JP2004095094A

JP2004095094A - 磁気記録媒体およびその製造方法

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Publication number: JP2004095094A
Application number: JP2002256642A
Authority: JP
Inventors: Kouji Tani; 谷　弘詞; Hiroyuki Matsumoto; 松本　浩之; Hiroshi Ishikawa; 石川　博
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 2002-09-02
Filing date: 2002-09-02
Publication date: 2004-03-25

Abstract

【課題】磁気ヘッドの浮上量が狭小化した現在、磁気ディスク表面の潤滑膜に潤滑剤の付着むらによる斑が生じていると、潤滑膜が厚い部分で磁気ヘッドの浮上性が安定しなくなり信頼性の低下を引き起こす。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも磁性膜、保護膜、潤滑膜が順次形成されてなる磁気記録媒体において、前記潤滑膜は主鎖構造が化学式（１）
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
で表されるパーフルオロポリエーテルであり、ボンド率が６０％以上、被覆率が９０％以上、膜厚が１．２ｎｍ以下であり、付着むらに方向性を持たないようにする。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録装置に使用される潤滑膜を形成してなる磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法に関するものであり、特に潤滑膜の構成および潤滑膜の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】「特開２０００−２５１２５１号公報」
【特許文献２】「特開平０６−１９５７０４号公報」
【特許文献３】「特開平０６−２５１３６５号公報」
【特許文献４】「特開平１０−３２０７６５号公報」
【特許文献５】「特開平０７−２７２２６８号公報」
【特許文献６】「特開平０８−２８７４５９号公報」
【特許文献７】「特開平０６−０１２６５８号公報」
【特許文献８】「特開平０８−３０６０４０号公報」
磁気記録媒体は非磁性基板上に少なくとも磁性膜、保護膜を形成した後にその信頼性向上のために潤滑膜が形成されている。磁気ディスクを例に取ると非磁性基板としてはＮｉＰメッキ基板やガラス基板が用いられており、磁性膜にはＣｏ合金薄膜を、保護膜としてはカーボン保護膜をスパッタ法などの薄膜形成技術を用いて形成するのが一般的である。潤滑膜としてはパーフルオロポリエーテル潤滑剤が一般的に用いられており、特に保護膜との吸着性を高める目的で潤滑剤の末端に極性基をもつものが使用されている。また、潤滑膜の塗布方法としては浸漬法、スプレー法、スピンコート法、蒸着法などが一般的である。
【０００３】
特開２０００−２５１２５１号公報（特許文献１）や特開平０６−１９５７０４号公報（特許文献２）には浸漬法による潤滑膜の形成方法が開示されている。浸漬法では潤滑剤を溶媒に溶解して潤滑剤溶液を作り、その中に磁気記録媒体を浸漬することによって潤滑膜を形成する。また、特開平０６−２５１３６５号公報（特許文献３）には潤滑膜を形成した後に磁気記録媒体を熱処理する技術が開示されているが、このような潤滑剤塗布後の熱処理も一般的な技術として使用されている。
【０００４】
潤滑膜の蒸着法による形成技術は、特開平１０−３２０７６５号公報（特許文献４）、特開平０７−２７２２６８号公報（特許文献５）、特開平０８−２８７４５９号公報（特許文献６）、特開平０６−０１２６５８号公報（特許文献７）などに開示されている。特開平１０−３２０７６５号公報（特許文献４）では密閉容器内に磁気記録媒体と潤滑剤を配置して潤滑剤を加熱し潤滑剤を蒸発させて密閉容器内を潤滑剤蒸気で満たすことで潤滑膜を形成する方法を開示している。特開平０７−２７２２６８号公報（特許文献５）でも同じように真空容器内で潤滑剤を加熱し蒸発させて潤滑膜を形成する方法を開示している。特開平０８−２８７４５９号公報（特許文献６）には潤滑剤を飛散・蒸発させる方法として超音波振動を与える方法が開示されている。特開平０６−０１２６５８号公報（特許文献７）には密閉容器内で磁気記録媒体と潤滑剤をそれぞれ加熱して、それぞれの温度差が３０℃を超えないように製造する技術が開示されている。
【０００５】
さらに異なる技術として、特開平０８−３０６０４０号公報（特許文献８）に記載されているような潤滑剤の材料となるガスから気相重合することで磁気記録媒体の潤滑膜を形成する技術が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、以下のことである。潤滑剤の溶液に浸漬塗布する潤滑膜形成方法では溶媒を多量に使用するため、そのコストが大きくなり磁気記録媒体を安価に製造することが出来ない。また溶液中に磁気記録媒体を浸漬するため溶液の振動により潤滑膜の塗り斑が生じやすいなどの問題がある。図７に潤滑剤の付着むらに方向性をもつ斑が生じている磁気ディスクを示す。潤滑膜の塗り斑などを均一化するために磁気記録媒体を熱処理する工程を採用すると、その分の製造時間が長くなり、その設備も準備することが必要となり、磁気記録媒体を安価に製造できない。
【０００７】
次に、潤滑膜のみを加熱して潤滑膜蒸気を作り磁気記録媒体に付着させる従来の蒸着法では、特に真空中で行った場合に顕著になるが、蒸発源に近い磁気記録媒体の表面の潤滑膜は厚くなり、遠い部分では薄くなるという潤滑膜の斑が発生する。これは、蒸気となった潤滑剤分子の密度分布が密閉容器内で一定ではないためである。さらに磁気記録媒体の温度と潤滑剤の温度と密閉容器内の温度でそれぞれ異なる場合に次の問題が発生する。磁気記録媒体の温度が潤滑剤の温度より低い場合には磁気記録媒体の表面に付着した潤滑剤分子が再度蒸発する率が、付着する率よりも小さくなる傾向となり、必然的に磁気記録媒体の潤滑膜の付着量は時間とともに増加する傾向となる。逆に、磁気記録媒体の温度が潤滑剤の温度より高い場合には磁気記録媒体の表面に付着した潤滑剤分子が再度蒸発する率が、付着する率よりも大きくなる傾向となり、必然的に磁気記録媒体の潤滑膜の付着量は時間とともに減少し、保護膜表面に強く吸着している潤滑膜を残して蒸発する傾向となる。このようなことから、潤滑膜の斑を無くして潤滑膜厚を一定の値に製造するためには、蒸発源まわりの構造や密閉容器の構造設計が複雑になり、また潤滑膜形成時間を精密に制御することが必要である。これは設備が高価になったり、製品のばらつきになったりするため好ましくない。また、潤滑膜の斑をなくすため熱処理工程が必要となったりする。
【０００８】
潤滑膜としての課題は従来の塗布方法では潤滑膜に斑が生じることが問題である。磁気ヘッドの浮上量が狭小化した現在、潤滑膜が厚い部分で磁気ヘッドの浮上性が安定しなくなり信頼性の低下を引き起こす。そのため、潤滑膜は理想的には１分子層の均一な膜が形成されていることが理想的であるが、従来の塗布方法では前述した問題があるため、そのような潤滑膜は形成できない。
【０００９】
本発明の目的は、磁気記録媒体の潤滑膜を、付着むらに方向性を無くして厚さのばらつきを少なくし、信頼性の高い磁気記録媒体を提供することである。
【００１０】
本発明の他の目的は、信頼性の高い磁気記録媒体を、製造コストを上げることなく作成できる製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、非磁性基板上に少なくとも磁性膜、保護膜、潤滑膜が順次形成されてなる磁気記録媒体において、前記潤滑膜は主鎖構造が化学式（１）
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
で表されるパーフルオロポリエーテルであり、ボンド率が６０％以上、被覆率が９０％以上、膜厚が１．２ｎｍ以下であり、付着むらに方向性を持たないようにする。
【００１２】
前記潤滑膜は１分子層で構成される。
【００１３】
前記パーフルオロポリエーテルは、化学式（２）、（３）、（４）
−ＣＨ２−ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２）

−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−Ｈ又は−ＣＦ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−ＯＨ（ｐ、ｑは整数である）　　（４）
のいずれか１種類で表される末端官能基Ｘを有する。
【００１４】
前記他の目的を達成するために、非磁性基板上に少なくとも磁性膜および保護膜を形成し、該磁性膜および保護膜が形成された非磁性基板の加熱温度と主鎖構造が化学式（１）
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
で表されるパーフルオロポリエーテルの潤滑剤の温度をそれぞれ一定に保持し、前記保護膜の上に蒸着法で潤滑膜を形成する。
【００１５】
前記潤滑膜の形成を大気中で行う。
【００１６】
前記潤滑膜形成時における非磁性基板および蒸着元の潤滑剤の温度は１００℃〜２００℃の範囲とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。図１に潤滑剤分子の磁気記録媒体表面における蒸発および付着の平衡状態に関する概念図を示す。蒸気となった潤滑剤分子は磁気記録媒体表面で蒸発と付着を繰り返している。潤滑剤分子が磁気記録媒体の保護膜に吸着しやすい官能基を有している場合、その官能基が保護膜表面に付着すると、その潤滑剤分子は蒸発しにくい。また、潤滑剤分子が付着している部分に蒸気中の潤滑剤分子は付着しにくく、付着したとしても蒸発しやすいため、すぐに蒸発する。すなわち、潤滑剤の末端官能基による保護膜表面へ付着している潤滑剤分子以外の分子は、蒸気と磁気記録媒体の温度がほぼ等しい場合には蒸発と付着がほぼ同じ確率で起こっていると推定される。このような平衡状態にあると磁気記録媒体表面には１分子層の潤滑膜が均一に形成される。温度の平衡状態が崩れている場合は、蒸発と付着の確率が等しくないため、潤滑膜は均一に形成されにくいと推定される。
【００１８】
このような平衡状態のもとで潤滑膜を形成するために、図２に示した設備を用意した。磁気記録媒体の例として磁気ディスクを用いて検討した実施例である。非磁性基板上に少なくとも磁性膜および保護膜が形成された磁気ディスク１は支持台２に支持され、潤滑剤塗布槽３と加熱処理槽４で処理される。
【００１９】
加熱処理槽４はヒータ６で温度制御されている。磁気ディスク１はまず加熱処理槽４へ搬送され、所定の温度まで加熱される。磁気ディスク１が所定の温度まで加熱されるとシャッター５が開き、磁気ディスク１は潤滑剤塗布槽３へ搬送され、シャッター５が閉まり密閉される。潤滑剤塗布槽３は潤滑剤８と潤滑剤８を保持する容器９を内部に持ち所定の温度に加熱して潤滑剤蒸気を発生させる機構である蒸発潤滑剤発生機構１０と配管されている。潤滑剤蒸気は潤滑剤塗布槽３の空気とともに循環される。配管には潤滑剤蒸気を循環させるポンプ１１やバルブ１２、１３が配置されており、潤滑剤蒸気の循環を制御する。蒸発潤滑剤発生機構１０や配管、潤滑剤塗布槽３はそれぞれ独立した加熱用のヒータ６を有しており、その温度は常に一定になるように制御される。潤滑剤塗布槽３には蒸気を循環させる攪拌ファン７が内蔵され、潤滑剤の付着むらに方向性が付かないように磁気ディスク１の面に対し渦巻状の空気流を送風する。潤滑剤塗布槽３に磁気ディスク１が入り、密閉されると、供給バルブ１３、排出バルブ１２を開きポンプ１１を駆動させ、蒸発潤滑剤発生機構１０で発生させた潤滑剤蒸気を槽内に循環させる。そのとき潤滑剤蒸気の温度と潤滑剤塗布槽３の温度、磁気ディスク１の加熱処理の温度は１５０±５℃以内になるように制御する。潤滑剤塗布槽３の外部よりエリプソメータで磁気ディスク１の潤滑膜の膜厚をモニタして、所定の厚さになったときに、供給バルブ１３を閉じ潤滑剤蒸気を排出する。その後、磁気ディスク１を取り出す。潤滑剤蒸気の密度は十分に小さいためエリプソメータで潤滑膜の膜厚を測定することが可能である。実際に製造する場合はエリプソメータで測定した潤滑膜厚が所定の膜厚になったときに磁気ディスク１を取り出すことも可能であり、膜厚の制御が簡単にできる。浸漬法などでは塗布中の膜厚をモニタすることは困難であり、この点でも本発明の潤滑剤塗布方法は優れている。
【００２０】
磁気ディスクとして、２．５インチサイズのガラス基板上にＮｉＴａ合金のシード膜を、ＣｒＴｉ合金下地膜、ＣｏＣｒＰｔ合金下部磁性膜、Ｒｕ中間膜、ＣｏＣｒＰｔＢ合金上部磁性膜を順次スパッタ成膜した後、イオンビーム法によりダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜を３．５ｎｍの厚さに形成した。その後、図２に示した加熱処理、潤滑剤塗布を行った。
【００２１】
加熱処理、潤滑剤塗布の標準温度は１５０℃である。加熱処理は３０分間行い、磁気ディスクの温度が１５０℃になることを確認した。使用した潤滑剤は化学式（１）の主鎖構造を持ち（パーフルオロポリエーテル）、末端官能基の構造が化学式（２）〜（４）で表されるアウジモント社製のフォンブリンＺ−ＤＯＬ、Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ、Ｚ−ＤＯＬＴＸの３種類をそれぞれ塗布し比較した。それぞれの潤滑剤の平均分子量は２０００であり、重量平均分子量と数平均分子量の比は１．１以下になるように分子量を制御している。
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　　　　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
−ＣＨ２−ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２）

−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−Ｈ又は−ＣＦ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−ＯＨ（ｐ、ｑは整数である）　　（４）
まず、Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌを用いて磁気ディスクおよび潤滑剤蒸気の保持温度を同じ１５０℃としたとき、塗布時間に伴い、塗布される潤滑膜厚がどう変化するかを測定した。結果を図３に示す。比較例として、磁気ディスクの加熱工程での温度を１３０℃として潤滑剤蒸気と空気の温度を１５０℃にしたとき、および磁気ディスクの加熱工程での温度を１８０℃として潤滑剤蒸気と空気の温度を１５０℃にしたとき、の塗布時間と潤滑膜厚の関係を図４に示す。
【００２２】
図３と図４を比較すると明らかなように潤滑膜厚の時間変化は、実施例の場合が安定しており、比較例は時間とともに大きく変化する。大気中において数分程度の塗布時間で安定で均一な潤滑膜を形成できることが確認できた。そこで塗布時間を３分にしてそれぞれの温度条件で磁気ディスクに潤滑膜を形成した。そしてその磁気ディスクを潤滑剤の溶媒（スリーエム社製ＨＦＥ７１００）で常温でリンスしてボンド率を測定した。ボンド率はリンス後のエリプソメータで測定した潤滑膜厚とリンス前の潤滑膜厚との比率と定義している。また、フッ素コーティングを施したプローブを用いて原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で潤滑膜の膜厚と被覆率を測定した。その結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】

ＡＦＭで測定した潤滑膜厚はエリプソメータで測定した膜厚とは異なり、潤滑膜の実際の膜厚を示しており、エリプソメータの膜厚は平均的な膜厚を示している。実施例の場合ボンド率は大きく、かつ被覆率も１００％に近いこと、またＡＦＭで測定した潤滑膜厚とエリプソメータで測定した潤滑膜厚とほぼ等しいことから、１分子層からなる潤滑膜となっていることがわかる。比較例１ではボンド率が著しく小さく、被覆率が１００％であることから１分子層ではなく多分子層の潤滑膜が形成されており、２分子層以上の潤滑剤が容易にリンスされることからボンド率が低下していると推定される。比較例２ではボンド率は大きいが、被覆率が実施例に比較して小さい。このことから、比較例２の潤滑膜はアイランド状に潤滑剤が付着していることがわかる。これらの結果より実施例では１分子層の潤滑膜が均一に分布しており潤滑膜としてヘッドの浮上性を阻害せず、優れた耐摩耗性を示すと考えられる。
【００２４】
次に加熱温度、潤滑剤蒸気の温度をパラメータとして検討を行った。温度を６０℃〜１６０℃まで変化させて潤滑膜厚が飽和する時間を測定した。使用した潤滑剤はＺ−Ｔｅｔｒａｏｌである。その結果を図５に示す。磁気ディスクの保持温度を上げるにつれて潤滑剤飽和時間は減少していく。特に１００℃以上では２００分以下と短時間となっており、製造に適している。温度を２００℃以上の高温にした場合は、潤滑剤が分解する恐れがあるため、１００℃〜２００℃が磁気ディスクの製造に適していると考えられる。
【００２５】
飽和した潤滑膜厚と磁気ディスクの保持温度との関係を図６に示す。飽和潤滑膜厚は温度とともに減少して、１３０℃〜１６０℃で１．２ｎｍ以下の一定膜厚（１．１ｎｍ）となる。これらの磁気ディスクをリンスしてそのボンド率と磁気ヘッドの浮上性を調査した。浮上性は浮上量８ｎｍのヘッドを磁気ディスク上で１０回シークした後、ヘッドに付着する潤滑剤の量を光学顕微鏡で観察して、多量に付着したものを×、少量付着したものを△、付着しなかったものを○とした。その結果を表２に示す。
【００２６】
【表２】

保持温度の増加に伴い、ボンド率は増加して、一緒に磁気ヘッドの浮上性も増加している。特にボンド率が６０％以上の保持温度１２０℃以上で処理を行った場合にヘッドの浮上性が良好であった。潤滑剤がＺ−ＤＯＬ、Ｚ−ＤＯＬＴＸの場合も１５０℃で潤滑剤を塗布してヘッドの浮上性を評価したところ良好な結果であった。
【００２７】
本実施例ではイオンビーム法で形成したＤＬＣ保護膜に対してＺ−ＤＯＬ、Ｚ−Ｔｅｔｒａｏｌ、Ｚ−ＤＯＬＴＸの潤滑剤を塗布した実施例を示したが、保護膜に窒素等のガスを添加した場合や、保護膜の成膜方式が異なる場合は、潤滑剤の付着性が異なるため、飽和潤滑膜厚やボンド率は変化すると考えられるため、前記実施例で示した最適な製造条件が全てについて当てはまるとは限らない。しかし、熱平衡な状態で潤滑剤を塗布することで、同様な効果を得ることが可能であると考えられる。
【００２８】
【発明の効果】
本発明により、潤滑膜を均一な厚さに形成できるので、信頼性の高い磁気ディスクを得ることができる。また潤滑膜形成装置の構造を複雑にしたり、潤滑膜形成時間を精密に制御する必要がなく、潤滑膜の製造方法を安価で簡単なものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気記録媒体表面における潤滑剤分子の蒸発および付着の平衡状態に関する概念図である。
【図２】本発明の１実施例による潤滑膜の形成方法を実現する製造装置の構成図である。
【図３】本発明の１実施例における潤滑剤の塗布時間に対する潤滑膜厚の変化を示す図である。
【図４】比較例における潤滑剤の塗布時間に対する潤滑膜厚の変化を示す図である。
【図５】磁気ディスクの加熱温度と潤滑膜厚飽和時間との関係を示す図である。
【図６】磁気ディスクの加熱温度と飽和潤滑膜厚との関係を示す図である。
【図７】従来の塗布方法により潤滑剤が塗布された磁気ディスクにおいて、潤滑剤の付着むら（斑）に方向性が生じている状態を示す平面図である。
【符号の説明】
１　　磁気ディスク　　　　　２　　支持台　　　　　　　３　　潤滑剤塗布槽
４　　加熱処理槽　　　　　　５　　シャッター　　　　　６　　加熱用ヒータ
７　　蒸気攪拌ファン　　　　８　　パーフルオロポリエーテル潤滑剤
９　　潤滑剤保持容器　　　　１０　　蒸発潤滑剤発生機構
１１　　循環用ポンプ　　　　　１２　　排出バルブ　　　　　　１３　　供給バルブ

Claims

非磁性基板上に少なくとも磁性膜、保護膜、潤滑膜が順次形成されてなる磁気記録媒体において、前記潤滑膜は主鎖構造が化学式（１）
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
で表されるパーフルオロポリエーテルであり、ボンド率が６０％以上、被覆率が９０％以上、膜厚が１．２ｎｍ以下であり、付着むらに方向性を持たないことを特徴とする磁気記録媒体。
前記潤滑膜は１分子層で被着されていることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
前記パーフルオロポリエーテルは、化学式（２）、（３）、（４）
−ＣＨ２−ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２）

−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−Ｈ又は−ＣＦ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−ＯＨ（ｐ、ｑは整数である）　　（４）
のいずれか１種類で表される末端官能基Ｘを有することを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
非磁性基板上に少なくとも磁性膜および保護膜を形成し、該磁性膜および保護膜が形成された非磁性基板の加熱温度と主鎖構造が化学式（１）
Ｘ−ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ−（ＣＦＯ）ｎ−ＣＦ２−Ｘ　　　　　　　（１）
（ここでｍおよびｎは０または１以上の整数であり、Ｘは末端官能基であり、平均分子量は６００〜３５００である）
で表されるパーフルオロポリエーテルの潤滑剤の温度をそれぞれ一定に保持し、前記保護膜の上に蒸着法で潤滑膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
前記潤滑膜の形成を大気中で行うことを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
前記潤滑膜形成時における非磁性基板および蒸着元の潤滑剤の温度は１００℃〜２００℃であることを特徴とする請求項４または５に記載の磁気記録媒体の製造方法。
前記パーフルオロポリエーテルは、化学式（２）、（３）、（４）
−ＣＨ２−ＯＨ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（２）

−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ−Ｈ又は−ＣＦ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｑ−ＯＨ（ｐ、ｑは整数である）　　（４）
のいずれか１種類で表される末端官能基Ｘを有することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。