。
【０００９】
本発明は、かかる事情に対処するためになされたものであり、紫外線ランプの側方に反射面を配置すると共に不活性ガス等を供給することにより、空気中であっても広い範囲に真空紫外線を照射することができる紫外線照射装置を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１の紫外線照射装置は、空気中に配置した紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物の表面に照射する紫外線照射装置において、紫外線ランプの側方に反射面を配置すると共に、この反射面の表面側に不活性ガスを主体とする照射ガスを送る照射ガス送出手段が設けられたことを特徴とする。
【００１１】
請求項１の発明によれば、紫外線ランプから側方に放射された真空紫外線を反射面で反射させて被処理物の表面に向けて照射することができる。しかも、反射面で反射した真空紫外線は、紫外線ランプから直接被処理物の表面に照射される真空紫外線よりも空気中を長い距離進むことになるが、この反射面の表面側に不活性ガスを主体とした照射ガスが送り込まれるので、真空紫外線が酸素に吸収されて減衰するようなことが少なくなり、被処理物の表面に確実に到達させることができるようになる。従って、１本の紫外線ランプであれば被処理物の表面のより広い範囲に真空紫外線を照射することができるので、処理効率を高めることができる。また、複数本の紫外線ランプを並べる場合には、間隔を十分に開けて配置することにより配置本数を削減して、紫外線照射装置のコストダウンを図ることができるようになる。
【００１２】
なお、紫外線ランプの側方とは、被処理物の表面に照射されることとなる真空紫外線（紫外線ランプから斜め方向に出射されることとなるものも含む）の光軸に直交する外側方向をいう。ただし、反射面は、紫外線ランプの側方全てに配置して周囲を囲む必要はなく、いずれかの側方に配置されればよい。
【００１３】
請求項２の紫外線照射装置は、紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物の表面に照射する紫外線照射装置において、紫外線ランプの側方に、反射面が配置されると共に、この反射面を囲み内部を不活性ガスを主体とする紫外線透過性ガスで充満させ、又は、内部を真空にした導光管が配置されたことを特徴とする。
【００１４】
請求項２の発明によれば、紫外線ランプから側方に放射された真空紫外線を導光管内で反射面により反射させて被処理物の表面に向けて照射することができる。しかも、反射面で反射する真空紫外線は、被処理物に照射されるまでの光路のほとんどが導光管内を通るようにすることができるので、この導光管内に不活性ガスを主体とした紫外線透過性ガスを充満させたり真空にすることにより、真空紫外線が酸素に吸収されて減衰するようなことが少なくなり、被処理物の表面に確実に到達させることができるようになる。従って、１本の紫外線ランプであれば被処理物の表面のより広い範囲に真空紫外線を照射することができるので、処理効率を高めることができる。また、複数本の紫外線ランプを並べる場合には、導光管を介して間隔を十分に開けて配置することにより配置本数を削減して、紫外線照射装置のコストダウンを図ることができるようになる。
【００１５】
なお、導光管は、少なくとも紫外線ランプから反射面に真空紫外線が入射する面と、この反射面で反射された真空紫外線を被処理物の表面に照射する面が、真空紫外線の透過率の高い材質で作製される。また、紫外線透過性ガスは、照射ガスと同様に不活性ガスを主体としたガスであるが、通常は不活性ガスだけを用いるのが一般的であると考えられる。
【００１６】
上記紫外線ランプとして、放電用ガスを密封した方形箱形の石英ガラス製の放電容器の対向する両ガラス壁表面にそれぞれ電極を設けたエキシマランプを用いることができる。本発明によれば、このように側方からの真空紫外線の放射量が多くなる方形箱型の放電容器を用いたエキシマランプでは、この側方の真空紫外線をさらに無駄なく有効に利用することができるようになる。しかも、この紫外線ランプとして、真空紫外線を効率よく放射することができるエキシマランプを用いることができるようになる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００１８】
図１〜図２は本発明の一実施形態を示すものであって、図１は紫外線照射装置の構成を模式的に示した縦断面側面図、図２は紫外線照射装置の他の構成を模式的に示した縦断面側面図である。なお、図３〜図４に示した従来例と同様の機能を有する構成部材には同じ番号を付記する。
【００１９】
本実施形態は、図３に示したものと同様の方形箱形の放電容器１ａを用いるエキシマランプ１を使用した紫外線照射装置について説明する。この紫外線照射装置は、図１に示すように、搬送路上を搬送される被処理物Ｗの上方に複数のエキシマランプ１を横並びに配置したものであり、これらのエキシマランプ１を空気中に配置することにより開放型としている。各エキシマランプ１は、放電容器１ａの下面が被処理物Ｗの表面の上方３ｍｍ程度の距離に位置するように、長尺方向の両端部を搬送路の両側で揃えて、この搬送路上を横切るように配置される。また、これらのエキシマランプ１は、放電容器１ａの長尺な側面の側方に十分な一定隙間を開けて並べて配置される。
【００２０】
上記各エキシマランプ１の間には、このエキシマランプ１とほぼ同じ長さのアルミニウム製の三角パイプからなる反射パイプ２が配置されている。この反射パイプ２は、断面直角三角形状の直角の頂点が下方を向くように配置され、この頂点を挟む下向きに４５°に傾斜した金属面からなる両外側斜面が真空紫外線を反射するＶ字形の反射面２ａ，２ａとなる。また、これらの反射面２ａ，２ａには、適宜箇所に複数のノズル孔２ｂが開口され、反射パイプ２のパイプ内部に通じるようになっている。この反射パイプ２のパイプ内部には、照射ガスＧ_１が供給されるようになっている。照射ガスＧ_１は、不活性ガスである窒素ガスに０〜１０％程度の僅かな酸素を加えたガスであり、ノズル孔２ｂを通じて反射面２ａの表面側に送り出されることにより、エキシマランプ１の側方付近を低酸素濃度の雰囲気にする。
【００２１】
上記複数のエキシマランプ１の両端に配置されたものの外側の側方にも、それぞれ反射パイプ２，２が配置されている。これらの反射パイプ２，２は、上記各エキシマランプ１の間に配置されたものと全く同じ構成のものを用いることもできるが、ここでは、最端に配置されたエキシマランプ１，１を向く側の外側斜面にのみ反射面２ａ，２ａとノズル孔２ｂが形成されたものを用いる。そして、これらの反射パイプ２，２にも、パイプ内部に照射ガスＧ_１が供給され、ノズル孔２ｂを介して送り出すことにより、最端のエキシマランプ１，１の外側側方付近を低酸素濃度の雰囲気にする。
【００２２】
上記エキシマランプ１と反射パイプ２は、被処理物Ｗの搬送路上で開閉可能となる図示しないランプハウスに取り付けられる。各エキシマランプ１は、両端部を脱着自在にランプハウスに取り付けられ、各反射パイプ２はこのランプハウスに固定されている。そして、このランプハウス上に配置された電源装置から高周波の高電圧電源が供給されることにより、各エキシマランプ１が真空紫外線を放射することになる。また、照射ガスＧ_１は、外部の図示しない照射ガス送出装置からランプハウス上の配管に送られて各反射パイプ２に供給されるようになっている。
【００２３】
上記構成の紫外線照射装置は、搬送路上に被処理物Ｗを通すことにより、この被処理物Ｗの表面の上方３ｍｍ程度の位置から横並びの各エキシマランプ１が真空紫外線を照射することになる。この際、各エキシマランプ１の放電容器１ａの下面から下方に放射された真空紫外線は、直接３ｍｍ程度の空気中の間隙を通過して被処理物Ｗの表面に照射される。従って、真空紫外線が空気中の酸素に吸収されて発生したオゾンとこの間隙を透過した真空紫外線との相乗効果によって被処理物Ｗの表面が精密洗浄される。
【００２４】
各エキシマランプ１の放電容器１ａは薄い方形であるため、下方に放射される真空紫外線は、この放電容器１ａの上下の短い距離の放電空間から放射されるのに対して、側方に放射される真空紫外線は、左右の長い距離の放電空間から放射される。そして、この真空紫外線の紫外線強度は、放電空間の距離が長くなるほど大きくなる。従って、このエキシマランプ１の放電容器１ａの側面からは、単位面積当たりの紫外線強度が下面からの数倍となる真空紫外線が放射される。
【００２５】
上記のようにしてエキシマランプ１の放電容器１ａの側面から左右方向に放射された真空紫外線は、一旦反射パイプ２の反射面２ａで反射されてから下方に向かい被処理物Ｗの表面に照射される。このため、この放電容器１ａの側面から放射された真空紫外線は、被処理物Ｗの表面に到達するまでに、下面から放射された真空紫外線よりも遥かに長い距離を進むことになるので、この間が通常の空気中であれば、被処理物Ｗの表面に達する前に完全に減衰してしまう。しかしながら、反射パイプ２のノズル孔２ｂからは照射ガスＧ_１が送り出されていて、このエキシマランプ１の側方付近は低酸素濃度の雰囲気となっているので、ここを通過する真空紫外線は空気中を３ｍｍ程度進む間と同じくらいの減衰率で被処理物Ｗの表面に到達することになる。しかも、この真空紫外線は、照射ガスＧ_１に含まれる僅かな酸素や周囲から流入する酸素に吸収されて減衰するので、オゾンも十分に生成される。従って、このオゾンと低酸素濃度の雰囲気中を透過して来た真空紫外線との相乗効果によって被処理物Ｗの表面が各エキシマランプ１の両側方の下方でも精密洗浄されるようになる。しかも、方形箱形の放電容器１ａの側面から放射される多くの真空紫外線を無駄にすることなく、有効に精密洗浄に利用することができるようになる。また、この真空紫外線は、放電容器１ａの側面から水平方向だけでなく斜めの上下方向にも放射されるので、本実施形態では、この斜め上方に放射された真空紫外線を有効に利用するために、反射面２ａの上端を放電容器１ａの上面よりも上方まで配置するようにしている。
【００２６】
この結果、本実施形態によれば、各エキシマランプ１が直下に真空紫外線を照射するだけでなく、これらの両側方にも減衰することなく真空紫外線を照射することができるので、被処理物Ｗの表面が各エキシマランプ１の直下を通過するときだけでなく、これらエキシマランプ１の間や前後を通過するときにも、効率のよい精密洗浄を行うことができるようになる。しかも、エキシマランプ１の直下だけでなく、これらエキシマランプ１の間や前後でも真空紫外線のほぼ均一な面照射が可能となるので、上記実施例のように、被処理物Ｗがエキシマランプ１の下方を搬送されて通過する場合に限らず、同じ場所に停止している被処理物Ｗの表面に真空紫外線を照射するような紫外線照射装置の場合にも、むらのない確実な精密洗浄を行うことができるようになる。
【００２７】
また、これらのエキシマランプ１は、反射パイプ２を配置するための十分に広い間隔を開けて並べることができるので、エキシマランプ１をほとんど隙間なく並べた場合に比べて、同じ面積に同じ強度の真空紫外線を照射する場合に、少ない本数を配置するだけで足りるようにすることができる。さらに、エキシマランプ１を隙間なく並べた場合、隣接するエキシマランプ１の電極１ｂ，１ｃ間が接近するので十分な絶縁対策を施す必要があるが、これらのエキシマランプ１の間に反射パイプ２の反射面２ａ等が配置されれば、特別の絶縁対策を不要にすることもできる。
【００２８】
なお、上記実施形態では、反射パイプ２に反射面２ａを形成し、この反射面２ａにノズル孔２ｂを開口する場合を示したが、反射面は板材やブロックに形成することもできる。例えば、エキシマランプ１の間に配置される反射面の場合には、Ｖ字形に折り曲げた反射板に形成したようなものであってもよい。また、ノズル孔は、このような反射面に開口する他に、反射面の近傍に配置することもできる。さらに、照射ガスＧ_１は、反射面の表面側に送り込まれればよいので、ノズル孔に限らず、例えば多孔質の板面全面から送り出されるようにすることもできる。
【００２９】
また、上記実施形態では、反射面を空気中に配置し、この反射面の表面側に照射ガスＧ_１を送り込むようにした紫外線照射装置について示したが、図２に示すように、各エキシマランプ１の間や最端のエキシマランプ１，１の外側側方に導光管３を配置し、この導光管３の内部に反射板４を配置するようにしてもよい。導光管３は、合成石英ガラス製の断面が方形のパイプであり、内部にＶ字形又は傾斜した反射板４が嵌入されている。また、この導光管３の内部には、紫外線透過性ガスＧ_２を充満させている。反射板４は、アルミニウム板をＶ字形に折り曲げて配置したりこのアルミニウム板を傾斜させて配置したものであり、斜め下方を向く金属面が反射面４ａとなっている。このように構成された紫外線照射装置は、各エキシマランプ１から側方に放射された真空紫外線が導光管３内で反射面４ａに反射されて被処理物Ｗの表面に照射されるので、光路のほとんどが紫外線透過性ガスＧ_２で満たされた導光管３内を通ることになり、この間での真空紫外線の減衰がほとんどなくなる。ただし、エキシマランプ１と導光管３の間の距離ｄ_１は、この間での真空紫外線の減衰をできるだけ少なくするために、最大でも５ｍｍを超えないように接近させることが好ましい。また、導光管３の内部の反射板４は、真空紫外線が放電容器１ａの側方の水平方向だけでなく斜めの上下方向にも放射されるので、ここでも、この斜め上方に放射された真空紫外線を有効に利用するために、上端を放電容器１ａの上面よりも段差ｄ_２だけ上方まで配置するようにしている。
【００３０】
この図２に示した導光管３は、内部に紫外線透過性ガスＧ_２を常時供給し続けるようにしてもよいが、この導光管３の内部に常時紫外線透過性ガスＧ_２を充填して完全に密閉するようにした方が装置を安価にすることができる。また、このような紫外線透過性ガスＧ_２を充填する代わりに、導光管３の内部を真空にしてもよい。この導光管３は、少なくとも真空紫外線の入射部と出射部がこの真空紫外線の透過率の高い材質で形成されればよいので、例えばこれらの部分に窓を設けてここに合成石英ガラス板を嵌め込むようにしてもよい。
【００３１】
ここで、反射面２ａや反射面４ａを形成した反射パイプ２や反射板４は、低コスト化のためにアルミニウム材を使用したが、これに代えて、他の金属やその他の適宜材料からなるパイプ材や板材等の平滑面にアルミニウム蒸着膜等を形成して反射面２ａや反射面４ａとしたものであってもよい。例えば、図２に示した導光管３の場合、内面に傾斜面を設けて、この傾斜面にアルミニウム蒸着膜等を形成することにより反射面とすることもでき、これによって反射板４を不要にできる。また、図２に示した反射面４ａの傾斜角度θは、図では４５°としているが、例えば３０〜６０°の範囲内で適宜変更することにより、真空紫外線の照射範囲を狭めたり広げたりすることもできる。そして、これは、図１に示した反射パイプ２の反射面２ａの場合も同様である。また、これらの反射面は、例えば３０〜６０°の範囲内で徐々に傾斜角度が変化する曲面やフレネル面等とすることもできる。
【００３２】
放電容器１ａや導光管３を形成する合成石英ガラスは、本実施形態では波長１７２ｎｍの真空紫外線を放射するので、この真空紫外線の透過率が高いＯＨ基を含有したものを使用している。ただし、波長の異なる真空紫外線を用いる場合には、その真空紫外線に対して透過率の高い適宜材料を選択すべきであり、例えばより短波長の真空紫外線を用いる場合には、石英（結晶）やフッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等を用いることができる。
【００３３】
照射ガスＧ_１は、真空紫外線が反射面で反射して被処理物Ｗの表面に照射されるまでの減衰率を低下させるためのものであるため、上記実施形態で示したような窒素ガスに僅かな酸素を加えたガスに限定されるものではない。即ち、酸素は、空気よりも低濃度であれば、さらに多く加えてもよいし（１０％以上）、全く加えないようにすることもできる（０％）。照射ガスＧ_１に酸素を加えるのは、不活性ガスだけを用いた場合に被処理物Ｗの表面上の酸素濃度が低下して十分なオゾンが生成されなくなることがあるからであり、このオゾンの生成量に応じて加える酸素の濃度を調整すればよい。また、酸素以外のガスを加えることもできる。さらに、主体となる窒素ガスに代えて、アルゴンやヘリウム、ネオン等の不活性ガスを用いることもできる。ここで不活性ガスとは、真空紫外線の吸収率の低いガスをいう。照射ガスＧ_１は、このような不活性ガスを主体とするガスであればよい。
【００３４】
図２に示した紫外線照射装置で用いられる紫外線透過性ガスＧ_２も、照射ガスＧ_１と同様に、真空紫外線の減衰率を低下させるためのものであり、１０ｍｍの距離での真空紫外線の吸収率が５０％以下であることが好ましい。特に、この紫外線透過性ガスＧ_２は、導光管３の内部でオゾンを生成する必要がないことから、不活性ガスだけを用いるようにするのが一般的であると考えられる。しかしながら、何らかの理由により真空紫外線の透過率を調整したいような場合には、照射ガスＧ_１の場合と同様に僅かな酸素等を加えることも可能である。
【００３５】
また、上記実施形態では、方形箱形の放電容器１ａを用いたエキシマランプ１を示したが、この放電容器１ａはどのような形状のものであっても同様に実施可能である。例えば、二重構造の円筒管等の筒状の放電容器１ａを用いたエキシマランプ１を空気中に配置した場合にも、照射ガスＧ_１や導光管３内の紫外線透過性ガスＧ_２によって斜めに放射された真空紫外線ほど減衰率を低下させることができるので、平坦な被処理物の表面にほぼ均一に真空紫外線を照射することができるようになる。
【００３６】
また、上記実施形態では、誘電体バリア放電によるエキシマ発光を利用したエキシマランプ１について示したが、真空紫外線を放射する紫外線ランプであれば、他のエキシマ発光によるものやエキシマ発光以外の例えば低圧水銀灯等の紫外線ランプにも同様に実施可能である。さらに、上記実施形態では、紫外線ランプが放射する真空紫外線を精密洗浄に用いる場合について示したが、他の用途に用いるものであっても同様に実施可能である。
【００３７】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の紫外線照射装置によれば、紫外線ランプから側方に放射された真空紫外線を反射面で反射させて、照射ガスや紫外線透過性ガスにより減衰することなく確実に被処理物の表面に照射することができるので、紫外線ランプの処理効率を高めると共に、並べて配置する紫外線ランプの本数を削減することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態を示すものであって、紫外線照射装置の構成を模式的に示した縦断面側面図である。
【図２】本発明の一実施形態を示すものであって、紫外線照射装置の他の構成を模式的に示した縦断面側面図である。
【図３】方形箱形の放電容器を用いたエキシマランプの斜視図である。
【図４】従来例を示すものであって、エキシマランプをほとんど隙間なく横並びに配置した紫外線照射装置の構成を模式的に示した縦断面側面図である。
【符号の説明】
１　　エキシマランプ
１ａ　放電容器
１ｂ　電極
１ｃ　電極
２　　反射パイプ
２ａ　反射面
２ｂ　ノズル孔
Ｇ_１　　照射ガス
Ｇ_２　　紫外線透過性ガス
Ｗ　　被処理物

Claims

紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物の表面に照射する紫外線照射装置において、
紫外線ランプの側方に反射面が配置されると共に、この反射面の表面側に不活性ガスを主体とする照射ガスを送る照射ガス送出手段が設けられたことを特徴とする紫外線照射装置。
紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物の表面に照射する紫外線照射装置において、
紫外線ランプの側方に、反射面が配置されると共に、この反射面を囲み内部を不活性ガスを主体とする紫外線透過性ガスで充満させ、又は、内部を真空にした導光管が配置されたことを特徴とする紫外線照射装置。