【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス素子に関し、陽極、陰極間の絶縁不良を抑制した有機エレクトロルミネセンス素子に関する。
【０００２】
【従来技術】
有機エレクトロルミネセンス素子（以下有機ＥＬ素子と略す）は、自己発光性を有するため液晶とバックライトを組合せた、いわゆるＬＣＤモジュールに比較して薄く、広視野角、応答スピードが早いなどの優位性のある表示装置を構成可能である。そのため、ここ数年種々の有機ＥＬ素子が提案され実用化が急速に進んでいる。特に表示装置への実用化は著しく、複数の有機ＥＬ素子を同一平面上に二次元的に複数配列することで有機ＥＬパネルを構成（例えばＸ−Ｙマトリックス型）し、これらの素子を独立に駆動させる表示装置が市場に出てきている。今後は携帯電話をはじめとする携帯端末機器への搭載が期待される。
【０００３】
有機ＥＬ素子は基板上に第１電極としての陽極、発光層を含む有機層、第２電極としての陰極を順次積層した構成を有し、それぞれ陰極から電子を、陽極から正孔を注入する。印加した電場によって電子と正孔は薄膜中を移動し、有機発光材料を含む発光層内で再結合する。それにより生成した励起子の一部は熱失活し、一部は失活する際に発光する。有機ＥＬ素子は、励起子が失活する際の光の放射現象を利用したものである。
【０００４】
陽極と発光層の間に正孔注入層および正孔輸送層、陰極と発光層の間に電子輸送層および電子注入層を設ける場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記のような構成をもつ有機ＥＬ素子において、電極を、基板上に複数本の帯状の陽極をストライプ状に配列し、その上に有機層を積層し、陽極と直交するように帯状の陰極を複数本ストライプ状に配置した構造とすれば、有機ＥＬパネルを構成することができる。このような有機ＥＬパネルにおいては、高密度の画素を有する高精細表示装置作成を目標とした場合、陽極の幅を小さくする必要がでてくる。しかし、幅を小さくした場合、陽極の電気抵抗が増加し、電圧降下が増加してしまう。結果として、輝度ムラがおこりやすくなる。
【０００６】
そこで、電気抵抗を小さくするため陽極の膜厚を厚くすると、陽極のアスペクト比が増加してしまい、基板と陽極との段差が大きくなり、陽極を覆うように有機層を積層した場合に陽極のエッジ部での有機層の膜厚が薄くなりがちである。
【０００７】
特に、陽極に比べて有機層の膜厚が薄い場合、陽極のエッジ部で有機層の厚みが薄くなるため、電極間に電圧を印加した際、エッジ部に電流が集中して流れ、リークしたり、陽極と陰極がショートすることもある。また、陽極を形成する際には陽極上にスパイクができてしまうこともあり、これも同様にリークやショートを引き起こす原因になる。
【０００８】
陽極と陰極との間の絶縁不良の問題を解決する方法としては、陽極の表面粗さの最大高さをポリシング、ラッピング、テープラッピング等の手法によって、５ｎｍ以下にする方法（特開平０９−２４５９６５号公報参照）があるが、研磨にコストがかかる上に再現良く表面を研磨するのは非常に困難である。また、発光層または電子輸送層の少なくとも一方が、隣接する画素間で隙間なく形成する方法（特開平１１−２１４１５７号公報参照）、ガラス基板と陽極との間に絶縁膜を設ける方法（特開２０００−０２１５６３号公報参照）、陽極と有機ＥＬ層の間に絶縁膜を形成する方法（特開平１１−２２４７８１号公報参照）、有機層を含有するホール注入輸送性材料のガラス転移温度Ｔｇ以上で加熱処理する方法（特開２００１−０６８２７２号公報参照）があるが、基板上、または陽極上のゴミ、または陽極上のスパイクがある場合には有効であるが、ＩＴＯ（陽極）のエッジ部における絶縁不良抑制の効果は低い。また、ストライプ状に設けられたＩＴＯ（陽極）間の谷間に絶縁膜を設ければ段差が小さくなり有機層の薄部を少なくすることができるが、絶縁膜を設ける等の工程が増えることになる。また、陽極をテーパー状にすることによりエッジ部での有機層の厚みは厚くなるが、高精度のエッチングは困難である。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、第１電極を微細に形成し、これに伴い第１電極の電気抵抗を小さくするために第１電極を厚く形成しても、絶縁不良が起こりにくい有機ＥＬ素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための第１の発明は、
基材上に、第１電極と、発光層を含む有機層と、第２電極とがこの順に少なくとも積層されている有機エレクトロルミネセンス素子であって、
前記有機層は前記第１電極を覆って配置されており、
前記第１電極の横部における前記第２電極の底部界面の前記基材からの高さが、前記第１電極の頂部界面の前記基材からの高さよりも高い事を特徴とする有機エレクトロルミネセンス素子である。
【００１１】
本発明は、上記第１の発明において、
「前記第１電極の横部における前記第２電極の底部界面と前記第１電極の頂部界面との基材からの高さの差が２０ｎｍ以上であること」、
「前記第１電極は、２００ｎｍ以上の厚さを有していること」、
をその好ましい態様として含むものである。
上記課題を解決するための第２の発明は、
上記第１の発明の有機エレクトロルミネセンス素子が複数配列されていることを特徴とする有機エレクトロルミネセンスパネルである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の有機ＥＬ素子の一実施形態の断面模式図である。ガラス基板１（基材）上に、陽極２（第１電極）と、発光層を含む有機層３と、陰極４（第２電極）とがこの順に少なくとも積層されていて、有機層３は陽極２を覆って配置されており、陽極２の横部における陰極４の底部界面のガラス基板１からの高さＨ２が、陽極２の頂部界面の高さＨ１よりも高くなっている。
【００１３】
第１電極の頂部界面とは、第１電極と有機層との界面のうち基材から最も離れた頂部の界面を指しており、図１のように第１電極（陽極２）が断面略矩形状に形成されている場合には、第１電極の上面とも言える。
【００１４】
第２電極の底部界面とは、第２電極と有機層との界面のうち基板に最も近い底部の界面を指しており、図１のように第１電極（陽極２）の横部Ｌｓにおいて第２電極（陰極４）の下面がほぼ平坦である場合には、第１電極の横部における第２電極の下面とも言える。
【００１５】
なお、第１電極の横部とは、基材上の第１電極が形成されている領域に隣接する近傍領域を指し、第１電極が存在しないため有機層と第２電極とが基材の方向に落ち込んでいる領域である。
【００１６】
このような本発明の構成によれば、有機層の最薄部の膜厚を厚くとることができ、絶縁不良によるリークやショートの問題を抑制可能となる。尚、好ましくは、第１電極の横部Ｌｓにおける第２電極の底部界面と第１電極の頂部界面との基材からの高さの差（Ｈ２−Ｈ１）が２０ｎｍ以上であることである。
【００１７】
また、微細な発光点を得るために電極を微細化すると抵抗値が増加するため、その対策としての低抵抗化のために第１電極が２００ｎｍ以上の厚さを有していることが好ましい。このような厚い第１電極を基材上に形成し、これを覆うように有機層を設けると、上記発明が解決しようとする課題において説明したようにショート等の問題が生じやすくなるが、本発明の構成によりこれを抑制することが可能であり、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルの高精細化にも役立つこととなる。
【００１８】
特に本発明においては、第１電極をこのように２００ｎｍ以上で厚く形成しても、簡単な工程のみで絶縁不良を抑制することができ、製造コストの低減にも効果がある。
【００１９】
本発明の有機ＥＬ素子の具体的な製造方法の例としては、基材としての支持基板上にスパッタリングなどで第１電極を形成し、その上に有機層を蒸着積層し、さらにその上から第２電極を蒸着積層すれば良い。
【００２０】
本発明の有機ＥＬパネルの具体的な製造方法の例としては、基材としての支持基板上にスパッタリングなどで複数本の帯状の第１電極をストライプ状に配列し、その上に有機層を蒸着積層し、第１電極と直交するように帯状の第２電極を複数本ストライプ状に蒸着積層すれば良い。
【００２１】
図１に示す形態において第１電極に対応する陽極には、ＩＴＯ、ＣｕＩ、酸化錫、酸化インジウム、亜鉛酸化物、クロム、アルミニウム、銀などが使用可能である。
【００２２】
また、発光層に使用可能な材料としては、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体、キノリノール、キノリン誘導体、ビススチルアントラセン誘導体、クマリン誘導体、ペリノン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、オキサジアゾール誘導体、フタルイミド誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピリジン誘導体、スチリルアミン誘導体、アルダジン誘導体、ナフタルイミド誘導体、などがある。
【００２３】
図１に示す形態において第２電極に対応する陰極としては、アルミニウム、錫、インジウム、鉛、マグネシウム、銀、銅、モリブデン、ニッケル、タングステン、またはこれら金属の合金が使用可能である。
【００２４】
さらに、陽極と発光層との間に正孔注入層および正孔輸送層、陰極と有機層との間に電子輸送層および電子注入層を設けても良い。
【００２５】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の例のみに限定されるものではない。
【００２６】
（実施例１）
本例においては、図１に示す形態の本発明の有機ＥＬ素子を作成した。
【００２７】
まず、ガラス基板１上に、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）からなる陽極２を、真空蒸着法により、帯状の孔の穿たれたマスクを用いて、幅０．４ｍｍ、膜厚２００ｎｍで成膜した。そして、これをアセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で順次超音波洗浄し、ＩＰＡで煮沸洗浄、乾燥をし、さらに、紫外線（ＵＶ）／オゾン洗浄した。
【００２８】
次に、正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル−４、４’−ジアミノ−１、１’−ビフェニル（以下ＴＰＤ）を８０ｎｍだけ、陽極２を覆うように、真空蒸着法により成膜した。
【００２９】
次に、ＴＰＤ膜の上に発光層兼電子輸送層としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を１８０ｎｍだけ、真空蒸着法により成膜した。こうして正孔輸送層と発光層を合わせたものを有機層３とした。有機層の蒸着時の真空度は４．０×１０−４Ｐａ、成膜速度は０．３ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【００３０】
その後、さらに陽極２と直交するようにして、陽極２の形成時と同様のマスクを用いて、アルミニウム−リチウム合金（リチウム濃度１原子％）からなる蒸着材料を、有機層の上に真空蒸着法により幅０．２５ｍｍ、厚さ１０ｎｍで成膜し、更に同じマスクを用いて真空蒸着法により幅０．２５ｍｍ、厚さ６５０ｎｍのアルミニウム膜を設け、アルミニウム−リチウム合金膜を電子注入電極（陰極４）とする有機ＥＬ素子を作成した。この陰極４の蒸着時の真空度は４．０×１０−４Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００３１】
その後、不活性雰囲気中で乾燥剤５を備えた封止キャップ６（不図示）とガラス基板１を接着剤によって固定した。このような方法で作成した有機ＥＬ素子に１５Ｖの電圧をかけて素子を観察した結果、ＩＴＯエッジ部もきれいに発光し、また絶縁不良による輝度ムラはみられなかった。
【００３２】
また、ＩＴＯ（第１電極）上の有機層の断面の膜厚を測定した結果、最薄部（図１におけるＨ２−Ｈ１）で５０ｎｍであり、２０ｎｍ以上であった。
【００３３】
（比較例１）
正孔輸送層の膜厚を２０ｎｍ、発光層の膜厚を６０ｎｍとした以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作成した。
【００３４】
こうして作成した有機ＥＬ素子に１５Ｖの電圧をかけて素子を観察した結果、エッジ部に非発光な部分があり絶縁不良による輝度ムラがみられた。
【００３５】
また、ＩＴＯ（第１電極）上の有機層断面の膜厚を測定した結果、最薄部（図１におけるＨ２−Ｈ１）で１５ｎｍであり、２０ｎｍ以下であった。
【００３６】
（実施例２）
本例においては、図２に示す形態の本発明の有機ＥＬパネルを作成した。
【００３７】
まず、ガラス基板１上に、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）からなる陽極２を、真空蒸着法により、ストライプ状に孔の穿たれたマスクを用いて、幅０．４ｍｍ、間隔０．１ｍｍ、膜厚２００ｎｍで成膜した。
【００３８】
有機層３については実施例１と同様に形成した。
【００３９】
その後、さらに陽極２と直交するようにして、陽極２の形成時と同様のマスクを用いて、アルミニウム−リチウム合金（リチウム濃度１原子％）からなる蒸着材料を、有機層の上に真空蒸着法により幅０．２５ｍｍ、間隔０．２５ｍｍ、厚さ１０ｎｍで成膜し、更に同じマスクを用いて真空蒸着法により幅０．２５ｍｍ、間隔０．２５ｍｍ、厚さ６５０ｎｍのアルミニウム膜を設け、アルミニウム−リチウム合金膜を電子注入電極（陰極４）とする有機ＥＬ素子を作成した。この陰極４の蒸着時の真空度は４．０×１０−４Ｐａ、成膜速度は１．０〜１．２ｎｍ／ｓｅｃの条件で成膜した。
【００４０】
その後、不活性雰囲気中で乾燥剤５を備えた封止キャップ６とガラス基板１を接着剤によって固定した。このような方法で作成した有機ＥＬパネルに１５Ｖの電圧をかけて素子を観察した結果、ＩＴＯエッジ部もきれいに発光し、また絶縁不良による輝度ムラはみられなかった。
【００４１】
また、ＩＴＯ（第１電極）上の有機層の断面の膜厚を測定した結果、最薄部（図２におけるＨ２−Ｈ１）で５０ｎｍであり、２０ｎｍ以上であった。
【００４２】
（比較例２）
本例においては、図３に示す形態の有機ＥＬパネルを作成した。
【００４３】
正孔輸送層の膜厚を２０ｎｍ、発光層の膜厚を６０ｎｍとした以外は実施例２と同様にして有機ＥＬパネルを作成した。
【００４４】
こうして作成した有機ＥＬパネルに１５Ｖの電圧をかけて素子を観察した結果、エッジ部に非発光な部分があり絶縁不良による非発光なラインがみられた。
【００４５】
また、ＩＴＯ（第１電極）上の有機層断面の膜厚を測定した結果、最薄部（図２におけるＨ２−Ｈ１）で−１５ｎｍであり、陰極４の底部界面が陽極２の頂部界面よりもガラス基板１の近くに落ち込んでおり、図３におけるＨ２−Ｈ１は負であって＋２０ｎｍ以下であった。
【００４６】
【発明の効果】
本発明によれば、少なくとも第１電極、有機層、第２電極を順次積層した有機ＥＬ素子において、第１電極の厚みを２００ｎｍ以上としても、有機層の薄い第１電極エッジ部での絶縁不良による輝度ムラを抑制でき、安定した有機ＥＬ素子を提供することができる。
【００４７】
また、これにより有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネルの高精細化も安価に可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の一実施形態の断面模式図である。
【図２】本発明の有機ＥＬパネルの一実施形態の断面模式図である。
【図３】比較例２の有機ＥＬパネルの断面模式図である。
【符号の説明】
１ ガラス基板（基材）
２ 陽極（第１電極）
３ 有機層
４ 陰極（第２電極）
５ 乾燥剤
６ 封止キャップ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an organic electroluminescent device, and more particularly to an organic electroluminescent device in which insulation failure between an anode and a cathode is suppressed.
[0002]
[Prior art]
Organic electroluminescent elements (hereinafter abbreviated as organic EL elements) are self-luminous and have advantages such as thinner, wider viewing angle and faster response speed compared to so-called LCD modules that combine liquid crystal and backlight. It is possible to configure a display device having the following. For this reason, various organic EL elements have been proposed in recent years, and their practical use has been rapidly progressing. In particular, practical application to a display device is remarkable, and an organic EL panel is configured (for example, an XY matrix type) by arranging a plurality of organic EL elements two-dimensionally on the same plane. Display devices to be driven are on the market. It is expected to be installed in portable terminal devices such as mobile phones in the future.
[0003]
The organic EL element has a configuration in which an anode as a first electrode, an organic layer including a light emitting layer, and a cathode as a second electrode are sequentially stacked on a substrate, and electrons are injected from the cathode and holes are injected from the anode. The electrons and holes move in the thin film by the applied electric field, and recombine in the light emitting layer containing the organic light emitting material. Some of the excitons generated thereby are thermally deactivated, and some emit light when deactivated. The organic EL element utilizes the phenomenon of light emission when excitons are deactivated.
[0004]
In some cases, a hole injection layer and a hole transport layer are provided between the anode and the light emitting layer, and an electron transport layer and an electron injection layer are provided between the cathode and the light emitting layer.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
In the organic EL device having the above-described configuration, the electrodes are arranged on a substrate by arranging a plurality of strip-shaped anodes in a stripe pattern, an organic layer is stacked thereon, and a strip-shaped cathode is arranged so as to be orthogonal to the anode. With a structure in which a plurality of stripes are arranged, an organic EL panel can be formed. In such an organic EL panel, it is necessary to reduce the width of the anode in order to produce a high-definition display device having high-density pixels. However, when the width is reduced, the electric resistance of the anode increases, and the voltage drop increases. As a result, uneven brightness tends to occur.
[0006]
Therefore, when the thickness of the anode is increased to reduce the electric resistance, the aspect ratio of the anode is increased, the step between the substrate and the anode is increased, and when the organic layer is laminated so as to cover the anode, the anode has a large thickness. The thickness of the organic layer at the edge tends to be thin.
[0007]
In particular, when the thickness of the organic layer is thinner than that of the anode, the thickness of the organic layer becomes thinner at the edge of the anode. In some cases, the anode and the cathode may be short-circuited. Further, when forming the anode, spikes may be formed on the anode, which also causes a leak or a short circuit.
[0008]
As a method of solving the problem of poor insulation between the anode and the cathode, a method of reducing the maximum surface roughness of the anode to 5 nm or less by a technique such as polishing, lapping, or tape lapping (Japanese Patent Laid-Open No. 09-245965). However, polishing is costly and it is very difficult to polish the surface with good reproducibility. Further, a method in which at least one of the light emitting layer and the electron transport layer is formed without gaps between adjacent pixels (see JP-A-11-214157), and a method in which an insulating film is provided between a glass substrate and an anode ( Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-021563), a method of forming an insulating film between an anode and an organic EL layer (see Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-224781), a method in which a hole injection transport material containing an organic layer has a glass transition temperature Tg or higher. A method of performing a heat treatment (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-068272) is effective when there is dust on the substrate or the anode, or when there is a spike on the anode. The effect of suppressing insulation failure is low. In addition, if an insulating film is provided between valleys between ITOs (anodes) provided in a stripe shape, a step is reduced and a thin portion of an organic layer can be reduced, but the number of steps for providing an insulating film or the like increases. Become. Further, by making the anode tapered, the thickness of the organic layer at the edge portion is increased, but etching with high precision is difficult.
[0009]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems. Even if the first electrode is finely formed and the first electrode is formed thick to reduce the electric resistance of the first electrode, insulation failure occurs. An object of the present invention is to provide an organic EL element which is difficult to obtain.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
A first invention for solving the above problems is
An organic electroluminescent device in which a first electrode, an organic layer including a light-emitting layer, and a second electrode are at least stacked in this order on a base material,
The organic layer is disposed over the first electrode,
The height of the bottom interface of the second electrode in the lateral portion of the first electrode from the base material is higher than the height of the top interface of the first electrode from the base material. It is a sense element.
[0011]
The present invention provides, in the above first invention,
“The difference in height from the base material between the bottom interface of the second electrode and the top interface of the first electrode in the lateral portion of the first electrode is 20 nm or more”;
"The first electrode has a thickness of 200 nm or more",
Is included as a preferable embodiment.
A second invention for solving the above-mentioned problems is:
An organic electroluminescence panel, wherein a plurality of the organic electroluminescence elements of the first invention are arranged.
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of the organic EL device of the present invention. An anode 2 (first electrode), an organic layer 3 including a light-emitting layer, and a cathode 4 (second electrode) are at least laminated in this order on a glass substrate 1 (base material). 2, the height H 2 of the bottom interface of the cathode 4 from the glass substrate 1 at the side of the anode 2 is higher than the height H 1 of the top interface of the anode 2.
[0013]
The top interface of the first electrode refers to the top interface farthest from the substrate among the interfaces between the first electrode and the organic layer, and the first electrode (anode 2) has a substantially rectangular cross section as shown in FIG. When it is formed in a shape, it can be said that it is the upper surface of the first electrode.
[0014]
The bottom interface of the second electrode refers to the bottom interface closest to the substrate among the interface between the second electrode and the organic layer. As shown in FIG. 1, the bottom interface at the lateral portion Ls of the first electrode (anode 2). When the lower surface of the two electrodes (cathode 4) is substantially flat, it can be said that it is the lower surface of the second electrode at the side of the first electrode.
[0015]
Note that the lateral portion of the first electrode refers to a nearby region on the base material adjacent to the region where the first electrode is formed, and since the first electrode does not exist, the organic layer and the second electrode are separated from the base material. It is an area that is depressed in the direction.
[0016]
According to the configuration of the present invention, the thickness of the thinnest portion of the organic layer can be increased, and the problem of leakage or short circuit due to insulation failure can be suppressed. Preferably, the height difference (H 2 −H 1 ) between the bottom interface of the second electrode and the top interface of the first electrode in the lateral portion Ls of the first electrode from the base material is 20 nm or more. is there.
[0017]
Further, when the electrode is miniaturized in order to obtain a fine emission point, the resistance value increases. Therefore, it is preferable that the first electrode has a thickness of 200 nm or more to reduce the resistance as a countermeasure. If such a thick first electrode is formed on a base material and an organic layer is provided so as to cover the first electrode, a problem such as a short circuit easily occurs as described in the problem to be solved by the present invention. This can be suppressed by the configuration of the present invention, which also contributes to higher definition of an organic EL panel using an organic EL element.
[0018]
In particular, in the present invention, even if the first electrode is formed to a thickness of 200 nm or more, insulation failure can be suppressed only by a simple process, and the manufacturing cost can be reduced.
[0019]
As an example of a specific method for manufacturing the organic EL device of the present invention, a first electrode is formed on a supporting substrate as a base material by sputtering or the like, an organic layer is deposited and laminated thereon, and What is necessary is just to deposit and laminate two electrodes.
[0020]
As an example of a specific method for manufacturing the organic EL panel of the present invention, a plurality of strip-shaped first electrodes are arranged in a stripe shape by sputtering or the like on a supporting substrate as a base material, and an organic layer is deposited thereon. What is necessary is just to laminate | stack and vapor-deposit and laminate | stack two or more strip-shaped 2nd electrodes so that it may be orthogonal to a 1st electrode.
[0021]
In the embodiment shown in FIG. 1, for the anode corresponding to the first electrode, ITO, CuI, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, chromium, aluminum, silver, or the like can be used.
[0022]
Materials usable for the light emitting layer include tris (8-quinolinolato) aluminum complex, quinolinol, quinoline derivative, bisstylanthracene derivative, coumarin derivative, perinone derivative, tetraphenylbutadiene derivative, oxadiazole derivative, phthalimide derivative, Examples include an aldazine derivative, a pyrazirine derivative, a cyclopentadiene derivative, a pyrrolopyridine derivative, a styrylamine derivative, an aldazine derivative, and a naphthalimide derivative.
[0023]
In the embodiment shown in FIG. 1, as the cathode corresponding to the second electrode, aluminum, tin, indium, lead, magnesium, silver, copper, molybdenum, nickel, tungsten, or an alloy of these metals can be used.
[0024]
Further, a hole injection layer and a hole transport layer may be provided between the anode and the light emitting layer, and an electron transport layer and an electron injection layer may be provided between the cathode and the organic layer.
[0025]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to only the following Examples.
[0026]
(Example 1)
In this example, an organic EL device of the present invention having the form shown in FIG. 1 was prepared.
[0027]
First, an anode 2 made of indium tin oxide (ITO) was formed on a glass substrate 1 by a vacuum evaporation method with a width of 0.4 mm and a thickness of 200 nm using a mask with a band-shaped hole. Then, this was ultrasonically washed with acetone and isopropyl alcohol (IPA) sequentially, washed with boiling IPA, dried, and further washed with ultraviolet (UV) / ozone.
[0028]
Next, N, N′-diphenyl-N, N′-m-tolyl-4,4′-diamino-1,1′-biphenyl (hereinafter referred to as TPD) as a hole transport material covers the anode 2 by 80 nm. As described above, a film was formed by a vacuum evaporation method.
[0029]
Next, tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) was deposited as a light emitting layer and an electron transporting layer on the TPD film to a thickness of 180 nm by a vacuum evaporation method. Thus, the combination of the hole transport layer and the light emitting layer was referred to as an organic layer 3. The degree of vacuum at the time of vapor deposition of the organic layer was 4.0 × 10 −4 Pa, and the film formation rate was 0.3 nm / sec.
[0030]
Thereafter, a vapor deposition material made of an aluminum-lithium alloy (lithium concentration: 1 atomic%) is further deposited on the organic layer by a vacuum vapor deposition method so as to be orthogonal to the anode 2 and using the same mask as that used for forming the anode 2. Is formed to a width of 0.25 mm and a thickness of 10 nm, and an aluminum film having a width of 0.25 mm and a thickness of 650 nm is provided by the vacuum evaporation method using the same mask, and an aluminum-lithium alloy film is formed on the electron injection electrode (cathode 4). ) Was prepared. A film was formed under the conditions that the degree of vacuum at the time of deposition of the cathode 4 was 4.0 × 10 −4 Pa and the film formation speed was 1.0 to 1.2 nm / sec.
[0031]
After that, the sealing cap 6 (not shown) provided with the desiccant 5 and the glass substrate 1 were fixed with an adhesive in an inert atmosphere. As a result of applying a voltage of 15 V to the organic EL device prepared by such a method and observing the device, it was found that the ITO edge portion also emitted light clearly, and that there was no luminance unevenness due to insulation failure.
[0032]
Further, as a result of measuring the thickness of the cross section of the organic layer on the ITO (first electrode), the thinnest portion (H 2 -H 1 in FIG. 1 ) was 50 nm, and was 20 nm or more.
[0033]
(Comparative Example 1)
An organic EL device was prepared in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the hole transport layer was 20 nm and the thickness of the light emitting layer was 60 nm.
[0034]
As a result of applying a voltage of 15 V to the organic EL device thus fabricated and observing the device, a non-light emitting portion was found at the edge portion, and luminance unevenness due to insulation failure was observed.
[0035]
Further, as a result of measuring the film thickness of the cross section of the organic layer on the ITO (first electrode), the thinnest portion (H 2 -H 1 in FIG. 1 ) was 15 nm and was 20 nm or less.
[0036]
(Example 2)
In this example, an organic EL panel of the present invention having the form shown in FIG. 2 was prepared.
[0037]
First, an anode 2 made of indium tin oxide (ITO) was formed on a glass substrate 1 by a vacuum deposition method using a mask having holes formed in a stripe shape with a width of 0.4 mm, an interval of 0.1 mm, and a film thickness. A film was formed at 200 nm.
[0038]
The organic layer 3 was formed in the same manner as in Example 1.
[0039]
Thereafter, a vapor deposition material made of an aluminum-lithium alloy (lithium concentration: 1 atomic%) is further deposited on the organic layer by a vacuum vapor deposition method so as to be orthogonal to the anode 2 and using the same mask as that used for forming the anode 2. A film having a width of 0.25 mm, an interval of 0.25 mm, and a thickness of 10 nm, and further using the same mask, an aluminum film having a width of 0.25 mm, an interval of 0.25 mm, and a thickness of 650 nm is provided by a vacuum evaporation method. An organic EL device using a lithium alloy film as an electron injection electrode (cathode 4) was prepared. A film was formed under the conditions that the degree of vacuum at the time of deposition of the cathode 4 was 4.0 × 10 −4 Pa and the film formation speed was 1.0 to 1.2 nm / sec.
[0040]
Thereafter, the sealing cap 6 provided with the desiccant 5 and the glass substrate 1 were fixed in an inert atmosphere with an adhesive. As a result of applying a voltage of 15 V to the organic EL panel produced by such a method and observing the element, it was found that the ITO edge portion also emitted light clearly, and no luminance unevenness due to insulation failure was observed.
[0041]
Further, as a result of measuring the thickness of the cross section of the organic layer on the ITO (first electrode), it was 50 nm at the thinnest part (H 2 -H 1 in FIG. 2), and was 20 nm or more.
[0042]
(Comparative Example 2)
In this example, an organic EL panel having the form shown in FIG. 3 was prepared.
[0043]
An organic EL panel was prepared in the same manner as in Example 2, except that the thickness of the hole transport layer was 20 nm and the thickness of the light emitting layer was 60 nm.
[0044]
As a result of applying a voltage of 15 V to the organic EL panel and observing the device, a non-light-emitting portion was found at an edge portion, and a non-light-emitting line due to poor insulation was observed.
[0045]
In addition, as a result of measuring the film thickness of the cross section of the organic layer on the ITO (first electrode), the thinnest part (H 2 -H 1 in FIG. 2) was −15 nm, and the bottom interface of the cathode 4 was at the top of the anode 2. It fell closer to the glass substrate 1 than the interface, and H 2 −H 1 in FIG. 3 was negative and was +20 nm or less.
[0046]
【The invention's effect】
According to the present invention, in an organic EL device in which at least a first electrode, an organic layer, and a second electrode are sequentially laminated, even if the thickness of the first electrode is 200 nm or more, poor insulation at the first electrode edge portion where the organic layer is thin is provided. Can suppress the unevenness of the luminance due to the above, and can provide a stable organic EL element.
[0047]
This also makes it possible to inexpensively increase the definition of an organic EL panel using an organic EL element.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view of an embodiment of the organic EL device of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view of an embodiment of the organic EL panel of the present invention.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an organic EL panel of Comparative Example 2.
[Explanation of symbols]
1 Glass substrate (base material)
2 Anode (first electrode)
3 Organic layer 4 Cathode (second electrode)
5 desiccant 6 sealing cap