[go: up one dir, main page]

JP2004063877A - ウェハの位置決め修正方法 - Google Patents

ウェハの位置決め修正方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004063877A
JP2004063877A JP2002221369A JP2002221369A JP2004063877A JP 2004063877 A JP2004063877 A JP 2004063877A JP 2002221369 A JP2002221369 A JP 2002221369A JP 2002221369 A JP2002221369 A JP 2002221369A JP 2004063877 A JP2004063877 A JP 2004063877A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pad
wafer
stylus
probe
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002221369A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadafumi Tamakoshi
玉越 貞文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2002221369A priority Critical patent/JP2004063877A/ja
Publication of JP2004063877A publication Critical patent/JP2004063877A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

【課題】半導体デバイスの電極パッド上の触針の針跡を観察することによって、電極パッドと触針との位置合わせの修正を図るウェハの位置合わせ修正方法を提供する。
【解決手段】プローブ装置1におけるウェハ10の電極パッド10aとプローブカード4の触針4aとの位置ずれを修正する方法において、電極パッド上に付けられた触針の針跡をカラーカメラ8によって観察し、この針跡が電極パッド上の適正な位置に付けられているかどうかを判断して、その針跡の位置が適正な位置からずれている場合にその位置ずれを修正するようにしたものである。
【選択図】   図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ウェハ上に形成された多数の半導体デバイスの電気的特性を測定するためのプローブ装置における半導体デバイスの電極パッドとテスタに接続される触針との位置合わせの修正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ウェハの表面には同一の電気素子回路が形成された多数の半導体デバイスが形成されており、この電気素子回路を個々の半導体デバイス(チップ)として切断する前に、各電気素子回路の電気的特性を検査するために、プローブ装置によってその良・不良を判定している。このプローブ装置は、一般にウェハの各半導体デバイスに対応する触針を有し、テスタに接続されたプローブカードと、ウェハの各半導体デバイスとを順次対応させて、半導体デバイスの電極パッドに触針を接触させるようにして、電気的な測定を行うように構成されている。
【0003】
ところで正確な電気的測定を行うためには、プローブカードの触針を半導体デバイスの電極パッドが確実に接触させなければならず、このためウェハを載置したステージを高精度に制御すると共に、測定前に触針に対して電極パッドを正確に位置合わせ(アライメント)することが必要である。そのため、従来のプローブ装置では、プローブカードの触針に半導体デバイスの電極パッドを接触させて電気的な特性検査を行うプロービング領域と、触針をもつプローブカードが着脱自在に固定されるテストヘッドから離れた位置に、CCDカメラを備えた撮像手段(アライメント装置)を配置し、この撮像手段の下方側のウェハの位置合わせを行うアライメント(位置合わせ)領域とが、平面的に一定の距離に配置されている。したがって、ウェハが供給されたステージのチャック部が、まず最初にこのアライメント領域に移動してウェハが位置決めされ、次にこの位置決めされたウェハが、ステージの移動により触針の真下のプロービング領域に運ばれ、電気的な測定が行われる。このためステージを移動させる移動機構等の機械的誤差が上記移動量に含まれるため、不正確な位置決めになるという問題があった。
【0004】
一方、撮像手段(アライメント装置)に使用されるカメラは、高精度な位置決めを行う必要上、分解能が高いモノクロカメラを使用している。しかしながら、このモノクロカメラでは、半導体デバイスの電極パッドが金バンプ、半田バンプ、アルミバンプ等である場合には、電極パッドと触針との接触跡であるパッド上の針跡が見えないという不都合があった。そのため、アライメントを終了したウェハをプロービング領域に移動して、ウェハ上の第1番目の半導体デバイスのプロービングを行った後に、触針が半導体デバイスの電極パッド上の正しい位置に接触しているかどうかを、針跡によって検査しようとしても、モノクロカメラでは針跡が観察できず、触針と電極パッドの接触位置の修正を図ることが難しいという問題があった。また、従来においては、針跡が見えないため、複数回触針と電極パッドとを接触させて、針跡を深くして見えるようにして確認していたため、半導体デバイスにダメージを与え、不良品となる確率が高かった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、半導体デバイスの電極パッド上の触針の針跡を観察することによって、ウェハとプローブカードの触針との位置合わせの修正を図ることができるウェハの位置合わせ修正方法を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記課題を解決するための手段として、特許請求の範囲の請求項に記載のウェハの位置合わせ修正方法を提供する。
請求項1に記載のウェハの位置決め修正方法は、半導体デバイスの電極パッド上に付けられたプローブカードの触針の針跡をカラーカメラによって観察し、この針跡が電極パッド上の適正な位置に付けられているかを判断し、その針跡の位置が適正な位置からずれている場合は、その位置ずれを修正するようにしたものである。この方法においては、カラーカメラによって針跡を観察しているので、従来のモノクロカメラでは針跡が見えにくかった金バンプ、半田バンプ、アルミバンプ等よりなる電極パッドにおいてもその針跡を明確に観察することができ、触針と電極パッドとの位置ずれが修正可能となった。また、従来のモノクロカメラでは、針跡が見えにくいために複数回触針と電極パッドを接触させて、針跡を深くして見えるようにしていたため、半導体デバイスにダメージを与えていたが、カラーカメラでは、複数回接触させることなく針跡を観察できるので、半導体デバイスの歩留りを改善することができる。
【0007】
請求項2のウェハの位置決め修正方法は、ウェハを保持したステージをカラーカメラ下に移動し、カラーカメラの画面上のクロスに針跡の中心を合わせて、その位置を登録し、次いで画面上のクロスに電極パッドの中心を合わせて、その位置を登録し、針跡の中心位置と電極パッドの中心位置との位置ずれを修正するようにしたものであり、請求項1の方法を具体的にその手順で示したものであり、その作用効果は、請求項1の方法と同様である。
【0008】
以下、図面に従って本発明の実施の形態のウェハの位置合わせ修正方法について説明する。図1は、本発明のウェハの位置合わせ修正方法を実施するプローブ装置の概念図である。プローブ装置1は、主として、ステージ2、ステージ駆動用モータ3、触針4aが設けられたプローブカード4、テスタ5、アライメント光学装置6、触針4aを撮像するステージ側のCCDカメラ7、カラーカメラ8及び制御部9等から構成されている。
【0009】
ステージ2の上部には、ウェハ10を載置して保持するチャック部2aが設けられている。ステージ2は制御部9によって制御されるステージ駆動用モータ3によって、X,Y,Z方向及びZ軸を中心とするθ回転方向に移動可能に構成され、ステージ2のチャック部2aに保持されるウェハ10を3次元的に移動することができる。
【0010】
ウェハ10の多数の半導体デバイスの表面には、バンプ状の電極パッド10aが形成されており、図1では説明の便宜上1つの電極パッド10aしか示していないが、実際には、一枚のウェハ上に数百、数千という多数の電極パッド10aが形成されている。これらの電極パッド10aは、金バンプ、半田バンプ、アルミバンプ等からなっている。また、プローブカード4には、ウェハ10の各半導体デバイスの電極パッド10aに対応する触針4aが設けられてる。従って、テスタ5に接続されているプローブカード4の触針4aをウェハ10の電極パッド10aに接触させることにより、各半導体デバイスの電気的特性を検査することができる。
【0011】
また、ステージ2のチャック部2aには、触針4aを下方から撮像して針の先端の位置を検出するCCDカメラ7が取り付けられている。ステージ2を移動してCCDカメラ7を動かし、その焦点を合わせながら触針4aの先端の位置を測定し、その結果を制御部9に入力する。
【0012】
アライメント光学装置6は、CCDカメラ等の撮像手段を含み、ウェハ10上の半導体デバイスのパターンを認識して制御部9に入力する。制御部9では、アライメント光学装置6で得られた情報とCCDカメラ7で得られた触針4aの先端の位置情報とに基づき、公知の画像処理技術を用いて、触針4aの先端とウェハ10の電極パッド10aとの位置合わせを自動で行う。なお、この場合のCCDカメラは、分解能が高く、高精度の位置合わせを行うことができるモノクロカメラが使用されている。
【0013】
更に本発明のプローブ装置には、本発明の特徴であるカラーカメラ8が設けられている。このカラーカメラ8は、図3に示されるように、プロービングが行われた後のウェハ10の電極パッド10a上に残された触針4aの針跡10bを観察し、針跡10bの位置が電極パッド10a上の適正な位置にあるかないかを検査し、位置がずれている場合には、その位置情報を制御部9に入力し、制御部9に接続するディスプレイ11で観察しながら、位置のずれを修正するためのものである。
【0014】
次に、上記構成によるプローブ装置における本発明のウェハの位置合わせ修正方法について、図2のフローチャートにより説明する。
まず、CCDカメラ7とアライメント光学装置6を使用して、通常行われている公知の方法によって、触針4aとウェハ10の電極パッド10aとの位置合わせを行う。即ち、プローブカード4の触針4aとCCDカメラ7とが対峙する位置にステージ2を移動し、CCDカメラ7で触針4aを撮像し、触針4a先端の位置を測定し、その結果を制御部9に入力する。次いでCCDカメラ7の位置とアライメント光学装置6の位置とを合致させた後、ウェハ10をステージ2のチャック部2aに固着保持し、ステージ駆動用モータ3によりステージ2をアライメント光学装置6の下方に移動して、アライメント光学装置6によってウェハ10上の半導体デバイスのパターン(電極パッドの位置)が撮像され、そのデータが制御部9に入力される。
この入力されたデータに基づいて制御部9は、触針4aの位置に対する電極パッド10aの位置を算出し、触針4aを電極パッド10aに適切にコンタクト(接触)させるようにステージ2の移動量を制御する。このようにして、まずウェハ10の第1番目の半導体デバイスが触針4aに対して位置合わせされて、プローブカード4の触針4aがウェハ上の第1番目の半導体デバイスの電極パッド10aに接触して、電気的特性が計測される。これにより、電極パッド10aに針跡が付けられる。以上の動作は、図2のステップS1までに行われる通常のアライメント動作である。
【0015】
本発明のウェハの位置合わせの修正方法は、以下のステップS2〜S6の動作を行うものである。即ち、第1番目の半導体デバイスの電極パッド10aに付された触針4aの針跡10bを観察するために、ステージ2(チャック部2a)をカラーカメラ8の下に移動する(ステップS2)。次いで図3に示すようにディスプレイ11の画面上のクロス(+)に針跡10bの中心を合わせて、その位置を制御部9に登録する(ステップ3S)。次に、画面上のクロスに電極パッド10aの中心を合わせて、その位置を制御部9に登録する(ステップS4)。制御部9は、針跡10bの中心と電極パッド10aの中心との中心間距離をずれ量x,yに基づいて計算する(ステップS5)。この計算結果に基づいて、ステージ2を微小(x,y)移動させ、これ以降通常のプロービング動作を行う(ステップS6)。以上のようにして、ウェハの位置合わせを修正して、ウェハ10の電極パッド10aの適正な位置(中心位置)に触針4aが接触するようにする。
【0016】
なお、上記方法においては、画面上のクロスに針跡10bの中心を合わせて(ステップS3)から、画面上のクロスを電極パッド10aの中心に合わせている(ステップS4)が、この順番は逆に行っても構わない。また、第1番目の半導体デバイスにおける電極パッド10aの針跡10bを観察することで説明しているが、電極パッド10aと触針4aとの位置がずれてきたと思われる場合は、いずれの半導体デバイスにおいても、この位置ずれの修正は行えるものである。
また、上述の実施形態の説明においては、モノクロカメラを備えたアライメント光学装置6とカラーカメラ8とを別体として設けているが、カラーカメラ8をアライメント光学装置6内に組み込んでもよい。
【0017】
以上説明したように、本発明においては、金バンプ、半田バンプ、アルミバンプ等のような電極パッドにおいては、触針の針跡を正確に観察することができ、電極パッドと触針との微小な位置合わせの修正が行えるので、半導体デバイスの精度の良い電気的特性の測定が行え、かつ不良品の歩留りが改善される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態のウェハの位置合わせ修正方法を採用するプローバ装置の概念図である。
【図2】本発明の実施の形態のウェハの位置合わせ修正方法のフローチャートである。
【図3】電極パッドの中心と針跡の中心との位置合わせの手順を説明する図である。
【符号の説明】
2…ステージ
2a…チャック部
3…ステージ駆動用モータ
4…プローブカード
4a…触針
5…テスタ
6…アライメント光学装置
7…CCDカメラ
8…カラーカメラ
9…制御部
10…ウェハ
10a…電極パッド
11…ディスプレイ

Claims (2)

  1. 半導体デバイスが形成されたウェハを位置決めしたのち、プローブカードの触針を半導体デバイスの電極パッドに接触させて、その電気的特性を検査するプローブ装置における、前記電極パッドと前記触針との位置ずれを修正するウェハの位置決め修正方法において、
    前記電極パッド上に付けられた前記触針の針跡をカラーカメラによって観察し、前記針跡が前記電極パッド上の適正な位置に付けられているかどうかを判断して、その針跡の位置が適正な位置からずれている場合は、その位置ずれを修正することを特徴とするウェハの位置決め修正方法。
  2. ウェハを保持したステージを前記カラーカメラ下に移動する段階と、
    前記カラーカメラの画面上のクロスに前記針跡の中心を合わせて、その位置を登録する段階と、
    前記画面上のクロスに前記電極パッドの中心を合わせて、その位置を登録する段階と、
    前記針跡の中心位置と前記電極パッドの中心位置との位置ずれを修正する段階と、
    を含んでいることを特徴とする請求項1に記載のウェハの位置決め修正方法。
JP2002221369A 2002-07-30 2002-07-30 ウェハの位置決め修正方法 Pending JP2004063877A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002221369A JP2004063877A (ja) 2002-07-30 2002-07-30 ウェハの位置決め修正方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002221369A JP2004063877A (ja) 2002-07-30 2002-07-30 ウェハの位置決め修正方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004063877A true JP2004063877A (ja) 2004-02-26

Family

ID=31941702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002221369A Pending JP2004063877A (ja) 2002-07-30 2002-07-30 ウェハの位置決め修正方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004063877A (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005308549A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Jsr Corp プローブ位置調整用フィルム
JP2006339196A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバの移動量演算校正方法、移動量演算校正処理プログラム及びプローバ
JP2007273631A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Tokyo Electron Ltd プローブの先端位置の検出方法、この方法を記録した記憶媒体、及びプローブ装置
JP2008053411A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Nec Electronics Corp プローブ検査装置およびプローブ検査方法
US7589544B2 (en) 2005-12-09 2009-09-15 Nec Electroncis Corporation Probe test apparatus
JP2009277871A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローブ位置修正方法及びプローバ
KR101020396B1 (ko) 2007-09-28 2011-03-08 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 프로브 장치 및 프로빙 방법
CN104714054A (zh) * 2013-12-11 2015-06-17 旺矽科技股份有限公司 探针点测系统
CN110211893A (zh) * 2019-06-24 2019-09-06 德淮半导体有限公司 一种晶圆测试系统及晶圆测试方法
CN111128782A (zh) * 2019-12-27 2020-05-08 上海华虹宏力半导体制造有限公司 晶圆的测试方法
CN113670816A (zh) * 2021-07-08 2021-11-19 成都云绎智创科技有限公司 一种视觉识别定位引导的装置及系统
WO2024070678A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 東京エレクトロン株式会社 検査方法、検査装置及びプログラム

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005308549A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Jsr Corp プローブ位置調整用フィルム
JP2006339196A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバの移動量演算校正方法、移動量演算校正処理プログラム及びプローバ
US7589544B2 (en) 2005-12-09 2009-09-15 Nec Electroncis Corporation Probe test apparatus
JP2007273631A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Tokyo Electron Ltd プローブの先端位置の検出方法、この方法を記録した記憶媒体、及びプローブ装置
JP2008053411A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Nec Electronics Corp プローブ検査装置およびプローブ検査方法
KR101020396B1 (ko) 2007-09-28 2011-03-08 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 프로브 장치 및 프로빙 방법
JP2009277871A (ja) * 2008-05-14 2009-11-26 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローブ位置修正方法及びプローバ
CN104714054A (zh) * 2013-12-11 2015-06-17 旺矽科技股份有限公司 探针点测系统
CN110211893A (zh) * 2019-06-24 2019-09-06 德淮半导体有限公司 一种晶圆测试系统及晶圆测试方法
CN111128782A (zh) * 2019-12-27 2020-05-08 上海华虹宏力半导体制造有限公司 晶圆的测试方法
CN113670816A (zh) * 2021-07-08 2021-11-19 成都云绎智创科技有限公司 一种视觉识别定位引导的装置及系统
WO2024070678A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 東京エレクトロン株式会社 検査方法、検査装置及びプログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5657394A (en) Integrated circuit probe card inspection system
JP2963603B2 (ja) プローブ装置のアライメント方法
US7719297B2 (en) Probe apparatus and method for measuring electrical characteristics of chips and storage medium therefor
JP2928331B2 (ja) プローバのアライメント装置及び方法
JPH03209737A (ja) プローブ装置
JP2006173503A (ja) プローブカード、その製造方法、およびアライメント方法
JP2004063877A (ja) ウェハの位置決め修正方法
JPH07297242A (ja) プローブ方法及びその装置
JP2986142B2 (ja) プローブ方法
JP2008053624A (ja) アライメント装置
WO2014132856A1 (ja) プローブ装置のアライメント支援装置及びアライメント支援方法
JP3248136B1 (ja) プローブ方法及びプローブ装置
JP2002057196A (ja) プローブ方法及びプローブ装置
JP2007010671A (ja) 被験体を電気的に検査する方法および装置ならびに検査時に使用される接触装置の製造方法
JP2005150224A (ja) プローブ情報を用いた半導体検査装置及び検査方法
JP2005123293A (ja) プローブ検査方法
JPH08327658A (ja) 基板検査装置
JP7174555B2 (ja) 基板検査装置、その位置合せ、及び基板検査方法
JP3202577B2 (ja) プローブ方法
JPH0837211A (ja) 半導体装置の検査装置
JP3103959B2 (ja) プローブ装置
JP2979277B2 (ja) プローブ方法
JP2004200383A (ja) 位置合わせ方法
JP2010185784A (ja) 基板検査装置及びその位置合せ方法
KR100262901B1 (ko) 프로우브장치에 있어서의 침위치 고정방법 및 프로우브방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050714

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070206

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070619