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JP2004012564A - 画像形成方法 - Google Patents

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JP2004012564A JP2002162384A JP2002162384A JP2004012564A JP 2004012564 A JP2004012564 A JP 2004012564A JP 2002162384 A JP2002162384 A JP 2002162384A JP 2002162384 A JP2002162384 A JP 2002162384A JP 2004012564 A JP2004012564 A JP 2004012564A
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Junichi Fujimori
藤盛 淳一
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

【課題】一画素中において、部分的に着色層の膜厚を変化させた、反射・透過両用LCDに好適に用いられる画像の簡便な形成方法を提供すること、およびスペーサと配向制御用突起の簡便な形成方法を提供する。
【解決手段】第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光、現像する工程において、前記フォトマスクが少なくとも2種類の光透過性パターンを有するものであり、且つ前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像の形成方法であって、第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との間に、バリヤ層を設けることを特徴とする画像形成方法である。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は画像形成方法、及び該方法により形成されたカラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー、ならびに配向制御用突起に関する。より詳細には、反射・透過両用液晶表示デバイスに好適に用いられる画像形成方法、及び該方法により形成されたカラーフィルター、液晶表示装置用スペーサーならびに配向制御用突起に関する。
【0002】
【従来の技術】
カラーフィルターはブラウン管表示用カラーフェイスプレート、複写用光電変換素子プレート、単管式カラーテレビカメラ用フィルター、液晶を用いたフラットパネルディスプレー、カラー固体撮素子等に用いられている。通常用いられるカラーフィルターは、青色、緑色及び赤色の三原色が規則的に配列して構成されるが、必要に応じて四色あるいはそれ以上の色相からなるものもある。
【0003】
近年、液晶表示装置(LCD)においては、携帯電話に代表される携帯端末として、反射型液晶表示装置が開発されているが、室内および暗所においての表示品位の低下が問題視されており、その改善策として、反射‐透過兼用液晶表示装置が考案されている。
【0004】
前記反射‐透過兼用液晶表示装置の構成としては、例えば、図3に示される態様がある。この態様においては、光透過性基板10Bには、反射層12(反射板と称する場合がある)が所定の間隔をおいて配置されており、光透過性基板10Aには、所定の間隔をおいて透明層16が配置され、画素14が各々の透明層16の一部を覆設するように形成されている。光透過性基板10Aと光透過性基板10Bとは対向して設けられており、その間に液晶層18が設けられている。
透過表示の場合は、バックライト20からの透過光aによって表示がされ、反射表示の場合は、光透過性基板10Aを透過した外光bが反射層12で反射された反射光cによって表示される。
【0005】
この場合、透過部と反射部のカラーフィルターの光が通過する部分の厚みは同じとなり、反射表示に十分な明るさを実現した場合には、透過部の色純度が不十分であった。また、その逆の透過部の色純度を十分とした場合は、反射部が暗くなる不都合を有していた。このような問題を解決するために透過部と反射部のカラーフィルターの厚みあるいは色相を変え、表示品位を向上させる試みがなされているが、工程が複雑で、コストアップとなっている。
【0006】
また、LCDパネルの高機能化として、視野角アップ、コントラストアップ等の開発が進められているが、その方式において垂直配向モードを利用したVA方式とフォトスペーサによるスペーサー形成が主流になりつつある。これらの方式では、まずスペーサ構造作製のフォトリソ工程と、VA方式が必須である配向制御用突起構造作製のフォトリソ工程を要し、LCDパネルのコストアップとなっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
上記問題を解決するために、未公知ではあるが既に特願2002−49546には、一画素中に、部分的に着色層の膜厚を変化させた、反射・透過両用LCDに好適に用いられる画像の簡便な形成方法、およびスペーサと配向制御用突起の簡便な形成方法が提供されている。しかし、前記発明は光感度の異なるネガ型感光性樹脂層を積層してなるが、上層と下層の感光性樹脂層の素材が、該感光性樹脂層の塗布時、ないしはラミネート時およびその後の経過時に、相互に移行し、当初の光感度差よりも小さくなり、パターン形成に支障をきたすという問題を生じていた。本発明は前記の問題を解決することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。即ち、本発明は、
<1> 基体上に、第1のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Aと、前記第1のネガ型感光性樹脂層の層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Bと、
前記第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光する工程Cと、前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程Dを有し、前記フォトマスクを介して露光する工程Cが、少なくとも2種類の光透過性パターンを有するフォトマスクを介して露光するものであり、且つ前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像形成方法であって、前記工程Aと、前記工程Bとの間に、バリヤ層を設ける工程Eを有することを特徴とする画像形成方法である。
【0009】
<2> 前記工程A、工程Bおよび工程Eが、透明支持体上に少なくとも第1のネガ型感光性樹脂層、バリヤ層、および第2のネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、前記<1>に記載の画像形成方法である。
【0010】
<3> 前記工程Aが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用い、前記工程Eが、透明支持体上に少なくともバリヤ層を有している転写シートを用い、前記工程Bが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、前記<1>に記載の画像形成方法である。
【0011】
<4> 前記工程Aおよび前記工程Eが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層およびバリヤ層を有している転写シートを用い、前記工程Bが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、前記<1>に記載の画像形成方法である。
【0012】
<5> 前記工程Aが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用い、前記工程Eおよび前記工程Bが、透明支持体上に少なくともバリヤ層およびネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用る、前記<1>に記載の画像形成方法である。
【0013】
<6>  前記<2>ないし<5>のいずれかに記載の転写シートが、熱可塑性樹脂層および中間層を有する転写シートである画像形成方法である。
【0014】
<7> 前記<1>ないし<6>のいずれかに記載の画像形成方法を少なくとも2回以上繰り返す画像形成方法である。
【0015】
<8> 前記<1>ないし<7>のいずれかに記載の画像形成方法において、バリヤ層がポリビニルアルコールを含んでなる画像形成方法である。
【0016】
<9> 前記<1>ないし<8>のいずれかに記載の画像形成方法により形成された液晶表示装置用カラーフィルターである。
【0017】
<10> 前記<1>ないし<8>のいずれかの画像形成方法により形成された液晶表示装置用スペーサーおよび配向制御用突起である。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明の画像形成方法は、第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、少なくとも2種類の光透過性パターンを有するフォトマスクを介して露光、現像し、且つ前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1よりも大きい画像形成方法であって、前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との間にバリヤ層を設けることを特徴とする。
【0019】
本発明によれば、1画素内に少なくとも2種類の光透過性を有するマスクを介してパターン露光することにより、一度の露光で、1画素内に異なる膜厚の感光性樹脂を積層することができ、更に、反射・透過兼用液晶表示装置を同時に形成し、またはスペーサーと配向制御用突起を同時に形成することができ、且つ、光感度の異なる感光性樹脂層が積層された感光性シートの感光性樹脂層間の素材の移行を防止し、良好なパターン形成が可能となる。
以下、本発明について詳述する。
【0020】
<光透過性基板>
本発明において用いられる基体としては、透明で光学的等方性があり十分な耐熱性を有する光透過性基板が好ましく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、酢酸セルロース、ポリアリレート、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラス、石英等が挙げられる。該光透過性基板の表面は必要に応じて下塗り処理されてもよい。さらにグロー放電、コロナ放電、紫外線(UV)照射等の処理を施しても良い。
【0021】
光透過性基板は、板状、シート状あるいはフィルム状等の形態で使用することができる。基板の厚さは、用途及び材質にあわせて適宜に設定できるが、一般には0.01〜10mmが好ましい。例えば、ガラス基板のときは、厚みが0.3〜3mmの範囲が好ましい。
【0022】
なお、反射・透過両用LCDパネルにおける反射表示の場合は、入射した外光を反射するための反射層を形成した光透過性基板が設けられ、前記反射層としては、Al、Mo等が好適に用いられる。また、反射層の厚さとしては、100〜10000Å程度が好ましい。反射層の形成方法は特に限定されないが、例えば、蒸着スパッタ法により形成することができる。
【0023】
<ネガ型感光性樹脂層>
本発明においては、ネガ型感光性樹脂層は少なくとも150℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。公知の光重合性組成物を用いた層の大部分はこの性質を有するが、公知層の一部は、熱可塑性結合剤の添加あるいは相溶性の可塑剤の添加によって更に改質することができる。
【0024】
本発明のネガ型感光性樹脂層の素材としては公知の、例えば特開平3−282404号公報に記載されているネガ型感光性樹脂がすべて使用できる。具体的にはネガ型ジアゾ樹脂とバインダーからなる感光性樹脂層、光重合性モノマーと光重合開始剤とバインダーを含む光重合性樹脂、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合性樹脂である。また、感光性樹脂としてはアルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【0025】
本発明は、第1層の感光性樹脂層と第2層の感光性樹脂層との間に光感度差を発生させることにより、後記の階調マスクでの露光で第1層のみ、および第1層と第2層のパターンを同時形成可能とする。光感度差が無い場合、階調マスク露光において透過部とハーフトーン部で露光量は調節されるが、材料に感度差が無いことから、第1層と第2層の積層されたパターンが形成されるのみで、第1層のみのパターンは原理的に形成できない。従って第1層のみ、および第1層と第2層のパターンを同時に形成するためには、第1層の感光性樹脂層と第2層の感光性樹脂層の光感度が異なり、第1層感度/第2層感度比が1よりも大きいことを特徴とし、より好ましくは第1層感度/第2層感度比が2以上である。
【0026】
本発明において、光感度とは現像過程の後に、画像を得ることの出来る最低露光量で定義される。具体的には、最低露光量は以下により計測される。
▲1▼ガラス基板上に、感光性樹脂層を所定の膜厚になるように塗布、乾燥する。▲2▼前記乾燥した感光性樹脂層の上に、酸素遮断膜としてのPVA層、または後記のバリヤ層を所定の膜厚になるように塗布、乾燥する。▲3▼ステップウェッジマスク(光学濃度が0から始まり各段0.15差)を介して、段差を設けて露光する。▲4▼アルカリ現像液を用いて現像する。▲5▼残った膜から、ベタがでる最小段数を読み取り、これから最低露光量を算出する。なお、前記においてベタとは、十分に硬化して未露光時と同じ膜厚(または濃度)が残っていることをいい、最小段数とは、ステップウェッジマスクにより、段差を設けて露光したときの、ベタがでる最小段数をいう。
【0027】
感光性樹脂の光感度は顔料の含有量、光重合開始剤の含有量、モノマー量により異なる。本発明において、第1層と第2層の好ましい光感度差を形成するためには、第1のネガ型感光性樹脂と第2のネガ型感光性樹脂の光重合開始剤量を2:1〜100:1にすることが好ましい。
【0028】
感光性樹脂層には更に、公知の染料、顔料を添加することができる。すべての顔料は感光性樹脂層中に均一に分散されており、好ましくは5μm以下の粒径、特にはlμm以下の粒径が好ましい。カラーフィルターの作製に当たっては、顔料としては0.5μm以下の粒径のものが好ましい。
【0029】
好ましい染料ないし顔料の例としては、ビクトリア・ピュアーブルーBO(C.I.42595)、オーラミン(C.I.41000)、ファット・ブラックHB(C.I.26150)、モノライト・エローGT(C.I.ピグメントエロー12)、パーマネント・エローGR(C.I.ピグメント・エロー17)、パーマネント・エローHR(C.I.ピグメント・エロー83)、パーマネント・カーミンFBB(C.I.ピグメント・レッド146)、ホスターバームレッドESB(C.I.ピグメント・バイオレット19)、パーマネント・ルビーFBH(C.I.ピグメント・レッド11)、ファステル・ピンクBスプラ(C.I.ピグメント・レッド81)、モナストラル・ファースト・ブルー(C.I.ピグメント・ブルー15)、モノライト・ファースト・ブラックB(C.I.ピグメント・ブラック1)、及びカーボンを挙げることができる。
【0030】
さらにカラーフィルターを形成するのに適当な顔料としては、C.I.ピグメント・レッド97、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド149、C.I.ピグメント・レッド168、C.I.ピグメント・レッド177、C.I.ピグメント・レッド180、C.I.ピグメント・レッド192、C.I.ピグメント・レッド215、C.I.ピグメント・グリーン7、C.I.ピグメント・グリーン36、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:4、C.I.ピグメント・ブルー15:6、C.I.ピグメント・ブルー22、C.I.ピグメント・ブルー60、C.I.ピグメント・ブルー64を挙げることができる。
【0031】
<バリヤ層>
本発明は、積層した感光性樹脂層の上層と下層の間で、感光性樹脂層の素材が相互に移行し、その結果当初設定したものより、感光性樹脂層の上層と下層間の光感度差が小さくなり、パターン形成に支障を生じていた問題の解消を図るため、第1の感光性樹脂層と第2の感光性樹脂層との間に、バリヤ層を設けることを特徴とする。
【0032】
前記バリヤ層の素材としては、塗設時の膜の混合、素材の層間拡散を抑えるために、第1の感光性樹脂層と第2の感光性樹脂層がケトン系の有機溶剤に溶解するものであれば、バリヤ層は水、アルコール系、エステル系、芳香族系、脂肪族系等の溶剤に溶解する素材から選ばれる。また、第1の感光性樹脂層と第2の感光性樹脂層が水系に溶解するならば、バリヤ層はケトン系、アルコール系、エステル系、芳香族系、塩化炭素系、脂肪族系等の溶剤に溶解する素材から選ばれる。
【0033】
第1の感光性樹脂層と第2の感光性樹脂層がケトン系、エステル系の有機溶剤に溶解する場合、バリヤ層の素材としては、素材の移行防止、取り扱い性、環境問題の観点から、水に溶解する素材が好ましい。このような素材としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン誘導体、セルロース類ポリビニルエーテエル/無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、およびマレイネート樹脂、更にこれらの2種以上の組合せが挙げられる。中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組合せである。
【0034】
前記ポリビニルアルコールは、バリヤ層の耐久性を高めるために、硬化性を持つことが好ましく、このようなものとしてはスチルピリジニウム基を導入したポリビニルアルコール等を挙げることができる。ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンのポリマーを併用する場合、ポリビニルピロリドンの含有量はバリヤ層固形分の1〜75質量%が好ましく、より好ましくは1〜60質量%、更に好ましくは10〜50質量%である。前記含有量が1〜75質量%の範囲では、感光性層との密着も十分で、素材の耐拡散性が低下することもない。バリヤ層の厚みはひじょうにうすく、約0.05〜5μmが好ましく、特に0.5〜1μmが特に好ましい。バリヤ層の厚みが約0.05〜5μmの範囲においては、バリヤ層の耐拡散性も十分で、また現像時、またはバリヤ層除去時に時間がかかりすぎることもない。
【0035】
バリヤ層としては、上記の素材の他に、熱接着性を高めるために、可塑剤を含んでもよい。可塑剤としては、ポリエチレングルコール、ポリエチレングルコール誘導体、ポリプロピレングルコール、ポリプロピレングルコール誘導体、ポリエチレングルコール/ポリプロピレングルコール共重合体等が好ましく用いられる。
【0036】
<転写材料>
本発明の転写シートには、特開平5−173320号公報に記載の転写材料が、好適に使用することができる。すなわち仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層の順に積層する転写シートにおいて、1μm以下の熱可塑性樹脂が剥離層として機能し、転写シートが基体に転写された後に、仮支持体は熱可塑性樹脂層との間で剥離される。
【0037】
<転写シートの基体への転写>
本発明において,感光性転写シートの基体への転写は、感光性転写シートのカバーフィルムを剥離し、基体上に通常用いられるラミネーターを用い、加圧、加熱し、貼り合わせて転写する。
ただし、第1の感光層とバリヤ層および第2感光層を2回または3回に分けて転写して作成する場合は、2回転写では1回目の、3回転写では1、2回目の転写時には、熱可塑性樹脂層が転写されないようする必要がある。このためには、仮支持体の熱可塑性樹脂層面側をコロナ処理、ゼラチン下塗り等をして、仮支持体と熱可塑性樹脂層との密着性を挙げたものを用いることが好ましい。なお、最後に転写される転写シートの熱可塑性樹脂層は、現像時に溶解除去されるので、そのまま転写されてもよい。
【0038】
<フォトマスク>
基体上に転写された感光性樹脂層をパターニングする場合には、所定パターンのフォトマスクを介して光照射しパターン露光を行い、その後現像してパターン状の着色層を得る。前記フォトマスクは、光完全透過部、遮光部を有しているものが通常であるが、本発明に用いられるフォトマスクは、さらに少なくとも1種以上のハーフトーン部を有している階調マスクを用いることを特徴とする。現像後に残したい層の感光性に合わせ、適宜それらの部位を選択しフォトマスクを作製する。具体的には、第1層のみを残したい部位にはハーフトーン部を、全層残したい部位には完全透過部を、何も残さない部位には遮光部を選択する。
【0039】
<パターン露光と現像>
前記のフォトマスクを用い、露光は300〜500nmの波長光の照射により行なうことができ、光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、Hg−Xeランプ等が利用できる。
前記露光の後、現像処理を行なって、熱可塑性樹脂層、中間層及び不要部(未硬化部分)の感光性樹脂層を除去する。
【0040】
本発明の画像形成方法により形成されたカラーフィルターの構成例を図1に示す。光感度が高い第1の感光性樹脂層と、相対的に光感度が低い第2の感光性樹脂層、およびバリヤ層を貼り合わせた転写シートについて、反射型液晶表示部位にフォトマスクのハーフトーン部を使用し、透過型液晶表示部位にフォトマスクの完全透過部を使用し露光、現像する。フォトマスクのハーフトーン部を使用した部分は、現像の結果、第1の感光性樹脂層のみが画素14Bとして残る。一方、フォトマスクの完全透過部を使用した部分は、現像の結果、第1の感光性樹脂層、バリヤ層、および第2の感光性樹脂層が画素14Aとして残る。その結果第1の感光性樹脂層、バリヤ層、および第2の感光性樹脂層が残った画素14Aは、第1の感光性樹脂層のみが残った画素14Bに比し膜厚が第2の感光性樹脂層およびバリヤ層の膜厚の分だけ厚くなり、第1の感光性樹脂層と、バリヤ層、および第2の感光性樹脂層による画素14Aは透過型に、第1の感光性樹脂層のみによる画素14Bは反射型に好適な膜厚が形成される。
【0041】
現像液には無機系と有機系の現像液があり、ガラス基板上にカラーフィルターを形成する場合には、どちらの現像液も使用できる。しかしながら、COA即ち、TFTアクティブマトリックス基板上にカラーフィルターを形成する場合には、無機アルカリ現像液中のNaやKイオンがコンタミ(汚染)の原因になるので、有機アルカリ現像液を使用することが好ましい。
【0042】
前記アルカリ水溶液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が好ましく、更に水混和性のある有機溶剤を少量添加したものも好適に使用することができる。アルカリ水溶液中のアルカリ性物質の濃度としては、0.01〜30質量%が好ましく、更にpHとしては、8〜14が好ましい。
前記有機アルカリ現像液としては、pKa=7〜13の有機化合物を0.05〜5mole/Lの濃度含む現像液が好ましいが、更に水と混和性を有す有機溶剤を少量添加しても良い。現像液のpHは8〜13が好ましい。水と混和性を有する有機溶剤は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等がある。該有機溶剤の濃度は0.1質量%〜30質量%であるのが好ましい。
また、アルカリ水溶液には、公知の種々の界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤の濃度としては、0.01〜10質量%が好ましい。
【0043】
前記現像は、公知の方法により行え、溶剤若しくは水性の現像液、特にアルカリ水溶液等を用いて、例えば、(a)露光後の基板自体を現像浴中に浸漬する、(b)露光後の基板にスプレー等により噴霧する等して、更に必要に応じて、溶解性を高める目的で、回転ブラシや湿潤スポンジ等で擦ったり、超音波を照射しながら行うことができる。
露光後の感光性樹脂層の溶解性部分を除去するには、現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦る等の方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は20℃〜40℃が好ましい。該現像処理の後に蒸留水、イオン交換水、超純水等による水洗工程を入れることが好ましい。また、現像処理した後、更に200〜260℃下でベークするのが好ましい。
【0044】
(スペーサー及び突起構造の形成)
液晶表示素子は、標準的には例えば、カラーフィルターと該カラーフィルター上に導電層(例えば透明画素電極)とを備えるフィルター側基板と、これと対向配置される導電層(例えば透明共通電極)付きの対向基板との2枚の基板(前記フィルター側基板及び対向基板のいずれに薄膜トランジスタ(TFT)等の駆動素子が設けられていてもよい。)によって液晶層が狭持されてなる。
【0045】
本発明では、透明の感光性樹脂材料を用いて1回のフォトリソグラフィー工程内で、カラーフィルター上に液晶表示装置用スペーサー及び液晶配向用突起を同時に設けることができる。スペーサーは液晶層の厚み(セルギャップ)を一定間隔に保持するためであり、表示領域の全域に一定に設けられる必要がある。また液晶配向用突起を設けることによって、液晶分子の配向の向きを規制し、液晶面に対する観察位置(視野角)に依存しない広視野角を確保することができる。本発明において、液晶表示装置用スペーサー及び液晶配向用突起は、以下の方法により同時に設けることができる。
【0046】
予め形成されたカラーフィルタ上に、ITOをスパッタし、第1層の透明感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、感光性樹脂層面をITO面と接するようにラミネーターを用いて加圧、加熱して貼り合わせ、ガラス基板上に第1層の透明層のみを転写する。さらに第2層、およびバリヤ層の透明感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、第1層の透明層面にバリヤ層面が接するように貼り合わせ、仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、ガラス基板上に第1層の透明感光性樹脂層―バリヤ層―第2層の透明感光性樹脂層―中間層―熱可塑性樹脂層をガラス基板上に転写する。この場合、第1層の透明感光性樹脂層と第2層の透明感光性樹脂層の光感度が異なり、第1層の透明感光性樹脂層と第2層の透明感光性樹脂層の光感度比(第1層の光感度/第2層の光感度)が1より大きいことを特徴とし、より好ましくはその値が2以上である。
【0047】
次に前記の階調フォトマスクを介して露光、現像して、熱可塑性樹脂層及び中間層を除去し、また感光性樹脂層の不要部を除去し、基体上に第l層のみのパターンと、第l層と、第2層、およびバリヤ層が積層された透明画素パターンを形成する。次いで、200〜260℃で20〜150分ベーキングすることにより、ITO上にスペーサパターンと配向制御用突起を同時に形成することができる。
【0048】
本発明の画像形成方法により形成されたカラーフィルターの構成例を図2に示す。光感度が高い第1の透明感光性樹脂層と、バリヤ層、および相対的に光感度が低い第2の透明感光性樹脂層を貼り合わせた転写シートについて、配向制御用突起部位にフォトマスクのハーフトーン部を使用し、スペーサー部位にフォトマスクの完全透過部を使用し露光、現像する。フォトマスクのハーフトーン部を使用した部分は、現像の結果、第1の感光性樹脂層のみが画素24として残る。一方、フォトマスクの完全透過部を使用した部分は、現像の結果、第1の感光性樹脂層と、バリヤ層、および第2の感光性樹脂層が画素22として残る。その結果第1の感光性樹脂層と、バリヤ層、および第2の感光性樹脂層が残った画素22は膜厚が厚く、透明感光性樹脂層の厚さを任意の厚さとすることで、スペーサーとして好ましい厚さのものを得ることができる。また第1の感光性樹脂層のみが残った画素24は配向制御用突起部位として好適な膜厚が形成される。
【0049】
【実施例】
以下に実施例を示し本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない
【0050】
<実施例1>(カラーフィルターの形成)
厚さ0.2μmのゼラチン層を下塗りした、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体のゼラチン層面に、下記の処方N1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
【0051】
熱可塑性樹脂層処方Nl:
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジル
メタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/11.7/4.5/28.8、(重量平均分子量=90000)・・・ 15質量部
・ポリプロピレングリコールジアクリレート(平均分子量=822)・・・6.5質量部
・テトラエチレングリコールジメタクリレート     ・・・1.5質量部
・p―トルエンスルホンアミド            ・・・0.5質量部
・ベンゾフェノン                  ・・・1.0質量部
・メチルエチルケトン                 ・・・30質量部
【0052】
次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Mlから成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の中間層を設けた。
【0053】
中間層処方Ml:
・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%)・・・130質量部
・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製PVP、K−90)・・・ 60質量部
・弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131)・・・10質量部
・蒸留水                     ・・・3350質量部
【0054】
上記熱可塑性樹脂層及び中間層が設けられた4枚の仮支持体の上に、それぞれ下記表1の処方を有する、赤色(R1層用)、緑色(Gl層用)及び青色(Bl層用)の3種の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmの3種の着色感光性樹脂層を形成した。
【0055】
【表1】
Figure 2004012564
【0056】
さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピレン(厚さ12μm)のカバーフィルムを圧着し、赤色(Rl)、青色(Bl)、および緑色(Gl)感光性転写材料を作製した。
【0057】
次に厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体のPET面に前記の処方N1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
【0058】
次に上記熱可塑性樹脂層上に前記処方Mlから成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾繰膜厚が1.6μm厚の中間層を設けた。
【0059】
上記中間層の上に、それぞれ下記表2の処方を有する、赤色(R2層用)、緑色(G2層用)及び青色(B2層用)の3種の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmの3種の着色感光性樹脂層を形成した。
【0060】
【表2】
Figure 2004012564
【0061】
上記感光性樹脂層の上に、下記処方O1から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾繰膜厚が1μm厚のバリヤ層を設けた。
【0062】
バリヤ層処方O1:
・ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%)・・・130質量部
・ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製PVP、K−90)・・・ 60質量部
・弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131)・・・10質量部
・蒸留水                     ・・・3350質量部
【0063】
これらの感光性転写材料を用いて、以下の方法でカラーフイルターを作製した。Rl赤色感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板(厚さ1.lmm)にラミネーター(大成ラミネータ(株)製VP−II)を用いて加圧(0.8kg/cm)、加熱(130℃)して貼り合わせ、続いて中間層と感光性着色層との界面で剥離し、ガラス基板上にR1赤色着色層のみを転写した。さらに、Rl赤色着色層面にR2バリヤ層面が接するように上記と同様に貼り合わせ、仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、ガラス基板上に、R1赤色感光性樹脂層―バリヤ層―R2赤色感光性樹脂層―中間層―熱可塑性樹脂層をガラス基板上に転写した。
【0064】
次に所定のクロムフォトマスク(2階調マスク:、第1領域光学濃度/第2領域光学濃度=1/0.1))を介して露光し、現像液PD2(冨士写真フイルム(株)製現像液)で熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。この際、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。次いで、CDl(富士写真フイルム(株)製現像液)で感光性樹脂層を現像して不要部を除去し、SDl(富士写真フイルム(株)製現像液)にて仕上げ処理(ブラシ処理)し、ガラス基板上にRl層のみのパターンと、Rl、バリヤ層、およびR2層が積層された赤色画素パターンを形成した。次いで、赤色画素パターンが形成されたガラス基板上に、GlおよびG2緑色感光性転写材料を上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像を行ない、G1のみおよびGl、バリヤ層、およびG2が積層された緑色画素パターンを形成した。同様な工程をBlおよびB2青色感光性転写材料で繰り返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを形成した。
【0065】
<実施例2>(カラーフィルターの形成)
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に、前記の処方N1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
【0066】
次に上記熱可塑性樹脂層上に前記処方Mlから成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μm厚の中間層を設けた。
【0067】
上記熱可塑性樹脂層及び中間層が設けられた4枚の仮支持体の上に、それぞれ前記表2の処方を有する、赤色(R2層用)、緑色(G2層用)及び青色(B2層用)の3種の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmの3種の着色感光性樹脂層を形成した。
【0068】
上記感光性樹脂層の上に、前記処方O1から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾繰膜厚が1μm厚のバリヤ層を設けた。
【0069】
上記バリヤ層の上に、それぞれ前記表1の処方を有する、赤色(R1層用)、緑色(G1層用)及び青色(B1層用)の3種の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmの3種の着色感光性樹脂層を形成した。
【0070】
さらに上記着色感光性樹脂層の上にポリプロピレン(厚さ12μm)のカバーフィルムを圧着し、最終的に、熱可塑性樹脂層、中間層、着色感光性樹脂層、バリヤ層、着色感光性樹脂層を有する、赤色、青色、および緑色感光性転写材料を作製した。
【0071】
これらの感光性転写材料を用いて、以下の方法でカラーフイルターを作製した。赤色感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板(厚さ1.lmm)にラミネーター(大成ラミネータ(株)製VP−II)を用いて加圧(0.8kg/cm)、加熱(130℃)して貼り合わせ、続いて中間層と感光性着色層との界面で剥離し、ガラス基板上にR1赤色着色層―バリヤ層―R2赤色感光性樹脂層―中間層―熱可塑性樹脂層をガラス基板上に転写した。
【0072】
次に所定のクロムフォトマスク(2階調マスク:、第1領域光学濃度/第2領域光学濃度=1/0.1))を介して露光し、現像液PD2(冨士写真フイルム(株)製現像液)で熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。この際、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。次いで、CDl(富士写真フイルム(株)製現像液)で感光性樹脂層を現像して不要部を除去し、SDl(富士写真フイルム(株)製現像液)にて仕上げ処理(ブラシ処理)し、ガラス基板上にRl層のみのパターンと、Rl、バリヤ層、およびR2層が積層された赤色画素パターンを形成した。次いで、赤色画素パターンが形成されたガラス基板上に、GlおよびG2緑色感光性転写材料を上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像を行ない、G1のみおよびGl、バリヤ層、およびG2が積層された緑色画素パターンを形成した。同様な工程をBlおよびB2青色感光性転写材料で繰り返し、透明ガラス基板上にカラーフィルターを形成した。
【0073】
<実施例3>(スペーサーと配向制御用突起の形成)
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に、前記の処方N1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設けた熱
【0074】
次に上記熱可塑性樹脂層上に前記処方Mlから成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾繰膜厚が1.6μm厚の中間層を設けた。
【0075】
上記熱可塑性樹脂層及び中間層が設けられた仮支持体の上に、それぞれ下記表3の処方を有する、透明色(Pl層用)の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmのP1透明感光性樹脂層を形成した。
【0076】
【表3】
Figure 2004012564
【0077】
上記感光性樹脂層の上に、前記処方O1からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が0.5μm厚のバリヤ層を設けた。
【0078】
上記バリヤ層の上に、それぞれ下記表4の処方を有する、透明色(Al層用)の感光性溶液を塗布、乾燥させ、膜厚1.2μmの透明感光性樹脂層を形成した。
【0079】
【表4】
Figure 2004012564
【0080】
さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピレン(厚さ12μm)のカバーフィルムを圧着し、透明(Pl)感光性転写材料を作製した。
【0081】
これらの感光性転写材料を用いて、以下の方法でカラーフイルター上にスペーサと配向制御用突起を作製した。予め形成されたカラーフィルタ(基板:ガラス(0.7mm厚))上にITOを20Ω/□となるようにスパッタした。透明感光性転写材料のカバーフィルムを剥離し、感光性樹脂層面をITO面と接するようににラミネーター(大成ラミネータ(株)製VP―II)を用いて加圧(0.8kg/cm)、加熱(130℃)して貼り合わせ、仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、ガラス基板上に、Al透明感光性樹脂層―バリヤ層―Pl透明感光性樹脂層―中間層―熱可塑性樹脂層をガラス基板上に転写した。
【0082】
次に所定のクロムフォトマスク(2階調マスク:、第1領域光学濃度/第2領域光学濃度=1/0.1))を介して露光し、現像液PD2(富士写真フイルム(株)製現像液)で熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。この際、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。次いで、CDl(富士写真フイルム(株)製現像液)で感光性樹脂層を現像して不要部を除去し、SDl(富士写真フイルム(株)製現像液)にて仕上げ処理(ブラシ処理)し、ガラス基板上にAl層のみのパターンと、AlとP1層が積層された透明画素パターンを形成した。次いで、240℃で50分ベーキングし、ITO上に高さ=3.7μmのスペーサパターンと厚さ1.0μmの配向制御用突起を形成した。
【0083】
<実施例4>(スペーサーと配向制御用突起の形成)
実施例3において、仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けなかった以外は、実施例3と同様にして透明感光性材料を作成した。これを実施例3と同様な工程を経て、ITO上に高さ=3.7μmのスペーサパターンと、厚さ1.0μmの配向制御用突起を形成したk
【0084】
<比較例1>
実施例1において、第2の感光層を有する感光性材料を作成するときに、バリヤ層を設けなかった以外は、実施例1と同様にして感光性材料を作成した。
これを用いて、実施例1と同様な工程を経てカラーフィルターの作成を試みたが、第1の感光層(R1、G1、B1)のみが残るべきところにおいても、第2の感光層が一部に残った。
【0085】
<比較例2>
実施例2において、バリヤ層を設けなかった以外は、実施例2と同様にして感光性材料を作成したが、第2の感光層塗布時に、第1の感光層の一部が溶解し、面状があれた。
これを用いて、実施例2と同様な工程を経てカラーフィルターの作成を試みたが、第1の感光層(R1、G1、B1)のみが残るべきところにおいても、第2の感光層がほぼ全部残った。
【0086】
<比較例3>
実施例3において、バリヤ層を設けなかった以外は、実施例3と同様にして感光性材料を作成したが、第2の透明感光層塗布時に、第1の感光層の一部が溶解し、面状があれた。
これを用いて、これを実施例3と同様な工程を経て、ITO上に高さ=3.7μmのスペーサパターンと、厚さ1.0μmの配向制御用突起を形成したが、A1層のみが残るべきところにおいても、P1層がほぼ全部残った。
【0087】
<比較例4>
実施例4において、バリヤ層を設けなかった以外は、実施例4と同様にして感光
性材料を作成したが、第2の透明感光層塗布時に、第1の感光層の一部が溶解し、面状があれた。
これを用いて、これを実施例4と同様な工程を経て、ITO上に高さ=3.7μmのスペーサパターンと、厚さ1.0μmの配向制御用突起を形成したが、A1層のみが残るべきところにおいても、P1層がほぼ全部残った。
【0088】
【発明の効果】
本発明によれば、1画素内に少なくとも2種類の光透過性を有するマスクを介してパターン露光することにより、一度の露光で、1画素内に異なる膜厚の感光性樹脂を積層することができ、更に、反射・透過兼用液晶表示装置を同時に形成し、またはスペーサーと配向制御用突起を同時に形成することができ、且つ、光感度の異なる感光性樹脂層が積層された感光性シートの感光性樹脂層間の素材の移行を防止し、良好なパターン形成が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のカラーフィルターの構成例を示す図である。
【図2】本発明のスペーサと配向制御用突起の構成例を示す図である。
【図3】反射・透過両用LCDパネルの一例を示す図である。
【符号の説明】
10A 光透過性基板
10B 光透過性基板
12 反射層
14 画素
14A 第1層、バリヤ層、及び第2層の感光性樹脂による画素部
14B 第1層のみの感光性樹脂による画素部
16 透明層
18 液晶層
20 バックライト
22 第1層、バリヤ層、及び第2層の感光性樹脂による画素部(スペーサー)
24 第1層のみの感光性樹脂による画素部(配向制御用突起)
a 透過ッ
b 外光
c 反射光
R 画素(R)
G 画素(G)
B 画素(B)

Claims (10)

  1. 基体上に、第1のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Aと、
    前記第1のネガ型感光性樹脂層の層上に、さらに第2のネガ型感光性樹脂層を設ける工程Bと、
    前記第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層が設けられた基体に、フォトマスクを介して露光する工程Cと、
    前記露光後の第1及び第2のネガ型感光性樹脂層を現像する工程Dを有し、
    前記フォトマスクを介して露光する工程Cが、少なくとも2種類の光透過性パターンを有するフォトマスクを介して露光するものであり、
    且つ、前記第1のネガ型感光性樹脂層と第2のネガ型感光性樹脂層との光感度比(第1/第2)が1より大きい画像形成方法であって、
    前記工程Aと、前記工程Bとの間に、バリヤ層を設ける工程Eを有することを特徴とする画像形成方法。
  2. 前記工程A、工程Eおよび工程Bが、透明支持体上に少なくとも第1のネガ型感光性樹脂層、バリヤ層、および第2のネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、請求項1に記載の画像形成方法。
  3. 前記工程Aが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用い、前記工程Eが、透明支持体上に少なくともバリヤ層を有している転写シートを用い、前記工程Bが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、請求項1に記載の画像形成方法。
  4. 前記工程Aおよび前記工程Eが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層およびバリヤ層を有している転写シートを用い、前記工程Bが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用いる、請求項1に記載の画像形成方法。
  5. 前記工程Aが、透明支持体上に少なくともネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用い、前記工程Eおよび前記工程Bが、透明支持体上に少なくともバリヤ層およびネガ型感光性樹脂層を有している転写シートを用る、請求項1に記載の画像形成方法。
  6. 前記請求項2ないし請求項5のいずれかに記載の転写シートが、熱可塑性樹脂層および中間層を有する転写シートである画像形成方法。
  7. 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の画像形成方法を少なくとも2回以上繰り返す画像形成方法。
  8. 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の画像形成方法において、バリヤ層がポリビニルアルコールを含んでなる画像形成方法。
  9. 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の画像形成方法により形成された液晶表示装置用カラーフィルター。
  10. 請求項1ないし請求項8のいずれかの画像形成方法により形成された液晶表示装置用スペーサーおよび配向制御用突起。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005221803A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性着色組成物、それを用いて形成されるカラーフィルタ、およびカラーフィルタの製造方法
WO2006093040A1 (ja) * 2005-03-04 2006-09-08 Fujifilm Corporation パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2007025398A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujifilm Corp パターン形成方法
JP2007094362A (ja) * 2005-08-29 2007-04-12 Hitachi Chem Co Ltd スペーサー用感光性エレメント
JP2011215270A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 樹脂パターンの製造方法
JP2014139668A (ja) * 2012-12-20 2014-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp 着色硬化物体及びその製造方法と、カラーフィルター、及び液晶表示装置
JP2019515343A (ja) * 2016-04-26 2019-06-06 深▲せん▼市華星光電技術有限公司Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1489460A3 (en) * 2003-06-20 2008-07-09 FUJIFILM Corporation Light-sensitive sheet comprising support, first light-sensitive layer and second light-sensitive layer
US7391489B2 (en) * 2004-03-09 2008-06-24 Sharp Kabushiki Kaishia Liquid crystal display device
JP2006030650A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Koninkl Philips Electronics Nv カラーフィルタ及びその製造方法並びにカラーフィルタを用いた液晶表示装置
JP5079995B2 (ja) * 2005-08-26 2012-11-21 株式会社ジャパンディスプレイイースト 透過型液晶表示装置およびその製造方法
JP5138916B2 (ja) * 2006-09-28 2013-02-06 東京応化工業株式会社 パターン形成方法
DE102006050363B4 (de) 2006-10-25 2018-08-16 Advanced Mask Technology Center Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer Fotomaske, Verfahren zur Strukturierung einer Schicht oder eines Schichtstapels und Resiststapel auf einem Maskensubstrat
TWI435185B (zh) * 2010-01-29 2014-04-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 一種曝光圖案形成之方法
TWI400529B (zh) * 2010-04-19 2013-07-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd 彩色濾光基板的製造方法
CN102253524B (zh) * 2010-05-18 2013-03-27 深圳华映显示科技有限公司 一种彩色滤光基板的制造方法
WO2014030581A1 (ja) * 2012-08-21 2014-02-27 シャープ株式会社 カラーフィルタ基板、及び、その製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59175725A (ja) * 1983-03-26 1984-10-04 Toshiba Corp 多層レジスト膜
US4835086A (en) * 1988-02-12 1989-05-30 Hoechst Celanese Corporation Polysulfone barrier layer for bi-level photoresists
JPH04301846A (ja) 1991-03-29 1992-10-26 Toshiba Corp 露光用マスク基板の製造方法
DE4243912A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben
JPH07135170A (ja) 1994-04-20 1995-05-23 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法
US6162589A (en) * 1998-03-02 2000-12-19 Hewlett-Packard Company Direct imaging polymer fluid jet orifice
JP4132528B2 (ja) * 2000-01-14 2008-08-13 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005221803A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性着色組成物、それを用いて形成されるカラーフィルタ、およびカラーフィルタの製造方法
WO2006093040A1 (ja) * 2005-03-04 2006-09-08 Fujifilm Corporation パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2006243546A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2007025398A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Fujifilm Corp パターン形成方法
JP2007094362A (ja) * 2005-08-29 2007-04-12 Hitachi Chem Co Ltd スペーサー用感光性エレメント
JP2011215270A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 樹脂パターンの製造方法
JP2014139668A (ja) * 2012-12-20 2014-07-31 Mitsubishi Chemicals Corp 着色硬化物体及びその製造方法と、カラーフィルター、及び液晶表示装置
JP2019515343A (ja) * 2016-04-26 2019-06-06 深▲せん▼市華星光電技術有限公司Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. カラーフィルタ基板の製作方法及び液晶パネルの製作方法

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