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JP2004083855A - フルオレン含有樹脂 - Google Patents

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JP2004083855A
JP2004083855A JP2003140997A JP2003140997A JP2004083855A JP 2004083855 A JP2004083855 A JP 2004083855A JP 2003140997 A JP2003140997 A JP 2003140997A JP 2003140997 A JP2003140997 A JP 2003140997A JP 2004083855 A JP2004083855 A JP 2004083855A
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JP
Japan
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fluorene
independently
resin
integer
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Application number
JP2003140997A
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English (en)
Inventor
Shinichi Kawasaki
川崎 真一
Hiroaki Murase
村瀬 裕明
Mitsuaki Yamada
山田 光昭
Takayuki Morita
森田 貴之
Tetsuya Hosomi
細見 哲也
Hideaki Tamakoshi
玉腰 英明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagase Chemtex Corp
Osaka Gas Co Ltd
Original Assignee
Nagase Chemtex Corp
Osaka Gas Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nagase Chemtex Corp, Osaka Gas Co Ltd filed Critical Nagase Chemtex Corp
Priority to JP2003140997A priority Critical patent/JP2004083855A/ja
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Abstract

【課題】熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂であって、その硬化物が高硬度であり、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化時の収縮率が低く、パターニング性に優れた樹脂を提供すること。
【解決手段】フルオレン骨格を有する特定のエポキシ樹脂、エポキシ樹脂アクリレート樹脂、およびフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂が提供される。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱および放射線硬化性を有する新規なフルオレン含有エポキシ樹脂、フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂、フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂、該樹脂の製造方法、そして該樹脂を含む熱硬化性あるいは放射線硬化性の樹脂組成物に関する。さらに本発明は、該樹脂組成物を用いて得られる、耐熱性、電気特性に優れ、高い硬度を有する成形体に関する。本発明は、さらに、上記アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を含む感放射線性樹脂組成物であって、カラーフィルター、液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などにおける保護膜や層間絶縁膜を調製するために有用な組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般的にエポキシ樹脂は種々の硬化剤で硬化させることにより、機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物を形成する。そのため、接着剤、塗料、積層板、成形材料、注型材料などの幅広い分野に利用されている。従来、工業的に最も使用されているエポキシ樹脂として液状および固形のビスフェノールA型エポキシ樹脂がある。エポキシ系の機能性高分子材料としては、従来からエポキシアクリレート樹脂が汎用されている。この樹脂は、例えば感光性材料などの分野で使用されている(例えば、非特許文献1)。しかし、これらの樹脂は耐熱性、電気特性および硬度が不十分であり、例えば、高いレベルの耐熱性が要求される分野においては不充分である。
【0003】
【非特許文献1】
山岡亜夫および森田浩著「感光性樹脂」、共立出版、1988年3月初版発行、82〜84頁
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、上記従来の課題を解決するものであり、その目的とするところは、その硬化物が高硬度であり、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化時の収縮率が低く、パターニング性に優れた、熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂を提供することにある。本発明の他の目的は、該樹脂の製造方法、および該樹脂を含む組成物を提供することにある。本発明のさらに他の目的は、このような樹脂組成物を硬化させて得られる成形体を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明のフルオレン含有エポキシ樹脂は、下記一般式(1)で表される:
【0006】
【化8】
Figure 2004083855
【0007】
ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0008】
好適な実施態様においては、上記一般式(1)においてm=2である。
【0009】
本発明のフルオレン含有エポキシ樹脂の製造方法は、次の一般式(2)で示される多官能水酸基含有フルオレン化合物:
【0010】
【化9】
Figure 2004083855
【0011】
(ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)にエピクロルヒドリンを作用させる工程を包含する。
【0012】
好適な実施態様においては、上記一般式(2)においてm=2である。
【0013】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記フルオレン含有エポキシ樹脂を含有する。
【0014】
本発明は、上記エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる成形体を包含する。
【0015】
本発明のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂は、下記一般式(3)で表される:
【0016】
【化10】
Figure 2004083855
【0017】
ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは2から5までの整数である。
【0018】
好適な実施態様においては、上記一般式(3)においてm=2である。
【0019】
本発明のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂の第1の製造方法は、次の一般式(1)で表されるフルオレン含有エポキシ樹脂:
【0020】
【化11】
Figure 2004083855
【0021】
(ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、(メタ)アクリル酸を作用させる工程を包含する。
【0022】
好適な実施態様においては、上記一般式(3)においてm=2である。
【0023】
本発明のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂の第2の製造方法は、次の一般式(2)で示される多官能水酸基含有フルオレン化合物:
【0024】
【化12】
Figure 2004083855
【0025】
(ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、(メタ)アクリル酸グリシジルを作用させる工程を包含する。
【0026】
好適な実施態様においては、上記多官能水酸基含有フルオレン化合物の一般式(3)においてm=2である。
【0027】
本発明の熱硬化性組成物は、上記フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂を含有する。
【0028】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂を含有する。
【0029】
本発明は、上記熱硬化性組成物または感放射線性樹脂組成物を硬化させて得られる成形体を包含する。
【0030】
本発明のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂は、式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
【0031】
【化13】
Figure 2004083855
【0032】
(ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより得られる。
【0033】
好適な実施態様においては、上記一般式(3)においてm=2である。
【0034】
本発明のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂の製造方法は、次の一般式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
【0035】
【化14】
Figure 2004083855
【0036】
(ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させる工程を包含する。
【0037】
好適な実施態様においては、上記エポキシアクリレート樹脂の一般式(3)においてm=2である。
【0038】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を含有する。
【0039】
【発明の実施の形態】
A.フルオレン含有エポキシ樹脂
本発明のフルオレン含有エポキシ樹脂は、下記一般式(1)で表される:
【0040】
【化15】
Figure 2004083855
【0041】
ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0042】
このフルオレン含有エポキシ樹脂は、本明細書中で、「フルオレン含有エポキシ樹脂(1)」、「エポキシ樹脂(1)」などと記載される場合がある。上記一般式(1)において、好ましくは、mの値はいずれも2である。特にエポキシ環を含有する2個の基がベンゼン環においてオルト位に結合している樹脂が好適である。
【0043】
上記エポキシ樹脂(1)は、例えば、次の一般式(2)で表される多官能水酸基含有フルオレン化合物にエピクロルヒドリンを作用させることにより得られる:
【0044】
【化16】
Figure 2004083855
【0045】
(ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)。
【0046】
この多官能水酸基含有フルオレン化合物は、本明細書中で、「多官能水酸基含有フルオレン化合物(2)」と記載される場合がある。上記一般式(2)において、好ましくは、mの値は2である。特に水酸基を含有する2個の基がベンゼン環においてオルト位に結合している化合物が好適である。
【0047】
この多官能水酸基含有フルオレン化合物は、当該分野で知られている方法により調製され得る。例えば、m=2でn=0の化合物は特開2001−206862号公報に記載の方法により調製され得る。
【0048】
上記多官能水酸基含有フルオレン化合物(2)とエピクロルヒドンリンとの反応は、通常50〜120℃の温度範囲において3〜10時間行われる。
【0049】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記エポキシ樹脂(1)を含有する。このエポキシ樹脂(1)は1種のみを単独で使用できる他、2種以上の混合物としても使用することができる。
【0050】
このエポキシ樹脂組成物には、さらに必要に応じて(i)上記エポキシ樹脂(1)以外のエポキシ樹脂、(ii)反応性希釈剤、(iii)硬化剤、(iv)硬化促進剤、(v)添加剤、(vi)溶剤などが含有され得る。
【0051】
上記(i)のエポキシ樹脂(1)以外のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールFなどのビスフェノール系エポキシ樹脂;フェノール樹脂、クレゾールノボラック型樹脂などの多官能フェノール系エポキシ樹脂;ナフトール型エポキシ樹脂などのナフタレン系エポキシ樹脂;ビフェニル型エポキシ樹脂;上記エポキシ樹脂(1)以外のフルオレン系エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0052】
上記(ii)の反応性希釈剤は粘度調整を行うために添加する低粘度なエポキシ化合物であり、特に二官能以上の低粘度エポキシ化合物が好ましい。反応性希釈剤としては、例えば、次の化合物が挙げられる:ジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ネオペンチルグリコールグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、アルキレンジグリシジルエーテル、ポリグリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、4−ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、メチル化ビニルシクロヘキセンジオキサイドなど。これら反応性希釈剤は1種のみを単独で使用できる他、2種以上を混合しても使用することができる。
【0053】
上記(iii)の硬化剤としては、特に限定されないが、アミン化合物類、イミダゾール化合物、カルボン酸類、フェノール類、第4級アンモニウム塩類、メチロール基含有化合物類、トリフル酸(Trif1ic acid)塩類、三弗化硼素エーテル錯化合物類、三弗化硼素、光または熱により酸を発生するジアゾニウム塩類、スルホニウム塩類、ヨードニウム塩類、ベンゾチアゾリウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類のような潜在性カチオン重合触媒などが挙げられる。
【0054】
上記(iv)の硬化促進剤としては、1,8−ジアザシクロ(5.4.0)ウンデセン−7およびそのフェノール塩、フェノールノボラック塩、炭酸塩、ギ酸塩などのアミン類(第三アミンを含む)およびその誘導体;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類;エチルホスフィン、プロピレンホスフィン、フェニルホスフィン、トリフェニルホスフイン、トリアルキルホスフィンなどの、オルガノホスフィン類(第1、第2、および第3ホスフィン類)などが挙げられる。
【0055】
上記(v)の添加剤としては、補強材または充填材、着色剤、顔料、難燃剤、硬化性の化合物(硬化性モノマー、オリゴマー、または樹脂)などが挙げられる。上記補強剤または充填剤としては、粉末状あるいは繊維状の補強剤や充填剤が用いられる。粉末状の補強剤または充填剤としては、例えば次の素材でなる材料が挙げられる:酸化アルミニウム、酸化マグネシウムなどの金属酸化物;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの金属炭酸塩;ケイソウ土粉、塩基性ケイ酸マグネシウム、焼成クレイ、微粉末シリカ、溶融シリカ、結晶シリカなどのケイ素化合物;水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物;その他、カオリン、マイカ、石英粉末、グラファイト、二硫化モリブデンなど。繊維状の補強剤または充填剤としては、次の材料が挙げられる:ガラス繊維、セラミック繊維、カーボンファイバー、アルミナ繊維、炭化ケイ素繊維、ボロン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維など。上記着色剤、顔料、または難燃剤としては、例えば二酸化チタン、鉄黒、モリブデン赤、紺青、群青、カドミウム黄、カドミウム赤、三酸化アンチモン、赤燐、ブロム化合物、トリフェニルホスフェートなどが挙げられる。上記硬化性化合物は、最終的な塗膜、接着層、成形品などにおける樹脂の性質を改善する目的で用いられる。それには、例えば、アルキド樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂などがある。これら硬化性化合物は、本発明の樹脂組成物の本来の性質を損なわない範囲の量で含有される。これら添加剤は、いずれも1種で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0056】
上記(vi)の溶剤としては、例えば、次の溶剤が用いられる:メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテートなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;ならびに2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
【0057】
本発明の組成物は、目的に応じた成形体とされる。この成形体は、組成物自体の硬化物でなる所望の形状の製品、あるいは基材上に形成された該組成物の硬化物でなる塗膜であってもよい。例えば上記組成物は、必要に応じて加熱溶融し、所定の型に流し込んで加熱しあるいは放射線照射することにより硬化し、所望の形状の成形体が得られる。あるいは、溶媒を含む液状の組成物を基材上に塗布・乾燥し、次いで加熱しあるいは放射線照射することにより、基材上に硬化膜を形成することができる。
【0058】
成形方法および硬化条件は特に限定されないが、例えば、所定の金型を用いて成形する場合には、加熱加圧による成形法やコールドプレスと呼ばれる低温成形法が用いられる。加熱加圧による方法としては、例えば、ハンドレイアップやスプレーレイアップと呼ばれる方法により常圧で本発明組成物を金型に充填した後、加熱硬化させる方法;トランスファープレス装置を用いて射出成形により加熱圧縮する方法;および連続積層成形法、プルトルージョンと呼ばれる連続引抜成形法、フィラメントワインディング成形法などの連続成形法が挙げられる。またこれらの成形方法においては、上記樹脂組成物を補強剤と混合、あるいは補強剤に含浸させることにより中間成形材料を得、これを成形し、硬化させることもできる。補強剤としては、樹脂、ガラスなどでなる織布、不織布などが挙げられる。これを用いて得られる中間成形材料としては、例えば、SMC(シートモールデイングコンパウンド)と呼ばれるシート状の中間成形材料;BMC(ベルクモールデイングコンパウンド)あるいはプレミックスと呼ばれる液状または固形状の中間成形材料;ガラスクロスやマットなどに本発明組成物を含浸させたプリプレグなどが挙げられる。
【0059】
本発明のフルオレン含有エポキシ樹脂は、耐熱性に優れ、熱または放射線照射により容易に硬化する。このエポキシ樹脂を含む樹脂組成物は成形加工性に優れるため、上述のように、金型により所定の形状に成形し、あるいは基板上に薄膜を形成することが容易である。これらを熱または放射線により硬化させて得られた成形体(薄膜を含む)は、耐熱性および耐環境性に優れ、曲げ特性などの機械的強度が高く、高い靱性、熱衝撃性、および良好な成形加工性を有する。
【0060】
このエポキシ樹脂組成物から得られる成形体は、上記耐熱性などの性質に加え、絶縁性に優れており、硬化収縮が小さく寸法安定性にも優れていることから、該組成物は、電気・電子材料封止剤に有用である。さらに、この組成物は、耐熱性、接着性、硬化性などに優れていることから、コンデンサーなど各種電子部品のポッティング材、コーティング材などに好適に用いられる。電子絶縁材料用の封止材や、ポッティング剤として使用する場合には、従来から一般に使用されるエポキシ樹脂を用いた封止用樹脂と同様の方法で使用することができる。さらに硬化物は透明性に優れていることから、光学デバイス用熱硬化性樹脂組成物としても有用である。
【0061】
B.フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂
本発明のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂は、下記一般式(3)で表される:
【0062】
【化17】
Figure 2004083855
【0063】
ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0064】
このフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂は、本明細書中で、「フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂(3)」、「エポキシアクリレート樹脂(3)」などと記載される場合がある。上記一般式(3)において、好ましくは、mの値は2である。特にアクリロイルオキシ部分を含有する2個の基がベンゼン環においてオルト位に結合している樹脂が好適である。
【0065】
上記エポキシアクリレート樹脂(3)は例えば、次の一般式で表される上述のエポキシ樹脂(1)に(メタ)アクリル酸を作用させることにより得られる:
【0066】
【化18】
Figure 2004083855
【0067】
ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0068】
あるいは、次の一般式で表される多官能水酸基含有フルオレン化合物(2)に、(メタ)アクリル酸グリシジルを作用させることにより得られる:
【0069】
【化19】
Figure 2004083855
【0070】
ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0071】
上記エポキシ樹脂(1)と(メタ)アクリル酸との反応、および多官能水酸基含有フルオレン化合物(2)と(メタ)アクリル酸グリシジルとの反応は、いずれも必要に応じて適切な溶媒を用いて、50〜120℃の温度範囲において5〜30時間行なわれる。上記用いられ得る溶媒としては、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテートなどのアルキレンモノアルキルエーテルアセテート類;メチルエチルケトン、メチルアミルケトンなどのケトン類などがある。これらのうち、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよび3−メトキシブチル−1−アセテートが好適である。
【0072】
上記エポキシアクリレート樹脂(3)は、熱硬化性および放射線硬化性を有する。ここで、放射線とは、可視光線、紫外線、電子線、X線、α線、β線、γ線などを総称していう。従って、このエポキシアクリレート樹脂(3)を含む樹脂組成物は、熱硬化性または感放射線性の樹脂組成物として機能する。いずれの組成物においても上記エポキシアクリレート樹脂(3)は単独で含有されていてもよく、2種以上の混合物として含有されていてもよい。
【0073】
上記エポキシアクリレート樹脂(3)を含む樹脂組成物が、感放射線性樹脂組成物である場合には、該組成物には、上記エポキシアクリレート樹脂(3)に加えて(I)光重合開始剤が含有され得、熱硬化性樹脂組成物である場合には(II)ラジカル開始剤が含有され得る。さらにこれらの組成物のいずれにも、上記(III)エポキシアクリレート樹脂(3)以外の光または熱硬化性のアクリレート化合物、(IV)添加剤、(V)溶剤などが含有され得る。
【0074】
本発明のエポキシアクリレート樹脂(3)を含む感放射線性樹脂組成物中に含有され得る(I)の光重合開始剤は、上記エポキシアクリレート樹脂(3)および必要に応じて含有される上記光硬化性のアクリレート化合物の光重合を開始させる効果を有する化合物および/または増感効果を有する化合物である。このような光重合開始剤としては、例えば次の化合物が挙げられる:アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノンなどのアセトフェノン類;ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインエーテル類;ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントンなどのイオウ化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノンなどのアントラキノン類;アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシドなどの有機過酸化物;および2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールなどのチオール化合物。
【0075】
これらの化合物は、その1種を単独で使用してもよく、また、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、それ自体では光重合開始剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。このような化合物としては、例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミンなどの第三級アミンを挙げることができる。
【0076】
上記熱硬化性樹脂組成物に含有され得る(II)のラジカル開始剤としては、ケトンパーオキサイド系化合物、ジアシルパーオキサイド系化合物、ハイドロパーオキサイド系化合物、ジアルキルパーオキサイド系化合物、パーオキシケタール系化合物、アルキルパーエステル系化合物、パーカーボネート系化合物、アゾビス系化合物などでなるラジカル開始剤が用いられる。特に、ジアシルパーオキサイド系あるいはアゾビス系のラジカル開始剤が好適であり、例えば過酸化ベンゾイル、α,α’−アゾビス(イソブチロニトリル)などが汎用される。
【0077】
上記(III)のエポキシアクリレート樹脂(3)以外の光または熱硬化性のアクリレート化合物は、組成物が必要とされる物性に応じて、粘度調整剤あるいは光架橋剤として利用され、該化合物は所定の範囲内で組成物中に含有される。このようなアクリレート化合物としては、例えば、次の化合物がある:2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する1価のアクリレート;およびエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスルトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレートなどの多価(メタ)アクリレート。
【0078】
これらの化合物は、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上を併用して使用することもできる。
【0079】
上記(IV)の添加剤としては、該組成物の使用目的に応じて、熱重合禁止剤、密着助剤、消泡剤、界面活性剤、可塑剤などが用いられる。
【0080】
これらのうち熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジンなどが挙げられる。
【0081】
密着助剤は、エポキシアクリレート樹脂(3)を含む液状の組成物が基材に塗布される場合に、基材との接着性を向上させる目的で添加される。該密着助剤としては、好ましくは、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアナト基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシラン化合物(官能性シランカップリング剤)が用いられる。このような官能性シランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【0082】
消泡剤としては、例えば、シリコーン系化合物、フッ素系化合物、アクリル系化合物などが挙げられる。
【0083】
界面活性剤は、液状の組成物を塗布しやすくすること、得られる塗膜の平担度を向上させることなどの目的で含有される。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、およびアクリル系の化合物が挙げられる。具体的には例えば、BM−1000[BMへミー社製];メガファックF142D、メガファックF172、メガファックF173およびメガファックF183[大日本インキ化学工業(株)製];フロラードFC−135、フロラードFC−170C、フロラードFC−430およびフロラードFC−431[住友スリーエム(株)製];サーフロンS−112、サーフロンS−113、サーフロンS−131、サーフロンS−141およびサーフロンS−145[旭硝子(株)製];SH−28PA、SH−190、SH−193、SZ−6032、SF−8428、DC−57およびDC−190[東レシリコーン(株)製]などが挙げられる。
【0084】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、トリクレジルなどが挙げられる。
【0085】
上記(V)の溶剤としては、例えば、次の溶剤が用いられる:メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチル−1−アセテートなどのアルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;ならびに2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
【0086】
本発明の感放射線性樹脂組成物を硬化させるのに用いる放射線としては、波長の長いものから順に、可視光線、紫外線、電子線、X線、α線、β線、γ線などが挙げられる。これらの中で、経済性および効率性の点から、実用的には、紫外線が最も好ましい放射線である。本発明に用いる紫外線としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、アーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプなどのランプから発振される紫外光を好適に使用することができる。紫外線よりも、波長の短い前記放射線は、化学反応性が高いため理論的には紫外線より優れているが、経済性の観点から紫外線が実用的である。
【0087】
本発明の組成物は、目的に応じた成形体とされる。この成形体は、組成物自体の硬化物でなる所望の形状の製品、あるいは基材上に形成された該組成物の硬化物でなる塗膜であってもよい。
【0088】
例えば溶媒を含む液状の組成物を基材上に塗布・乾燥し、次いで放射線(例えば光)を照射しあるいは加熱することにより、基材上に硬化膜を形成することができる。あるいは、上記放射線硬化性あるいは熱硬化性の組成物は、必要に応じて加熱溶融し、所定の型に流し込んで加熱しあるいは放射線照射することにより、所望の形状の成形体が得られる。
【0089】
上記本発明の組成物により形成された成形体(塗膜を含む)は、高い硬度を有し、耐熱性に極めて優れ、さらに、高い屈折率を有する。
【0090】
本発明のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂(3)は、耐熱性に優れ、熱または放射線照射により容易に硬化する。このエポキシアクリレート樹脂を含有する熱硬化性あるいは感放射線性組成物は、種々の用途に利用される。具体的には、例えば、各種コーティング剤、特に高い硬度と耐熱性とを要求されるコーティング剤として有用である。あるいは、カラーフィルター用レジストインク材料;電子部品の保護膜用材料(例えば、カラーフィルターを包含する液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などに用いられる保護膜の形成材料);層間絶縁および/または平坦化膜の形成材料;プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジスト;あるいは、液晶表示素子におけるビーズスペーサーの代替となる柱状スペーサーの形成に好適な感光性組成物として好適に用いられる。さらに、本発明の組成物は、各種光学部品(レンズ、LED、プラスチックフィルム、基板、光ディスクなど)の材料;該光学部品の保護膜形成用のコーティング剤;光学部品用接着剤(光ファイバー用接着剤など);偏光板製造用のコーティング剤;ホログラム記録用感光性樹脂組成物原料などとして好適に利用される。
【0091】
C.フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂
本発明のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂は、次の一般式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
【0092】
【化20】
Figure 2004083855
【0093】
(ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより得られる。
【0094】
上記多塩基性カルボン酸は、ジカルボン酸、テトラカルボン酸などの複数のカルボキシル基を有するカルボン酸であり、このような多塩基性カルボン酸、あるいはその無水物としては、次の化合物が挙げられる:マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、グルタル酸などのジカルボン酸およびそれらの無水物;トリメリット酸またはその無水物、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸などのテトラカルボン酸およびそれらの酸二無水物など。
【0095】
上記フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂の1例としては、例えば、下記一般式(4)で表される樹脂が挙げられる:
【化21】
Figure 2004083855
ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、Yはジカルボン酸無水物の残基であり、nは各々独立して0から10の整数であり、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
【0096】
この一般式(4)で表される樹脂は、上記エポキシアクリレート樹脂(3)に、多塩基性カルボン酸無水物として、次の一般式(5)で示されるジカルボン酸無水物:
【0097】
【化22】
Figure 2004083855
【0098】
(ここでYはジカルボン酸無水物の残基である)
を作用させることにより得られる。
【0099】
上記フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂は、本明細書中で、「フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂」、「アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂」、「放射線重合性不飽和樹脂」などと記載される場合がある。上記一般式(3)において、好ましくは、mの値は2である。特にアクリロイル基を含有する2個の基がベンゼン環においてオルト位に結合している化合物から得られる樹脂が好適である。
【0100】
本発明のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物は、該フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂、および必要に応じて、(a)光重合開始剤、(b)該フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂以外の重合性のモノマーまたはオリゴマー、(c)エポキシ基を有する化合物、(d)添加剤、(e)溶剤などを含有する。
【0101】
上記(a)の光重合開始剤とは、光重合開始作用を有する化合物および/または増感効果を有する化合物をいう。このような化合物としては、例えば次の化合物が挙げられる:アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノンなどのアセトフェノン類;ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、p,p’−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインエーテル類;ベンジルジメチルケタール、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテンなどのイオウ化合物;2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノンなどのアントラキノン類;アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシドなどの有機過酸化物;および2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールなどのチオール化合物。
【0102】
これらの化合物は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、それ自体では、光重合開始剤として作用しないが、上記の化合物と組み合わせて用いることにより、光重合開始剤の能力を増大させ得るような化合物を添加することもできる。そのような化合物としては、例えば、ベンゾフェノンと組み合わせて使用すると効果のあるトリエタノールアミンなどの第三級アミンを挙げることができる。
【0103】
上記(b)の該フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂以外の重合性のモノマーまたはオリゴマーは、放射線で重合することのできるモノマーやオリゴマーであり、組成物の使用目的に応じた物性にあわせて含有させることができる。このような放射線で重合し得るモノマーあるいはオリゴマーとしては、以下のモノマーあるいはオリゴマーが挙げられる:2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有するモノマー類;およびエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステル類。これらのモノマーあるいはオリゴマーは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0104】
これらのモノマーあるいはオリゴマーは、粘度調整剤あるいは光架橋剤として作用し、本発明の樹脂組成物の性質を損なわない範囲で含有され得る。通常は、上記モノマーおよびオリゴマーの少なくとも1種が、アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂100重量部に対して50重量部以下の範囲で組成物中に含有される。このモノマーあるいはオリゴマーの含有量が50重量部を超えるとプリベーク後のスティッキング性に問題が出てくる。
【0105】
上記(c)のエポキシ基を有する化合物としては、エポキシ基を少なくとも1個有するポリマーまたはモノマーが用いられる。エポキシ基を少なくとも1個有するポリマーとしては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂がある。エポキシ基を少なくとも1個有するモノマーとしては、フェニルグリシジルエーテル、p−ブチルフェノールグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ジグリシジルイソシアヌレート、アリルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。これらの化合物を単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。
【0106】
これらのエポキシ基を有する化合物は、本発明の樹脂組成物の性質を損なわない範囲で含有され得る。通常は、該フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂100重量部当たり、エポキシ基を有する化合物が50重量部以下の割合で含有される。50重量部を超える場合には、該成分を含む組成物を硬化させたときに割れが起こり、密着性も低下しやすくなる。
【0107】
上記(d)の添加剤としては、熱重合禁止剤、密着助剤、エポキシ基硬化促進剤、界面活性剤、消泡剤などがあり、これらは本発明の目的が損なわれない範囲の量で組成物中に含有される。
【0108】
上記熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジンなどが挙げられる。
【0109】
上記密着助剤は、得られる組成物の接着性を向上させるために含有させる。密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアナト基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシラン化合物(官能性シランカップリング剤)が好ましい。この官能性シランカップリング剤の具体例としては、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【0110】
上記エポキシ基硬化促進剤としては、アミン化合物類、イミダゾール化合物類、カルボン酸類、フェノール類、第4級アンモニウム塩類またはメチロール基含有化合物類などが挙げられる。エポキシ基硬化促進剤を少量含有させることにより、加熱により得られる硬化膜の耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐メッキ性、密着性、電気特性、硬度などの諸特性が向上する。
【0111】
上記界面活性剤は、例えば、液状の組成物を基板上に塗布することを容易にするために含有させ、これにより得られる膜の平担度も向上する。界面活性剤としては、例えばBM−1000(BMヘミー社製)、メガファックF142D、メガファックF172、メガファックF173およびメガファックF183(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC−135、フロラードFC−170C、フロラードFC−430およびフロラードFC−431(住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−112、サーフロンS−113、サーフロンS−131、サーフロンS−141およびサーフロンS−145(旭硝子(株)製)、SH−28PA、SH−190、SH−193、SZ−6032、SF−8428、DC−57およびDC−190(東レシリコーン(株)製)などが挙げられる。
【0112】
上記消泡剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系、アクリル系などの化合物が挙げられる。
【0113】
本発明の感放射線性樹脂組成物に含有され得る上記(e)の溶剤は、組成物中の各成分を均一に溶解し、例えば基板上への塗工を容易にするために用いられる。このような溶剤としては、組成物中の各成分とは反応せず、これらを溶解もしくは分散可能な有機溶剤であればよく、特に制限はない。例えば、次の化合物が挙げられる:メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなとのジエチレングリコール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;ならびに2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類。
【0114】
これらの中でグリコールエーテル類、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ケトン類およびエステル類が好ましく、特に3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびメチルアミルケトンが好ましい。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
【0115】
本発明のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂は、アルカリに可溶であり、かつ放射線照射により硬化可能である。この放射線重合性不飽和樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物は、所望の形状に成形し、放射線により硬化させて、種々の目的に利用される。特に、該組成物により基板上に薄膜を形成し、放射線照射を行った後、現像することにより所定のパターンを有する薄膜を形成する目的に利用される。
【0116】
例えば、上述のように、基板上に薄膜を形成して、放射線硬化および現像を行う場合には、通常、まず溶媒を含む上記組成物の各成分を混合して液状の組成物を得る。これを例えば、孔径1.0〜0.2μm程度のミリポアフィルターなどでろ過して、均一な液状物とするのがより好適である。次いで、この液状の組成物を、基板上に塗布して塗膜を得る。塗布する方法としては、ディッピング法、スプレー法、ローラーコート法、スリットコート法、バーコート法、スピンコート法などがある。特にスピンコート法が汎用される。これらの方法によって、液状の樹脂組成物を1〜30μm程度の厚さに塗布した後、溶剤を除去すれば薄膜が形成される。通常、溶剤を充分に除去するためプリベーク処理が行われる。
【0117】
この基板の薄膜上に所望のパターンを有するマスクを載置した後、放射線による照射を行う。用いられる放射線としては、波長の長いものから順に、可視光線、紫外線、電子線、X線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。これらの中で、経済性および効率性の点から、実用的には、紫外線が最も好ましい放射線である。本発明に用いる紫外線は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、アーク灯、キセノンランプなどのランプから発振される紫外光を好適に使用することができる。紫外線よりも、波長の短い放射線は、化学反応性が高く、理論的には紫外線より優れているが経済性の観点から紫外線が実用的である。
【0118】
上記照射により、露光部分は重合反応により硬化する。未露光部分は現像液で現像される。このことにより、放射線の未照射部分が除去され、所望のパターンを有する薄膜が得られる。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法などが挙げられる。
【0119】
上記現像液としては、アルカリ性水溶液、該アルカリ性水溶液と水溶性有機溶剤および/または界面活性剤との混合液、および本発明の組成物が溶解し得る有機溶剤が挙げられ、好ましくはアルカリ性水溶液と界面活性剤との混合液である。
【0120】
本発明の感放射線性樹脂組成物を現像するのに適したアルカリ性水溶液の調製に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、n−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−n−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ(4.3.0)−5−ノナンが挙げられ、好ましくは炭酸ナトリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドなどが用いられる。上記水溶性有機溶剤としては、メタノール、エタノール、アセトンなどが挙げられる。
【0121】
このアルカリ性水溶液には、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールなどの水溶性有機溶剤、界面活性剤などが適量添加される。
【0122】
本発明の樹脂組成物の現像は、通常10〜50℃、好ましくは20〜40℃の温度で、市販の現像機や超音波洗浄機を用いて行うことができる。
【0123】
アルカリ現像後、耐アルカリ性を向上させるために、加熱してエポキシ硬化処理を施すことが望ましい(ポストベーク処理)。本発明の樹脂組成物においては、加熱処理を行うことにより、強アルカリ水に対する耐久性が著しく向上するばかりでなく、銅などの金属あるいはガラスに対する密着性、耐熱性、表面硬度などの諸性質も向上する。この加熱硬化条件における加熱温度と加熱時間については、例えば、80〜250℃、10〜120分が挙げられる。好ましい加熱温度は100〜200℃である。このようにして、所望のパターンを有する硬化薄膜を得ることができる。
【0124】
本発明の組成物を硬化して得られる硬化膜は、耐熱性、透明性、基材との密着性、耐酸性、耐アルカリ性、耐薬品性、耐溶剤性、表面硬度などに優れる。さらにこの硬化膜は有機性の塗膜であるため、低誘電率である。そのため、本発明の組成物は例えば、電子部品の保護膜用材料(例えば、カラーフィルターなどの液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子などに用いられる保護膜の形成材料);層間絶縁膜および/または平坦化膜の形成材料;カラーレジスト用バインダー:プリント配線板の製造に用いられるソルダーレジスト;あるいは、液晶表示素子におけるビーズスペーサーの代替となる柱状スペーサーの形成に好適なアルカリ可溶型の感光性組成物として好適に用いられる。さらに、本発明の組成物は、各種光学部品(レンズ、LED、プラスチックフィルム、基板、光ディスクなど)の材料;該光学部品の保護膜形成用のコーティング剤;光学部品用接着剤(光ファイバー用接着剤など);偏光板製造用のコーティング剤;ホログラム記録用感光性樹脂組成物などとして好適に利用される。
【0125】
【実施例】
以下、実施例に基づいて、本発明を具体的に説明する。
【0126】
実施例1
(エポキシ樹脂の合成)
以下の式(2.a)で示される多官能水酸基含有フルオレン化合物(上記一般式(2)においてn=0、m=2)150gをエピクロルヒドリン700gに溶解し、さらにベンジルトリエチルアンモニウムクロライド1.8gを加え、100℃にて5時間攪拌した。次に、減圧下(150mmHg)、70℃にて40%水酸化ナトリウム水溶液165gを3時間かけて滴下した。その間、生成する水をエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに30分間反応を継続した。その後、濾過により生成した塩を取り除き、さらに水洗した後、エピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂(1.a)220gを得た。この樹脂のエポキシ当量は200g/eqであった。
【0127】
【化23】
Figure 2004083855
【0128】
【化24】
Figure 2004083855
【0129】
得られたエポキシ樹脂を分取GPCにより精製し、得られた精製エポキシ樹脂について構造解析を行った。次にその結果を示す。H−NMRのチャートを図1に示す。
【0130】
〔1〕 融点:58.7℃(DSCによる)
【0131】
〔2〕 H−NMR(溶媒:DMSO−d、内部標準:TMS)
ピーク     δ、ppm
a, a’     2.4−2.9    8H
b, b’     3.0−3.2    4H
c, c’     3.6−4.4    8H
d, e, f    6.4−6.9    6H
g, h, i    7.2−7.9    8H
【0132】
〔3〕 MS  m/n=606(m
【0133】
実施例2
(エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を用いた成形体の調製および評価)
実施例1で得られた、エポキシ樹脂(1.a)100重量部とメチルヘキサハイドロ無水フタル酸型硬化剤(新日本理化(株)製リカシッドMH−700)76重量部との混合物に、触媒として2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ)1重量部を混合し、得られた混合物を100mm×100mm、厚み1mmのステンレス製金型に入れ、100℃のオーブンで1時間、ついで180℃で4時間加熱し、熱硬化させた。得られた成形体(試験片)を用い、次の項目について評価を行った。
【0134】
[1] 耐熱性:
DSC(DSC210型 セイコー電子工業株式会社製)により、Tgの測定を行う。
【0135】
[2] 誘電率および誘電正接:
TR−1100形 誘電体損自動測定装置(安藤電気株式会社製)にて測定する。
【0136】
[3] 弾性率:
動的粘弾性測定装置DMS6100(セイコー電子工業(株)製)を用い、−50〜250℃の温度範囲において、両持ち曲げモードで1Hzの正弦波を与えた場合の応答を測定し、貯蔵弾性率E’を求める。
【0137】
本実施例に用いた組成物の組成を表1に、得られた試験片の評価結果を表2に示す。後述の実施例3および比較例1についても合わせて表1および表2に示す。
【0138】
実施例3
エポキシ樹脂(1.a)100重量部を、エポキシ樹脂(1.a)40重量部およびビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成エポキシ(株)製AER−260)60重量部の混合物に変更し、かつメチルヘキサハイドロ無水フタル酸型硬化剤を77重量部に変更したこと以外は、実施例2と同様に試験片を調製し、評価を行なった。
【0139】
比較例1
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成エポキシ(株)製:AER−260)100重量部とフェノールノボラック型硬化剤(大日本インキ化学工業(株)製 TD−2131)79重量部との混合物に、触媒としてトリフェニルホスフィン(TPP)1重量部を混合し、得られた混合物をステンレス製の型に流し込み、100℃のオーブンで1時間、ついで180℃で4時間加熱し、熱硬化させた。得られた成形体(試験片)を用いて、実施例2の試験片と同様の評価を行なった。
【0140】
【表1】
Figure 2004083855
【0141】
【表2】
Figure 2004083855
【0142】
実施例4
(エポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を用いた薄膜の調製および評価)
実施例1で得られた、エポキシ樹脂(1.a)30重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)70重量部に溶解し、触媒としてサンエイド SI−60(三新化学工業(株)製)3重量部を混合した。次に、得られた混合物をスピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、90℃のホットプレート上で120秒間プリベークして、膜厚約2μmの塗膜を得た。次いで、240℃のオーブンで1時間ポストベークして熱硬化させた。得られた熱硬化膜について、次の項目の評価を行った。
【0143】
(1)屈折率:
上記得られた熱硬化膜につき、光干渉式膜質測定機にて632.8nmにおける屈折率を測定する。
【0144】
(2)光線透過率:
上記得られた熱硬化膜につき、日立製分光光度計U−2000にて可視光領域における分光透過率を測定する。
【0145】
(3)耐磨耗性(耐擦傷性)
基材上の熱硬化膜表面を、#1000のスチールウールで軽く押さえながら、該スチールウールを30往復させて摩擦する。この塗膜表面の傷の程度を次の基準で判断し、耐摩耗性を評価する。
○:傷がつかない
△:傷はつくが光沢は保たれている
×:無数に傷がつき、光沢が失われる
【0146】
(4)密着性
JIS−Z−1552に準じ、碁盤目剥離試験により評価する。
【0147】
(5)鉛筆硬度
JIS−K−5400に準じ、鉛筆硬度を測定する。
【0148】
(6)膜収縮率
ポストベーク前後における膜厚変化率[(ポストベーク前の膜厚−ポストベーク後の膜厚)/(ポストベーク前の膜厚)]×100を求める。
【0149】
本実施例に用いた組成物の組成を表3に、得られた薄膜の評価結果を表4に示す。後述の実施例5および比較例2についても合わせて表3および表4に示す。
【0150】
実施例5
エポキシ樹脂(1.a)30重量部を、エポキシ樹脂(1.a)12重量部およびビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製エピクロン860)18重量部の混合物に変更したこと以外は、実施例4と同様の条件で硬化膜を作成し、評価を行なった。
【0151】
比較例2
エポキシ樹脂(1.a)をビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製 エピクロン860)に変更したこと以外は、実施例4と同様の条件で硬化膜を作成し、評価を行なった。
【0152】
【表3】
Figure 2004083855
【0153】
【表4】
Figure 2004083855
【0154】
実施例6
(エポキシアクリレート樹脂の合成)
300ml四つ口フラスコ中に、実施例1で得られたエポキシ樹脂(1.a)230g(エポキシ当量200g/eq)、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド600mg、2,6−ジイソブチルフェノール56mg、およびアクリル酸83gを仕込み、これに10mL/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次に、これを徐々に120℃まで昇温させた。溶液は透明粘稠となったがそのまま攪拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱攪拌を続けた。酸価が目標に達するまで15時間を要した。淡黄色透明で固体状の多官能エポキシアクリレート樹脂(3.a)を得た。
【0155】
【化25】
Figure 2004083855
【0156】
実施例7
(エポキシアクリレート樹脂を含む光硬化性樹脂組成物を用いた硬化膜の調製および評価)
実施例6で得られたエポキシアクリレート樹脂(3.a)を100重量部、そしてイルガキュア907を3重量部、溶剤であるPGMEA中に溶解し、濃度30重量%の溶液とした。このエポキシアクリレート系樹脂を含む溶液を、スピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、90℃のホットプレート上で120秒間プリベークして、厚みが約2μmの塗膜を得た。次に、高圧水銀灯(400W)にて300mJ/cmの光を照射し、塗膜を硬化させた。得られた硬化塗膜の表面特性を実施例4と同様の試験法に従って評価した。本実施例に用いた組成物の組成を表5に、そして得られた硬化膜の評価結果を表6に示す。後述の実施例8および比較例3についても合わせて表5および表6に示す。
【0157】
実施例8
実施例7におけるエポキシアクリレート樹脂(3.a)100重量部をエポキシアクリレート樹脂(3.a)60重量部およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)40重量部の混合物に変更したこと以外は、実施例7と同様の条件で薄膜を作成し、評価を行なった。
【0158】
比較例3
実施例7中のエポキシアクリレート樹脂(3.a)をビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂に変更したこと以外は、実施例7と同様の条件で薄膜を作成し、評価を行なった。
【0159】
【表5】
Figure 2004083855
【0160】
【表6】
Figure 2004083855
【0161】
実施例9
(アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂の合成)
実施例7で調製したエポキシアクリレート樹脂(3.a)56gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)46gを加えて溶解した後、テトラハイドロ無水フタル酸(THPA)31gおよび臭化テトラエチルアンモニウム0.1gを混合した。これを徐々に昇温して110〜115℃で6時間反応させた。このようにして、アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂(4.a)のPGMEA溶液(淡黄色透明液体)を得た。酸無水物の消失はIRスペクトルにより確認した。
【0162】
【化26】
Figure 2004083855
【0163】
実施例10
(アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂の合成)
実施例6で調製したエポキシアクリレート樹脂(3.a)56gにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)51gを加えて溶解した後、ビフェニルテトラカルボン酸(BPDA)9.8gおよび臭化テトラエチルアンモニウム0.1gを混合し、これを徐々に昇温して110〜115℃で12時間反応させた。ついで、上記反応物にテトラハイドロ無水フタル酸(THPA)4.7gを添加し、90〜95℃で4時間反応させた。
このようにして、アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂のPGMEA溶液を得た。酸無水物の消失はIRスペクトルにより確認した。
【0164】
実施例11
(アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を含む組成物を用いた薄膜の調製および評価)
実施例9で得られたアルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂(4.a)を固形分として30重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)を15重量部、そしてイルガキュア907を3重量部、溶剤のPGMEA中に溶解し、濃度30重量%の溶液を得た。この溶液を、スピンナーを用いてガラス基板上に塗布した後、90℃のホットプレート上で120秒間プリベークして、厚み約2μmの塗膜を形成した。この塗膜を有するガラス基板の塗膜表面に所定のパターンを有するマスクを置き、窒素雰囲気下で、250Wの高圧水銀ランプを用いて、波長405nmにて光強度9.5mW/cmの紫外線を1000mJ/cmのエネルギー量となるように照射した。次いで、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液を用いて25℃で30秒間の現像処理を行ない、塗膜の未露光部を除去した。その後、超純水でリンス処理を行なった。得られた薄膜を有する基板を200℃のオーブンに入れ、ポストベーク処理を30分間行ない、薄膜を加熱硬化させた(以下、このように硬化した膜を加熱硬化膜と称する)。
【0165】
本実施例における加熱硬化薄膜の調製時における評価、および得られた硬化膜についての評価を、以下に示す項目につき行った。
【0166】
<1> 塗膜の乾燥性
上記プリベーク後の塗膜につき、乾燥性を、JIS−K−5400に準じて評価する。評価のランクは次の通りである。
○:全くスティッキングが認められない
△:わずかにスティッキングが認められる
×:顕著にスティッキングが認められる
【0167】
<2> アルカリ水溶液に対する現像性
上記塗膜を有するガラス基板を露光処理せずに1重量%の炭酸ナトリウム水溶液に30秒間浸漬して現像を行う。現像後のガラス基板を、50倍に拡大して残存する樹脂を目視で評価する。評価のランクは次の通りである。
○:現像性が良好である(ガラス上に樹脂が全く残らない)
△:現像性が不良である(ガラス上に樹脂がわずかに残る)
×:現像性が不良である(ガラス上に樹脂が多く残る)
【0168】
<3> 露光感度
上記マスクとして、ステップタブレット(光学濃度12段差のネガマスク)を塗膜に密着し、露光・現像を行う。その後、残存するステップタブレットの段数を調べる(この評価法では、高感度であるほど残存する段数が多くなる。)
【0169】
<4> 塗膜硬度
得られた加熱硬化膜につき、その硬度を、JIS−K−5400の試験法に準じて、鉛筆硬度試験機を用いて荷重9.8Nをかけた際の塗膜にキズが付かない最も高硬度をもって表示する。使用する鉛筆は「三菱ハイユニ」である。
【0170】
<5> 基板との密着性
得られた加熱硬化膜に、少なくとも100個の碁磐目を作るようにクロスカットを入れて、次いでセロテープ(登録商標)を用いてピーリング試験を行い、碁盤目の剥離の状態を光学顕微鏡で50倍に拡大して評価する。評価のランクは次の通りである。
○:全く剥離が認められない
×:剥離が少しでも認められる
【0171】
<6> 耐熱性
得られた加熱硬化膜を250℃、3時間オーブンに入れキュアベークを行う。キュアベーク前後における膜厚変化率[(キュアベーク前の膜厚−キュアベーク後の膜厚)/(キュアベーク前の膜厚)]×100を求める。評価のランクは次の通りである。
○:膜厚変化率が非常に低い(膜厚変化率5%未満)
△:膜厚変化率が低い(膜厚変化率5%以上〜10%未満)
×:膜厚変化率が高い(膜厚変化率10%以上)
【0172】
<7> 耐薬品性
得られた加熱硬化膜を有する基板を、下記の薬品に下記の条件で浸漬する。
(i)酸性溶液:5重量%HCl水溶液中に室温で24時間浸漬
(ii)アルカリ性溶液
ii−1:5重量%NaOH水溶液中に室温で24時間浸漬
ii−2:4重量%KOH水溶液中に50℃で10分間浸漬
ii−3:1重量%NaOH水溶液中に80℃で5分間浸漬
(iii)溶剤
iii−1:N−メチルピロリドン中に40℃で10分間浸漬
iii−2:N−メチルピロリドン中に80℃で5分間浸漬
浸漬前後における膜厚変化率(%) ((浸漬前の膜厚−浸漬後の膜厚)/(浸漬前の膜厚))×100を求める。算出された膜厚変化率を基に、耐薬品性を評価する。評価の基準は次の通りである。
○:耐薬品性に優れている(すべての溶液における膜厚変化率5%未満)
△:耐薬品性がやや良好である(いずれかの溶液における膜厚変化率5%以上
〜10%未満)
×:耐薬品性に劣る(いずれかの溶液における膜厚変化率10%以上)
【0173】
以上の結果を表7に示す。後述の実施例12〜14および比較例4の結果も合わせて表7に示す。
【0174】
実施例12
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)に変更したこと以外は、実施例11と同様の条件で薄膜を作成し、評価を行なった。
【0175】
実施例13
さらにテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製 エピコートYX−4000)6重量部を含む組成物を用いたこと以外は、実施例11と同様の条件で薄膜を作成し、評価を行った。
【0176】
実施例14
アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂(4.a)を、実施例10で得られたアルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂に変更したこと以外は、実施例11と同様の条件で薄膜を作製し、評価を行なった。
【0177】
比較例4
実施例11において、アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂(4.a)を下記式に示すビスフェノールA型光重合性不飽和樹脂に変更したこと以外は、実施例11と同様の条件で薄膜を作成し、評価を行なった。
【0178】
【化27】
Figure 2004083855
【0179】
ここでnは約0.5である。
【0180】
【表7】
Figure 2004083855
【0181】
表1〜7の結果から明らかなように、本発明のフルオレン含有樹脂を用いると、高硬度で、透明性が高く、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化収縮の度合いが少ない成形体および硬化薄膜が得られることがわかる。さらに、本発明のアルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を用いると、露光および現像により基板上に所望のパターンの、上記優れた性質を有する薄膜が精度良く形成されることが明らかである。
【0182】
【発明の効果】
本発明によれば、このように、新規なフルオレン含有エポキシ樹脂、フルオレン含有エポキシアクリレート樹脂、およびフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂、およびそれらの簡便な製造方法が提供される。これらの樹脂は熱または放射線により重合し、硬化することが可能である。これらを含む樹脂組成物を用いて得られる硬化成形体あるいは薄膜は、高硬度で、透明性が高く、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化収縮の度合いが少ない。さらに、本発明のアルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を用いると、基板上に所望のパターンの、上記優れた性質を有する薄膜が精度良く形成される。従って、本発明の樹脂あるいは樹脂組成物は、各種電子部品(カラーフィルターを包含する液晶表示素子、集積回路素子、固体撮像素子など)の保護膜形成材料;層間絶縁膜の形成材料、カラーレジスト用バインダー組成物;プリント配線板製造の際に用いられるソルダーレジスト;コーティング剤;光学部品材料などとして好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のフルオレン含有エポキシ樹脂のH−NMRのチャートである。

Claims (20)

  1. 下記一般式(1)で表されるフルオレン含有エポキシ樹脂:
    Figure 2004083855
    ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
  2. 前記一般式(1)においてm=2である請求項1に記載のエポキシ樹脂。
  3. 請求項1に記載のフルオレン含有エポキシ樹脂の製造方法であって、
    次の一般式(2)で示される多官能水酸基含有フルオレン化合物:
    Figure 2004083855
    (ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)にエピクロルヒドリンを作用させる工程、
    を包含する方法。
  4. 前記一般式(2)においてm=2である請求項3に記載の製造方法。
  5. 請求項1または2に記載のフルオレン含有エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。
  6. 請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる成形体。
  7. 下記一般式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
    Figure 2004083855
    ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である。
  8. 前記一般式(3)においてm=2である請求項7に記載のエポキシアクリレート樹脂。
  9. 請求項7に記載のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂の製造方法であって、
    次の一般式(1)で表されるフルオレン含有エポキシ樹脂:
    Figure 2004083855
    (ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、(メタ)アクリル酸を作用させる工程を包含する方法。
  10. 前記エポキシ樹脂の一般式(3)においてm=2である請求項9に記載の製造方法。
  11. 請求項7に記載のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂の製造方法であって、
    次の一般式(2)で示される多官能水酸基含有フルオレン化合物:
    Figure 2004083855
    (ここで、Rは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、(メタ)アクリル酸グリシジルを作用させる工程を包含する方法。
  12. 前記多官能水酸基含有フルオレン化合物の一般式(3)においてm=2である請求項11に記載の製造方法。
  13. 請求項7または8に記載のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂を含有する熱硬化性組成物。
  14. 請求項7または8に記載のフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物。
  15. 請求項13または14に記載の組成物を硬化させて得られる成形体。
  16. 下記一般式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
    Figure 2004083855
    (ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させることにより得られる、フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂。
  17. 前記一般式(3)においてm=2である請求項16に記載のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂。
  18. フルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂の製造方法であって、
    次の一般式(3)で表されるフルオレン含有エポキシアクリレート樹脂:
    Figure 2004083855
    (ここで、RおよびRは各々独立して水素原子またはメチル基、nは各々独立して0から10の整数、そしてmは各々独立して2から5までの整数である)に、多塩基性カルボン酸またはその無水物を反応させる工程を包含する、方法。
  19. 前記エポキシアクリレート樹脂の一般式(3)においてm=2である請求項18に記載の製造方法。
  20. 請求項16または17に記載のフルオレン含有アルカリ可溶型放射線重合性不飽和樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物。
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Cited By (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005033061A1 (ja) * 2003-10-01 2005-04-14 Osaka Gas Co., Ltd. 多官能性(メタ)アクリレートおよびその製造方法
JP2006036648A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Osaka Gas Co Ltd フルオレン化合物およびその製造方法
WO2006123577A1 (ja) * 2005-05-18 2006-11-23 Nagase Chemtex Corporation 繊維強化熱溶融エポキシ樹脂の製造方法
US7167629B2 (en) 2004-02-16 2007-01-23 Nitto Denko Corporation Optical waveguide and production method thereof
WO2007125890A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Idemitsu Kosan Co., Ltd. アダマンチル基含有エポキシ変性(メタ)アクリレート及びそれを含む樹脂組成物
JP2008074910A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Osaka Gas Co Ltd 封止用エポキシ樹脂及びその用途
WO2009048231A3 (en) * 2007-10-11 2009-06-04 Lg Chemical Ltd Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same
JP2009155254A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009155256A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009155255A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009179568A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Nippon Shokubai Co Ltd 芳香族骨格含有脂環式エポキシ化合物、その製造方法、芳香族骨格含有脂環式エポキシ樹脂組成物並びにその成形体及び光学部材
JP2009256275A (ja) * 2008-04-19 2009-11-05 Kawasaki Kasei Chem Ltd 9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なモノ(メタ)アクリレート化合物及びその製造法
JP2009286763A (ja) * 2008-05-31 2009-12-10 Kawasaki Kasei Chem Ltd 9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なアクリレート化合物及びその製造法
JP2010084061A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Osaka Gas Co Ltd ハードコート膜及びその製造方法
JP2010270022A (ja) * 2009-05-20 2010-12-02 Kawasaki Kasei Chem Ltd アントラセン二量体骨格を有する新規なエポキシ化合物及びその製造法
JP2010275236A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Kawasaki Kasei Chem Ltd 1,4−ジヒドロアントラセン−9,10−ジエーテル化合物及びその製造法
WO2011019067A1 (ja) 2009-08-13 2011-02-17 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット
EP2296018A1 (en) 2009-09-14 2011-03-16 Fujifilm Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298544A2 (en) 2009-09-16 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298543A2 (en) 2009-09-17 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Master model of lens array and method of manufacturing the same
WO2011040103A1 (ja) 2009-09-30 2011-04-07 富士フイルム株式会社 素子アレイ及び素子アレイ積層体
EP2319672A1 (en) 2009-11-05 2011-05-11 FUJIFILM Corporation Lens array press mold and lens array molded by the same
EP2353828A1 (en) 2010-02-08 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array
EP2361754A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2361755A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
US8022396B2 (en) * 2006-08-17 2011-09-20 Seiko Epson Corporation Semiconductor device including an insulating layer resistant to a photolithography process, electronic device, and electronic equipment
EP2366535A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Lens and lens array and manufacturing method thereof
EP2366534A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Die, molding method and lens array
EP2372406A1 (en) 2010-03-19 2011-10-05 Fujifilm Corporation Lens array and lens array manufacturing method
EP2380721A1 (en) 2010-03-30 2011-10-26 Fujifilm Corporation Method for fabricating a master
US8304167B2 (en) * 2008-07-02 2012-11-06 Sony Corporation Optical information recording medium
KR101256591B1 (ko) 2008-11-10 2013-04-24 주식회사 엘지화학 티올기 및 우레탄기를 동시에 포함하는 플루오렌계 수지 중합체와 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
US8535874B2 (en) 2007-10-11 2013-09-17 Lg Chem, Ltd. Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same
WO2015012381A1 (ja) * 2013-07-25 2015-01-29 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
TWI491983B (zh) * 2012-04-20 2015-07-11 Ism Co Ltd 包括二苯并哌喃結構之黏合劑樹脂及包含該樹脂之有機絕緣層組合物
JP2016196445A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 大阪ガスケミカル株式会社 新規フルオレン化合物及びその製造方法
JP2016204647A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 三菱化学株式会社 多官能エポキシ樹脂及び中間体、エポキシ樹脂組成物、硬化物
JP2017088640A (ja) * 2015-11-02 2017-05-25 互応化学工業株式会社 カルボキシル基含有樹脂、感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びカルボキシル基含有樹脂の製造方法
US10689318B2 (en) 2016-02-03 2020-06-23 Taoka Chemical Co., Ltd. Bisphenol having fluorene skeleton, method for producing same, polyarylate resin, (meth)acrylate compound and epoxy resin which are derived from the bisphenol
US11518916B2 (en) 2017-12-26 2022-12-06 Fujifilm Corporation Lens adhesive, cemented lens, and imaging module

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03106918A (ja) * 1989-09-19 1991-05-07 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
JPH0640155A (ja) * 1992-07-24 1994-02-15 Nippon Steel Chem Co Ltd 感熱記録用材料
JPH0940744A (ja) * 1995-07-28 1997-02-10 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
JPH1036485A (ja) * 1996-07-30 1998-02-10 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH11242330A (ja) * 1998-02-24 1999-09-07 Nippon Steel Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた多層プリント配線板とその製造方法
JP2001070437A (ja) * 1999-09-02 2001-03-21 Osaka Gas Co Ltd 医療用硬化性組成物
JP2001166469A (ja) * 1999-12-07 2001-06-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 熱又は光硬化性耐熱性樹脂組成物
JP2001196366A (ja) * 2000-01-07 2001-07-19 Osaka Gas Co Ltd 層間絶縁膜
JP2001206862A (ja) * 2000-01-25 2001-07-31 Osaka Gas Co Ltd フルオレン化合物およびその製造方法
JP2001259014A (ja) * 2000-03-22 2001-09-25 Osaka Gas Co Ltd 医療用硬化性組成物

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03106918A (ja) * 1989-09-19 1991-05-07 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型樹脂組成物
JPH0640155A (ja) * 1992-07-24 1994-02-15 Nippon Steel Chem Co Ltd 感熱記録用材料
JPH0940744A (ja) * 1995-07-28 1997-02-10 Nippon Kayaku Co Ltd 樹脂組成物及びその硬化物
JPH1036485A (ja) * 1996-07-30 1998-02-10 Nippon Kayaku Co Ltd エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH11242330A (ja) * 1998-02-24 1999-09-07 Nippon Steel Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた多層プリント配線板とその製造方法
JP2001070437A (ja) * 1999-09-02 2001-03-21 Osaka Gas Co Ltd 医療用硬化性組成物
JP2001166469A (ja) * 1999-12-07 2001-06-22 Nippon Steel Chem Co Ltd 熱又は光硬化性耐熱性樹脂組成物
JP2001196366A (ja) * 2000-01-07 2001-07-19 Osaka Gas Co Ltd 層間絶縁膜
JP2001206862A (ja) * 2000-01-25 2001-07-31 Osaka Gas Co Ltd フルオレン化合物およびその製造方法
JP2001259014A (ja) * 2000-03-22 2001-09-25 Osaka Gas Co Ltd 医療用硬化性組成物

Cited By (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005033061A1 (ja) * 2003-10-01 2005-04-14 Osaka Gas Co., Ltd. 多官能性(メタ)アクリレートおよびその製造方法
JP5091407B2 (ja) * 2003-10-01 2012-12-05 大阪瓦斯株式会社 多官能性(メタ)アクリレートおよびその製造方法
US7167629B2 (en) 2004-02-16 2007-01-23 Nitto Denko Corporation Optical waveguide and production method thereof
JP2006036648A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Osaka Gas Co Ltd フルオレン化合物およびその製造方法
WO2006123577A1 (ja) * 2005-05-18 2006-11-23 Nagase Chemtex Corporation 繊維強化熱溶融エポキシ樹脂の製造方法
JP5280681B2 (ja) * 2005-05-18 2013-09-04 ナガセケムテックス株式会社 繊維強化熱溶融エポキシ樹脂の製造方法
KR101388703B1 (ko) 2006-04-28 2014-04-24 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 아다만틸기 함유 에폭시 변성 (메트)아크릴레이트 및 그것을 함유하는 수지 조성물
US8017800B2 (en) 2006-04-28 2011-09-13 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Adamantyl group-containing epoxy-modified (meth)acrylate and resin composition containing the same
US7790917B2 (en) 2006-04-28 2010-09-07 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Adamantyl group-containing epoxy-modified (meth)acrylate and resin composition containing the same
JP5123171B2 (ja) * 2006-04-28 2013-01-16 出光興産株式会社 アダマンチル基含有エポキシ変性(メタ)アクリレート及びそれを含む樹脂組成物
WO2007125890A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Idemitsu Kosan Co., Ltd. アダマンチル基含有エポキシ変性(メタ)アクリレート及びそれを含む樹脂組成物
US8022396B2 (en) * 2006-08-17 2011-09-20 Seiko Epson Corporation Semiconductor device including an insulating layer resistant to a photolithography process, electronic device, and electronic equipment
JP2008074910A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Osaka Gas Co Ltd 封止用エポキシ樹脂及びその用途
WO2009048231A3 (en) * 2007-10-11 2009-06-04 Lg Chemical Ltd Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same
US8535874B2 (en) 2007-10-11 2013-09-17 Lg Chem, Ltd. Fluorene-based polymer containing urethane groups, preparation method thereof and negative-type photosensitive resin composition comprising the same
JP2009155254A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009155256A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009155255A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Osaka Gas Co Ltd フルオレン骨格を有するエポキシ化合物
JP2009179568A (ja) * 2008-01-29 2009-08-13 Nippon Shokubai Co Ltd 芳香族骨格含有脂環式エポキシ化合物、その製造方法、芳香族骨格含有脂環式エポキシ樹脂組成物並びにその成形体及び光学部材
JP2009256275A (ja) * 2008-04-19 2009-11-05 Kawasaki Kasei Chem Ltd 9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なモノ(メタ)アクリレート化合物及びその製造法
JP2009286763A (ja) * 2008-05-31 2009-12-10 Kawasaki Kasei Chem Ltd 9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なアクリレート化合物及びその製造法
US8304167B2 (en) * 2008-07-02 2012-11-06 Sony Corporation Optical information recording medium
JP2010084061A (ja) * 2008-10-01 2010-04-15 Osaka Gas Co Ltd ハードコート膜及びその製造方法
KR101256591B1 (ko) 2008-11-10 2013-04-24 주식회사 엘지화학 티올기 및 우레탄기를 동시에 포함하는 플루오렌계 수지 중합체와 이의 제조방법 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물
JP2010270022A (ja) * 2009-05-20 2010-12-02 Kawasaki Kasei Chem Ltd アントラセン二量体骨格を有する新規なエポキシ化合物及びその製造法
JP2010275236A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Kawasaki Kasei Chem Ltd 1,4−ジヒドロアントラセン−9,10−ジエーテル化合物及びその製造法
WO2011019067A1 (ja) 2009-08-13 2011-02-17 富士フイルム株式会社 ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット
EP2296018A1 (en) 2009-09-14 2011-03-16 Fujifilm Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298544A2 (en) 2009-09-16 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit
EP2298543A2 (en) 2009-09-17 2011-03-23 FUJIFILM Corporation Master model of lens array and method of manufacturing the same
WO2011040103A1 (ja) 2009-09-30 2011-04-07 富士フイルム株式会社 素子アレイ及び素子アレイ積層体
EP2319672A1 (en) 2009-11-05 2011-05-11 FUJIFILM Corporation Lens array press mold and lens array molded by the same
EP2353828A1 (en) 2010-02-08 2011-08-10 FUJIFILM Corporation Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array
EP2361755A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2361754A2 (en) 2010-02-26 2011-08-31 FUJIFILM Corporation Lens array
EP2366534A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Die, molding method and lens array
EP2372406A1 (en) 2010-03-19 2011-10-05 Fujifilm Corporation Lens array and lens array manufacturing method
EP2366535A2 (en) 2010-03-19 2011-09-21 Fujifilm Corporation Lens and lens array and manufacturing method thereof
EP2380721A1 (en) 2010-03-30 2011-10-26 Fujifilm Corporation Method for fabricating a master
TWI491983B (zh) * 2012-04-20 2015-07-11 Ism Co Ltd 包括二苯并哌喃結構之黏合劑樹脂及包含該樹脂之有機絕緣層組合物
WO2015012381A1 (ja) * 2013-07-25 2015-01-29 Jnc株式会社 熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板および電子部品
JP2016196445A (ja) * 2015-04-03 2016-11-24 大阪ガスケミカル株式会社 新規フルオレン化合物及びその製造方法
JP2016204647A (ja) * 2015-04-15 2016-12-08 三菱化学株式会社 多官能エポキシ樹脂及び中間体、エポキシ樹脂組成物、硬化物
JP2017088640A (ja) * 2015-11-02 2017-05-25 互応化学工業株式会社 カルボキシル基含有樹脂、感光性樹脂組成物、ドライフィルム、プリント配線板、及びカルボキシル基含有樹脂の製造方法
US10689318B2 (en) 2016-02-03 2020-06-23 Taoka Chemical Co., Ltd. Bisphenol having fluorene skeleton, method for producing same, polyarylate resin, (meth)acrylate compound and epoxy resin which are derived from the bisphenol
US11518916B2 (en) 2017-12-26 2022-12-06 Fujifilm Corporation Lens adhesive, cemented lens, and imaging module

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