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JP2004006362A - Color el display - Google Patents

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Publication number
JP2004006362A
JP2004006362A JP2003146616A JP2003146616A JP2004006362A JP 2004006362 A JP2004006362 A JP 2004006362A JP 2003146616 A JP2003146616 A JP 2003146616A JP 2003146616 A JP2003146616 A JP 2003146616A JP 2004006362 A JP2004006362 A JP 2004006362A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transport layer
anode
light emitting
emitting layer
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003146616A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Yokoyama
横山 良一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2003146616A priority Critical patent/JP2004006362A/en
Publication of JP2004006362A publication Critical patent/JP2004006362A/en
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color EL display requiring less number of production steps. <P>SOLUTION: An anode 7 and a light emitting layer 15 are formed for each pixel, and a hole transport layer 14, an electronic transport layer 16, and a cathode 17 are formed extendedly over a plurality of pixels. Accordingly, steps for etching back the hole transport layer 14 and the electronic transport layer 16 are eliminated. Also, since a partition wall 68 which was installed before is not formed, a step for forming the partition wall can also be eliminated. Since the anode 7 and the cathode 17 are separated from each other by the hole transport layer 14 and the electronic transport layer 16, they are not short-circuited even if the partition wall 68 is absent. In addition, since the light emitting layer 15 is formed in shape larger than and same as the anode 7, a leak current and the concentration of field can be prevented from occurring at the end part of the anode. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜トランジスタ(TFT)を用いてエレクトロルミネッセンス(EL)素子を駆動するアクティブ型のカラーEL表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
有機EL素子は、自ら発光するため液晶表示装置で必要なバックライトが要らず薄型化に最適であると共に、視野角にも制限が無いため、次世代の表示装置としてその実用化が大きく期待されている。
【0003】
このような有機EL素子を用いた表示装置において、カラー表示を実現する方法として、現在3つの方法が提案されている。
【0004】
第1の方法は、RGBの3原色毎に発光層に異なる発光材料を使用することにより、RGB光を各々直接発光する各画素を独立に形成する方法、第2の方法は、発光層による白色発光を実現しそれをカラーフィルタで3原色に分ける方法、そして第3の方法は、青色発光層からの光を色変換層(CCM)で3原色に変換する方法である。これら3つの方法のうち、第2及び第3の方法ではカラーフィルタや色変換層を用いるため光の損失があるが、第1の方法では必要な光を直接発光させるため効率が最も良い。
【0005】
ところで、有機EL表示装置の駆動方式としては、単純マトリクスを使用するパッシブ型とTFTを使用するアクティブ型の2種類があり、アクティブ型においては一般に図11に示す回路構成が用いられている。
【0006】
図11は、1画素当たりの回路構成を示しており、有機EL素子20と、ドレインに表示信号Dataが印加され、ゲートに印加される選択信号Scanによりオンオフするスイッチング用の第1のTFT21と、TFT21のオン時に供給される表示信号Dataにより充電され、TFT21のオフ時には充電電圧Vhを保持するコンデンサ22と、ドレインが駆動電源電圧COMに接続され、ソースが有機EL素子20の陽極に接続されると共に、ゲートにコンデンサ22からの保持電圧Vhが供給されることにより有機EL素子20を駆動する第2のTFT23とによって構成されている。
【0007】
選択信号Scanは、選択された1水平走査期間(1H)中Hレベルになり、これによってTFT21がオンすると、表示信号Dataがコンデンサ22の一端に供給され、表示信号Dataに応じた電圧Vhがコンデンサ22に充電される。この電圧Vhは、ScanがLレベルになってTFT21がオフになっても、1垂直走査(1V)期間コンデンサ22に保持され続ける。そして、この電圧VhがTFT23のゲートに供給されているので、電圧Vhに応じた輝度でEL素子が発光するように制御される。
【0008】
そこで、このようなアクティブ型のEL表示装置において、上述した第1の方法によりカラー表示を実現する従来構成について、以下説明する。
【0009】
図8は従来構成を示す平面図、図9は図8におけるC−C線に沿った断面図であり、RGBの3画素を示している。
【0010】
図において、50は表示信号DATAを供給するドレインライン、51は電源電圧COMを供給する電源ライン、52は選択信号Scanを供給するゲートラインであり、53が図11の第1のTFT21、54が図11のコンデンサ22、55が図11の第2のTFT23、56が画素電極を構成するEL素子20の陽極を表している。陽極56は平坦化絶縁膜60上に各画素毎に分離して形成されており、その上にホール輸送層61,発光層62,電子輸送層63,陰極64が順に積層されることにより、EL素子が形成されている。そして、陽極56から注入されたホールと陰極64から注入された電子とが発光層62の内部で再結合することにより光が放たれ、この光が図9の矢印で示すように透明な陽極側から外部へ放射される。また、ホール輸送層61,発光層62,電子輸送層63は陽極56とほぼ同様の形状に画素毎に分離して形成され、発光層62はRGB毎に異なる発光材料を使用することにより、RGBの各光が各EL素子から発光される。陰極64は、各画素に共通の電圧を印加するので、各画素にわたって延在している。発光層62同士の間は隔壁68によって仕切られている。尚、65は透明なガラス基板、66はゲート絶縁膜、67は層間絶縁膜である。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のカラーEL表示装置は、画素毎にホール輸送層61、発光層62、電子輸送層63を形成、隔壁68を形成し、更に全面に陰極64を形成するというように、製造工程数が多く、より簡易な構造のカラーEL表示装置が求められている。
【0012】
そこで、本発明は、製造工程が容易なカラーEL表示装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、薄膜トランジスタ上に平坦化絶縁膜が形成され、ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、平坦化絶縁膜上に、複数の画素にわたって形成されているカラーEL表示装置である。
【0014】
また、陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、薄膜トランジスタを介して陽極に接続される電源ラインが形成され、ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、複数の画素にわたって形成され、陽極と電源ラインとは重畳しないカラーEL表示装置である。
【0015】
また、陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、薄膜トランジスタ上に平坦化絶縁膜が形成され、薄膜トランジスタを介して陽極に接続される電源ラインが形成され、ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、平坦化絶縁膜上に、複数の画素にわたって形成され、電源ラインと陰極との間に平坦化絶縁膜及びホール輸送層及び電子輸送層が形成されているカラーEL表示装置である。
【0016】
また、発光層にRGB毎に異なる発光材料を使用することにより、EL素子が各々RGB光を直接発光する。
【0017】
そして、陽極と発光層はほぼ同一の平面形状を有する。
【0018】
または、発光層は陽極より大きく、陽極の端部を覆って形成されている。
【0019】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明によるカラーEL表示装置の一実施形態を示す平面図であり、RGBの3画素分を示している。また、図2は図1におけるA−A線に沿った断面図である。本実施形態は、図10(a)のストライプ配列の例である。
【0020】
各画素の駆動回路は、図11に示す回路と全く同一であって、図8,9の従来例と異なる点はパターン配置及び断面である。
【0021】
図1,2において、1は表示信号DATAを供給するアルミニウムより成るドレインライン、2は電源電圧COMを供給するアルミニウムより成る電源ライン、3は選択信号Sca nを供給するクロムより成るゲートラインであり、4が図11の第1のTFT21、5が図11のコンデンサ22、6が図11の第2のTFT23、そして、7がITOより成り画素電極を構成するEL素子20の陽極を表している。尚、図1において、点線はクロム、一点鎖線はITO、ドレインライン1及び電源ライン2以外の実線はポリシリコン薄膜を表している。
【0022】
まず、第2のTFT6は以下のようにして形成する。即ち、透明なガラス基板8上にクロムのゲート電極9を形成し、その上にゲート絶縁膜10を成膜する。次にゲート絶縁膜10の上にポリシリコン薄膜11を成膜し、これを層間絶縁膜12で覆った上にドレインライン1及び電源ライン2を形成する。更に、平坦化絶縁膜13を積層し、その上にITOにて成る陽極7を形成する。そして、ポリシリコン薄膜11のドレイン領域を電源ライン2にコンタクトし、ソース領域を陽極7にコンタクトする。
【0023】
第1のTFT4の構造も第2のTFT6と同一であり、また第1のTFT4に接続されるコンデンサ5はゲート絶縁膜を挟んだクロム電極とポリシリコン薄膜から構成されている。
【0024】
更に、陽極7は平坦化絶縁膜13上に各画素毎に分離して形成されており、その上にホール輸送層14が全面に形成され、発光層15が各画素毎に分離して形成され、電子輸送層16,陰極17が全面に形成されて、この順に積層されることにより、EL素子が形成されている。そして、陽極7から注入されたホールと陰極17から注入された電子とが発光層15の内部で再結合することにより光が放たれ、この光が矢印で示すように透明な陽極側から外部へ放射される。また、発光層15は陽極7とほぼ同様の形状に画素毎に分離して形成され、更にRGB毎に異なる発光材料を使用することにより、RGBの各光が各EL素子から発光される。
【0025】
ここで、ホール輸送層14,電子輸送層16,陰極17の材料として、例えば、MTDATA,Alq3,MgIn合金が用いられ、また、R,G,Bの各々の発光層15としては、DCM系をドーパントとして含むAlq、キナクリドンをドーパントとして含むAlq、ジスチリルアリーレン系をドーパントとして含むDPVBi系を使用している。
【0026】
本実施形態では、図に示したように、画素電極である陽極7の水平方向に第2のTFT6とコンデンサの一部を配置したので、図8,9の従来例に比べ画素電極の形状を縦長にすることができる。上述したように、画素電極7と発光層15とはほぼ同一の形状に形成されているので、画素の発光領域は画素電極とほぼ同一の形状となる。よって、この場合、発光領域の水平方向の寸法及び垂直方向の寸法を各々EH及びEVとし、画素ピッチの水平方向の寸法及び垂直方向の寸法を各々PH及びPVとすると、EH/EV<PH/PVとなる。
【0027】
そこで、RGBの各発光層をメタルマスクをずらしながら成膜する際、メタルマスクをずらす水平方向の余裕度が従来より増すこととなり、同様の精度で成膜しても色が混じってしまう可能性は少なくなる。尚、第2のT FT6の代わりに第1のTFT4を、陽極7の水平方向に配置してもよい。
【0028】
また、陽極7と発光層15とをほぼ同一の形状に形成したことによって、発光層15の形成面積は必要最小限に抑えることができる。つまり、発光層15は、陽極7と陰極17との間で電流が流れることで発光するので、仮に陽極上以外の領域に発光層15を形成しても、電流が流れない、即ち発光しないので、表示にはほとんど寄与しない。逆に、異なる色同士の発光層15の距離が縮むことによって異なる色の発光層15同士が混じり合い、色純度が低下する恐れがある。発光層15を必要最小限の大きさにしておけば、表示に必要な発光層15の面積は確保しつつ、異なる色の発光層15同士が混じり合ってしまう可能性が少なくなる。
【0029】
次に、本実施形態の断面について、図2を用いて説明する。本実施形態において、ホール輸送層14、電子輸送層16は、各画素にわたって延在して形成されている。発光層15は、ここに流れる電流によって発光する。発光層15は各画素毎に異なる色を発光するように形成される必要があるので、各画素毎に独立して設けられているが、ホール輸送層14と電子輸送層16は各画素毎に独立していても、複数画素にわたって延在していても、その動作上、大きな差違はない。
【0030】
ホール輸送層14と電子輸送層16とを複数画素にわたって延在させると、製造工程を簡略化することができる。なぜならば、画素毎にホール輸送層14と電子輸送層16を形成するためには、その領域に開口されたメタルマスクを用いて選択的に形成するか、全面に形成した後、エッチバックするかいずれかの方法を採用する必要がある。これに対し、本実施形態では、画素毎に形成された陽極7上を含む全面にホール輸送層14を形成し、上述した方法で発光層15を形成し、更にその上に電子輸送層16、陰極17を全面に形成すればよい。従って、ホール輸送層14、電子輸送層16をエッチバックする工程などが削減できる。
【0031】
また、本実施形態では、図9に示した隔壁68は不要である。隔壁68を設けていた理由は、陽極7と陰極17との間の絶縁と、異なる色の隣接画素の発光層15が混ざり合って色純度が低下することを防止することであった。これに対し、本実施形態は、上述のように、発光層15を陽極7とほぼ同一形状としたので、発光層15同士が混ざり合う可能性は低い。また、ホール輸送層14と電子輸送層16とが陽極7と陰極17との間に形成されている。ホール輸送層14と電子輸送層16は高抵抗であるので、これらが陽極7と陰極17の間に配置されていることによって、ここのショートを防ぐことができる。従って隔壁68は不要となり、隔壁68を形成する工程も削減できる。
【0032】
次に、第2の実施形態について図3,4を参照して説明する。
【0033】
図3は、他の実施形態を示す平面図であり、図4は図3におけるB−B線に沿った断面図である。図1,2と同一構成には同一番号を付しており、この実施形態が上述の実施形態と異なる点はパターン配置のみである。
【0034】
即ち、図3,4において、4が図11の第1のTFT21、5が図11のコンデンサ22、6が図11の第2のTFT23、そして、7がITOより成り画素電極を構成するEL素子20の陽極を表している。特に、図4においては、コンデンサ5がゲート絶縁膜10を挟んでクロム電極500とポリシリコン薄膜501から構成されていることが明確に示されている。
【0035】
この実施形態では、図に示したように、画素電極である陽極7の水平方向にコンデンサ5を配置したので、図8,9の従来例に比べ画素電極の形状を縦長にすることができる。よって、この場合も上述した実施形態同様、発光領域の水平方向の寸法及び垂直方向の寸法を各々EH及びEVとし、画素ピッチの水平方向の寸法及び垂直方向の寸法を各々PH及びPVとすると、EH/EV<PH/PVとなる。
【0036】
そこで、RGBの各発光層をメタルマスクをずらしながら成膜する際、メタルマスクをずらす水平方向の余裕度が従来より増し、同様の精度で成膜しても色が混じってしまう可能性が少なくなる。
【0037】
本実施形態においても、ホール輸送層14と電子輸送層16とは全面に形成され、陽極7と発光層15とが各画素毎に形成されている。
【0038】
次に、第3の実施形態について図5,6を参照して説明する。
【0039】
図3は、他の実施形態を示す平面図であり、図6は図5におけるA−A線及びB−B線に沿った断面図である。図1,2と同一構成には同一番号を付しており、この実施形態が上述の実施形態と異なる点はパターン配置のみである。
【0040】
即ち、図3,4において、4が図11の第1のTFT21、5が図11のコンデンサ22、6が図11の第2のTFT23、そして、7がITOより成り画素電極を構成するEL素子20の陽極を表している。
【0041】
この実施形態では、図に示したように、画素電極である陽極7の垂直方向にコンデンサ5を配置したので、デルタ配列のように、垂直方向に異なる色の画素が隣接する配列の場合、垂直方向の余裕度が増し、同様の精度で成膜しても色が混じってしまう可能性が少なくなる。
【0042】
本実施形態においても、ホール輸送層14と電子輸送層16とは全面に形成され、陽極7と発光層15とが各画素毎に形成されている。
【0043】
なお、上述した実施形態においては、陽極7と発光層15とは、完全に同じ形で描いたが、図7に示すように発光層15を陽極7よりも一回り大きく形成した方が良い。そうすることによって、発光層15を形成する際のメタルマスクの位置合わせずれが生じても、発光層15を陽極7上に確実に配置することができる。また、ホール輸送層14、電子輸送層16は高抵抗であるが、完全な絶縁膜ではないので、発光層15を介さずに陽極7と陰極17が面すると、陽極7端部からリーク電流が生じるたり、不正な電界集中が生じる恐れがある。発光層15を一回り大きく形成し、発光層15によって陽極7の端部を覆うことによって、リーク電流や電界集中を防止することができる。上述したように、発光層15は必要最小限の面積にとどめておく方がよいので、陽極7と発光層15との大きさの差は、メタルマスクの合わせ精度や、陽極7の膜厚等に応じて最適化して決定する必要がある。
【0044】
【発明の効果】
本発明によれば、ホール輸送層、電子輸送層、陰極が、複数の画素にわたって形成されているので、製造工程を少なくすることができる。また、ホール輸送層と電子輸送層は陽極と陰極の間に存在するので、陽極と陰極のショートを防ぐことができる。
【0045】
そして、陽極と発光層はほぼ同一の平面形状を有するので、発光層を形成する領域を必要最小限とすることができ、隣接画素同士の発光層が交ざり合うことが防止できるので、より色純度を高くすることができる。
【0046】
更に、発光層は、陽極よりも大きく形成され、発光層が陽極の端部を覆っているので、発光層形成に誤差が生じても、発光層を確実に陽極上に配置することができ、また、陽極端部に生じるリーク電流や、不正な電界集中を防止することができる。
【0047】
それらの効果によって、従来形成していた隔壁が不要となり、更に少ない製造工程とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態を示す平面図である。
【図2】本発明の第1の実施形態を示す断面図である。
【図3】本発明の第2の実施形態を示す平面図である。
【図4】本発明の第2の実施形態を示す断面図である。
【図5】本発明の第3の実施形態を示す平面図である。
【図6】本発明の第3の実施形態を示す断面図である。
【図7】本発明の各実施形態の別の断面図である。
【図8】従来のカラーEL表示装置の構造を示す平面図である。
【図9】従来のカラーEL表示装置の構造を示す断面図である。
【図10】カラーEL表示装置におけるカラー配列を説明するための図である。
【図11】アクティブ型カラーEL表示装置の回路構成を示す図である。
【符号の説明】
1,50 ドレインライン
2,51 電源ライン
3,52 ゲートライン
4,21,53 第1のTFT
5,22,54 コンデンサ
6,23,55 第2のTFT
7,56 陽極
20 EL素子
14 ホール輸送層
15 発光層
16 電子輸送層
17 陰極
68 隔壁
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an active color EL display device that drives an electroluminescence (EL) element using a thin film transistor (TFT).
[0002]
[Prior art]
Since the organic EL element emits light by itself and does not require a backlight necessary for a liquid crystal display device, it is most suitable for thinning, and there is no restriction on the viewing angle, so that its practical use as a next-generation display device is greatly expected. ing.
[0003]
Currently, three methods have been proposed as methods for realizing color display in a display device using such an organic EL element.
[0004]
The first method is to use a different light-emitting material for the light-emitting layer for each of the three primary colors of RGB to independently form each pixel that directly emits RGB light. A method of realizing light emission and dividing it into three primary colors by a color filter, and a third method is a method of converting light from a blue light emitting layer into three primary colors by a color conversion layer (CCM). Of these three methods, the second and third methods use a color filter or a color conversion layer, so there is a loss of light, but the first method has the highest efficiency because the required light is directly emitted.
[0005]
By the way, there are two types of driving methods of the organic EL display device, a passive type using a simple matrix and an active type using a TFT, and the active type generally has a circuit configuration shown in FIG.
[0006]
FIG. 11 shows a circuit configuration per pixel. The organic EL element 20, a first switching TFT 21 which is turned on / off by a selection signal Scan applied to a drain while a display signal Data is applied to a drain, When the TFT 21 is turned on, the capacitor 22 is charged by the display signal Data supplied. When the TFT 21 is turned off, the capacitor 22 holding the charging voltage Vh, the drain is connected to the drive power supply voltage COM, and the source is connected to the anode of the organic EL element 20. The second TFT 23 drives the organic EL element 20 by supplying a holding voltage Vh from the capacitor 22 to the gate.
[0007]
The selection signal Scan is at the H level during one selected horizontal scanning period (1H), and when the TFT 21 is turned on, the display signal Data is supplied to one end of the capacitor 22, and the voltage Vh corresponding to the display signal Data is supplied to the capacitor 22. 22 is charged. This voltage Vh continues to be held in the capacitor 22 for one vertical scan (1 V) even if the scan goes low and the TFT 21 is turned off. Then, since this voltage Vh is supplied to the gate of the TFT 23, the EL element is controlled to emit light at a luminance corresponding to the voltage Vh.
[0008]
Therefore, a conventional configuration for realizing color display by the above-described first method in such an active EL display device will be described below.
[0009]
FIG. 8 is a plan view showing a conventional configuration, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line CC in FIG. 8, showing three pixels of RGB.
[0010]
In the figure, 50 is a drain line for supplying the display signal DATA, 51 is a power supply line for supplying the power supply voltage COM, 52 is a gate line for supplying the selection signal Scan, and 53 is the first TFT 21 and 54 in FIG. The capacitors 22 and 55 in FIG. 11 represent the anodes of the EL element 20 constituting the pixel electrodes, and the second TFTs 23 and 56 in FIG. The anode 56 is formed separately for each pixel on the planarization insulating film 60, and a hole transport layer 61, a light emitting layer 62, an electron transport layer 63, and a cathode 64 are sequentially stacked thereon to obtain EL. An element is formed. Then, the holes injected from the anode 56 and the electrons injected from the cathode 64 are recombined inside the light emitting layer 62 to emit light, and the light is emitted as shown by the arrow in FIG. Radiated from outside. The hole transport layer 61, the light emitting layer 62, and the electron transport layer 63 are formed separately for each pixel in substantially the same shape as the anode 56, and the light emitting layer 62 is formed by using a different light emitting material for each of RGB. Is emitted from each EL element. Since the cathode 64 applies a common voltage to each pixel, the cathode 64 extends over each pixel. The light emitting layers 62 are separated from each other by partition walls 68. Here, 65 is a transparent glass substrate, 66 is a gate insulating film, and 67 is an interlayer insulating film.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional color EL display device, the number of manufacturing steps is such that a hole transport layer 61, a light emitting layer 62, and an electron transport layer 63 are formed for each pixel, a partition wall 68 is formed, and a cathode 64 is formed on the entire surface. Therefore, there is a demand for a color EL display device having a simpler structure.
[0012]
Therefore, an object of the present invention is to provide a color EL display device whose manufacturing process is easy.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made to solve the above problems, and has an active element including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element. In a color EL display device of the type, an anode, a light emitting layer, and a thin film transistor are formed for each pixel, a flattening insulating film is formed on the thin film transistor, and a hole transport layer, an electron transport layer, and a cathode are formed on the flattening insulating film. This is a color EL display device formed over a plurality of pixels.
[0014]
Further, in an active type color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element, the anode, the light emitting layer, and the thin film transistor Is formed for each pixel, a power supply line connected to an anode via a thin film transistor is formed, a hole transport layer, an electron transport layer, and a cathode are formed over a plurality of pixels, and the color EL does not overlap the anode and the power supply line. A display device.
[0015]
Further, in an active type color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element, the anode, the light emitting layer, and the thin film transistor Is formed for each pixel, a planarizing insulating film is formed on the thin film transistor, a power supply line connected to the anode through the thin film transistor is formed, and the hole transport layer, the electron transport layer, and the cathode are formed on the planarizing insulating film. Is a color EL display device formed over a plurality of pixels, wherein a planarizing insulating film, a hole transport layer, and an electron transport layer are formed between a power supply line and a cathode.
[0016]
Further, by using a different light emitting material for each of the RGB in the light emitting layer, each of the EL elements directly emits the RGB light.
[0017]
The anode and the light emitting layer have substantially the same planar shape.
[0018]
Alternatively, the light emitting layer is larger than the anode and is formed so as to cover an end of the anode.
[0019]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a plan view showing one embodiment of a color EL display device according to the present invention, and shows three RGB pixels. FIG. 2 is a sectional view taken along line AA in FIG. This embodiment is an example of the stripe arrangement shown in FIG.
[0020]
The driving circuit of each pixel is exactly the same as the circuit shown in FIG. 11, and the points different from the conventional example of FIGS. 8 and 9 are the pattern arrangement and the cross section.
[0021]
In FIGS. 1 and 2, 1 is a drain line made of aluminum for supplying a display signal DATA, 2 is a power line made of aluminum for supplying a power supply voltage COM, and 3 is a gate line made of chromium for supplying a selection signal Scan. Reference numeral 4 denotes the first TFT 21 in FIG. 11, 5 denotes the capacitor 22 in FIG. 11, 6 denotes the second TFT 23 in FIG. 11, and 7 denotes the anode of the EL element 20 made of ITO and constituting a pixel electrode. . In FIG. 1, a dotted line indicates chromium, a dashed line indicates ITO, and a solid line other than the drain line 1 and the power supply line 2 indicates a polysilicon thin film.
[0022]
First, the second TFT 6 is formed as follows. That is, a chromium gate electrode 9 is formed on a transparent glass substrate 8, and a gate insulating film 10 is formed thereon. Next, a polysilicon thin film 11 is formed on the gate insulating film 10, and a drain line 1 and a power supply line 2 are formed on the polysilicon thin film 11 covered with an interlayer insulating film 12. Further, a flattening insulating film 13 is laminated, and an anode 7 made of ITO is formed thereon. Then, the drain region of the polysilicon thin film 11 contacts the power supply line 2 and the source region contacts the anode 7.
[0023]
The structure of the first TFT 4 is the same as that of the second TFT 6, and the capacitor 5 connected to the first TFT 4 is composed of a chrome electrode with a gate insulating film interposed therebetween and a polysilicon thin film.
[0024]
Further, the anode 7 is formed separately on the flattening insulating film 13 for each pixel, a hole transport layer 14 is formed on the entire surface, and the light emitting layer 15 is formed separately on each pixel. The electron transport layer 16 and the cathode 17 are formed on the entire surface, and are laminated in this order to form an EL element. Then, the holes injected from the anode 7 and the electrons injected from the cathode 17 recombine inside the light emitting layer 15 to emit light, and this light is emitted from the transparent anode side to the outside as shown by the arrow. Radiated. Further, the light emitting layer 15 is formed in the same shape as the anode 7 separately for each pixel, and further, by using a different light emitting material for each RGB, each light of RGB is emitted from each EL element.
[0025]
Here, for example, MTDATA, Alq3, MgIn alloy is used as a material of the hole transport layer 14, the electron transport layer 16, and the cathode 17, and a DCM system is used as each of the R, G, and B light emitting layers 15. Alq containing a dopant, Alq containing quinacridone as a dopant, and DPVBi containing a distyrylarylene-based dopant are used.
[0026]
In this embodiment, as shown in the figure, since the second TFT 6 and a part of the capacitor are arranged in the horizontal direction of the anode 7 which is a pixel electrode, the shape of the pixel electrode is smaller than that of the conventional example shown in FIGS. It can be vertical. As described above, since the pixel electrode 7 and the light emitting layer 15 are formed in substantially the same shape, the light emitting region of the pixel has substantially the same shape as the pixel electrode. Therefore, in this case, if the horizontal dimension and the vertical dimension of the light emitting region are EH and EV, respectively, and the horizontal dimension and the vertical dimension of the pixel pitch are PH and PV, respectively, EH / EV <PH / PV.
[0027]
Therefore, when forming each light emitting layer of RGB while shifting the metal mask, the horizontal margin for shifting the metal mask is increased as compared with the conventional case, and even if the films are formed with the same accuracy, the colors may be mixed. Is less. Note that the first TFT 4 may be arranged in the horizontal direction of the anode 7 instead of the second TFT 6.
[0028]
In addition, since the anode 7 and the light emitting layer 15 are formed in substantially the same shape, the formation area of the light emitting layer 15 can be minimized. That is, since the light emitting layer 15 emits light when a current flows between the anode 7 and the cathode 17, even if the light emitting layer 15 is formed in a region other than on the anode, no current flows, that is, no light is emitted. , Hardly contributes to the display. Conversely, when the distance between the light emitting layers 15 of different colors is reduced, the light emitting layers 15 of different colors are mixed with each other, and the color purity may be reduced. If the size of the light emitting layer 15 is minimized, the area of the light emitting layer 15 necessary for display is secured, and the possibility that the light emitting layers 15 of different colors are mixed with each other is reduced.
[0029]
Next, a cross section of the present embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are formed to extend over each pixel. The light emitting layer 15 emits light by the current flowing therethrough. Since the light-emitting layer 15 needs to be formed so as to emit a different color for each pixel, it is provided independently for each pixel, but the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are provided for each pixel. Whether they are independent or extend over a plurality of pixels, there is no significant difference in operation.
[0030]
When the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 extend over a plurality of pixels, the manufacturing process can be simplified. This is because, in order to form the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 for each pixel, the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are selectively formed using a metal mask opened in the region, or are formed over the entire surface and then etched back. Either method must be adopted. On the other hand, in the present embodiment, the hole transport layer 14 is formed on the entire surface including the anode 7 formed for each pixel, the light emitting layer 15 is formed by the above-described method, and the electron transport layer 16 is further formed thereon. The cathode 17 may be formed on the entire surface. Therefore, the step of etching back the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 can be reduced.
[0031]
Further, in the present embodiment, the partition wall 68 shown in FIG. 9 is unnecessary. The reason why the partition wall 68 is provided is to prevent the insulation between the anode 7 and the cathode 17 from being mixed with the light emitting layers 15 of the adjacent pixels of different colors from lowering the color purity. On the other hand, in the present embodiment, as described above, since the light emitting layer 15 has substantially the same shape as the anode 7, the possibility that the light emitting layers 15 are mixed with each other is low. Further, the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are formed between the anode 7 and the cathode 17. Since the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 have high resistance, short-circuiting can be prevented by disposing them between the anode 7 and the cathode 17. Therefore, the partition wall 68 becomes unnecessary, and the step of forming the partition wall 68 can be reduced.
[0032]
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS.
[0033]
FIG. 3 is a plan view showing another embodiment, and FIG. 4 is a sectional view taken along line BB in FIG. The same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and this embodiment differs from the above-described embodiment only in the pattern arrangement.
[0034]
That is, in FIGS. 3 and 4, reference numeral 4 denotes a first TFT 21 in FIG. 11, 5 denotes a capacitor 22 in FIG. 11, 6 denotes a second TFT 23 in FIG. 20 anodes are represented. In particular, FIG. 4 clearly shows that the capacitor 5 is composed of the chrome electrode 500 and the polysilicon thin film 501 with the gate insulating film 10 interposed therebetween.
[0035]
In this embodiment, as shown in the figure, since the capacitor 5 is arranged in the horizontal direction of the anode 7 serving as the pixel electrode, the shape of the pixel electrode can be made vertically long as compared with the conventional example of FIGS. Therefore, also in this case, similarly to the above-described embodiment, when the horizontal dimension and the vertical dimension of the light emitting region are EH and EV, respectively, and the horizontal dimension and the vertical dimension of the pixel pitch are PH and PV, respectively. EH / EV <PH / PV.
[0036]
Therefore, when forming each light-emitting layer of RGB while shifting the metal mask, the horizontal margin for shifting the metal mask is increased as compared with the related art, and the possibility that colors are mixed even if the film is formed with the same accuracy is reduced. Become.
[0037]
Also in the present embodiment, the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are formed on the entire surface, and the anode 7 and the light emitting layer 15 are formed for each pixel.
[0038]
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS.
[0039]
FIG. 3 is a plan view showing another embodiment, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along lines AA and BB in FIG. The same components as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and this embodiment differs from the above-described embodiment only in the pattern arrangement.
[0040]
That is, in FIGS. 3 and 4, reference numeral 4 denotes a first TFT 21 in FIG. 11, 5 denotes a capacitor 22 in FIG. 11, 6 denotes a second TFT 23 in FIG. 20 anodes are represented.
[0041]
In this embodiment, as shown in the figure, the capacitor 5 is arranged in the vertical direction of the anode 7 which is a pixel electrode. Therefore, in the case of an arrangement in which pixels of different colors are adjacent in the vertical direction such as a delta arrangement, The margin in the direction is increased, and the possibility that colors are mixed even when the film is formed with the same accuracy is reduced.
[0042]
Also in the present embodiment, the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 are formed on the entire surface, and the anode 7 and the light emitting layer 15 are formed for each pixel.
[0043]
In the above-described embodiment, the anode 7 and the light emitting layer 15 are completely drawn in the same shape. However, it is preferable that the light emitting layer 15 is formed to be slightly larger than the anode 7 as shown in FIG. By doing so, even if the misalignment of the metal mask when forming the light emitting layer 15 occurs, the light emitting layer 15 can be reliably arranged on the anode 7. In addition, although the hole transport layer 14 and the electron transport layer 16 have high resistance, they are not complete insulating films. Therefore, when the anode 7 and the cathode 17 face each other without passing through the light emitting layer 15, a leak current flows from an end of the anode 7. Or incorrect electric field concentration may occur. By forming the light emitting layer 15 one size larger and covering the end of the anode 7 with the light emitting layer 15, it is possible to prevent leakage current and electric field concentration. As described above, since it is better to keep the light emitting layer 15 in a minimum necessary area, the difference in size between the anode 7 and the light emitting layer 15 depends on the accuracy of metal mask alignment, the thickness of the anode 7 and the like. It is necessary to optimize and determine according to.
[0044]
【The invention's effect】
According to the present invention, since the hole transport layer, the electron transport layer, and the cathode are formed over a plurality of pixels, the number of manufacturing steps can be reduced. Further, since the hole transport layer and the electron transport layer exist between the anode and the cathode, short-circuit between the anode and the cathode can be prevented.
[0045]
Since the anode and the light-emitting layer have substantially the same planar shape, the area for forming the light-emitting layer can be minimized, and the light-emitting layers of adjacent pixels can be prevented from intersecting with each other. Purity can be increased.
[0046]
Furthermore, since the light emitting layer is formed larger than the anode and the light emitting layer covers the end of the anode, even if an error occurs in the formation of the light emitting layer, the light emitting layer can be reliably disposed on the anode, Further, it is possible to prevent a leak current generated at the anode end and an illegal electric field concentration.
[0047]
Due to these effects, the conventionally formed partition is not required, and the number of manufacturing steps can be further reduced.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a plan view showing a third embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a sectional view showing a third embodiment of the present invention.
FIG. 7 is another cross-sectional view of each embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a plan view showing the structure of a conventional color EL display device.
FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a structure of a conventional color EL display device.
FIG. 10 is a diagram illustrating a color arrangement in a color EL display device.
FIG. 11 is a diagram showing a circuit configuration of an active color EL display device.
[Explanation of symbols]
1,50 drain line 2,51 power supply line 3,52 gate line 4,21,53 first TFT
5,22,54 Capacitors 6,23,55 Second TFT
7,56 anode 20 EL element 14 hole transport layer 15 light emitting layer 16 electron transport layer 17 cathode 68 partition wall

Claims (7)

陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、該EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、
前記陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、
前記薄膜トランジスタ上に平坦化絶縁膜が形成され、
前記ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、前記平坦化絶縁膜上に、複数の画素にわたって形成されていることを特徴とするカラーEL表示装置。
An active color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element,
The anode, the light emitting layer, and the thin film transistor are formed for each pixel,
A flattening insulating film is formed on the thin film transistor,
The color EL display device, wherein the hole transport layer, the electron transport layer, and the cathode are formed over a plurality of pixels on the planarization insulating film.
陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、該EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、
前記陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、
前記薄膜トランジスタを介して前記陽極に接続される電源ラインが形成され、
前記ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、複数の画素にわたって形成され、
前記陽極と前記電源ラインとは重畳しないことを特徴とするカラーEL表示装置。
An active color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element,
The anode, the light emitting layer, and the thin film transistor are formed for each pixel,
A power supply line connected to the anode through the thin film transistor is formed,
The hole transport layer, the electron transport layer, the cathode is formed over a plurality of pixels,
The color EL display device, wherein the anode and the power supply line do not overlap.
陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、該EL素子を駆動する薄膜トランジスタとを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、
前記陽極、発光層、薄膜トランジスタは画素毎に形成され、
前記薄膜トランジスタ上に平坦化絶縁膜が形成され、
前記薄膜トランジスタを介して前記陽極に接続される電源ラインが形成され、
前記ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、前記平坦化絶縁膜上に、複数の画素にわたって形成され、
前記電源ラインと前記陰極との間に前記平坦化絶縁膜及び前記ホール輸送層及び前記電子輸送層が形成されていることを特徴とするカラーEL表示装置。
An active color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, and a thin film transistor for driving the EL element,
The anode, the light emitting layer, and the thin film transistor are formed for each pixel,
A flattening insulating film is formed on the thin film transistor,
A power supply line connected to the anode through the thin film transistor is formed,
The hole transport layer, the electron transport layer, and the cathode are formed over the plurality of pixels on the planarization insulating film,
The color EL display device, wherein the planarizing insulating film, the hole transport layer, and the electron transport layer are formed between the power supply line and the cathode.
陽極、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、陰極が積層されてなるEL素子と、該EL素子を駆動する薄膜トランジスタと、コンデンサを備えたアクティブ型のカラーEL表示装置において、
前記発光層は蒸着によって形成され、
前記陽極、発光層、薄膜トランジスタ、コンデンサは画素毎に形成され、
前記発光層は、前記薄膜トランジスタ及びコンデンサと平面的に重畳せず、
前記ホール輸送層、電子輸送層、陰極は、複数の画素にわたって形成されていることを特徴とするカラーEL表示装置。
In an active color EL display device including an EL element in which an anode, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a cathode are stacked, a thin film transistor for driving the EL element, and a capacitor,
The light emitting layer is formed by vapor deposition,
The anode, the light emitting layer, the thin film transistor, the capacitor is formed for each pixel,
The light emitting layer does not overlap with the thin film transistor and the capacitor in a plane,
The color EL display device, wherein the hole transport layer, the electron transport layer, and the cathode are formed over a plurality of pixels.
前記発光層にRGB毎に異なる発光材料を使用することにより、前記EL素子が各々RGB光を直接発光することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のカラーEL表示装置。5. The color EL display device according to claim 1, wherein each of said EL elements directly emits RGB light by using a different light emitting material for each of RGB for said light emitting layer. 前記陽極と発光層はほぼ同じ平面形状を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のカラーEL表示装置。5. The color EL display device according to claim 1, wherein the anode and the light emitting layer have substantially the same planar shape. 前記発光層は、前記陽極よりも大きく形成されており、前記発光層が前記陽極の端部を覆っていることを特徴とする請求項6に記載のカラーEL表示装置。The color EL display device according to claim 6, wherein the light emitting layer is formed larger than the anode, and the light emitting layer covers an end of the anode.
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