JP2004079378A - Method for producing proton conductive membrane - Google Patents

Abstract

The method for producing a proton conducting membrane of the present invention comprises:
A step of forming an organic polymer film by a solution casting method,
Immersing the film obtained by film formation in an aqueous solution of an organic compound soluble in water and having a boiling point of 100 ° C. or higher to allow equilibrium swelling;
Drying by evaporating water by a heat treatment.
According to the present invention, a proton conductive membrane having excellent conductivity and thermal stability and stable workability can be produced by a simple method. The proton conductive membrane obtained by the present invention is a conductive membrane such as an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, and an ion exchange membrane. Can be suitably used.
[Selection diagram] None

Description

【００１６】
上記一般式（Ａ）中、ＲおよびＲ’は、互いに同一でも異なっていてもよく、フッ素原子を除くハロゲン原子または−ＯＳＯ_２Ｚ（ここで、Ｚはアルキル基、フッ素置換アルキル基またはアリール基を示す。）で表される基を示す。ここで、Ｚが示すアルキル基としてはメチル基、エチル基などが挙げられ、フッ素置換アルキル基としてはトリフルオロメチル基などが挙げられ、アリール基としてはフェニル基、ｐ−トリル基などが挙げられる。
【００１７】
式（Ａ）中、Ｒ^１〜Ｒ^８は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フッ素置換アルキル基、アリル基およびアリール基からなる群より選ばれた少なくとも１種の原子または基を示す。ここで、アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基などが好ましい。フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられ、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などが好ましい。アリル基としては、プロペニル基などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。
【００１８】
式（Ａ）中、Ｘは２価の電子吸引性基を示す。電子吸引性基としては、例えば−ＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−（ＣＦ_２）_ｐ−（ここで、ｐは１〜１０の整数である）、−Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＯＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ_２−などが挙げられる。なお、電子吸引性基とは、ハメット（Ｈａｍｍｅｔｔ）置換基常数がフェニル基のｍ位の場合、０．０６以上、ｐ位の場合、０．０１以上の値となる基をいう。
【００１９】
式（Ａ）中、Ｙは２価の電子供与性基を示す。電子供与性基としては、例えば−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−および下記式で表される基などが挙げられる。
【００２０】
【化２】

【００２１】
また、式（Ａ）中、ｎは０または正の整数を示す。ｎの上限は通常１００、好ましくは８０である。
このようなモノマー（Ａ）としては、具体的には、たとえば、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンズアニリド、ビス（クロロフェニル）ジフルオロメタン、２，２−ビス（４−クロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４−クロロ安息香酸−４−クロロフェニル、ビス（４−クロロフェニル）スルホキシド、ビス（４−クロロフェニル）スルホン、これらの化合物において塩素原子が臭素原子またはヨウ素原子に置き換わった化合物、さらにこれらの化合物において４位に置換したハロゲン原子が３位に置換した化合物などが挙げられる。
【００２２】
また、モノマー（Ａ）として、具体的には、例えば４，４’−ビス（４−クロロベンゾイル）ジフェニルエーテル、４，４’−ビス（４−クロロベンゾイルアミノ）ジフェニルエーテル、４，４’−ビス（４−クロロフェニルスルホニル）ジフェニルエーテル、４，４’−ビス（４−クロロフェニル）ジフェニルエーテルジカルボキシレート、４，４’−ビス〔（４−クロロフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４’−ビス〔（４−クロロフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル〕ジフェニルエーテル、４，４’−ビス〔（４−クロロフェニル）テトラフルオロエチル〕ジフェニルエーテル、これらの化合物において塩素原子が臭素原子またはヨウ素原子に置き換わった化合物、さらにこれらの化合物において４位に置換したハロゲン原子が３位に置換した化合物、さらにこれらの化合物においてジフェニルエーテルの４位に置換した基の少なくとも１つが３位に置換した化合物などが挙げられる。
【００２３】
さらに、モノマー（Ａ）としては、２，２−ビス［４−｛４−（４−クロロベンゾイル）フェノキシ｝フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、ビス［４−｛４−（４−クロロベンゾイル）フェノキシ｝フェニル］スルホン、および下記式で表される化合物が挙げられる。
【００２４】
【化３】

【００２５】
上記一般式（Ａ）で表されるモノマーは、例えば以下に示す方法で合成することができる。
まず電子吸引性基で連結されたビスフェノールを対応するビスフェノールのアルカリ金属塩とするために、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキサイドなどの誘電率の高い極性溶媒中でリチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、アルカリ金属炭酸塩などを加える。
【００２６】
通常、アルカリ金属はフェノールの水酸基に対し、過剰気味で反応させ、通常、１．１〜２倍当量を使用する。好ましくは、１．２〜１．５倍当量の使用である。この際、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、クロロベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールなどの水と共沸する溶媒を共存させて、電子吸引性基で活性化されたフッ素、塩素等のハロゲン原子で置換された芳香族ジハライド化合物、例えば、４，４’−ジフルオロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−クロロフルオロベンゾフェノン、ビス（４−クロロフェニル）スルホン、ビス（４−フルオロフェニル）スルホン、４−フルオロフェニル−４’−クロロフェニルスルホン、ビス（３−ニトロ−４−クロロフェニル）スルホン、２，６−ジクロロベンゾニトリル、２，６−ジフルオロベンゾニトリル、ヘキサフルオロベンゼン、デカフルオロビフェニル、２，５−ジフルオロベンゾフェノン、１，３−ビス（４−クロロベンゾイル）ベンゼンなどを反応させる。反応性から言えば、フッ素化合物が好ましいが、次の芳香族カップリング反応を考慮した場合、末端が塩素原子となるように芳香族求核置換反応を組み立てる必要がある。活性芳香族ジハライドはビスフェノールに対し、２〜４倍モル、好ましくは２．２〜２．８倍モルの使用である。芳香族求核置換反応の前に予め、ビスフェノールのアルカリ金属塩としていてもよい。反応温度は６０℃〜３００℃で、好ましくは８０℃〜２５０℃の範囲である。反応時間は１５分〜１００時間、好ましくは１時間〜２４時間の範囲である。最も好ましい方法としては、下記式
【００２７】
【化４】

【００２８】
（式中、Ｙは一般式（Ａ）に関して定義した通りであり、２価の電子供与性基を示す。）
で示される活性芳香族ジハライドとして反応性の異なるハロゲン原子を一個づつ有するクロロフルオロ体を用いることであり、フッ素原子が優先してフェノキシドと求核置換反応が起きるので、目的の活性化された末端クロロ体を得るのに好都合である。
【００２９】
また、上記一般式（Ａ）で表されるモノマーを合成する別の方法としては、たとえば特開平２−１５９号公報に記載のように、求核置換反応と親電子置換反応を組み合わせ、目的の電子吸引性基、電子供与性基からなる屈曲性化合物を合成する方法がある。
具体的には電子吸引性基で活性化された芳香族ビスハライド、例えば、ビス（４−クロロフェニル）スルホンをフェノールとで求核置換反応させてビスフェノキシ置換体とする。次いで、この置換体を例えば、４−クロロ安息香酸クロリドとのフリーデルクラフト反応から目的の化合物を得る。ここで用いる電子吸引性基で活性化された芳香族ビスハライドは上記で例示した化合物が適用できる。フェノール化合物は置換されていてもよいが、耐熱性や屈曲性の観点から、無置換化合物が好ましい。なお、フェノールの置換反応にはアルカリ金属塩とするのが、好ましく、使用可能なアルカリ金属化合物は上記に例示した化合物を使用できる。使用量はフェノール１モルに対し、１．２〜２倍モルである。反応に際し、上述した極性溶媒や水との共沸溶媒を用いることができる。ビスフェノキシ化合物を塩化アルミニウム、３フッ化ホウ素、塩化亜鉛などのルイス酸のフリーデルクラフト反応の活性化剤存在下に、アシル化剤として、クロロ安息香酸クロライドを反応させる。クロロ安息香酸クロライドはビスフェノキシ化合物に対し、２〜４倍モル、好ましくは２．２〜３倍モルの使用である。フリーデルクラフト活性化剤は、アシル化剤のクロロ安息香酸などの活性ハライド化合物１モルに対し、１．１〜２倍当量使用する。反応時間は１５分〜１０時間の範囲で、反応温度は−２０℃から８０℃の範囲である。使用溶媒は、フリーデルクラフト反応に不活性な、クロロベンゼンやニトロベンゼンなどを用いることができる。
【００３０】
また、上記一般式（Ａ）において、ｎが２以上であるモノマー（Ａ）は、たとえば、一般式（Ａ）において電子供与性基Ｂであるエーテル性酸素の供給源となるビスフェノールと、電子吸引性基Ａである、＞Ｃ＝Ｏ、−ＳＯ_２−、および／または＞Ｃ（ＣＦ_３）_２とを組み合わした、具体的には２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホンなどのビスフェノールのアルカリ金属塩と過剰の４，４−ジクロロベンゾフェノン、ビス（４−クロロフェニル）スルホンなどの活性芳香族ハロゲン化合物との置換反応をＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、スルホランなどの極性溶媒存在下で前記単量体の合成手法に順次重合して得られる。
【００３１】
このようなモノマー（Ａ）の例示としては、下記式で表される化合物などを挙げることができる。
【００３２】
【化５】

【００３３】
【化６】

【００３４】
【化７】

【００３５】
上記において、ｎは２以上、好ましくは２〜１００、より好ましくは２〜８０、さらに好ましくは１０〜３０である。
次にモノマー（Ｂ）について説明する。モノマー（Ｂ）は、一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種のモノマーである。
【００３６】
【化８】

【００３７】
上記式（Ｂ−１）中、ＲおよびＲ’は互いに同一でも異なっていてもよく、上記一般式（Ａ）中のＲおよびＲ’と同様の基を示す。
式（Ｂ−１）中、Ｒ^９〜Ｒ^１５は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキルスルホン酸基およびアルキル基からなる群より選ばれた少なくとも１種の原子または基を示す。Ｒ^９〜Ｒ^１５が示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基などが好ましい。
【００３８】
式（Ｂ−１）中、Ｘは上記一般式（Ａ）中のＸと同様であって、２価の電子吸引性基を示す。電子吸引性基としては、上記一般式（Ａ）中のＸとして例示したものが挙げられる。
式（Ｂ−１）中、Ｙは上記一般式（Ａ）中のＹと同様であって、２価の電子供与性基を示す。電子供与性基としては、上記一般式（Ａ）中のＹとして例示したものが挙げられる。
【００３９】
式（Ｂ−１）中、ｍは０、１または２を示す。
式（Ｂ−１）中、Ｗはフェニル基、ナフチル基および下記式（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を示す。
【００４０】
【化９】

【００４１】
式（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）中、Ａは電子供与性基または単結合を示す。電子供与性基としては、上記一般式（Ａ）中のＹとして例示した２価の電子供与性基が挙げられる。
Ｒ^１６およびＲ^１７は水素原子、アルキル基およびアリール基からなる群より選ばれる原子または基を示す。Ｒ^１６およびＲ^１７が示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基、エチル基などが好ましい。アリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられる。
【００４２】
Ｒ^１８〜Ｒ^２６は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキルスルホン酸基およびアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の原子または基を示す。Ｒ^１８〜Ｒ^２６が示すアルキル基としては、Ｒ^１６およびＲ^１７が示すアルキル基と同様のものが挙げられる。
ｑは０または１を示す。
【００４３】
上記一般式（Ｂ−１）で示されるモノマー（Ｂ）としては、たとえば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
【化１０】

【００４５】
より具体的には、一般式（Ｂ−１）で表される化合物としては、たとえば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【００４６】
【化１１】

【００４７】
【化１２】

【００４８】
また、上記のような化合物において、塩素原子を臭素原子またはヨウ素原子に置き換えた化合物も例示することができる。
【００４９】
【化１３】

【００５０】
上記式（Ｂ−２）、（Ｂ−３）および（Ｂ−４）中、ＲおよびＲ’は互いに同一でも異なっていてもよく、上記一般式（Ａ）中のＲおよびＲ’と同様の基を示す。
Ｒ^２７〜Ｒ^３４は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フッ素置換アルキル基、アリール基、アルキルスルホン酸基または下記一般式（Ｄ）で表される基を示す。
【００５１】
【化１４】

【００５２】
一般式（Ｄ）中、Ｒ^３５〜Ｒ^４３は互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、フッ素置換アルキル基、アルキルスルホン酸基を示す。
Ｒ^２７〜Ｒ^３４、Ｒ^３５〜Ｒ^４３が示すアルキル基としては、Ｒ^１６およびＲ^１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられ、フッ素置換アルキル基としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられ、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基などが好ましい。またＲ^２７〜Ｒ^３４が示すアリール基としては、Ｒ^１６およびＲ^１７が示すアリール基と同様の基が挙げられる。
【００５３】
上記一般式（Ｄ）中、Ｘは２価の電子吸引性基を示す。電子吸引性基としては、上記一般式（Ａ）でＸとして例示したものが挙げられる。
上記一般式（Ｄ）中、Ｙは２価の電子供与性基を示す。電子供与性基としては、上記一般式（Ａ）中のＹとして例示した２価の電子供与性基が挙げられる。
上記一般式（Ｂ−２）で表されるモノマー（Ｂ）としては、具体的には、たとえば、ｐ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，５−ジクロロトルエン、２，５−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，５−ジクロロ−ｐ−キシレン、２，５−ジクロロベンゾトリフルオライド、１，４−ジクロロ−２，３，５，６−テトラフルオロベンゼン、およびこれらの化合物において塩素原子を臭素原子またはヨウ素原子に置き換えた化合物などが挙げられる。
【００５４】
上記一般式（Ｂ−３）で表されるモノマー（Ｂ）としては、具体的には、たとえば、４，４’−ジメチルスルフォニロキシビフェニル、４，４’−ジメチルスルフォニロキシ−３，３’−ジプロペニルビフェニル、４，４’−ジブロモビフェニル、４，４’−ジヨードビフェニル、４，４’−ジメチルスルフォニロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジメチルスルフォニロキシ−３，３’−ジフルオロビフェニル、４，４’−ジメチルスルフォニロキシ−３，３’５，５’−テトラフルオロビフェニル、４，４’−ジブロモオクタフルオロビフェニル、４，４’−ジメチルスルフォニロキシオクタフルオロビフェニルなどが挙げられる。
【００５５】
上記一般式（Ｂ−４）で表されるモノマー（Ｂ）としては、具体的には、たとえば、ｍ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジメチルスルフォニロキシベンゼン、２，４−ジクロロトルエン、３，５−ジクロロトルエン、２，６−ジクロロトルエン、３，５−ジメチルスルフォニロキシトルエン、２，６−ジメチルスルフォニロキシトルエン、２，４−ジクロロベンゾトリフルオライド、３，５−ジクロロベンゾトリフルオライド、１，３−ジブロモ−２，４，５，６−テトラフルオロベンゼン、およびこれらの化合物において塩素原子を臭素原子またはヨウ素原子に置き換えた化合物などが挙げられる。
【００５６】
本発明で好ましく用いられるポリアーレン系重合体は、上述したモノマー（Ａ）と、モノマー（Ｂ）とを、触媒の存在下に反応させて得られる。使用される触媒は、遷移金属化合物を含む触媒系であり、この触媒系としては、▲１▼遷移金属塩および配位子となる化合物（以下「配位子成分」という。）、または配位子が配位された遷移金属錯体（銅塩を含む）、ならびに▲２▼還元的カップリング剤である上述した金属亜鉛を必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために、「塩」を添加してもよい。
【００５７】
ここで、遷移金属塩としては、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチルアセトナートなどのニッケル化合物；塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化合物；塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物；塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバルト化合物などが挙げられる。これらのうち特に塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
【００５８】
また、配位子成分としては、トリフェニルホスフィン、２，２’−ビピリジン、１，５−シクロオクタジエン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンなどが挙げられる。これらのうち、トリフェニルホスフィン、２，２’−ビピリジンが好ましい。上記配位子成分である化合物は、１種単独で、あるいは２種以上を併用することができる。
【００５９】
さらに、配位子が配位された遷移金属錯体としては、例えば塩化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）、臭化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）、ヨウ化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）、硝酸ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）、塩化ニッケル（２，２’−ビピリジン）、臭化ニッケル（２，２’−ビピリジン）、ヨウ化ニッケル（２，２’−ビピリジン）、硝酸ニッケル（２，２’−ビピリジン）、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどが挙げられる。これらのうち塩化ニッケルビス（トリフェニルホスフィン）、塩化ニッケル（２，２’−ビピリジン）が好ましい。
【００６０】
また、上記触媒系において使用することのできる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸ナトリウムなどのナトリウム化合物、フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カリウムなどのカリウム化合物；フッ化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、硫酸テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム化合物などが挙げられる。これらのうち、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好ましい。
【００６１】
各成分の使用割合は、遷移金属塩または遷移金属錯体が、上記単量体の総計１モルに対し、通常０．０００１〜１０モル、好ましくは０．０１〜０．５モルである。０．０００１モル未満では、重合反応が十分に進行しないことがあり、一方、１０モルを超えると、分子量が低下することがある。
触媒系において、遷移金属塩および配位子成分を用いる場合、この配位子成分の使用割合は、遷移金属塩１モルに対し、通常０．１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルである。０．１モル未満では、触媒活性が不十分となることがあり、一方、１００モルを超えると、分子量が低下することがある。
【００６２】
また、亜鉛金属の使用割合は、上記単量体の総計１モルに対し、通常、０．１〜１００モル、好ましくは１〜１０モルである。０．１モル未満では、重合が十分進行しないことがあり、１００モルを超えると、得られる重合体の精製が困難になることがある。
さらに、「塩」を使用する場合、その使用割合は、上記単量体の総計１モルに対し、通常、０．００１〜１００モル、好ましくは０．０１〜１モルである。０．００１モル未満では、重合速度を上げる効果が不十分であることがあり、１００モルを超えると、得られる重合体の精製が困難になることがある。
【００６３】
使用することのできる重合溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが好ましい。これらの重合溶媒は、十分に乾燥してから用いることが好ましい。
【００６４】
重合溶媒中における上記単量体の総計の濃度は、通常、１〜９０重量％、好ましくは５〜４０重量％である。
また、重合する際の重合温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは５０〜１２０℃である。また、重合時間は、通常、０．５〜１００時間、好ましくは１〜４０時間である。
【００６５】
このようなモノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との重合においては、分子量調節剤として４−クロロベンゾフェノンのような片末端ハロゲン化合物（フッ素を除く）を用いて、得られる重合体を所定の分子量に調整できる。また、得られる重合体溶液の分子量と溶液粘度を調整するために、例えば、２，４，４’−トリクロロベンゾフェノンなどの２官能性以上のハロゲン化合物（フッ素を除く）を用いることもできる。
【００６６】
このようにして上記一般式（Ａ）で表されるモノマー（Ａ）と、上記一般式（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種のモノマー（Ｂ）を重合させることにより、ポリアリーレン系共重合体溶液が得られる。
本発明で好ましく用いられる、スルホン酸基を有するポリアリーレン系共重合体は、このようにして得られたポリアリーレン系共重合体をスルホン化したものである。ポリアリーレン系共重合体のスルホン化は、スルホン酸基を有しない上記共重合体に、スルホン化剤を用い、常法によりスルホン酸基導入することにより行うことができる。
【００６７】
スルホン酸基を導入する方法としては、例えば、上記スルホン酸基を有しないポリアリーレン系共重合体を、無水硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、硫酸、亜硫酸水素ナトリウムなどの公知のスルホン化剤を用いて、公知の条件でスルホン化することができる〔Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．３，ｐ．７３０（１９９３）；Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．３，ｐ．７３６（１９９４）；Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，Ｖｏｌ．４２，Ｎｏ．７，ｐｐ．２４９０〜２４９２（１９９３）〕。
【００６８】
すなわち、このスルホン化の反応条件としては、上記スルホン酸基を有しない共重合体を、無溶剤下、あるいは溶剤存在下で、上記スルホン化剤と反応させる。溶剤としては、例えばｎ−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような非プロトン系極性溶剤のほか、テトラクロロエタン、ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応温度は特に制限はないが、通常、−５０〜２００℃、好ましくは−１０〜１００℃である。また、反応時間は、通常、０．５〜１，０００時間、好ましくは１〜２００時間である。
【００６９】
なお、（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）化合物としてアルキルスルホン酸基を有する化合物を使用した場合には、このようなスルホン化工程は不要であるが、下記に示すような加水分解を行って、重合体中のスルホン酸エステル基（−ＳＯ_３Ｒ）をスルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）に転換する工程が必要である。
加水分解の方法としては、
（１）少量の塩酸を含む過剰量の水またはアルコールに、上記ポリアリーレンを投入し、５分間以上撹拌する方法
（２）トリフルオロ酢酸中で上記ポリアリーレンを８０〜１２０℃程度の温度で５〜１０時間程度反応させる方法
（３）ポリアリーレン中のスルホン酸エステル基（−ＳＯ_３Ｒ）１モルに対して１〜３倍モルのリチウムブロマイドを含む溶液、例えばＮ−メチルピロリドンなどの溶液中で上記ポリアリーレンを８０〜１５０℃程度の温度で３〜１０時間程度反応させた後、塩酸を添加する方法
などを挙げることができる。
【００７０】
このようにして得られる、スルホン酸基含有共重合体中の、スルホン酸基量は、０．５〜３ミリグラム当量／ｇ、好ましくは０．８〜２．８ミリグラム当量／ｇである。０．５ミリグラム当量／ｇ未満では、プロトン伝導性が上がらず、一方３ミリグラム当量／ｇを超えると、親水性が向上し、水溶性ポリマーとなってしまうか、また水溶性に至らずとも耐久性が低下する。
【００７１】
上記のスルホン酸基量は、モノマーの使用割合、種類、組合せを変えることにより、容易に調整することができる。
また、このようにして得られるスルホン酸基含有ポリアリーレン系共重合体のスルホン化前の前駆体のポリマーの分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、１万〜１００万、好ましくは２万〜８０万であることが望ましい。
【００７２】
本発明では、上述したような有機ポリマーを用いて、溶液流延法により有機ポリマー膜を製膜する。有機ポリマー膜は、有機ポリマーを、溶媒に分散あるいは溶解した有機ポリマー溶液を調製し、これを支持体上に流延して、適宜乾燥することにより製膜することができる。
製膜時の溶媒は後述する重合溶媒と同様のものを挙げることができ、これらの重合溶媒にさらに水やアルコールを混合した溶媒も使用することもできる。
【００７３】
支持体上に流延された有機ポリマー溶液は、通常１００〜２００℃の温度で０．５〜３時間程度加熱することにより乾燥して製膜する。
次いで、製膜により得られた膜を、水に可溶で沸点が１００℃以上の有機化合物の水溶液中に浸漬して平衡膨潤させる工程と、加熱処理により水を蒸発させて乾燥する工程とについて説明する。
【００７４】
有機化合物の水溶液中に浸漬する、製膜により得られた膜は、溶液流延法により形成された有機ポリマー膜が完全には乾燥しない程度に予備乾燥して用いるのが望ましい。予備乾燥をした膜を用いると、短時間で膜を平衡膨潤させることができ好ましい。
本発明で用いる、有機化合物の水溶液を構成する有機化合物は、水に可溶でかつ沸点が１００℃以上である。このような有機化合物は、水に可溶で沸点が１００℃以上、好ましくは１００〜２５０℃であって、弱塩基性を示す化合物であるのが好ましく、窒素を含有する化合物であるのがより好ましい。また、このような有機化合物は、有機ポリマー膜を浸漬する際に水溶液として用いることができればよく、液体であっても固体であってもよいが、有機化合物が常温で液体である場合には、取り扱いが容易であり、膜中に均質に分散しやすいためより好ましい。
【００７５】
このような有機化合物としては、たとえば、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ；沸点２０２℃）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（沸点１５３℃）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド（沸点１６６℃）、２，６−ルチジン（沸点１４４℃）、トリメチルピリジン（沸点１７１℃）、キノリン（沸点２３７℃）、イソキノリン（沸点２４３℃）、テトラメチル尿素（沸点１７５℃）、ジメチルイミダゾリジノン（沸点２２６℃）などを好ましく用いることができる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドンなどの、常温で液体である有機化合物をより好ましく用いることができる。
【００７６】
特に、膜を構成する有機ポリマーが、スルホン酸を導入したポリマーである場合には、弱塩基性を示す有機化合物を用い、該有機化合物を膜中に残存させることにより、高温条件下でのスルホン酸の分解脱離を抑制することができ、プロトン伝導膜の熱安定性を向上させることができる。
製膜により得られた有機ポリマー膜は、必要に応じて予備乾燥後、上述した有機化合物の水溶液に浸漬し、有機化合物と水とを平衡膨潤させて置換する。ここで、有機化合物の水溶液を、膜の種類、膜中に含有させる有機化合物の量に応じた所望の濃度に調製して用いることによって、その後の乾燥工程で、膜中に所望量の有機化合物を含有したプロトン伝導膜を得ることができる。プロトン伝導膜中の有機化合物量を制御するための有機化合物と水の組成は、有機ポリマー膜に対する有機化合物と水の親和性によって調整することができる。
【００７７】
有機ポリマー膜と、有機化合物の水溶液との接触比は、膜１重量部に対し、１０重量部以上の水、好ましくは３０重量部以上の水と接触させるのがよい。有機化合物は、膜中に均質に保持されるのが望ましい。膜中の有機化合物の面内分布を小さく抑えるためには、浸漬する水を撹拌等によって均質化させるのは効果的である。
【００７８】
浸漬の処理温度は５〜８０℃の範囲であるのが望ましい。高温ほど、平衡に達するまでの時間は速くなるが、温度が高すぎると膨潤比が大きくなり、乾燥後に得られるフィルムの表面状態が荒れる懸念がある。通常、膨潤比と取り扱いやすさから１０〜５０℃の温度範囲がより好ましい。
浸漬時間は、初期の膜中に残存する有機化合物量や接触比、処理温度にもよるが、通常１０分から２４０時間の範囲、好ましくは３０分から１００時間の範囲であるのが望ましい。
【００７９】
このような浸漬の工程は、支持体から分離した有機ポリマー膜を１枚ずつ浸漬するバッチ方式で行ってもよいし、支持体（たとえばＰＥＴ製の板フィルムなど）上に流延あるいは塗布された状態のままの有機ポリマー膜を連続的に浸漬して巻き取る連続方式で行ってもよい。
有機化合物水溶液を浸漬した膜は、加熱処理により水を蒸発させて乾燥する。この加熱処理による乾燥工程は、常法にしたがって行うことができる。
【００８０】
本発明の方法により得られるプロトン伝導膜は、その乾燥膜厚が、通常１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜８０μｍである。
このような本発明により得られたプロトン伝導膜は、膜中に所望量の有機化合物を含有しており、熱安定性に特に優れる。
【００８１】
【発明の効果】
本発明によれば、簡便な方法で、伝導性および熱安定性に優れ、安定した加工性を有したプロトン伝導膜を製造することができる。本発明により得られたプロトン伝導膜は、一次電池用電解質、二次電池用電解質、燃料電池用高分子固体電解質、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、イオン交換膜などの伝導膜として好適に使用することができる。
【００８２】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例および比較例において、膜中の有機化合物（ＮＭＰ；Ｎ−メチルピロリドン）量およびそのばらつきは、以下のようにして求めた。
膜中の有機化合物（ＮＭＰ）量・ばらつき
プロトン伝導膜をＤＭＳＯ−ｄ６に溶解し、^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６溶液）室温下１２８回積算測定する。膜を構成するポリマーのピーク強度と有機化合物（ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン）のピーク強度の比から、ポリマー１００重量部あたりの、膜中のＮＭＰの重量を求めた。また、同時に浸せき処理を行った膜２０枚について、膜中に残存するＮＭＰの重量を求め、膜中のＮＭＰ量の平均値、最大値と最小値の差から膜中のＮＭＰ量のばらつきをそれぞれ求めた。
【００８３】
【実施例１】
２，５−ジクロロ−４’−（４−フェノキシフェノキシベンゾフェノン）と４，４−ジクロロベンゾフェノンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパンから得られる４−クロロベンゾイル末端のオリゴマー（数平均分子量１１２００）から得られる共重合体（数平均分子量５００００）をスルホン化し、スルホン酸当量２．０８ミリ当量／ｇのスルホン化ポリマーを得た。
【００８４】
このスルホン化ポリマーを、ＮＭＰとメタノールからなる混合溶媒（重量比１／１）に溶解して、該スルホン化ポリマーの１５ｗｔ％溶液を調製し、これをＰＥＴフィルム上に流延し、１５０℃のオーブンで１時間乾燥させることにより厚さ４０μｍの膜を得た。この時の膜中のＮＭＰ量は１４重量部であった。
次に、純水１００ｋｇにＮＭＰを１５０ｇ溶解したＮＭＰ水溶液に、Ａ４サイズの膜２０枚を１時間浸漬した。この後８０℃のオーブンで乾燥し、プロトン伝導膜を得た。膜中のＮＭＰ量は２重量部であり、そのばらつきは０．１重量部と極めて小さかった。
【００８５】
【実施例２】
実施例１において、浸漬時間を４時間としたことの他は、実施例１と同様にしてプロトン伝導膜を得た。
【００８６】
【実施例３】
ＮＭＰ水溶液として、純水１００ｋｇにＮＭＰを１０００ｇ溶解した溶液を用いたことのほかは、実施例１と同様にしてプロトン伝導膜を得た。
【００８７】
【実施例４】
実施例３において、浸漬時間を４時間としたことの他は、実施例３と同様にしてプロトン伝導膜を得た。
【００８８】
【実施例５】
実施例１で用いたと同じスルホン化ポリマーを、ＮＭＰとメタノールからなる混合溶媒（重量比１／１）に溶解して、該スルホン化ポリマーの１５ｗｔ％溶液を調製し、これをＰＥＴフィルム上に流延し、１５０℃のオーブンで１時間乾燥させることにより厚さ４０μｍの膜を得た。この時の膜中のＮＭＰ量は１４重量部であった。
【００８９】
次に、純粋１００ｋｇに、Ａ４サイズの膜２０枚を１時間浸漬し、８０℃のオーブンで乾燥した。このとき膜中のＮＭＰ量の、２０枚の平均値は１重量部であった。
次いで、この膜２０枚を、純水１００ｋｇにＮＭＰを１０００ｇ溶解したＮＭＰ水溶液に１時間浸漬し、８０℃のオーブンで乾燥してプロトン伝導膜を得た。膜中のＮＭＰ量は６重量部であり、そのばらつきは０．１重量部と極めて小さかった。
【００９０】
【比較例１】
ＮＭＰとメタノールからなる混合溶媒（重量比１／１）にＥＦ３１４を１５ｗｔ％溶解し、ＰＥＴフィルム上に流延し、１５０℃のオーブンで１時間乾燥させることにより厚さ４０μｍの膜を得た。このとき膜中のＮＭＰ量は１４重量部であった。
【００９１】
次に純水１００ｋｇにＡ４サイズの膜２０枚を０．０５時間浸せきし、この後８０℃のオーブンで乾燥して膜を得た。膜中のＮＭＰ量のばらつきは２．６重量部と極めて大きかった。
【００９２】
【比較例２】
比較例１において、浸せき時間を１時間としたこと以外は、比較例１と同様にしてプロトン伝導膜を得た。膜中のＮＭＰ量のばらつきは０．４重量部と大きかった。
【００９３】
【表１】

[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a proton conducting membrane. More specifically, the present invention relates to a method for producing a proton conductive membrane made of an organic polymer and having improved thermal stability at high temperatures.
[0002]
[Technical Background of the Invention]
The proton conductive membrane is used as a main constituent material of electrochemical devices such as various sensors, fuel cells, and display devices. As the material of the proton conductive membrane, both inorganic compounds and organic compounds are known.
Examples of the inorganic substance include uranyl phosphate, which is a hydrated compound. However, these inorganic compounds have insufficient contact at the interface, and there are many problems in forming a conductive layer on a substrate or an electrode.
[0003]
Examples of the organic compound include a polymer belonging to a so-called cation exchange resin, for example, a sulfonated product of a vinyl polymer such as polystyrene sulfonic acid, a perfluoroalkylsulfonic acid polymer represented by Nafion (manufactured by DuPont), and a perfluoroalkylcarboxylic acid. Acid polymers or polymers obtained by introducing a sulfonic acid group or a phosphoric acid group into a heat-resistant polymer such as polybenzimidazole or polyetheretherketone [Polymer Preprints, Japan, Vol. 42, no. 7, p. 2490-2492 (1993), Polymer Preprints, Japan, Vol. 43, no. 3, p. 735-736 (1994), Polymer Preprints, Japan, Vol. 42, no. 3, p730 (1993)].
[0004]
These organic polymers are usually used in the form of a film, but a conductive film can be bonded to an electrode by utilizing the fact that the polymer is soluble in a solvent or thermoplastic. However, many of these organic polymers have a problem that the proton conductivity is not yet sufficient and the durability at a high temperature is insufficient. For example, a proton conductive membrane having a sulfonic acid structure has good conductivity, but has a problem that sulfonic acid is easily decomposed and desorbed at a high temperature.
[0005]
For this reason, the appearance of a proton conductive membrane formed of an organic polymer and having excellent thermal stability has been strongly demanded.
[0006]
[Object of the invention]
An object of the present invention is to provide a method for producing a proton conductive membrane having excellent thermal stability.
[0007]
Summary of the Invention
The method for producing a proton conducting membrane of the present invention comprises:
A step of forming an organic polymer film by a solution casting method,
The film obtained by forming a film is immersed in an aqueous solution of an organic compound having a boiling point of 100 ° C. or higher, which is soluble in water, and has a step of equilibrium swelling, and a step of evaporating water by a heat treatment and drying it. It is characterized by:
[0008]
In such a method for producing a proton conductive membrane of the present invention, the organic polymer is preferably a polymer into which sulfonic acid has been introduced, and more preferably a polyarylene-based copolymer having sulfonic acid groups.
In the method for producing a proton conductive membrane of the present invention, it is preferable that the organic compound is a compound containing nitrogen.
[0009]
Further, in the method for producing a proton conductive membrane of the present invention, the content of the organic compound in the proton conductive membrane is preferably 5% by weight or less.
Further, in the method for producing a proton conductive membrane of the present invention, it is preferable that the organic compound is liquid at normal temperature.
[0010]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described specifically.
In the present invention, a proton conductive membrane is produced by a step of forming an organic polymer film, a step of dipping the membrane in an aqueous solution of a specific organic compound to equilibrate swelling, and a drying step.
[0011]
The organic polymer film is formed by a solution casting method in which an organic polymer solution is cast on a support to form a film. Examples of the support include a polyethylene terephthalate film. The organic polymer film may be peeled from the support at this stage, or may be peeled after equilibrium swelling and drying described later.
As the organic polymer, a known organic polymer used for producing a proton conductive membrane can be used, and any polymer belonging to a cation exchange resin can be used. For example, a sulfonated product of a vinyl polymer; a perfluoroalkylsulfonic acid polymer; a polymer in which a sulfonic acid group or a phosphoric acid group is introduced into a perfluoroalkylcarboxylic acid polymer or a heat-resistant polymer such as polybenzimidazole or polyetheretherketone. Is mentioned.
[0012]
In the present invention, among these organic polymers, a polymer into which sulfonic acid is introduced is preferably used, and a polyarylene copolymer having a sulfonic acid group is more preferably used.
Hereinafter, the polyarylene-based copolymer having a sulfonic acid group, which is preferably used in the present invention, will be described in detail.
[0013]
The polyarylene-based copolymer having a sulfonic acid group preferably used in the present invention is obtained by sulfonating the following polyarylene-based copolymer.
The polyarylene-based copolymer as a raw material of the polyarylene-based copolymer having a sulfonic acid group,
(A) a monomer represented by the following general formula (A),
(B) It is obtained by reacting with at least one monomer selected from the group consisting of the following general formulas (B-1), (B-2), (B-3) and (B-4).
[0014]
The monomer (A) is represented by the following general formula.
[0015]
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[0016]
In the general formula (A), R and R ′ may be the same or different from each other, and may be a halogen atom excluding a fluorine atom or —OSO ₂ Z (where Z is an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, or an aryl group) Is shown.). Here, examples of the alkyl group represented by Z include a methyl group and an ethyl group, examples of the fluorine-substituted alkyl group include a trifluoromethyl group, and examples of the aryl group include a phenyl group and a p-tolyl group. .
[0017]
In the formula (A), R ^{1 to} R ⁸ may be the same or different from each other, and at least one selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an allyl group and an aryl group Represents an atom or a group of Here, examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an amyl group, and a hexyl group, and a methyl group and an ethyl group are preferable. Examples of the fluorine-substituted alkyl group include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group and the like, and a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group Are preferred. Examples of the allyl group include a propenyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a pentafluorophenyl group.
[0018]
In the formula (A), X represents a divalent electron-withdrawing group. Examples of the electron withdrawing group, e.g. -CO -, - CONH -, - (CF 2) p - ( wherein, p is an integer of 1 to _{10), - C (CF 3)} 2 -, - COO- , -SO -, - SO ₂ -, and the like. Note that the electron-withdrawing group refers to a group having a value of 0.06 or more when the Hammett substituent constant is m-position of the phenyl group and 0.01 or more when it is p-position.
[0019]
In the formula (A), Y represents a divalent electron donating group. Examples of the electron donating group include —O—, —S—, —CH ＝ CH—, —C≡C—, and a group represented by the following formula.
[0020]
Embedded image

[0021]
In the formula (A), n represents 0 or a positive integer. The upper limit of n is usually 100, preferably 80.
Specific examples of such a monomer (A) include, for example, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzanilide, bis (chlorophenyl) difluoromethane, 2,2-bis (4-chlorophenyl ) Hexafluoropropane, 4-chlorophenyl 4-chlorobenzoate, bis (4-chlorophenyl) sulfoxide, bis (4-chlorophenyl) sulfone, compounds in which a chlorine atom is replaced by a bromine atom or an iodine atom in these compounds, and And a compound in which a halogen atom substituted at the 4-position is substituted at the 3-position.
[0022]
As the monomer (A), specifically, for example, 4,4′-bis (4-chlorobenzoyl) diphenyl ether, 4,4′-bis (4-chlorobenzoylamino) diphenyl ether, 4,4′-bis ( 4-chlorophenylsulfonyl) diphenyl ether, 4,4'-bis (4-chlorophenyl) diphenylether dicarboxylate, 4,4'-bis [(4-chlorophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoro Propyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [(4-chlorophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [(4-chlorophenyl) tetrafluoroethyl ] Diphenyl ethers, in which a chlorine atom has been replaced by a bromine or iodine atom in these compounds And compounds in which a halogen atom substituted in the 4-position in these compounds is substituted in the 3-position, and compounds in which at least one of the groups substituted in the 4-position of diphenyl ether is substituted in the 3-position in these compounds. .
[0023]
Further, as the monomer (A), 2,2-bis [4- {4- (4-chlorobenzoyl) phenoxy} phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, bis [4 -{4- (4-chlorobenzoyl) phenoxy} phenyl] sulfone and a compound represented by the following formula.
[0024]
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[0025]
The monomer represented by the general formula (A) can be synthesized, for example, by the following method.
First, in order to convert a bisphenol linked by an electron-withdrawing group into a corresponding alkali metal salt of bisphenol, a dielectric material such as N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, diphenylsulfone, and dimethylsulfoxide is used. An alkali metal such as lithium, sodium and potassium, an alkali metal hydride, an alkali metal hydroxide, an alkali metal carbonate and the like are added in a highly polar solvent.
[0026]
Usually, the alkali metal is reacted with the hydroxyl group of phenol in an excessive amount, and usually, 1.1 to 2 equivalents are used. Preferably, 1.2 to 1.5 equivalents are used. At this time, a solvent azeotropic with water such as benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane, octane, chlorobenzene, dioxane, tetrahydrofuran, anisole, and phenetole coexist to form fluorine, chlorine, and the like activated by the electron-withdrawing group. Aromatic dihalide compounds substituted with a halogen atom such as 4,4'-difluorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-chlorofluorobenzophenone, bis (4-chlorophenyl) sulfone, bis (4 -Fluorophenyl) sulfone, 4-fluorophenyl-4'-chlorophenylsulfone, bis (3-nitro-4-chlorophenyl) sulfone, 2,6-dichlorobenzonitrile, 2,6-difluorobenzonitrile, hexafluorobenzene, deca Fluorobife , 2,5-difluorobenzophenone, 1,3-bis (4-chlorobenzoyl) benzene and the like. In terms of reactivity, a fluorine compound is preferable, but in consideration of the following aromatic coupling reaction, it is necessary to assemble an aromatic nucleophilic substitution reaction so that the terminal is a chlorine atom. The active aromatic dihalide is used in an amount of 2 to 4 times, preferably 2.2 to 2.8 times, the mole of bisphenol. Before the aromatic nucleophilic substitution reaction, an alkali metal salt of bisphenol may be used in advance. The reaction temperature is between 60C and 300C, preferably between 80C and 250C. Reaction times range from 15 minutes to 100 hours, preferably from 1 hour to 24 hours. The most preferred method is represented by the following formula:
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[0028]
(In the formula, Y is as defined for the general formula (A), and represents a divalent electron donating group.)
Is to use a chlorofluoro compound having one halogen atom having a different reactivity as an active aromatic dihalide represented by the formula, and a fluorine atom takes precedence to cause a nucleophilic substitution reaction with phenoxide. It is convenient for obtaining a chloro form.
[0029]
As another method for synthesizing the monomer represented by the general formula (A), for example, as described in JP-A-2-159, a combination of a nucleophilic substitution reaction and an electrophilic substitution reaction is used. There is a method of synthesizing a flexible compound comprising an electron-withdrawing group and an electron-donating group.
Specifically, an aromatic bishalide activated by an electron-withdrawing group, for example, bis (4-chlorophenyl) sulfone is subjected to a nucleophilic substitution reaction with phenol to obtain a bisphenoxy-substituted product. Then, the desired compound is obtained from this substituted product by a Friedel-Crafts reaction with, for example, 4-chlorobenzoic acid chloride. The compounds exemplified above can be applied to the aromatic bishalide activated by the electron-withdrawing group used here. The phenol compound may be substituted, but an unsubstituted compound is preferred from the viewpoint of heat resistance and flexibility. It is preferable to use an alkali metal salt for the phenol substitution reaction. As the usable alkali metal compound, the compounds exemplified above can be used. The amount used is 1.2 to 2 moles per 1 mole of phenol. At the time of the reaction, the above-mentioned polar solvent or the azeotropic solvent with water can be used. The bisphenoxy compound is reacted with chlorobenzoic acid chloride as an acylating agent in the presence of an activator for a Friedel-Crafts reaction of a Lewis acid such as aluminum chloride, boron trifluoride, zinc chloride or the like. Chlorobenzoic acid chloride is used in an amount of 2 to 4 times, preferably 2.2 to 3 times the mole of the bisphenoxy compound. The Friedel-Crafts activator is used in an amount of 1.1 to 2 equivalents per mol of an active halide compound such as chlorobenzoic acid as an acylating agent. The reaction time ranges from 15 minutes to 10 hours, and the reaction temperature ranges from -20C to 80C. As a solvent to be used, chlorobenzene, nitrobenzene, or the like, which is inert to the Friedel-Crafts reaction, can be used.
[0030]
In the general formula (A), the monomer (A) in which n is 2 or more is, for example, bisphenol as a supply source of etheric oxygen which is the electron donating group B in the general formula (A), Specifically, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1 in combination with> C ＝ O, —SO ₂ —, and / or> C (CF ₃ ) ₂ that is , 1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, etc. The substitution reaction with an active aromatic halogen compound such as 4-dichlorobenzophenone and bis (4-chlorophenyl) sulfone is performed by N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, sulfo Wherein a polar solvent presence, such as emissions obtained by sequentially polymerizing the synthesis method of the monomer.
[0031]
Examples of such a monomer (A) include a compound represented by the following formula.
[0032]
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[0033]
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[0034]
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[0035]
In the above, n is 2 or more, preferably 2 to 100, more preferably 2 to 80, and still more preferably 10 to 30.
Next, the monomer (B) will be described. The monomer (B) is at least one monomer selected from the compounds represented by formulas (B-1) to (B-4).
[0036]
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[0037]
In the formula (B-1), R and R ′ may be the same or different from each other, and represent the same groups as R and R ′ in the general formula (A).
In the formula (B-1), R ^{9 to} R ¹⁵ may be the same or different from each other, and at least one atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkylsulfonic acid group, and an alkyl group Is shown. Examples of the alkyl group represented by R ^{9 to} R ¹⁵ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an amyl group, and a hexyl group, and a methyl group and an ethyl group are preferable.
[0038]
In Formula (B-1), X is the same as X in Formula (A), and represents a divalent electron-withdrawing group. Examples of the electron-withdrawing group include those exemplified as X in the general formula (A).
In Formula (B-1), Y is the same as Y in Formula (A), and represents a divalent electron donating group. Examples of the electron donating group include those exemplified as Y in the above general formula (A).
[0039]
In the formula (B-1), m represents 0, 1 or 2.
In the formula (B-1), W represents at least one group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group and groups represented by the following formulas (C-1) to (C-3).
[0040]
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[0041]
In the formulas (C-1) to (C-3), A represents an electron donating group or a single bond. Examples of the electron donating group include the divalent electron donating groups exemplified as Y in the general formula (A).
R ¹⁶ and R ¹⁷ each represent an atom or a group selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkyl group and an aryl group. Examples of the alkyl group represented by R ¹⁶ and R ¹⁷ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an amyl group, and a hexyl group, and a methyl group and an ethyl group are preferable. Examples of the aryl group include a phenyl group and a pentafluorophenyl group.
[0042]
R ^{18 to} R ²⁶ may be the same or different from each other, and represent at least one atom or group selected from the group consisting of a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkylsulfonic acid group, and an alkyl group. Examples of the alkyl group represented by R ^{18 to} R ²⁶ include the same alkyl groups represented by R ¹⁶ and R ¹⁷ .
q represents 0 or 1.
[0043]
Examples of the monomer (B) represented by the general formula (B-1) include a compound represented by the following formula.
[0044]
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[0045]
More specifically, examples of the compound represented by the general formula (B-1) include a compound represented by the following formula.
[0046]
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[0047]
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[0048]
In addition, compounds in which a chlorine atom is replaced with a bromine atom or an iodine atom in the above compounds can also be exemplified.
[0049]
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[0050]
In the above formulas (B-2), (B-3) and (B-4), R and R ′ may be the same or different from each other, and are the same as R and R ′ in the above general formula (A). Represents a group.
R ^{27 to} R ³⁴ may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an aryl group, an alkylsulfonic acid group, or a group represented by the following formula (D). .
[0051]
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[0052]
In the general formula (D), R ^{35 to} R ⁴³ may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, or an alkylsulfonic acid group.
Examples of the alkyl group represented by R ^{27 to} R ³⁴ and R ^{35 to} R ⁴³ include the same groups as the alkyl groups represented by R ¹⁶ and R ^17. Examples of the fluorine-substituted alkyl group include a trifluoromethyl group and a perfluoroethyl group. Groups, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluoropentyl group, a perfluorohexyl group and the like, and a trifluoromethyl group and a pentafluoroethyl group are preferable. The aryl groups represented by R ^{27 to} R ³⁴ include the same groups as the aryl groups represented by R ¹⁶ and R ¹⁷ .
[0053]
In the general formula (D), X represents a divalent electron-withdrawing group. Examples of the electron-withdrawing group include those exemplified as X in the general formula (A).
In the above general formula (D), Y represents a divalent electron donating group. Examples of the electron donating group include the divalent electron donating groups exemplified as Y in the general formula (A).
As the monomer (B) represented by the general formula (B-2), specifically, for example, p-dichlorobenzene, p-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichlorotoluene, 2,5- Dimethylsulfonyloxybenzene, 2,5-dichloro-p-xylene, 2,5-dichlorobenzotrifluoride, 1,4-dichloro-2,3,5,6-tetrafluorobenzene, and chlorine atoms in these compounds And a compound in which is replaced by a bromine atom or an iodine atom.
[0054]
Specific examples of the monomer (B) represented by the general formula (B-3) include, for example, 4,4′-dimethylsulfonyloxybiphenyl, 4,4′-dimethylsulfonyloxy-3,3 '-Dipropenylbiphenyl, 4,4'-dibromobiphenyl, 4,4'-diiodobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3'-dimethylbiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy -3,3'-difluorobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfonyloxy-3,3'5,5'-tetrafluorobiphenyl, 4,4'-dibromooctafluorobiphenyl, 4,4'-dimethylsulfoni Roxyoctafluorobiphenyl and the like.
[0055]
As the monomer (B) represented by the general formula (B-4), specifically, for example, m-dichlorobenzene, m-dimethylsulfonyloxybenzene, 2,4-dichlorotoluene, 3,5- Dichlorotoluene, 2,6-dichlorotoluene, 3,5-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,6-dimethylsulfonyloxytoluene, 2,4-dichlorobenzotrifluoride, 3,5-dichlorobenzotrifluoride, 1, Examples thereof include 3-dibromo-2,4,5,6-tetrafluorobenzene, and compounds in which a chlorine atom in these compounds is replaced with a bromine atom or an iodine atom.
[0056]
The polyarylene-based polymer preferably used in the present invention is obtained by reacting the above-mentioned monomer (A) and monomer (B) in the presence of a catalyst. The catalyst used is a catalyst system containing a transition metal compound. Examples of the catalyst system include: (1) a transition metal salt and a compound to be a ligand (hereinafter, referred to as a “ligand component”), or a coordination. (2) The essential components are a transition metal complex (including a copper salt) to which a coordinator is coordinated, and (2) the above-mentioned metal zinc, which is a reductive coupling agent, and a “salt” is added to increase the polymerization rate. May be.
[0057]
Here, as the transition metal salt, nickel compounds such as nickel chloride, nickel bromide, nickel iodide, and nickel acetylacetonate; palladium compounds such as palladium chloride, palladium bromide, and palladium iodide; iron chloride, iron bromide And iron compounds such as iron iodide; and cobalt compounds such as cobalt chloride, cobalt bromide and cobalt iodide. Of these, nickel chloride and nickel bromide are particularly preferred.
[0058]
Examples of the ligand component include triphenylphosphine, 2,2′-bipyridine, 1,5-cyclooctadiene, and 1,3-bis (diphenylphosphino) propane. Of these, triphenylphosphine and 2,2′-bipyridine are preferred. The compounds as the ligand components can be used alone or in combination of two or more.
[0059]
Further, examples of the transition metal complex to which a ligand is coordinated include nickel bis (triphenylphosphine) chloride, nickel bis (triphenylphosphine) bromide, nickel bis (triphenylphosphine) iodide, and bis (nickel nitrate) Triphenylphosphine), nickel chloride (2,2'-bipyridine), nickel bromide (2,2'-bipyridine), nickel iodide (2,2'-bipyridine), nickel nitrate (2,2'-bipyridine) , Bis (1,5-cyclooctadiene) nickel, tetrakis (triphenylphosphine) nickel, tetrakis (triphenylphosphite) nickel, tetrakis (triphenylphosphine) palladium and the like. Of these, nickel chloride bis (triphenylphosphine) and nickel chloride (2,2′-bipyridine) are preferred.
[0060]
Examples of the “salt” that can be used in the above catalyst system include sodium compounds such as sodium fluoride, sodium chloride, sodium bromide, sodium iodide, and sodium sulfate, potassium fluoride, potassium chloride, potassium bromide, Potassium compounds such as potassium iodide and potassium sulfate; and ammonium compounds such as tetraethylammonium fluoride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, and tetraethylammonium sulfate. Of these, sodium bromide, sodium iodide, potassium bromide, tetraethylammonium bromide, and tetraethylammonium iodide are preferred.
[0061]
The use ratio of each component is usually 0.0001 to 10 mol, preferably 0.01 to 0.5 mol, of the transition metal salt or the transition metal complex per 1 mol of the total of the above monomers. If the amount is less than 0.0001 mol, the polymerization reaction may not proceed sufficiently, while if it exceeds 10 mol, the molecular weight may decrease.
When a transition metal salt and a ligand component are used in the catalyst system, the usage ratio of the ligand component is usually 0.1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, per 1 mol of the transition metal salt. . If the amount is less than 0.1 mol, the catalytic activity may be insufficient, while if it exceeds 100 mol, the molecular weight may decrease.
[0062]
The proportion of zinc metal to be used is generally 0.1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, per 1 mol of the total of the above monomers. If the amount is less than 0.1 mol, the polymerization may not proceed sufficiently. If the amount exceeds 100 mol, purification of the obtained polymer may be difficult.
Further, when a "salt" is used, the proportion of the salt is usually 0.001 to 100 mol, preferably 0.01 to 1 mol, per 1 mol of the total of the above monomers. If the amount is less than 0.001 mol, the effect of increasing the polymerization rate may be insufficient. If the amount exceeds 100 mol, purification of the obtained polymer may be difficult.
[0063]
Examples of the polymerization solvent that can be used include tetrahydrofuran, cyclohexanone, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, and the like. Of these, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred. These polymerization solvents are preferably used after being sufficiently dried.
[0064]
The total concentration of the above monomers in the polymerization solvent is usually 1 to 90% by weight, preferably 5 to 40% by weight.
Further, the polymerization temperature at the time of polymerization is usually 0 to 200 ° C, preferably 50 to 120 ° C. Further, the polymerization time is usually 0.5 to 100 hours, preferably 1 to 40 hours.
[0065]
In the polymerization of the monomer (A) and the monomer (B), the obtained polymer is treated with a predetermined molecular weight by using a halogen compound at one end (excluding fluorine) such as 4-chlorobenzophenone as a molecular weight regulator. Can be adjusted. Further, in order to adjust the molecular weight and the solution viscosity of the obtained polymer solution, for example, a bifunctional or more functional halogen compound (excluding fluorine) such as 2,4,4′-trichlorobenzophenone can be used.
[0066]
Thus, at least one monomer selected from the group consisting of the monomer (A) represented by the general formula (A) and the compounds represented by the general formulas (B-1) to (B-4) By polymerizing (B), a polyarylene-based copolymer solution is obtained.
The polyarylene-based copolymer having a sulfonic acid group preferably used in the present invention is obtained by sulfonating the polyarylene-based copolymer thus obtained. Sulfonation of the polyarylene-based copolymer can be carried out by introducing a sulfonic acid group into the above-mentioned copolymer having no sulfonic acid group by using a sulfonating agent in a conventional manner.
[0067]
As a method for introducing a sulfonic acid group, for example, a polyarylene-based copolymer having no sulfonic acid group, a known sulfonating agent such as sulfuric anhydride, fuming sulfuric acid, chlorosulfonic acid, sulfuric acid, and sodium hydrogen sulfite. And can be sulfonated under known conditions [Polymer Preprints, Japan, Vol. 42, no. 3, p. 730 (1993); Polymer Preprints, Japan, Vol. 42, no. 3, p. 736 (1994); Polymer Preprints, Japan, Vol. 42, no. 7, pp. 2490-2492 (1993)].
[0068]
That is, as the reaction conditions for the sulfonation, the copolymer having no sulfonic acid group is reacted with the sulfonating agent in the absence or presence of a solvent. Examples of the solvent include hydrocarbon solvents such as n-hexane, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, aprotic polar solvents such as dimethylacetamide, dimethylformamide, and dimethylsulfoxide, as well as tetrachloroethane, dichloroethane, chloroform, and chloride. And halogenated hydrocarbons such as methylene. The reaction temperature is not particularly limited, but is generally -50 to 200C, preferably -10 to 100C. The reaction time is usually 0.5 to 1,000 hours, preferably 1 to 200 hours.
[0069]
When a compound having an alkyl sulfonic acid group is used as the compound (B-1) to (B-4), such a sulfonation step is unnecessary, but the hydrolysis is performed as described below. Thus, a step of converting the sulfonic acid ester group (—SO ₃ R) in the polymer to a sulfonic acid group (—SO ₃ H) is required.
As a method of hydrolysis,
(1) A method in which the above-mentioned polyarylene is put into an excessive amount of water or alcohol containing a small amount of hydrochloric acid and stirred for 5 minutes or more. (2) The above-mentioned polyarylene is heated in trifluoroacetic acid at a temperature of about 80 to 120 ° C. for 5 minutes. (3) A solution containing 1 to 3 moles of lithium bromide per mole of a sulfonic ester group (—SO ₃ R) in polyarylene, for example, a solution of N-methylpyrrolidone or the like And then reacting the polyarylene at a temperature of about 80 to 150 ° C. for about 3 to 10 hours, and then adding hydrochloric acid.
[0070]
The amount of sulfonic acid groups in the sulfonic acid group-containing copolymer thus obtained is 0.5 to 3 milligram equivalents / g, preferably 0.8 to 2.8 milligram equivalents / g. If it is less than 0.5 milligram equivalent / g, proton conductivity does not increase, while if it exceeds 3 milligram equivalent / g, hydrophilicity is improved and it becomes a water-soluble polymer, or it is durable even if it does not become water-soluble. Is reduced.
[0071]
The amount of the sulfonic acid group can be easily adjusted by changing the use ratio, type, and combination of the monomers.
Further, the molecular weight of the precursor polymer before sulfonation of the sulfonic acid group-containing polyarylene copolymer thus obtained is 10,000 to 1,000,000, preferably 20,000 to 80, in terms of polystyrene equivalent weight average molecular weight. It is desirable to be 10,000.
[0072]
In the present invention, an organic polymer film is formed by a solution casting method using the above-described organic polymer. The organic polymer film can be formed by preparing an organic polymer solution in which an organic polymer is dispersed or dissolved in a solvent, casting the solution on a support, and drying it appropriately.
As the solvent at the time of film formation, those similar to the polymerization solvent described later can be mentioned, and a solvent obtained by further mixing water or an alcohol with these polymerization solvents can also be used.
[0073]
The organic polymer solution cast on the support is dried usually by heating at a temperature of 100 to 200 ° C. for about 0.5 to 3 hours to form a film.
Then, the step of immersing the film obtained by film formation in an aqueous solution of an organic compound soluble in water and having a boiling point of 100 ° C. or higher to equilibrium swell, and the step of drying by evaporating water by heat treatment explain.
[0074]
The film obtained by immersing the film in an aqueous solution of an organic compound is preferably preliminarily dried so that the organic polymer film formed by the solution casting method is not completely dried. It is preferable to use a pre-dried film because the film can be equilibrium-swelled in a short time.
The organic compound constituting the aqueous solution of the organic compound used in the present invention is soluble in water and has a boiling point of 100 ° C. or higher. Such an organic compound is soluble in water and has a boiling point of 100 ° C. or higher, preferably 100 to 250 ° C., and is preferably a compound exhibiting weak basicity, and more preferably a compound containing nitrogen. preferable. In addition, such an organic compound may be used as an aqueous solution when immersing the organic polymer film, and may be a liquid or a solid, but when the organic compound is a liquid at room temperature, It is more preferable because it is easy to handle and easily dispersed uniformly in the film.
[0075]
Examples of such organic compounds include N-methylpyrrolidone (NMP; boiling point 202 ° C.), N, N-dimethylformamide (boiling point 153 ° C.), N, N′-dimethylacetamide (boiling point 166 ° C.), 2,6 -Lutidine (boiling point 144 ° C), trimethylpyridine (boiling point 171 ° C), quinoline (boiling point 237 ° C), isoquinoline (boiling point 243 ° C), tetramethylurea (boiling point 175 ° C), dimethylimidazolidinone (boiling point 226 ° C), etc. It can be preferably used. Among these, an organic compound which is liquid at normal temperature, such as N-methylpyrrolidone, can be more preferably used.
[0076]
In particular, when the organic polymer constituting the membrane is a polymer into which sulfonic acid has been introduced, an organic compound exhibiting weak basicity is used, and the organic compound is allowed to remain in the membrane, so that the sulfone under high-temperature conditions is obtained. The decomposition and desorption of the acid can be suppressed, and the thermal stability of the proton conductive membrane can be improved.
The organic polymer film obtained by film formation is pre-dried if necessary, and then immersed in an aqueous solution of the above-mentioned organic compound to replace the organic compound with water by equilibrium swelling. Here, by adjusting the aqueous solution of the organic compound to a desired concentration according to the type of the film and the amount of the organic compound to be contained in the film and using the same, a desired amount of the organic compound is contained in the film in the subsequent drying step. Can be obtained. The composition of the organic compound and water for controlling the amount of the organic compound in the proton conductive membrane can be adjusted by the affinity of the organic compound and water for the organic polymer membrane.
[0077]
The contact ratio between the organic polymer film and the aqueous solution of the organic compound is preferably 10 parts by weight or more of water, more preferably 30 parts by weight or more of water per 1 part by weight of the film. It is desirable that the organic compound be kept homogeneous in the film. In order to suppress the in-plane distribution of the organic compound in the film, it is effective to homogenize the immersion water by stirring or the like.
[0078]
The immersion treatment temperature is desirably in the range of 5 to 80C. The higher the temperature, the faster the time to reach equilibrium, but if the temperature is too high, the swelling ratio will increase, and there is a concern that the surface state of the film obtained after drying will be rough. Usually, a temperature range of 10 to 50 ° C. is more preferable from the viewpoint of swelling ratio and ease of handling.
The immersion time depends on the amount of the organic compound remaining in the initial film, the contact ratio, and the treatment temperature, but is usually in the range of 10 minutes to 240 hours, preferably in the range of 30 minutes to 100 hours.
[0079]
Such an immersion step may be performed by a batch method in which the organic polymer films separated from the support are immersed one by one, or may be cast or coated on the support (for example, a PET plate film or the like). The organic polymer film may be continuously dipped and wound in a continuous mode.
The film in which the organic compound aqueous solution is immersed is dried by evaporating water by heat treatment. The drying step by the heat treatment can be performed according to a conventional method.
[0080]
The dry thickness of the proton conductive membrane obtained by the method of the present invention is usually 10 to 100 μm, preferably 20 to 80 μm.
Such a proton conductive membrane obtained by the present invention contains a desired amount of an organic compound in the membrane and is particularly excellent in thermal stability.
[0081]
【The invention's effect】
According to the present invention, a proton conductive membrane having excellent conductivity and thermal stability and having stable workability can be manufactured by a simple method. The proton conductive membrane obtained by the present invention is a conductive membrane such as an electrolyte for a primary battery, an electrolyte for a secondary battery, a polymer solid electrolyte for a fuel cell, a display element, various sensors, a signal transmission medium, a solid capacitor, and an ion exchange membrane. Can be suitably used.
[0082]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to these examples.
In Examples and Comparative Examples, the amount of organic compound (NMP; N-methylpyrrolidone) in the film and its variation were determined as follows.
Amount and variation of organic compound (NMP) in membrane Proton conductive membrane is dissolved in DMSO-d6, and ¹ H-NMR (DMSO-d6 solution) is integrated and measured 128 times at room temperature. From the ratio of the peak intensity of the polymer constituting the film to the peak intensity of the organic compound (NMP: N-methylpyrrolidone), the weight of NMP in the film per 100 parts by weight of the polymer was determined. The weight of NMP remaining in the film was determined for the 20 films that were simultaneously immersed, and the variation in the amount of NMP in the film was determined from the average value of the NMP amount in the film and the difference between the maximum value and the minimum value. I asked.
[0083]
Embodiment 1
2,5-dichloro-4 '-(4-phenoxyphenoxybenzophenone), 4,4-dichlorobenzophenone and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane The copolymer (number average molecular weight: 50,000) obtained from the 4-chlorobenzoyl terminal oligomer (number average molecular weight: 11,200) obtained from the above was sulfonated to obtain a sulfonated polymer having a sulfonic acid equivalent of 2.08 meq / g.
[0084]
This sulfonated polymer was dissolved in a mixed solvent of NMP and methanol (weight ratio 1/1) to prepare a 15 wt% solution of the sulfonated polymer, which was cast on a PET film, and heated at 150 ° C. By drying in an oven for 1 hour, a film having a thickness of 40 μm was obtained. At this time, the amount of NMP in the film was 14 parts by weight.
Next, 20 A4-sized films were immersed in an NMP aqueous solution in which 150 g of NMP was dissolved in 100 kg of pure water for 1 hour. Thereafter, drying was performed in an oven at 80 ° C. to obtain a proton conductive membrane. The amount of NMP in the film was 2 parts by weight, and the variation was as small as 0.1 part by weight.
[0085]
Embodiment 2
A proton conductive membrane was obtained in the same manner as in Example 1 except that the immersion time was changed to 4 hours.
[0086]
Embodiment 3
A proton conducting membrane was obtained in the same manner as in Example 1 except that a solution in which 1000 g of NMP was dissolved in 100 kg of pure water was used as the NMP aqueous solution.
[0087]
Embodiment 4
A proton conductive membrane was obtained in the same manner as in Example 3, except that the immersion time was changed to 4 hours.
[0088]
Embodiment 5
The same sulfonated polymer as used in Example 1 was dissolved in a mixed solvent of NMP and methanol (weight ratio: 1/1) to prepare a 15 wt% solution of the sulfonated polymer, which was flowed on a PET film. This was extended and dried in an oven at 150 ° C. for 1 hour to obtain a film having a thickness of 40 μm. At this time, the amount of NMP in the film was 14 parts by weight.
[0089]
Next, 20 sheets of A4 size film were immersed in 100 kg of pure water for 1 hour and dried in an oven at 80 ° C. At this time, the average value of the amount of NMP in the film was 20 parts by weight.
Next, these 20 membranes were immersed in an NMP aqueous solution in which 1000 g of NMP was dissolved in 100 kg of pure water for 1 hour, and dried in an oven at 80 ° C. to obtain a proton conductive membrane. The amount of NMP in the film was 6 parts by weight, and the variation was as small as 0.1 part by weight.
[0090]
[Comparative Example 1]
15 wt% of EF314 was dissolved in a mixed solvent of NMP and methanol (weight ratio 1/1), cast on a PET film, and dried in an oven at 150 ° C. for 1 hour to obtain a film having a thickness of 40 μm. At this time, the amount of NMP in the film was 14 parts by weight.
[0091]
Next, 20 sheets of A4 size film were immersed in 100 kg of pure water for 0.05 hours, and then dried in an oven at 80 ° C. to obtain a film. The variation in the amount of NMP in the film was extremely large at 2.6 parts by weight.
[0092]
[Comparative Example 2]
A proton conductive membrane was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the immersion time was changed to 1 hour. The variation in the amount of NMP in the film was as large as 0.4 parts by weight.
[0093]
[Table 1]

Claims (6)

A step of forming an organic polymer film by a solution casting method,
The film obtained by forming a film is immersed in an aqueous solution of an organic compound having a boiling point of 100 ° C. or higher, which is soluble in water, and has a step of equilibrium swelling and a step of drying by evaporating water by heat treatment. A method for producing a proton conducting membrane, comprising: The method for producing a proton conductive membrane according to claim 1, wherein the organic polymer is a polymer into which sulfonic acid has been introduced. 3. The method according to claim 1, wherein the organic polymer is a polyarylene-based copolymer having a sulfonic acid group. The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the organic compound is a compound containing nitrogen. The method for producing a proton conductive membrane according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the organic compound in the proton conductive membrane is 5% by weight or less. The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the organic compound is liquid at normal temperature.