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JP2004098673A - Optical recording medium and optical recording method - Google Patents

Optical recording medium and optical recording method Download PDF

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JP2004098673A
JP2004098673A JP2003291973A JP2003291973A JP2004098673A JP 2004098673 A JP2004098673 A JP 2004098673A JP 2003291973 A JP2003291973 A JP 2003291973A JP 2003291973 A JP2003291973 A JP 2003291973A JP 2004098673 A JP2004098673 A JP 2004098673A
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黒瀬 裕
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Abstract

【課題】 より短波長の青色レーザーによって記録・再生が可能な有機色素系光学記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上にレーザーによる情報の記録または再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体において、該記録層が下記一般式(1)で示される化合物を含有する光学記録媒体。

Figure 2004098673

(式中、R1ないしR6は各々独立に水素原子、置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。kおよびnは各々独立に0〜2の整数を表し、かつ0≦k+n≦4である。lおよびmは各々独立に0または1を表し、かつ1≦l+m≦2である。環Aおよび環Bは各々独立に、任意の置換基を有していてもよい芳香族環を表す。但し、該任意の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。)
【選択図】 なし



PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic dye-based optical recording medium capable of recording / reproducing with a shorter wavelength blue laser.
SOLUTION: An optical recording medium provided with a recording layer capable of recording or reproducing information by a laser on a substrate, wherein the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2004098673

(Wherein, R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted. K and n each independently represent an integer of 0 to 2, and 0 ≦ k + n ≤ 4. l and m each independently represent 0 or 1, and 1 ≤ l + m ≤ 2. Ring A and ring B each independently represent an aromatic group optionally having any substituent Represents a ring, provided that the arbitrary substituents may be bonded to each other to form a ring.)
[Selection diagram] None



Description

 本発明は、有機色素を記録層に用いた光学記録媒体およびその光学記録方法に係わるものであり、より詳しくは青色レーザーにより記録再生が可能な光学記録媒体およびその光学記録方法に関するものである。 The present invention relates to an optical recording medium using an organic dye for a recording layer and an optical recording method thereof, and more particularly, to an optical recording medium recordable and reproducible by a blue laser and an optical recording method thereof.

 現在、CD−R/RW、DVD±R/RW、MO等の各種光学記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータのような情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及している。これらの中で、CD−RやDVD−Rに代表される有機色素系光学記録媒体は、低コストで且つ製造も容易であるという点で、優位性を有するものと考えられている。 At present, various optical recording media such as a CD-R / RW, a DVD ± R / RW, and an MO can store a large amount of information and are easily accessed at random. It is widely recognized and widely used as a device. Among these, organic dye-based optical recording media represented by CD-R and DVD-R are considered to be superior in that they are inexpensive and easy to manufacture.

 また、取り扱う情報量の増大により、媒体の記録密度を高めることが望まれている。近年、開発が著しい青色レーザー等の発振波長の短いレーザー(いわゆる短波長レーザー)を用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体が提唱されつつある(例えば、特許文献1参照)。
特開2000−043423号公報
Further, it is desired to increase the recording density of a medium due to an increase in the amount of information to be handled. In recent years, an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction using a laser having a short oscillation wavelength (a so-called short-wavelength laser) such as a blue laser, which has been remarkably developed, has been proposed (for example, see Patent Document 1).
JP 2000-044232 A

 一般に、CD−RやDVD−Rなどとして市販されている光学記録媒体の場合、例えば、CD−Rは波長780nm程度のレーザー光による記録・再生に適するように、またDVD−Rは波長600〜700nm程度のレーザー光による記録・再生に適するように設計されている。このような、比較的長波長のレーザー光を用いる光学的記録・再生用に適合する記録媒体では、より短波長のレーザーを用いて記録・再生すると、反射率が低く記録・再生ができないという問題を有している。なお、青色レーザーとは通常、波長350nm〜530nm程度のレーザーを言う。 Generally, in the case of an optical recording medium commercially available as a CD-R, a DVD-R, or the like, for example, the CD-R is suitable for recording / reproducing by a laser beam having a wavelength of about 780 nm, and the DVD-R is a wavelength of 600 to 780 nm. It is designed to be suitable for recording / reproducing with a laser beam of about 700 nm. Such a recording medium suitable for optical recording / reproducing using a laser beam having a relatively long wavelength has a problem that when recording / reproducing using a laser having a shorter wavelength, the reflectivity is low and recording / reproducing cannot be performed. have. The blue laser usually refers to a laser having a wavelength of about 350 nm to 530 nm.

 本発明は、より短波長の青色レーザーによって記録・再生が可能な有機色素系光学記録媒体を提供することを目的とする。 The object of the present invention is to provide an organic dye-based optical recording medium that can be recorded / reproduced by a blue laser having a shorter wavelength.

 本発明者らは青色半導体レーザーに高い感受性を有する有機色素について種々検討した結果、前記一般式(1)で示される化合物を、青色半導体レーザーに対応する光学記録媒体の記録層に使用し得ることを知得し本発明に到達した。 The present inventors have conducted various studies on organic dyes having high sensitivity to a blue semiconductor laser and found that the compound represented by the general formula (1) can be used in a recording layer of an optical recording medium corresponding to a blue semiconductor laser. And arrived at the present invention.

 すなわち本発明の要旨は、基板上にレーザーによる情報の記録または再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体において、該記録層が下記一般式(1)で示される化合物を含有すること、および波長が350nm〜530nmのレーザー光を用い、該光学記録媒体に対して情報の記録を行うことよりなる光学記録方法に存する。 That is, the gist of the present invention is that in an optical recording medium provided with a recording layer capable of recording or reproducing information by laser on a substrate, the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1); And an optical recording method comprising recording information on the optical recording medium using a laser beam having a wavelength of 350 nm to 530 nm.

Figure 2004098673
Figure 2004098673

(式中、R1ないしR6は各々独立に水素原子、置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。kおよびnは各々独立に0〜2の整数を表し、かつ0≦k+n≦4である。lおよびmは各々独立に0または1を表し、かつ1≦l+m≦2である。環Aおよび環Bは各々独立に、任意の置換基を有していてもよい芳香族環を表す。但し、該任意の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。) (Wherein, R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted. K and n each independently represent an integer of 0 to 2, and 0 ≦ k + n ≤ 4. l and m each independently represent 0 or 1, and 1 ≤ l + m ≤ 2. Ring A and ring B each independently represent an aromatic group optionally having any substituent Represents a ring, provided that the arbitrary substituents may be bonded to each other to form a ring.)

 本発明化合物の含有溶液は、短波長のレーザー光による記録再生に適した吸収を有する塗布膜を形成することが出来、且つ成膜性にも優れているので、本発明化合物を用いた記録層を有する記録媒体は、短波長レーザーに対応する記録再生用光学記録媒体として有用である。 Since the solution containing the compound of the present invention can form a coating film having an absorption suitable for recording and reproduction by short-wavelength laser light and has excellent film formability, the recording layer using the compound of the present invention is excellent. Is useful as an optical recording medium for recording and reproduction corresponding to a short wavelength laser.

 以下、本発明につき詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

 本発明で使用される化合物は、350〜530nmの青色光領域に適度の吸収を有し、青色レーザーでの記録に適する色素化合物が好ましい。本発明ではかかる色素として、前記一般式(1)によって示される色素化合物が使用される。以下に前記一般式(1)で表される化合物について説明する。 化合物 The compound used in the present invention is preferably a dye compound which has an appropriate absorption in the blue light region of 350 to 530 nm and is suitable for recording with a blue laser. In the present invention, a dye compound represented by the general formula (1) is used as such a dye. Hereinafter, the compound represented by Formula (1) will be described.

 本発明に係る化合物を示す前記一般式(1)において、R1ないしR6は各々独立に水素原子、置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。R1ないしR6は好ましくは、各々独立に水素原子または置換されてもよい直鎖のアルキル基であり、特に好ましくは各々独立に水素原子または無置換の炭素数1〜3の直鎖アルキル鎖である。具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基である。 In the general formula (1) representing the compound according to the present invention, R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted. R 1 to R 6 are preferably each independently a hydrogen atom or a linear alkyl group which may be substituted, and particularly preferably each independently a hydrogen atom or an unsubstituted linear alkyl chain having 1 to 3 carbon atoms. It is. Specifically, it is a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.

 また、k、l、m、nはそれぞれ不飽和結合の数を表すものである。kおよびnはC=C二重結合の数を表し、lおよびmはC=N二重結合の数を表す。kおよびnは各々独立に0〜2の整数を表し、かつ0≦k+n≦4である。lおよびmは各々独立に0または1を表し、かつ1≦l+m≦2である。 K Also, k, l, m, and n each represent the number of unsaturated bonds. k and n represent the number of C = C double bonds, and l and m represent the number of C = N double bonds. k and n each independently represent an integer of 0 to 2, and 0 ≦ k + n ≦ 4. l and m each independently represent 0 or 1, and 1 ≦ l + m ≦ 2.

 ここで前記一般式(1)は、環A、環Bを便宜上ベンゼン環で表すと、下記一般式で表される(以下の説明でも同様である。)。 Here, the above-mentioned general formula (1) is represented by the following general formula when ring A and ring B are represented by a benzene ring for convenience (the same applies to the following description).

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 前記一般式において、lおよびmを変化させずにkおよびnを変化させた場合の構造の具体例を以下に示す(但し、R1’ないしR6’としては、各々独立に、前記R1ないしR6におけると同様な基を挙げることができる。)。 In the general formula, specific examples of the structure in which k and n are changed without changing l and m are shown below (provided that R 1 ′ to R 6 ′ are each independently the above R 1). To R 6 ).

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 k、nの値は環A、Bの構造、環の有する置換基の種類などにより決定されるが、通常好ましくは、kおよびnは各々独立に0または1を表し、かつ0≦k+n≦2である。   The values of k and n are determined by the structures of rings A and B, the types of substituents on the rings, and the like. Usually, preferably, k and n each independently represent 0 or 1, and 0 ≦ k + n ≦ 2 It is.

 一方、前記一般式において、kおよびnを変化させずにlおよびmを変化させた場合の構造の具体例を以下に示す。 On the other hand, specific examples of the structure in the case where l and m are changed without changing k and n in the above general formula are shown below.

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 l、mの値は環A、Bの構造、環の有する置換基の種類などにより決定されるが、通常好ましくは、lおよびmは各々独立に0または1を表し、かつ1≦l+m≦2である。より好ましくはl+m=1である。 The values of l and m are determined by the structures of the rings A and B, the types of substituents on the rings, and the like. Usually, preferably, l and m each independently represent 0 or 1, and 1 ≦ l + m ≦ 2 It is. More preferably, l + m = 1.

 前記一般式(1)において、環Aおよび環Bは各々独立に、任意の置換基を有していてもよい芳香族環を表す。但し、該任意の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。芳香族環としては、例えばベンゼン環、ナフチル環などの芳香族炭化水素環、フラン環、ピリジン環、キノリン環等の芳香族複素環などが挙げられるがこれらに限られない。 In the general formula (1), ring A and ring B each independently represent an aromatic ring which may have an arbitrary substituent. However, the arbitrary substituents may be bonded to each other to form a ring. Examples of the aromatic ring include, but are not limited to, aromatic hydrocarbon rings such as a benzene ring and a naphthyl ring, and aromatic heterocycles such as a furan ring, a pyridine ring, and a quinoline ring.

 本発明においては、芳香族環として、5〜6員環の単環またはその2〜3縮合環を用いるのが好ましい。5〜6員環の単環またはその2〜3縮合環の構造は特に制限されないが、例えば下記に示す芳香族環構造などが挙げられる。 に お い て In the present invention, it is preferable to use a 5- to 6-membered single ring or a 2- to 3-condensed ring thereof as the aromatic ring. The structure of the monocyclic 5- to 6-membered ring or the condensed ring thereof is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic ring structure shown below.

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 これらの中で特に好ましいものとしては、5〜6員環の単環または2縮合環である、炭化水素環または複素環構造が挙げられる。 特 に Among them, particularly preferred are a hydrocarbon ring and a heterocyclic structure, which is a 5- or 6-membered monocyclic or 2-condensed ring.

 本発明において、環A、環Bで表される芳香族環は置換基を有していてもよい。個々で用いられる置換基としては任意のものでよく、更に置換されていてもよいが、あまり大きすぎると基本骨格に予期せぬ影響を与えるので通常、置換基の分子量が1000以下である。下限は特になく1以上である。 In the present invention, the aromatic ring represented by ring A or ring B may have a substituent. The substituents used individually may be arbitrary and may be further substituted. However, if too large, the basic skeleton is unexpectedly affected, so that the molecular weight of the substituent is usually 1,000 or less. There is no particular lower limit, and it is 1 or more.

 該任意の置換基の例としては、次のようなものが例示される。メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へプチル基
等の置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の置換されてもよい炭素数3〜18の環状アルキル基;ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の置換されてもよい炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の置換されてもよい炭素数3〜18の環状アルケニル基;2-チエニル基、2-ピリジル基、4-ピペリジル基、モルホリノ基等の置換されてもよい複素環基;フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の置換されてもよい炭素数6〜18のアリール基;ベン
ジル基、フェネチル基等の置換されてもよい炭素数7〜20のアラルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルコキシ基;
プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基、ペンテニルオキシ基等の置換されてもよい炭素数3〜18の直鎖または分岐のアルケニルオキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基等の置換されて
もよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルチオ基が挙げられる。
Examples of the optional substituent include the following. Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-heptyl group, etc. Alkyl group; cycloalkyl group having 3 to 18 carbon atoms which may be substituted such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and adamantyl group; carbon atom which may be substituted such as vinyl group, propenyl group and hexenyl group 2 A linear or branched alkenyl group having from 18 to 18; a cycloalkenyl group having 3 to 18 carbon atoms which may be substituted such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; a 2-thienyl group, a 2-pyridyl group, a 4-piperidyl group; A heterocyclic group which may be substituted such as a morpholino group; an aryl group having 6 to 18 carbon atoms which may be substituted such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group; a benzyl group; An aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted, such as a netyl group; substitution of a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, etc. A linear or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms which may be used;
A linear or branched alkenyloxy group having 3 to 18 carbon atoms which may be substituted, such as a propenyloxy group, a butenyloxy group, and a pentenyloxy group; a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an n-butylthio group, and a sec- Examples thereof include a linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted, such as a butylthio group and a tert-butylthio group.

 他の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ニトロ基;ニトロソ基;シアノ基;イソシアノ基;シアナト基;イソシアナト基;チオシアナト基;イソチオシアナト基;メルカプト基;ヒドロキシ基;ヒドロキシアミノ基;ホルミル基;スルホン酸基;カルボキシル基;−COR7で表されるアシル基、−NR89で表される
アミノ基、−NHCOR10で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR11で表されるカーバメート基、−COOR12で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR13で表されるアシルオキシ基、−CONR1415で表されるカルバモイル基、−SO216で表されるス
ルホニル基、−SO2NR1718で表されるスルファモイル基、−SO319で表されるスルホン酸エステル基、−NHSO220で表されるスルホンアミド基等が挙げられる。
Other specific examples include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom; a nitro group; a nitroso group; a cyano group; an isocyano group; a cyanato group; an isocyanato group; a thiocyanato group; an isothiocyanato group; a mercapto group; hydroxyamino group; a formyl group; a sulfonic group; a carboxyl group; an acyl group represented by -COR 7, amino group represented by -NR 8 R 9, an acylamino group represented by -NHCOR 10, in -NHCOOR 11 represented by carbamate group, carboxylate group represented by -COOR 12, acyloxy group represented by -OCOR 13, a carbamoyl group represented by -CONR 14 R 15, sulphonyl represented by -SO 2 R 16 group, a sulfamoyl group represented by -SO 2 NR 17 R 18, sulfonic acid ester group represented by -SO 3 R 19, -N Sulfonamido groups represented by SO 2 R 20 can be mentioned.

 これらの置換基の位置は特に限定されず、置換基の数も任意の範囲で可能である。複数の置換基を有する場合、同種でも異なってもよい。 位置 The positions of these substituents are not particularly limited, and the number of substituents can be in an arbitrary range. When it has a plurality of substituents, they may be the same or different.

 ここで、R7、R10、R11、R12、R13、R16、R19、R20は置換されてもよい炭化水
素基、または置換されてもよい複素環基を表し、R8、R9、R14、R15、R17、R18は水素原子、置換されてもよい炭化水素基、置換されてもよい複素環基のいずれかを表す。
Here, it represents R 7, R 10, R 11 , R 12, R 13, R 16, R 19, R 20 is optionally substituted hydrocarbon group or an optionally substituted heterocyclic group,, R 8 , R 9 , R 14 , R 15 , R 17 , and R 18 represent any of a hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group, and an optionally substituted heterocyclic group.

 このR7〜R20で表される炭化水素基とは、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキ
ル基、直鎖または分岐のアルケニル基、環状アルケニル基、アラルキル基、アリール基を表す。中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へプチル基等の炭素数1〜18の直鎖または分岐
のアルキル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数3〜18の環状アルキル基、ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜18の直鎖または分岐のアルケニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数3〜18の環状アルケニル基、ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜20のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数6〜18アリール基が挙げられる。
The hydrocarbon group represented by the R 7 to R 20, represent linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, straight or branched alkenyl group, a cyclic alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group. Among them, preferably, a straight-chain or branched alkyl having 1 to 18 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-heptyl group. Group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms such as adamantyl group, vinyl group, propenyl group, linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms such as hexenyl group, C3-C18 cyclic alkenyl groups such as cyclopentenyl group and cyclohexenyl group, C7-C20 aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group and mesityl group; And 6-18 aryl groups.

 これらの基のアリール基部分は前述の環A、環Bが有し得ると同様の置換基で更に置換されていてもよい。また、これらの基のアルキル鎖部分は後述する置換基で更に置換されていてもよい。 ア リ ー ル The aryl group portion of these groups may be further substituted with the same substituents as the rings A and B may have. Further, the alkyl chain portion of these groups may be further substituted with a substituent described below.

 またR7〜R20で表される複素環基は、4−ピペリジル基、モルホリノ基、2-モルホリ
ニル基、ピペラジル基等の飽和複素環でも、2-フリル基、2-ピリジル基、2-チアゾリル基、2-キノリル基等の芳香族複素環でもよい。これらは複数のヘテロ原子を含んでいても、さらに置換基を有していてもよく、また結合位置も問わない。複素環として好ましい構造のものは、5〜6員環の飽和複素環、5〜6員環の単環およびその2縮合環の芳香族複素環である。
The heterocyclic group represented by R 7 to R 20 is 4-piperidyl group, morpholino group, 2-morpholinyl group, be saturated heterocyclic ring such as piperazyl group, 2-furyl group, 2-pyridyl, 2-thiazolyl Or an aromatic heterocyclic ring such as a 2-quinolyl group. These may include a plurality of hetero atoms, may further have a substituent, and may be in any position. Preferable examples of the heterocyclic ring include a 5- to 6-membered saturated heterocyclic ring, a 5- to 6-membered monocyclic ring and an aromatic heterocyclic ring having two condensed rings thereof.

 具体的には、−COR7で表される置換されていてもよいアシル基、−NR89で表さ
れる置換されていてもよいアミノ基、−NHCOR10で表される置換されていてもよいアシルアミノ基、−NHCOOR11で表される置換されていてもよいカーバメート基、−C
OOR12で表される置換されていてもよいカルボン酸エステル基、−OCOR13で表される置換されていてもよいアシルオキシ基、−CONR1415で表される置換されていてもよいカルバモイル基、−SO216で表される置換されていてもよいスルホニル基、−S
2NR1718で表される置換されていてもよいスルファモイル基、−SO319で表される置換されていてもよいスルホン酸エステル基、−NHSO220で表される置換されて
いてもよいスルホンアミド基等が挙げられる。
Specifically, an optionally substituted acyl group represented by -COR 7 , an optionally substituted amino group represented by -NR 8 R 9 , and a substituted amino group represented by -NHCOR 10 also acylamino group, an optionally substituted carbamate group represented by -NHCOOR 11, -C
Optionally substituted carboxylic acid ester group represented by OOR 12, optionally substituted acyloxy group, -CONR 14 optionally substituted carbamoyl group represented by R 15 is represented by -OCOR 13 , optionally substituted sulfonyl group represented by -SO 2 R 16, -S
An optionally substituted sulfamoyl group represented by O 2 NR 17 R 18 , an optionally substituted sulfonic acid ester group represented by —SO 3 R 19 , and a substituted sulfonic acid ester group represented by —NHSO 2 R 20 And the like.

  アシル基(−COR7Acyl group (-COR 7 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  アミノ基(−NR89Amino groups (-NR 8 R 9)

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  アシルアミノ基(−NHCOR10Acylamino group (—NHCOR 10 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  カーバメート基(−NHCOOR11Carbamate group (-NHCOOR 11 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  カルボン酸エステル基(−COOR12Carboxylic acid ester group (-COOR 12 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  アシルオキシ基(−OCOR13Acyloxy group (—OCOR 13 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  カルバモイル基(−CONR1415Carbamoyl group (-CONR 14 R 15 )

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  スルホニル基(−SO216A sulfonyl group (-SO 2 R 16)

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  スルファモイル基(−SO2NR1718Sulfamoyl (-SO 2 NR 17 R 18)

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  スルホン酸エステル基(−SO319Sulfonic acid ester group (-SO 3 R 19)

Figure 2004098673
Figure 2004098673

  スルホンアミド基(−NHSO220Sulfonamide group (-NHSO 2 R 20)

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 前記環A、環Bが有し得る直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、直鎖または分岐のアルケニル基、環状アルケニル基、直鎖または分岐のアルコキシ基、直さまたは分岐のアルキルチオ基、およびR7〜R20が示すアルキル基のアルキル鎖部分は、更に置換
基を有し得るが、その置換基としては、例えば以下のようなものが挙げられる。
A linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, a linear or branched alkenyl group, a cyclic alkenyl group, a linear or branched alkoxy group, a straight or branched alkylthio group which the ring A and the ring B may have, and alkyl chain moiety of the alkyl group represented by R 7 to R 20, which may have a substituent, examples of the substituent groups include those such as the following.

 メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシ基;メトキシメトキシ基、
エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシブトキシ基等の炭素数2〜12のアルコキシアルコキシ基;メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数3〜15のアルコキシアルコキシアルコキシ基;フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜12のアリール基(これらは任意の置換基でさらに置換されていてもよい。);フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数6〜12のアリールオキシ基;アリルオキシ基、ビニルオキシ基等の炭素数2〜12のアルケニルオキシ基等が例示される。
A methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a tert-butoxy group;
An alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms such as an ethoxymethoxy group, a propoxymethoxy group, an ethoxyethoxy group, a propoxyethoxy group, a methoxybutoxy group; a methoxymethoxymethoxy group, a methoxymethoxyethoxy group, a methoxyethoxymethoxy group, a methoxymethoxyethoxy group , An alkoxyalkoxyalkoxy group having 3 to 15 carbon atoms such as an ethoxyethoxymethoxy group; an aryl group having 6 to 12 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, and an xylyl group (these may be further substituted with any substituents) Good)); aryloxy groups having 6 to 12 carbon atoms such as phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, and naphthyloxy group; and alkenyloxy groups having 2 to 12 carbon atoms such as allyloxy group and vinyloxy group.

 更に、他の置換基として、2-チエニル基、2-ピリジル基、4-ピペリジル基、モルホリノ基等の複素環基;シアノ基;ニトロ基;ヒドロキシル基;アミノ基;N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等の炭素数1〜10のアルキルアミノ基;メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、n-プロピルスルホニルアミノ基等の炭素数1〜6のアルキルスルホニルアミノ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n-ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルキルカルボニルオキシ基;メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n-プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、n-ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Further, as other substituents, heterocyclic groups such as 2-thienyl group, 2-pyridyl group, 4-piperidyl group, morpholino group, etc .; cyano group; nitro group; hydroxyl group; amino group; N, N-dimethylamino group An alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms such as N, N, N-diethylamino group; an alkylsulfonylamino group having 1 to 6 carbon atoms such as methylsulfonylamino group, ethylsulfonylamino group, n-propylsulfonylamino group; fluorine atom , A chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom; a carboxyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as n-butoxycarbonyl; methyl Carbonyloxy, ethylcarbonyloxy, n-propylcarbonyloxy, isopro Alkylcarbonyloxy groups having 2 to 7 carbon atoms, such as carbonylcarbonyl group and n-butylcarbonyloxy group; methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, isopropoxycarbonyloxy group, n-butoxy Examples thereof include an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as a carbonyloxy group.

 前記環A、環Bが有し得る置換基は、互いに結合して、各々独立に縮合環を形成しても
よい。これらが形成する縮合環は、飽和または不飽和の炭化水素環でも、ヘテロ原子を一つまたは複数個含む飽和または不飽和の複素環でもよい。環状構造の員数は特に制限されないが、炭化水素環、複素環ともに好ましいのは5〜7員環で、特に好ましいのは5〜6員環である。
The substituents that the ring A and the ring B may have may be bonded to each other to independently form a condensed ring. The condensed ring formed by these may be a saturated or unsaturated hydrocarbon ring or a saturated or unsaturated heterocyclic ring containing one or more hetero atoms. The number of members of the cyclic structure is not particularly limited, but a hydrocarbon ring and a heterocyclic ring are preferably a 5- to 7-membered ring, and particularly preferably a 5- to 6-membered ring.

 また、前記R8とR9、R14とR15、R17とR18は互いに結合して、各々独立に環構造を形成してもよい。これらが形成する環は、飽和または不飽和の炭化水素環でも、ヘテロ原子を一つまたは複数個含む飽和または不飽和の複素環でもよい。環状構造の員数は特に制限されないが、炭化水素環、複素環ともに好ましいのは5〜7員環で、特に好ましいのは5〜6員環である。 R 8 and R 9 , R 14 and R 15 , and R 17 and R 18 may be mutually bonded to form a ring structure independently. The ring formed by these may be a saturated or unsaturated hydrocarbon ring or a saturated or unsaturated heterocyclic ring containing one or more hetero atoms. The number of members of the cyclic structure is not particularly limited, but a hydrocarbon ring and a heterocyclic ring are preferably a 5- to 7-membered ring, and particularly preferably a 5- to 6-membered ring.

 これらが示す好ましい環構造を下記に示す。 好 ま し い The preferred ring structures of these are shown below.

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 これらの縮合位置は、隣接する置換基同士の間であればその位置や数は制限されない。また、これらの縮合環は環Aまたは環Bが有し得ると同様の置換基を有していてもよい。 縮合 The position and number of these condensation positions are not limited as long as they are between adjacent substituents. Further, these condensed rings may have the same substituent as ring A or ring B may have.

 次に、本発明において前記一般式(1)で表される化合物の、より好ましい構造について説明する。 Next, a more preferable structure of the compound represented by the general formula (1) in the present invention will be described.

 環A、環Bで表される芳香族環の有し得る前記置換基の中でも、より好ましい置換基としては、以下のようなものが挙げられる。メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へプチル基等の置換されてもよい
炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の置換され
てもよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基等の置換
されてもよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルチオ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;ニトロ基;シアノ基;メルカプト基;ヒドロキシ基;−NR89で表されるアミノ基、−NHCOR10で表されるアシルアミノ基、−NHCOOR11で表されるカーバメート基、−COOR12で表されるカルボン酸エステル基、−OCOR13で表されるアシルオキシ基、−CONR1415で表されるカルバモイル基;隣接する置換基が互いに結合して縮合し形成する飽和複素環基である。
Among the substituents which the aromatic ring represented by ring A and ring B may have, more preferred substituents include the following. Methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-heptyl group, etc. Alkyl group; a methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, etc. Alkoxy group; linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted, such as methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, n-butylthio group, sec-butylthio group, tert-butylthio group; fluorine a nitro group; a cyano group; a mercapto group; hydroxy group; atom, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom -NR 8 amino group represented by R 9, an acylamino group represented by -NHCOR 10, -NHCOO Carbamate group represented by 11, a carboxylic acid ester group represented by -COOR 12, acyloxy group represented by -OCOR 13, -CONR 14 carbamoyl group represented by R 15; adjacent substituents are bonded to each other And a saturated heterocyclic group formed by condensation.

 中でも特に好ましい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へプチル基等の置換されてもよい炭
素数1〜18の直鎖または分岐のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基等の置換されて
もよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基等の置換さ
れてもよい炭素数1〜18の直鎖または分岐のアルキルチオ基;メルカプト基;ヒドロキシ基;−NR89で表されるアミノ基、−NHCOR10で表されるアシルアミノ基;隣接する置換基が互いに結合して縮合し形成する飽和複素環基である。
Among them, particularly preferred substituents are those having 1 carbon atom which may be substituted such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group and n-heptyl group. To 18 linear or branched alkyl groups; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, etc. A straight-chain or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an n-butylthio group, a sec-butylthio group, a tert-butylthio group; chain or branched alkylthio group; a mercapto group; hydroxy group; -NR 8 amino group represented by R 9, an acylamino group represented by -NHCOR 10; saturated adjacent substituent is fused form combined with each other A heterocyclic group.

 置換基の結合位置としては、環Aまたは環Bがベンゼン環の場合、不飽和結合に対してパラ位に置換基を有することが好ましい。また環Aまたは環Bが5員環の複素環である場合、不飽和結合および置換基が2位および/または5位で結合していることが好ましい。 結合 As the bonding position of the substituent, when ring A or ring B is a benzene ring, it is preferable that the substituent has a substituent para to the unsaturated bond. When ring A or ring B is a 5-membered heterocyclic ring, the unsaturated bond and the substituent are preferably bonded at the 2-position and / or 5-position.

 本発明において、前記一般式(1)で表される化合物の好ましい例としては下記のものが挙げられる。 に お い て In the present invention, preferred examples of the compound represented by the general formula (1) include the following.

Figure 2004098673
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Figure 2004098673
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Figure 2004098673
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Figure 2004098673
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 前記一般式(1)で表される化合物は、薄膜状に形成した際の最大吸収波長(λmax)
が320〜400nm程度の比較的短波長領域に存在するものが多いこと、吸収スペクトルのピーク形状が比較的シャープであること、モル吸光係数εが2万以上であること等、青色半導体レーザーを用いて記録・再生を行なう上で優れた光学的特性を備えている。ここで、最大吸収波長とは、通常、波長300nm以上における最大吸収波長を言う。また、溶媒に溶解あるいは分散した状態での薄膜形成性に優れているため、光学記録媒体を製造する際に要求される化学的特性をも満たしている。従って、一般式(1)で表される化合物は、青色半導体レーザーを用いて記録・再生を行なう光学記録媒体の記録層に、極めて好適に使用することができる。
The compound represented by the general formula (1) has a maximum absorption wavelength (λmax) when formed into a thin film.
Using a blue semiconductor laser, such as that many exist in a relatively short wavelength region of about 320 to 400 nm, the peak shape of the absorption spectrum is relatively sharp, and the molar extinction coefficient ε is 20,000 or more. It has excellent optical characteristics for recording and reproducing. Here, the maximum absorption wavelength usually means the maximum absorption wavelength at a wavelength of 300 nm or more. Further, since it has excellent thin film forming properties in a state of being dissolved or dispersed in a solvent, it satisfies the chemical properties required when producing an optical recording medium. Therefore, the compound represented by the general formula (1) can be extremely suitably used for a recording layer of an optical recording medium that performs recording and reproduction using a blue semiconductor laser.

 なお、本発明の光学記録媒体の記録層に用いうる化合物は、溶液状態での光学密度OD
が80以上あること、一般的に用いられる無害且つ安価な溶媒への溶解性が高いこと、薄膜を形成する際に良質な膜が形成されること(成膜時に結晶化しないこと)、溶液状態および薄膜状態での保存安定性が良いこと、などを満たすことがより好ましい。
The compound which can be used in the recording layer of the optical recording medium of the present invention has an optical density OD in a solution state.
80 or more, high solubility in commonly used harmless and inexpensive solvents, good quality film formation when forming thin films (no crystallization during film formation), solution state Further, it is more preferable to satisfy that storage stability in a thin film state is good.

 また、本発明の光学記録媒体の記録層は、記録および再生光波長における消衰係数(複素屈折率の虚部)kが0〜0.20であることが好ましい。さらに、屈折率(複素屈折率の実部)nが1.8以上であることが好ましい。 記録 In the recording layer of the optical recording medium of the present invention, the extinction coefficient (imaginary part of the complex refractive index) k at the wavelength of the recording and reproducing light is preferably 0 to 0.20. Further, the refractive index (real part of the complex refractive index) n is preferably 1.8 or more.

 次に、本発明の光学記録媒体について説明する。 Next, the optical recording medium of the present invention will be described.

 本発明の光学記録媒体は少なくとも、基板と、前記一般式(1)で表される化合物を含有する記録層とから構成される。更に、必要に応じて下引き層、反射層、保護層等を設けても良い。 光学 The optical recording medium of the present invention comprises at least a substrate and a recording layer containing the compound represented by the general formula (1). Further, an undercoat layer, a reflective layer, a protective layer, and the like may be provided as necessary.

 好ましい層構成の一例としては、基板の上に記録層を設け、その上に更に反射層、保護層をこの順に積層した、高反射率の媒体が挙げられる。この場合、基板側からレーザー光を照射して、情報の記録・再生を行なうことになる(媒体構造例1)。 例 An example of a preferable layer configuration is a medium having a high reflectance in which a recording layer is provided on a substrate, and a reflective layer and a protective layer are further laminated on the recording layer in this order. In this case, recording and reproduction of information are performed by irradiating a laser beam from the substrate side (medium structure example 1).

 以下、こうした構造の媒体(媒体構造例1)を例にとりながら、本発明の光学記録媒体について説明する。なお、以下の記載では、説明の便宜上、積層時に保護層が存在する側及び基板が存在する側を、それぞれ上方及び下方とみなし、これらの方向に対応する各層の各面を、それぞれ各層の上面及び下面と呼ぶことにする。 Hereinafter, the optical recording medium of the present invention will be described using a medium having such a structure (medium structure example 1) as an example. In the following description, for convenience of explanation, the side on which the protective layer is present at the time of lamination and the side on which the substrate is present are regarded as upper and lower, respectively, and each surface of each layer corresponding to these directions is referred to as the upper surface of each layer. And the lower surface.

 本発明の光学記録媒体における基板は、基本的に記録光及び再生光の波長において透明な材質であれば、様々な材質を用いたものを使用することができる。具体的には、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂(特に非晶質ポリオレフィン)、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂製の基板、ガラス製の基板、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けた基板等が挙げられる。 The substrate in the optical recording medium of the present invention may be made of various materials as long as it is basically transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. Specifically, for example, a resin substrate such as an acrylic resin, a methacrylic resin, a polycarbonate resin, a polyolefin resin (particularly, an amorphous polyolefin), a polyester resin, a polystyrene resin, an epoxy resin, a glass substrate, a glass substrate A substrate on which a resin layer made of a radiation curable resin such as a photocurable resin is provided.

 中でも、高生産性、コスト、耐吸湿性などの観点からは、射出成型ポリカーボネート製の基板が好ましい。また、耐薬品性、耐吸湿性などの観点からは、非晶質ポリオレフィン製の基板が好ましい。更に、高速応答などの観点からは、ガラス製の基板が好ましい。 Above all, a substrate made of injection-molded polycarbonate is preferable from the viewpoints of high productivity, cost, and moisture absorption resistance. Further, from the viewpoints of chemical resistance and moisture absorption resistance, a substrate made of amorphous polyolefin is preferable. Further, from the viewpoint of high-speed response, a glass substrate is preferable.

 樹脂製の基板を使用した場合、又は、記録層と接する側(上側)に樹脂層を設けた基板を使用した場合には、その樹脂製基板又は樹脂層の上面に、記録再生光の案内溝やピットを形成してもよい。案内溝の形状としては、光学記録媒体の中心を基準とした同心円状の形状やスパイラル状の形状が挙げられる。スパイラル状の案内溝を形成する場合には、溝ピッチが0.2〜1.2μm程度であることが好ましい。 When a resin substrate is used, or when a substrate provided with a resin layer on the side (upper side) in contact with the recording layer is used, a guide groove for recording / reproducing light is formed on the upper surface of the resin substrate or the resin layer. And pits may be formed. Examples of the shape of the guide groove include a concentric shape and a spiral shape based on the center of the optical recording medium. When a spiral guide groove is formed, the groove pitch is preferably about 0.2 to 1.2 μm.

 基板の上側に直接、又は必要に応じて基板上に設けた下引き層等の上側に、前記一般式(1)で表される化合物を含む記録層を形成する。記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行なわれている様々な薄膜形成法が挙げられる。量産性やコストの観点からは、スピンコート法が好ましく、均一な厚みの記録層が得られるという観点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。スピンコート法による成膜の場合、回転数は500〜15000rpmが好ましい。また、場合によっては、スピンコートの後に、加熱する、溶媒蒸気にあてる等の処理を施しても良い。 (4) A recording layer containing the compound represented by the general formula (1) is formed directly on the substrate or on an undercoat layer or the like provided on the substrate as necessary. Examples of the method for forming the recording layer include various commonly used thin film forming methods such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method. From the viewpoint of mass productivity and cost, a spin coating method is preferable, and from the viewpoint of obtaining a recording layer having a uniform thickness, a vacuum deposition method or the like is more preferable than a coating method. In the case of film formation by spin coating, the number of rotations is preferably from 500 to 15000 rpm. In some cases, after spin coating, treatment such as heating or exposure to solvent vapor may be performed.

 ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布法により記録層を
形成する場合に、前記一般式(1)で表される化合物を溶解させて基板に塗布するために使用する塗布溶媒は、基板を侵食しない溶媒であれば特に限定されない。具体的に挙げると、例えばジアセトンアルコール、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒;n−ヘキサン、n−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、n−ブチルシクロヘキサン、tert−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒;テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒;乳酸メチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
When the recording layer is formed by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and a dipping method, a coating used for dissolving the compound represented by the general formula (1) and applying the compound to a substrate. The solvent is not particularly limited as long as it does not attack the substrate. Specifically, for example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolve solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chains such as n-hexane and n-octane Hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane and cyclooctane; tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, hexafluorobutanol and the like Perfluoroalkyl alcohol solvents; and hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate and methyl 2-hydroxyisobutyrate.

 真空蒸着法を用いる場合には、例えば、前記一般式(1)で表される化合物と、必要に応じて他の色素や各種添加剤等の記録層成分とを、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、この真空容器内を適当な真空ポンプで10-2〜10-5Pa程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることによって、記録層を形成する。 When the vacuum evaporation method is used, for example, the compound represented by the general formula (1) and the recording layer components such as other dyes and various additives are placed in a vacuum container, if necessary. After placing in a crucible and evacuating the inside of this vacuum vessel to about 10 −2 to 10 −5 Pa with a suitable vacuum pump, the crucible is heated to evaporate the recording layer components, and the substrate is placed on the crucible. To form a recording layer.

 また、記録層には、前記一般式(1)で表される化合物に加えて、安定性や耐光性の向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物(例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等)等を含有させたり、記録感度の向上のために、金属系化合物等の記録感度向上剤を含有させたりしても良い。ここで、金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。 In the recording layer, in addition to the compound represented by the general formula (1), a transition metal chelate compound (for example, acetylacetonate chelate) is used as a singlet oxygen quencher to improve stability and light resistance. , Bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone, etc.), or a recording sensitivity improver such as a metal compound for improving recording sensitivity. Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, and the like. And organic metal compounds such as dihydroxyazobenzene-based complexes, dioxime-based complexes, nitrosoaminophenol-based complexes, pyridyltriazine-based complexes, acetylacetonate-based complexes, metallocene-based complexes, and porphyrin-based complexes. The metal atom is not particularly limited, but is preferably a transition metal.

 なお、記録層には、必要に応じて、前記一般式(1)で表される化合物を複数種類併用しても良い。 In the recording layer, if necessary, a plurality of compounds represented by the general formula (1) may be used in combination.

 更に記録層には、前記一般式(1)で表される化合物に加え、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。他系統の色素としては、主として記録用レーザーの発振波長域に適度な吸収を有するものであればよく、特に制限されない。また、CD−R等に使用され、770〜830nmの波長帯域中に発振波長を有する近赤外レーザーを用いた記録・再生に適する色素や、DVD−R等に使用され、620〜690nmの波長帯域中に発振波長を有する赤色レーザーを用いた記録・再生に適する色素等を、前記一般式(1)で表される化合物と併用して記録層に含有させることにより、異なる波長帯域に属する複数種のレーザー光を用いた記録・再生に対応する光学記録媒体を製造することもできる。 Further, in the recording layer, in addition to the compound represented by the general formula (1), a dye of another system can be used in combination, if necessary. The dyes of the other systems are not particularly limited as long as they have appropriate absorption mainly in the oscillation wavelength range of the recording laser. Dyes suitable for recording / reproduction using a near-infrared laser having an oscillation wavelength in a wavelength band of 770 to 830 nm, used for CD-R, etc., and wavelengths of 620 to 690 nm used for DVD-R, etc. A dye or the like suitable for recording / reproduction using a red laser having an oscillation wavelength in the band is contained in the recording layer in combination with the compound represented by the general formula (1), so that a plurality of dyes belonging to different wavelength bands are included. An optical recording medium corresponding to recording / reproducing using a kind of laser beam can also be manufactured.

 前記一般式(1)で表される化合物以外の他系統の色素としては、含金属アゾ系色素、ベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。 Other dyes other than the compound represented by the general formula (1) include metal-containing azo dyes, benzophenone dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, cyanine dyes, azo dyes, and squarylium dyes. , Metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, azurenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, pyrylium dyes, and the like. .

 更に、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセ
ルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
Further, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used in combination as needed. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

 記録層の膜厚は、記録方法などにより適した膜厚が異なる為、特に限定するものではないが、記録を可能とするためにはある程度の膜厚が必要とされるため、通常、少なくとも1nm以上であり、好ましくは5nm以上である。但しあまり厚すぎても記録が良好に行えなくなるおそれがあり、通常300nm以下、好ましくは200nm以下、より好ましくは100nm以下である。 The film thickness of the recording layer is not particularly limited because a suitable film thickness varies depending on a recording method or the like, but a certain film thickness is required to enable recording. Or more, preferably 5 nm or more. However, if the thickness is too large, there is a possibility that recording cannot be performed well, and the thickness is usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less.

 記録層の上には、反射層を形成する。その膜厚は、好ましくは50〜300nmである。 反射 A reflective layer is formed on the recording layer. The thickness is preferably 50 to 300 nm.

 反射層の材料としては、再生光の波長において十分高い反射率を有する材料、例えばAu、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Pd等の金属を、単独あるいは合金にして用いることができる。これらの中でもAu、Al、Agは反射率が高く、反射層の材料として適している。また、これらの金属を主成分とした上で、加えて他の材料を含有させても良い。ここで主成分とは、含有率が50%以上のものをいう。主成分以外の他の材料としては、例えばMg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi、Ta、Ti、Pt、Pd、Ndなどの金属及び半金属を挙げることができる。中でもAgを主成分とするものは、コストが安い点、高反射率が出やすい点、後述する印刷受容層を設けた場合に地色が白く美しいものが得られる点等から、特に好ましい。例えば、AgにAu、Pd、Pt、Cu、及びNdから選ばれる一種以上を0.1〜5原子%程度含有させた合金は、高反射率、高耐久性、高感度且つ低コストであり好ましい。具体的には、例えばAgPdCu合金、AgCuAu合金、AgCuAuNd合金、AgCuNd合金等である。金属以外の材料としては、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、これを反射層として用いることも可能である。 As the material of the reflection layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, or Pd, alone or as an alloy Can be used. Among these, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as the material of the reflective layer. In addition to these metals as main components, other materials may be additionally contained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. Materials other than the main component include, for example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, and Ge. , Te, Pb, Po, Sn, Bi, Ta, Ti, Pt, Pd, Nd and other metals and metalloids. Among them, those containing Ag as a main component are particularly preferable because they are inexpensive, easily reflect a high reflectance, and can provide a white and beautiful ground color when a print receiving layer described later is provided. For example, an alloy containing about 0.1 to 5 atomic% of at least one selected from Au, Pd, Pt, Cu, and Nd in Ag is preferable because of high reflectance, high durability, high sensitivity, and low cost. . Specifically, for example, AgPdCu alloy, AgCuAu alloy, AgCuAuNd alloy, AgCuNd alloy, etc. As a material other than metal, a low-refractive-index thin film and a high-refractive-index thin film are alternately stacked to form a multilayer film, which can be used as a reflective layer.

 反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系又は有機系の中間層、接着層を設けることもできる。 方法 As a method for forming the reflective layer, for example, a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, and the like can be mentioned. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer for the purpose of improving reflectance, recording characteristics, and adhesion.

 反射層の上に形成する保護層の材料は、反射層を外力から保護するものであれば、特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、MgF2、SnO2等が挙げられる。 The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and a UV curable resin. Further, examples of the inorganic substance include silicon oxide, silicon nitride, MgF 2 , and SnO 2 .

 熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いる場合は、適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層の上に塗布して乾燥させれば、保護層を形成することができる。UV硬化性樹脂を用いる場合は、そのまま反射層の上に塗布するか、又は適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層の上に塗布し、UV光を照射して硬化させることによって、保護層を形成することができる。UV硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。また、保護層は、単層として形成しても、多層として形成してもよい。 保護 When using a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like, a protective layer can be formed by applying a coating solution prepared by dissolving in an appropriate solvent onto the reflective layer and drying. When using a UV curable resin, it is applied directly on the reflective layer, or by applying a coating solution prepared by dissolving in an appropriate solvent on the reflective layer, and curing by irradiating UV light. , A protective layer can be formed. As the UV-curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or in combination of two or more. Further, the protective layer may be formed as a single layer or as a multilayer.

 保護層の形成方法としては、記録層と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法や、スパッタリング法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、中でもスピンコート法が好
ましい。保護層の膜厚は、その保護機能を果たすためにはある程度の厚みが必要とされるため、一般に0.1μm以上であり、好ましくは3μm以上である。但しあまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護層の形成に時間がかかったりコストが高くなる虞があるので通常100μm以下であり、好ましくは30μm以下である。
As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a method such as a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used as in the recording layer, and the spin coating method is particularly preferable. The thickness of the protective layer is generally 0.1 μm or more, preferably 3 μm or more, since a certain thickness is required to fulfill the protective function. However, if the thickness is too large, the effect is not changed, and it may take a long time to form the protective layer or the cost may increase. Therefore, the thickness is usually 100 μm or less, preferably 30 μm or less.

 以上、光学記録媒体の層構造として、基板、記録層、反射層、保護層をこの順に積層して成る構造を例に採って説明したが、前述した如く、この他の層構造を採っても構わない。 As described above, as the layer structure of the optical recording medium, the structure in which the substrate, the recording layer, the reflective layer, and the protective layer are stacked in this order has been described as an example. However, as described above, other layer structures may be used. I do not care.

 例えば、上例の層構造における保護層の上面に、又は上例の層構造から保護層を省略して反射層の上面に、更に別の基板を貼り合わせてもよい。この際の基板は、何ら層を設けていない基板そのものであってもよく、貼り合わせ面又はその反対面に反射層など任意の層を有するものでも良い。また、同じく上例の層構造を有する光記録媒体や、上例の層構造から保護層を省略した光学記録媒体を、それぞれの保護層及び/又は反射層の上面を相互に対向させて2枚貼り合わせてもよい。 For example, another substrate may be bonded to the upper surface of the protective layer in the layer structure of the above example, or to the upper surface of the reflective layer by omitting the protective layer from the layer structure of the above example. In this case, the substrate may be a substrate without any layer, or may have an arbitrary layer such as a reflective layer on the bonding surface or the opposite surface. Similarly, two optical recording media having the layer structure of the above example and optical recording media in which the protective layer is omitted from the layer structure of the above example, with the upper surfaces of the respective protective layers and / or reflective layers facing each other. It may be attached.

 更に、本発明の好ましい光学記録媒体の層構成の一例としては、基板の上に反射層を設け、その上にさらに記録層、保護被膜をこの順に積層した媒体が挙げられる。この場合、保護被膜を通してレーザー光を照射して、情報の記録・再生を行うことになる(媒体構造例2)。 Further, as an example of a preferred layer configuration of the optical recording medium of the present invention, there is a medium in which a reflective layer is provided on a substrate, and a recording layer and a protective film are further laminated on the reflective layer in this order. In this case, information is recorded / reproduced by irradiating a laser beam through the protective film (medium structure example 2).

 この保護被膜は、フィルムまたはシート状のものを接着剤によって貼り合わせてもよいし、あるいは前述の保護層と同様の材料を用い、成膜用の塗液を塗布し硬化または乾燥することにより形成しても良い。保護被膜の厚みは、その保護機能を果たすためにはある程度の厚みが必要とされるため、一般に0.1μm以上であり、好ましくは3μm以上である。但しあまり厚すぎると、効果が変わらないだけでなく保護層の形成に時間がかかったりコストが高くなる虞があるので通常300μm以下であり、好ましくは200μm以下である。 This protective film may be formed by bonding a film or sheet-like material with an adhesive, or by applying a coating liquid for film formation using the same material as the above-described protective layer and curing or drying. You may. The thickness of the protective film is generally 0.1 μm or more, and preferably 3 μm or more, because a certain thickness is required to fulfill the protective function. However, if the thickness is too large, the effect is not changed, and it may take a long time to form the protective layer or the cost may be increased. Therefore, the thickness is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less.

 このような層構成においても、記録層、反射層などの各層は通常、前述の媒体構造例1と同様のものが用い得る。但し、本層構成では基板は透明である必要はなく、従って、前述の材料以外にも、不透明な樹脂、セラミック、金属(合金を含む)などからなる基板が用い得る。 も Even in such a layer configuration, the same layers as those in the above-described medium structure example 1 can be used for each layer such as the recording layer and the reflective layer. However, in the present layer configuration, the substrate does not need to be transparent, and therefore, a substrate made of an opaque resin, ceramic, metal (including alloy), or the like may be used in addition to the above-described materials.

 このような層構成においても、上記各層間には、本発明の特性を損なわない限り、必要に応じて任意の層を有してよい。 に お い て Even in such a layer configuration, an arbitrary layer may be provided between each of the above-described layers as needed, as long as the characteristics of the present invention are not impaired.

 ところで、光学記録媒体の記録密度を上げるための一つの手段として、対物レンズの開口数を上げることがある。これにより情報記録面に集光される光スポットを微小化できる。しかしながら、対物レンズの開口数を上げると、記録・再生を行うためにレーザー光を照射した際に、光学記録媒体の反り等に起因する光スポットの収差が大きくなりやすいため、良好な記録再生信号が安定して得られない場合がある。 By the way, as one means for increasing the recording density of the optical recording medium, there is a case where the numerical aperture of the objective lens is increased. Thereby, the light spot focused on the information recording surface can be miniaturized. However, when the numerical aperture of the objective lens is increased, when a laser beam is irradiated for recording / reproducing, the aberration of the light spot due to the warpage of the optical recording medium or the like tends to increase, so that a good recording / reproducing signal is obtained. May not be obtained stably.

 このような収差は、レーザー光が透過する透明基板や保護被膜の膜厚が厚いほど大きくなりやすいので、収差を小さくするためには基板や保護被膜をできるだけ薄くするのが好ましい。ただし、通常、基板は光学記録媒体の強度を確保するためにある程度の厚みを要するので、この場合、媒体構造例2(基板、反射層、記録層、薄い保護被膜なる基本的層構成の光学記録媒体)を採用するのが好ましい。媒体構造例1の基板を薄くするのに比べると、媒体構造例2の保護被膜は薄くしやすいため、好ましくは媒体構造例2を用いる。 収 差 These aberrations tend to increase as the thickness of the transparent substrate or the protective film through which the laser beam passes is increased. Therefore, in order to reduce the aberration, it is preferable to make the substrate and the protective film as thin as possible. However, since the substrate usually needs a certain thickness in order to secure the strength of the optical recording medium, in this case, the medium structure example 2 (the optical recording of the basic layer configuration consisting of the substrate, the reflective layer, the recording layer, and the thin protective film) Medium). Compared with the case where the substrate of the medium structure example 1 is made thinner, the protective film of the medium structure example 2 is easily made thinner. Therefore, the medium structure example 2 is preferably used.

 但し、媒体構造例1(透明基板、記録層、反射層、保護層なる基本的層構成の光学記録媒体)であっても、記録・再生用レーザー光が通過する透明基板の厚みを50〜300μm程度にまで薄くすることで、収差を小さくして使用できるようになる。 However, even in the medium structure example 1 (optical recording medium having a basic layer structure including a transparent substrate, a recording layer, a reflective layer, and a protective layer), the thickness of the transparent substrate through which the recording / reproducing laser beam passes is 50 to 300 μm. By reducing the thickness to such an extent, the aberration can be reduced and the device can be used.

 また、他の各層の形成後に、記録・再生レーザー光の入射面(通常は基板の下面)に、表面の保護やゴミ等の付着防止の目的で、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜形成してもよく、記録・再生レーザー光の入射面ではない面(通常は反射層や保護層の上面)に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、あるいは各種筆記具を用いて記入や印刷が可能な印刷受容層を設けてもよい。 After the other layers are formed, an ultraviolet curable resin layer or an inorganic thin film is formed on the recording / reproducing laser beam incident surface (usually the lower surface of the substrate) for the purpose of protecting the surface and preventing adhesion of dust and the like. A film may be formed, and writing and printing can be performed on a surface other than the recording / reproducing laser beam incident surface (usually the upper surface of the reflective layer or the protective layer) using various printers such as an inkjet printer or a thermal transfer printer, or various writing instruments. A possible print-receiving layer may be provided.

 本発明の光学記録媒体において、情報の記録・再生のために使用するレーザー光は、高密度記録を実現する観点から波長が短いほど好ましいが、特に波長350〜530nmのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例として、中心波長405nm、410nm、515nmのレーザー光が挙げられる。 光学 In the optical recording medium of the present invention, the shorter the wavelength of the laser light used for recording / reproducing information from the viewpoint of realizing high-density recording, the more preferable is the laser light having a wavelength of 350 to 530 nm. Representative examples of such laser light include laser light having a center wavelength of 405 nm, 410 nm, or 515 nm.

 350〜530nmのレーザー光は、405nm、410nmの青色又は515nmの青緑色の高出力半導体レーザーを使用することによって得られるが、その他にも、例えば、(a)基本発振波長が740〜960nmの連続発振可能な半導体レーザー、及び(b)半導体レーザーによって励起される基本発振波長740〜960nmの連続発振可能な固体レーザーの何れかの発振レーザー光を、第二高調波発生素子(SHG)により波長変換することによっても得られる。 The laser light having a wavelength of 350 to 530 nm can be obtained by using a high-power semiconductor laser of 405 nm, 410 nm blue or 515 nm blue-green. In addition, for example, (a) a continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm A second harmonic generation element (SHG) converts the oscillation laser light of any of a semiconductor laser capable of oscillation and (b) a solid laser capable of continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm excited by the semiconductor laser. It is also obtained by doing.

 上記のSHGとしては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、KDP、ADP、BNN、KN、LBO、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例として、基本発振波長が860nmの半導体レーザーの場合には、その基本発振波長の倍波である430nm、また、半導体レーザー励起の固体レーザーの場合には、CrドープしたLiSrAlF6結晶(基本発振波長860nm)からの倍波の430nmな
どが挙げられる。
The SHG may be any piezo element that lacks inversion symmetry, but is preferably KDP, ADP, BNN, KN, LBO, or a compound semiconductor. As a specific example of the second harmonic, in the case of a semiconductor laser having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm, it is 430 nm which is a harmonic of the fundamental oscillation wavelength, and in the case of a solid-state laser pumped by a semiconductor laser, it is LiSrAlF doped with Cr. 430 nm of a harmonic from six crystals (a fundamental oscillation wavelength of 860 nm).

 本発明の光学記録媒体に対して情報の記録を行なう際には、記録層に対して(通常は基板側から基板を透過させ)、通常、0.4〜0.6μm程度に集束したレーザー光を照射する。記録層のレーザー光が照射された部分は、レーザー光のエネルギーを吸収することによって分解、発熱、溶解等の熱的変形を起こすため、光学的特性が変化する。 When information is recorded on the optical recording medium of the present invention, a laser beam focused on the recording layer (usually transmitting the substrate from the substrate side) to about 0.4 to 0.6 μm is used. Is irradiated. The portion of the recording layer irradiated with the laser light undergoes thermal deformation such as decomposition, heat generation, and dissolution by absorbing the energy of the laser light, so that the optical characteristics change.

 記録された情報の再生を行なう際には、同じく記録層に対して(通常は記録時と同じ方向から)、よりエネルギーの低いレーザー光を照射する。記録層において、光学的特性の変化が起きた部分(すなわち、情報が記録された部分)の反射率と、変化が起きていない部分の反射率との差を読みとることにより、情報の再生が行なわれる。 (4) When reproducing recorded information, the recording layer is also irradiated with a laser beam having lower energy (usually from the same direction as the recording). In the recording layer, information is reproduced by reading the difference between the reflectance of a portion where the optical characteristic has changed (that is, the portion where information is recorded) and the reflectance of a portion where no change has occurred. It is.

 以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これら実施例によって限定されるものではない。
[化合物の合成法]
 前記一般式(1)で示される化合物の合成法は特に限定されるものではないが、一般的な製法としては下記のような例が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples unless it exceeds the gist.
[Method of synthesizing compound]
The method for synthesizing the compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but examples of the general production method include the following.

 例えば、前記一般式(1)においてlまたはm=1かつl+m=1、k=0、n=0、環A,Bがベンゼン環で表される化合物を合成する場合は、例えばベンゼンスルホンアミドとベンズアルデヒドをトルエン中でBF3触媒下、加熱することによって For example, in the case of synthesizing a compound in which l or m = 1 and l + m = 1, k = 0, n = 0, and rings A and B are represented by a benzene ring in the general formula (1), for example, benzenesulfonamide and By heating benzaldehyde in toluene under BF 3 catalyst

Figure 2004098673
Figure 2004098673

得られる。 can get.

 ここで、ベンズアルデヒドに代えてシンナムアルデヒドを用いることで、前記一般式(1)においてkまたはn=1であるような化合物が得られる。同様に、使用するアルデヒドを異ならせることで、kおよびnの異なる種々の化合物を合成することができる。 Here, by using cinnamaldehyde instead of benzaldehyde, a compound in which k or n = 1 in the general formula (1) is obtained. Similarly, by using different aldehydes, various compounds having different k and n can be synthesized.

 また、ベンゼンスルホンアミドに代えて、Tetrahedron Letters,37,16,2859-2862(1996)に記載されているようにスルファミドを原料に用いることで、l=1、m=1かつl+m=2の化合物を得ることができる。 Further, by using sulfamide as a raw material as described in Tetrahedron Letters, 37, 16, 2859-2862 (1996) instead of benzenesulfonamide, a compound having l = 1, m = 1 and l + m = 2 can be obtained. Can be obtained.

 更に、種々のベンゼン環の誘導体や複素芳香環等を用いることで、例示化合物に示されるような、環A,Bがさまざまな環構造を有する化合物を合成することができる。 Furthermore, by using various benzene ring derivatives, heteroaromatic rings and the like, compounds having rings A and B having various ring structures as shown in the exemplified compounds can be synthesized.

 [実施例1](a)色素化合物製造例 [Example 1] (a) Example of producing dye compound

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 上記構造式[I]で示されるベンゼンスルホンアミド1.57g(10mmol)と上記構造式[II]で示されるp−ジエチルアミノベンズアルデヒド1.95g(11mmol)をトルエン35ml中に加え、撹拌下70℃で加熱溶解させた。その後三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.6gを滴下し、3時間還流した。反応液を冷却し、濾過により未反応のベンゼンスルホンアミドを除き、濾液に水100mlを加えて抽出洗浄を行い、無水硫酸マグネシウムを加えて一晩静置した。その後この溶液を濾過し、濾液を留去したのち、ジイソプロピルエーテル30mlを加えて撹拌、濾過して固体を濾別することにより例示化合物(1a)の構造で示される固体0.84gを得ることが出来た(収率26.5%)。 1.57 g (10 mmol) of benzenesulfonamide represented by the structural formula [I] and 1.95 g (11 mmol) of p-diethylaminobenzaldehyde represented by the structural formula [II] are added to 35 ml of toluene, and the mixture is stirred at 70 ° C. It was dissolved by heating. Thereafter, 0.6 g of boron trifluoride diethyl ether complex was added dropwise, and the mixture was refluxed for 3 hours. The reaction solution was cooled, unreacted benzenesulfonamide was removed by filtration, 100 ml of water was added to the filtrate for extraction and washing, and anhydrous magnesium sulfate was added, and the mixture was allowed to stand overnight. Thereafter, this solution was filtered, and the filtrate was distilled off. Then, 30 ml of diisopropyl ether was added, and the mixture was stirred, filtered, and the solid was separated by filtration to obtain 0.84 g of a solid represented by the structure of Exemplified Compound (1a). Was completed (yield 26.5%).

 生成物のクロロホルム中における吸収スペクトルの測定結果を図1に示す。 FIG. 1 shows the measurement results of the absorption spectrum of the product in chloroform.

 例示化合物(1a)のクロロホルム中での最大吸収波長(λmax)は392.5nmで
あり、モル吸光係数は5.5×104であった。
(b)記録媒体作製例
 例示化合物(1a)をオクタフルオロペンタノールに溶解し、1.0wt%に調整した。これを濾過してできた溶解液を、直径120mm、厚さ1.2mmの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布し、塗布後、100℃で30分間乾燥した。
The maximum absorption wavelength (λmax) of the exemplified compound (1a) in chloroform was 392.5 nm, and the molar extinction coefficient was 5.5 × 10 4 .
(B) Production Example of Recording Medium Exemplified compound (1a) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1.0 wt%. A solution obtained by filtering the solution was dropped on an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes.

 この塗布膜の吸収スペクトルの測定結果を図2に示す。例示化合物(1a)の塗布膜の
最大吸収波長(λmax)は391nmであった。
FIG. 2 shows the measurement results of the absorption spectrum of the coating film. The maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film of the exemplary compound (1a) was 391 nm.

 なお本発明において、塗布膜の吸収スペクトルは、塗布膜側から光を入射して塗布膜に照射し、紫外可視分光光度計を用いて、空気をリファレンスにして測定される。 In the present invention, the absorption spectrum of the coating film is measured by irradiating the coating film with light incident from the coating film side and using an ultraviolet-visible spectrophotometer with air as a reference.

 この塗布膜上に、例えば、Agなどをスパッタリング法等にて成膜して反射層を形成し、次いで紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等にて塗布したのち紫外線を照射して硬化させて保護層を形成することで光学記録媒体とすることができる。この光学記録媒体は、塗布膜の最大吸収波長(λmax)の値から、例えば中心波長405nmの半導体レーザーに
よる記録再生が可能であることが明らかである。
On this coating film, for example, Ag or the like is formed by a sputtering method or the like to form a reflective layer, and then an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method or the like, and then cured by irradiating with ultraviolet light to be protected. An optical recording medium can be obtained by forming a layer. From the value of the maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film, it is apparent that this optical recording medium can be recorded and reproduced by a semiconductor laser having a center wavelength of 405 nm, for example.

 [実施例2](a)色素化合物製造例 [Example 2] (a) Example of producing dye compound

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 上記構造式[III]で示されるp−トルエンスルホンアミド1.71g(10mmol)
と上記構造式[IV]で示される4−メトキシシンナムアルデヒド1.62g(10mmol)をトルエン40ml中に加え、撹拌下70℃で加熱溶解させた。その後三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体0.6gを滴下し、7時間還流した。反応液を冷却し、濾過により未反応のp−トルエンスルホンアミドを除き、濾液に水75mlを加えて抽出洗浄を行い、無水硫酸マグネシウムを加えて一晩静置した。その後この溶液を濾過し、濾液を留去したのち、ジイソプロピルエーテル20mlを加えて撹拌、濾過して固体を濾別することにより例示化合物(2a)の構造で示される固体0.81g得ることが出来た(収率26.6%)。
1.71 g (10 mmol) of p-toluenesulfonamide represented by the above structural formula [III]
And 1.62 g (10 mmol) of 4-methoxycinnamaldehyde represented by the above structural formula [IV] were added to 40 ml of toluene, and dissolved by heating at 70 ° C. with stirring. Thereafter, 0.6 g of boron trifluoride diethyl ether complex was added dropwise, and the mixture was refluxed for 7 hours. The reaction solution was cooled, unreacted p-toluenesulfonamide was removed by filtration, 75 ml of water was added to the filtrate for extraction and washing, and anhydrous magnesium sulfate was added and the mixture was allowed to stand overnight. Thereafter, this solution was filtered, and the filtrate was distilled off. Then, 20 ml of diisopropyl ether was added, stirred, filtered, and the solid was separated by filtration to obtain 0.81 g of a solid represented by the structure of Exemplified Compound (2a). (Yield 26.6%).

 生成物のクロロホルム中での最大吸収波長(λmax)は353.5nm、モル吸光係数
は2.5×104であった。
(b)記録媒体作製例
 例示化合物(2a)をオクタフルオロペンタノールに溶解し、1.0wt%に調整した。これを濾過してできた溶解液を、直径120mm、厚さ1.2mmの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布し、塗布後、100℃で30分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長(λmax)は357.5nmであった。
The maximum absorption wavelength (λmax) of the product in chloroform was 353.5 nm, and the molar extinction coefficient was 2.5 × 10 4 .
(B) Production Example of Recording Medium Exemplified compound (2a) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1.0 wt%. A solution obtained by filtering the solution was dropped on an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 357.5 nm.

 この塗布膜上に、例えば、Agなどをスパッタリング法等にて成膜して反射層を形成し、次いで紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等にて塗布したのち紫外線を照射して硬化させて保護層を形成することで光学記録媒体とすることができる。この光学記録媒体は、塗布膜の最大吸収波長(λmax)の値から、例えば中心波長405nmの半導体レーザーに
よる記録再生が可能であることが明らかである。
On this coating film, for example, Ag or the like is formed by a sputtering method or the like to form a reflective layer, and then an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method or the like, and then cured by irradiating with ultraviolet light to be protected. An optical recording medium can be obtained by forming a layer. From the value of the maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film, it is apparent that this optical recording medium can be recorded and reproduced by a semiconductor laser having a center wavelength of 405 nm, for example.

 [実施例3〜9]
 以下、前記合成法やその他の方法を用いて、例示化合物(3a)〜(52)の各化合物を合成し、次いで実施例1と同様にして塗布膜を形成した。
[Examples 3 to 9]
Hereinafter, each of the exemplified compounds (3a) to (52) was synthesized using the above synthesis method and other methods, and then a coating film was formed in the same manner as in Example 1.

 これら化合物の溶液中での最大吸収波長(λmax)、モル吸光係数、塗布膜での最大吸
収波長(λmax)を、実施例1〜2の結果と併せて表−1に示す。
Table 1 shows the maximum absorption wavelength (λmax), the molar extinction coefficient, and the maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film in the solution together with the results of Examples 1 and 2.

 これらの塗布膜上に、例えば、Agなどをスパッタリング法等にて成膜して反射層を形成し、次いで紫外線硬化性樹脂をスピンコート法等にて塗布したのち紫外線を照射して硬化させて保護層を形成することで光学記録媒体とすることができる。これらの光学記録媒体は、塗布膜の最大吸収波長(λmax)の値から、例えば中心波長405nmの半導体レ
ーザーによる記録再生が可能であることが明らかである。
On these coating films, for example, Ag or the like is formed by a sputtering method or the like to form a reflective layer, and then an ultraviolet curable resin is applied by a spin coating method or the like, and then irradiated with ultraviolet light to be cured. An optical recording medium can be obtained by forming a protective layer. From the value of the maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film, it is clear that these optical recording media can be recorded and reproduced by, for example, a semiconductor laser having a center wavelength of 405 nm.

 [実施例10]
(a)有機色素製造例
 前記合成法やその他の方法を用いて、p-トルエンスルホンアミドとN―エチル−N−
(2−シアノエチル)ベンズアルデヒドから例示化合物(53)を合成した。生成物のクロロホルム中での最大吸収波長(λmax)は373.5nm、モル吸光係数は4.7×1
4であった。
(b)記録媒体作製例
 例示化合物(53)をオクタフルオロペンタノールに溶解し、1.0wt%に調整した。これを濾過してできた溶解液を直径120mm、厚さ1.2mmの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布し、塗布後、100℃で30分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長(λmax)は、380.5nmであった。この結果を表
−1に示す。
(c)光記録媒体の作製例
 Niスタンパを用いて、ポリカーボネートを射出成形して、溝ピッチ425nm、溝幅200nm、溝深さ90nm程度の溝が形成された、直径120mm、厚さ0.6mmの第1の基板を作製した。次に、例示化合物(53)の0.4%オクタフルオロペンタノール溶液を第1の基板上にスピンコート法により塗布し、100℃で30分間加熱処理して、厚さ60nm程度の色素記録層を形成した。次に、Agを97原子%以上含むAg合金をスパッタリングし、厚さ約100nmの反射層を形成した。
[Example 10]
(A) Production Example of Organic Dye Using the above synthesis method and other methods, p-toluenesulfonamide and N-ethyl-N-
Exemplary compound (53) was synthesized from (2-cyanoethyl) benzaldehyde. The maximum absorption wavelength (λmax) of the product in chloroform was 373.5 nm, and the molar extinction coefficient was 4.7 × 1.
0 was 4.
(B) Production Example of Recording Medium Exemplified compound (53) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1.0 wt%. A solution obtained by filtering the solution was dropped on an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 380.5 nm. Table 1 shows the results.
(C) Production Example of Optical Recording Medium Using a Ni stamper, polycarbonate was injection molded to form a groove having a groove pitch of 425 nm, a groove width of 200 nm, and a groove depth of about 90 nm, a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm. Was manufactured. Next, a 0.4% octafluoropentanol solution of the exemplary compound (53) is applied on the first substrate by a spin coating method, and is heated at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a dye recording layer having a thickness of about 60 nm. Was formed. Next, an Ag alloy containing 97 atomic% or more of Ag was sputtered to form a reflective layer having a thickness of about 100 nm.

 次に、この反射層上に、紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を塗布し、予め作製した直径120mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート製の第2の基板を載置し、続いて、第2の基板側から紫外線を照射して、接着剤を硬化させて光記録媒体を作製した。 Next, an adhesive made of an ultraviolet curable resin is applied on the reflective layer, and a second substrate made of polycarbonate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm prepared in advance is placed thereon. The substrate was irradiated with ultraviolet light from the substrate side to cure the adhesive, thereby producing an optical recording medium.

 この記録層に対して、第1の基板側より光を入射して、情報の記録、再生を行った。記録再生は、波長405nm、NA0.65の光学系を用いた。記録条件は、線速5.7m/sで、8T=690nmのマークを記録パワー11mWで記録した。その後、同情報を、
再生強度0.2mWのレーザー光で照射しながらデータを読み出した。この時のノイズと信号強度との比の目安であるC/Nを測定したところ34dBであった。この結果から、色素(53)は短波長を用いた光記録媒体に使用する事ができる事がわかる。なお、このC/Nは記録ストラテジーや色素膜厚等の諸条件をさらに最適化することで、より向上させることが可能である。
Light was incident on the recording layer from the first substrate side to record and reproduce information. For recording and reproduction, an optical system having a wavelength of 405 nm and an NA of 0.65 was used. The recording conditions were such that a mark of 8T = 690 nm was recorded at a linear velocity of 5.7 m / s and a recording power of 11 mW. After that,
Data was read while irradiating with a laser beam having a reproduction intensity of 0.2 mW. At this time, C / N, which is a measure of the ratio of noise to signal strength, was measured and found to be 34 dB. From this result, it can be seen that the dye (53) can be used for an optical recording medium using a short wavelength. The C / N can be further improved by further optimizing various conditions such as a recording strategy and a dye film thickness.

Figure 2004098673
Figure 2004098673

 従って、波長が350nm〜530nmの短波長レーザー光を用いて本光学記録媒体に対して情報の記録を行えば、より高密度に、かつ大容量の情報を記録・再生することができる。 Therefore, if information is recorded on the optical recording medium using a short-wavelength laser beam having a wavelength of 350 nm to 530 nm, higher-density and larger-capacity information can be recorded and reproduced.

実施例1にて合成した化合物の、クロロホルム溶液中での吸収スペクトルである。3 is an absorption spectrum of a compound synthesized in Example 1 in a chloroform solution. 実施例1にて合成した化合物の、塗布膜の吸収スペクトルである。3 is an absorption spectrum of a coating film of the compound synthesized in Example 1.

Claims (5)

基板上にレーザーによる情報の記録または再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体において、該記録層が下記一般式(1)で示される化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体。
Figure 2004098673
(式中、R1ないしR6は各々独立に水素原子、置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。kおよびnは各々独立に0〜2の整数を表し、かつ0≦k+n≦4である。lおよびmは各々独立に0または1を表し、かつ1≦l+m≦2である。環Aおよび環Bは各々独立に、任意の置換基を有していてもよい芳香族環を表す。但し、該任意の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。)
An optical recording medium provided with a recording layer capable of recording or reproducing information by a laser on a substrate, wherein the recording layer contains a compound represented by the following general formula (1).
Figure 2004098673
(Wherein, R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted. K and n each independently represent an integer of 0 to 2, and 0 ≦ k + n ≤ 4. l and m each independently represent 0 or 1, and 1 ≤ l + m ≤ 2. Ring A and ring B each independently represent an aromatic group optionally having any substituent Represents a ring, provided that the arbitrary substituents may be bonded to each other to form a ring.)
前記一般式(1)において、R1ないしR6が水素原子または無置換の炭素数1〜3の直鎖アルキル基を表す、請求項1に記載の光学記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1, wherein in the general formula (1), R 1 to R 6 represent a hydrogen atom or an unsubstituted linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. 前記一般式(1)において、kおよびnが各々独立に0または1を表し、かつ0≦k+n≦2である、請求項1または2に記載の光学記録媒体。 The optical recording medium according to claim 1, wherein, in the general formula (1), k and n each independently represent 0 or 1, and 0 ≦ k + n ≦ 2. 前記一般式(1)において、環Aおよび環Bが各々独立に、任意の置換基を有していてもよい、5〜6員環の単環または2〜3縮合環を表す(但し、該任意の置換基同士が結合して環を形成していてもよい)、請求項1ないし3のいずれかに記載の光学記録媒体。 In the general formula (1), ring A and ring B each independently represent a 5- to 6-membered monocyclic ring or a 2- to 3-condensed ring which may have an arbitrary substituent (however, The optical recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein arbitrary substituents may be bonded to each other to form a ring). 波長が350nm〜530nmのレーザー光を用い、請求項1ないし4に記載の光学記録媒体に対して情報の記録を行うことを特徴とする光学記録方法。 5. An optical recording method comprising recording information on the optical recording medium according to claim 1, using a laser beam having a wavelength of 350 nm to 530 nm.
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