JP2004057304A - スパチュラ加熱装置 - Google Patents
スパチュラ加熱装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004057304A JP2004057304A JP2002217094A JP2002217094A JP2004057304A JP 2004057304 A JP2004057304 A JP 2004057304A JP 2002217094 A JP2002217094 A JP 2002217094A JP 2002217094 A JP2002217094 A JP 2002217094A JP 2004057304 A JP2004057304 A JP 2004057304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- spatula
- heating coil
- temperature
- wax
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/02—Induction heating
- H05B6/10—Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
- H05B6/14—Tools, e.g. nozzles, rollers, calenders
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/0028—Instruments or appliances for wax-shaping or wax-removing
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- General Induction Heating (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
Abstract
【課題】ガスバーナ式や電熱式の欠点をいずれも克服して、使い勝手に優れたスパチュラ加熱装置を提供する。
【解決手段】ワックス成形用のスパチュラ9、9aを加熱するスパチュラ加熱装置において、スパチュラ9,9aを電磁誘導加熱する加熱コイル8と、加熱量を設定する加熱量設定スイッチ5と、加熱コイル8に高周波電流を印加し、設定した加熱量で加熱を行なうインバータ制御回路21を備えている。そして、加熱コイル8に高周波電流を印加すると、設定された加熱量でスパチュラ9,9aが電磁誘導加熱される。
【選択図】 図1
【解決手段】ワックス成形用のスパチュラ9、9aを加熱するスパチュラ加熱装置において、スパチュラ9,9aを電磁誘導加熱する加熱コイル8と、加熱量を設定する加熱量設定スイッチ5と、加熱コイル8に高周波電流を印加し、設定した加熱量で加熱を行なうインバータ制御回路21を備えている。そして、加熱コイル8に高周波電流を印加すると、設定された加熱量でスパチュラ9,9aが電磁誘導加熱される。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、歯科補綴の分野および精密鋳造による金属細工の分野において、精密鋳造用のワックス成形と調製に使用されるスパチュラ(こて)の加熱装置に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
歯科用のワックススパチュラは、歯科用合金から歯冠部や義歯床をロストワックス法などの精密鋳造法により同時に成形する過程において、ワックスで歯冠部や義歯床などの鋳造用模型を成形したり、調整したりするのに使用されるワックス成形用の工具である。このワックススパチュラは、金属細工品の遠心鋳造のためのワックス模型の成形にもしばしば使用されている。
【0003】
従来のスパチュラは図13に示すように、把持用軸101の先端部にへら状,ナイフ状,槍状,針状などの各種形状を有する金属製のへら部102を形成して構成されるもので、使用時には把持用軸101を手で保持しつつ、ガス管103の末端に接続したタッチバーナ104の火炎部105にへら部102を近づけて、このへら部102をガスバーナであるタッチバーナ104で加熱しては、ワックス成形に使用する操作を繰り返していた。
【0004】
一方、上記ガスバーナによる加熱では、ワックスの異臭が著しいこともあって、近年では例えば特開平10−108872号公報や、特開2001−314421号公報などに開示される電熱式のスパチュラ加熱装置が提案されている。これは図14に示すように、へら部111を固定する把持部112の先端部内に電熱体(図示せず)を組み込んで構成されるスパチュラ本体113と、このスパチュラ本体113とコード114を介して接続される温度制御装置115と、フットスイッチ116とにより構成され、温度制御装置115の各調整ダイヤル116,117を操作して、使用するワックスの軟化温度と溶融温度とに設定温度を予め設定し、電源スイッチ(図示せず)を投入すると、へら部111はワックス溶融温度の水準で使用可能の状態になると共に、その後フットスイッチ116の踏み込み操作を繰り返す毎に、へら部111がワックス溶融温度若しくはワックス軟化温度に切換わるようになっている。
【0005】
しかし、図14に示す電熱式のスパチュラ加熱装置では次のような問題があった。すなわち、把持部112には電力線であるコード114が繋がっているため、コード114が邪魔になってワックス作業がしにくい。また、スパチュラ本体113に電熱体が内蔵されている関係で、スパチュラ本体113はその装置専用のものとなり、数種類程度へら部111を付属したものでも、ガスバーナで使用していた使い慣れたスパチュラを利用することができない。しかも、通常はワックス作業毎に異なる形状のへら部111を必要とするため、その都度温度制御装置115への繋ぎ替えを行なわなければならない。さらに、蝋堤作業時に使用する大型のへら部111を備えたスパチュラ本体を用意できない(加熱量が多く必要で、電熱体では十分な加熱ができない。また把持部112に設けられた温度センサでは正確に温度検出を行なうことができない。)という問題もある。
【0006】
本発明は上記問題点を解決しようとするものであり、ガスバーナ式や電熱式の欠点をいずれも克服して、使い勝手に優れたスパチュラ加熱装置を提供することをその目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1のスパチュラ加熱装置では、加熱手段に電流を印加することで、スパチュラが電磁誘導加熱される。そのため、従来のガスバーナのような燃焼排気がなく、燃焼排熱もないので、消費エネルギーの損失が極端に小さくなる。さらに、裸火がないので安全であると共に、ワックスの発煙がないので、異臭の発生が少ない。
【0008】
また、スパチュラ自身にコードなどの電力線を接続する必要がなく、電熱式のようなワックス作業のし難さがない。しかも、消費エネルギーの損失が少ない分、大型のスパチュラでも無理なく加熱できることから、蝋堤作業に使用する大型のスパチュラを含めて、従来からのスパチュラをそのまま使用できる。
【0009】
本発明の請求項2のスパチュラ加熱装置では、使用者はスパチュラが加熱されていることを、報知手段からの報知により適確に判断することができる。
【0010】
本発明の請求項3のスパチュラ加熱装置では、使用者はスパチュラに与えられている電力を、表示手段からの表示により適確に判断することができる。
【0011】
【発明の実施形態】
以下、本発明におけるスパチュラ加熱装置の好ましい実施例について、添付図面を参照しながら説明する。
【0012】
図1〜図8は本発明の第1実施例を示すものであり、装置の外観構成を示す図1において、1は略箱状をなす加熱装置本体であって、この加熱装置本体1の正面一側には電源コード2からの例えばAC100Vの交流入力電圧を投入または遮断する電源スイッチ3が設けられる。加熱装置本体1の上面部には、加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5を備えた表示・操作部6が設けられると共に、円筒状の突出した加熱部7の内部に、好ましくは直径が50mm以下の外径で形成された加熱コイル8が内蔵される。
【0013】
一方、9は精密鋳造用のワックス成形と調製に使用される小型のスパチュラであり、これは把手部10の先端にこて部11を備えて構成される。また、9aは特に蝋堤作業時に使用する大型のスパチュラであり、これも把手部10aの先端にこて部11aを備えている。把手部10とこて部11(若しくは把手部10aとこて部11a)は、同一材料で形成する必要はないが、少なくとも加熱コイル8で加熱されるこて部11は磁性材料を含むもので構成される。前記加熱コイル8の外径は、大型のスパチュラ9aのこて部11a全体がほぼ均一に加熱されるように、その寸法が考慮される。
【0014】
図2はスパチュラ9が加熱される原理を示す概略図である。同図において、加熱コイル8に高周波電流を印加すると、この加熱コイル8からの交番磁界Mによってスパチュラ9の先端部をなすへら部11の磁性材料に渦電流Cが発生し、これによりへら部11は短時間で加熱される。そして、加熱されたスパチュラ9により、図示しないワックスへの成形などが行なわれる。
【0015】
図3は、前記表示・操作部6の正面図である。同図に示すように、表示・操作部6は、加熱量を設定する操作手段に相当し、スライドスイッチからなる加熱量設定スイッチ5と、スパチュラ9に与えられる加熱電力を表示する表示手段に相当し、複数(本実施例では5つ)のLED6a〜6eを並設してなる加熱量表示ランプ6が並んで設けられていると共に、逆三角形に印刷形成されたガイドマーク12が、加熱量表示ランプ6の一側に沿って設けられている。加熱量表示ランプ6は、加熱電力が大きくなるにしたがって、下側から上側に向けて順次LED6a〜6eが点灯するようになっており、ガイドマーク12の形状と相俟って、表示器であるLED6a〜6eを並設しただけで、加熱電力の大小を視覚的に理解できるようになっている。また、加熱量設定スイッチ5にも、1から5の数字が等間隔に表示されており、この加熱量設定スイッチ5を上側に移動させるほど、スパチュラ9への設定加熱量が増大するようになっている。
【0016】
次に、電気的構成を図4に基づき説明すると、21は加熱装置本体1の内部に設けられた制御部としてのインバータ制御回路で、ここにはスパチュラ9,9aを加熱する一連の制御プログラムを内蔵したマイクロコンピュータ(以下、マイコンという)22が搭載される。また23は、例えばIGBT素子などのスイッチング手段(図示せず)を用いて直流電流を交流電流に変換するインバータ回路である。一方、電源スイッチ3の投入時には、前記電源コード2からの交流入力電圧が整流回路24にて整流され、直流入力電圧としてインバータ回路23に供給される。整流回路24の前段には入力電流検出回路25が設けられており、前記インバータ制御回路21は、入力電流検出回路25で得られたインバータ回路23ひいては加熱コイル8の入力電流と、インバータ回路23から直接得られるインバータ回路23の入力電圧とを監視しながら、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱量が、同じく加熱量設定スイッチ5で設定した加熱時間の間、加熱コイル8からスパチュラ9,9aに与えられるように、ドライブ回路27を介してインバータ回路23にパルス駆動信号を供給し、加熱コイル8に高周波電流を印加すると共に、前記加熱量表示ランプ6や例えばブザーなどの報知手段28の動作を制御している。
【0017】
次に、設定された加熱時間と加熱電力との関係を示す図5のグラフと、加熱制御の手順を示す図6のフローチャートと、各部の動作タイミングチャートと使用状態を示す図7の説明図を参照しながら、上記構成についてその作用を説明する。
【0018】
図6のステップS1において、スパチュラ9,9aを加熱する前に、適正な加熱量を加熱量設定スイッチ5にて設定する。具体的には前記図3に示すように、加熱量設定スイッチ5がスライド動作する例えばレベル1〜レベル5の範囲で、スパチュラ9,9aを加熱する電力と加熱時間がインバータ制御回路21にて設定される。例えば、レベル4付近に加熱量設定スイッチ5を合わせると、図5の「4」の位置に示すように、加熱電力は200W,加熱時間は1000mS(1秒)が設定される。その後、ステップS2において、インバータ制御回路21は待機中の最弱発振動作を開始する。最弱発振時における加熱コイル8の加熱電力は、図5の「最弱発振」に示すように数W程度である。
【0019】
最弱発振の開始直後は、スパチュラ9,9aが加熱コイル8にかざされていないので、最弱発振を行なっていてもインバータ回路23には入力電流は流れない。すなわちインバータ制御回路21は、ステップS2およびステップS3において、入力電流検出回路25からの検出信号に基づき、インバータ回路23への入力電流が流れない限り最弱発振を継続し、次のステップS4においてインバータ回路23に入力電流が発生するのを待っている。
【0020】
このときの状態は、図7の(1)に示されている。スパチュラ9a(若しくはスパチュラ9)は加熱コイル8にかざされておらず、インバータ回路23への入力電流は零である。これを受けてインバータ制御回路21は、報知手段28によるブザー報知を行なわないようにし、かつ加熱量表示ランプ6のLED6a〜6eを全てオフにする。
【0021】
その後、図7の(2)に示すように、加熱コイル8にスパチュラ9a(若しくはスパチュラ9)がかざされると、インバータ回路23への入力電流が発生する。これをインバータ制御回路21のマイコン22が判定し、前述の設定された加熱量と加熱時間でスパチュラ9aを加熱するべく、ドライブ回路27を介してインバータ回路23を駆動する。インバータ制御回路21は、図6のステップ5において、設定された加熱量に対応する加熱量表示ランプ5の例えばLED6a〜6dを表示点灯させると共に、続くステップS6において、報知手段28によるブザー報知を開始する。因みに、前記図3の例ではレベル4を表示した状態を示している。インバータ制御手段21は、設定した加熱時間が経過するまで、設定した加熱電力でスパチュラ9aに対する加熱を行なう(ステップS7,S8)。
【0022】
ステップS8において、加熱を開始してから加熱量設定スイッチ5で設定した所定の加熱時間が経過すると、加熱量表示ランプ5による加熱量の表示を完了し、報知手段28によるブザー報知も完了する(ステップS9,S10)。このときスパチュラ9aに対する加熱は、ステップS2における待機中の最弱発振に切換わる。この最弱発振とは、スパチュラ9,9aなどが加熱コイル8にかざされている場合には、加熱コイル8から数W程度の加熱量が与えられる程度に、加熱コイル8を制御する動作である。この加熱量は、加熱コイル8により不用意な加熱が行なわれても、火災などの危険を生じない量で、かつそのときのインバータ回路23への入力電流は、負荷がないときの入力電流と区別できる量に設定する。こうすれば、待機中に加熱コイル8によって不用意な加熱が行われることが防止され、しかも、最弱発振中にスパチュラ9aがかざされているか否かを、インバータ制御回路21が明確に識別することができる。
【0023】
スパチュラ9aへの加熱が完了した後、このスパチュラ9aが加熱コイル8から離れて、入力電流が零すなわち負荷の無い状態にならない限り、ステップS3のループを抜け出せず、次の設定された電力での加熱は開始しない。ステップS3においてインバータ制御回路21は、スパチュラ9aが加熱コイル8から離れたか否かを、入力電流検出回路25が検出する入力電流の変化に基づき判断している。そして、入力電流がないことを入力電流検出回路25が検出することにより、スパチュラ9aが加熱コイル8から離れたと判断すると、ステップS4に移行し、次にスパチュラ9aが加熱コイル8にかざされるまでそのまま待機する。
【0024】
また、別な変形例として、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れて入力電流がゼロになったら、無負荷状態のカウント(計時)を開始し、このカウントが予め決められた一定時間を超えたら、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱時間に拘らず、設定された電力での加熱を終了する無負荷判定手段(図示せず)を、インバータ制御手段21に付加してもよい。
【0025】
この場合の動作は図8のフローチャートに示すように、点線で囲んだ部分の箇所が付加される。すなわち、加熱コイル8にスパチュラ9,9aをかざすと、前述したように加熱量設定スイッチ5で設定した電力で、スパチュラ9,9aに対する加熱が開始するが、次のステップS11において、加熱途中でスパチュラ9,9aが加熱コイルから取り払われ、入力電流が零の無負荷状態になると、前記無負荷判定手段による無負荷時間のカウントが開始する(ステップS13)。そして、ステップS14において、この無負荷時間のカウントが一定時間以上に達すると、ステップS8における設定された時間が経過したか否かに拘らず、加熱量表示ランプ6による加熱量の表示を完了し、かつ報知手段28によるブザー報知を完了して、ステップS2における最弱発振にその動作を強制的に切換える。
【0026】
これは、使用者に加熱していないことを示すための動作で、無負荷判定手段を備えることにより、スパチュラ9,9aの加熱中に、スパチュラ9,9aをかざす位置の調整を正しく促すことができる。また、無負荷時間のカウントが一定時間に達したら設定された電力での加熱を終了させる理由は、例えばスパチュラ9,9aが瞬間的に揺れただけで加熱が終了しないように、入力電流の検出に遅延時間をもたせるためにある。
【0027】
なおステップS11において、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れて、インバータ回路23への入力電流が零の状態になっても、一定時間が経過する前に再びスパチュラ9,9aが加熱コイル8にかざされて、入力電流が流れるようになれば、ステップS12において無負荷時間のカウントはクリアされる。したがって、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れたらすぐに設定された電力での加熱が行なわれなくなる不具合を回避できる。
【0028】
以上のようの本実施例では、ワックス成形用のスパチュラ9、9aを加熱するスパチュラ加熱装置において、スパチュラ9,9aを電磁誘導加熱する加熱手段としての加熱コイル8と、加熱量を設定する操作手段としての加熱量設定スイッチ5と、加熱コイル8に高周波電流を印加し、設定した加熱量で加熱を行なう制御手段としてのインバータ制御回路21を備えている。
【0029】
この場合、加熱コイル8に高周波電流を印加することで、スパチュラ9,9aが設定された加熱量で電磁誘導加熱される。そのため、従来のガスバーナのような燃焼排気がなく、燃焼排熱もないので、消費エネルギーの損失が極端に小さくなる。さらに、裸火がないので安全であると共に、ワックスの発煙がないので、異臭の発生が少ない。
【0030】
また、スパチュラ9,9a自身にコードなどの電力線を接続する必要がなく、電熱式のようなワックス作業のし難さがない。しかも、消費エネルギーの損失が少ない分、大型のスパチュラ9aでも無理なく加熱できることから、蝋堤作業に使用する大型のスパチュラ9aを含めて、従来からのスパチュラ9,9aをそのまま使用できる。
【0031】
また本実施例では、スパチュラ9,9aの加熱中に報知を行なう報知手段28を備えている。これにより使用者は、スパチュラ9,9aが加熱されていることを、報知手段28からの報知により適確に判断することができる。
【0032】
さらに本実施例では、スパチュラ9,9aの加熱中に加熱電力を表示する表示手段としての加熱量表示ランプ6を備えている。これにより使用者は、スパチュラ9,9aに与えられている加熱電力を、加熱量表示ランプ6からの表示により適確に判断することができる。
【0033】
次に、本発明の第2実施例を図9〜図12に基づき説明する。なお、上記第1実施例と同一部分には同一符号を付し、その共通する箇所の説明は重複するため省略する。
【0034】
装置の外観構成を示す図9において、本実施例では表示・操作部6として、前述の加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5の他に、加熱温度を設定する温度設定手段たるスライド式の温度設定スイッチ31が設けられる。本実施例ではスパチュラ9,9aの加熱温度を250℃まで設定できるようになっているが、その温度範囲は任意である。また、加熱部7の内部には、スパチュラ9,9aの温度を非接触で検出する温度検出手段たる赤外線温度センサ32が設けられる。図10は、表示・操作部6の正面図であって、前述の温度設定スイッチ31が加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5と共に設けられている。
【0035】
図11は本実施例における電気的構成を示すブロック図である。ハードウェアの構成としては、前述の温度設定スイッチ31および赤外線温度センサ32が、インバータ制御手段21にそれぞれ接続される。そしてこの場合のインバータ制御回路21は、入力電流検出回路25で得られたインバータ回路23ひいては加熱コイル8の入力電流と、インバータ回路23から直接得られるインバータ回路23の入力電圧とを監視しながら、赤外線温度センサ32により検出されるスパチュラ9,9aの温度が、加熱量設定スイッチで設定した加熱温度に達するまで、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱量が加熱コイル8からスパチュラ9,9aに与えられるように、ドライブ回路27を介してインバータ回路23にパルス駆動信号を供給し、加熱コイル8に高周波電流を印加すると共に、加熱量表示ランプ6や報知手段28の動作を制御する制御手段として設けられている。
【0036】
上記構成における一連の加熱動作を、図12のフローチャートに基づき説明すると、ステップS1において最弱発振を開始すると、インバータ制御回路21は赤外線温度センサ32からの検出信号に基づいて、加熱コイル8周辺の温度が、温度設定スイッチ31で設定した加熱温度未満であるか否かを判断する(ステップS21)。仮に、加熱コイル8周辺の温度が設定した加熱温度未満であれば、ステップS4においてインバータ回路23に入力電流が発生するのを待つ。
【0037】
その後、加熱コイル8にスパチュラ9,9aがかざされると、インバータ回路23への入力電流が発生する。これをインバータ制御回路21のマイコン22が判定し、設定された加熱量でスパチュラ9,9aを加熱するべく、ドライブ回路27を介してインバータ回路23を駆動する。それと共にインバータ制御回路21は、設定された加熱量に対応する加熱量表示ランプ5の例えばLED6a〜6dを表示点灯させると共に、報知手段28によるブザー報知を開始して、使用者に加熱中であることを知らしめる(ステップS5〜S7)
そして、ステップS22において、赤外線温度センサ32が非接触で検出するスパチュラ9,9aの温度が、温度設定スイッチ31で設定した加熱温度に達していれば、加熱量表示ランプ5による加熱量の表示を完了し、報知手段28によるブザー報知も完了する(ステップS9,S10)。そしてスパチュラ9aに対する加熱は、ステップS2における待機中の最弱発振に切換わる。
【0038】
本実施例では、上記第1実施例と共通する構成において、共通の作用効果を奏すると共に、特に赤外線温度センサ32にて加熱中におけるスパチュラ9,9aの温度を検出できるので、インバータ検出回路21による温度制御が可能になり、最弱発振に切換わる実質的な加熱の停止を、スパチュラ9,9aの温度に基づき判定できる。また、スパチュラ9,9aの温度が異常に上昇したときにも、スパチュラ9,9aへの加熱を速やかに停止させることができる。
【0039】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。例えば、操作手段として本実施例ではスライド式のスイッチを利用したが、例えば回転式のスイッチなどを用いてもよい。
【0040】
【発明の効果】
本発明の請求項1のスパチュラ加熱装置によれば、ガスバーナ式や電熱式の欠点をいずれも克服して、使い勝手に優れたスパチュラ加熱装置を提供できる。
【0041】
本発明の請求項2のスパチュラ加熱装置によれば、スパチュラが加熱されていることを、報知手段からの報知により適確に判断できる。
【0042】
本発明の請求項3のスパチュラ加熱装置によれば、スパチュラに与えられている電力を、表示手段からの表示により適確に判断できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図2】同上スパチュラが加熱される原理を示す概略図である。
【図3】同上表示・操作部の正面図である。
【図4】同上電気的構成を示すブロック図である。
【図5】同上設定された加熱時間と加熱電力との関係を示すグラフである。
【図6】同上加熱制御の手順を示すフローチャートである。
【図7】各部の動作タイミングチャートと使用状態を示す説明図である。
【図8】同上変形例を示す加熱制御の手順をあらわしたフローチャートである。
【図9】本発明の第2実施例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図10】同上表示・操作部の正面図である。
【図11】同上電気的構成を示すブロック図である。
【図12】同上加熱制御の手順を示すフローチャートである。
【図13】従来例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図14】従来例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【符号の説明】
5 加熱量設定スイッチ(操作手段)
6 加熱量表示ランプ(表示手段)
8 加熱コイル(加熱手段)
9,9a スパチュラ
21 インバータ制御回路(制御手段)
28 報知手段
【発明の属する技術分野】
本発明は、歯科補綴の分野および精密鋳造による金属細工の分野において、精密鋳造用のワックス成形と調製に使用されるスパチュラ(こて)の加熱装置に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】
歯科用のワックススパチュラは、歯科用合金から歯冠部や義歯床をロストワックス法などの精密鋳造法により同時に成形する過程において、ワックスで歯冠部や義歯床などの鋳造用模型を成形したり、調整したりするのに使用されるワックス成形用の工具である。このワックススパチュラは、金属細工品の遠心鋳造のためのワックス模型の成形にもしばしば使用されている。
【0003】
従来のスパチュラは図13に示すように、把持用軸101の先端部にへら状,ナイフ状,槍状,針状などの各種形状を有する金属製のへら部102を形成して構成されるもので、使用時には把持用軸101を手で保持しつつ、ガス管103の末端に接続したタッチバーナ104の火炎部105にへら部102を近づけて、このへら部102をガスバーナであるタッチバーナ104で加熱しては、ワックス成形に使用する操作を繰り返していた。
【0004】
一方、上記ガスバーナによる加熱では、ワックスの異臭が著しいこともあって、近年では例えば特開平10−108872号公報や、特開2001−314421号公報などに開示される電熱式のスパチュラ加熱装置が提案されている。これは図14に示すように、へら部111を固定する把持部112の先端部内に電熱体(図示せず)を組み込んで構成されるスパチュラ本体113と、このスパチュラ本体113とコード114を介して接続される温度制御装置115と、フットスイッチ116とにより構成され、温度制御装置115の各調整ダイヤル116,117を操作して、使用するワックスの軟化温度と溶融温度とに設定温度を予め設定し、電源スイッチ(図示せず)を投入すると、へら部111はワックス溶融温度の水準で使用可能の状態になると共に、その後フットスイッチ116の踏み込み操作を繰り返す毎に、へら部111がワックス溶融温度若しくはワックス軟化温度に切換わるようになっている。
【0005】
しかし、図14に示す電熱式のスパチュラ加熱装置では次のような問題があった。すなわち、把持部112には電力線であるコード114が繋がっているため、コード114が邪魔になってワックス作業がしにくい。また、スパチュラ本体113に電熱体が内蔵されている関係で、スパチュラ本体113はその装置専用のものとなり、数種類程度へら部111を付属したものでも、ガスバーナで使用していた使い慣れたスパチュラを利用することができない。しかも、通常はワックス作業毎に異なる形状のへら部111を必要とするため、その都度温度制御装置115への繋ぎ替えを行なわなければならない。さらに、蝋堤作業時に使用する大型のへら部111を備えたスパチュラ本体を用意できない(加熱量が多く必要で、電熱体では十分な加熱ができない。また把持部112に設けられた温度センサでは正確に温度検出を行なうことができない。)という問題もある。
【0006】
本発明は上記問題点を解決しようとするものであり、ガスバーナ式や電熱式の欠点をいずれも克服して、使い勝手に優れたスパチュラ加熱装置を提供することをその目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1のスパチュラ加熱装置では、加熱手段に電流を印加することで、スパチュラが電磁誘導加熱される。そのため、従来のガスバーナのような燃焼排気がなく、燃焼排熱もないので、消費エネルギーの損失が極端に小さくなる。さらに、裸火がないので安全であると共に、ワックスの発煙がないので、異臭の発生が少ない。
【0008】
また、スパチュラ自身にコードなどの電力線を接続する必要がなく、電熱式のようなワックス作業のし難さがない。しかも、消費エネルギーの損失が少ない分、大型のスパチュラでも無理なく加熱できることから、蝋堤作業に使用する大型のスパチュラを含めて、従来からのスパチュラをそのまま使用できる。
【0009】
本発明の請求項2のスパチュラ加熱装置では、使用者はスパチュラが加熱されていることを、報知手段からの報知により適確に判断することができる。
【0010】
本発明の請求項3のスパチュラ加熱装置では、使用者はスパチュラに与えられている電力を、表示手段からの表示により適確に判断することができる。
【0011】
【発明の実施形態】
以下、本発明におけるスパチュラ加熱装置の好ましい実施例について、添付図面を参照しながら説明する。
【0012】
図1〜図8は本発明の第1実施例を示すものであり、装置の外観構成を示す図1において、1は略箱状をなす加熱装置本体であって、この加熱装置本体1の正面一側には電源コード2からの例えばAC100Vの交流入力電圧を投入または遮断する電源スイッチ3が設けられる。加熱装置本体1の上面部には、加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5を備えた表示・操作部6が設けられると共に、円筒状の突出した加熱部7の内部に、好ましくは直径が50mm以下の外径で形成された加熱コイル8が内蔵される。
【0013】
一方、9は精密鋳造用のワックス成形と調製に使用される小型のスパチュラであり、これは把手部10の先端にこて部11を備えて構成される。また、9aは特に蝋堤作業時に使用する大型のスパチュラであり、これも把手部10aの先端にこて部11aを備えている。把手部10とこて部11(若しくは把手部10aとこて部11a)は、同一材料で形成する必要はないが、少なくとも加熱コイル8で加熱されるこて部11は磁性材料を含むもので構成される。前記加熱コイル8の外径は、大型のスパチュラ9aのこて部11a全体がほぼ均一に加熱されるように、その寸法が考慮される。
【0014】
図2はスパチュラ9が加熱される原理を示す概略図である。同図において、加熱コイル8に高周波電流を印加すると、この加熱コイル8からの交番磁界Mによってスパチュラ9の先端部をなすへら部11の磁性材料に渦電流Cが発生し、これによりへら部11は短時間で加熱される。そして、加熱されたスパチュラ9により、図示しないワックスへの成形などが行なわれる。
【0015】
図3は、前記表示・操作部6の正面図である。同図に示すように、表示・操作部6は、加熱量を設定する操作手段に相当し、スライドスイッチからなる加熱量設定スイッチ5と、スパチュラ9に与えられる加熱電力を表示する表示手段に相当し、複数(本実施例では5つ)のLED6a〜6eを並設してなる加熱量表示ランプ6が並んで設けられていると共に、逆三角形に印刷形成されたガイドマーク12が、加熱量表示ランプ6の一側に沿って設けられている。加熱量表示ランプ6は、加熱電力が大きくなるにしたがって、下側から上側に向けて順次LED6a〜6eが点灯するようになっており、ガイドマーク12の形状と相俟って、表示器であるLED6a〜6eを並設しただけで、加熱電力の大小を視覚的に理解できるようになっている。また、加熱量設定スイッチ5にも、1から5の数字が等間隔に表示されており、この加熱量設定スイッチ5を上側に移動させるほど、スパチュラ9への設定加熱量が増大するようになっている。
【0016】
次に、電気的構成を図4に基づき説明すると、21は加熱装置本体1の内部に設けられた制御部としてのインバータ制御回路で、ここにはスパチュラ9,9aを加熱する一連の制御プログラムを内蔵したマイクロコンピュータ(以下、マイコンという)22が搭載される。また23は、例えばIGBT素子などのスイッチング手段(図示せず)を用いて直流電流を交流電流に変換するインバータ回路である。一方、電源スイッチ3の投入時には、前記電源コード2からの交流入力電圧が整流回路24にて整流され、直流入力電圧としてインバータ回路23に供給される。整流回路24の前段には入力電流検出回路25が設けられており、前記インバータ制御回路21は、入力電流検出回路25で得られたインバータ回路23ひいては加熱コイル8の入力電流と、インバータ回路23から直接得られるインバータ回路23の入力電圧とを監視しながら、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱量が、同じく加熱量設定スイッチ5で設定した加熱時間の間、加熱コイル8からスパチュラ9,9aに与えられるように、ドライブ回路27を介してインバータ回路23にパルス駆動信号を供給し、加熱コイル8に高周波電流を印加すると共に、前記加熱量表示ランプ6や例えばブザーなどの報知手段28の動作を制御している。
【0017】
次に、設定された加熱時間と加熱電力との関係を示す図5のグラフと、加熱制御の手順を示す図6のフローチャートと、各部の動作タイミングチャートと使用状態を示す図7の説明図を参照しながら、上記構成についてその作用を説明する。
【0018】
図6のステップS1において、スパチュラ9,9aを加熱する前に、適正な加熱量を加熱量設定スイッチ5にて設定する。具体的には前記図3に示すように、加熱量設定スイッチ5がスライド動作する例えばレベル1〜レベル5の範囲で、スパチュラ9,9aを加熱する電力と加熱時間がインバータ制御回路21にて設定される。例えば、レベル4付近に加熱量設定スイッチ5を合わせると、図5の「4」の位置に示すように、加熱電力は200W,加熱時間は1000mS(1秒)が設定される。その後、ステップS2において、インバータ制御回路21は待機中の最弱発振動作を開始する。最弱発振時における加熱コイル8の加熱電力は、図5の「最弱発振」に示すように数W程度である。
【0019】
最弱発振の開始直後は、スパチュラ9,9aが加熱コイル8にかざされていないので、最弱発振を行なっていてもインバータ回路23には入力電流は流れない。すなわちインバータ制御回路21は、ステップS2およびステップS3において、入力電流検出回路25からの検出信号に基づき、インバータ回路23への入力電流が流れない限り最弱発振を継続し、次のステップS4においてインバータ回路23に入力電流が発生するのを待っている。
【0020】
このときの状態は、図7の(1)に示されている。スパチュラ9a(若しくはスパチュラ9)は加熱コイル8にかざされておらず、インバータ回路23への入力電流は零である。これを受けてインバータ制御回路21は、報知手段28によるブザー報知を行なわないようにし、かつ加熱量表示ランプ6のLED6a〜6eを全てオフにする。
【0021】
その後、図7の(2)に示すように、加熱コイル8にスパチュラ9a(若しくはスパチュラ9)がかざされると、インバータ回路23への入力電流が発生する。これをインバータ制御回路21のマイコン22が判定し、前述の設定された加熱量と加熱時間でスパチュラ9aを加熱するべく、ドライブ回路27を介してインバータ回路23を駆動する。インバータ制御回路21は、図6のステップ5において、設定された加熱量に対応する加熱量表示ランプ5の例えばLED6a〜6dを表示点灯させると共に、続くステップS6において、報知手段28によるブザー報知を開始する。因みに、前記図3の例ではレベル4を表示した状態を示している。インバータ制御手段21は、設定した加熱時間が経過するまで、設定した加熱電力でスパチュラ9aに対する加熱を行なう(ステップS7,S8)。
【0022】
ステップS8において、加熱を開始してから加熱量設定スイッチ5で設定した所定の加熱時間が経過すると、加熱量表示ランプ5による加熱量の表示を完了し、報知手段28によるブザー報知も完了する(ステップS9,S10)。このときスパチュラ9aに対する加熱は、ステップS2における待機中の最弱発振に切換わる。この最弱発振とは、スパチュラ9,9aなどが加熱コイル8にかざされている場合には、加熱コイル8から数W程度の加熱量が与えられる程度に、加熱コイル8を制御する動作である。この加熱量は、加熱コイル8により不用意な加熱が行なわれても、火災などの危険を生じない量で、かつそのときのインバータ回路23への入力電流は、負荷がないときの入力電流と区別できる量に設定する。こうすれば、待機中に加熱コイル8によって不用意な加熱が行われることが防止され、しかも、最弱発振中にスパチュラ9aがかざされているか否かを、インバータ制御回路21が明確に識別することができる。
【0023】
スパチュラ9aへの加熱が完了した後、このスパチュラ9aが加熱コイル8から離れて、入力電流が零すなわち負荷の無い状態にならない限り、ステップS3のループを抜け出せず、次の設定された電力での加熱は開始しない。ステップS3においてインバータ制御回路21は、スパチュラ9aが加熱コイル8から離れたか否かを、入力電流検出回路25が検出する入力電流の変化に基づき判断している。そして、入力電流がないことを入力電流検出回路25が検出することにより、スパチュラ9aが加熱コイル8から離れたと判断すると、ステップS4に移行し、次にスパチュラ9aが加熱コイル8にかざされるまでそのまま待機する。
【0024】
また、別な変形例として、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れて入力電流がゼロになったら、無負荷状態のカウント(計時)を開始し、このカウントが予め決められた一定時間を超えたら、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱時間に拘らず、設定された電力での加熱を終了する無負荷判定手段(図示せず)を、インバータ制御手段21に付加してもよい。
【0025】
この場合の動作は図8のフローチャートに示すように、点線で囲んだ部分の箇所が付加される。すなわち、加熱コイル8にスパチュラ9,9aをかざすと、前述したように加熱量設定スイッチ5で設定した電力で、スパチュラ9,9aに対する加熱が開始するが、次のステップS11において、加熱途中でスパチュラ9,9aが加熱コイルから取り払われ、入力電流が零の無負荷状態になると、前記無負荷判定手段による無負荷時間のカウントが開始する(ステップS13)。そして、ステップS14において、この無負荷時間のカウントが一定時間以上に達すると、ステップS8における設定された時間が経過したか否かに拘らず、加熱量表示ランプ6による加熱量の表示を完了し、かつ報知手段28によるブザー報知を完了して、ステップS2における最弱発振にその動作を強制的に切換える。
【0026】
これは、使用者に加熱していないことを示すための動作で、無負荷判定手段を備えることにより、スパチュラ9,9aの加熱中に、スパチュラ9,9aをかざす位置の調整を正しく促すことができる。また、無負荷時間のカウントが一定時間に達したら設定された電力での加熱を終了させる理由は、例えばスパチュラ9,9aが瞬間的に揺れただけで加熱が終了しないように、入力電流の検出に遅延時間をもたせるためにある。
【0027】
なおステップS11において、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れて、インバータ回路23への入力電流が零の状態になっても、一定時間が経過する前に再びスパチュラ9,9aが加熱コイル8にかざされて、入力電流が流れるようになれば、ステップS12において無負荷時間のカウントはクリアされる。したがって、スパチュラ9,9aが加熱コイル8から離れたらすぐに設定された電力での加熱が行なわれなくなる不具合を回避できる。
【0028】
以上のようの本実施例では、ワックス成形用のスパチュラ9、9aを加熱するスパチュラ加熱装置において、スパチュラ9,9aを電磁誘導加熱する加熱手段としての加熱コイル8と、加熱量を設定する操作手段としての加熱量設定スイッチ5と、加熱コイル8に高周波電流を印加し、設定した加熱量で加熱を行なう制御手段としてのインバータ制御回路21を備えている。
【0029】
この場合、加熱コイル8に高周波電流を印加することで、スパチュラ9,9aが設定された加熱量で電磁誘導加熱される。そのため、従来のガスバーナのような燃焼排気がなく、燃焼排熱もないので、消費エネルギーの損失が極端に小さくなる。さらに、裸火がないので安全であると共に、ワックスの発煙がないので、異臭の発生が少ない。
【0030】
また、スパチュラ9,9a自身にコードなどの電力線を接続する必要がなく、電熱式のようなワックス作業のし難さがない。しかも、消費エネルギーの損失が少ない分、大型のスパチュラ9aでも無理なく加熱できることから、蝋堤作業に使用する大型のスパチュラ9aを含めて、従来からのスパチュラ9,9aをそのまま使用できる。
【0031】
また本実施例では、スパチュラ9,9aの加熱中に報知を行なう報知手段28を備えている。これにより使用者は、スパチュラ9,9aが加熱されていることを、報知手段28からの報知により適確に判断することができる。
【0032】
さらに本実施例では、スパチュラ9,9aの加熱中に加熱電力を表示する表示手段としての加熱量表示ランプ6を備えている。これにより使用者は、スパチュラ9,9aに与えられている加熱電力を、加熱量表示ランプ6からの表示により適確に判断することができる。
【0033】
次に、本発明の第2実施例を図9〜図12に基づき説明する。なお、上記第1実施例と同一部分には同一符号を付し、その共通する箇所の説明は重複するため省略する。
【0034】
装置の外観構成を示す図9において、本実施例では表示・操作部6として、前述の加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5の他に、加熱温度を設定する温度設定手段たるスライド式の温度設定スイッチ31が設けられる。本実施例ではスパチュラ9,9aの加熱温度を250℃まで設定できるようになっているが、その温度範囲は任意である。また、加熱部7の内部には、スパチュラ9,9aの温度を非接触で検出する温度検出手段たる赤外線温度センサ32が設けられる。図10は、表示・操作部6の正面図であって、前述の温度設定スイッチ31が加熱量設定スイッチ4や加熱量表示ランプ5と共に設けられている。
【0035】
図11は本実施例における電気的構成を示すブロック図である。ハードウェアの構成としては、前述の温度設定スイッチ31および赤外線温度センサ32が、インバータ制御手段21にそれぞれ接続される。そしてこの場合のインバータ制御回路21は、入力電流検出回路25で得られたインバータ回路23ひいては加熱コイル8の入力電流と、インバータ回路23から直接得られるインバータ回路23の入力電圧とを監視しながら、赤外線温度センサ32により検出されるスパチュラ9,9aの温度が、加熱量設定スイッチで設定した加熱温度に達するまで、加熱量設定スイッチ5で設定した加熱量が加熱コイル8からスパチュラ9,9aに与えられるように、ドライブ回路27を介してインバータ回路23にパルス駆動信号を供給し、加熱コイル8に高周波電流を印加すると共に、加熱量表示ランプ6や報知手段28の動作を制御する制御手段として設けられている。
【0036】
上記構成における一連の加熱動作を、図12のフローチャートに基づき説明すると、ステップS1において最弱発振を開始すると、インバータ制御回路21は赤外線温度センサ32からの検出信号に基づいて、加熱コイル8周辺の温度が、温度設定スイッチ31で設定した加熱温度未満であるか否かを判断する(ステップS21)。仮に、加熱コイル8周辺の温度が設定した加熱温度未満であれば、ステップS4においてインバータ回路23に入力電流が発生するのを待つ。
【0037】
その後、加熱コイル8にスパチュラ9,9aがかざされると、インバータ回路23への入力電流が発生する。これをインバータ制御回路21のマイコン22が判定し、設定された加熱量でスパチュラ9,9aを加熱するべく、ドライブ回路27を介してインバータ回路23を駆動する。それと共にインバータ制御回路21は、設定された加熱量に対応する加熱量表示ランプ5の例えばLED6a〜6dを表示点灯させると共に、報知手段28によるブザー報知を開始して、使用者に加熱中であることを知らしめる(ステップS5〜S7)
そして、ステップS22において、赤外線温度センサ32が非接触で検出するスパチュラ9,9aの温度が、温度設定スイッチ31で設定した加熱温度に達していれば、加熱量表示ランプ5による加熱量の表示を完了し、報知手段28によるブザー報知も完了する(ステップS9,S10)。そしてスパチュラ9aに対する加熱は、ステップS2における待機中の最弱発振に切換わる。
【0038】
本実施例では、上記第1実施例と共通する構成において、共通の作用効果を奏すると共に、特に赤外線温度センサ32にて加熱中におけるスパチュラ9,9aの温度を検出できるので、インバータ検出回路21による温度制御が可能になり、最弱発振に切換わる実質的な加熱の停止を、スパチュラ9,9aの温度に基づき判定できる。また、スパチュラ9,9aの温度が異常に上昇したときにも、スパチュラ9,9aへの加熱を速やかに停止させることができる。
【0039】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、種々の変形実施が可能である。例えば、操作手段として本実施例ではスライド式のスイッチを利用したが、例えば回転式のスイッチなどを用いてもよい。
【0040】
【発明の効果】
本発明の請求項1のスパチュラ加熱装置によれば、ガスバーナ式や電熱式の欠点をいずれも克服して、使い勝手に優れたスパチュラ加熱装置を提供できる。
【0041】
本発明の請求項2のスパチュラ加熱装置によれば、スパチュラが加熱されていることを、報知手段からの報知により適確に判断できる。
【0042】
本発明の請求項3のスパチュラ加熱装置によれば、スパチュラに与えられている電力を、表示手段からの表示により適確に判断できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図2】同上スパチュラが加熱される原理を示す概略図である。
【図3】同上表示・操作部の正面図である。
【図4】同上電気的構成を示すブロック図である。
【図5】同上設定された加熱時間と加熱電力との関係を示すグラフである。
【図6】同上加熱制御の手順を示すフローチャートである。
【図7】各部の動作タイミングチャートと使用状態を示す説明図である。
【図8】同上変形例を示す加熱制御の手順をあらわしたフローチャートである。
【図9】本発明の第2実施例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図10】同上表示・操作部の正面図である。
【図11】同上電気的構成を示すブロック図である。
【図12】同上加熱制御の手順を示すフローチャートである。
【図13】従来例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【図14】従来例を示すスパチュラ加熱装置の外観斜視図である。
【符号の説明】
5 加熱量設定スイッチ(操作手段)
6 加熱量表示ランプ(表示手段)
8 加熱コイル(加熱手段)
9,9a スパチュラ
21 インバータ制御回路(制御手段)
28 報知手段
Claims (3)
- スパチュラを加熱するスパチュラ加熱装置において、前記スパチュラを加熱する加熱手段と、加熱量を設定する設定手段と、電流を印加し加熱を行なう制御手段とを備えたことを特徴とするスパチュラ加熱装置。
- 加熱中に報知する報知手段を備えたことを特徴とする請求項1記載のスパチュラ加熱装置。
- 電力を表示する表示手段を備えたことを特徴とする請求項1または2記載のスパチュラ加熱装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002217094A JP2004057304A (ja) | 2002-07-25 | 2002-07-25 | スパチュラ加熱装置 |
| US10/256,529 US6806447B2 (en) | 2002-07-25 | 2002-09-27 | Spatula induction heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002217094A JP2004057304A (ja) | 2002-07-25 | 2002-07-25 | スパチュラ加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004057304A true JP2004057304A (ja) | 2004-02-26 |
Family
ID=30767966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002217094A Pending JP2004057304A (ja) | 2002-07-25 | 2002-07-25 | スパチュラ加熱装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6806447B2 (ja) |
| JP (1) | JP2004057304A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101096754B1 (ko) | 2010-07-12 | 2011-12-23 | 정재성 | 치과용 왁스 바이트 가열장치 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090254154A1 (en) | 2008-03-18 | 2009-10-08 | Luis De Taboada | Method and apparatus for irradiating a surface with pulsed light |
| KR100914135B1 (ko) * | 2008-07-29 | 2009-08-27 | 차종대 | 치과기공용 유도식가열기 |
| US20120103964A1 (en) * | 2010-11-02 | 2012-05-03 | Chen Chin-Duey | Heating device for cutting tools |
| US20240389646A1 (en) * | 2022-07-06 | 2024-11-28 | Alec Glickman | BOX TIP Vape n Scrape |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3898410A (en) * | 1972-06-16 | 1975-08-05 | Environment One Corp | AC to RF converter circuit for induction cooking unit |
| US4206336A (en) * | 1974-12-05 | 1980-06-03 | Cunningham Ronald J | Control apparatus primarily intended for use with stoves employing induction heating |
| DE3007982C2 (de) * | 1980-03-01 | 1983-09-29 | Eura-Dental Gmbh, 8070 Ingolstadt | Vorrichtung zum Erwärmen medizinisch-technischer Werkzeuge |
| US4725948A (en) * | 1985-11-19 | 1988-02-16 | Hamilton Standard Controls, Inc. | Heating appliance control system |
| JP2964100B2 (ja) * | 1990-12-14 | 1999-10-18 | 株式会社日立ホームテック | 誘導加熱調理器 |
| IT1271881B (it) * | 1994-03-14 | 1997-06-09 | Roberto Giorgis | Dispositivo riscaldatore e sterilizzatore rapido ad induzione elettromagnetica di alta frequenza, per attrezzi di odontotecnica odontoiatria, microchirurgica, estetica e simili. |
| JP3609909B2 (ja) | 1996-10-08 | 2005-01-12 | 株式会社デンケン | ワックススパチュラー装置 |
| JP2001314421A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Denken:Kk | ワックススパチュラー装置 |
| US6670590B1 (en) * | 2000-11-27 | 2003-12-30 | David R. Pacholok | Eddy current/hysteretic heater apparatus |
-
2002
- 2002-07-25 JP JP2002217094A patent/JP2004057304A/ja active Pending
- 2002-09-27 US US10/256,529 patent/US6806447B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101096754B1 (ko) | 2010-07-12 | 2011-12-23 | 정재성 | 치과용 왁스 바이트 가열장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6806447B2 (en) | 2004-10-19 |
| US20040016750A1 (en) | 2004-01-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101346204A (zh) | 移动式钻床 | |
| US20150144610A1 (en) | Hair iron controlled by usage detection and control method thereof | |
| CN103782481A (zh) | 非接触受电装置及非接触电力传送装置 | |
| JP2004057304A (ja) | スパチュラ加熱装置 | |
| JP3758483B2 (ja) | 誘導加熱調理器 | |
| JP2004329579A (ja) | スパチュラ加熱装置 | |
| CN100489399C (zh) | 加热烹饪器 | |
| JP2011003373A (ja) | 加熱調理器 | |
| JP3089611U (ja) | 温度制御機能付き半田ごて | |
| CN206651750U (zh) | 空气炸锅 | |
| JP3615382B2 (ja) | 加熱調理装置 | |
| JP5872079B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2005243534A (ja) | 誘導加熱装置 | |
| TWI736449B (zh) | 熱電偶之修復與固定裝置及其使用方法 | |
| JP2003217812A (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2005205425A (ja) | 加熱溶解装置 | |
| JP5693913B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JP4969619B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JP2016185186A (ja) | 加熱調理器 | |
| JPH085081A (ja) | 調理器 | |
| JPH02213086A (ja) | 調理器 | |
| KR102509713B1 (ko) | 사용자 경험 및 사용자 인터페이스가 개선된 존프리 타입 유도 가열 장치 | |
| JPH1069972A (ja) | 誘導加熱調理器 | |
| TWM675888U (zh) | 具有互動式智能光導系統的爐具 | |
| JP5506897B2 (ja) | 加熱調理器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060116 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060605 |