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JP2004088127A - Electronic component material and electronic component manufacturing method - Google Patents

Electronic component material and electronic component manufacturing method Download PDF

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JP2004088127A
JP2004088127A JP2003386719A JP2003386719A JP2004088127A JP 2004088127 A JP2004088127 A JP 2004088127A JP 2003386719 A JP2003386719 A JP 2003386719A JP 2003386719 A JP2003386719 A JP 2003386719A JP 2004088127 A JP2004088127 A JP 2004088127A
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substrate
substrate material
hole
manufacturing
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JP2003386719A
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Nobuaki Hashimoto
橋元 伸晃
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Seiko Epson Corp
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Abstract

【目的】 安価かつ小型で、信頼性の高いリードレスパッケージ型の電子部品を、またこの電子部品を製作するための電子部品素材および製造方法を提供することを目的とする。
【構成】 周囲に複数の外部電極7を設けた方形の基板6と、外部電極7に電気的に接続された状態で基板6の表面に載置した要素部品1と、要素部品1を基板6の表面にモールドしたモールド樹脂5とを備えたリードレスパッケージ型の電子部品において、モールド樹脂5の表面が平坦に形成されると共に、モールド樹脂5の各側面が基板6の各側面と面一に形成されている。
【選択図】  図4


An object of the present invention is to provide an inexpensive, small, and highly reliable leadless package type electronic component, and an electronic component material and a manufacturing method for manufacturing the electronic component.
A rectangular substrate provided with a plurality of external electrodes on its periphery, an element component mounted on a surface of the substrate while being electrically connected to the external electrode, and an element component mounted on the surface of the substrate. In a leadless package type electronic component having a molding resin 5 molded on the surface of the substrate, the surface of the molding resin 5 is formed flat, and each side surface of the molding resin 5 is flush with each side surface of the substrate 6. Is formed.
[Selection diagram] Fig. 4


Description

 本発明は、例えば民生用・産業用電子機器に使用するための、プリント基板にICチップやLSI等を搭載した電子部品、電子部品素材および電子部品の製造方法に関する。 (4) The present invention relates to an electronic component having an IC chip, an LSI, or the like mounted on a printed circuit board, an electronic component material, and a method of manufacturing an electronic component, for use in, for example, consumer / industrial electronic devices.

 近年、エレクトロニクス技術の著しい進歩によって様々な民生用・産業用電子機器の小型・軽量・薄型化、高性能化が急速に進んでいる。そこで、回路規模の増大、使用する電子部品の増加に対応するべく高密度化、高速化を図るために、プリント基板の薄型化およびファインパターン化、多層構造の採用、電子部品の小型化等と共に、電子部品を接続するための様々な実装技術が開発されている。
特に、ICチップやLSI等と基板との接続技術として、従来より図14に示されるようなチップキャリア型の電子部品が知られている。
2. Description of the Related Art In recent years, various consumer and industrial electronic devices have been rapidly reduced in size, weight, thickness, and performance due to remarkable progress in electronics technology. Therefore, in order to increase the circuit density and increase the number of electronic components to be used, to achieve higher density and higher speed, thinner and finer patterns of printed circuit boards, adoption of multilayer structure, miniaturization of electronic components, etc. Various mounting techniques for connecting electronic components have been developed.
In particular, a chip carrier type electronic component as shown in FIG. 14 has conventionally been known as a technique for connecting an IC chip, LSI, or the like to a substrate.

 図14(a)は、チップキャリア型の電子部品を、半導体素子が搭載された表面側から見た平面図である。また、図14(b)は、図14(a)のA−A’線断面図である。図14(b)に示すように、この電子部品は、予めスルーホール7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチし、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。配線パターン3は、スルーホール(外部電極)7および基板6の裏面に設けた接続用ランド8に続がっており、図外のマザーボードとは、通常ハンダ付けにより、スルーホール7および接続用ランド8を介して接続が執られている。基板6は、通常はプリント基板であるが、セラミクス基板が用いられることもある。基板6上にダイアタッチされた半導体素子1は、ワイヤーボンディングで配線パターン3に接続された後、モールド樹脂5でモールドされる。 FIG. 14A is a plan view of a chip carrier type electronic component as viewed from a surface side on which a semiconductor element is mounted. FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. As shown in FIG. 14 (b), this electronic component is obtained by die-attaching the semiconductor element 1 onto a substrate 6 which has been cut in advance so as to pass through the vicinity of the axis of the through-hole 7. Is electrically connected to the wiring pattern 3 formed by the wire 2 using a wire 2. The wiring pattern 3 is connected to a through-hole (external electrode) 7 and a connection land 8 provided on the back surface of the substrate 6. The wiring pattern 3 is usually soldered to a motherboard (not shown) by soldering. The connection is made via 8. The substrate 6 is usually a printed circuit board, but may be a ceramics substrate. The semiconductor element 1 die-attached on the substrate 6 is connected to the wiring pattern 3 by wire bonding, and then molded with the molding resin 5.

 基板6表面の周縁部には、ダムを構成するモールド枠4が設けられており、このモールド枠4により、モールド樹脂5が半導体素子1の高さまで盛られ、かつスルーホール7からモールド樹脂5が基板6裏面に流れ込まないようになっている。また、モールド枠4を使用しない場合は、同様の理由で、スルーホール7を半導体素子1から遠ざける様に基板6が設計され、かつモールド樹脂5もチクソ性の高いもの(チクソ比の大きいもの=樹脂流れの少ない、盛り上がり性の良いもの)を採用していた。 A mold frame 4 constituting a dam is provided at a peripheral portion of the surface of the substrate 6. The mold frame 4 allows the mold resin 5 to be filled up to the height of the semiconductor element 1, and the mold resin 5 to pass through the through hole 7. It does not flow into the back surface of the substrate 6. When the mold frame 4 is not used, for the same reason, the substrate 6 is designed so that the through hole 7 is kept away from the semiconductor element 1 and the mold resin 5 also has high thixotropy (those having a high thixotropy = A resin with little resin flow and good swelling) was used.

 しかしながら、上述した従来のチップキャリア型の電子部品では、基板6上にモールド枠4を形成する必要があるので、枠形成のコストアップは避けられず、かつモールド枠4の分、チップキャリア型の電子部品寸法が大きくなってしまうという課題を有していた。 However, in the above-described conventional chip carrier type electronic component, since it is necessary to form the mold frame 4 on the substrate 6, an increase in the cost of forming the frame is unavoidable, and the chip carrier type There has been a problem that the dimensions of the electronic component are increased.

 また、モールド枠4を使用しない場合では、スルーホール7を半導体素子1から遠ざける必要があるため、やはりチップキャリア型の電子部品寸法が大きくなってしまい、かつチクソ性の高いモールド樹脂5、すなわち流動性の悪いモールド材を採用する必要があるため、半導体素子1の近傍の間隙にモールド樹脂5が回り込み難くなって、モールド樹脂5の未充填部が発生し、チップキャリア型の電子部品の信頼性を低下させてしまうという問題を有していた。 Further, when the mold frame 4 is not used, since the through holes 7 need to be kept away from the semiconductor element 1, the size of the chip carrier type electronic component also becomes large, and the mold resin 5 having high thixotropic property, that is, Since it is necessary to use a molding material having poor performance, the molding resin 5 does not easily flow into the gap in the vicinity of the semiconductor element 1, and an unfilled portion of the molding resin 5 occurs. Has been reduced.

 そこで、本発明の目的は、上記問題を解決し、安価で、小型で信頼性の高いリードレスパッケージ型の電子部品を、またこの電子部品を製作するための電子部品素材および製造方法を提供することを目的としている。 Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, to provide an inexpensive, small, and highly reliable leadless package type electronic component, and to provide an electronic component material and a manufacturing method for manufacturing the electronic component. It is aimed at.

 上記課題を解決するため、本発明の電子部品は下記の手段を有することを特徴とする。ここで下記の基板上に載置された要素部品とは、半導体素子に代表される能動素子と、インダクタンス素子、容量素子等のいわゆる受動素子とを含む概念である。 た め In order to solve the above problems, the electronic component of the present invention is characterized by having the following means. Here, an element component mounted on a substrate described below is a concept including an active element typified by a semiconductor element and a so-called passive element such as an inductance element and a capacitance element.

 請求項1の電子部品は、周囲に複数の外部電極を設けた方形の基板と、外部電極に電気的に接続された状態で基板の表面に載置した要素部品と、要素部品を基板の表面にモールドしたモールド樹脂とを備えたリードレスパッケージ型の電子部品において、モールド樹脂の表面が平坦に形成されると共に、モールド樹脂の各側面が基板の各側面と面一に形成されていることを特徴とする。 The electronic component according to claim 1, wherein the substrate has a rectangular substrate provided with a plurality of external electrodes, an element component mounted on a surface of the substrate in a state of being electrically connected to the external electrode, and an element component mounted on the surface of the substrate. In a leadless package type electronic component having a molded resin, the surface of the molded resin is formed flat, and each side surface of the molded resin is formed flush with each side surface of the substrate. Features.

 請求項1の電子部品において、外部電極が、スルーホールを軸方向に切断して形成されたものであることが、好ましい。 In the electronic component according to the first aspect, it is preferable that the external electrode is formed by cutting a through hole in an axial direction.

 請求項2の電子部品において、外部電極には、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることが、好ましい。 In the electronic component according to the second aspect, it is preferable that the external electrode is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability.

 請求項4の電子部品において、金属材料がハンダ、或いは金であることが、好ましい。 電子 In the electronic component according to claim 4, it is preferable that the metal material is solder or gold.

 また請求項2の電子部品において、外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を、更に備えており、覆装部材は、モールド樹脂により基板の表面にモールドされていると共に、その側端面がモールド樹脂および基板の側面と面一に形成されていること、が好ましい。 The electronic component according to claim 2, further comprising a covering member that closes an opening of the external electrode on the mold resin side, wherein the covering member is molded on the surface of the substrate by the mold resin, and the side of the covering member is closed. It is preferable that the end surface is formed flush with the side surface of the mold resin and the substrate.

 請求項7の電子部品において、基板と要素部品との間に、覆装部材と全く同一材料のパッドを、更に備えることが好ましい。 In the electronic component according to the seventh aspect, it is preferable that a pad made of exactly the same material as the covering member is further provided between the substrate and the element component.

 請求項8の電子部品において、パッドには、覆装部材を表裏方向に貫通する貫通孔が形成されており、貫通孔には要素部品と基板の配線領域とを導通する導電性部材が内在されていることが、好ましい。 9. The electronic component according to claim 8, wherein the pad is formed with a through-hole penetrating the covering member in a front-to-back direction, and the through-hole includes a conductive member that conducts between the component and the wiring area of the substrate. Is preferred.

 請求項7、8または9の電子部品において、覆装部材が、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板であることが、好ましい。 に お い て In the electronic component according to claim 7, 8, or 9, it is preferable that the covering member is an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate.

 請求項1ないし13のいずれかの電子部品において、外部電極が、基板の角部に設けられていることが、好ましい。 に お い て In the electronic component according to any one of claims 1 to 13, it is preferable that the external electrode is provided at a corner of the substrate.

 請求項15の電子部品素材は、ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線上に配設した基板素材と、基板素材の仮想線に囲まれた領域に実装した要素部品と、要素部品をモールドするように基板素材の表面全域に流し込んだモールド樹脂とを備えたことを特徴とする。 In the electronic component material according to the fifteenth aspect, a through-hole in which an external electrode is formed by being cut by a line substantially passing through the axis is surrounded by a substrate material disposed on a grid-like virtual line and a virtual line of the substrate material. And a mold resin poured into the entire surface of the substrate material so as to mold the element component.

 請求項15の電子部品素材において、基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを、更に備えることが好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 15, it is preferable to further include a dam at a peripheral portion of the substrate material for preventing the flow of the poured mold resin.

 請求項15または16の電子部品素材において、基板素材に、各スルーホールに連なるメッキリードを、更に備えることが好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 15 or 16, it is preferable that the substrate material further includes a plating lead connected to each through hole.

 請求項17の電子部品素材において、メッキリードが、基板素材の表裏両面に配設されていることが、好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 17, it is preferable that the plating leads are provided on both front and back surfaces of the substrate material.

 請求項15ないし18のいずれかの電子部品素材において、各スルーホールに、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料を充填したことが、好ましい。 In the electronic component material according to any one of claims 15 to 18, it is preferable that each through hole is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability.

 請求項20の電子部品素材において、金属材料がハンダ、或いは金であることが、好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 20, the metal material is preferably solder or gold.

 請求項15ないし18のいずれかの電子部品素材において、基板素材の表面に、各スルーホールの開口部を閉塞すると共に、モールド樹脂にモールドされた覆装素材を、更に備えることが好ましい。 電子 In the electronic component material according to any one of claims 15 to 18, it is preferable that the surface of the substrate material further include a covering material molded in a mold resin while closing an opening of each through hole.

 請求項23の電子部品素材において、基板素材と各要素部品との間に、覆装素材と全く同一材料のパッドを、更に備えることが好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 23, it is preferable that a pad made of exactly the same material as the covering material is further provided between the substrate material and each element component.

 請求項23または24の電子部品素材において、覆装素材が、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板であることが、好ましい。 電子 In the electronic component material according to claim 23 or 24, the covering material is preferably an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate.

 請求項15ないし28のいずれかの電子部品素材において、スルーホールを、格子状の仮想線の交差部に配設することが、好ましい。 に お い て In the electronic component material according to any one of claims 15 to 28, it is preferable that the through holes are arranged at intersections of the grid-like virtual lines.

 請求項30の電子部品の製造方法は、ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線に沿って基板素材に作り込む基板製作工程と、基板素材の仮想線に囲まれた領域に要素部品を実装する実装工程と、要素部品とこれに対応するスルーホールとを電気的に接続する接続工程と、基板素材の表面全域にモールド樹脂を流し込んで要素部品をモールドするモールド工程と、モールド樹脂が硬化した後、基板素材、モールド樹脂およびスルーホールを仮想線に沿って切断する切断工程とを備えたことを特徴とする。 A method of manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein a through hole in which an external electrode is formed by cutting along a line substantially passing through an axis is formed in a substrate material along a grid-like virtual line; A mounting process of mounting element components in a region surrounded by virtual lines of the substrate material, a connection process of electrically connecting the element components and corresponding through holes, and pouring mold resin over the entire surface of the substrate material. And a cutting step of cutting the substrate material, the mold resin and the through-holes along the imaginary line after the molding resin is cured.

 請求項30の電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを形成するダム形成工程を、更に備えることが好ましい。 Preferably, the method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising a dam forming step of forming a dam at a peripheral portion of the substrate material to prevent the flow of the poured mold resin before the molding step.

 請求項31または32の電子部品の製造方法において、基板素材を水平に保持する治具を用い、治具により基板素材を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させることが、好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 31 or 32, it is preferable to use a jig for holding the substrate material horizontally and to cure the mold resin while the substrate material is held horizontally by the jig.

 請求項32の電子部品の製造方法において、流し込むモールド樹脂を、重量で管理することが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 32, it is preferable that the poured mold resin is controlled by weight.

 請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、各スルーホールに、導電ペーストを充填する充填工程を、更に備えることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, it is preferable that the method further includes a filling step of filling each through hole with a conductive paste before the molding step.

 請求項34の電子部品の製造方法において、充填工程が、導電ペーストを各スルーホールに充填した後これを加熱硬化させることにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 34, it is preferable that the filling step is performed by filling the conductive paste into each through-hole and then heating and curing the conductive paste.

 請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填する充填工程を、更に備えることが好ましい。 Preferably, the method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, further comprises, before the molding step, a filling step of filling each through hole with a metal material having solder wettability.

 請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、ハンダペーストを各スルーホールに充填した後これを加熱溶融させることにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 36, the metal material is preferably solder, and the filling step is preferably performed by filling a solder paste into each through hole and then heating and melting the solder paste.

 請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、溶融して波立せたハンダにスルーホールの開口部を接触させることにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 36, the metal material is preferably solder, and the filling step is preferably performed by bringing the opening of the through hole into contact with the molten and wavy solder.

 請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、基板素材のスルーホールの開口部を除く部分をマスキングした後、基板素材を溶融したハンダに浸漬することにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 36, the metal material is solder, and the filling step is performed by masking a portion of the substrate material other than an opening of the through hole, and then immersing the substrate material in molten solder. It is preferably performed.

 請求項36の電子部品の製造方法において、充填工程は、スルーホールに厚くメッキを施すことにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 36, the filling step is preferably performed by plating the through-hole thickly.

 請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて基板素材の裏面に開口した各スルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、モールド樹脂が硬化した後、閉塞部材を取り去る開放工程とを、更に備えることが好ましい。 The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, wherein, prior to the molding step, a closing step of closing an opening of each through hole opened on the back surface of the substrate material using a closing member; It is preferable that the method further includes an opening step of removing the closing member after the completion.

 請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が基板素材の裏面全域を覆い得る非粘着性の平板状部材であり、閉塞工程は、基板素材の裏面に平板状部材を押し当てることにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 41, the closing member is a non-adhesive flat plate member capable of covering the entire back surface of the substrate material, and the closing step is by pressing the flat member against the back surface of the substrate material. It is preferably performed.

 請求項42の電子部品の製造方法において、平板状部材が、シリコーンゴムであることが、好ましい。 に お い て In the method for manufacturing an electronic component according to claim 42, the flat member is preferably made of silicone rubber.

 請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が、基板素材の裏面全域を覆い得る粘着性のシートであり、閉塞工程は、基板素材の裏面にシートを貼着することにより、行われることが好ましい。 42. The method for manufacturing an electronic component according to claim 41, wherein the closing member is an adhesive sheet capable of covering the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by attaching the sheet to the back surface of the substrate material. Is preferred.

 請求項44の電子部品の製造方法において、シートが紫外線の照射により粘着性が低下する紫外線硬化シートであり、閉塞工程と開放工程との間で、紫外線硬化シートに紫外線を照射することが、好ましい。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 44, wherein the sheet is an ultraviolet-curable sheet whose adhesiveness is reduced by irradiation with ultraviolet light, and between the closing step and the opening step, it is preferable to irradiate the ultraviolet-curable sheet with ultraviolet light. .

 請求項44の電子部品の製造方法において、シートが加熱することにより粘着性が低下する熱硬化シートであり、閉塞工程と開放工程との間で、熱硬化シートを加熱することが、好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 44, the sheet is a thermosetting sheet whose tackiness is reduced by heating, and it is preferable to heat the thermosetting sheet between the closing step and the opening step.

 請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が、アルカリ水溶液に溶解する溶解性樹脂であり、閉塞工程は、各スルーホールに溶解性樹脂を流し込んで硬化させることにより、行われ、開放工程は、アルカリ水溶液で溶解性樹脂を洗い流すことにより、行われることが好ましい。 42. The method of manufacturing an electronic component according to claim 41, wherein the closing member is a soluble resin that dissolves in an alkaline aqueous solution, and the closing step is performed by pouring the soluble resin into each through hole and curing the resin. Is preferably carried out by washing away the soluble resin with an aqueous alkali solution.

 請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材の表面に、各スルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を取り付ける覆装工程を、更に備えることが好ましい。 34. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising, before the molding step, a covering step of attaching a covering material for closing an opening of each through hole to a surface of the substrate material. preferable.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装素材が粘着性のシートであり、覆装工程は、基板素材の表面に当該シートを貼着することにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 48, the covering material is preferably an adhesive sheet, and the covering step is preferably performed by attaching the sheet to the surface of the substrate material.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がドライフィルムであり、覆装工程は、基板素材の表面にドライフィルムを貼着することにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 48, the covering member is preferably a dry film, and the covering step is preferably performed by attaching the dry film to the surface of the substrate material.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がガラスエポキシの成形板であり、覆装工程は、基板素材の表面に成形板を接着することにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 48, it is preferable that the covering member is a molded plate of glass epoxy, and the covering step is performed by bonding the molded plate to the surface of the substrate material.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がガラスエポキシのプリプレグであり、覆装工程は、基板素材の表面にプリプレグを加熱圧着することにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 48, the covering member is preferably a prepreg made of glass epoxy, and the covering step is preferably performed by heat-pressing the prepreg on the surface of the substrate material.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がセラミックの成形板であり、覆装工程は、基板素材の表面に成形板を接着することにより、行われることが好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to claim 48, it is preferable that the covering member is a ceramic molded plate, and the covering step is performed by bonding the molded plate to the surface of the substrate material.

 請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がセラミックのグリーンシートであり、覆装工程は、基板素材の表面にグリーンシートを加熱圧着することにより、行われることが好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 48, the covering member is preferably a ceramic green sheet, and the covering step is preferably performed by heat-pressing the green sheet on the surface of the substrate material.

 請求項30ないし54のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材に基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、モールド樹脂の硬化後であって切断工程の前に、平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えることが好ましい。 55. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein prior to the molding step, a step of attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material, and a step of cutting after curing of the mold resin. Before removing the flat surface holding means.

 請求項55の電子部品の製造方法において、モールド樹脂の硬化後であって、平面保持手段を取り去る前に、基板素材を加熱させ且つ徐冷させることが、好ましい。 In the electronic component manufacturing method according to claim 55, it is preferable that the substrate material is heated and gradually cooled after the curing of the mold resin and before removing the plane holding means.

 請求項30ないし54のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド樹脂の硬化後であって切断工程の前に、基板素材に基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、基板素材を加熱させ且つ徐冷させる工程と、平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えることが好ましい。 55. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein after the curing of the mold resin and before the cutting step, attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material; It is preferable that the method further includes a step of heating and gradually cooling the material, and a step of removing the plane holding means.

 請求項55、56または57の電子部品の製造方法において、平面保持手段は、基板素材の裏面側に当てがう平面保持板と、平面保持板および基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで、構成されていることが好ましい。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 55, 56 or 57, wherein the plane holding means comprises: a plane holding plate applied to the back side of the substrate material; and a holding member for holding the plane holding plate and the substrate material together. Preferably, it is configured.

 請求項30ないし58のいずれかの電子部品の製造方法において、基板製作工程において、基板素材に、スルーホールと共に、各スルーホールに連なるメッキリードを一体に作り込むことが、好ましい。 In the method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 58, it is preferable that, in the substrate manufacturing step, the substrate material is integrally formed with the through-holes and the plating leads connected to the respective through-holes.

 請求項59の電子部品の製造方法において、切断工程に先立ち、基板素材およびモールド樹脂に切り込みを入れてメッキリードをスルーホールから切り離す半切断工程と、これに続く要素部品の電気的な検査を行う検査工程とを、更に備えることが好ましい。 60. A method of manufacturing an electronic component according to claim 59, wherein prior to the cutting step, a semi-cutting step of cutting a plating lead from a through hole by making a cut in the substrate material and the mold resin, and an electrical inspection of the subsequent component parts are performed. It is preferable to further include an inspection step.

 請求項60に記載の電子部品の製造方法において、半切断工程における切り込みが、仮想線に沿って行われることが好ましい。 電子 In the electronic component manufacturing method according to claim 60, it is preferable that the cut in the half-cutting step is performed along a virtual line.

 請求項30ないし61のいずれかの電子部品の製造方法において、切断工程に先立ち、基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着する工程を、更に備え、切断工程が、シートを完全切断することなく行われることが、好ましい。
(作用)
62. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising, prior to the cutting step, a step of attaching an adhesive sheet to one entire surface of the substrate material, and the cutting step completely cuts the sheet. It is preferred that this be done without.
(Action)

 請求項1の電子部品によれば、モールド樹脂の表面が平坦に形成されていることにより、全体の厚みを一定にすることができる。また、モールド樹脂の各側面が基板の各側面と面一に形成されていることにより、ダムなどによるスペースの無駄がなく、全体の平面形状を小さく形成することができる。 According to the electronic component of the first aspect, since the surface of the mold resin is formed flat, the entire thickness can be made constant. Further, since each side surface of the mold resin is formed flush with each side surface of the substrate, the entire planar shape can be formed small without wasting space due to a dam or the like.

 請求項2の電子部品によれば、外部電極がスルーホールを軸方向に切断して成ることにより、例えば、外部電極にハンダなどを充填しておかなければ、外部電極をプローブピンの位置決め穴として用いることにより、電気的な検査が容易になる。 According to the electronic component of claim 2, since the external electrode is formed by cutting the through hole in the axial direction, for example, unless the external electrode is filled with solder or the like, the external electrode is used as a positioning hole for the probe pin. Use makes electrical inspection easier.

 請求項3および4の電子部品によれば、外部電極に、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることにより、取扱い性が良好になり、またマザーボードなどにハンダ付けする場合に、外部電極のマザーボード側下部にフィレットが形成され易くなり、ハンダ付け性を向上させることができる。また、モールド工程において、外部電極にモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になると共に、従来のダムに相当する部材を省略することができ、かつ要素部品と外部電極とを近接して配置することができる。このため、製造コストを低減することができると共に、全体をコンパクトに形成することができる。しかも、チクソ性の低い、すなわち回り込みの良好なモールド材を用いることができる。 According to the electronic component according to the third and fourth aspects, the external electrode is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability, so that the handleability is improved and when soldering to a motherboard or the like. In addition, a fillet is easily formed at the lower portion of the external electrode on the motherboard side, and the solderability can be improved. In addition, in the molding process, the molding resin does not flow into the external electrodes, thereby facilitating the production, omitting the members corresponding to the conventional dam, and disposing the component parts and the external electrodes in close proximity. can do. For this reason, the manufacturing cost can be reduced, and the whole can be formed compact. In addition, it is possible to use a mold material having low thixotropy, that is, a good wraparound.

 請求項5および6の電子部品によれば、上記金属材料にハンダ、或いは金を用いることにより、マザーボードなどへのハンダ付け性を、より一層向上させることができる。 According to the electronic components of claims 5 and 6, by using solder or gold for the metal material, solderability to a motherboard or the like can be further improved.

 請求項7の電子部品によれば、外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を設け、且つこの覆装部材の側端面がモールド樹脂および基板の側面と面一に形成されていることにより、請求項2および3と同様に、モールド工程において、外部電極にモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造コストを低減することができると共に、全体をコンパクトに形成することができる。また、チクソ性の低いモールド材を用いることができる。 According to the electronic component of the present invention, a covering member for closing the opening of the external electrode on the mold resin side is provided, and the side end surface of the covering member is formed flush with the side surfaces of the mold resin and the substrate. Thus, similarly to the second and third aspects, in the molding step, the molding resin does not flow into the external electrodes, so that the manufacturing cost can be reduced and the whole can be formed compact. Further, a mold material having low thixotropy can be used.

 請求項8の電子部品によれば、基板と要素部品との間に、覆装部材と全く同一のパッドを設けることにより、このパッドを位置決めの目標として要素部品を実装することができる。また、要素部品の端が覆装部材に載って、要素部品が傾いた状態で実装されるなどの不具合を防止することができる。 According to the electronic component of the eighth aspect, by providing the same pad as the covering member between the substrate and the element component, the element component can be mounted with this pad as a positioning target. Further, it is possible to prevent a problem that the end of the element component is placed on the covering member and the element component is mounted in an inclined state.

 請求項9の電子部品によれば、パッドに貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性部材を内在させることにより、ダイパッドを必要とする要素部品において、要素部品とダイパッドとを導通して、同電位にすることができる。 According to the electronic component of the ninth aspect, a through-hole is formed in the pad, and a conductive member is provided inside the through-hole, so that in the element component requiring the die pad, the element component and the die pad are electrically connected. The same potential can be set.

 請求項10ないし13の電子部品によれば、覆装部材を粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができる。特に、ドライフィルムなどでは、基板の製造工程に用いるフォトプロセスを適用することができ、より一層加工および取付を容易に行うことができる。 According to the electronic components of the tenth to thirteenth aspects, by forming the covering member from an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate, processing and mounting can be easily performed. In particular, in the case of a dry film or the like, a photo process used in a manufacturing process of a substrate can be applied, and processing and mounting can be further easily performed.

 請求項14の電子部品によれば、外部電極が、基板の角部に設けられていることにより、基板のプリントパターンを分散して配置することができ、デッドスペースとなりがちな基板の角部を有効に利用することができる。このため、プリントパターンの適正化を図ることができると共に、デッドスペースがなくなる分、全体をコンパクトに形成することができる。 According to the electronic component of the fourteenth aspect, since the external electrodes are provided at the corners of the board, the printed pattern of the board can be dispersedly arranged, and the corners of the board that tend to be dead spaces can be removed. It can be used effectively. For this reason, the print pattern can be optimized, and the whole can be formed compact because the dead space is eliminated.

 請求項15の電子部品素材によれば、これを仮想線に沿って切断することにより、周囲に外部電極を有する基板に、要素部品が実装され且つモールドされたリードレス型の電子部品を形成することができる。この切り出された電子部品では、モールド樹脂の各側面と基板の各側面とが面一となり、請求項2と同様な電子部品を製作することができる。この場合、1個の電子部品を切り出せるような電子部品素材でもよいが、半導体ウェハのように、多数の電子部品要素を格子状に組み込んでおいて、多数の電子部品を切り出せるような電子部品素材にすることが、好ましい。このようにすれば、コンパクトに形成された電子部品を簡単かつ迅速に製作することができる。 According to the electronic component material of the fifteenth aspect, by cutting this along the imaginary line, a leadless electronic component in which element components are mounted and molded is formed on a substrate having peripheral external electrodes. be able to. In this cut-out electronic component, each side surface of the mold resin and each side surface of the substrate are flush with each other, so that an electronic component similar to the second aspect can be manufactured. In this case, an electronic component material that can cut out one electronic component may be used, but an electronic component material that can cut out many electronic components by incorporating a large number of electronic component elements in a lattice shape like a semiconductor wafer. It is preferable to use a component material. In this way, a compact electronic component can be manufactured easily and quickly.

 請求項16の電子部品素材によれば、基板素材の周縁部にダムを設けることにより、モールド工程において、モールド樹脂の基板素材外への流出を阻止することができ、モールド樹脂の流し込み(塗布)を効率よく行うことができると共に、チクソ性の低いモールド材を使用することができる。 According to the electronic component material of the sixteenth aspect, by providing the dam at the peripheral portion of the substrate material, it is possible to prevent the molding resin from flowing out of the substrate material in the molding process, and to flow (apply) the molding resin. Can be performed efficiently, and a mold material having low thixotropy can be used.

 請求項17の電子部品素材によれば、メッキリードを更に設けることにより、複数の電子部品要素に一括してメッキを施すことができる。その際、電子部品要素は集約的に配設されているため、メッキのムラおよび無駄を少なくすることができる。 According to the electronic component material of the seventeenth aspect, by further providing the plating lead, a plurality of electronic component elements can be plated at a time. In this case, since the electronic component elements are arranged collectively, unevenness and waste of plating can be reduced.

 請求項18の電子部品素材によれば、メッキリードが基板素材の表裏両面に配設されていることにより、メッキ電流の局在化が抑制され、メッキ厚を全域において一定にすることができる。 According to the electronic component material of the eighteenth aspect, since the plating leads are provided on both the front and back surfaces of the substrate material, localization of the plating current is suppressed, and the plating thickness can be kept constant over the entire area.

 請求項19および20の電子部品素材によれば、スルーホールに、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、基板製造技術における印刷工程やメッキ工程により、複数の電子部品要素に一括して金属材料の充填を行うことができ、またモールド工程において、スルーホールにモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になる。しかも、切り出した電子部品のスルーホール(外部電極)には、上記の金属材料が充填されており、請求項3または4と同様の電子部品を製造することができる。 According to the electronic component material of claims 19 and 20, a plurality of electronic component elements are formed by filling a through hole with a conductive paste or a metal material having solder wettability by a printing process or a plating process in a substrate manufacturing technique. The metal material can be filled all at once, and the molding resin does not flow into the through holes in the molding process, thereby facilitating the production. Moreover, the through-holes (external electrodes) of the cut out electronic component are filled with the above-mentioned metal material, and the same electronic component as in claim 3 or 4 can be manufactured.

 請求項21および22の電子部品素材によれば、上記金属材料にハンダ、或いは金を用いることにより、切り出した電子部品を、請求項5および6と同様にハンダ付け性の良好な電子部品とすることができる。 According to the electronic component material of claims 21 and 22, by using solder or gold as the metal material, the cut out electronic component is made an electronic component having good solderability as in claims 5 and 6. be able to.

 請求項23の電子部品素材によれば、基板素材の表面にスルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を設けることにより、複数の電子部品要素に一括して覆装素材を設けることができると共に、モールド工程において、スルーホールにモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になる。しかも、切り出した電子部品を、請求項7と同様の電子部品とすることができる。 According to the electronic component material of the twenty-third aspect, by providing the covering material for closing the opening of the through hole on the surface of the substrate material, the covering material can be provided collectively for a plurality of electronic component elements. In the molding process, the molding resin does not flow into the through-holes, and the manufacturing is facilitated. In addition, the cut out electronic component can be the same electronic component as in claim 7.

 請求項24の電子部品素材によれば、基板素材と各要素部品との間に、覆装素材と全く同一のパッドを設けることにより、パッドの取付けが容易になると共に歩留まりを良好にすることができる。また、切り出した電子部品を、請求項8と同様の電子部品とすることができる。 According to the electronic component material of the twenty-fourth aspect, by providing exactly the same pad as the covering material between the substrate material and each component, it is possible to easily attach the pad and improve the yield. it can. Further, the cut out electronic component can be the same electronic component as in claim 8.

 請求項25ないし28の電子部品素材によれば、覆装素材を粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができ、かつ切り出した電子部品を請求項10ないし13と同様の電子部品とすることができる。 According to the electronic component material of claims 25 to 28, by forming the covering material with an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate, processing and mounting can be easily performed, and The cut out electronic component can be the same electronic component as in claims 10 to 13.

 請求項29の電子部品素材によれば、スルーホールを格子状の仮想線の交差部に設けることにより、切り出した電子部品を、基板の角部にスルーホール(外部電極)を設けた請求項14と同様の電子部品とすることができる。 According to the electronic component material of claim 29, the cut-out electronic component is provided with a through-hole (external electrode) at a corner of the substrate by providing the through-hole at the intersection of the grid-like virtual lines. The same electronic component as described above can be obtained.

 請求項30の電子部品の製造方法によれば、基板製作工程、実装工程、接続工程およびモールド工程を経て、モールド樹脂が硬化すると、請求項15と同様の電子部品素材が形成され、さらに切断工程を経ることにより、請求項2と同様の電子部品が切り出される。このため、電子部品素材に電子部品要素を多数作り込んでおけば、電子部品を一括に多数製作することができる。また、切断により、各電子部品のモールド樹脂の側面と基板の側面とを完全に面一に形成することができる。なお、切断位置(線)は仮想線に沿っている限り、仮想線上でもよいし、仮想線からわずかに外れていてもよい。また、切断方法は、ダイシングが好ましいが、ブレーキングなどでもよい。 According to the electronic component manufacturing method of the present invention, when the mold resin is cured through the substrate manufacturing process, the mounting process, the connecting process, and the molding process, the same electronic component material as in claim 15 is formed, and the cutting process is further performed. , The same electronic component as in claim 2 is cut out. For this reason, if many electronic component elements are formed in the electronic component material, many electronic components can be manufactured at once. Further, by cutting, the side surface of the mold resin of each electronic component and the side surface of the substrate can be formed completely flush. The cutting position (line) may be on the virtual line as long as it is along the virtual line, or may be slightly off the virtual line. As the cutting method, dicing is preferable, but braking may be used.

 請求項31の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の周縁部にダムを形成することにより、モールド樹脂の基板素材外への流出を阻止することができ、モールド樹脂の流し込み(塗布)を効率よく行うことができると共に、チクソ性の低いモールド材を使用することができる。また、モールド樹脂を均一に塗布することができる。 According to the electronic component manufacturing method of the twenty-first aspect, the dam is formed on the peripheral portion of the substrate material prior to the molding step, so that the molding resin can be prevented from flowing out of the substrate material. Pouring (application) can be performed efficiently, and a mold material having low thixotropy can be used. Further, the mold resin can be uniformly applied.

 請求項32の電子部品の製造方法によれば、治具を用い、基板素材を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させることにより、モールド樹脂を、より一層均一に塗布することができる。 According to the electronic component manufacturing method of the present invention, the mold resin can be more uniformly applied by using the jig and curing the mold resin while holding the substrate material horizontally.

 請求項33の電子部品の製造方法によれば、流し込むモールド樹脂を重量で管理することにより、供給装置からの吐出時間で管理する従来の方法に比して、モールド樹脂の厚さ精度を格段に向上することができ、ひいては、電子部品の厚さを精度良く管理することができる。 According to the method for manufacturing an electronic component of claim 33, by controlling the poured mold resin by weight, the thickness accuracy of the mold resin is remarkably improved as compared with the conventional method of controlling the discharge time from the supply device. Therefore, the thickness of the electronic component can be controlled with high accuracy.

 請求項34および35の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、スルーホールに導電ペーストを充填することにより、請求項18と同様の電子部品素材を形成することができ、さらにこれを切断することにより、請求項3と同様の電子部品を製作することができる。 According to the electronic component manufacturing method of claims 34 and 35, the through-hole is filled with a conductive paste prior to the molding step, whereby the same electronic component material as in claim 18 can be formed. By cutting, an electronic component similar to the third aspect can be manufactured.

 請求項36の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、スルーホールにハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、請求項19と同様の電子部品素材を形成することができ、さらにこれを切断することにより、請求項4と同様の電子部品を製作することができる。 According to the electronic component manufacturing method of the thirty-sixth aspect, the same electronic component material as the nineteenth aspect can be formed by filling the through-hole with a metal material having solder wettability prior to the molding step. By further cutting the same, an electronic component similar to the fourth aspect can be manufactured.

 請求項37の電子部品の製造方法によれば、ハンダペーストをスルーホールに充填した後、これを加熱溶融させることにより、スルーホールにハンダが充填される。この方法では、ステンシルやドライフィルムなどを用いた基板製造技術を適用できるため、ハンダの充填を正確かつ簡単に行うことができる。 According to the electronic component manufacturing method of the present invention, the solder paste is filled in the through-hole and then heated and melted to fill the through-hole with the solder. In this method, since a substrate manufacturing technique using a stencil, a dry film, or the like can be applied, solder can be accurately and easily filled.

 請求項38の電子部品の製造方法によれば、溶融して波立たせたハンダにスルーホールの開口部を接触させることにより、ハンダが毛細管現象によりスルーホール内に侵入して、充填される。この方法では、ハンダの充填を迅速に行うことができ、かつマザーボードに実装するためのハンダを予め電子部品に供給しておくことができる。 According to the electronic component manufacturing method of the thirty-eighth aspect, by bringing the opening of the through hole into contact with the molten and ruffled solder, the solder penetrates and fills the through hole by capillary action. According to this method, solder can be quickly filled, and solder for mounting on a motherboard can be supplied to electronic components in advance.

 請求項39の電子部品の製造方法によれば、基板素材にマスキングを行った後、これを溶融したハンダに浸清することにより、ハンダがスルーホールにのみ侵入し、これに充填される。この方法では、ハンダの充填を正確かつ簡単に行うことができる。なお、上記の請求項38方法を併用すれば、ハンダの充填を正確かつ迅速に行うことができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 39, after masking the substrate material and rinsing it with molten solder, the solder penetrates only through holes and is filled therein. In this method, the filling of the solder can be performed accurately and easily. If the above-mentioned method is used in combination, the solder can be filled accurately and quickly.

 請求項40の電子部品の製造方法によれば、スルーホールに厚くメッキを施すことにより、スルーホール内がメッキで埋まり、スルーホールにメッキ材が充填された状態になる。この方法では、基板素材のプリントパターンへのメッキ処理を併用することができ、ハンダの充填を極めて簡単に行うことができる。 According to the method for manufacturing an electronic component of the present invention, by plating the through-hole thickly, the inside of the through-hole is filled with plating, and the through-hole is filled with a plating material. In this method, plating of the printed pattern of the substrate material can be used together, and the filling of the solder can be performed extremely easily.

 請求項41の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて基板素材の裏面に開口したスルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、モールド樹脂が硬化した後、閉塞部材を取り去る開放工程とを備えることにより、モールド工程において、各スルーホール内にエアーが封じ込まれ、スルーホールへのモールド樹脂の侵入が阻止される。このため、電子部品に作り込まれてしまう覆装部材や充填部材などを用いることなく、モールド樹脂のスルーホールへの流れ込みを防止することができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 41, prior to the molding step, a closing step of closing an opening of the through hole opened on the back surface of the substrate material using a closing member, and a closing step after the molding resin is cured. By providing an opening step of removing the member, in the molding step, air is sealed in each through hole, and the intrusion of the molding resin into the through hole is prevented. For this reason, it is possible to prevent the mold resin from flowing into the through-hole without using a covering member or a filling member that is formed in the electronic component.

 請求項42および43の電子部品の製造方法によれば、基板素材の裏面全域を覆うように平板状部材を押し当てて、閉塞工程を行うことにより、全スルーホールの閉塞を一括して行うことができると共に、開放工程を極めて容易に行うことができる。その際、平板状部材としてシリコーンゴムを用いることにより、温度変化などに対し、密着性が損なわれることがなく、封じ込まれたエアーが抜けてしまうなどの支障生ずることがない。 According to the electronic component manufacturing method of Claims 42 and 43, by closing the entire through hole by pressing the flat plate member so as to cover the entire back surface of the substrate material and performing the closing step. And the opening step can be performed extremely easily. At this time, the use of silicone rubber as the flat member does not impair the adhesiveness against a temperature change or the like, and does not cause any trouble such as escape of the enclosed air.

 請求項44の電子部品の製造方法によれば、閉塞部材を、基板素材の裏面全域を覆う粘着性のシートで構成することにより、これを押さえておくことなく、所望の密着性を保持することができ、かつ基板素材に簡単に取り付けることができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 44, by forming the closing member with an adhesive sheet covering the entire back surface of the substrate material, it is possible to maintain desired adhesion without holding down the adhesive member. And can be easily attached to the substrate material.

 請求項45および46の電子部品の製造方法によれば、シートを、紫外線、或いは熱により粘着力が低下するシートで構成することにより、モールド樹脂が硬化した後、これらシートに紫外線を照射し、或いは熱を加えれば、貼着力の強いシートであっても、簡単に引き剥がすことができる。 According to the method for manufacturing an electronic component according to claims 45 and 46, the sheet is constituted by a sheet whose adhesive strength is reduced by ultraviolet light or heat, and after the mold resin is cured, these sheets are irradiated with ultraviolet light, Alternatively, if heat is applied, even a sheet having a strong adhesive force can be easily peeled off.

 請求項47の電子部品の製造方法によれば、閉塞部材を、各スルーホールに流し込んで硬化させたアルカリ水溶液に溶解する樹脂で構成することにより、モールド樹脂が硬化した後、好ましくは切断工程の後アルカリ水溶液で洗えば、閉塞部材を電子部品から簡単かつ完全に取り去ることができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 47, the closing member is made of a resin that is dissolved in an alkali aqueous solution that has been poured into each through hole and hardened, so that after the mold resin is hardened, preferably in a cutting step. After washing with an alkaline aqueous solution, the closing member can be easily and completely removed from the electronic component.

 請求項48の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の表面に、スルーホールを閉塞する覆装素材を取り付けることにより、モールド樹脂が硬化すると、請求項23と同様の電子部品素材が形成され、さらに切断工程を経ることにより、請求項7と同様の電子部品が製作される。 According to the manufacturing method of an electronic component of the present invention, before the molding step, when the molding resin is cured by attaching a covering material for closing the through hole to the surface of the substrate material, the same electronic device as in claim 23 can be obtained. An electronic component similar to the seventh aspect is manufactured by forming the component material and further performing a cutting step.

 請求項49ないし54の電子部品の製造方法によれば、覆装素材を、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシの成形板、或いはセラミックの成形板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができ、かつ切り出した電子部品を請求項10ないし13と同様の電子部品とすることができる。また、ガラスエポキシのプリプレグやセラミックのグリーンシートを用い、これを加熱圧着して覆装素材とすることにより、より一層、加工を容易にすることができる。 According to the electronic component manufacturing method of claims 49 to 54, the covering material is formed of an adhesive sheet, a dry film, a molded plate of glass epoxy, or a molded plate of ceramic to facilitate processing and mounting. And the cut-out electronic component can be used as the same electronic component as in claims 10 to 13. Further, by using a prepreg made of glass epoxy or a green sheet made of ceramic, and then heat-pressing the green sheet to form a covering material, the processing can be further facilitated.

 請求項55の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付けることにより、モールド樹脂が硬化する際に、モールド樹脂と基板素材との熱膨張率の相違に基づく、基板素材の反りを緩和することができる。これにより、切り出した電子部品を、反りの無いハンダ付け性の良好なものとすることができる。 According to the electronic component manufacturing method of the present invention, prior to the molding step, by attaching the plane holding means for holding the flatness of the substrate material, when the molding resin is hardened, the heat of the molding resin and the substrate material is reduced. The warpage of the substrate material based on the difference in expansion coefficient can be reduced. As a result, the cut-out electronic component can have good solderability without warpage.

 請求項56および57の電子部品の製造方法によれば、平面保持手段を取り去る前に、基板素材を硬化したモールド樹脂と共に、再度加熱させ且つ徐冷させることにより、モールド樹脂の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)を生じさせることができ、より一層基板素材の反りを緩和することができる。なお、モールド樹脂が硬化した後に平面保持手段を取り付けて、加熱・徐冷させてもクリープ現象を生じさせることができる。 According to the electronic component manufacturing method of claims 56 and 57, before removing the plane holding means, the substrate material is heated again and gradually cooled together with the hardened mold resin, thereby alleviating the relaxation phenomenon due to the viscous component of the mold resin. (Creep phenomenon), and the warpage of the substrate material can be further reduced. It should be noted that the creep phenomenon can be generated even if the flat surface holding means is attached after the mold resin is hardened, and then heated and gradually cooled.

 請求項58の電子部品の製造方法によれば、平面保持手段が、基板素材に裏面側から当てがった平面保持板と、平面保持板および基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで構成されていることにより、単に基板素材に平面保持板と挟持部材とを取り付けておくだけで、基板素材の平面度を保持することができ、かつモールド工程などにおいて、平面保持手段がじゃまになることがない。もっとも、挟持部材を枠状に形成すれば、前記のダムの機能を持たせることもできる。また、平面保持板に請求項42の平板状部材を兼ねさせてもよい。 According to the electronic component manufacturing method of claim 58, the plane holding means is constituted by the plane holding plate applied to the substrate material from the back side, and the holding member for holding the plane holding plate and the substrate material together. With this, it is possible to maintain the flatness of the substrate material simply by attaching the plane holding plate and the holding member to the substrate material, and the plane holding means is disturbed in a molding process or the like. Absent. However, if the holding member is formed in a frame shape, the function of the dam can be provided. Further, the flat holding member may also serve as the flat plate-shaped member according to claim 42.

 請求項59の電子部品の製造方法によれば、基板素材にメッキリードを作り込むことにより、請求項17と同様の電子部品素材が形成され、複数の電子部品要素に一括してメッキを施すことができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 59, by forming plated leads in the substrate material, the same electronic component material as in claim 17 is formed, and a plurality of electronic component elements are collectively plated. Can be.

 請求項60の電子部品の製造方法によれば、切断工程に先立ち、半切断によりメッキリードをスルーホールから切り離した後、要素部品の電気的な検査を行うことにより、電子部品素材の状態で、電子部品要素を電気的に独立させることができ、この状態で各電子部品要素の検査を行うことができる。したがって、検査工程を単純化することができる。 According to the method for manufacturing an electronic component of claim 60, prior to the cutting step, after the plating lead is separated from the through hole by half-cutting, an electrical inspection of the element component is performed, so that a state of the electronic component material is obtained. The electronic component elements can be electrically independent, and inspection of each electronic component element can be performed in this state. Therefore, the inspection process can be simplified.

 請求項61の電子部品の製造方法によれば、半切断が仮想線に沿って行われることにより、半切断工程における切断線と切断工程における完全切断線とを同一にすることができ、切断を効率良く行うことができる。 According to the electronic component manufacturing method of the present invention, since the half cutting is performed along the virtual line, the cutting line in the half cutting step and the complete cutting line in the cutting step can be made the same, and the cutting can be performed. It can be performed efficiently.

 請求項62の電子部品の製造方法によれば、切断工程に先立ち、基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着しておくことにより、半導体ウェハのダイシング工程と同様に、切断後の電子部品がばらばらになってしまうのを防止することができ、後工程を容易にすることができる。 According to the electronic component manufacturing method of the above aspect, before the cutting step, an adhesive sheet is stuck on the entire surface of one side of the substrate material, so that the cut electronic component is cut in the same manner as the semiconductor wafer dicing step. Parts can be prevented from falling apart, and the post-process can be facilitated.

 本発明は、以上のように構成されているので、以下に記載されるような効果を奏する。 の Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained.

 請求項1の電子部品によれば、モールド樹脂の表面が平坦に形成されているため、全体の厚みを一定に且つ薄くすることができる。また、ダムが無いない分、構造が単純で且つ平面形状を小さくすることができる。さらに、スルーホールを利用して、電気的な検査を容易にすることができる。このため、安価で且つ小型に製作することができる。一方、スルーホールにハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、ダムが不要となると共に、ハンダ付け性を向上させることができ、小型化および信頼性の向上を図ることができる。同様に、スルーホールの開口部を閉塞する覆装部材を設けることにより、小型化を達成することができる。さらに、スリーホールを基板の角部に設けることにより、小型化を達成することができる。 According to the electronic component of the first aspect, since the surface of the mold resin is formed flat, the entire thickness can be made constant and thin. In addition, since there is no dam, the structure is simple and the planar shape can be reduced. Further, electrical inspection can be facilitated by using the through holes. Therefore, it can be manufactured inexpensively and small. On the other hand, by filling the through hole with a metal material having solder wettability, a dam is not required, solderability can be improved, and miniaturization and reliability can be improved. Similarly, by providing a covering member for closing the opening of the through hole, downsizing can be achieved. Further, by providing the three holes at the corners of the substrate, downsizing can be achieved.

 請求項15の電子部品素材によれば、切断により電子部品となる電子部品要素を、一度に多数製作することができ、かつ請求項2の電子部品を効率よく製作する(切り出す)ことができる。また、基板素材にダムを設けることにより、各電子部品要素に対してモールド樹脂を均一かつ良好に塗布することができる。さらに、メッキリードを作り込むことにより、各電子部品要素に同時にメッキを施すことができる。 According to the electronic component material of the fifteenth aspect, it is possible to manufacture a large number of electronic component elements that become electronic components by cutting at one time, and it is possible to efficiently manufacture (cut out) the electronic component of the second aspect. Further, by providing a dam in the substrate material, the mold resin can be uniformly and favorably applied to each electronic component element. Further, by forming the plating leads, it is possible to perform plating on each electronic component element at the same time.

 請求項30の電子部品の製造方法によれば、請求項2の電子部品を、一度に多数製作することができる。すなわち、安価で且つ小型な電子部品を効率よく製作することができる。また、モールド樹脂を重量で管理し、水平に保持した状態で硬化させることにより、モールドの信頼性を損なうことなく、電子部品を最大限に薄く形成することができる。さらに、モールド樹脂を硬化させる際に、平面保持手段を用いることにより、簡単な方法で基板の平面度を精度良く保持でき、電子部品の信頼性を向上させることができる。しかも、電子部品として切り離す前の電子部品要素の段階で、電気的な検査を行うことができ、検査工程を単純化することができる。 According to the electronic component manufacturing method of claim 30, a large number of the electronic components of claim 2 can be manufactured at one time. That is, an inexpensive and small electronic component can be efficiently manufactured. Further, by controlling the mold resin by weight and curing it while holding it horizontally, the electronic component can be formed as thin as possible without impairing the reliability of the mold. Further, when the mold resin is cured, the flatness of the substrate can be accurately held by a simple method by using the flatness holding means, and the reliability of the electronic component can be improved. Moreover, electrical inspection can be performed at the stage of the electronic component element before being separated as an electronic component, and the inspection process can be simplified.

 以下に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

 図1は本発明の一実施例に係るチップキャリア型(リードレスパッケージ型)の電子部品の構造図である。図1(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図1(a)は、図1(b)のC−C’線断面図である。図1(a)に示すように、この電子部品は、予めハンダ9が充填されているスルーホール(外部電極)7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。 FIG. 1 is a structural view of a chip carrier type (leadless package type) electronic component according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a rear view of the chip carrier type electronic component as viewed from the rear side. FIG. 1A is a cross-sectional view taken along line C-C ′ of FIG. As shown in FIG. 1 (a), this electronic component is obtained by mounting a semiconductor element 1 on a substrate 6 cut in an outline passing near the axis of a through hole (external electrode) 7 in which solder 9 is filled in advance. The semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected to each other by wires 2 while being die-attached.

 ここで、要素部品として半導体素子1を例に説明してゆくが、要素部品としては、半導体素子(IC,LSI等)等の能動素子の他、インダクタンス素子、容量素子等のいわゆる受動素子でもよく、一般的に基板上に載置されたものが該当する。 Here, the semiconductor element 1 will be described as an example of an element component, but the element element may be an active element such as a semiconductor element (IC, LSI, etc.) or a so-called passive element such as an inductance element or a capacitance element. In general, those placed on a substrate correspond to this.

 そして、この配線パターン3の一部が、ワイヤーボンディングのボンディングパッドとなる構造となっている。配線パターン3は、スルーホール(外部電極)7を経て接続用ランド8に続がっており、図外のマザーボードとは通常ハンダ付けで、スルーホール7および接続用ランド8を介して接続がとられる。この場合、スルーホール7の内部には、ハンダ9が充填されており、スルーホール(電子部品側面)のハンダフィレット(ハンダの裾びき)が形成し易くなっている。これにより、既知のように電子部品の信頼性を向上させることができると共に、電子部品の実装工程での外観検査性を向上させることができる。 (4) Then, a part of the wiring pattern 3 is configured to be a bonding pad for wire bonding. The wiring pattern 3 is connected to the connection land 8 via a through hole (external electrode) 7, and is normally soldered to a motherboard (not shown) to be connected via the through hole 7 and the connection land 8. Can be In this case, the inside of the through hole 7 is filled with the solder 9, so that a solder fillet (a hem of the solder) of the through hole (side surface of the electronic component) is easily formed. As a result, it is possible to improve the reliability of the electronic component as well as to improve the appearance inspection property in the mounting process of the electronic component, as is known.

 基板6は、通常はプリント基板であるが、セラミクス基板が用いられることもある。モールド樹脂5は後述する方法によって、基板6と同一外形に切断されている。半導体素子1のダイアタッチは、エポキシ接着剤、銀ペーストで行われることが多い。また、ワイヤー2は金線またはアルミ線が多く用いられ、既知のワイヤーボンディング法で結線される。基板6がプリント基板の場合には、配線パターン3及びスルーホール7の表面、内部とも銅箔上に金メッキされていることが多く、セラミクス基板の場合には、配線パターン3は銅、銀、タングステン系のペーストに金メッキされているか、金ペーストで形成されていることが多い。
この場合、スルーホール7は,プリント基板と同様にメッキで形成された銅上にニッケル、金メッキされているか、上述の導電ペーストが充填されていてもよい。
The substrate 6 is usually a printed circuit board, but may be a ceramics substrate. The mold resin 5 is cut into the same outer shape as the substrate 6 by a method described later. The die attach of the semiconductor element 1 is often performed with an epoxy adhesive or a silver paste. The wire 2 is often a gold wire or an aluminum wire, and is connected by a known wire bonding method. When the board 6 is a printed board, the wiring pattern 3 and the surface of the through hole 7 and the inside thereof are often gold-plated on a copper foil. In the case of a ceramics board, the wiring pattern 3 is made of copper, silver, tungsten, or the like. In many cases, the system paste is gold-plated or formed of a gold paste.
In this case, the through hole 7 may be plated with nickel or gold on copper formed by plating similarly to the printed circuit board, or may be filled with the above-mentioned conductive paste.

 この場合、導電ペーストの材料としては、銅や銀、金等のいずれかが含有されたものを用いるとよい。特に基板6として有機基板を用いる場合には、焼成温度が低い点から導電ペーストの材料として銅を含有したものを用いることが好ましい。また銅粒子に銀メッキされている導電ペーストを用いることが特に好ましい。また導電ペーストの充填方法は、後述するハンダ9の場合の図2の説明と同様にスキージ24にてスルーホール7内に充填した後、これを加熱硬化させることにより行われる。 In this case, as the material of the conductive paste, a material containing any of copper, silver, gold, and the like is preferably used. In particular, when an organic substrate is used as the substrate 6, it is preferable to use a conductive paste containing copper as the material of the conductive paste because the firing temperature is low. It is particularly preferable to use a conductive paste in which copper particles are silver-plated. In addition, the conductive paste is filled by filling the inside of the through-hole 7 with the squeegee 24 and then heating and curing the same as in the case of the solder 9 described later with reference to FIG.

 一方、ここでは、スルーホール7の内部にハンダ9を充填した例について述べたが、ハンダ濡れ性を有する金属材料であれば、例えば金等を充填してもよいし、導電ペーストを充填してもよい。 On the other hand, here, the example in which the solder 9 is filled in the through hole 7 has been described. However, as long as the metal material has solder wettability, for example, gold or the like may be filled, or the conductive paste may be filled. Is also good.

 次に、図2を参照して、図1の構造のチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図2(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板(基板素材)6を準備する。次に、スルーホール7に相当する小孔22を開けたステンシル23を、孔同士が重なるように位置合せし、基板6を受ける台上(図示せず)でクリームハンダ21をスキージ24で印刷する。この時、ステンシル23の孔径をスルーホール7の孔径と等しいか若干小さくしたり、スキージ24の移動速度、押圧をコントロールすることによって、クリームハンダ21がスルーホール7内部のみに挿入されるようにしておけば、後にハンダ9を溶融させてもスルーホール7内部のみにハンダ9を充填することができる。ステンシル23は、一般的に100〜200μmの厚さを有しているが、スルーホール7の体積によって埋めるべきハンダ9の量が決定され、ステンシル23の厚さ、孔径も決定される。 Next, a method for manufacturing a chip carrier type electronic component having the structure shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, a substrate (substrate material) 6 in which a through hole 7 is previously formed in a connection portion of a chip carrier is prepared. Next, a stencil 23 having a small hole 22 corresponding to the through hole 7 is aligned so that the holes overlap each other, and the cream solder 21 is printed with a squeegee 24 on a table (not shown) for receiving the substrate 6. . At this time, by making the hole diameter of the stencil 23 equal to or slightly smaller than the hole diameter of the through hole 7, or by controlling the moving speed and pressing of the squeegee 24, the cream solder 21 is inserted only into the inside of the through hole 7. With this, even if the solder 9 is melted later, the solder 9 can be filled only in the through hole 7. The stencil 23 generally has a thickness of 100 to 200 μm, but the volume of the solder 9 to be filled is determined by the volume of the through hole 7, and the thickness and the hole diameter of the stencil 23 are also determined.

 ハンダ9の塗布方法としては、上述した以外にも表面実装に用いられる他の既知の方法、例えばディスペンサによる方法を用いることができる。次に、基板6のスルーホール7をリフロー炉、ホットエア、赤外線などで加熱し、クリームハンダ21を溶融させ、ハンダ9がスルーホール7に充填された状態とする。そして、必要に応じ、これを洗浄して、クリームハンダ21中に含まれていたフラックスを除去する。 塗布 As a method of applying the solder 9, other known methods used for surface mounting, for example, a method using a dispenser can be used in addition to the above. Next, the through-hole 7 of the substrate 6 is heated by a reflow oven, hot air, infrared rays, or the like, so that the cream solder 21 is melted, and the solder 9 is filled in the through-hole 7. Then, if necessary, this is washed to remove the flux contained in the cream solder 21.

 なお、予め基板6の片側または両側に、レジスト、ドライフィルム等によりスルーホール7の部分のみ開口したマスクを形成し、この基板6にクリームハンダ21を印刷すれば、ハンダ9を、より確実にスルーホール7のみに充填することができる。そして、ハンダ9の充填後またはハンダ9の溶融後に、レジスト、ドライフィルム等を除去すればよい。また、この方法であれば、ステンシル23を用いなくとも、クリームハンダ21を直接、基板6の上に置いてスキージ24でこすり付ければ、スルーホール7のみにクリームハンダ21を充填することもできる。 In addition, a mask having only the through-holes 7 formed on one or both sides of the substrate 6 with a resist, a dry film or the like is formed in advance, and the cream 9 is printed on the substrate 6 so that the solder 9 can be passed through more reliably. Only the holes 7 can be filled. Then, after the solder 9 is filled or the solder 9 is melted, the resist, the dry film and the like may be removed. In addition, according to this method, the cream solder 21 can be filled only in the through-hole 7 by directly placing the cream solder 21 on the substrate 6 and rubbing it with the squeegee 24 without using the stencil 23.

 その後、図2(b)に示すように、半導体素子1をダイアタッチすると共に、ダイアタッチした半導体素子1と基板6上に形成した配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。さらに、図2(c)に示すように、モールド樹脂5を基板上にポッティング(塗布)するが、このときスルーホール7にはハンダ9が充填されているため、モールド樹脂5は、スルーホール7に流れ込むことがなく、基板6の裏面にしみ出すことがない。もちろん、スルーホール7を逃げたような構造の高価な金型を必要とするトランスファーモールドでなくとも、金型を必要としない上述のポッティングモールドで十分である。また例えトランスファーモールドを用いるとしても、スルーホール7はハンダ9で充填されているために、スルーホール7を逃げる構造を採らなくともよく、スルーホール7をも含め一度にモールドすることも可能である。 (2) Thereafter, as shown in FIG. 2B, the semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 that has been die-attached and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected with the wires 2. Further, as shown in FIG. 2C, the molding resin 5 is potted (coated) on the substrate. At this time, since the solder 9 is filled in the through hole 7, the molding resin 5 is And does not seep into the back surface of the substrate 6. Of course, the above-described potting mold that does not require a mold is sufficient, even if it is not a transfer mold that requires an expensive mold having a structure in which the through hole 7 is escaped. Even if a transfer mold is used, since the through holes 7 are filled with the solder 9, it is not necessary to adopt a structure for escaping the through holes 7, and it is possible to mold the through holes 7 at once including the through holes 7. .

 ポッティングモールドの場合には、基板6の周縁部を多少広めに設計するか、基板6の周縁部にダムを設けておけば、モールド樹脂5はチクソ性の高いモールド材でなくても良い。このため、半導体素子1廻りの間隙にモールド樹脂5が良好に回り込むので、モールド樹脂5の未充填部は発生せず、信頼性を向上させることができる。なお、モールド樹脂5の塗布工程では真空脱泡を併用すると、未充填部の発生を完全に防止することができる。また、モールド樹脂5の塗布工程直前に、酸素、アルゴン等のプラズマにより、基板6の表面や半導体素子1の表面を活性化しておけば、モールド樹脂5の密着性はより良好になり、電子部品の信頼性はさらに向上する。 In the case of the potting mold, if the peripheral portion of the substrate 6 is designed to be slightly wider or a dam is provided in the peripheral portion of the substrate 6, the molding resin 5 may not be a molding material having a high thixotropic property. For this reason, since the mold resin 5 satisfactorily flows into the gap around the semiconductor element 1, no unfilled portion of the mold resin 5 occurs, and the reliability can be improved. In addition, when vacuum degassing is also used in the application step of the mold resin 5, the occurrence of unfilled portions can be completely prevented. Further, if the surface of the substrate 6 and the surface of the semiconductor element 1 are activated by a plasma of oxygen, argon or the like immediately before the step of applying the mold resin 5, the adhesion of the mold resin 5 becomes better, and Reliability is further improved.

 次に、モールド樹脂5を、加熱、紫外線照射或いは湿度中放置などの硬化方法を用いて硬化させる。以上の工程により、電子部品素材が形成される。電子部品素材は、スルーホール7を作り込んだ大きな基板(基板素材)6に、複数の半導体素子1を実装し、これにモールド樹脂5を塗布して、構成されている。すなわち、スルーホール7を共有する電子部品要素が、基板6上に作り込まれた構造になっている。この場合、同図のように、電子部品要素を2個或いは1個など小数作り込むようにしてもよいが、マトリクス状に多数作り込むことが、好ましい。 Next, the mold resin 5 is cured by a curing method such as heating, ultraviolet irradiation, or standing in a humidity. Through the above steps, an electronic component material is formed. The electronic component material is configured by mounting a plurality of semiconductor elements 1 on a large substrate (substrate material) 6 in which a through hole 7 is formed, and applying a mold resin 5 to the semiconductor element 1. That is, the electronic component element sharing the through hole 7 is formed on the substrate 6. In this case, as shown in the figure, a small number of electronic component elements such as two or one may be formed, but it is preferable to form a large number in a matrix.

 最後に、図2(c)に示すように、チップキャリア型の電子部品の外形であるスルーホール7の部分、すなわちスルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、電子部品素材をダイシングブレード20で切断し、電子部品単体とする。最後の切断工程は、ダイシングによらなくても基板6を割るブレーキングの工程によってもよい。この場合は、スルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、基板6に予めV溝、ミシン目などを形成しておく。 Finally, as shown in FIG. 2C, the electronic component material is diced along the portion of the through hole 7 which is the outer shape of the chip carrier type electronic component, that is, along a virtual line passing substantially through the axis of the through hole 7. It is cut by the blade 20 to make the electronic component alone. The last cutting step may be a breaking step of breaking the substrate 6 without using dicing. In this case, a V-groove, a perforation, or the like is formed in advance on the substrate 6 along an imaginary line substantially passing through the axis of the through hole 7.

 上述したように、一枚の基板6から多数個の電子部品を取る構造としてもよいが、その場合、隣合う電子部品のスルーホール7の位置が一致すれば、スルーホール7は隣合う電子部品と共用することが、好ましい。しかし、ダイシングブレード20が厚いためにスルーホール7が切断時に潰れてしまうような場合には、スルーホール7の軸心からわずかに外れた位置で切断し、切断された片側のみを生かすようにする(図13参照)。 As described above, a structure in which a large number of electronic components are taken from one substrate 6 may be adopted. In this case, if the positions of the through holes 7 of the adjacent electronic components match, the through holes 7 are connected to the adjacent electronic components. It is preferable to share with. However, when the through hole 7 is crushed at the time of cutting because the dicing blade 20 is thick, the through hole 7 is cut at a position slightly deviated from the axis of the through hole 7 so that only one cut side is used. (See FIG. 13).

 次に、図3を参照して、図1の構造のチップキャリア型の電子部品の別の製造方法について説明する。図3(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を準備し、この基板6のスルーホール7の開口部付近のみに、フラックス塗布装置(図示せず)でフラックスを塗布する。次に、基板6を、溶融ハンダ31の液面に近接するように臨ませ、これにスルーホール7に対応して設けたノズル等からハンダ噴流30を噴出させて、スルーホール7の開口部に溶融ハンダ31を接触させる。この場合、スルーホール7の径が0.5mm程度以下であれば、毛細管現象により、スルーホール7の内部のみにハンダ9を充填することができる。 Next, another method of manufacturing the chip carrier type electronic component having the structure shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3A, a substrate 6 having a through hole 7 formed in advance at a connection portion of a chip carrier is prepared, and a flux coating device (not shown) is provided only in the vicinity of the opening of the through hole 7 of the substrate 6. ) To apply flux. Next, the substrate 6 is brought close to the liquid surface of the molten solder 31, and a solder jet 30 is ejected from a nozzle or the like provided corresponding to the through hole 7, and the substrate 6 is exposed to the opening of the through hole 7. The molten solder 31 is brought into contact. In this case, if the diameter of the through hole 7 is about 0.5 mm or less, only the inside of the through hole 7 can be filled with the solder 9 by a capillary phenomenon.

 なお、ハンダ噴流30の当たる基板6面、もしくは基板6両面にレジスト、ドライフィルム等によるスルーホール7のみ開口したマスクを形成しておけば、ハンダ9をスルーホール7のみに正確に充填することができる。そして、ハンダ9の充填後、レジスト、ドライフィルム等を除去する。このような製造方法をとれば、ハンダ槽の中に基板6をそのまま浸漬しても、スルーホール7のみにハンダ9を充填することができる。また、ソルダーレジストを用い、ハンダ9が必要以上に広がらないようにすることによっても、ハンダ9をスルーホール7のみに正確に充填することができる。かかる場合には、必要に応じて洗浄し、フラックスを除去する。 In addition, if a mask having only the through hole 7 made of a resist, a dry film or the like is formed on the surface of the substrate 6 or the both surfaces of the substrate 6 to which the solder jet 30 is applied, the solder 9 can be accurately filled only in the through hole 7. it can. After the solder 9 is filled, the resist, the dry film and the like are removed. According to such a manufacturing method, only through-hole 7 can be filled with solder 9 even if substrate 6 is immersed in a solder bath as it is. Also, by using a solder resist so as not to spread the solder 9 more than necessary, the solder 9 can be accurately filled only in the through hole 7. In such a case, the flux is removed by washing as necessary.

 その後の工程は、図3(b)および図3(c)に示されるように、上述の図2で説明した工程と同一である。図3(b)、(c)では、基板6の裏面の接続用ランド8をレジスト、ドライフィルム等でマスクしていないので、スルーホール7と共に接続用ランド8にもハンダ9が供給されることになる。この様に、予め接続用ランド8にもハンダ9を供給しておけば、後に、切り出した電子部品をマザーボードにハンダ付けするときに、そのハンダ付け性を向上させることができる。その他、接続用ランド8へのハンダ9の供給は、図2で説明したクリームハンダ21の印刷と同時に行なってもよいし、後述するスルーホール7のメッキと同時に行なってもよい。 (3) Subsequent steps are the same as the steps described in FIG. 2 described above, as shown in FIGS. 3 (b) and 3 (c). 3B and 3C, since the connection lands 8 on the back surface of the substrate 6 are not masked with a resist, a dry film, or the like, the solder 9 is supplied to the connection lands 8 together with the through holes 7. become. In this way, if the solder 9 is also supplied to the connection lands 8 in advance, the solderability can be improved when the cut-out electronic components are later soldered to the motherboard. In addition, the supply of the solder 9 to the connection lands 8 may be performed at the same time as the printing of the cream solder 21 described with reference to FIG. 2 or may be performed at the same time as the plating of the through holes 7 described later.

 なお、図2、図3に示す方法の他、予めスルーホール7を、部分的にハンダ、金等のメッキで塞いでも良いし、導電ペーストで塞いでも良い。しかし、一般的にマザーボードとは、ハンダ付けで接続が行われるので、接続部であるスルーホール7に充填する金属材料は、酸化し難く、ハンダ濡れ性の良いものが望ましい。具体的には、導電ペーストとしては、銅ペーストよりも金ペーストのほうが好ましい。 In addition, in addition to the methods shown in FIGS. 2 and 3, the through-hole 7 may be partially closed with plating of solder, gold, or the like, or may be closed with a conductive paste. However, since the connection to the motherboard is generally made by soldering, it is desirable that the metal material to be filled in the through hole 7 as the connection portion is hard to be oxidized and has good solder wettability. Specifically, as the conductive paste, a gold paste is more preferable than a copper paste.

 さらに、本発明の他の実施例について説明する。図4は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図4(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図4(a)は、図4(b)のB−B’線断面図である。図4に示すように、この電子部品は、図1の電子部品のスルーホール(外部電極)7にハンダ9が充填されて無いだけで、その他の構造は図1と同様である。ハンダ9がスルーホール7に充填されて無い分、構造も簡単になり、コストも上昇しない。また、スルーホール7に充填されている金属材料がないので、後工程である電子部品の電気検査時に、スルーホール7が検査用のプローブピンの位置決め穴として利用でき、確実に導通を図ることができる。 Furthermore, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a structural view of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 4B is a back view of the chip carrier type electronic component as viewed from the back side. FIG. 4A is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of FIG. 4B. As shown in FIG. 4, this electronic component has the same structure as that of FIG. 1 except that solder 9 is not filled in through holes (external electrodes) 7 of the electronic component of FIG. Since the solder 9 is not filled in the through hole 7, the structure is simplified and the cost does not increase. Further, since there is no metal material filled in the through-hole 7, the through-hole 7 can be used as a positioning hole for a probe pin for inspection during an electrical inspection of an electronic component in a later process, and conduction can be reliably achieved. it can.

 次に、図5を参照して、図4に示すチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図5(a)において、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を準備すると共に、この基板6の裏面全域に、粘着シート40を貼っておく。粘着シート40は空気を通さないものであればどんなものでも良いが、半導体素子1のダイシング工程に使用されるものが、不純物も少ないので信頼性がある。また、粘着シート40は、粘着性を保持し続けるものでもよいが、後工程で剥離し易い、既知の紫外線や熱で粘着性が低下する粘着シートが、好ましい。そして、この状態で、図5(b)に示すように、半導体素子1をダイアタッチすると共に、この半導体素子1と基板6上に形成した配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。 Next, a method of manufacturing the chip carrier type electronic component shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG. In FIG. 5A, a substrate 6 in which a through hole 7 is formed in advance at a connection portion of a chip carrier is prepared, and an adhesive sheet 40 is stuck on the entire back surface of the substrate 6. The pressure-sensitive adhesive sheet 40 may be of any type as long as it does not allow air to pass through. However, the one used in the dicing step of the semiconductor element 1 is reliable because it has few impurities. Further, the pressure-sensitive adhesive sheet 40 may be one that keeps the pressure-sensitive adhesive property, but is preferably a pressure-sensitive adhesive sheet that is easily peeled off in a later step and has a reduced pressure-sensitive adhesive property by known ultraviolet light or heat. Then, in this state, as shown in FIG. 5B, the semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected with the wires 2. .

 ここで、モールド樹脂5を基板6上にポッティングするが、このとき基板6の裏面側に開口したスルーホール7の開口部を粘着シート40で塞いだ状態で、モールド樹脂5を塗布することになる。このため、スルーホール7内に空気が封じ込まれ、粘性流体であるモールド樹脂5のスルーホール7への流入が阻止される。したがって、特別に蓋部材などを設けなくても、モールド樹脂5がスルーホール7内に流入することはない。特に実験結果は示さないが、一般的に用いられる粘度が20000〜50000センチポイズのモールド樹脂5の場合、直径0.5mm以下のスルーホール7で、上記効果が確認されている。直径0.5mm以上のスルーホール7でもモールド樹脂5の粘度を高くすることによって、上記効果を得ることができる。 Here, the mold resin 5 is potted on the substrate 6. At this time, the mold resin 5 is applied in a state where the opening of the through hole 7 opened on the back surface side of the substrate 6 is closed with the adhesive sheet 40. . For this reason, air is sealed in the through hole 7 and the inflow of the mold resin 5 which is a viscous fluid into the through hole 7 is prevented. Therefore, the mold resin 5 does not flow into the through-hole 7 even if no special cover member or the like is provided. Although no experimental results are shown, in the case of a commonly used mold resin 5 having a viscosity of 20,000 to 50,000 centipoise, the above effect has been confirmed in a through hole 7 having a diameter of 0.5 mm or less. The above effect can be obtained by increasing the viscosity of the mold resin 5 even in the through hole 7 having a diameter of 0.5 mm or more.

 この状態で、モールド樹脂5を硬化させた後、図5(c)に示すように、粘着シート40を引き剥がし、最後にこれをスルーホール(仮想線)7に沿って、ダイシングブレード20で切断を行い、電子部品単体とする。粘着シート40は前述したように、熱などで粘着力が低下するシートである方が引き剥がし易く、望ましい。モールドの方法は、金型の不要なポッティングモールドでよく、チクソ性も通常のものが使用できるのは、上述の図2における説明と同様である。但し、この様な製造方法でモールド後真空脱泡すると、スルーホール7内部までモールド樹脂5が侵入するおそれがあるため、モールド樹脂5中の気泡を取り除く意味で、モールド前にモールド樹脂5真空脱泡するのに止めておく必要がある。 In this state, after the mold resin 5 is cured, as shown in FIG. 5C, the adhesive sheet 40 is peeled off, and finally, the adhesive sheet 40 is cut along the through holes (virtual lines) 7 by the dicing blade 20. To make the electronic component alone. As described above, the pressure-sensitive adhesive sheet 40 is preferably a sheet whose adhesive force is reduced by heat or the like, because it is easy to peel off. As a method of molding, a potting mold that does not require a mold may be used, and a normal thixotropy can be used as in the description of FIG. 2 described above. However, if vacuum defoaming is performed after molding by such a manufacturing method, there is a possibility that the mold resin 5 may enter the inside of the through hole 7. You need to stop it to foam.

 以上ような製造方法を採ることにより、切り出した電子部品の側面には、金メッキを施したスルーホール(外部電極)7が露出し、マザーボードとの接続時にはこのスルーホール7にハンダフィレットが形成し易くなり、電子部品のハンダ付け性を向上させることができる。セラミックス基板の場合でも、中空のスルーホール7の場合には、上述のプリント基板と同様である。また、導電ペーストが充填されている場合は、図1で説明した構造と同一となる。 By adopting the above-described manufacturing method, a gold-plated through-hole (external electrode) 7 is exposed on the side surface of the cut out electronic component, and a solder fillet is easily formed in this through-hole 7 when connected to a motherboard. Thus, the solderability of the electronic component can be improved. Even in the case of the ceramic substrate, the case of the hollow through hole 7 is the same as the above-described printed circuit board. When the conductive paste is filled, the structure is the same as that described with reference to FIG.

 次に、図6に基づいて、図4の構造のチップキャリア型の電子部品の別の製造方法について説明する。図6(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を用意し、この基板6上に半導体素子1をダイアタッチすると共に、この半導体素子1を基板6上に形成されている配線パターン3とワイヤー2で電気的に接続する。その後、図6(b)に示すように、シリコーンゴム50を基板6の裏面に押しつけてスルーホール7を塞ぎ、モールド樹脂5をポッティングして、そのまま硬化させる。スルーホール7内にモールド樹脂5が流入しないのは、前述の粘着シート40を用いた場合と同様の原理である。その後の工程は、図6(c)に示すように、上述の図5で説明した工程と同一である。 Next, another method of manufacturing the chip carrier type electronic component having the structure shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 6A, a substrate 6 in which a through hole 7 is previously formed in a connection portion of a chip carrier is prepared, and the semiconductor element 1 is die-attached on the substrate 6, and the semiconductor element 1 is The wiring 2 is electrically connected to the wiring pattern 3 formed thereon. Then, as shown in FIG. 6B, the silicone rubber 50 is pressed against the back surface of the substrate 6 to close the through hole 7, and the mold resin 5 is potted and cured as it is. The reason that the mold resin 5 does not flow into the through holes 7 is based on the same principle as in the case where the pressure-sensitive adhesive sheet 40 is used. The subsequent steps are the same as the steps described in FIG. 5 described above, as shown in FIG.

 なお、スルーホール7とシリコーンゴム50との密着性を向上させ、スルーホール7中の空気をより確実に保持するために、予めシリコーンゴム50のスルーホール7との接触部分及び接続用ランド8との接触部分を、これらの凸形状と相補的な凹形状に形成しておいてもよいし、シリコーンゴム50の表面に、スルーホール7の内部を塞ぐピン状の突起を形成しておいてもよい。 In order to improve the adhesion between the through-hole 7 and the silicone rubber 50 and more reliably hold the air in the through-hole 7, the contact portion of the silicone rubber 50 with the through-hole 7 and the connection land 8 are May be formed in a concave shape complementary to these convex shapes, or a pin-like projection for closing the inside of the through hole 7 may be formed on the surface of the silicone rubber 50. Good.

 また、スルーホール7にモールド樹脂5を流入させないように、既知の基板製造法であるスルーホール7への樹脂穴埋め法でスルーホール7を塞いでおき、ダイシング工程後、塞いだ樹脂を取り除くようにしてもよい。この場合、一般的には、アルカリ性の水溶液に溶解する樹脂を用い、ダイシング工程後、アルカリ性の水溶液でこの樹脂を洗い流すようにして除去する。 In order to prevent the mold resin 5 from flowing into the through-hole 7, the through-hole 7 is closed by a well-known method for manufacturing a substrate, and the filled resin is removed after the dicing process. You may. In this case, generally, a resin soluble in an alkaline aqueous solution is used, and after the dicing step, the resin is removed by washing with an alkaline aqueous solution.

 さらに、本発明の他の実施例について説明する。図7は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図7(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図7(a)は、図7(b)のD−D’線断面図である。図7に示すように、この電子部品は、予めスルーホール覆装部材70がスルーホール(外部電極)7上に載置され、スルーホール7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。 Furthermore, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a structural view of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 7B is a back view of the chip carrier type electronic component as viewed from the back side. FIG. 7A is a cross-sectional view taken along line D-D ′ of FIG. 7B. As shown in FIG. 7, this electronic component is obtained by mounting a through-hole covering member 70 on a through-hole (external electrode) 7 in advance and cutting the substrate 6 into an outer shape passing near the axis of the through-hole 7. The semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 and a wiring pattern 3 formed on a substrate 6 are electrically connected by wires 2.

 スルーホール覆装部材70は、スルーホール7上にのみ設けられており、粘着性を有するシート、例えば基板製造工程で使用されるドライフィルム、ガラスエポキシ板、セラミックス板などで構成されている。この場合、これらスルーホール覆装部材70は、スルーホール7上に載置されるように型などで打ち抜いて成形し、これを基板6に貼り付けるようにすればよい。もちろん、ドライフィルムの場合には、基板6全面に貼り合わせておいて、従来の基板製造技術と同様のフォトプロセスで、必要とするスルーホール7の部分のみ残すようにする。 The through-hole covering member 70 is provided only on the through-hole 7, and is made of an adhesive sheet such as a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate used in a substrate manufacturing process. In this case, these through-hole covering members 70 may be stamped and formed with a mold or the like so as to be placed on the through-holes 7, and may be attached to the substrate 6. Of course, in the case of a dry film, it is bonded to the entire surface of the substrate 6 and only a necessary portion of the through hole 7 is left by a photo process similar to the conventional substrate manufacturing technology.

 また、ガラスエポキシ板はすでに形成されているものを、接着剤で基板6に貼り合わせてもよいし、未形成のガラスエポキシのプリプレグを予め必要な形に型で抜く等で成形し、位置合わせ後、基板6に加熱、圧着してもよい。さらに、基板6がセラミックスの場合には、未焼結のグリーンシートを予め必要な形に型で抜くなどして成形し、位置合わせ後、グリーンシートを基板6と共に加熱、加圧し、基板6にグリーンシートを焼結させてもよい。なお、スルーホール覆装部材70以外の部分の基本構造は、図1および図4の電子部品と同様である。 In addition, the glass epoxy plate that has already been formed may be bonded to the substrate 6 with an adhesive, or an unformed glass epoxy prepreg may be formed in a required shape in advance using a mold or the like, and the positioning may be performed. Thereafter, the substrate 6 may be heated and pressed. Further, when the substrate 6 is a ceramic, the unsintered green sheet is previously formed into a required shape by a mold or the like, and after molding, the green sheet and the substrate 6 are heated and pressed together with the green sheet. The green sheet may be sintered. The basic structure of the parts other than the through-hole covering member 70 is the same as that of the electronic component shown in FIGS.

 さらに、本発明の他の実施例について説明する。図8は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図8(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図8(a)は、図8(b)のE−E’線断面図である。図8に示すように、この電子部品では、スルーホール覆装部材70が、スルーホール(外部電極)7の部分のみならず、半導体素子1と基板6との間にも設けられている。すなわち、半導体素子1は基板6上に直接ではなく、スルーホール覆装部材(パッド)70上にダイアタッチされている。その他の構造は図7と同様である。 Furthermore, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a structural view of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 8B is a back view of the chip carrier type electronic component as viewed from the back side. FIG. 8A is a cross-sectional view taken along line E-E ′ of FIG. 8B. As shown in FIG. 8, in this electronic component, the through-hole covering member 70 is provided not only between the through-hole (external electrode) 7 but also between the semiconductor element 1 and the substrate 6. That is, the semiconductor element 1 is not directly attached on the substrate 6 but is die-attached on the through-hole covering member (pad) 70. Other structures are the same as those in FIG.

 したがって、スルーホール覆装部材70は、ワイヤー2が配線パターン3に接続されている部分のみ開口していればよく、スルーホール覆装部材70として、粘着性を有するシート、ガラスエポキシ板、セラミックス板などを使用する場合、図7の構造と異なり、必ずしも高価な型で打抜き開口を形成する必要はなく、ドリルビットで加工したものでよい。しかも、半導体素子1の位置決めが容易になる。ゆえに、図8の構造を採用すれば図7の構造に比較して、スルーホール覆装部材70の製作および半導体素子1の実装が容易となり、電子部品のコストを下げることができる。 Therefore, the through-hole covering member 70 only needs to be opened at a portion where the wire 2 is connected to the wiring pattern 3. As the through-hole covering member 70, an adhesive sheet, a glass epoxy plate, or a ceramic plate is used. When such a structure is used, unlike the structure shown in FIG. 7, it is not always necessary to form a punched opening with an expensive mold, but may be formed by processing with a drill bit. In addition, the positioning of the semiconductor element 1 becomes easy. Therefore, when the structure of FIG. 8 is employed, the manufacture of the through-hole covering member 70 and the mounting of the semiconductor element 1 are easier than in the structure of FIG. 7, and the cost of the electronic component can be reduced.

 さらにまた、本発明の他の実施例について説明する。図9は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図9(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図9(a)は、図9(b)のチップキャリア型の電子部品をF−F’線断面図である。図9に示すように、この電子部品では、上述した図8の半導体素子1と基板6との間にあるスルーホール覆装部材(パッド)70に、貫通孔73が開けられており、この貫通孔73に銀ペースト72が充填されている。そして、この銀ペースト72により、基板6上に形成されたダイパッド71と半導体素子1の裏面とが電気的に接続されている。 Furthermore, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a structural view of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 9B is a back view of the chip carrier type electronic component as viewed from the back side. FIG. 9A is a cross-sectional view of the chip carrier type electronic component of FIG. 9B taken along the line F-F ′. As shown in FIG. 9, in this electronic component, a through-hole 73 is formed in a through-hole covering member (pad) 70 between the semiconductor element 1 and the substrate 6 in FIG. Holes 73 are filled with silver paste 72. The silver paste 72 electrically connects the die pad 71 formed on the substrate 6 to the back surface of the semiconductor element 1.

 一般的にダイパッド71は、ある固定電位に接続されていることが多く、図9の構造は、半導体素子1のダイの電位を固定しなければならない場合に有効な構造である。この場合ももちろん、スルーホール覆装部材70はワイヤー2が配線パターン3に接続されている部分と、上記の貫通孔73の部分のみが開口していればよいので、スルーホール覆装部材70として、粘着性を有するシート、ガラスエポキシ板、セラミクス板などを使用する場合、図8の構造と同様に、ドリルビットで加工された安価なスルーホール覆装部材70を貼り付けるようにすればよい。 Generally, the die pad 71 is often connected to a certain fixed potential, and the structure of FIG. 9 is an effective structure when the potential of the die of the semiconductor element 1 must be fixed. In this case, of course, the through-hole covering member 70 only needs to be open at the portion where the wire 2 is connected to the wiring pattern 3 and at the portion of the through-hole 73 described above. When an adhesive sheet, a glass epoxy plate, a ceramics plate, or the like is used, an inexpensive through-hole covering member 70 processed with a drill bit may be attached similarly to the structure of FIG.

 次に、図10に基づいて、図7から図9に示す構造のチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図10(a)に示すように、先ずチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板(基板素材)6を準備する。次に、スルーホール7上にスルーホール覆装部材70を取り付ける。スルーホール覆装部材70は、粘着性を有するシート、基板製造技術で使用されるドライフィルム、ガラスエポキシ板、セラミックス板などを、スルーホール7上のみに位置するように型など打ち抜いて成形し、これを基板6に貼り付けるようにすればよい。もちろん、ドライフィルムの場合は基板全面に貼り合わせておいて、従来の基板製造技術と同様のフォトプロセスで、スルーホール7の部分のみ残すようにしてもよい。 Next, a method of manufacturing a chip carrier type electronic component having the structure shown in FIGS. 7 to 9 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10A, first, a substrate (substrate material) 6 having a through hole 7 formed in a connection portion of a chip carrier is prepared. Next, the through-hole covering member 70 is mounted on the through-hole 7. The through-hole covering member 70 is formed by punching out a sheet having adhesiveness, a dry film used in the substrate manufacturing technology, a glass epoxy plate, a ceramic plate, or the like so as to be positioned only on the through-hole 7, and the like. This may be attached to the substrate 6. Of course, in the case of a dry film, it may be bonded to the entire surface of the substrate, and only the through hole 7 may be left by a photo process similar to the conventional substrate manufacturing technology.

 図10(a)に示すように、スルーホール覆装部材70をスルーホール7の部分のみに設けてもよいし、これに加え図8および図9で説明したように、半導体素子1と基板6との間に、半導体素子1のパッドとして設けてもよい。その後、半導体素子1をダイアタッチし、ダイアタッチしたこの半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。さらに、図10(b)に示すように、モールド樹脂5を基板上にポッティング(塗布)するが、このときスルーホール7は、スルーホール覆装部材70で覆われているので、モールド樹脂5は、スルーホール7に流入することがなく、基板裏面にしみ出すことがない。そして、最後に、図2(c)と同様に、チップキャリア型の電子部品の外形であるスルーホール7の部分、すなわちスルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、電子部品素材をダイシングブレード20で切断し、電子部品単体とする。 As shown in FIG. 10A, the through-hole covering member 70 may be provided only in the portion of the through-hole 7, or in addition to this, as described in FIGS. May be provided as a pad of the semiconductor element 1. Thereafter, the semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 thus die-attached and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected with the wires 2. Further, as shown in FIG. 10B, the mold resin 5 is potted (coated) on the substrate. At this time, since the through-hole 7 is covered with the through-hole covering member 70, the mold resin 5 Does not flow into the through hole 7 and does not seep into the back surface of the substrate. Finally, as in FIG. 2C, the electronic component material is removed along the portion of the through hole 7 which is the outer shape of the chip carrier type electronic component, that is, along a virtual line passing substantially through the axis of the through hole 7. It is cut by the dicing blade 20 to make the electronic component alone.

 さらに、図11に基づいて、別の電子部品の製造方法について説明する。上記複数の実施例と同様に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、ワイヤーボンディングし、さらに、モールド樹脂5を基板6上にポッティング(塗布)するが、この実施例では、図11に示すように、モールド樹脂5を硬化させる際に、基板6に、基板6の平面度を保持する平面保持手段を取り付けるようにしている。
平面保持手段は、基板6の裏面に当てがう平面保持板80と、平面保持板80および基板6を合わせて挟持する断面「コ」字状の挟持部材81とで構成されており、基板6に着脱自在に装着される。この状態でモールド樹脂5は、使用するモールド材に合った方法で硬化させる。一般的には、モールド樹脂5は熱硬化型エポキシ系樹脂で構成されているため、恒温槽に入れて硬化させるようにする。
Further, a method for manufacturing another electronic component will be described with reference to FIG. Similarly to the above embodiments, the semiconductor element 1 is die-attached, wire-bonded, and the mold resin 5 is potted (applied) on the substrate 6. In this embodiment, as shown in FIG. When the mold resin 5 is cured, a flat surface holding means for holding the flatness of the substrate 6 is attached to the substrate 6.
The plane holding means includes a plane holding plate 80 applied to the back surface of the substrate 6, and a holding member 81 having a “U” cross section for holding the plane holding plate 80 and the substrate 6 together. Removably attached to. In this state, the mold resin 5 is cured by a method suitable for the mold material to be used. Generally, since the mold resin 5 is made of a thermosetting epoxy resin, it is placed in a thermostat and cured.

 ところで、一般的に、モールド樹脂5の熱膨張係数(よく使用される樹脂では、2〜3×10−5/℃)は、基板の熱膨張係数(代表的な基板例としてFR−4の場合、約1.5×10−5/℃)に比較して大きく、さらにモールド樹脂5は数パーセントから数十パーセントの硬化収縮をする。従って、モールド樹脂5を塗布した基板6をそのまま硬化させると、基板6はモールド樹脂5を中心にして凹状に反ってしまう。しかし、基板6に上記の平面保持手段を取り付けた状態で、モールド樹脂5を硬化させると、モールド樹脂5の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)により、基板(この状態では電子部品素材)6の反りの程度が緩和される。最終的に平面保持手段を取り去った基板6の反りは、極めて小さくなり、後工程であるダイシング、プロービング電気特性検査など、基板6の平面度が要求される工程では、有利に働く。なおかつ、最終製品である電子部品の反りも、当然小さくすることができる。 By the way, in general, the thermal expansion coefficient of the mold resin 5 (2 to 3 × 10 −5 / ° C. for a frequently used resin) is determined by the thermal expansion coefficient of a substrate (FR-4 as a typical substrate example). , About 1.5 × 10 −5 / ° C.), and the molding resin 5 undergoes several percent to several tens of percent cure shrinkage. Therefore, if the substrate 6 coated with the mold resin 5 is cured as it is, the substrate 6 warps in a concave shape around the mold resin 5. However, when the mold resin 5 is cured in a state where the above-mentioned flat surface holding means is attached to the substrate 6, a relaxation phenomenon (creep phenomenon) due to a viscous component of the mold resin 5 causes the substrate (the electronic component material 6) in this state. The degree of warpage is reduced. Finally, the warpage of the substrate 6 from which the plane holding means has been removed becomes extremely small, and works advantageously in the subsequent steps such as dicing and probing electrical characteristic inspection, in which flatness of the substrate 6 is required. In addition, the warpage of the electronic component, which is the final product, can naturally be reduced.

 さらにまた、モールド樹脂5を硬化させた後に、図11に示すように、反った基板6に平面保持手段を取り付け、この状態で基板(電子部品素材)6を再度加熱し、更に徐冷するようにしても、基板6の反りは緩和される。これは、一般的にアニールと呼ばれる工程であるが、やはりモールド樹脂5の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)によるためである。もちろん、基板6に平面保持手段を取り付けてモールド樹脂5を硬化させる工程と、平面保持手段を取り付けた状態でアニールする工程とを組み合わせれば、さらに基板6の反りを小さくすることができることは、いうまでもない。 Further, after the mold resin 5 is cured, as shown in FIG. 11, a flat holding means is attached to the warped substrate 6, and in this state, the substrate (electronic component material) 6 is heated again and further cooled down. In this case, the warpage of the substrate 6 is reduced. This is a step generally called annealing, but also because of a relaxation phenomenon (creep phenomenon) due to a viscous component of the mold resin 5. Of course, if the step of attaching the plane holding means to the substrate 6 to cure the mold resin 5 and the step of annealing with the plane holding means attached are combined, the warpage of the substrate 6 can be further reduced. Needless to say.

 次に、本実施例の電子部品の製造方法において、有用なモールド樹脂の塗布方法について説明する。特に図示しないが、このモールド樹脂の塗布方法では、上記の基板に流し込む(塗布する)モールド樹脂の量を、その重量で管理している。すなわち、モールド樹脂を塗布する面積は、該当する基板により確定され、またモールド樹脂(熱硬化型エポキシ系樹脂)の比重は、ほぼ1.8である。したがって、塗布するモールド樹脂を重量で管理することにより、モールド樹脂の塗布厚を管理できることになる。そして、半導体素子等のモールドされる部品要素の体積を考慮すれば、モールド樹脂の塗布厚を精度良く管理することができる。
例えば、0.4mmの基板に、0.8mm〜0.9mm厚の精度で、モールド樹脂を塗布することができ、モールドクラックが発生することがなく、かつ電子部品としての厚さを最低限にすることができる。
Next, a method of applying a useful mold resin in the method of manufacturing an electronic component of the present embodiment will be described. Although not particularly shown, in this method of applying a mold resin, the amount of the mold resin poured (applied) to the substrate is controlled by its weight. That is, the area to which the mold resin is applied is determined by the corresponding substrate, and the specific gravity of the mold resin (thermosetting epoxy resin) is approximately 1.8. Therefore, by controlling the applied mold resin by weight, the applied thickness of the mold resin can be controlled. In consideration of the volume of the component element to be molded, such as a semiconductor element, the thickness of the applied mold resin can be accurately controlled.
For example, a mold resin can be applied to a 0.4 mm substrate with an accuracy of 0.8 mm to 0.9 mm thickness, without mold cracking, and minimizing the thickness as an electronic component. can do.

 さらに、このモールド樹脂の塗布方法では、モールド樹脂を塗布した基板を水平に保持して硬化させるようにしている。すなわち、基板を水平に保持する治具を用い、恒温漕内で基板を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させる。
このようにすれば、電子部品素材のモールド樹脂の塗布厚を均一にすることができ、切り出した電子部品のモールド樹脂の塗布厚、ひいては電子部品の厚さを一定にすることができる。なお、上記のモールド樹脂の重量を測定する手段としては、電子天秤を始めとする各種の秤が考えられ、また上記の治具としては、水準器を備えた3点支持(高さ調整可能な3本の脚)の台が考えられる。
Further, in this method of applying the mold resin, the substrate on which the mold resin is applied is held horizontally and cured. That is, using a jig for holding the substrate horizontally, the mold resin is cured while the substrate is held horizontally in the constant temperature bath.
In this way, the applied thickness of the mold resin of the electronic component material can be made uniform, and the applied thickness of the cut electronic component mold resin, and thus the thickness of the electronic component, can be made constant. As a means for measuring the weight of the mold resin, various types of balances such as an electronic balance are considered, and the jig is a three-point support provided with a level (height adjustable). A table with three legs is conceivable.

 次に、上述のいずれの電子部品の構造にも適用できる本発明の他の実施例について説明する。図12は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の基板構造図である。ここでは、2種類の基板構造を、相互に比較できるように重ねた図で説明する。図12において、符号61は、2種類の基板構造に共通する半導体素子のダイアタッチ部である。以下、基板6、配線パターン3、スルーホール7を一方の基板構造62では実線で、他方の基板構造63では二点鎖線で示す。実線が実施例の基板構造62であり、基板6の四隅に、スルーホール7とワイヤーボンディングのボンディングパッドを兼ねた配線パターン3とが形成されている。また、二点鎖線が既知の基板構造63であり、基板6の四辺に、スルーホール7と配線パターン3とが形成されている。 Next, another embodiment of the present invention applicable to the structure of any of the above electronic components will be described. FIG. 12 is a substrate structure diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. Here, the two types of substrate structures will be described with reference to an overlapped view so that they can be compared with each other. In FIG. 12, reference numeral 61 denotes a die attach portion of a semiconductor element common to two types of substrate structures. Hereinafter, the substrate 6, the wiring pattern 3, and the through hole 7 are indicated by solid lines in one substrate structure 62 and by two-dot chain lines in the other substrate structure 63. The solid line is the substrate structure 62 of the embodiment, and the through-hole 7 and the wiring pattern 3 serving as a bonding pad for wire bonding are formed at four corners of the substrate 6. The two-dot chain line indicates the known substrate structure 63, and the through hole 7 and the wiring pattern 3 are formed on four sides of the substrate 6.

 特に、半導体素子1と配線パターン3とが4本以内の接続の場合、図12に示すように、できる限り小型に、しかも定型サイズの電子部品に設計しようとすると、スルーホール7を基板6の辺の部分ではなく、基板6の四隅に形成した方が、デッドスペースになりがちな基板6の四隅を有効に活用するでき、基板サイズの小型化に有利になることが解る。ここで半導体素子1と配線パターン3とが3本以下の場合、前記スルーホール7は、基板4の四隅すべてを使用しなくてもよい。一方、この基板構造62の電子部品を製造する場合には、後に切断線となる仮想線の交差部にスルーホール(スルーホール素材)7を作り込んだ基板(基板素材)6を準備して、電子部品素材を形成し、これを仮想線に沿って切断するようにする。 In particular, when the semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 are connected to each other in four or less, as shown in FIG. It can be seen that the formation at the four corners of the substrate 6 instead of the side portions can effectively utilize the four corners of the substrate 6 that are liable to be a dead space, which is advantageous in reducing the size of the substrate. Here, when the number of the semiconductor elements 1 and the wiring patterns 3 is three or less, the through holes 7 do not need to use all four corners of the substrate 4. On the other hand, in the case of manufacturing an electronic component having the substrate structure 62, a substrate (substrate material) 6 having a through-hole (through-hole material) 7 formed at an intersection of a virtual line which will be a cutting line later is prepared. An electronic component material is formed and cut along a virtual line.

 同様に、図13に基づいて、いずれのチップキャリア型の電子部品にも適用できる別の製造方法について説明する。なお、以下に説明する基板6の切断工程は、前述のように半導体素子1を実装しモールド樹脂5を塗布した後、行われる工程であるが、説明を分かりやすくするため、図面上では、半導体素子1やワイヤー2などを省略している。図13(a)は、本発明におけるチップキャリア型の電子部品に使用される基板(基板素材)6の裏面図、図13(b)はその平面図である。 Similarly, another manufacturing method applicable to any chip carrier type electronic component will be described with reference to FIG. The cutting step of the substrate 6 described below is a step performed after mounting the semiconductor element 1 and applying the mold resin 5 as described above. The element 1 and the wire 2 are omitted. FIG. 13A is a rear view of a substrate (substrate material) 6 used for a chip carrier type electronic component according to the present invention, and FIG. 13B is a plan view thereof.

 図13(b)に示す符号71はダイパッドであり、ここに半導体素子1がダイアタッチされる。半導体素子1と、配線パターン3とが接続され、さらにスルーホール7で基板6の裏面に接続されている。図中の破線は、フルダイシングライン(仮想線)91であり、最終的にこのライン91で囲まれる領域がチップキャリア型電子部品の外形となる。もちろん実際の工程では、基板6の表面はモールド樹脂5が全面に塗布されており、図13(b)の配線パターン3、スルーホール7等は見えない。また、図13(a)の基板6裏面は、ダイシング前においては実装前後で外観上の変化はない。 符号 Reference numeral 71 shown in FIG. 13B denotes a die pad, to which the semiconductor element 1 is die-attached. The semiconductor element 1 is connected to the wiring pattern 3, and further connected to the back surface of the substrate 6 through the through hole 7. The broken line in the figure is a full dicing line (virtual line) 91, and the area surrounded by this line 91 finally becomes the outer shape of the chip carrier type electronic component. Of course, in an actual process, the molding resin 5 is applied to the entire surface of the substrate 6, and the wiring pattern 3, the through hole 7, and the like in FIG. Further, the back surface of the substrate 6 in FIG. 13A does not change in appearance before and after mounting before dicing.

 図13(a)に示すように、基板6の裏面の周縁部には、各スルーホール7に連なるメッキリード92が設けられており、このメッキリード92により、基板6の表面の配線パターン3及びスルーホール7、および基板6の裏面の接続用ランド8上に電気メッキが施される。このため、メッキリード92により、全スルーホール7、それに続がる配線パターン3、さらには半導体素子1の外部結線部分が、全て電気的に短絡している。 As shown in FIG. 13A, a plating lead 92 connected to each through hole 7 is provided at a peripheral portion of the back surface of the substrate 6, and the wiring pattern 3 and the wiring pattern 3 on the surface of the substrate 6 are formed by the plating lead 92. Electroplating is performed on the through holes 7 and the connection lands 8 on the back surface of the substrate 6. Therefore, all the through holes 7, the wiring patterns 3 following the through holes 7, and the external connection portions of the semiconductor element 1 are all electrically short-circuited by the plating leads 92.

 したがって、メッキが施された後は、この短絡状態を解消するために、実施例では、メッキリード92をハーフダイシングライン90で切断するようにしている。ハーフダイシングは、少なくともメッキリード92の厚さ以上、モールドを含む電子部品の総厚以下で行われる。この場合、後のフルダイシング工程でチップキャリア型電子部品がバラバラにならないように、モールド後の基板6表面に粘着性を有するシートを貼ってから行うのが望ましい。このハーフダイシング工程でメッキリード92が切断されるので、全スルーホール7、それに続がる配線パターン3、さらには半導体素子1の外部結線部分は、全て電気的な短絡は取り除かれ、スルーホール7から半導体素子1までは、最終的なチップキャリア型電子部品と同様に、電気的に独立した電子部品要素となる。これにより、スルーホール7にピンプローブを立てるようにして、基板6裏面から半導体素子1の電気的な検査を行うことができる。検査が終了してから、最終的なチップキャリア型電子部品の外形にフルダイシングライン91で切断する。 Therefore, in order to eliminate this short circuit state after plating, the plating lead 92 is cut by the half dicing line 90 in the embodiment. The half dicing is performed at least not less than the thickness of the plating lead 92 and not more than the total thickness of the electronic component including the mold. In this case, it is preferable that an adhesive sheet be attached to the surface of the molded substrate 6 so that the chip carrier type electronic components do not fall apart in the subsequent full dicing step. Since the plating lead 92 is cut in this half dicing step, all the through holes 7, the wiring patterns 3 following them, and the external connection portions of the semiconductor element 1 are all electrically short-circuited, and the through holes 7 are removed. To the semiconductor element 1 are electrically independent electronic component elements like the final chip carrier type electronic component. Thus, the electrical inspection of the semiconductor element 1 can be performed from the back surface of the substrate 6 such that the pin probe is set up in the through hole 7. After the inspection, the external shape of the final chip carrier type electronic component is cut by the full dicing line 91.

 このようにすることで、基板外形状態でチップキャリア型電子部品の検査を行うことができるので、電子部品単体で行うより検査時の取扱い性、位置決め性が大幅に向上する。また、ハーフダイシングライン90とフルダイシングライン91は重なっていてもよい。すなわち、ハーフダイシングを最終的なチップキャリア型電子部品外形位置で行い、部品検査後同じ位置でフルダイシングを行い、最終的なチップキャリア型電子部品に仕上げても効果は変わらない。 よ う By doing so, the chip carrier type electronic component can be inspected in the outer shape of the substrate, so that the handling and positioning at the time of inspection are greatly improved as compared with the case where the electronic component is used alone. Further, the half dicing line 90 and the full dicing line 91 may overlap. That is, even if half dicing is performed at the final outer shape position of the chip carrier type electronic component, full dicing is performed at the same position after the component inspection, and the final chip carrier type electronic component is finished, the effect remains unchanged.

 さらに、ハーフダイシングを省略して、上記のフルダイシングライン91で、直接フルダイシングを行い、最終的なチップキャリア型電子部品としてもよい。
この場合も、基板6表面に粘着性を有するシートを貼ってから行う。これにより、フルダイシングされた電子部品がバラバラにならず、かつメッキリード92も切断されるので、基板外形状態でチップキャリア型電子部品の検査を行うことができる。
Further, half dicing may be omitted, and full dicing may be directly performed on the full dicing line 91 to obtain a final chip carrier type electronic component.
Also in this case, the process is performed after a sticky sheet is attached to the surface of the substrate 6. As a result, the electronic components that have been fully diced do not fall apart, and the plating leads 92 are also cut, so that the chip carrier type electronic components can be inspected in the outer shape of the substrate.

 なお、図示しないが、メッキリード92を基板6の表裏両面に形成するようにしてもよい。かかる場合には、メッキ電流の局在化が抑制され、メッキ厚を均一にすることができる。そして、この場合には、上記のように直接フルダイシングを行うことが、好ましい。
(変形例)
Although not shown, the plating leads 92 may be formed on both front and back surfaces of the substrate 6. In such a case, localization of the plating current is suppressed, and the plating thickness can be made uniform. In this case, it is preferable to perform full dicing directly as described above.
(Modification)

 以上述べてきた実施例中では、半導体素子をいわゆるワイヤーボンディング法で基板に搭載する方法について説明してきたが、TAB法、フリップチップ法等、他の既知の方法で搭載しても、もちろん構わない。特にフェースダウン方式によるフリップチップ実装にて行う場合には、ワイヤを引き回す領域に相当する面積分が省略可能であり、より小型化が図れることはいうまでもない。さらに、上記の実施例中では、半導体素子をチップキャリア型電子部品に搭載する場合について述べてきたが、搭載される部品は半導体素子に限らず、キャパシター、インダクター等他のどんな要素部品でも構わない。また、実施例中の基板には、単一の要素部品のみならず複数の要素部品が搭載されていても良い。もちろん、いわゆるMCM(マルチチップモジュール)を搭載するパッケージとしても、使用することができる。 In the embodiment described above, the method of mounting the semiconductor element on the substrate by the so-called wire bonding method has been described. However, the semiconductor element may be mounted by another known method such as the TAB method or the flip chip method. . In particular, when the flip-chip mounting is performed by the face-down method, the area corresponding to the region where the wires are routed can be omitted, and it goes without saying that the size can be further reduced. Further, in the above-described embodiment, the case where the semiconductor element is mounted on the chip carrier type electronic component has been described. However, the mounted component is not limited to the semiconductor element, and any other component parts such as a capacitor and an inductor may be used. . Further, not only a single component but also a plurality of components may be mounted on the substrate in the embodiment. Of course, it can also be used as a package on which a so-called MCM (multi-chip module) is mounted.

本発明の一実施例に係る電子部品の構造図である。1 is a structural diagram of an electronic component according to an embodiment of the present invention. 本発明の図1の実施例に対応する製造方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of a manufacturing method corresponding to the embodiment of FIG. 1 of the present invention. 本発明の図1の実施例に対応する他の製造方法の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of another manufacturing method corresponding to the embodiment of FIG. 1 of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 4 is a structural view of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の図4の実施例に対応する製造方法の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a manufacturing method corresponding to the embodiment of FIG. 4 of the present invention. 本発明の図4の実施例に対応する他の製造方法の説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of another manufacturing method corresponding to the embodiment of FIG. 4 of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 4 is a structural view of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 4 is a structural view of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 4 is a structural view of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の図7、図8および図9の実施例に対応する製造方法の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a manufacturing method corresponding to the embodiment of FIGS. 7, 8 and 9 of the present invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の製造方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for manufacturing an electronic component according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の基板構造図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a substrate structure of an electronic component according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の製造方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for manufacturing an electronic component according to one embodiment of the present invention. 従来の電子部品の構造図である。It is a structural diagram of the conventional electronic component.

符号の説明Explanation of reference numerals

  1 半導体素子
  2 ワイヤー
  3 配線パターン
  4 モールド枠
  5 モールド樹脂
  6 基板
  7 スルーホール(外部電極)
  8 接続用ランド
  9 ハンダ
 20 ダイシングブレード
 21 クリームハンダ
 22 小孔
 23 ステンシル
 24 スキージ
 30 ハンダ噴流
 31 溶融ハンダ
 40 粘着シート
 50 シリコーンゴム
 61 ダイヤタッチ部
 62 実線の基板構造
 63 二点鎖線の基板構造
 70 スルーホール覆面部材
 71 ダイパッド
 72 銀ペースト
 73 貫通孔
 80 平面保持板
 81 挟持部材
 90 ハーフダイシングライン
 91 フルダイシングライン
 92 メッキリード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor element 2 Wire 3 Wiring pattern 4 Mold frame 5 Mold resin 6 Substrate 7 Through hole (external electrode)
Reference Signs List 8 connection land 9 solder 20 dicing blade 21 cream solder 22 small hole 23 stencil 24 squeegee 30 solder jet 31 molten solder 40 adhesive sheet 50 silicone rubber 61 diamond touch part 62 solid line substrate structure 63 two-dot chain line substrate structure 70 through hole Covering member 71 Die pad 72 Silver paste 73 Through hole 80 Flat plate 81 Holding member 90 Half dicing line 91 Full dicing line 92 Plating lead

Claims (62)

周囲に複数の外部電極を設けた方形の基板と、前記外部電極に電気的に接続された状態で当該基板の表面に載置した要素部品と、当該要素部品を前記基板の表面にモールドしたモールド樹脂とを備えたリードレスパッケージ型の電子部品において、 前記モールド樹脂の表面が平坦に形成されると共に、前記モールド樹脂の各側面が前記基板の各側面と面一に形成されていることを特徴とする電子部品。 A rectangular substrate having a plurality of external electrodes provided therearound, an element component mounted on the surface of the substrate in a state electrically connected to the external electrode, and a mold formed by molding the element component on the surface of the substrate In a leadless package type electronic component having a resin, the surface of the mold resin is formed flat, and each side surface of the mold resin is formed flush with each side surface of the substrate. And electronic components. 前記外部電極は、スルーホールを軸方向に切断して形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 1, wherein the external electrode is formed by cutting a through hole in an axial direction. 前記外部電極には、導電ペーストが充填されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 2, wherein the external electrode is filled with a conductive paste. 前記外部電極には、ハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 2, wherein the external electrode is filled with a metal material having solder wettability. 前記金属材料が、ハンダであることを特徴とする請求項4に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 4, wherein the metal material is solder. 前記金属材料が、金であることを特徴とする請求項4に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 4, wherein the metal material is gold. 前記外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を、更に備えており、
 当該覆装部材は、前記モールド樹脂により前記基板の表面にモールドされていると共に、その側端面が当該モールド樹脂および当該基板の側面と面一に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。
A covering member for closing an opening on the mold resin side of the external electrode, further comprising:
The method according to claim 2, wherein the covering member is molded on the surface of the substrate by the molding resin, and a side end surface thereof is formed flush with the side surface of the molding resin and the substrate. Electronic components as described.
前記基板と前記要素部品との間に、前記覆装部材と全く同一材料のパッドを、更に備えたことを特徴とする請求項7に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 7, further comprising a pad made of exactly the same material as the covering member, between the substrate and the element component. 前記パッドには、当該覆装部材を表裏方向に貫通する貫通孔が形成されており、当該貫通孔には、前記要素部品と前記基板の配線領域とを導通する導電性部材が内在されていることを特徴とする請求項8に記載の電子部品。 The pad is formed with a through-hole penetrating the covering member in the front-back direction, and the through-hole includes a conductive member for conducting the element component and a wiring region of the substrate. The electronic component according to claim 8, wherein: 前記覆装部材が、粘着性のシートであることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is an adhesive sheet. 前記覆装部材が、ドライフィルムであることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a dry film. 前記覆装部材が、ガラスエポキシ板であることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a glass epoxy plate. 前記覆装部材が、セラミック板であることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a ceramic plate. 前記外部電極が、前記基板の角部に設けられていることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 1, wherein the external electrode is provided at a corner of the substrate. ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線上に配設した基板素材と、
 当該基板素材の前記仮想線に囲まれた領域に実装した要素部品と、
 前記要素部品をモールドするように前記基板素材の表面全域に流し込んだモールド樹脂とを備えたことを特徴とする電子部品素材。
A substrate material in which through-holes in which external electrodes are formed by cutting along a line passing substantially through the axis are arranged on a grid-like virtual line,
Element components mounted in an area of the substrate material surrounded by the virtual line,
A mold resin poured over the entire surface of the substrate material so as to mold the element component.
前記基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを、更に備えたことを特徴とする請求項15に記載の電子部品素材。 The electronic component material according to claim 15, further comprising a dam at a peripheral portion of the substrate material, the dam preventing flow of the poured mold resin. 前記基板素材に、各スルーホールに連なるメッキリードを、更に備えたことを特徴とする請求項15または16に記載の電子部品素材。 17. The electronic component material according to claim 15, wherein the substrate material further includes a plating lead connected to each through hole. 前記メッキリードが、前記基板素材の表裏両面に配設されていることを特徴とする請求項17に記載の電子部品素材。 18. The electronic component material according to claim 17, wherein the plating leads are provided on both front and back surfaces of the substrate material. 前記各スルーホールに、導電ペーストを充填したことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。 The electronic component material according to any one of claims 15 to 18, wherein a conductive paste is filled in each of the through holes. 前記各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填したことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。 19. The electronic component material according to claim 15, wherein each of the through holes is filled with a metal material having solder wettability. 前記金属材料が、ハンダであることを特徴とする請求項20に記載の電子部品素材。 The electronic component material according to claim 20, wherein the metal material is solder. 前記金属材料が、金であることを特徴とする請求項20に記載の電子部品素材。 The electronic component material according to claim 20, wherein the metal material is gold. 前記基板素材の表面に、前記各スルーホールの開口部を閉塞すると共に、モールド樹脂にモールドされた覆装素材を、更に備えたことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。 19. The surface of the substrate material, further comprising a covering material that closes the opening of each of the through holes and is molded with a molding resin. Electronic component material. 前記基板素材と前記各要素部品との間に、前記覆装素材と全く同一材料のパッドを、更に備えたことを特徴とする請求項23に記載の電子部品素材。 24. The electronic component material according to claim 23, further comprising a pad made of exactly the same material as the covering material, between the substrate material and each of the component parts. 前記覆装素材が、粘着性のシートであることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。 25. The electronic component material according to claim 23, wherein the covering material is an adhesive sheet. 前記覆装素材が、ドライフィルムであることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。 25. The electronic component material according to claim 23, wherein the covering material is a dry film. 前記覆装素材が、ガラスエポキシ板であることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。 25. The electronic component material according to claim 23, wherein the covering material is a glass epoxy plate. 前記覆装素材が、セラミック板であることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。 25. The electronic component material according to claim 23, wherein the covering material is a ceramic plate. 前記スルーホールを、格子状の仮想線の交差部に配設したことを特徴とする請求項15ないし28のいずれか1項に記載の電子部品素材。 The electronic component material according to any one of claims 15 to 28, wherein the through holes are arranged at intersections of grid-like virtual lines. ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線に沿って基板素材に作り込む基板製作工程と、
 前記基板素材の前記仮想線に囲まれた領域に要素部品を実装する実装工程と、 前記要素部品とこれに対応する前記スルーホールとを電気的に接続する接続工程と、
 前記基板素材の表面全域にモールド樹脂を流し込んで前記要素部品をモールドするモールド工程と、
 前記モールド樹脂が硬化した後、前記基板素材、前記モールド樹脂および前記スルーホールを前記仮想線に沿って切断する切断工程とを備えたことを特徴とする電子部品の製造方法。
A substrate manufacturing process of making a through hole in which an external electrode is formed by cutting along a line passing substantially through the axis in a substrate material along a grid-like virtual line,
A mounting step of mounting an element component in a region surrounded by the virtual line of the substrate material, and a connection step of electrically connecting the element component and the corresponding through-hole,
A molding step of pouring a mold resin over the entire surface of the substrate material to mold the element parts,
A cutting step of cutting the substrate material, the mold resin, and the through hole along the virtual line after the mold resin is cured.
前記モールド工程に先立ち、前記基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを形成するダム形成工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30に記載の電子部品の製造方法。 31. The manufacturing of an electronic component according to claim 30, further comprising a dam forming step of forming a dam at a peripheral portion of the substrate material to prevent the flow of the poured mold resin before the molding step. Method. 前記基板素材を水平に保持する治具を用い、当該治具により当該基板素材を水平に保持した状態で、前記モールド樹脂を硬化させることを特徴とする請求項30または31に記載の電子部品の製造方法。 32. The electronic component according to claim 30, wherein the mold resin is cured while using a jig for holding the substrate material horizontally and holding the substrate material horizontally by the jig. Production method. 流し込む前記モールド樹脂を、重量で管理することを特徴とする請求項32に記載の電子部品の製造方法。 33. The method for manufacturing an electronic component according to claim 32, wherein the mold resin to be poured is managed by weight. 前記モールド工程に先立ち、前記各スルーホールに、導電ペーストを充填する充填工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。 34. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising, before the molding step, a filling step of filling each of the through holes with a conductive paste. 前記充填工程は、前記導電ペーストを前記各スルーホールに充填した後これをする加熱硬化させることにより、行われることを特徴とする請求項34に記載の電子部品の製造方法。 35. The method according to claim 34, wherein the filling step is performed by filling the through-holes with the conductive paste and then heating and curing the through-holes. 前記モールド工程に先立ち、前記各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填する充填工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。 34. The electronic component according to claim 30, further comprising, before the molding step, a filling step of filling each of the through holes with a metal material having solder wettability. Production method. 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、ハンダペーストを前記各スルーホールに充填した後これを加熱溶融させることにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。 The method for manufacturing an electronic component according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is performed by filling each of the through holes with a solder paste and then heating and melting the through holes. . 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、溶融して波立せたハンダに前記スルーホールの開口部を接触させることにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。 37. The manufacturing of an electronic component according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is performed by bringing an opening of the through hole into contact with molten and wavy solder. Method. 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、前記基板素材の前記スルーホールの開口部を除く部分をマスキングした後、前記基板素材を溶融したハンダに浸漬することにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。 The metal material is solder, and the filling step is performed by masking a portion of the substrate material excluding the opening of the through hole, and then immersing the substrate material in molten solder. The method for producing an electronic component according to claim 36, wherein 前記充填工程は前記スルーホールに厚くメッキを施すことにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。 The method according to claim 36, wherein the filling step is performed by plating the through hole thickly. 前記モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて前記基板素材の裏面に開口した前記各スルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、
 前記モールド樹脂が硬化した後、前記閉塞部材を取り去る開放工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the molding step, a closing step of closing the opening of each through hole opened on the back surface of the substrate material using a closing member,
The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, further comprising: an opening step of removing the closing member after the mold resin has hardened.
前記閉塞部材が前記基板素材の裏面全域を覆い得る非粘着性の平板状部材であり、前記閉塞工程は、前記基板素材の裏面に当該平板状部材を押し当てることにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。 The closing member is a non-adhesive plate member that can cover the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by pressing the plate member against the back surface of the substrate material. The method for manufacturing an electronic component according to claim 41. 前記平板状部材が、シリコーンゴムであることを特徴とする請求項42に記載の電子部品の製造方法。 43. The method according to claim 42, wherein the flat member is a silicone rubber. 前記閉塞部材が、前記基板素材の裏面全域を覆い得る粘着性のシートであり、前記閉塞工程は、前記基板素材の裏面に当該シートを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。 The closing member is an adhesive sheet that can cover the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by attaching the sheet to the back surface of the substrate material. 42. The method for manufacturing an electronic component according to 41. 前記シートが紫外線の照射により粘着性が低下する紫外線硬化シートであり、前記閉塞工程と前記開放工程との間で、当該紫外線硬化シートに紫外線を照射することを特徴とする請求項44に記載の電子部品の製造方法。 45. The sheet according to claim 44, wherein the sheet is an ultraviolet curable sheet whose adhesiveness is reduced by irradiation with ultraviolet light, and between the closing step and the opening step, the ultraviolet curable sheet is irradiated with ultraviolet light. Manufacturing method of electronic components. 前記シートが加熱することにより粘着性が低下する熱硬化シートであり、前記閉塞工程と前記開放工程との間で、当該熱硬化シートを加熱することを特徴とする請求項44に記載の電子部品の製造方法。 The electronic component according to claim 44, wherein the sheet is a thermosetting sheet whose adhesiveness is reduced by heating, and the thermosetting sheet is heated between the closing step and the opening step. Manufacturing method. 前記閉塞部材が、アルカリ水溶液に溶解する溶解性樹脂であり、前記閉塞工程は、当該各スルーホールに溶解性樹脂を流し込んで硬化させることにより、行われ、前記開放工程は、アルカリ水溶液で溶解性樹脂を洗い流すことにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。 The closing member is a soluble resin that dissolves in an aqueous alkaline solution, and the closing step is performed by pouring the soluble resin into each of the through holes and curing the resin. The method for manufacturing an electronic component according to claim 41, wherein the method is performed by washing the resin. 前記モールド工程に先立ち、前記基板素材の表面に、前記各スルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を取り付ける覆装工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。 34. The method according to claim 30, further comprising, before the molding step, a covering step of attaching a covering material for closing an opening of each through hole to a surface of the substrate material. 13. The method for producing an electronic component according to item 9. 前記覆装素材が粘着性のシートであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該シートを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 49. The manufacturing of an electronic component according to claim 48, wherein the covering material is an adhesive sheet, and the covering step is performed by attaching the sheet to a surface of the substrate material. Method. 前記覆装部材がドライフィルムであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該ドライフィルムを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 49. The method according to claim 48, wherein the covering member is a dry film, and the covering step is performed by attaching the dry film to a surface of the substrate material. . 前記覆装部材がガラスエポキシの成形板であり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該成形板を接着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 49. The electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a molded plate of glass epoxy, and the covering step is performed by bonding the molded plate to a surface of the substrate material. Production method. 前記覆装部材がガラスエポキシのプリプレグであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該プリプレグを加熱圧着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 49. The manufacturing of an electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a prepreg made of glass epoxy, and the covering step is performed by heat-pressing the prepreg on a surface of the substrate material. Method. 前記覆装部材がセラミックの成形板であり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該成形板を接着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 49. The manufacturing of the electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic molded plate, and the covering step is performed by bonding the molded plate to a surface of the substrate material. Method. 前記覆装部材がセラミックのグリーンシートであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該グリーンシートを加熱圧着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。 The electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic green sheet, and the covering step is performed by heat-pressing the green sheet on a surface of the substrate material. Production method. 前記モールド工程に先立ち、前記基板素材に当該基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、
 前記モールド樹脂の硬化後であって前記切断工程の前に、前記平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし54のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the molding step, a step of attaching to the substrate material a plane holding means for holding the flatness of the substrate material,
The electronic component according to any one of claims 30 to 54, further comprising: removing the plane holding means after the curing of the mold resin and before the cutting step. Production method.
前記モールド樹脂の硬化後であって、前記平面保持手段を取り去る前に、前記基板素材を加熱させ且つ徐冷させることを特徴とする請求項55に記載の電子部品の製造方法。 56. The method according to claim 55, wherein the substrate material is heated and gradually cooled after the curing of the mold resin and before removing the plane holding means. 前記モールド樹脂の硬化後であって前記切断工程の前に、 前記基板素材に当該基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、
 前記基板素材を加熱させ且つ徐冷させる工程と、
 前記平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし54のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
After the curing of the mold resin and before the cutting step, a step of attaching flat holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material,
A step of heating and slowly cooling the substrate material,
55. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising: removing the plane holding means.
前記平面保持手段は、前記基板素材の裏面側に当てがう平面保持板と、当該平面保持板および当該基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで、構成されていることを特徴とする請求項55、56または57に記載の電子部品の製造方法。 The said plane holding | maintenance means is comprised by the holding | maintenance member which hold | maintains the said plane holding plate and the said board | substrate material together, and the flat holding board which abuts on the back surface side of the said board | substrate material, The claim | item 55. The method for producing an electronic component according to 55, 56 or 57. 前記基板製作工程において、前記基板素材に、前記スルーホールと共に、当該各スルーホールに連なるメッキリードを一体に作り込むことを特徴とする請求項30ないし58のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。 The electronic component according to any one of claims 30 to 58, wherein, in the substrate manufacturing step, a plating lead connected to each through hole is integrally formed with the substrate material together with the through hole. Production method. 前記切断工程に先立ち、前記基板素材および前記モールド樹脂に切り込みを入れてメッキリードを前記スルーホールから切り離す半切断工程と、
 これに続く前記要素部品の電気的な検査を行う検査工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項59に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the cutting step, a semi-cutting step of cutting a plating lead from the through hole by making a cut in the substrate material and the mold resin,
The method of manufacturing an electronic component according to claim 59, further comprising: an inspection step of performing an electrical inspection of the element component subsequent thereto.
前記半切断工程における切り込みが、前記仮想線に沿って行われることを特徴とする請求項60に記載の電子部品の製造方法。 The method of manufacturing an electronic component according to claim 60, wherein the cut in the half-cutting step is performed along the virtual line. 前記切断工程に先立ち、前記基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着する工程を、更に備え、
 当該切断工程が、当該シートを完全切断することなく行われることを特徴とする請求項30ないし61のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the cutting step, further comprising a step of sticking an adhesive sheet on one entire surface of the substrate material,
62. The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein the cutting step is performed without completely cutting the sheet.
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