JP2004057928A - パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 - Google Patents
パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004057928A JP2004057928A JP2002219456A JP2002219456A JP2004057928A JP 2004057928 A JP2004057928 A JP 2004057928A JP 2002219456 A JP2002219456 A JP 2002219456A JP 2002219456 A JP2002219456 A JP 2002219456A JP 2004057928 A JP2004057928 A JP 2004057928A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- forming material
- pattern forming
- pattern
- injection coating
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 88
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【解決手段】射出塗布装置60は、パターン形成材料61を塗布する基板41を載置する載置台62を有しており、載置台62を跨ぐように配設された門型フレーム63と、門型フレーム63に装備された吐出ヘッド64を有し、ノズル66から基板上に吐出された直後のパターン形成材料61に光又は熱を照射するため、吐出ヘッド64の進行方向(Y軸方向)に対してノズル66の後側に照射部72を設ける。
【選択図】 図5
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイパネル用の電極パターンを基板上に形成するパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
まず、ディスプレイパネルの一例として、一般的なプラズマディスプレイパネル(以下、PDPと記す)の構造について以下説明する。図1はPDPの内部構造を示す分解斜視図であり、図2は、PDPの行電極対2(X,Y)の構造を模式的に示す平面図である。
【0003】
図1において、表示面側となる前面基板1の内面側には、複数の行電極対2(X,Y)、行電極対2(X,Y)を被覆する誘電体層3、誘電体層3を被覆するMgOからなる保護層4が順に形成されている。行電極対2は、幅の広いITO等の透明導電膜からなる透明電極2aと、その導電性を補う幅の狭い金属膜からなる金属電極(バス電極)2bとから構成されている。
【0004】
一方、放電空間8を介して対向配置される背面側の背面ガラス基板5には、行電極対X、Yと直交する方向に配列され、各交差部にて表示セルを形成する列電極6、6間に帯状に設けられて放電空間8を区画する隔壁9、列電極6及び隔壁9の側面を放電空間8に対して被覆するように設けられた3原色の蛍光体層7R、7G、7Bが形成されている。放電空間8内には、希ガスが注入封入されている。
【0005】
各行電極対2(X,Y)は、図2に示されるように、マトリクス表示の1ライン(行)Lに対応し、各ラインLにおいて放電ギャップGを挟んで隣接するように列方向に交互に配列されている。各ラインLでは、各行電極対2(X,Y)によって単位発光領域Eに表示セル(放電セル)が画定される。
【0006】
次に、上記のPDPにおけるディスプレイの表示動作を説明する。
まず、図2に示す列電極6と行電極対2(X,Y)との間の選択的放電によるアドレス操作によって、点灯セル(壁電荷が形成されたセル)及び消灯セル(壁電荷が形成されなかったセル)が選択される。アドレス操作の後、全ラインLに一斉に、行電極対X,Yに対して交互に放電維持パルスを印加することにより、点灯セルにおいて放電維持パルスが印加される毎に面放電が生じる。この面放電で生じた紫外線によって蛍光体層7R,7G,7Bを励起し、可視光を発光させている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した金属電極(バス電極)2b、列電極6などの電極は、基板の全面に電極材料層を厚保膜塗布、又は蒸着等により形成したり、フォトリソ法等でパターニングして形成している。しかしながら、このような方法では、材料の利用効率が悪く、工程数が多くなって処理に時間を要するという問題がある。
【0008】
そこで、インクジェット法、ディスペンサ法等によるパターン形成材料の射出塗布によるパターン形成法が検討されている。これに対応して、パターン形状保持のために、射出直後に100℃程度の温度をかけてペーストの溶剤分を乾燥させることにより形状を保持させる方法等が考えられている。
【0009】
上記方法においても、パターン形成材料の射出塗布がすべて終了した後に乾燥などの処理を行うので、図3に示すように、経時変化により塗布された材料層に広がりを生じて膜厚や幅が変化し、精度のよいパターンを形成することが困難になるおそれがある。
【0010】
本発明は上述の事情を考慮してなされたもので、工程を単純化すると共に、加工精度を高めつつ材料の利用効率を向上することのできるパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、請求項1に記載した発明は、パターン形成材料を射出塗布してディスプレイパネル用の所定パターンを基板上に形成するパターン形成材料の射出塗布装置であって、前記基板上にパターン形成材料を線状に射出塗布する吐出孔を備えた吐出ヘッドと、前記吐出孔から前記基板上に吐出されたパターン形成材料に光又は熱を照射する照射部と、前記吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させる相対移動駆動部と、を備えたことを特徴とする。
【0012】
また、請求項9に記載した発明は、パターン形成材料を射出塗布してディスプレイパネル用の所定パターンを基板上に形成するパターン形成材料の射出塗布方法であって、前記吐出ヘッドとともに、吐出された直後の前記パターン形成材料に光又は熱を照射する照射部を前記基板に対して相対的に移動させて、前記所定パターンを形成する工程を含むことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
まず、実施の形態に係るパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法により製造されるディスプレイパネルの一例としてのPDPの構造の概略について説明する。図4は、PDPの断面図である。
【0014】
PDP40は、表示面側に前面基板41aを有している。この前面基板41aには、行電極である透明電極42及びバス電極43が各々所定間隔で設けられている。
【0015】
また、バス電極43,43間にブラックストライプ層44が設けられている。これら透明電極42、バス電極43、ブラックストライプ層44を被覆して誘電体層45が形成されている。なお、誘電体層45に誘電体の嵩上げ部46を形成する場合もある。
【0016】
一方、背面側にも背面基板41bが設けられており、この背面基板41bの内面側には、所定の間隔で配置される複数の列電極47が互いに平行に設けられている。また、列電極47を保護する列電極保護層(誘電体層)48が形成され、蛍光体層49が設けられている。
【0017】
前面基板41aと背面基板41bとは、行電極と列電極47とが互いに直交するように離れて設けられている。両基板41a、41bの間には放電空間50が形成されている。
【0018】
次に、図5〜図7を参照して、パターン形成材料の射出塗布装置60について説明する。図5は、パターン形成材料の射出塗布装置60の構成の概略を示す図である。図6は、吐出ヘッドの相対移動を示す図である。図7は、射出塗布装置による吐出、形状保持のための照射動作を示す図である。
【0019】
図5及び図6に示すように、射出塗布装置60は、パターン形成材料61を塗布する基板41(例えば前面基板41a)を載置する載置台62を有しており、載置台62を跨ぐように配設された門型フレーム63(相対移動駆動部)と、門型フレーム63に装備された吐出ヘッド64を有する。
【0020】
吐出ヘッド64は、図示しないX軸移動機構により、門型フレーム63に対してX軸方向(図6参照)に移動できる。また、門型フレーム63は、例えば載置台62の側面に設けられているガイドレールに沿って移動する車輪等のY軸移動機構(図5参照)により、基板41に対してY軸方向に移動できる。
【0021】
したがって、吐出ヘッド64を門型フレーム63の所定位置に位置決めした後、門型フレーム63を基板41に対して移動させることが可能となっている。
【0022】
また、吐出ヘッド64には、載置台62に載置された基板41上にパターン形成材料61を線状に射出塗布するノズル66(吐出孔)が設けられている。ノズル66は配管67aによりポンプ68に接続されている。
【0023】
また、ノズル66は配管67bにより制御弁69を介してパターン形成材料タンク70に接続されている。ポンプ68及び制御弁69は、制御装置71に設けられているパターン形成材料吐出量制御部71aにより制御されて、各ノズル66からのパターン形成材料61の吐出量が調整されている。
【0024】
また、吐出ヘッド64には、ノズル66から基板41上に吐出されたパターン形成材料61に光(紫外線等)又は熱(赤外線等)を照射するための照射部72が設けられている。
【0025】
図5及び図7に示すように、照射部72は、ノズル66から基板上に吐出された直後のパターン形成材料61に光又は熱を照射するため、吐出ヘッド64の進行方向(Y軸方向)に対してノズル66の後側に設けられている。照射部72による光や熱の照射は、制御装置71に設けられている照射制御部71bが光源72a(紫外線や赤外線などの光源)を制御することにより制御されている。
【0026】
なお、ノズル66は、吐出ヘッド64の進行方向と交差する方向(X軸方向)に所定ピッチで直線状に複数列配列するように構成してもよい。これにより、門型フレーム63における吐出ヘッド64のX軸方向位置を決めた状態で門型フレーム63をY軸方向へ移動させることにより、一度に複数列にパターン形成材料61を塗布することができる。
【0027】
次に、図5〜図7を参照して、パターン形成材料の射出塗布方法について説明する。まず、載置台62の上に基板41を載置し、吐出ヘッド64を門型フレーム63のX軸方向の所定位置に位置決めする。
【0028】
そして、制御装置71のパターン形成材料吐出量制御部71aの制御により、ノズル66から吐出されるパターン形成材料61の量を制御しながら、門型フレーム63をY軸方向へ移動させる。
【0029】
同時に、制御装置71の照射制御部71bが照射部72を制御して、基板41上に塗布された直後のパターン形成材料61に光又は熱を照射してパターン形状を保持する。これにより、基板41上に所定パターンが形成される。
【0030】
次に、門型フレーム63を原点位置に戻し、吐出ヘッド64をX軸方向の次のパターン位置に位置決めし、前述と同様に門型フレーム63をY軸方向に進めて次のパターンを形成する。
【0031】
上記のパターン形成材料61は、銀ペースト等に形成保持成分を含有させたものを用い、バス電極43を形成することができる。そして、この形成保持成分としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが可能である。
【0032】
例えば、紫外線硬化樹脂を含有する銀ペースト等を使用する場合には、照射部72は紫外線を照射するものとする。あるいは、熱硬化樹脂を含有する銀ペースト等を使用する場合には、照射部72は熱線(赤外線等)を照射するものとする。
【0033】
なお、上記のように熱硬化樹脂を含有させた場合は、基板41を加熱させながら、パターン形成材料61を吐出してパターンを形成させてもよい。
この場合、塗布されたパターンからすぐに溶媒が揮発し、フロー性が低下(粘度が増加)して形状保持することができる。
【0034】
または、形状保持成分を含有しない銀ペースト等を吐出して、レーザー光又は(スポットヒーター等による)熱線を照射して、パターン形成材料61を塗布と同時に焼結させてパターン形状を保持させるようにしてもよい。
【0035】
以上、説明したように、吐出ヘッド64のノズル66から基板41上に吐出されたパターン形成材料61に、照射部72によって直ちに光又は熱を照射するので、図8に示すように、パターン形成材料61の射出直後の形状を保持することができ、狙ったパターンを最小の寸法誤差で形成することができる。
【0036】
特に、照射部72を吐出ヘッド64に一体的に設けることにより、容易に、射出直後のパターン形成材料61に光又は熱を照射して、形状を保持することができる。
【0037】
さらに、吐出ヘッド64に、吐出ヘッド64の進行方向と交差する方向に所定ピッチで直線状に複数個のノズル66を設けることにより、門型フレーム63の一往復で複数列のパターンを正確な寸法で形成することができる。
【0038】
なお、本発明のパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法では、前述した実施形態に限定されるものでなく、適宜な変形、改良等が可能である。
【0039】
例えば、前述したパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法では、パターン形成材料として電極形成材料を用いたバス電極43について説明したが、列電極47の形成にも適用できる。
【0040】
また、パターン形成材料として誘電体ペーストを使用して、バス電極43上及び/又はバス電極43,43間の誘電体層45上に誘電体層45の嵩上げ部46を形成する場合や、黒色顔料含有ペーストを使用して、バス電極43,43間にブラックストライプ層44を形成する場合などにも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一般的なPDPの内部構造を示す分解斜視図である。
【図2】図1のPDPにおける行電極対の構造を模式的に示す平面図である。
【図3】従来のパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法における問題点を示す説明図である。
【図4】本発明の実施の形態に係るパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法により製造されるディスプレイパネルの一例としてのPDPの構造の概略を示す断面図である。
【図5】本発明の実施の形態に係る射出塗布装置の構成を示す図である。
【図6】本発明の実施の形態に係るパターン形成材料の射出塗布装置を示す斜視図である。
【図7】吐出孔によって基板上に塗布されたパターン形成材料及び塗布されたパターン形成材料を照射部により安定させている状態を示す図である。
【図8】本発明の実施の形態に係るパターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法の効果を示す説明図である。
【符号の説明】
40 PDP(ディスプレイパネル)
41 基板
60 パターン形成材料の射出塗布装置
61 パターン形成材料
63 門型フレーム(相対移動駆動部)
64 吐出ヘッド
66 ノズル(吐出孔)
71a パターン形成材料吐出量制御部
72 照射部
Claims (10)
- パターン形成材料を射出塗布してディスプレイパネル用の所定パターンを基板上に形成するパターン形成材料の射出塗布装置であって、
前記基板上にパターン形成材料を線状に射出塗布する吐出孔を備えた吐出ヘッドと、
前記吐出孔から前記基板上に吐出されたパターン形成材料に光又は熱を照射する照射部と、
前記吐出ヘッドを前記基板に対して相対的に移動させる相対移動駆動部と、
を備えたことを特徴とするパターン形成材料の射出塗布装置。 - 前記パターン形成材料が、電極形成材料であることを特徴とする請求項1に記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- 前記パターン形成材料が、誘電体層形成材料であることを特徴とする請求項1に記載したパターン形成材料の射出塗布装置
- 前記パターン形成材料が紫外線硬化樹脂を含有し、前記照射部が紫外線を照射可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- 前記パターン形成材料が熱硬化樹脂を含有し、前記照射部が熱線を照射可能であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- 前記照射部が前記吐出ヘッドと一体的に構成され、前記吐出孔から基板上に吐出された直後の前記パターン形成材料に光又は熱を照射することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- 前記吐出孔が前記吐出ヘッドの進行方向と交差する方向に所定ピッチで直線上に複数列配列され、複数の前記吐出孔から吐出されたパターン形成材料の吐出量を制御するパターン形成材料吐出量制御部をさらに備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- 前記パターン形成材料吐出量制御部が、複数の前記吐出孔における吐出量をそれぞれ調整可能であることを特徴とする請求項7に記載したパターン形成材料の射出塗布装置。
- パターン形成材料を吐出ヘッドから射出塗布してディスプレイパネル用の所定のパターンを基板上に形成する射出塗布方法であって、
前記吐出ヘッドとともに、吐出された直後の前記パターン形成材料に光又は熱を照射する照射部を前記基板に対して相対的に移動させて、前記所定パターンを形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成材料の射出塗布方法。 - 前記吐出ヘッドを次のパターン位置に位置決めし、前記吐出ヘッドとともに、吐出された直後の前記パターン形成材料に光又は熱を照射する照射部を前記基板に対して相対的に移動させて、前記次のパターンを形成する工程を含むことを特徴とする請求項9に記載のパターン形成材料の射出塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002219456A JP2004057928A (ja) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002219456A JP2004057928A (ja) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004057928A true JP2004057928A (ja) | 2004-02-26 |
Family
ID=31940356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002219456A Pending JP2004057928A (ja) | 2002-07-29 | 2002-07-29 | パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004057928A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006000773A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Seiko Epson Corp | 層形成方法、配線基板、電子機器、電気光学装置、および層形成装置 |
| JP2006139989A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法 |
| WO2006064792A1 (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-22 | Ulvac, Inc. | 塗布装置、有機材料薄膜の形成方法、有機elパネル製造装置 |
| JP2011060873A (ja) * | 2009-09-08 | 2011-03-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
| JP2011071156A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電極形成方法および電極形成装置 |
| JP2012043876A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法、パターン形成装置、光電変換デバイスの製造方法および光電変換デバイス |
| CN102540578A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-04 | 塔工程有限公司 | 密封胶涂布机 |
| JP2013078757A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-02 | Semes Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| KR101395157B1 (ko) * | 2011-06-16 | 2014-05-15 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법 |
-
2002
- 2002-07-29 JP JP2002219456A patent/JP2004057928A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006000773A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Seiko Epson Corp | 層形成方法、配線基板、電子機器、電気光学装置、および層形成装置 |
| JP2006139989A (ja) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Jsr Corp | プラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法 |
| WO2006064792A1 (ja) * | 2004-12-14 | 2006-06-22 | Ulvac, Inc. | 塗布装置、有機材料薄膜の形成方法、有機elパネル製造装置 |
| TWI400828B (zh) * | 2004-12-14 | 2013-07-01 | 愛發科股份有限公司 | Coating apparatus, a method of forming a thin film of an organic material, organic electroluminescent panel manufacturing apparatus |
| JP2011060873A (ja) * | 2009-09-08 | 2011-03-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
| JP2011071156A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 電極形成方法および電極形成装置 |
| JP2012043876A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法、パターン形成装置、光電変換デバイスの製造方法および光電変換デバイス |
| CN102540578A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-04 | 塔工程有限公司 | 密封胶涂布机 |
| KR101395157B1 (ko) * | 2011-06-16 | 2014-05-15 | 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 | 박막 형성 장치 및 박막 형성 방법 |
| JP2013078757A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-05-02 | Semes Co Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3979354B2 (ja) | 膜状構成要素の製造方法 | |
| KR100583291B1 (ko) | 성막 방법, 성막 장치, 컬러 필터 기판의 제조 방법 및제조 장치, 일렉트로루미네선스 장치용 기판의 제조 방법및 제조 장치, 표시 장치의 제조 방법, 표시 장치, 및전자 기기 | |
| KR100645486B1 (ko) | 토출 장치, 재료 도포 방법, 컬러 필터 기판의 제조 방법,일렉트로루미네선스 표시 장치의 제조 방법, 플라즈마표시 장치의 제조 방법 및 배선 제조 방법 | |
| JP2004057928A (ja) | パターン形成材料の射出塗布装置及びパターン形成材料の射出塗布方法 | |
| KR20140022804A (ko) | 증착 장치, 증착 방법, 유기 el 디스플레이 및 조명 장치 | |
| TW201111047A (en) | Coating device and method for producing a coating layer using the same | |
| TWI276835B (en) | Method and device for painting liquid droplet, device and electronic equipment | |
| KR100658478B1 (ko) | 재료 도포 방법, 컬러 필터 기판의 제조 방법, 일렉트로루미네선스 표시 장치의 제조 방법, 플라즈마 표시 장치의 제조 방법, 및 토출 장치 | |
| TW201933487A (zh) | 膜形成方法、膜形成裝置及形成有膜之複合基板 | |
| US7153714B2 (en) | Method of manufacturing flat panel displays | |
| KR100698572B1 (ko) | 토출 장치, 도포 방법, 컬러 필터 기판의 제조 방법,일렉트로루미네선스 표시 장치의 제조 방법, 플라즈마표시 장치의 제조 방법, 및 배선 제조 방법 | |
| KR100690544B1 (ko) | 토출 장치, 재료 도포 방법, 컬러 필터 기판의 제조 방법,일렉트로 루미네선스 표시 장치의 제조 방법 및 플라즈마표시 장치의 제조 방법 | |
| US7037161B2 (en) | Method of manufacturing flat panel displays utilizing a surface treating layer | |
| JP2004042001A (ja) | パターン形成材料の射出塗布装置及び射出塗布方法 | |
| JP4124081B2 (ja) | 吐出装置、カラーフィルタ基板の製造装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置、プラズマ表示装置の製造方法、および吐出方法 | |
| JP2004095356A (ja) | ディスプレイパネル用パターン形成装置およびディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP4165100B2 (ja) | 液滴吐出装置と液滴吐出方法、およびデバイス製造装置とデバイス製造方法並びにデバイス | |
| KR100589373B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법 및 그 제조장치 | |
| KR100503615B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널용 패터닝 장치 및 패터닝 방법 | |
| JP2008153126A (ja) | ディスプレイパネル、およびディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP2009245817A (ja) | ディスプレイパネル、およびディスプレイパネルの製造方法 | |
| TW200804878A (en) | Coating apparatus and method for fabricating color filter | |
| KR20070010586A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
| KR20070109150A (ko) | 영상 표시 패널의 제조 장치 | |
| JP2005190888A (ja) | 除電方法、電気光学装置の製造方法、除電装置および液滴吐出装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050629 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080107 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080319 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080422 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080625 |