JP2004012770A - 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 - Google Patents
画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004012770A JP2004012770A JP2002165584A JP2002165584A JP2004012770A JP 2004012770 A JP2004012770 A JP 2004012770A JP 2002165584 A JP2002165584 A JP 2002165584A JP 2002165584 A JP2002165584 A JP 2002165584A JP 2004012770 A JP2004012770 A JP 2004012770A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- polymer
- image
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 138
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 128
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title abstract 5
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 75
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 72
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 73
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 20
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 132
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 104
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 80
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 67
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 67
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 66
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 65
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 64
- 238000000034 method Methods 0.000 description 62
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 60
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 57
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 52
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 51
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 49
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 37
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 37
- 238000011161 development Methods 0.000 description 33
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 33
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 33
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 31
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 30
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 26
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 26
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 25
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 24
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 23
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 20
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 17
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 16
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 15
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 11
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 10
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 10
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 10
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 9
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 8
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 8
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 8
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 8
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 7
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 6
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 6
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 6
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 description 6
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 6
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 5
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 5
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2,2'-azo-bis-isobutyronitrile Substances N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 4
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 4
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 4
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 4
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 4
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 4
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 4
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000004849 alkoxymethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical compound [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- ZLBSUOGMZDXYKE-UHFFFAOYSA-M sodium;7-[(3-chloro-6-methyl-5,5-dioxo-11h-benzo[c][2,1]benzothiazepin-11-yl)amino]heptanoate Chemical compound [Na+].O=S1(=O)N(C)C2=CC=CC=C2C(NCCCCCCC([O-])=O)C2=CC=C(Cl)C=C21 ZLBSUOGMZDXYKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 229960005138 tianeptine Drugs 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 2-mercaptopropanoic acid Chemical compound CC(S)C(O)=O PMNLUUOXGOOLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JITOHJHWLTXNCU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-methylphenyl)sulfonylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 JITOHJHWLTXNCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical group SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 101100490446 Penicillium chrysogenum PCBAB gene Proteins 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005200 aryloxy carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MXDDRENDTSVWLG-UHFFFAOYSA-N n-(4-methylphenyl)sulfonylprop-2-enamide Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)NC(=O)C=C)C=C1 MXDDRENDTSVWLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RINSWHLCRAFXEY-UHFFFAOYSA-N n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 RINSWHLCRAFXEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Chemical group 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 2
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical group [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N (2,4-dihydroxyphenyl)-(4-hydroxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O OKJFKPFBSPZTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoate Chemical compound OCC(C)(C)COC(=O)C(C)(C)CO SZCWBURCISJFEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- 125000006736 (C6-C20) aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006835 (C6-C20) arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C=C NFTVTXIQFYRSHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIKTJCGLLUNIJ-UHFFFAOYSA-N 1-nitroso-1-phenylurea Chemical compound NC(=O)N(N=O)C1=CC=CC=C1 ZJIKTJCGLLUNIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUIMSMUHYNOORM-UHFFFAOYSA-N 2-(1-cyanoethyldiazenyl)propanenitrile Chemical compound N#CC(C)N=NC(C)C#N LUIMSMUHYNOORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUQOHDOVMVGYSM-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C XUQOHDOVMVGYSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O LBBOQIHGWMYDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 4-(trichloromethyl)triazine Chemical class ClC(Cl)(Cl)C1=CC=NN=N1 IXAUCVOJRVFRBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=C(O)C=C1 LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenediazonium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C([N+]#N)C=C1 ICMFHHGKLRTCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(S)C=C1 LMJXSOYPAOSIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283725 Bos Species 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 1
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N [4-[2-(4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 FHLPGTXWCFQMIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M [7-(dimethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium;chloride;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005194 alkoxycarbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-aminopropionic acid Natural products NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N beta-monoglyceryl stearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004651 carbonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012711 chain transfer polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N cumene hydroperoxide Chemical compound OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 YQHLDYVWEZKEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J dipotassium;tetrabromoplatinum(2-) Chemical compound [K+].[K+].[Br-].[Br-].[Br-].[Br-].[Pt+2] AXZAYXJCENRGIM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VOBKFBGLANJANG-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical group CC(=C)C(O)=O.CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C VOBKFBGLANJANG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRTVEUGOGWTHTR-UHFFFAOYSA-N dodecyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC JRTVEUGOGWTHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005639 glycero group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 229910001389 inorganic alkali salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N n-nitro-2-phenylprop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052605 nesosilicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- RXCVUXLCNLVYIA-UHFFFAOYSA-N orthocarbonic acid Chemical class OC(O)(O)O RXCVUXLCNLVYIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004762 orthosilicates Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXKBAZVOQAHGC-UHFFFAOYSA-N phenylmethanesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 NIXKBAZVOQAHGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical class OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical class [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 235000007686 potassium Nutrition 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910001487 potassium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- YYWLHHUMIIIZDH-UHFFFAOYSA-N s-benzoylsulfanyl benzenecarbothioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)SSC(=O)C1=CC=CC=C1 YYWLHHUMIIIZDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 1
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical class O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 1
- 230000035897 transcription Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q triazanium;borate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[NH4+].[O-]B([O-])[O-] WYXIGTJNYDDFFH-UHFFFAOYSA-Q 0.000 description 1
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLJUSLZGFYWKW-UHFFFAOYSA-N triethanolamine hydrochloride Chemical compound Cl.OCCN(CCO)CCO HHLJUSLZGFYWKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N tripotassium borate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]B([O-])[O-] WUUHFRRPHJEEKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
【課題】耐キズ性を有し、かつ、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写のない滑り性素材を含有する画像形成材料、及び該画像形成材料を用いることで、同様の特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のヒートモード対応画像形成材料は、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。本発明のヒートモード対応平版印刷版原版は、支持体上に、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な画像形成材料からなる記録層を備えてなることを特徴とする。
【選択図】 なし
【解決手段】本発明のヒートモード対応画像形成材料は、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。本発明のヒートモード対応平版印刷版原版は、支持体上に、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な画像形成材料からなる記録層を備えてなることを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は赤外線レーザの露光により画像記録可能であるポジ型或いはネガ型の画像記録材料、及び該画像記録材料を記録層に用いた平版印刷版原版に関し、より詳細には、赤外線レーザー等の近赤外領域の露光などの加熱により書き込み可能であり、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の平版印刷版原版に好適な画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータのディジタルデータから直接製版するシステムとして、これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されている。
ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料が特開平7−285275号公報に開示されている。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等のようなポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であり、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去され得るようになって、画像を形成する。
【0003】
一方、オニウム塩やアルカリ溶解性の低い水素結合網を形成可能な化合物はアルカリ可溶性高分子のアルカリ溶解抑制作用を有することが知られている。赤外線レーザー対応画像記録材料としては、カチオン性赤外線吸収色素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤として用いた組成物がポジ作用を示すことがWO97/39894に記載されている。このポジ作用は赤外線吸収色素がレーザー光を吸収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の溶解抑制効果を消失させて画像形成を行う作用である。
また、ネガ型の画像形成方法としては、光又は熱により発生した酸を触媒として露光後の加熱処理により縮合架橋反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式が挙げられ、このような酸触媒架橋系の記録層を有する印刷版としては特開平7−271029号公報に記載されているような技術が知られている。更に、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式が挙げられ、このような光又は熱による重合系の記録層を有する印刷版としては、特開平8−108621号、特開平9−34110号の各公報に記載されるような光重合性或いは熱重合性組成物を記録層として用いる技術が知られている。
【0004】
上記の種々の記録材料の画像形成性について述べれば、感材のレーザー照射表面では画像形成反応に十分なエネルギーが得られるものの、熱拡散、特に、支持体として汎用のアルミニウム支持体を用いた場合、熱伝導性が良好なため支持体への熱拡散が著しく、エネルギーが画像形成に充分に利用されず、低感度であるという問題や、感材の深部までは十分な溶解抑制消失効果、或いは重合による硬化反応の促進効果が得られず、ポジ型では残膜による非画像の汚れが発生しやすく、ネガ型では十分な画像強度が得られず耐キズ性に劣るなどの問題があった。
【0005】
また、このような赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版では、取扱い時に表面に触れる等によりわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に未露光部(画像部)が溶解してキズ跡状となり、耐刷の劣化や着肉性不良を引き起こすという問題を有していた。
一方、赤外線レーザ対応ネガ型平版印刷版原版の場合も、未露光の硬化前の状態では記録層の耐キズ性が不充分であるという問題を有していた。
【0006】
上記問題を解決するために想定し得る手段として、例えば、米国特許6,124,425号明細書に、膜強度(画像強度)を簡便に達成することを目的とした赤外線吸収性の官能基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂の例が記載されている。即ち、アルカリ可溶性樹脂中に光熱変換機能を有する部分構造を導入して材料中の光熱変換成分を減らすことにより膜強度を向上しようとするものである。しかしながら、このアルカリ可溶性樹脂は、分子量が5,000以上の高分子化合物であるために、支持体への密着性が多大になると共に、現像時の処理剤への溶解性が充分でなくなり、特に、ポジ型平版印刷版原版の記録層として用いた場合に、非画像部の溶解性が低く、除去されるべき記録層が現像処理で充分に除去されず、残膜となって非画像部に汚れが発生し易いという問題を有していた。
【0007】
また、例えば、特開2000−35666公報に低分子量のワックスの添加により、表面の滑り性が向上し、優れた耐キズ性を発現することが記載されているが、かかるワックスが低分子量であるため、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)や支持体裏面への転写、平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題点を有しており、製造や搬送時の不安定要因となっていた。
【0008】
更に、例えば、EP950514、EP950517の明細書にポリシロキサン系界面活性剤により滑り性を発現させる例が提案されているが、現像時におけるカスの懸念や滑りすぎてしまうという滑り性の制御の難しさから、これも製造や搬送時の不安定要因となっていた。
【0009】
加えて、記録層上に保護層を設けることも考えられるが、例えば、水溶性樹脂を用いる一般的な保護層を設けた場合、特に、平版印刷版原版を積層し、高湿度下で保存された場合には、保護層と保護紙(合紙)又は支持体裏面とが接着し、剥がれ難くなって作業性が低下するという問題を有しており、いずれの手段によっても、生産性が悪いという問題を有していた。
このため、作業性を低下させず、また、画像形成性に影響を与えず、記録層のキズつきを抑制し得る画像形成材料及び平版印刷版原版が所望されていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐キズ性を有し、かつ、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写のない滑り性素材を含有する画像形成材料、及び該画像形成材料を用いることで、同様の特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、画像形成材料に、耐キズ性を向上させつつ、保護紙や支持体裏面への転写を防止する滑り性素材として、疎水性のグラフト(共)重合体を添加することにより、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。
即ち、本発明のヒートモード対応画像形成材料は、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。
また、本発明のヒートモード対応平版印刷版原版は、支持体上に、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な画像形成材料からなる記録層を備えてなることを特徴とする。
前記疎水性の構成成分は、長鎖アルキル基又は長鎖ハロアルキル基を有することが好ましい態様である。
【0012】
本発明の作用は明確ではないが、本発明の画像形成材料に用いる主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体は、そのグラフト構造に起因する特性及び疎水性の構成成分の特性により、疎水部が表面に多く局在し、高密度な疎水性表面を形成することができる。その疎水性表面は表面エネルギーが低く、適度な滑り性を発現させるため、本発明の画像形成材料を平版印刷版原版の記録層として用いると、擦りキズ、引っかきキズに対する耐性(耐キズ性)が向上するものと推測される。
また、滑り性を発現させている物質が、上記のようにポリマー構造を有することから、表面に局在する疎水部の、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写が効果的に抑制されるものと思われる。
【0013】
なお、本発明において「ヒートモード対応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であることを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義について詳述する。Hans−Joachim Timpe,IS&Ts NIP 15:1999 International Conference on Digital Printing Technologies.P.209に記載されているように、感光体材料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロセスには大きく分けて二つのモードが存在することが知られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例えば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォトンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
【0014】
上述の各モードを利用した露光プロセスをフォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォトンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要請により1光子のエネルギーを足し併せて使用することができない。つまり、何らかの反応を起こすためには「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係があれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つまり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量であっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。
【0015】
無論、フォトンモード露光では後続反応種の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本的には、このようなことは起こらない。
即ち、感光材料の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー密度(W/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモードでは露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇することになる。従って、実際に画像記録材料として実用上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定すると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光では通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成できるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でないと反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係から通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光カブリの問題が回避される。
そして、事実上ヒートモード露光では、感光材料の版面での露光パワー密度は5000W/cm2以上が必要であり、好ましくは10000W/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0×105W/cm2以上の高パワー密度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好ましくない。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のヒートモード対応画像形成材料は、(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、(a)赤外線吸収剤の機能により赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。
【0017】
[(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体]
「グラフト重合体」とは、主鎖とは異なるブロック構造が側鎖として主鎖に結合しているポリマーをいい、「グラフト共重合体」とは、前記グラフト重合体のうち2種以上の単量体からできているものをいう。
本発明に用いられる(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)において、「(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体」とは、主鎖に疎水性の構成成分が直接結合してなるものを指し、「(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体」とは、側鎖のいずれかの箇所に疎水性の構成成分が結合してなるものを指す。
【0018】
<(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体>
本発明に用いられる(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)は、側鎖として、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマーを有するグラフト(共)重合体である。
側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体としては、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーか、若しくは、少なくとも1種類以上のモノマーを組み合わせて共重合したポリマーであり、該長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から100〜5%の範囲内あることが好ましく、90〜5%の範囲内であることがより好ましく、80〜5%の範囲内であることが最も好ましい。
まず、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマ−(以下、適宜、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと称する。)について、説明する。
【0019】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー)
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとしては、溶剤溶解性や感材を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆性、画像形成性への影響の小ささ等の観点から、長鎖(ハロ)アルキルエステル、長鎖(ハロ)アルキルアシド、長鎖(ハロ)アルキルエーテルを基本単位とするマクロモノマーであることが好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー内の長鎖(ハロ)アルキル基は、炭素数4以上の直鎖(ハロ)アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上であることがより好ましい。
【0020】
本発明に用いられる長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーは、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーの片末端に、ラジカル重合性の(メタ)アクリレート基を有し、重量平均分子量(以下、単に分子量と称する)が1,000から50,000であるマクロモノマーである。側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体に導入するこのマクロモノマーの分子量が1,000未満では、該マクロモノマーから得られる側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体において、主鎖(幹)と側鎖(枝)が共に高分子量であることに起因するグラフト(共)重合体特有の物性が得難く、一方、分子量が50,000を越えるとマクロモノマーのラジカル重合性が低下し、高純度のグラフト(共)重合体の合成が困難となるため、いずれも好ましくない。
【0021】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとして、下記一般式(I)で表される構造であることが好ましい。
【0022】
【化1】
【0023】
一般式(I)中、X及びX’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。また、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。
上記一般式(I)で表されるX及びX’で表される連結基としては、炭素数1〜20の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン基、炭素数2〜20の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、炭素数1〜20のアシルオキシ基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のカルバモイルオキシ基、炭素数1〜20のカルボンアミド基、炭素数1〜20のスルホンアミド基、炭素数1〜20のカルバモイル基、炭素数0〜20のスルファモイル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜20のN−アシルスルファモイル基、炭素数1〜20のN−スルファモイルカルバモイル基、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基、炭素数6〜20のアリールスルホニル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数0〜20のアミノ基、炭素数1〜20のイミノ基、炭素数3〜20のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、酸素原子、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜20のアリールスルフィニル基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数6〜20のアリールチオ基、炭素数1〜20のウレイド基、炭素数2〜20のヘテロ環基、炭素数1〜20のアシル基、炭素数0〜20のスルファモイルアミノ基、炭素数2〜20のシリル基などが挙げられる。また、X及びX’で表される連結基は、ここで挙げた連結基を組み合わせて形成されてもよい。更に、これらの連結基は置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、ここで挙げた連結基の他に、アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【0024】
また、上記一般式(I)で表されるR1としては、炭素数4以上のアルキル基、又は、ハロアルキル基であることが好ましく、画像形成性の観点から、炭素数6以上20以下であることがより好ましい。
更に、上記一般式(I)で表されるX’としては、以下の構造を含むことが好ましい。ここで、Wは、水素原子、又は一価の有機基を表し、nは1〜4の整数を表す。
【0025】
【化2】
【0026】
上記構造式のWで表される一価の有機基の具体例としては、以下のものが挙げられる。
Wは、直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基、直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、アンモニオ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ウレイド基、ヘテロ環基(ヘテロ原子としては、例えば、窒素、酸素、イオウ、Se原子、Te原子を少なくとも1個以上含み、3乃至12員環の単環、縮合環)、アシル基、スルファモイルアミノ基、シリル基、アゾ基、ハロゲン原子が挙げられる。これらの置換基は、更に置換基を有してもよく、その置換基の例としては、ここで挙げた置換基が挙げられる。
【0027】
本発明における長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとして、具体的に以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0028】
【化3】
【0029】
【化4】
【0030】
【化5】
【0031】
【化6】
【0032】
【化7】
【0033】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分)
本発明における側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を合成する際、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと共重合させる成分としては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からpKa12以下の酸基を有するモノマーであることが好ましい。
なお、長鎖アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分として、前記pKa12以下の酸基を有するモノマーに加えて、pKa12以下の酸基を含まない他の化合物を併用することもできるが、この際、pKa12以下の酸基を含まないモノマーは共重合体成分中に60モル%以下であることが好ましく、上記の効果の観点から30モル%以下である方がより好ましい。
【0034】
本発明における側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体としては、下記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマーであることが好ましい。
【0035】
【化8】
【0036】
一般式(II)中、X及びX’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。Yは、pKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格を表す。また、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。mは0.01≦m≦1を表す。
一般式(II)で表されるX及びX’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(II)で表されるX’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(II)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
一般式(II)で表されるmは、0.01≦m≦1の範囲を表すが、滑り性の観点から0.03≦m≦1の範囲であることが好ましく、0.03≦m≦0.9の範囲であることがより好ましい。
【0037】
上記一般式(II)におけるYで表されるpKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格の具体例としては、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、感度の点で好ましい。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO3H2)
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【0038】
上記(1)のフェノール基を有するモノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【0039】
上記(2)スルホンアミド基を有するモノマーとしては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜(v)で表される化合物が挙げられる。
【0040】
【化9】
【0041】
上記一般式(i)〜(v)中、X1、X2は、各々独立に、−O−又は−NR7を表す。R1、R4は、各々独立に、水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、各々独立に、水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合、又は−CO−を表す。
【0042】
一般式(i)〜(v)で表される化合物のうち、本発明の画像形成材料では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0043】
上記(3)活性イミド基を有するモノマーとしては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0044】
【化10】
【0045】
具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0046】
上記(4)カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
上記(5)スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
上記(6)リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0047】
上記のpKa12以下の酸基を有するモノマーの中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基(4)カルボン酸を有するモノマーが好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基又は(4)カルボン酸を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【0048】
また、上記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマー(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体)における長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分として、下記(7)〜(18)の化合物を共重合体成分中60モル%以下で用いることもでき、30モル%以下であることが効果の観点からより好ましい。
【0049】
(7)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(8)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
(9)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
【0050】
(10)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(11)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(12)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
【0051】
(13)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(14)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(15)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【0052】
(16)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(17)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(18)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0053】
上記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマーの中の残留モノマー量は、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)、基盤裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から10モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分は、2種類以上混合して用いることもできる。
【0054】
このような側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0055】
【化11】
【0056】
【化12】
【0057】
【化13】
【0058】
<(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体>
本発明に用いられる(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)は、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーと、少なくとも1種類以上のアルカリ可溶性基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマー(以下、アルカリ可溶性基含有マクロモノマーと称する。)と、を組み合わせて共重合したポリマーであることが好ましく、該長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から99〜5%の範囲内あることが好ましく、97〜20%の範囲内であることがより好ましく、95〜30%の範囲内であることが最も好ましい。
【0059】
主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を構成する長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとしては、溶剤溶解性や感材を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆性、画像形成性への影響の小ささ等の観点から、長鎖(ハロ)アルキル(メタ)アクリレートであることが好ましく、モノマー内の長鎖(ハロ)アルキル基は、炭素数4以上の直鎖(ハロ)アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上であることがより好ましい。
【0060】
長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとして、下記一般式(III)で表される構造であることが好ましい。
【0061】
【化14】
【0062】
一般式(III)中、X’’は、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。また、R2は、水素原子、又はメチル基を表す。
一般式(III)で表されるX’’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(III)で表されるX’’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(III)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
【0063】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとの共重合成分)
本発明における主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を合成する際、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーと共重合させる成分としては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からpKa12以下の酸基を有するアルカリ可溶性基含有マクロモノマーであることが好ましい。
【0064】
本発明における主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体としては、下記一般式(IV)で表される構造単位を有するポリマーであることが好ましい。
【0065】
【化15】
【0066】
一般式(IV)中、X’’及びX’’’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。Y’は、pKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格を表す。また、R2、R3及びR4は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。lは0.1≦l≦1を表す。
一般式(IV)で表されるX’’及びX’’’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(IV)で表されるX’’及びX’’’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(IV)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
一般式(IV)で表されるlは、滑り性の観点から0.1≦l≦1の範囲であることが好ましく、0.2≦l≦0.95の範囲であることがより好ましい。
【0067】
上記一般式(IV)におけるY’で表されるモノマー骨格の具体例としては、上記一般式(II)におけるYで表された前記(1)〜(6)に挙げる酸性基を有するモノマーであることが好ましく、更に、前記(7)〜(18)の化合物を共重合体成分中60モル%以下で用いることもでき、好ましくは、30モル%以下で用いることができる。
【0068】
上記一般式(IV)で表される構造単位を有するポリマーの中の残留モノマー量は、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)、基盤裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から10モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとの共重合成分は、2種類以上混合して用いることもできる。
【0069】
このような主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0070】
【化16】
【0071】
【化17】
【0072】
本発明に用いられる主鎖型及び側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体としては、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が1,000以上のものが好ましく用いられる。ポリスチレン換算で重量平均分子量が5,000〜5,000,000であることがより好ましく、5,000〜2,000,000であることが更に好ましく、10,000〜1,000,000であることが特に好ましい。
このような特定疎水性グラフト(共)重合体は、1種類を用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0073】
特定疎水性グラフト(共)重合体の添加量としては、画像形成材料の全成分の重量に対して、通常0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜20重量%、更に好ましくは1〜10重量%の量が使用され、この範囲において、滑り性や転写防止性等の良好な結果を得ることができる。使用量が30重量%を超えると、ポジ型画像形成材料としての画像形成性や、感度が添加量の増大につれて徐々に悪化する傾向にある。一方、使用量が0.1重量%に満たない場合は、条件によっては本発明の効果である動摩擦係数の低下効果(滑り性の効果)が充分に得られないことがある。
【0074】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の合成法)
本発明における側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体は、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと、少なくとも1種類以上のモノマーと、を組み合わせて共重合したポリマーである。
まず、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成法について説明する。長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーは、以下の方法で合成することが好ましい。
【0075】
まず、片末端にカルボキシ基を有する連鎖移動剤によるラジカル連鎖移動重合により、片末端にカルボキシ基を有した分子量1,000〜50,000の長鎖(ハロ)アルキル基含有プレポリマーを合成する。次に、かかるプレポリマーの末端のカルボキシ基と、グリシジル(メタ)アクリレートと、を反応させることにより、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが合成される。
片末端にカルボキシ基を有するプレポリマーは、カルボキシル基を有するメルカプタン系連鎖移動剤の存在下でアクリルアミドをラジカル重合させる、又は、連鎖移動剤を使用せず、カルボキシ基を有するラジカル重合開始剤を用いてアクリルアミドをラジカル重合させる方法を用いて合成することもできる。目的とする重合体(マクロモノマー)の分子量の制御が容易という観点からは、カルボキシ基を有する連鎖移動剤を用いるラジカル重合法を採用することが好ましい。
【0076】
上記プレポリマーを合成する際にラジカル重合に用いる有機溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シメチルスルホキシドなどを用いることができる。
【0077】
また、合成に用いられるカルボキシ基を含有するメルカプタン系連鎖移動剤としては、メルカプト酢酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、p‐メルカプト安息香酸などが挙げられる。
ラジカル重合に連鎖移動剤を用いる場合の好ましい使用量は、全単量体の合計量を基準にして、0.3〜20重量%である。連鎖移動剤の量及び/又は後述するラジカル重合開始剤の使用量によって、重合体の分子量を制御することができる。
【0078】
合成に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤及び過酸化物開始剤が挙げられるが、副生成物が少ないという観点からは、アゾ系開始剤を用いることが好ましい。
本発明に使用可能な重合開始剤の具体例をその略称と共に示せば、2、2−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル(ACHN)、4、4’−アゾビス−4−シアノバレリックアシッド(ACVA)等が挙げら、これらのなかでも、ACVAは分子中にカルボキシ基を有しており、連鎖移動剤を用いない場合に好適に使用できる。
ラジカル重合開始剤の好ましい添加量としては、連鎖移動剤を併用する場合には、用いる単量体のに対して固形分で0.05〜0.8重量%程度であり、連鎖移動剤を併用しない場合には、1〜20重量%の範囲であることが好ましい。
【0079】
上記プレポリマーとグリシジル(メタ)アクリレートとを以下の条件で反応させることにより、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが得られる。プレポリマー(末端のカルボンキシ基)1モル当たりグリシジル(メタ)アクリレートを1.1〜5.0モル、グリシジル(メタ)アクリレートのモル数の1.0〜3.0モル%の重合禁止剤、及び所望により触媒の存在下、反応温度80℃〜140℃の温度範囲で有機溶媒中で反応させる。
この重合反応に用いる溶媒としては、上記のプレポリマーを合成する際にラジカル重合で使用可能として挙げた各種溶媒をここでも好適に用いることができるが、前記の反応温度以上の沸点を有する溶媒が好ましく、例えば、トルエンやTHF等が好ましい。
【0080】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成にあたっては、反応系中に重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テル、フェノチアジン等が挙げられ、その好ましい使用量は、先に述べたようにグリンジルメタクリレートのモル数に対して1.0〜3.0モル%の範囲である。また、重合防止のために反応液中に酸素ガスに通気することも好ましい。
【0081】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成、及び特定疎水性グラフト(共)重合体の合成にあたっては、目的に応じて、三級アミン、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等の触媒を用いてもよく、用い得る触媒としては、具体的には、N,N−ジメチルアニリン、トリエチルアミン、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド及びトリフェニルブチルホスホニウムブロミド、N,N−ジメチルドデシルアミン等が挙げられる。
触媒を添加する場合の好ましい使用量は、前記プレポリマーの総量に対して0.05〜3.0重量%程度である。
【0082】
このようにして長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが合成されると、該長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと、モノマーと、共重合させて側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体が合成される。
このようにマクロモノマーを使用したグラフトポリマーの合成法については、“新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編、共立出版(株)1995に詳細に記載されている。また、山下雄他著“マクロモノマーの化学と工業”アイピーシー、1989にも詳しく記載されており、これらに記載の方法は本発明における特定疎水性グラフト(共)重合体(主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を含む)の合成にも応用することができる。
【0083】
[(a)赤外線吸収剤]
本発明の画像記録材料に用いられる赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点から、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
【0084】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。
【0085】
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【0086】
また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【0087】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に、式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【0088】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記一般式(a)〜(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成中で使用した場合に、高い重合活性を与え、かつ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【0089】
【化18】
【0090】
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
【0091】
【化19】
【0092】
R1及びR2は、各々独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
【0093】
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za−は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、Za−は必要ない。好ましいZa−は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【0094】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特願平11−310623号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特願2000−224031号明細書の段落番号[0012]〜[0038]、特願2000−211147号明細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。
【0095】
【化20】
【0096】
【化21】
【0097】
【化22】
【0098】
【化23】
【0099】
【化24】
【0100】
一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Ni+、K+、Li+)等が挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【0101】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0102】
【化25】
【0103】
【化26】
【0104】
一般式(c)中、Y3及びY4は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za−は対アニオンを表し、上記一般式(a)におけるZa−と同義である。
【0105】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0106】
【化27】
【0107】
【化28】
【0108】
一般式(d)中、R29乃至R31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に、0乃至4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、更に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士或いはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc−は対アニオンを示し、上記一般式(a)におけるZa−と同義である。
【0109】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0110】
【化29】
【0111】
【化30】
【0112】
一般式(e)中、R35〜R50は各々独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【0113】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0114】
【化31】
【0115】
本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
【0116】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【0117】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0118】
顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。
【0119】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0120】
これらの顔料若しくは染料は、画像記録材料を構成する全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10重量%の割合で添加することができる。顔料若しくは染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越えると記録層の均一性が失われ、画像記録材料の耐久性が悪くなる。
【0121】
本発明の画像形成材料に含有される他の成分としては、赤外線で記録可能な公知の種々の画像形成材料の成分を適宜選択して用いることができる。
まず、赤外線露光により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する画像形成材料について説明する。このような画像形成材料は、アルカリ水溶液に対する可溶性が向上するポジ型と、逆にアルカリ水溶液に対する可溶性が赤外線の露光により低下するネガ型との2つに分けられる。
【0122】
ポジ型の画像形成材料としては、相互作用解除系(感熱ポジ)、酸触媒分解系の画像形成材料が挙げられる。これらは光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて非画像部を形成するものである。
【0123】
また、ネガ型の画像形成材料としては、ラジカル重合系、酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)の画像形成材料が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生するラジカル或いは酸が開始剤や触媒となり、画像形成材料を構成する化合物が重合反応、架橋反応を起こし硬化して画像部を形成するものである。
以下、ポジ型及びネガ型のそれぞれの画像形成材料について詳細に説明する。
【0124】
<相互作用解除系(感熱ポジ)>
相互作用解除系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、以下で述べる(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物により構成される。
【0125】
[(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物]
本発明の相互作用解除系画像形成材料に使用し得る(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する)としては、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。
中でも、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
【0126】
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO3H2)
【0127】
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【0128】
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【0129】
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。更に、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
【0130】
フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【0131】
(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式1〜5で表される化合物が挙げられる。
【0132】
【化32】
【0133】
式上記一般式1〜5中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−又はNR27−を表す。R21、R24は、それぞれ独立に水素原子又はCH3を表す。R22、R25、R29、R32及びR36は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R23、R27及びR33は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R26、R37は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R28、R30及びR34は、それぞれ独立に水素原子又はCH3を表す。R31、R35は、それぞれ独立に単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y3、Y4は、それぞれ独立に単結合、又は−CO−を表す。
【0134】
一般式1〜5で表される化合物のうち、本発明のポジ型平版印刷用材料では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0135】
(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0136】
【化33】
【0137】
具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0138】
(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
【0139】
アルカリ可溶性樹脂を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、又は異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。
【0140】
前記共重合体は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。
【0141】
本発明では、化合物を共重合してアルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、前記(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物の例としては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【0142】
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0143】
アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
【0144】
また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
【0145】
アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子量が500以上であることが画像形成性の点で好ましく、1,000〜700,000であることがより好ましい。また、その数平均分子量が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1.1〜10であることが好ましい。
【0146】
また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合には、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先に提出した特開2000−241972号公報に記載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。
【0147】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、その合計の含有量が、画像形成材料全固形分中、30〜98重量%が好ましく、40〜95重量%がより好ましい。含有量が30重量%未満である場合には、耐久性が悪化する傾向にあり、また、98重量%を超える場合には、感度、画像形成性が低下する傾向があるため好ましくない。
【0148】
<酸触媒分解系>
酸触媒分解系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光の作用により酸を発生する化合物(酸発生剤)、及び、発生した酸を触媒として化学結合を開裂しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物(酸分解性化合物)とを必須成分とする。かかる酸触媒分解のメカニズムにより、酸触媒分解系画像形成材料は、化学増幅系画像形成材料とも称される。
【0149】
酸触媒分解系画像形成材料には、更に、このを形成するためのバインダー成分である高分子化合物(例えば、上述した(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物)や感度向上を目的とする上記赤外線吸収剤を含有してもよく、前記酸分解性化合物自体が、バインダー成分の機能を果たす高分子化合物又はその前駆体であってもよい。
酸触媒分解系画像形成材料は、多層構造内の一層として複数の画像形成材料と併用される場合、特に、最上層として露光面に形成されることが好ましい。
【0150】
〔酸分解性化合物〕
本発明において、酸を触媒として化学結合を開裂しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物とは、分子内に酸で分解し得る結合基を有する化合物と言い代えることができる。このような化合物は、特開平9−171254号公報に「(b)酸で分解結合を少なくとも1つ有する化合物」として記載されたものを用いることができる。酸で分解し得る結合としては、例えば、−(CH2CH2O)n−基(nは2〜5の整数を表す)等を好ましく挙げることができる。
このような化合物中、感度及び現像性の観点から、下記一般式(1)で表される化合物を用いることが好ましい。
【0151】
【化34】
【0152】
上記一般式(1)中、R、R1及びR2は、各々水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を表し、p、q及びrは、各々1〜3の整数を表し、m及びnは、各々1〜5の整数を表す。
【0153】
上記一般式(1)において、R、R1及びR2が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式(1)で表される化合物のうち、m及びnが1又は2である化合物が特に好ましい。一般式(1)で表される化合物は公知の方法で合成することができる。
【0154】
その他、本発明に適用し得る酸分解性化合物としては、特開昭48−89603号、同51−120714号、同53−133429号、同55−12995号、同55−126236号、同56−17345号に記載のC−O−C結合を有する化合物、特開昭60−37549号、同60−121446号に記載のSi−O−C結合を有する化合物、特開昭60−3625号、同60−10247号に記載されているその他の酸分解化合物を挙げることができ、更に特開昭62−222246号に記載されているSi−N結合を有する化合物、特開昭62−251743号に記載されている炭酸エステル、特開昭62−209451号に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62−280842号に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭63−010153号、特開平9−171254号、同10−55067号、同10−111564号、同10−87733号、同10−153853号、同10−228102号、同10−268507号、同282648号、同10−282670号、EP−0884547Alに記載されているアセタール、ケタール及びオルトカルボン酸エステル、特開昭62−244038号に記載されているC−S結合を有する化合物を用いることが出来る。
【0155】
上記酸分解性化合物の中でも特に、特開昭53−133429号、同56−17345号、同60−121446号、同60−37549号、同62−209451号、同63−010153号、特開平9−171254号、同10−55067号、同10−111564号、同10−87733号、同10−153853号、同10−228102号、同10−268507号、同282648号、同10−282670号、EP0884647Al各明細書に記載されているC−O−C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。
この酸分解性化合物の中でも、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生した酸により上昇する高分子化合物が好ましく用いられる。
【0156】
これらの酸分解性化合物は、1種のみを用いても、2種以上を組合せて用いてもよい。また、添加量としては、化学増幅層全固形分に対し5〜70重量%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは15〜35重量%の割合で層中に添加される。添加量が5重量%未満の場合は、非画像部の汚れが発生し易くなり、また添加量が70重量%を越える場合は、画像部の膜強度が不充分となり、いずれも好ましくない。
【0157】
また、ネガ型の画像形成材料としてはラジカル重合系、酸触媒架橋系(カチオン重合を含む)が挙げられる。以下、順に述べる。
【0158】
<ラジカル重合系>
本発明のラジカル重合系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光によりラジカルを発生する化合物(以下、ラジカル発生剤と称する)と、ラジカル重合しうる化合物(重合性化合物と称する)とを含有し、例えば、赤外線レーザなどの照射により露光部においてラジカル発生剤からラジカルが発生し、それが開始剤となり、重合性化合物がラジカル重合反応によって硬化し、画像部を形成する。ここに用いられるラジカル発生剤と重合性化合物との組合せは、ラジカル重合により形成される膜の強度が画像形成材料としての要求を満たすものであれば、公知のものから適宜選択して用いることができる。また、ラジカル発生剤の反応性向上のために、オニウム塩、還元剤などの促進剤を併用することもできる。ラジカル重合層に使用し得る成分としては、例えば、特開平8−108621号公報において、熱重合性画像形成材料の構成成分として記載された化合物、特開平9−34110号公報において、画像形成材料の構成成分として記載された化合物なども好ましく使用することができる。
【0159】
(ラジカル発生剤)
ラジカル重合系画像形成材料に用いられるラジカル発生剤としては、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく、使用することができ、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル,2,2’−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル,過酸化ラウロイル,過酸化アセチル,過安息香酸−t−ブチル,α−クミルヒドロパーオキサイド,ジ−t−ブチルパーオキサイド,ジイソプロピルパーオキシジカーボネート,t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート,過酸類,アルキルパーオキシカルバメート類,ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン,p−ニトロベンゼンジアゾニウム,アゾビス置換アルカン類,ジアゾチオエーテル類,アリールアゾスルホン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド等のテトラアルキルチウラムジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド等のジアリールジスルフィド類、ジアルキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルホン類、1−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。
【0160】
本発明のラジカル重合系画像形成材料が赤外線レーザにより記録される場合、レーザのエネルギーにもよるが、露光面の到達温度が600℃以上にもなるため、活性化エネルギーの大きいラジカル発生剤でも充分な感度を得ることができる。
ラジカル発生剤のラジカル発生のための活性化エネルギーは30kcal/モル以上であることが好ましく、そのようなものとしてアゾビスニトリル系化合物、有機過酸化物が挙げられる。中でも、常温で安定性に優れ、過熱時の分解速度が速く、分解時に無色となる化合物が好ましく、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。
上記ラジカル発生剤は単独で用いても2種以上併用してもよく、ラジカル重合層の全固形分に対し0.5〜30重量%程度、好ましくは2〜10重量%で用いる。
【0161】
また、後述するオニウム塩との相互作用によりラジカルを発生する化合物も好適に使用することができる。具体的には、ハロゲン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチルトリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、過酸化物などが挙げられるが、好ましくは、前記特開平9−34110号公報の第16頁に(A−1)〜(A−4)として開示されたビスイミダゾール誘導体が挙げられる。
後者のラジカル発生剤は、オニウム塩との相互作用により高感度化を達成している。このラジカル発生剤と併用し得るオニウム塩としては、同公報の段落番号〔0022〕〜〔0049〕に記載のホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、及びアンモニウム塩の各化合物が挙げられる。
【0162】
前記オニウム塩の添加量は、オニウム塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料全固形分に対して0.05〜50重量%であることが好ましい。
また、後述する<酸触媒架橋系>内の(酸発生剤)として好適用いることができるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩は前記ラジカル発生剤と併用しなくても、単独でラジカル発生剤として使用することができ、その添加量は、種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料全固形分に対して0.05〜50重量%であることが好ましい。
【0163】
(重合性化合物)
ラジカル発生剤から発生するラジカルにより重合して硬化する重合可能な高分子化合物としては、重合性基を有する公知のモノマーが特に制限なく使用することができる。そのようなモノマーとしては、具体的には、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物;ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートを前記と同様にメタクリレート等に代えた化合物;或いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート等に代えた化合物等を挙げることができる。また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
【0164】
この他に、特開昭58−212994号、同61−6649号、同62−46688号、同62−48589号、同62−173295号、同62−187092号、同63−67189号、特開平1−244891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化合物なども好適に用いることができる。
【0165】
なかでも、分子内に2個以上のアクリル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ましくは5,000以下のものが望ましい。本発明においては、重合性化合物は、前記例示したものも含めて重合性基を有するモノマー、プレポリマーのなかから、目的に応じて1種或いは相溶性、親和性に問題がなければ、2種以上を組合せて用いることができる。
エチレン性不飽和基を有する化合物は、画像形成材料中に固形分として、好ましくは20〜80重量%、より好ましくは30〜60重量%含有される。
【0166】
(バインダー樹脂)
ラジカル重合系画像形成材料には、膜性向上の観点からバインダー樹脂を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、上述した(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物を使用することができる他、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例えばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリプロピレンなどは、前述のエチレン性不飽和結合を有する化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適に用いることができる。バインダー樹脂としては前述の樹脂の中から、1種又は2種以上のものを組み合わせて用いることができる。
これらのバインダー樹脂は、重合性化合物100重量部に対して500重量部以下、より好ましくは200重量部以下の範囲で使用するのが好ましい。
このようなラジカル重合系画像形成材料に、前記特定の赤外線吸収剤を添加することで感度向上や、ラジカル重合反応の促進を図ることができる。
【0167】
(その他の化合物)
ラジカル重合系画像形成材料には、従来公知の光重合性化合物と併用される各種添加剤が、適宜、使用できる。
添加剤として熱重合抑制剤が挙げられる。具体的には、ハイドロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、カテコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等のキノン系、フェノール系化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物とバインダー樹脂との合計100重量部に対して、10重量部以下で、好ましくは0.01〜5重量部程度で用いる。
また、感度を向上させるため上述した赤外線吸収剤を添加してもよい。
【0168】
酸素クエンチャーとして添加しうる化合物では、米国特許第4,772,541号の第11カラム58行目〜第12カラム35行目に記載の化合物等のN,N−ジアルキルアニリン誘導体が挙げられる。
また、膜質向上のため、可塑剤を用いることができ、例えば、フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和或いは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類等が挙げられる。
【0169】
加熱により酸を発生しラジカル発生剤の分解を促進する添加剤として、酸発生剤を併用することも好ましい。この酸発生剤については、下記酸触媒架橋系画像形成材料の説明において詳述するものを用いることができる。
【0170】
<酸触媒架橋系>
本発明における酸触媒架橋系画像形成材料には、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光により酸を発生する化合物(以下、酸発生剤と称する)と、発生した酸を触媒として架橋しうる化合物(以下、架橋剤と称する)とを含有し、更に、これらを含有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうるバインダーポリマーを含む。この酸触媒架橋系画像形成材料においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。
【0171】
このような特性を有する酸触媒架橋系画像形成材料としては、公知の同様の特性を有する層の構成成分を用いることができる。例えば、特開平7−20629号公報に記載されるレゾール樹脂、ノボラック樹脂、潜伏性ブレンステッド酸、及び赤外吸収剤を含んでなる放射線感受性組成物からなる層の構成成分として記載された化合物が挙げられる。ここで、「潜伏性ブレンステッド酸」とは、分解してブレンステッド酸を生成する先駆体を指し、本発明における酸発生剤と酸架橋剤との双方の特性を有する化合物である。ブレンステッド酸は、レゾール樹脂とノボラック樹脂との間のマトリックス生成反応を触媒すると考えられており、この目的に適切なブレンステッド酸の例としては、トリフルオロメタンスルホン酸及びヘキサフルオロホスホン酸である。
【0172】
更に、イオン性潜伏性ブレンステッド酸が好ましく、これらの例は、オニウム塩、特にヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、セレノニウム、ジアゾニウム、及びアルソニウム塩を包含する。非イオン性潜伏性ブレンステッド酸もまた好適に用いることができ、例えば、下記の化合物:RCH2X、RCHX2、RCX3、R(CH2X)2、及びR(CH2X)3、(式中、Xは、Cl、Br、F、若しくはCF3、SO3であり、Rは、芳香族基、脂肪族基若しくは芳香族基及び脂肪族基の結合体である)を挙げることができる。
【0173】
また、特開平11−95415号公報に記載の酸架橋性化合物と高分子量結合剤とを含有する画像形成材料も好適なものとして挙げられる。これは、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのなどの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロゲン化合物と、前記酸の存在下で架橋しうる結合を少なくとも1つ有する化合物、例えば、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を少なくとも2個有するアミノ化合物、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を有する少なくとも2置換の芳香族化合物、レゾール樹脂及びフラン樹脂、特定の単量体から合成されるアクリル樹脂など、とを含有する記録層であり、これを使用することができる。
【0174】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料には、酸発生剤、架橋剤及びバインダーポリマー、その他が含まれるが、次に、これらの化合物について個々に説明する。(酸発生剤)
本発明において光又は熱により酸を発生する化合物(酸発生剤)とは、赤外線の照射や、100℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。
【0175】
本発明において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、US4,708,925号や特開平7−20629号に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、US5,135,838号やUS5,200,544号に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平2−100054号、特開平2−100055号及び特開平9−197671号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平7−271029号に記載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。
【0176】
これらの酸発生剤は、酸触媒架橋系画像形成材料の全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜40重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で酸架橋層中に添加される。添加量が0.01重量%未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生する。
【0177】
これらの化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、ここに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解できるため、このような形態の画像形成材料を用いれば、赤外線だけではなく紫外線の照射によっても画像記録可能である。
【0178】
(酸架橋剤)
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料に用い得る架橋剤は、酸により架橋する化合物であれば、特に制限はないが、下記一般式(I)で表されるフェノール誘導体(以下、適宜、低分子フェノール誘導体と称する)、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤、及び、前記低分子フェノール誘導体と多核型フェノール性架橋剤及び/又はレゾール樹脂との混合物、などが好ましく使用される。
【0179】
【化35】
【0180】
上記一般式(I)中、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を示す。R1及びR2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。R3は、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の連結基を示し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、ZはYが末端基である場合には存在せず、或いは、Yの連結基の数に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は官能基を示す。
【0181】
【化36】
【0182】
上記一般式(II)中、Aは、炭素数1〜20のr価の炭化水素連結基を示し、rは3〜20の整数を示す。pは、2〜3の整数を示す。
一般式(I)で表されるフェノール誘導体については、本願出願人が先に提出した特願平11−352210号明細書段落番号〔0098〕〜〔0155〕に詳述されており、一般式(II)で表される、環上に2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤についても、同明細書段落番号〔0156〕〜〔0165〕に詳述されている。
【0183】
これらの架橋剤は単独で使用してもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明において、架橋剤は酸触媒架橋系画像形成材料の固形分中、5〜70重量%、好ましくは10〜65重量%の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が5重量%未満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、70重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくない。
【0184】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料に用い得るバインダーポリマーとしては、ヒドロキシ基又はアルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖又は主鎖に有するポリマーが挙げられる。アルコキシ基としては、感度の観点から、炭素数20個以下のものが好ましい。また、芳香族炭化水素環としては、原料の入手性から、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。これらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基又はアルコキシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン基、シアノ基等の置換基を有していてもよいが、感度の観点から、ヒドロキシ基又はアルコキシ基以外の置換基を有さない方が好ましい。
【0185】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料において、好適に用いることができるバインダーポリマーは、下記一般式(III)で表される構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等のフェノール樹脂である。
【0186】
【化37】
【0187】
上記一般式(III)中、Ar2は、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環を示す。R4は、水素原子又はメチル基を示す。R5は、水素原子又は炭素数20個以下のアルコキシ基を示す。X1は、単結合又は、C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。kは、1〜4の整数を示す。
【0188】
本発明では、バインダーポリマーとして、一般式(III)で表される構成単位のみから成る単独重合体を用いてもよいが、この特定構成単位とともに、他の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重合体を用いてもよい。
これらを用いた共重合体中に含まれる一般式(III)で表される構成単位の割合は、50〜100重量%であることが好ましく、更に好ましくは60〜100重量%である。
【0189】
また、使用し得る上記バインダーポリマーの重量平均分子量は好ましくは5,000以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0190】
次に、ノボラック類について述べる。本発明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラック、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられる。
これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは1000以上であり、更に好ましくは2,000〜15,000の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
【0191】
また、バインダーポリマーとして、環内に不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いることも好ましい態様である。
ここで、複素環とは、環系を構成する原子の中に、炭素以外のヘテロ原子を1個以上含むものをいう。用いられるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、珪素原子が好ましい。このような複素環基を有するポリマーを用いることにより、本複素環に存在するローンペアの機能により、化学構造的に反応し易くなり、耐刷性の良好な膜が形成されると考えられる。
【0192】
以上説明した本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても2種類以上を混合して用いてもよい。これらポリマーは、酸触媒架橋系画像形成材料の全固形分に対し20〜95重量%、好ましくは40〜90重量%の割合で添加される。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越える場合は、画像形成されない。
【0193】
この酸触媒架橋系画像形成材料においても、上述した赤外線吸収剤を含有することで感度向上を図ることができる。
この酸触媒架橋系画像形成材料の形成に際して、塗布性、膜質の向上などの目的で界面活性剤などの種々の添加物を併用することができる。
【0194】
以上、ポジ型及びネガ型の画像形成材料について説明してきたが、特に断らない限り、各画像形成材料には、任意で、上記の(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物をバインダーポリマーとして、上記の赤外線吸収剤を感度向上を目的として使用することができる。
【0195】
〔その他の成分〕
上述された本発明のポジ型及びネガ型の画像形成材料には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
具体的には、本発明のポジ型の画像形成材料には、例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等の熱分解性を有し、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の現像液への溶解性を実質的に低下させる物質を添加することにより、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点において好ましい。
【0196】
前記オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wenet al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号明細書、同4,069,056号明細書に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.& Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号明細書、米国特許第339,049号明細書、同第410,201号明細書、特開平2−150848号公報、特開平2−296514号公報に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivelloet al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号明細書、同233,567号明細書、同297,443号明細書、同297,442号明細書、米国特許第4,933,377号明細書、同3,902,114号明細書、同410,201号明細書、同339,049号明細書、同4,760,013号明細書、同4,734,444号明細書、同2,833,827号明細書、独国特許第2,904,626号明細書、同3,604,580号明細書、同3,604,581号明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。
オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号公報記載のものがあげられる。
【0197】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【0198】
オニウム塩は、画像形成材料を構成する全固形分に対して、1〜50重量%添加するのが好ましく、5〜30重量%添加するのがより好ましく、10〜30重量%添加するのが特に好ましい。
【0199】
前記o−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号明細書及び同第3,188,210号明細書に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【0200】
更に、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号の各公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号等の各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
【0201】
o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【0202】
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%である。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。
【0203】
また、更に、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4’’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3’’,4’’−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
【0204】
また、本発明における画像形成材料中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
【0205】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
【0206】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記シロキサン系化合物の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
上記フッ素含有のモノマー共重合体の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
【0207】
本発明における画像形成材料中には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【0208】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成材料全固形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で画像形成材料中に添加することができる。
【0209】
更に、本発明の画像形成材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【0210】
また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
【0211】
[平版印刷版原版]
本発明の画像形成材料は平版印刷版原版の記録層として好適に使用することができる。かかる平版印刷版原版は、本発明の画像形成材料を含む記録層塗布液や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原版を製造することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下する。
【0212】
本発明の画像形成材料を用いた記録層塗布液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像形成材料の0.01〜1重量%更に好ましくは0.05〜0.5重量%である。
【0213】
(樹脂中間層)
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と当該記録層との間に樹脂中間層を設けることができる。
この樹脂中間層を設けることで、露光によりアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感応層である記録層が、露光面或いはその近傍に設けらることで赤外線レーザに対する感度が良好であるとともに、支持体と該赤外線感応層との間に高分子からなる樹脂中間層が存在し、断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率良く画像形成に使用されることからの高感度化も図れるという利点を有する。また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液等を用いた場合でも、残膜等が発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この樹脂中間層は有用であると考えられる。
【0214】
(支持体)
平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【0215】
平版印刷版原版に用いられる支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
【0216】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
【0217】
この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【0218】
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部にキズが付き易くなって、印刷時にキズの部分にインキが付着するいわゆる「キズ汚れ」が生じ易くなる。
【0219】
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【0220】
(下塗層)
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と当該記録層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
【0221】
この下塗層は、次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水等によって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。
【0222】
(オーバーコート層)
また、本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版の中において、ラジカル重合系画像形成材料を記録層に用いる場合、酸素による重合阻害を防止するために、該記録層に隣接して酸素不透過性のオーバーコート層を設けてもよい。オーバーコート層の素材としては、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂が好ましく、膜厚は0.2〜3μm程度が適当である。
オーバーコート層には、必要に応じて記録に用いる光源からの光を吸収しない染料又は含量をフィルター剤として添加してもよい。
【0223】
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、波長720〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザー、半導体レーザー等が挙げられる。
本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【0224】
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【0225】
これらのアルカリ剤は単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。
これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−7427号公報に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【0226】
更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【0227】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0228】
本発明の画像形成材料を用いた感光性平版印刷版原版(本発明の平版印刷版原版)について説明する。画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【0229】
以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前に、特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
【0230】
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥重量)が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
【0231】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0232】
【実施例】
以下、本発明を、実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
【0233】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(1)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール52.6g溶液に、メタクリル酸ドデシル50g、3−メルカプトプロピオン酸2.1g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)498mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.0×103)を51.8g得た。
得られたプレポリマー15gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.26g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)96mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)33mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレート−ドデシルメタクリレートマクロモノマー(重量平均分子量:5600)を12.4g得た。H1−NMR(CDCl3)6.16、5.61ppmメタクリロイル基オレフィンピークと、酸価の減少から、末端に重合性基が導入できたことを確認した。
【0234】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(2)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール51.6g溶液に、アクリル酸ステアリル50g、3−メルカプトプロピオン酸1.6g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)374mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.2×103)を50.8g得た。
得られたプレポリマー15gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.10g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)92mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)32mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレート−ステアリルメタクリレートマクロモノマー(重量平均分子量:5900)を11.7g得た。H1−NMR(CDCl3)6.15、5.61ppmメタクリロイル基オレフィンピークと、酸価の減少から、末端に重合性基が導入できたことを確認した。
【0235】
上記長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(1)及び(2)の合成法と同様にして仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表1及び表2に示す構造を有する長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(3)〜(9)を合成した。また、これらのマクロモノマー(3)〜(9)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表1及び表2に併記した。
【0236】
(アルカリ可溶性基含有マクロモノマー(10)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール52.6g溶液に、p−t−ブトキシ−スチレン34.6g、3−メルカプトプロピオン酸2.1g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)498mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.3×103)を33.2g得た。
得られたプレポリマー15.9gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.26g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)96mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)33mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレートのマクロモノマー(重量平均分子量:7900)を13.8g得た。
【0237】
上記アルカリ可溶性基含有マクロモノマーの合成法と同様にして仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表2に示す構造を有するアルカリ可溶性基含有マクロモノマー(11)を合成した。また、このマクロモノマー(11)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表2に併記した。
【0238】
【表1】
【0239】
【表2】
【0240】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したメチルエチルケトン9.2g溶液に、上記マクロモノマー(1)8g、メタクリル酸1.22g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)35.9mg、及びメチルエチルケトン9.2gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続けた。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)(重量平均分子量:8.2×103)を7.95を得た。
【0241】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(B)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したメチルエチルケトン9.2g溶液に、上記マクロモノマー(2)8g、アクリル酸1.22g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)35.9mg、及びメチルエチルケトン9.2gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続けた。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(B)(重量平均分子量:7.9×103)を7.50g得た。
【0242】
(主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したテトラヒドロフラン7.8g溶液に、上記マクロモノマー(10)4g、メタクリル酸ドデシル3.8g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)36.8mg、及びテトラヒドロフラン7.8gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続け、その後、トリフルオロ酢酸175mgを加え、6時間加熱した。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)(重量平均分子量:7.9×103)を4.12g得た。
【0243】
上記側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)及び(B)、更には、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)の合成法と同様にして、仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表3及び表4に示す特定疎水性グラフト(共)重合体(C)〜(I)を合成した。また、これらの特定疎水性グラフト(共)重合体(C)〜(I)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表3及び表4に併記した。
【0244】
【表3】
【0245】
【表4】
【0246】
(実施例1)
〔支持体の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、更に、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で10秒処理し、下記下塗液を塗布し、塗膜を80℃で15秒間乾燥し支持体を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
【0247】
〔下塗液〕
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
【0248】
【化38】
【0249】
得られた支持体に、下記記録層塗布液1を塗布量が1.0g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140度℃で50秒間乾燥し、平版印刷版原版1を得た。
【0250】
【0251】
【化39】
【0252】
(比較例1)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版2を得た。
【0253】
(比較例2)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりにステアリン酸n−ドデシル0.02gを用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版3を得た。
【0254】
(実施例2)
実施例1で用いたのと同じ支持体に、下記記録層塗布液2を塗布量が1.6g/m2になるよう塗布したのち、実施例1と同様の条件で乾燥し、平版印刷版原版4を得た。
【0255】
(比較例1)
実施例2の記録層塗布液2において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例2と同様にして平版印刷版原版5を得た。
【0256】
(実施例3〜9)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表5に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版6〜12を得た。
【0257】
【表5】
【0258】
(実施例10)
実施例1で用いたのと同じ支持体に、下記記録層塗布液3を0.16g/m2になるようワイヤーバーで塗布した後、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140℃50秒で乾燥し、第1の記録層を形成した。
【0259】
【0260】
得られた第1の記録層の上に、下記記録層塗布液4を塗布量が0.85g/m2になるようワイヤーバーで塗布した後、120℃60秒で乾燥し、第2の記録層を形成し、2層構成の平版印刷版原版13を得た。
【0261】
【0262】
(比較例4)
実施例10の記録層塗布液4において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例10と同様にして平版印刷版原版14を得た。
【0263】
(実施例11)
実施例3において、記録層塗布液3及び4を、以下に示す記録層塗布液5及び6に代えた以外は、実施例3と同様にして2層構成の平版印刷版原版15を得た。
【0264】
【0265】
【0266】
(実施例12〜19)
実施例10の記録層塗布液4において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表6に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例10と同様にして平版印刷版原版16〜23を得た。
【0267】
【表6】
【0268】
(実施例20〜27)
実施例11の記録層塗布液6において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表7に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例11と同様にして平版印刷版原版24〜31を得た。
【0269】
【表7】
【0270】
[平版印刷版原版の評価]
〔滑り性の評価〕
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31を、ASTM D1894に従ってステレンススチールに対する動摩擦係数を測定し、滑り性の指標とした。測定結果は表8に示す。
【0271】
〔耐キズ性テスト〕
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31をロータリー・アブレーション・テスター(TOYOSEIKI社製)を用い、250gの加重下、アブレーザーフェルトCS5で15回摩擦した。
その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−1(1:8で希釈したもの)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温30℃、現像時間12秒にて現像した。この時の現像液の電導度は、45mS/cmであった。耐キズ性の評価は下記基準により行った。結果を表8に示す。
【0272】
(耐キズ性の評価基準)
A:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が全く変化しなかったもの
B:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視で僅かに観測されたもの
C:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の2/3以下になったもの
【0273】
〔現像ラチチュードの評価〕
得られた(未露光状態の)実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンを画像状にIRレーザー描き込みを行った。
その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−1を水道水で希釈し、種々の電導度を有する現像液を調製した。この液を用いて富士写真フイルム製PSプロセッサー900Hに仕込み、液温30度、現像時間12秒にて現像した。なお、ガム液としてFP−2W(1:1で水道水希釈したもの)を使用した。
【0274】
上記の現像条件において、平版印刷版原版の記録層の非露光部(画像部)の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を(X)mS/cmとする。また、同現像条件において、平版印刷版原版の記録層の露光部(非画像部)の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を(Y)mS/cmとする。本実施例においては、現像ラチチュードを(A)‐(B)と定義した。現像ラチチュードの値が大きいほど、露光部(非画像部)における残膜の発生がしにくく、かつ、未露光部(画像部)の濃度低下も起きにくいことから、現像液の活性に対するラチチュードが広いといえる。結果を下記表8示す。
【0275】
〔転写性の評価〕
転写性の評価方法は、実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31の上にクロロプレンゴム(90mm×90mm)を置き、6kgの加重をかけ、100℃10分加熱後、クロロプレンゴムの表面を目視評価する方法であり、評価尺度としては、下記の判定基準が用いられる。結果を下記表8示す。
○:色変化あり
×:色変化あり
【0276】
【表8】
【0277】
表8に明らかなように、本発明の画像形成材料を記録層に用いた実施例1〜31の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例1〜4の平版印刷版原版と比較して、現像ラチチュードを示す数値が大きく、良好な現像ラチチュードを有することがわかった。従って、本発明の平版印刷版原版は、非画像部における残膜の発生がしにくく、且つ、画像部の濃度低下も起きにくいことがわかった。
また、実施例1〜31の平版印刷版原版は、比較例1、3及び4の平版印刷版原版と比較して、滑り性(動摩擦係数)、耐キズ性及び転写性に優れていることが分かった。更に、比較例2の平版印刷版原版は、実施例1〜31の平版印刷版原版と比較しても滑り性及び耐キズ性は良好であるものの、転写性の問題が発生することが判明した。
【0278】
(実施例28〜30、比較例5〜7)
〔支持体の作製〕
99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A 1050合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃、60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
【0279】
次に、平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
【0280】
次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
【0281】
更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
【0282】
その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、更に水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。以上により作成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。
【0283】
その後、下記記録層塗布液Aを調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0284】
【0285】
【表9】
【0286】
なお、本発明における実施例及び比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構成単位については下記に示す。
【0287】
【化40】
【0288】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用した赤外線吸収剤の具体例を以下に示す。
【0289】
【化41】
【0290】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル発生剤の具体例を以下に示す。
【0291】
【化42】
【0292】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル重合性化合物の具体例を以下に示す。
【0293】
【化43】
【0294】
(露光)
得られた前期各平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネルギー188mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0295】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処理した。現像液は、下記(D−1)を仕込み液、下記(D−2)を補充液に用いた。現像欲浴の温度は30℃、現像時間を12秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0296】
【0297】
【0298】
〔耐刷性の評価〕
次に、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表9に併記する。
【0299】
〔耐キズ性の評価〕
上記記録層を塗布した平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機器としては、HEIDON社製Scratching TESTER HEIDON−14を用い、引っ掻き針として0.4mmRダイヤ針を用い、針上の荷重を変化させながら、400mm/minの速さで記録層表面を引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に優れることになる。結果を前記表9に併記する。
以上、表9に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例28〜30の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例5〜7に比べ、優れた耐刷性及び耐キズ性を達成していることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のアブレーションは見られなかった。
【0300】
(実施例31〜32、比較例8〜9)
実施例28〜30及び比較例5〜7で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、80℃雰囲気下で30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、10mg/m2であった。
下記組成の化合物を混合し、下塗り層用塗布液を調製した。
〔下塗り層用塗布液〕
・2−アミノエチルホスホン酸 0.5g
・メタノール 40g
・純水 60g
【0301】
その後、下記に示す記録層塗布液Bを前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0302】
【0303】
【表10】
【0304】
(露光)
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネルギー188mJ/cm2、解像度、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0305】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム(株)製DP−4の1:8水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は30℃、現像時間を12秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0306】
〔耐刷性及び汚れ性の評価〕
得られた平版印刷版原版を、それぞれ60℃で3日間保存、及び、45℃、湿度75%RHで3日間保存して強制経時させた後、前記実施例28〜30及び前記比較例5〜7と同様の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。
。結果を前記表10に併記する。
表10に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例31〜32の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例8〜9に比べ、非画像部の汚れもなく、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れていることがわかった。
【0307】
(実施例33〜34、比較例10〜11)
実施例28〜30及び比較例5〜7で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記記録層塗布液Cを調製し、上記アルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0308】
【0309】
【表11】
【0310】
(露光)
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0311】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0312】
〔耐刷性及び耐キズ性の評価〕
次に、ハイデルベルクSOR−KZ印刷機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評価した。
また、実施例28〜30及び比較例5〜7と同様に耐キズ性について評価を行った。
以上、表11に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例33〜34の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例10〜11に比べ、優れた耐刷性及び耐キズ性を達成していることがわかる。
【0313】
更に、実施例28の平版印刷版原版を30枚積層し、版材供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカーへ排出した。装置の運転中、平版印刷版原版同士の密着や、それに起因する搬送不良などが見られなかったことから、良好な滑り性を有し、支持体裏面に対する滑り剤の転写性も抑制されていることがわかった。また、実施例29〜34の平版印刷版原版においても同様の結果が得られた。
以上、実施例で明らかなように、本発明の画像形成材料を記録層として用いた平版印刷版原版(本発明の平版印刷版原版)は、耐傷性、耐刷性及び滑り性に優れ、更に、滑り性素材の転写性が抑制されているという優れた効果が見られた。
【0314】
【発明の効果】
本発明によれば、耐キズ性を有し、かつ、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写のない滑り性素材を含有する画像形成材料、及び該画像形成材料を用いることで、同様の特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は赤外線レーザの露光により画像記録可能であるポジ型或いはネガ型の画像記録材料、及び該画像記録材料を記録層に用いた平版印刷版原版に関し、より詳細には、赤外線レーザー等の近赤外領域の露光などの加熱により書き込み可能であり、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の平版印刷版原版に好適な画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータのディジタルデータから直接製版するシステムとして、これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されている。
ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材料が特開平7−285275号公報に開示されている。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等のようなポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であり、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去され得るようになって、画像を形成する。
【0003】
一方、オニウム塩やアルカリ溶解性の低い水素結合網を形成可能な化合物はアルカリ可溶性高分子のアルカリ溶解抑制作用を有することが知られている。赤外線レーザー対応画像記録材料としては、カチオン性赤外線吸収色素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤として用いた組成物がポジ作用を示すことがWO97/39894に記載されている。このポジ作用は赤外線吸収色素がレーザー光を吸収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の溶解抑制効果を消失させて画像形成を行う作用である。
また、ネガ型の画像形成方法としては、光又は熱により発生した酸を触媒として露光後の加熱処理により縮合架橋反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式が挙げられ、このような酸触媒架橋系の記録層を有する印刷版としては特開平7−271029号公報に記載されているような技術が知られている。更に、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録方式が挙げられ、このような光又は熱による重合系の記録層を有する印刷版としては、特開平8−108621号、特開平9−34110号の各公報に記載されるような光重合性或いは熱重合性組成物を記録層として用いる技術が知られている。
【0004】
上記の種々の記録材料の画像形成性について述べれば、感材のレーザー照射表面では画像形成反応に十分なエネルギーが得られるものの、熱拡散、特に、支持体として汎用のアルミニウム支持体を用いた場合、熱伝導性が良好なため支持体への熱拡散が著しく、エネルギーが画像形成に充分に利用されず、低感度であるという問題や、感材の深部までは十分な溶解抑制消失効果、或いは重合による硬化反応の促進効果が得られず、ポジ型では残膜による非画像の汚れが発生しやすく、ネガ型では十分な画像強度が得られず耐キズ性に劣るなどの問題があった。
【0005】
また、このような赤外線レーザ対応ポジ型平版印刷版原版では、取扱い時に表面に触れる等によりわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に未露光部(画像部)が溶解してキズ跡状となり、耐刷の劣化や着肉性不良を引き起こすという問題を有していた。
一方、赤外線レーザ対応ネガ型平版印刷版原版の場合も、未露光の硬化前の状態では記録層の耐キズ性が不充分であるという問題を有していた。
【0006】
上記問題を解決するために想定し得る手段として、例えば、米国特許6,124,425号明細書に、膜強度(画像強度)を簡便に達成することを目的とした赤外線吸収性の官能基を側鎖に有するアルカリ可溶性樹脂の例が記載されている。即ち、アルカリ可溶性樹脂中に光熱変換機能を有する部分構造を導入して材料中の光熱変換成分を減らすことにより膜強度を向上しようとするものである。しかしながら、このアルカリ可溶性樹脂は、分子量が5,000以上の高分子化合物であるために、支持体への密着性が多大になると共に、現像時の処理剤への溶解性が充分でなくなり、特に、ポジ型平版印刷版原版の記録層として用いた場合に、非画像部の溶解性が低く、除去されるべき記録層が現像処理で充分に除去されず、残膜となって非画像部に汚れが発生し易いという問題を有していた。
【0007】
また、例えば、特開2000−35666公報に低分子量のワックスの添加により、表面の滑り性が向上し、優れた耐キズ性を発現することが記載されているが、かかるワックスが低分子量であるため、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)や支持体裏面への転写、平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題点を有しており、製造や搬送時の不安定要因となっていた。
【0008】
更に、例えば、EP950514、EP950517の明細書にポリシロキサン系界面活性剤により滑り性を発現させる例が提案されているが、現像時におけるカスの懸念や滑りすぎてしまうという滑り性の制御の難しさから、これも製造や搬送時の不安定要因となっていた。
【0009】
加えて、記録層上に保護層を設けることも考えられるが、例えば、水溶性樹脂を用いる一般的な保護層を設けた場合、特に、平版印刷版原版を積層し、高湿度下で保存された場合には、保護層と保護紙(合紙)又は支持体裏面とが接着し、剥がれ難くなって作業性が低下するという問題を有しており、いずれの手段によっても、生産性が悪いという問題を有していた。
このため、作業性を低下させず、また、画像形成性に影響を与えず、記録層のキズつきを抑制し得る画像形成材料及び平版印刷版原版が所望されていた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐キズ性を有し、かつ、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写のない滑り性素材を含有する画像形成材料、及び該画像形成材料を用いることで、同様の特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、画像形成材料に、耐キズ性を向上させつつ、保護紙や支持体裏面への転写を防止する滑り性素材として、疎水性のグラフト(共)重合体を添加することにより、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。
即ち、本発明のヒートモード対応画像形成材料は、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。
また、本発明のヒートモード対応平版印刷版原版は、支持体上に、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な画像形成材料からなる記録層を備えてなることを特徴とする。
前記疎水性の構成成分は、長鎖アルキル基又は長鎖ハロアルキル基を有することが好ましい態様である。
【0012】
本発明の作用は明確ではないが、本発明の画像形成材料に用いる主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体は、そのグラフト構造に起因する特性及び疎水性の構成成分の特性により、疎水部が表面に多く局在し、高密度な疎水性表面を形成することができる。その疎水性表面は表面エネルギーが低く、適度な滑り性を発現させるため、本発明の画像形成材料を平版印刷版原版の記録層として用いると、擦りキズ、引っかきキズに対する耐性(耐キズ性)が向上するものと推測される。
また、滑り性を発現させている物質が、上記のようにポリマー構造を有することから、表面に局在する疎水部の、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写が効果的に抑制されるものと思われる。
【0013】
なお、本発明において「ヒートモード対応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であることを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義について詳述する。Hans−Joachim Timpe,IS&Ts NIP 15:1999 International Conference on Digital Printing Technologies.P.209に記載されているように、感光体材料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロセスには大きく分けて二つのモードが存在することが知られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例えば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォトンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
【0014】
上述の各モードを利用した露光プロセスをフォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォトンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要請により1光子のエネルギーを足し併せて使用することができない。つまり、何らかの反応を起こすためには「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係があれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つまり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量であっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。
【0015】
無論、フォトンモード露光では後続反応種の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本的には、このようなことは起こらない。
即ち、感光材料の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー密度(W/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモードでは露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇することになる。従って、実際に画像記録材料として実用上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定すると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光では通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成できるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でないと反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係から通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光カブリの問題が回避される。
そして、事実上ヒートモード露光では、感光材料の版面での露光パワー密度は5000W/cm2以上が必要であり、好ましくは10000W/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが5.0×105W/cm2以上の高パワー密度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好ましくない。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のヒートモード対応画像形成材料は、(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、(a)赤外線吸収剤の機能により赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とする。
【0017】
[(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体]
「グラフト重合体」とは、主鎖とは異なるブロック構造が側鎖として主鎖に結合しているポリマーをいい、「グラフト共重合体」とは、前記グラフト重合体のうち2種以上の単量体からできているものをいう。
本発明に用いられる(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)において、「(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体」とは、主鎖に疎水性の構成成分が直接結合してなるものを指し、「(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体」とは、側鎖のいずれかの箇所に疎水性の構成成分が結合してなるものを指す。
【0018】
<(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体>
本発明に用いられる(b−2)側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)は、側鎖として、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマーを有するグラフト(共)重合体である。
側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体としては、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーか、若しくは、少なくとも1種類以上のモノマーを組み合わせて共重合したポリマーであり、該長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から100〜5%の範囲内あることが好ましく、90〜5%の範囲内であることがより好ましく、80〜5%の範囲内であることが最も好ましい。
まず、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマ−(以下、適宜、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと称する。)について、説明する。
【0019】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー)
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとしては、溶剤溶解性や感材を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆性、画像形成性への影響の小ささ等の観点から、長鎖(ハロ)アルキルエステル、長鎖(ハロ)アルキルアシド、長鎖(ハロ)アルキルエーテルを基本単位とするマクロモノマーであることが好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー内の長鎖(ハロ)アルキル基は、炭素数4以上の直鎖(ハロ)アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上であることがより好ましい。
【0020】
本発明に用いられる長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーは、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーの片末端に、ラジカル重合性の(メタ)アクリレート基を有し、重量平均分子量(以下、単に分子量と称する)が1,000から50,000であるマクロモノマーである。側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体に導入するこのマクロモノマーの分子量が1,000未満では、該マクロモノマーから得られる側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体において、主鎖(幹)と側鎖(枝)が共に高分子量であることに起因するグラフト(共)重合体特有の物性が得難く、一方、分子量が50,000を越えるとマクロモノマーのラジカル重合性が低下し、高純度のグラフト(共)重合体の合成が困難となるため、いずれも好ましくない。
【0021】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとして、下記一般式(I)で表される構造であることが好ましい。
【0022】
【化1】
【0023】
一般式(I)中、X及びX’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。また、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。
上記一般式(I)で表されるX及びX’で表される連結基としては、炭素数1〜20の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン基、炭素数2〜20の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、炭素数1〜20のアシルオキシ基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のカルバモイルオキシ基、炭素数1〜20のカルボンアミド基、炭素数1〜20のスルホンアミド基、炭素数1〜20のカルバモイル基、炭素数0〜20のスルファモイル基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜20のN−アシルスルファモイル基、炭素数1〜20のN−スルファモイルカルバモイル基、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基、炭素数6〜20のアリールスルホニル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数0〜20のアミノ基、炭素数1〜20のイミノ基、炭素数3〜20のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、酸素原子、メルカプト基、炭素数1〜20のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜20のアリールスルフィニル基、炭素数1〜20のアルキルチオ基、炭素数6〜20のアリールチオ基、炭素数1〜20のウレイド基、炭素数2〜20のヘテロ環基、炭素数1〜20のアシル基、炭素数0〜20のスルファモイルアミノ基、炭素数2〜20のシリル基などが挙げられる。また、X及びX’で表される連結基は、ここで挙げた連結基を組み合わせて形成されてもよい。更に、これらの連結基は置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、ここで挙げた連結基の他に、アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【0024】
また、上記一般式(I)で表されるR1としては、炭素数4以上のアルキル基、又は、ハロアルキル基であることが好ましく、画像形成性の観点から、炭素数6以上20以下であることがより好ましい。
更に、上記一般式(I)で表されるX’としては、以下の構造を含むことが好ましい。ここで、Wは、水素原子、又は一価の有機基を表し、nは1〜4の整数を表す。
【0025】
【化2】
【0026】
上記構造式のWで表される一価の有機基の具体例としては、以下のものが挙げられる。
Wは、直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基、直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、アンモニオ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ウレイド基、ヘテロ環基(ヘテロ原子としては、例えば、窒素、酸素、イオウ、Se原子、Te原子を少なくとも1個以上含み、3乃至12員環の単環、縮合環)、アシル基、スルファモイルアミノ基、シリル基、アゾ基、ハロゲン原子が挙げられる。これらの置換基は、更に置換基を有してもよく、その置換基の例としては、ここで挙げた置換基が挙げられる。
【0027】
本発明における長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとして、具体的に以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0028】
【化3】
【0029】
【化4】
【0030】
【化5】
【0031】
【化6】
【0032】
【化7】
【0033】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分)
本発明における側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を合成する際、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと共重合させる成分としては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からpKa12以下の酸基を有するモノマーであることが好ましい。
なお、長鎖アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分として、前記pKa12以下の酸基を有するモノマーに加えて、pKa12以下の酸基を含まない他の化合物を併用することもできるが、この際、pKa12以下の酸基を含まないモノマーは共重合体成分中に60モル%以下であることが好ましく、上記の効果の観点から30モル%以下である方がより好ましい。
【0034】
本発明における側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体としては、下記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマーであることが好ましい。
【0035】
【化8】
【0036】
一般式(II)中、X及びX’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。Yは、pKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格を表す。また、R2及びR3は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。mは0.01≦m≦1を表す。
一般式(II)で表されるX及びX’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(II)で表されるX’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(II)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
一般式(II)で表されるmは、0.01≦m≦1の範囲を表すが、滑り性の観点から0.03≦m≦1の範囲であることが好ましく、0.03≦m≦0.9の範囲であることがより好ましい。
【0037】
上記一般式(II)におけるYで表されるpKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格の具体例としては、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、感度の点で好ましい。
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO3H2)
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【0038】
上記(1)のフェノール基を有するモノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【0039】
上記(2)スルホンアミド基を有するモノマーとしては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜(v)で表される化合物が挙げられる。
【0040】
【化9】
【0041】
上記一般式(i)〜(v)中、X1、X2は、各々独立に、−O−又は−NR7を表す。R1、R4は、各々独立に、水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及び、R16は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及び、R13は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、各々独立に、水素原子又は−CH3を表す。R11、R15は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2は、それぞれ独立に単結合、又は−CO−を表す。
【0042】
一般式(i)〜(v)で表される化合物のうち、本発明の画像形成材料では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0043】
上記(3)活性イミド基を有するモノマーとしては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0044】
【化10】
【0045】
具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0046】
上記(4)カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
上記(5)スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
上記(6)リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0047】
上記のpKa12以下の酸基を有するモノマーの中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基(4)カルボン酸を有するモノマーが好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基又は(4)カルボン酸を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【0048】
また、上記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマー(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体)における長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分として、下記(7)〜(18)の化合物を共重合体成分中60モル%以下で用いることもでき、30モル%以下であることが効果の観点からより好ましい。
【0049】
(7)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(8)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
(9)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
【0050】
(10)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(11)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(12)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
【0051】
(13)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(14)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(15)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【0052】
(16)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(17)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(18)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0053】
上記一般式(II)で表される構造単位を有するポリマーの中の残留モノマー量は、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)、基盤裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から10モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーとの共重合成分は、2種類以上混合して用いることもできる。
【0054】
このような側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0055】
【化11】
【0056】
【化12】
【0057】
【化13】
【0058】
<(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体>
本発明に用いられる(b−1)主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体(以下、適宜、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体と称する。)は、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーと、少なくとも1種類以上のアルカリ可溶性基含有モノマーを基本単位とするマクロモノマー(以下、アルカリ可溶性基含有マクロモノマーと称する。)と、を組み合わせて共重合したポリマーであることが好ましく、該長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から99〜5%の範囲内あることが好ましく、97〜20%の範囲内であることがより好ましく、95〜30%の範囲内であることが最も好ましい。
【0059】
主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を構成する長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとしては、溶剤溶解性や感材を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆性、画像形成性への影響の小ささ等の観点から、長鎖(ハロ)アルキル(メタ)アクリレートであることが好ましく、モノマー内の長鎖(ハロ)アルキル基は、炭素数4以上の直鎖(ハロ)アルキル基であることが好ましく、炭素数6以上であることがより好ましい。
【0060】
長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとして、下記一般式(III)で表される構造であることが好ましい。
【0061】
【化14】
【0062】
一般式(III)中、X’’は、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。また、R2は、水素原子、又はメチル基を表す。
一般式(III)で表されるX’’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(III)で表されるX’’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(III)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
【0063】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとの共重合成分)
本発明における主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を合成する際、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーと共重合させる成分としては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からpKa12以下の酸基を有するアルカリ可溶性基含有マクロモノマーであることが好ましい。
【0064】
本発明における主鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体としては、下記一般式(IV)で表される構造単位を有するポリマーであることが好ましい。
【0065】
【化15】
【0066】
一般式(IV)中、X’’及びX’’’は、それぞれ独立に、2価の連結基を表す。R1は、アルキル基、又はハロアルキル基を表す。Y’は、pKaが12以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー骨格を表す。また、R2、R3及びR4は、各々独立に、水素原子、又はメチル基を表す。lは0.1≦l≦1を表す。
一般式(IV)で表されるX’’及びX’’’としては、上記一般式(I)におけるX及びX’で表されるものと同義である。なお、一般式(IV)で表されるX’’及びX’’’としては、上記一般式(I)で好ましい構造として示したものと同じ構造を含むことが好ましい。
また、上記一般式(IV)で表されるR1としては、上記一般式(I)におけるR1で表されるものと同義である。
一般式(IV)で表されるlは、滑り性の観点から0.1≦l≦1の範囲であることが好ましく、0.2≦l≦0.95の範囲であることがより好ましい。
【0067】
上記一般式(IV)におけるY’で表されるモノマー骨格の具体例としては、上記一般式(II)におけるYで表された前記(1)〜(6)に挙げる酸性基を有するモノマーであることが好ましく、更に、前記(7)〜(18)の化合物を共重合体成分中60モル%以下で用いることもでき、好ましくは、30モル%以下で用いることができる。
【0068】
上記一般式(IV)で表される構造単位を有するポリマーの中の残留モノマー量は、平版印刷版原版を積層する際に保護紙(合紙)、基盤裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から10モル%以下であることが好ましく、5モル%以下であることがより好ましい。
また、長鎖(ハロ)アルキル基含有モノマーとの共重合成分は、2種類以上混合して用いることもできる。
【0069】
このような主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0070】
【化16】
【0071】
【化17】
【0072】
本発明に用いられる主鎖型及び側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体としては、重量平均分子量が2,000以上、数平均分子量が1,000以上のものが好ましく用いられる。ポリスチレン換算で重量平均分子量が5,000〜5,000,000であることがより好ましく、5,000〜2,000,000であることが更に好ましく、10,000〜1,000,000であることが特に好ましい。
このような特定疎水性グラフト(共)重合体は、1種類を用いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【0073】
特定疎水性グラフト(共)重合体の添加量としては、画像形成材料の全成分の重量に対して、通常0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜20重量%、更に好ましくは1〜10重量%の量が使用され、この範囲において、滑り性や転写防止性等の良好な結果を得ることができる。使用量が30重量%を超えると、ポジ型画像形成材料としての画像形成性や、感度が添加量の増大につれて徐々に悪化する傾向にある。一方、使用量が0.1重量%に満たない場合は、条件によっては本発明の効果である動摩擦係数の低下効果(滑り性の効果)が充分に得られないことがある。
【0074】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体の合成法)
本発明における側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体は、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと、少なくとも1種類以上のモノマーと、を組み合わせて共重合したポリマーである。
まず、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成法について説明する。長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーは、以下の方法で合成することが好ましい。
【0075】
まず、片末端にカルボキシ基を有する連鎖移動剤によるラジカル連鎖移動重合により、片末端にカルボキシ基を有した分子量1,000〜50,000の長鎖(ハロ)アルキル基含有プレポリマーを合成する。次に、かかるプレポリマーの末端のカルボキシ基と、グリシジル(メタ)アクリレートと、を反応させることにより、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが合成される。
片末端にカルボキシ基を有するプレポリマーは、カルボキシル基を有するメルカプタン系連鎖移動剤の存在下でアクリルアミドをラジカル重合させる、又は、連鎖移動剤を使用せず、カルボキシ基を有するラジカル重合開始剤を用いてアクリルアミドをラジカル重合させる方法を用いて合成することもできる。目的とする重合体(マクロモノマー)の分子量の制御が容易という観点からは、カルボキシ基を有する連鎖移動剤を用いるラジカル重合法を採用することが好ましい。
【0076】
上記プレポリマーを合成する際にラジカル重合に用いる有機溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シメチルスルホキシドなどを用いることができる。
【0077】
また、合成に用いられるカルボキシ基を含有するメルカプタン系連鎖移動剤としては、メルカプト酢酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、p‐メルカプト安息香酸などが挙げられる。
ラジカル重合に連鎖移動剤を用いる場合の好ましい使用量は、全単量体の合計量を基準にして、0.3〜20重量%である。連鎖移動剤の量及び/又は後述するラジカル重合開始剤の使用量によって、重合体の分子量を制御することができる。
【0078】
合成に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤及び過酸化物開始剤が挙げられるが、副生成物が少ないという観点からは、アゾ系開始剤を用いることが好ましい。
本発明に使用可能な重合開始剤の具体例をその略称と共に示せば、2、2−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル(ACHN)、4、4’−アゾビス−4−シアノバレリックアシッド(ACVA)等が挙げら、これらのなかでも、ACVAは分子中にカルボキシ基を有しており、連鎖移動剤を用いない場合に好適に使用できる。
ラジカル重合開始剤の好ましい添加量としては、連鎖移動剤を併用する場合には、用いる単量体のに対して固形分で0.05〜0.8重量%程度であり、連鎖移動剤を併用しない場合には、1〜20重量%の範囲であることが好ましい。
【0079】
上記プレポリマーとグリシジル(メタ)アクリレートとを以下の条件で反応させることにより、長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが得られる。プレポリマー(末端のカルボンキシ基)1モル当たりグリシジル(メタ)アクリレートを1.1〜5.0モル、グリシジル(メタ)アクリレートのモル数の1.0〜3.0モル%の重合禁止剤、及び所望により触媒の存在下、反応温度80℃〜140℃の温度範囲で有機溶媒中で反応させる。
この重合反応に用いる溶媒としては、上記のプレポリマーを合成する際にラジカル重合で使用可能として挙げた各種溶媒をここでも好適に用いることができるが、前記の反応温度以上の沸点を有する溶媒が好ましく、例えば、トルエンやTHF等が好ましい。
【0080】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成にあたっては、反応系中に重合禁止剤を添加することが好ましい。重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テル、フェノチアジン等が挙げられ、その好ましい使用量は、先に述べたようにグリンジルメタクリレートのモル数に対して1.0〜3.0モル%の範囲である。また、重合防止のために反応液中に酸素ガスに通気することも好ましい。
【0081】
長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーの合成、及び特定疎水性グラフト(共)重合体の合成にあたっては、目的に応じて、三級アミン、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等の触媒を用いてもよく、用い得る触媒としては、具体的には、N,N−ジメチルアニリン、トリエチルアミン、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド及びトリフェニルブチルホスホニウムブロミド、N,N−ジメチルドデシルアミン等が挙げられる。
触媒を添加する場合の好ましい使用量は、前記プレポリマーの総量に対して0.05〜3.0重量%程度である。
【0082】
このようにして長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーが合成されると、該長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマーと、モノマーと、共重合させて側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体が合成される。
このようにマクロモノマーを使用したグラフトポリマーの合成法については、“新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編、共立出版(株)1995に詳細に記載されている。また、山下雄他著“マクロモノマーの化学と工業”アイピーシー、1989にも詳しく記載されており、これらに記載の方法は本発明における特定疎水性グラフト(共)重合体(主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体を含む)の合成にも応用することができる。
【0083】
[(a)赤外線吸収剤]
本発明の画像記録材料に用いられる赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点から、波長760nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましく挙げられる。
【0084】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。
【0085】
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号公報、特開昭59−84356号公報、特開昭59−202829号公報、特開昭60−78787号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号公報、特開昭58−181690号公報、特開昭58−194595号公報等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号公報、特開昭58−224793号公報、特開昭59−48187号公報、特開昭59−73996号公報、特開昭60−52940号公報、特開昭60−63744号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【0086】
また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号公報、同58−220143号公報、同59−41363号公報、同59−84248号公報、同59−84249号公報、同59−146063号公報、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号公報、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【0087】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に、式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【0088】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。更に、下記一般式(a)〜(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成中で使用した場合に、高い重合活性を与え、かつ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【0089】
【化18】
【0090】
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。
【0091】
【化19】
【0092】
R1及びR2は、各々独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。
【0093】
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za−は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかにスルホ基が置換されている場合は、Za−は必要ない。好ましいZa−は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。
【0094】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特願平11−310623号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特願2000−224031号明細書の段落番号[0012]〜[0038]、特願2000−211147号明細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。
【0095】
【化20】
【0096】
【化21】
【0097】
【化22】
【0098】
【化23】
【0099】
【化24】
【0100】
一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Ni+、K+、Li+)等が挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【0101】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0102】
【化25】
【0103】
【化26】
【0104】
一般式(c)中、Y3及びY4は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za−は対アニオンを表し、上記一般式(a)におけるZa−と同義である。
【0105】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0106】
【化27】
【0107】
【化28】
【0108】
一般式(d)中、R29乃至R31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に、0乃至4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成してもよく、更に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士或いはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc−は対アニオンを示し、上記一般式(a)におけるZa−と同義である。
【0109】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0110】
【化29】
【0111】
【化30】
【0112】
一般式(e)中、R35〜R50は各々独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。
【0113】
本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【0114】
【化31】
【0115】
本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
【0116】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【0117】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0118】
顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、10μmを越えると記録層の均一性の点で好ましくない。
【0119】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
【0120】
これらの顔料若しくは染料は、画像記録材料を構成する全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10重量%の割合で添加することができる。顔料若しくは染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量%を越えると記録層の均一性が失われ、画像記録材料の耐久性が悪くなる。
【0121】
本発明の画像形成材料に含有される他の成分としては、赤外線で記録可能な公知の種々の画像形成材料の成分を適宜選択して用いることができる。
まず、赤外線露光により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する画像形成材料について説明する。このような画像形成材料は、アルカリ水溶液に対する可溶性が向上するポジ型と、逆にアルカリ水溶液に対する可溶性が赤外線の露光により低下するネガ型との2つに分けられる。
【0122】
ポジ型の画像形成材料としては、相互作用解除系(感熱ポジ)、酸触媒分解系の画像形成材料が挙げられる。これらは光照射や加熱により発生する酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やアルカリ水に可溶となり、現像により除去されて非画像部を形成するものである。
【0123】
また、ネガ型の画像形成材料としては、ラジカル重合系、酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)の画像形成材料が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生するラジカル或いは酸が開始剤や触媒となり、画像形成材料を構成する化合物が重合反応、架橋反応を起こし硬化して画像部を形成するものである。
以下、ポジ型及びネガ型のそれぞれの画像形成材料について詳細に説明する。
【0124】
<相互作用解除系(感熱ポジ)>
相互作用解除系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、以下で述べる(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物により構成される。
【0125】
[(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物]
本発明の相互作用解除系画像形成材料に使用し得る(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物(以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する)としては、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。
中でも、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
【0126】
(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO3H2)
【0127】
上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【0128】
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【0129】
上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。更に、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることもできる。
【0130】
フェノール基を有する化合物としては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【0131】
(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式1〜5で表される化合物が挙げられる。
【0132】
【化32】
【0133】
式上記一般式1〜5中、X1、X2は、それぞれ独立に−O−又はNR27−を表す。R21、R24は、それぞれ独立に水素原子又はCH3を表す。R22、R25、R29、R32及びR36は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R23、R27及びR33は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R26、R37は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R28、R30及びR34は、それぞれ独立に水素原子又はCH3を表す。R31、R35は、それぞれ独立に単結合、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y3、Y4は、それぞれ独立に単結合、又は−CO−を表す。
【0134】
一般式1〜5で表される化合物のうち、本発明のポジ型平版印刷用材料では、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0135】
(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。
【0136】
【化33】
【0137】
具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【0138】
(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
【0139】
アルカリ可溶性樹脂を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、又は異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。
【0140】
前記共重合体は、共重合させる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させることができない傾向がある。
【0141】
本発明では、化合物を共重合してアルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、前記(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物の例としては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
【0142】
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【0143】
アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レーザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げられる。
【0144】
また、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体が挙げられる。
【0145】
アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子量が500以上であることが画像形成性の点で好ましく、1,000〜700,000であることがより好ましい。また、その数平均分子量が500以上であることが好ましく、750〜650,000であることがより好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1.1〜10であることが好ましい。
【0146】
また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合には、米国特許第4,123,279号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先に提出した特開2000−241972号公報に記載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。
【0147】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、その合計の含有量が、画像形成材料全固形分中、30〜98重量%が好ましく、40〜95重量%がより好ましい。含有量が30重量%未満である場合には、耐久性が悪化する傾向にあり、また、98重量%を超える場合には、感度、画像形成性が低下する傾向があるため好ましくない。
【0148】
<酸触媒分解系>
酸触媒分解系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光の作用により酸を発生する化合物(酸発生剤)、及び、発生した酸を触媒として化学結合を開裂しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物(酸分解性化合物)とを必須成分とする。かかる酸触媒分解のメカニズムにより、酸触媒分解系画像形成材料は、化学増幅系画像形成材料とも称される。
【0149】
酸触媒分解系画像形成材料には、更に、このを形成するためのバインダー成分である高分子化合物(例えば、上述した(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物)や感度向上を目的とする上記赤外線吸収剤を含有してもよく、前記酸分解性化合物自体が、バインダー成分の機能を果たす高分子化合物又はその前駆体であってもよい。
酸触媒分解系画像形成材料は、多層構造内の一層として複数の画像形成材料と併用される場合、特に、最上層として露光面に形成されることが好ましい。
【0150】
〔酸分解性化合物〕
本発明において、酸を触媒として化学結合を開裂しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物とは、分子内に酸で分解し得る結合基を有する化合物と言い代えることができる。このような化合物は、特開平9−171254号公報に「(b)酸で分解結合を少なくとも1つ有する化合物」として記載されたものを用いることができる。酸で分解し得る結合としては、例えば、−(CH2CH2O)n−基(nは2〜5の整数を表す)等を好ましく挙げることができる。
このような化合物中、感度及び現像性の観点から、下記一般式(1)で表される化合物を用いることが好ましい。
【0151】
【化34】
【0152】
上記一般式(1)中、R、R1及びR2は、各々水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基又はヒドロキシル基を表し、p、q及びrは、各々1〜3の整数を表し、m及びnは、各々1〜5の整数を表す。
【0153】
上記一般式(1)において、R、R1及びR2が表すアルキル基は直鎖でも分岐でもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられ、スルホ基及びカルボキシル基はその塩を包含する。一般式(1)で表される化合物のうち、m及びnが1又は2である化合物が特に好ましい。一般式(1)で表される化合物は公知の方法で合成することができる。
【0154】
その他、本発明に適用し得る酸分解性化合物としては、特開昭48−89603号、同51−120714号、同53−133429号、同55−12995号、同55−126236号、同56−17345号に記載のC−O−C結合を有する化合物、特開昭60−37549号、同60−121446号に記載のSi−O−C結合を有する化合物、特開昭60−3625号、同60−10247号に記載されているその他の酸分解化合物を挙げることができ、更に特開昭62−222246号に記載されているSi−N結合を有する化合物、特開昭62−251743号に記載されている炭酸エステル、特開昭62−209451号に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭62−280841号に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭62−280842号に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭63−010153号、特開平9−171254号、同10−55067号、同10−111564号、同10−87733号、同10−153853号、同10−228102号、同10−268507号、同282648号、同10−282670号、EP−0884547Alに記載されているアセタール、ケタール及びオルトカルボン酸エステル、特開昭62−244038号に記載されているC−S結合を有する化合物を用いることが出来る。
【0155】
上記酸分解性化合物の中でも特に、特開昭53−133429号、同56−17345号、同60−121446号、同60−37549号、同62−209451号、同63−010153号、特開平9−171254号、同10−55067号、同10−111564号、同10−87733号、同10−153853号、同10−228102号、同10−268507号、同282648号、同10−282670号、EP0884647Al各明細書に記載されているC−O−C結合を有する化合物、Si−O−C結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。
この酸分解性化合物の中でも、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生した酸により上昇する高分子化合物が好ましく用いられる。
【0156】
これらの酸分解性化合物は、1種のみを用いても、2種以上を組合せて用いてもよい。また、添加量としては、化学増幅層全固形分に対し5〜70重量%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは15〜35重量%の割合で層中に添加される。添加量が5重量%未満の場合は、非画像部の汚れが発生し易くなり、また添加量が70重量%を越える場合は、画像部の膜強度が不充分となり、いずれも好ましくない。
【0157】
また、ネガ型の画像形成材料としてはラジカル重合系、酸触媒架橋系(カチオン重合を含む)が挙げられる。以下、順に述べる。
【0158】
<ラジカル重合系>
本発明のラジカル重合系画像形成材料は、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光によりラジカルを発生する化合物(以下、ラジカル発生剤と称する)と、ラジカル重合しうる化合物(重合性化合物と称する)とを含有し、例えば、赤外線レーザなどの照射により露光部においてラジカル発生剤からラジカルが発生し、それが開始剤となり、重合性化合物がラジカル重合反応によって硬化し、画像部を形成する。ここに用いられるラジカル発生剤と重合性化合物との組合せは、ラジカル重合により形成される膜の強度が画像形成材料としての要求を満たすものであれば、公知のものから適宜選択して用いることができる。また、ラジカル発生剤の反応性向上のために、オニウム塩、還元剤などの促進剤を併用することもできる。ラジカル重合層に使用し得る成分としては、例えば、特開平8−108621号公報において、熱重合性画像形成材料の構成成分として記載された化合物、特開平9−34110号公報において、画像形成材料の構成成分として記載された化合物なども好ましく使用することができる。
【0159】
(ラジカル発生剤)
ラジカル重合系画像形成材料に用いられるラジカル発生剤としては、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく、使用することができ、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル,2,2’−アゾビスプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過酸化ベンゾイル,過酸化ラウロイル,過酸化アセチル,過安息香酸−t−ブチル,α−クミルヒドロパーオキサイド,ジ−t−ブチルパーオキサイド,ジイソプロピルパーオキシジカーボネート,t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート,過酸類,アルキルパーオキシカルバメート類,ニトロソアリールアシルアミン類等の有機過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼン,p−ニトロベンゼンジアゾニウム,アゾビス置換アルカン類,ジアゾチオエーテル類,アリールアゾスルホン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド等のテトラアルキルチウラムジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド等のジアリールジスルフィド類、ジアルキルキサントゲン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリールアルキルスルホン類、1−アルカンスルフィン酸類等を挙げることができる。
【0160】
本発明のラジカル重合系画像形成材料が赤外線レーザにより記録される場合、レーザのエネルギーにもよるが、露光面の到達温度が600℃以上にもなるため、活性化エネルギーの大きいラジカル発生剤でも充分な感度を得ることができる。
ラジカル発生剤のラジカル発生のための活性化エネルギーは30kcal/モル以上であることが好ましく、そのようなものとしてアゾビスニトリル系化合物、有機過酸化物が挙げられる。中でも、常温で安定性に優れ、過熱時の分解速度が速く、分解時に無色となる化合物が好ましく、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。
上記ラジカル発生剤は単独で用いても2種以上併用してもよく、ラジカル重合層の全固形分に対し0.5〜30重量%程度、好ましくは2〜10重量%で用いる。
【0161】
また、後述するオニウム塩との相互作用によりラジカルを発生する化合物も好適に使用することができる。具体的には、ハロゲン化物(α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチルトリアジン類等)、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合物(ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノン類、o−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド類等)、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、過酸化物などが挙げられるが、好ましくは、前記特開平9−34110号公報の第16頁に(A−1)〜(A−4)として開示されたビスイミダゾール誘導体が挙げられる。
後者のラジカル発生剤は、オニウム塩との相互作用により高感度化を達成している。このラジカル発生剤と併用し得るオニウム塩としては、同公報の段落番号〔0022〕〜〔0049〕に記載のホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、及びアンモニウム塩の各化合物が挙げられる。
【0162】
前記オニウム塩の添加量は、オニウム塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料全固形分に対して0.05〜50重量%であることが好ましい。
また、後述する<酸触媒架橋系>内の(酸発生剤)として好適用いることができるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩は前記ラジカル発生剤と併用しなくても、単独でラジカル発生剤として使用することができ、その添加量は、種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料全固形分に対して0.05〜50重量%であることが好ましい。
【0163】
(重合性化合物)
ラジカル発生剤から発生するラジカルにより重合して硬化する重合可能な高分子化合物としては、重合性基を有する公知のモノマーが特に制限なく使用することができる。そのようなモノマーとしては、具体的には、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物;ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートを前記と同様にメタクリレート等に代えた化合物;或いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート等に代えた化合物等を挙げることができる。また、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸又はメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与した所謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
【0164】
この他に、特開昭58−212994号、同61−6649号、同62−46688号、同62−48589号、同62−173295号、同62−187092号、同63−67189号、特開平1−244891号等に記載の化合物などを挙げることができ、更に「11290の化学商品」化学工業日報社,286〜294頁に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会,11〜65頁に記載の化合物なども好適に用いることができる。
【0165】
なかでも、分子内に2個以上のアクリル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明においては好ましく、更に分子量が10,000以下、より好ましくは5,000以下のものが望ましい。本発明においては、重合性化合物は、前記例示したものも含めて重合性基を有するモノマー、プレポリマーのなかから、目的に応じて1種或いは相溶性、親和性に問題がなければ、2種以上を組合せて用いることができる。
エチレン性不飽和基を有する化合物は、画像形成材料中に固形分として、好ましくは20〜80重量%、より好ましくは30〜60重量%含有される。
【0166】
(バインダー樹脂)
ラジカル重合系画像形成材料には、膜性向上の観点からバインダー樹脂を用いることが好ましい。バインダー樹脂としては、上述した(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物を使用することができる他、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン、ポリカプロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例えばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリプロピレンなどは、前述のエチレン性不飽和結合を有する化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適に用いることができる。バインダー樹脂としては前述の樹脂の中から、1種又は2種以上のものを組み合わせて用いることができる。
これらのバインダー樹脂は、重合性化合物100重量部に対して500重量部以下、より好ましくは200重量部以下の範囲で使用するのが好ましい。
このようなラジカル重合系画像形成材料に、前記特定の赤外線吸収剤を添加することで感度向上や、ラジカル重合反応の促進を図ることができる。
【0167】
(その他の化合物)
ラジカル重合系画像形成材料には、従来公知の光重合性化合物と併用される各種添加剤が、適宜、使用できる。
添加剤として熱重合抑制剤が挙げられる。具体的には、ハイドロキノン、ピロガロール、p−メトキシフェノール、カテコール、β−ナフトール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等のキノン系、フェノール系化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物とバインダー樹脂との合計100重量部に対して、10重量部以下で、好ましくは0.01〜5重量部程度で用いる。
また、感度を向上させるため上述した赤外線吸収剤を添加してもよい。
【0168】
酸素クエンチャーとして添加しうる化合物では、米国特許第4,772,541号の第11カラム58行目〜第12カラム35行目に記載の化合物等のN,N−ジアルキルアニリン誘導体が挙げられる。
また、膜質向上のため、可塑剤を用いることができ、例えば、フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その他飽和或いは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油、ステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類等が挙げられる。
【0169】
加熱により酸を発生しラジカル発生剤の分解を促進する添加剤として、酸発生剤を併用することも好ましい。この酸発生剤については、下記酸触媒架橋系画像形成材料の説明において詳述するものを用いることができる。
【0170】
<酸触媒架橋系>
本発明における酸触媒架橋系画像形成材料には、上述された(a)赤外線吸収剤、及び、(b)主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体に加え、前記(a)赤外線吸収剤により効率よく発生された熱、又は光により酸を発生する化合物(以下、酸発生剤と称する)と、発生した酸を触媒として架橋しうる化合物(以下、架橋剤と称する)とを含有し、更に、これらを含有する層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうるバインダーポリマーを含む。この酸触媒架橋系画像形成材料においては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或いは架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、現像剤に不溶となる。
【0171】
このような特性を有する酸触媒架橋系画像形成材料としては、公知の同様の特性を有する層の構成成分を用いることができる。例えば、特開平7−20629号公報に記載されるレゾール樹脂、ノボラック樹脂、潜伏性ブレンステッド酸、及び赤外吸収剤を含んでなる放射線感受性組成物からなる層の構成成分として記載された化合物が挙げられる。ここで、「潜伏性ブレンステッド酸」とは、分解してブレンステッド酸を生成する先駆体を指し、本発明における酸発生剤と酸架橋剤との双方の特性を有する化合物である。ブレンステッド酸は、レゾール樹脂とノボラック樹脂との間のマトリックス生成反応を触媒すると考えられており、この目的に適切なブレンステッド酸の例としては、トリフルオロメタンスルホン酸及びヘキサフルオロホスホン酸である。
【0172】
更に、イオン性潜伏性ブレンステッド酸が好ましく、これらの例は、オニウム塩、特にヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、セレノニウム、ジアゾニウム、及びアルソニウム塩を包含する。非イオン性潜伏性ブレンステッド酸もまた好適に用いることができ、例えば、下記の化合物:RCH2X、RCHX2、RCX3、R(CH2X)2、及びR(CH2X)3、(式中、Xは、Cl、Br、F、若しくはCF3、SO3であり、Rは、芳香族基、脂肪族基若しくは芳香族基及び脂肪族基の結合体である)を挙げることができる。
【0173】
また、特開平11−95415号公報に記載の酸架橋性化合物と高分子量結合剤とを含有する画像形成材料も好適なものとして挙げられる。これは、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、例えば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及びヨードニウムのなどの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属/有機ハロゲン化合物と、前記酸の存在下で架橋しうる結合を少なくとも1つ有する化合物、例えば、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を少なくとも2個有するアミノ化合物、官能基としてアルコキシメチル基、メチロール基、アセトキシメチル基等を有する少なくとも2置換の芳香族化合物、レゾール樹脂及びフラン樹脂、特定の単量体から合成されるアクリル樹脂など、とを含有する記録層であり、これを使用することができる。
【0174】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料には、酸発生剤、架橋剤及びバインダーポリマー、その他が含まれるが、次に、これらの化合物について個々に説明する。(酸発生剤)
本発明において光又は熱により酸を発生する化合物(酸発生剤)とは、赤外線の照射や、100℃以上の加熱によって分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが好ましい。
【0175】
本発明において好適に用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、US4,708,925号や特開平7−20629号に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平1−102456号及び特開平1−102457号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、US5,135,838号やUS5,200,544号に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平2−100054号、特開平2−100055号及び特開平9−197671号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平7−271029号に記載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好ましい。
【0176】
これらの酸発生剤は、酸触媒架橋系画像形成材料の全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜40重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で酸架橋層中に添加される。添加量が0.01重量%未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生する。
【0177】
これらの化合物は単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、ここに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解できるため、このような形態の画像形成材料を用いれば、赤外線だけではなく紫外線の照射によっても画像記録可能である。
【0178】
(酸架橋剤)
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料に用い得る架橋剤は、酸により架橋する化合物であれば、特に制限はないが、下記一般式(I)で表されるフェノール誘導体(以下、適宜、低分子フェノール誘導体と称する)、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤、及び、前記低分子フェノール誘導体と多核型フェノール性架橋剤及び/又はレゾール樹脂との混合物、などが好ましく使用される。
【0179】
【化35】
【0180】
上記一般式(I)中、Ar1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環を示す。R1及びR2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。R3は、水素原子又は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の連結基を示し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、ZはYが末端基である場合には存在せず、或いは、Yの連結基の数に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は官能基を示す。
【0181】
【化36】
【0182】
上記一般式(II)中、Aは、炭素数1〜20のr価の炭化水素連結基を示し、rは3〜20の整数を示す。pは、2〜3の整数を示す。
一般式(I)で表されるフェノール誘導体については、本願出願人が先に提出した特願平11−352210号明細書段落番号〔0098〕〜〔0155〕に詳述されており、一般式(II)で表される、環上に2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤についても、同明細書段落番号〔0156〕〜〔0165〕に詳述されている。
【0183】
これらの架橋剤は単独で使用してもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明において、架橋剤は酸触媒架橋系画像形成材料の固形分中、5〜70重量%、好ましくは10〜65重量%の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が5重量%未満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、70重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくない。
【0184】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料に用い得るバインダーポリマーとしては、ヒドロキシ基又はアルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖又は主鎖に有するポリマーが挙げられる。アルコキシ基としては、感度の観点から、炭素数20個以下のものが好ましい。また、芳香族炭化水素環としては、原料の入手性から、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環が好ましい。これらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基又はアルコキシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン基、シアノ基等の置換基を有していてもよいが、感度の観点から、ヒドロキシ基又はアルコキシ基以外の置換基を有さない方が好ましい。
【0185】
本発明の酸触媒架橋系画像形成材料において、好適に用いることができるバインダーポリマーは、下記一般式(III)で表される構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等のフェノール樹脂である。
【0186】
【化37】
【0187】
上記一般式(III)中、Ar2は、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環を示す。R4は、水素原子又はメチル基を示す。R5は、水素原子又は炭素数20個以下のアルコキシ基を示す。X1は、単結合又は、C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。kは、1〜4の整数を示す。
【0188】
本発明では、バインダーポリマーとして、一般式(III)で表される構成単位のみから成る単独重合体を用いてもよいが、この特定構成単位とともに、他の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重合体を用いてもよい。
これらを用いた共重合体中に含まれる一般式(III)で表される構成単位の割合は、50〜100重量%であることが好ましく、更に好ましくは60〜100重量%である。
【0189】
また、使用し得る上記バインダーポリマーの重量平均分子量は好ましくは5,000以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0190】
次に、ノボラック類について述べる。本発明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラック、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられる。
これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ましくは1,000以上であり、更に好ましくは2,000〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは1000以上であり、更に好ましくは2,000〜15,000の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。
【0191】
また、バインダーポリマーとして、環内に不飽和結合を有する複素環基を有するポリマーを用いることも好ましい態様である。
ここで、複素環とは、環系を構成する原子の中に、炭素以外のヘテロ原子を1個以上含むものをいう。用いられるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、珪素原子が好ましい。このような複素環基を有するポリマーを用いることにより、本複素環に存在するローンペアの機能により、化学構造的に反応し易くなり、耐刷性の良好な膜が形成されると考えられる。
【0192】
以上説明した本発明で使用されるバインダーポリマーは単独で用いても2種類以上を混合して用いてもよい。これらポリマーは、酸触媒架橋系画像形成材料の全固形分に対し20〜95重量%、好ましくは40〜90重量%の割合で添加される。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越える場合は、画像形成されない。
【0193】
この酸触媒架橋系画像形成材料においても、上述した赤外線吸収剤を含有することで感度向上を図ることができる。
この酸触媒架橋系画像形成材料の形成に際して、塗布性、膜質の向上などの目的で界面活性剤などの種々の添加物を併用することができる。
【0194】
以上、ポジ型及びネガ型の画像形成材料について説明してきたが、特に断らない限り、各画像形成材料には、任意で、上記の(c)アルカリ水溶液に可溶な高分子化合物をバインダーポリマーとして、上記の赤外線吸収剤を感度向上を目的として使用することができる。
【0195】
〔その他の成分〕
上述された本発明のポジ型及びネガ型の画像形成材料には、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
具体的には、本発明のポジ型の画像形成材料には、例えば、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等の熱分解性を有し、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の現像液への溶解性を実質的に低下させる物質を添加することにより、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点において好ましい。
【0196】
前記オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wenet al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号明細書、同4,069,056号明細書に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.& Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号明細書、米国特許第339,049号明細書、同第410,201号明細書、特開平2−150848号公報、特開平2−296514号公報に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivelloet al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号明細書、同233,567号明細書、同297,443号明細書、同297,442号明細書、米国特許第4,933,377号明細書、同3,902,114号明細書、同410,201号明細書、同339,049号明細書、同4,760,013号明細書、同4,734,444号明細書、同2,833,827号明細書、独国特許第2,904,626号明細書、同3,604,580号明細書、同3,604,581号明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。
オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号公報記載のものがあげられる。
【0197】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【0198】
オニウム塩は、画像形成材料を構成する全固形分に対して、1〜50重量%添加するのが好ましく、5〜30重量%添加するのがより好ましく、10〜30重量%添加するのが特に好ましい。
【0199】
前記o−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley & Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号明細書及び同第3,188,210号明細書に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【0200】
更に、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂或いはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば、特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号の各公報、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号等の各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
【0201】
o−キノンジアジド化合物の添加量は、好ましくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【0202】
o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%である。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。
【0203】
また、更に、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することもできる。
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4’’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3’’,4’’−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類及び有機酸類の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
【0204】
また、本発明における画像形成材料中には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、EP950517公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平11−288093号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
【0205】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
【0206】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−224、DBE−621、DBE−712、DBP−732、DBP−534、独Tego社製、Tego Glide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
上記シロキサン系化合物の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
上記フッ素含有のモノマー共重合体の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
【0207】
本発明における画像形成材料中には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、同53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−74728号、同60−3626号、同61−143748号、同61−151644号及び同63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【0208】
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、画像形成材料全固形分に対し、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で画像形成材料中に添加することができる。
【0209】
更に、本発明の画像形成材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【0210】
また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
【0211】
[平版印刷版原版]
本発明の画像形成材料は平版印刷版原版の記録層として好適に使用することができる。かかる平版印刷版原版は、本発明の画像形成材料を含む記録層塗布液や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原版を製造することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独或いは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、記録層の皮膜特性は低下する。
【0212】
本発明の画像形成材料を用いた記録層塗布液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像形成材料の0.01〜1重量%更に好ましくは0.05〜0.5重量%である。
【0213】
(樹脂中間層)
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と当該記録層との間に樹脂中間層を設けることができる。
この樹脂中間層を設けることで、露光によりアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感応層である記録層が、露光面或いはその近傍に設けらることで赤外線レーザに対する感度が良好であるとともに、支持体と該赤外線感応層との間に高分子からなる樹脂中間層が存在し、断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率良く画像形成に使用されることからの高感度化も図れるという利点を有する。また、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液等を用いた場合でも、残膜等が発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この樹脂中間層は有用であると考えられる。
【0214】
(支持体)
平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、若しくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【0215】
平版印刷版原版に用いられる支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
【0216】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
【0217】
この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【0218】
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部にキズが付き易くなって、印刷時にキズの部分にインキが付着するいわゆる「キズ汚れ」が生じ易くなる。
【0219】
陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【0220】
(下塗層)
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と当該記録層との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
【0221】
この下塗層は、次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水等によって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。
【0222】
(オーバーコート層)
また、本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版の中において、ラジカル重合系画像形成材料を記録層に用いる場合、酸素による重合阻害を防止するために、該記録層に隣接して酸素不透過性のオーバーコート層を設けてもよい。オーバーコート層の素材としては、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂が好ましく、膜厚は0.2〜3μm程度が適当である。
オーバーコート層には、必要に応じて記録に用いる光源からの光を吸収しない染料又は含量をフィルター剤として添加してもよい。
【0223】
上記のようにして作製された平版印刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。
像露光に用いられる活性光線の光源としては、波長720〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザー、半導体レーザー等が挙げられる。
本発明においては、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。
【0224】
本発明の画像形成材料を含む記録層を設けた平版印刷版原版の現像液及び補充液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【0225】
これらのアルカリ剤は単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。
これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、特公昭57−7427号公報に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【0226】
更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。
更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【0227】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0228】
本発明の画像形成材料を用いた感光性平版印刷版原版(本発明の平版印刷版原版)について説明する。画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【0229】
以上のようにして得られた平版印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前に、特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
【0230】
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥重量)が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
【0231】
バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【0232】
【実施例】
以下、本発明を、実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
【0233】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(1)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール52.6g溶液に、メタクリル酸ドデシル50g、3−メルカプトプロピオン酸2.1g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)498mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.0×103)を51.8g得た。
得られたプレポリマー15gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.26g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)96mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)33mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレート−ドデシルメタクリレートマクロモノマー(重量平均分子量:5600)を12.4g得た。H1−NMR(CDCl3)6.16、5.61ppmメタクリロイル基オレフィンピークと、酸価の減少から、末端に重合性基が導入できたことを確認した。
【0234】
(長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(2)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール51.6g溶液に、アクリル酸ステアリル50g、3−メルカプトプロピオン酸1.6g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)374mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.2×103)を50.8g得た。
得られたプレポリマー15gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.10g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)92mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)32mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレート−ステアリルメタクリレートマクロモノマー(重量平均分子量:5900)を11.7g得た。H1−NMR(CDCl3)6.15、5.61ppmメタクリロイル基オレフィンピークと、酸価の減少から、末端に重合性基が導入できたことを確認した。
【0235】
上記長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(1)及び(2)の合成法と同様にして仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表1及び表2に示す構造を有する長鎖(ハロ)アルキル基含有マクロモノマー(3)〜(9)を合成した。また、これらのマクロモノマー(3)〜(9)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表1及び表2に併記した。
【0236】
(アルカリ可溶性基含有マクロモノマー(10)の合成)
窒素雰囲気下80℃で攪拌した1−メトキシー2−プロパノール52.6g溶液に、p−t−ブトキシ−スチレン34.6g、3−メルカプトプロピオン酸2.1g、及び熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)498mgの混合溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、引き続き、80℃で更に3時間攪拌した。反応後、反応溶液をメタノールで十分洗浄し、白色沈殿した末端にカルボキシ基を有するプレポリマー(重量平均分子量:5.3×103)を33.2g得た。
得られたプレポリマー15.9gをトルエン60gに溶解し、グリシジルメタクリレート4.26g、N,N−ジメチルドデシルアミン(触媒)96mg、ハイドロキノン(重合禁止剤)33mgを加え、窒素雰囲気下140℃で7時間反応させた。反応溶液をヘキサンで抽出し、メタノール洗浄し末端メタクリレートのマクロモノマー(重量平均分子量:7900)を13.8g得た。
【0237】
上記アルカリ可溶性基含有マクロモノマーの合成法と同様にして仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表2に示す構造を有するアルカリ可溶性基含有マクロモノマー(11)を合成した。また、このマクロモノマー(11)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表2に併記した。
【0238】
【表1】
【0239】
【表2】
【0240】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したメチルエチルケトン9.2g溶液に、上記マクロモノマー(1)8g、メタクリル酸1.22g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)35.9mg、及びメチルエチルケトン9.2gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続けた。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)(重量平均分子量:8.2×103)を7.95を得た。
【0241】
(側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(B)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したメチルエチルケトン9.2g溶液に、上記マクロモノマー(2)8g、アクリル酸1.22g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)35.9mg、及びメチルエチルケトン9.2gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続けた。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(B)(重量平均分子量:7.9×103)を7.50g得た。
【0242】
(主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)の合成例)
窒素雰囲気下80℃で攪拌したテトラヒドロフラン7.8g溶液に、上記マクロモノマー(10)4g、メタクリル酸ドデシル3.8g、熱重合開始剤V−601(商品名、和光純薬工業(株)製)36.8mg、及びテトラヒドロフラン7.8gの混合溶液を2時間かけて滴下した。
滴下終了後、引き続き、3時間加熱を続け、その後、トリフルオロ酢酸175mgを加え、6時間加熱した。その反応溶液をメタノールに加えポリマーを沈殿させよく洗浄して、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)(重量平均分子量:7.9×103)を4.12g得た。
【0243】
上記側鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(A)及び(B)、更には、主鎖型特定疎水性グラフト(共)重合体(H)の合成法と同様にして、仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下の表3及び表4に示す特定疎水性グラフト(共)重合体(C)〜(I)を合成した。また、これらの特定疎水性グラフト(共)重合体(C)〜(I)の重量平均分子量も同じ方法で測定し、表3及び表4に併記した。
【0244】
【表3】
【0245】
【表4】
【0246】
(実施例1)
〔支持体の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、更に、珪酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で10秒処理し、下記下塗液を塗布し、塗膜を80℃で15秒間乾燥し支持体を得た。乾燥後の塗膜の被覆量は15mg/m2であった。
【0247】
〔下塗液〕
・下記化合物 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
【0248】
【化38】
【0249】
得られた支持体に、下記記録層塗布液1を塗布量が1.0g/m2になるよう塗布したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140度℃で50秒間乾燥し、平版印刷版原版1を得た。
【0250】
【0251】
【化39】
【0252】
(比較例1)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版2を得た。
【0253】
(比較例2)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりにステアリン酸n−ドデシル0.02gを用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版3を得た。
【0254】
(実施例2)
実施例1で用いたのと同じ支持体に、下記記録層塗布液2を塗布量が1.6g/m2になるよう塗布したのち、実施例1と同様の条件で乾燥し、平版印刷版原版4を得た。
【0255】
(比較例1)
実施例2の記録層塗布液2において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例2と同様にして平版印刷版原版5を得た。
【0256】
(実施例3〜9)
実施例1の記録層塗布液1において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表5に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版6〜12を得た。
【0257】
【表5】
【0258】
(実施例10)
実施例1で用いたのと同じ支持体に、下記記録層塗布液3を0.16g/m2になるようワイヤーバーで塗布した後、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にてWind Controlを7に設定して140℃50秒で乾燥し、第1の記録層を形成した。
【0259】
【0260】
得られた第1の記録層の上に、下記記録層塗布液4を塗布量が0.85g/m2になるようワイヤーバーで塗布した後、120℃60秒で乾燥し、第2の記録層を形成し、2層構成の平版印刷版原版13を得た。
【0261】
【0262】
(比較例4)
実施例10の記録層塗布液4において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aを用いなかった以外は、実施例10と同様にして平版印刷版原版14を得た。
【0263】
(実施例11)
実施例3において、記録層塗布液3及び4を、以下に示す記録層塗布液5及び6に代えた以外は、実施例3と同様にして2層構成の平版印刷版原版15を得た。
【0264】
【0265】
【0266】
(実施例12〜19)
実施例10の記録層塗布液4において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表6に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例10と同様にして平版印刷版原版16〜23を得た。
【0267】
【表6】
【0268】
(実施例20〜27)
実施例11の記録層塗布液6において、特定疎水性グラフト(共)重合体:Aの代わりに以下の表7に記載の特定疎水性グラフト(共)重合体を用いた以外は、実施例11と同様にして平版印刷版原版24〜31を得た。
【0269】
【表7】
【0270】
[平版印刷版原版の評価]
〔滑り性の評価〕
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31を、ASTM D1894に従ってステレンススチールに対する動摩擦係数を測定し、滑り性の指標とした。測定結果は表8に示す。
【0271】
〔耐キズ性テスト〕
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31をロータリー・アブレーション・テスター(TOYOSEIKI社製)を用い、250gの加重下、アブレーザーフェルトCS5で15回摩擦した。
その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−1(1:8で希釈したもの)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温30℃、現像時間12秒にて現像した。この時の現像液の電導度は、45mS/cmであった。耐キズ性の評価は下記基準により行った。結果を表8に示す。
【0272】
(耐キズ性の評価基準)
A:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が全く変化しなかったもの
B:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視で僅かに観測されたもの
C:摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の2/3以下になったもの
【0273】
〔現像ラチチュードの評価〕
得られた(未露光状態の)実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31を、Creo社製Trendsetterにてビーム強度9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンを画像状にIRレーザー描き込みを行った。
その後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−1を水道水で希釈し、種々の電導度を有する現像液を調製した。この液を用いて富士写真フイルム製PSプロセッサー900Hに仕込み、液温30度、現像時間12秒にて現像した。なお、ガム液としてFP−2W(1:1で水道水希釈したもの)を使用した。
【0274】
上記の現像条件において、平版印刷版原版の記録層の非露光部(画像部)の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を(X)mS/cmとする。また、同現像条件において、平版印刷版原版の記録層の露光部(非画像部)の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を(Y)mS/cmとする。本実施例においては、現像ラチチュードを(A)‐(B)と定義した。現像ラチチュードの値が大きいほど、露光部(非画像部)における残膜の発生がしにくく、かつ、未露光部(画像部)の濃度低下も起きにくいことから、現像液の活性に対するラチチュードが広いといえる。結果を下記表8示す。
【0275】
〔転写性の評価〕
転写性の評価方法は、実施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31の上にクロロプレンゴム(90mm×90mm)を置き、6kgの加重をかけ、100℃10分加熱後、クロロプレンゴムの表面を目視評価する方法であり、評価尺度としては、下記の判定基準が用いられる。結果を下記表8示す。
○:色変化あり
×:色変化あり
【0276】
【表8】
【0277】
表8に明らかなように、本発明の画像形成材料を記録層に用いた実施例1〜31の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例1〜4の平版印刷版原版と比較して、現像ラチチュードを示す数値が大きく、良好な現像ラチチュードを有することがわかった。従って、本発明の平版印刷版原版は、非画像部における残膜の発生がしにくく、且つ、画像部の濃度低下も起きにくいことがわかった。
また、実施例1〜31の平版印刷版原版は、比較例1、3及び4の平版印刷版原版と比較して、滑り性(動摩擦係数)、耐キズ性及び転写性に優れていることが分かった。更に、比較例2の平版印刷版原版は、実施例1〜31の平版印刷版原版と比較しても滑り性及び耐キズ性は良好であるものの、転写性の問題が発生することが判明した。
【0278】
(実施例28〜30、比較例5〜7)
〔支持体の作製〕
99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A 1050合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃、60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
【0279】
次に、平版印刷版支持体とするための表面処理を行った。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
【0280】
次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
【0281】
更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
【0282】
その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、更に水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。以上により作成した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。
【0283】
その後、下記記録層塗布液Aを調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0284】
【0285】
【表9】
【0286】
なお、本発明における実施例及び比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構成単位については下記に示す。
【0287】
【化40】
【0288】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用した赤外線吸収剤の具体例を以下に示す。
【0289】
【化41】
【0290】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル発生剤の具体例を以下に示す。
【0291】
【化42】
【0292】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル重合性化合物の具体例を以下に示す。
【0293】
【化43】
【0294】
(露光)
得られた前期各平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネルギー188mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0295】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処理した。現像液は、下記(D−1)を仕込み液、下記(D−2)を補充液に用いた。現像欲浴の温度は30℃、現像時間を12秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0296】
【0297】
【0298】
〔耐刷性の評価〕
次に、小森コーポレーション(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表9に併記する。
【0299】
〔耐キズ性の評価〕
上記記録層を塗布した平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機器としては、HEIDON社製Scratching TESTER HEIDON−14を用い、引っ掻き針として0.4mmRダイヤ針を用い、針上の荷重を変化させながら、400mm/minの速さで記録層表面を引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に優れることになる。結果を前記表9に併記する。
以上、表9に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例28〜30の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例5〜7に比べ、優れた耐刷性及び耐キズ性を達成していることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のアブレーションは見られなかった。
【0300】
(実施例31〜32、比較例8〜9)
実施例28〜30及び比較例5〜7で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、80℃雰囲気下で30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、10mg/m2であった。
下記組成の化合物を混合し、下塗り層用塗布液を調製した。
〔下塗り層用塗布液〕
・2−アミノエチルホスホン酸 0.5g
・メタノール 40g
・純水 60g
【0301】
その後、下記に示す記録層塗布液Bを前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0302】
【0303】
【表10】
【0304】
(露光)
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力6.5W、外面ドラム回転数81rpm、版面エネルギー188mJ/cm2、解像度、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0305】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900NPを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム(株)製DP−4の1:8水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は30℃、現像時間を12秒で処理した。この際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0306】
〔耐刷性及び汚れ性の評価〕
得られた平版印刷版原版を、それぞれ60℃で3日間保存、及び、45℃、湿度75%RHで3日間保存して強制経時させた後、前記実施例28〜30及び前記比較例5〜7と同様の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。
。結果を前記表10に併記する。
表10に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例31〜32の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例8〜9に比べ、非画像部の汚れもなく、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れていることがわかった。
【0307】
(実施例33〜34、比較例10〜11)
実施例28〜30及び比較例5〜7で用いたのと同様のアルミニウム支持体上に、下記記録層塗布液Cを調製し、上記アルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
【0308】
【0309】
【表11】
【0310】
(露光)
得られた平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度2400dpiの条件で露光した。
【0311】
(現像処理)
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
【0312】
〔耐刷性及び耐キズ性の評価〕
次に、ハイデルベルクSOR−KZ印刷機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評価した。
また、実施例28〜30及び比較例5〜7と同様に耐キズ性について評価を行った。
以上、表11に明らかなように、本発明の画像記録材料を記録層として用いた実施例33〜34の平版印刷版原版は、特定疎水性グラフト(共)重合体を含有しない比較例10〜11に比べ、優れた耐刷性及び耐キズ性を達成していることがわかる。
【0313】
更に、実施例28の平版印刷版原版を30枚積層し、版材供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカーへ排出した。装置の運転中、平版印刷版原版同士の密着や、それに起因する搬送不良などが見られなかったことから、良好な滑り性を有し、支持体裏面に対する滑り剤の転写性も抑制されていることがわかった。また、実施例29〜34の平版印刷版原版においても同様の結果が得られた。
以上、実施例で明らかなように、本発明の画像形成材料を記録層として用いた平版印刷版原版(本発明の平版印刷版原版)は、耐傷性、耐刷性及び滑り性に優れ、更に、滑り性素材の転写性が抑制されているという優れた効果が見られた。
【0314】
【発明の効果】
本発明によれば、耐キズ性を有し、かつ、製造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、支持体裏面への転写のない滑り性素材を含有する画像形成材料、及び該画像形成材料を用いることで、同様の特性を有する記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することができる。
Claims (2)
- 赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能であることを特徴とするヒートモード対応画像形成材料。
- 支持体上に、赤外線吸収剤、及び、主鎖又は側鎖に疎水性の構成成分を有するグラフト(共)重合体を含有し、赤外線レーザの露光により画像形成可能な画像形成材料からなる記録層を備えてなることを特徴とするヒートモード対応平版印刷版原版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002165584A JP2004012770A (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002165584A JP2004012770A (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004012770A true JP2004012770A (ja) | 2004-01-15 |
Family
ID=30433388
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002165584A Pending JP2004012770A (ja) | 2002-06-06 | 2002-06-06 | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004012770A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011102485A1 (ja) | 2010-02-19 | 2011-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2365389A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Fujifilm Corporation | Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate |
| EP2366546A2 (en) | 2010-03-18 | 2011-09-21 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
| EP2439070A2 (en) | 2010-08-31 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate |
| EP2497639A2 (en) | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate |
| EP2506077A2 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| EP2551113A2 (en) | 2011-07-25 | 2013-01-30 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate |
| EP2644378A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Method of making planographic printing plate and planographic printing plate |
| EP2796929A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
-
2002
- 2002-06-06 JP JP2002165584A patent/JP2004012770A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011102485A1 (ja) | 2010-02-19 | 2011-08-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2365389A1 (en) | 2010-03-08 | 2011-09-14 | Fujifilm Corporation | Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate |
| EP2366546A2 (en) | 2010-03-18 | 2011-09-21 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
| EP2439070A2 (en) | 2010-08-31 | 2012-04-11 | Fujifilm Corporation | Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate |
| EP2497639A2 (en) | 2011-03-11 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate |
| EP2506077A2 (en) | 2011-03-31 | 2012-10-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| EP2796928A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| EP2796929A2 (en) | 2011-03-31 | 2014-10-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| EP2551113A2 (en) | 2011-07-25 | 2013-01-30 | Fujifilm Corporation | Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate |
| EP2644378A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Method of making planographic printing plate and planographic printing plate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2005077815A (ja) | 感光性組成物 | |
| JP4393258B2 (ja) | 画像記録材料及び平版印刷版 | |
| JP2004012770A (ja) | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 | |
| JP4171254B2 (ja) | 樹脂組成物 | |
| JP2004117534A (ja) | 樹脂組成物 | |
| JP4401103B2 (ja) | 画像記録材料 | |
| JP2005107484A (ja) | 画像記録材料及び平版印刷版 | |
| JP2005181734A (ja) | 画像記録材料 | |
| JP4250105B2 (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
| JP2004125985A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2004287194A (ja) | 感熱性平版印刷版 | |
| JP4359446B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP4340572B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP4373823B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2005049756A (ja) | 画像記録材料 | |
| JP2004061947A (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2005189698A (ja) | 画像記録材料 | |
| JP2004117533A (ja) | 樹脂組成物 | |
| JP2005274607A (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP4462846B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2005004053A (ja) | 感光性組成物 | |
| JP2004126048A (ja) | 画像形成材料 | |
| JP4373952B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
| JP2005049640A (ja) | 樹脂組成物及び平版印刷版原版 | |
| JP3999506B2 (ja) | 平版印刷用原板 |