JP2004053685A - Liquid crystal panel and liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
【課題】耐光性に優れる液晶パネルおよび液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の液晶パネル1Aは、液晶層2と、液晶層2に隣接して配設された配向膜3A、3A’と、配向膜3Aに隣接して配設された光安定化膜4Aと、配向膜3A’に隣接して配設された光安定化膜4A’とを有する。光安定化膜4A、4A’は、光安定化剤を含むものである。前記光安定化剤は、ヒンダートアミン系化合物を主とするものである。前記光安定化剤は、平均分子量Mwが250〜3000であるのが好ましい。また、光安定化膜4A、4A’中における金属イオン濃度は、5ppm以下であるのが好ましい。光安定化膜4A、4A’中における前記光安定化剤の含有量は、1〜20wt%であるのが好ましい。光安定化膜4A、4A’の平均厚さは、10〜60nmであるのが好ましい。
【選択図】図1A liquid crystal panel and a liquid crystal display device having excellent light resistance are provided.
A liquid crystal panel (1A) according to the present invention includes a liquid crystal layer (2), alignment films (3A, 3A ') disposed adjacent to the liquid crystal layer (2), and a light stabilization disposed adjacent to the alignment film (3A). It has a film 4A and a light stabilizing film 4A 'disposed adjacent to the alignment film 3A'. The light stabilizing films 4A and 4A 'contain a light stabilizing agent. The light stabilizer is mainly composed of a hindered amine compound. The light stabilizer preferably has an average molecular weight Mw of 250 to 3000. Further, the metal ion concentration in the light stabilizing films 4A, 4A 'is preferably 5 ppm or less. The content of the light stabilizer in the light stabilizing films 4A and 4A 'is preferably 1 to 20 wt%. The average thickness of the light stabilizing films 4A and 4A 'is preferably 10 to 60 nm.
[Selection diagram] Fig. 1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶パネルおよび液晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
スクリーン上に画像を投影する投射型表示装置が知られている。この投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネルが用いられている。
【0003】
このような液晶パネルは、通常、2枚の配向膜と、これらに挟持された液晶層とを有しているが、配向膜、液晶層等の構成材料が、使用環境、使用時間等により、光劣化を生じることがあった。このような光劣化が起こると、配向膜、液晶層等の構成材料が分解し、その分解生成物が液晶の性能等に悪影響を及ぼすことがある。
【0004】
このような悪影響は、紫外線の照射量の多い屋外で用いられる場合に、特に顕著に現れることが知られていたが、近年の投射型表示装置(液晶パネル)の高輝度化等に伴い、紫外線の照射量の少ない屋内等で用いる場合でも、大きな問題になりつつある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐光性に優れる液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)〜(26)の本発明により達成される。
【0007】
(1) 液晶層と、配向膜とを有する液晶パネルであって、
前記配向膜の前記液晶層と対向する面とは反対の面側に、光安定化剤を含む光安定化膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル。
【0008】
(2) 前記配向膜の前記液晶層と対向する面とは反対の面側に、導電膜を有する上記(1)に記載の液晶パネル。
【0009】
(3) 液晶層と、配向膜と、透明電極とを有する液晶パネルであって、
前記配向膜と前記透明電極との間に、光安定化剤を含む光安定化膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル。
【0010】
(4) 光源からの光を入射させて用いる上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0011】
(5) 少なくとも、前記液晶層の光が入射する面側に、前記光安定化膜が設置されている上記(4)に記載の液晶パネル。
【0012】
(6) 前記光安定化剤は、平均分子量Mwが250〜3000である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0013】
(7) 前記光安定化剤は、フェノール系化合物、芳香族アミン系化合物、サルファイド系化合物、リン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒンダートアミン系化合物、Ni系化合物、シアノアクリレート系化合物、オキザリックアシッドアニリド系化合物、シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒドラジド誘導体のうち少なくとも1種を含むものである上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0014】
(8) 前記光安定化剤は、金属イオンを除去したものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0015】
(9) 前記光安定化膜中における金属イオン濃度は、5ppm以下である上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0016】
(10) 前記光安定化膜中における前記光安定化剤の含有量は、1〜20wt%である上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0017】
(11) 前記光安定化膜は、主として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアリーレンエーテルニトリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂から選択される1種または2種以上で構成された材料からなるものである上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0018】
(12) 前記光安定化膜は、スピンコート法により形成されたものである上記(1)ないし(11)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0019】
(13) 前記光安定化膜の平均厚さが10〜60nmである上記(1)ないし(12)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0020】
(14) 前記配向膜の平均厚さが10〜60nmである上記(1)ないし(13)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0021】
(15) 前記光安定化膜の平均厚さをTs[nm]、前記配向膜の平均厚さをTo[nm]としたとき、20≦Ts+To≦120の関係を満足する上記(1)ないし(14)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0022】
(16) 前記光安定化膜の平均厚さをTs[nm]、前記配向膜の平均厚さをTo[nm]としたとき、0.2≦To/Ts≦5.0の関係を満足する上記(1)ないし(15)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0023】
(17) 前記配向膜は、主としてポリイミド樹脂またはポリアミドイミド樹脂で構成されたものである上記(1)ないし(16)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0024】
(18) 前記配向膜は、主として無機材料で構成された無機斜方蒸着膜である上記(1)ないし(16)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0025】
(19) 前記配向膜は、主として酸化ケイ素で構成されたものである上記(18)に記載の液晶パネル。
【0026】
(20) 前記配向膜のうちの一方について、前記液晶層と対向する面とは反対の面側に、マイクロレンズ基板が配設された上記(1)ないし(19)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0027】
(21) 前記マイクロレンズ基板の前記液晶層と対向する面側に、ブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う導電膜とが設けられた上記(20)に記載の液晶パネル。
【0028】
(22) 画素電極を備えた液晶駆動基板を有する上記(1)ないし(21)のいずれかに記載の液晶パネル。
【0029】
(23) 前記液晶駆動基板は、マトリックス状に配設された前記画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜トランジスタとを有するTFT基板である上記(22)に記載の液晶パネル。
【0030】
(24) 上記(1)ないし(23)のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【0031】
(25) 上記(1)ないし(23)のいずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも1個用いて画像を投射することを特徴とする液晶表示装置。
【0032】
(26) 画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した3つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する液晶表示装置であって、
前記ライトバルブは、上記(1)ないし(23)のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【0033】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
【0034】
図1は、本発明の液晶パネルの第1実施形態を示す模式的な縦断面図である。図1に示すように、液晶パネル1Aは、液晶層2と、配向膜3A、3A’と、光安定化膜4A、4A’と、透明導電膜(透明電極)5、6と、偏光膜7A、7A’と、基板9、10とを有している。
【0035】
液晶層2は、主として、液晶分子で構成されている。
液晶層2を構成する液晶分子としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶など配向し得るものであればいかなる液晶分子を用いても構わないが、TN型液晶パネルの場合、ネマチック液晶を形成させるものが好ましく、例えば、フェニルシクロヘキサン誘導体液晶、ビフェニル誘導体液晶、ビフェニルシクロヘキサン誘導体液晶、テルフェニル誘導体液晶、フェニルエーテル誘導体液晶、フェニルエステル誘導体液晶、ビシクロヘキサン誘導体液晶、アゾメチン誘導体液晶、アゾキシ誘導体液晶、ピリミジン誘導体液晶、ジオキサン誘導体液晶、キュバン誘導体液晶等が挙げられる。さらに、これらネマチック液晶分子にモノフルオロ基、ジフルオロ基、トリフルオロ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基などのフッ素系置換基を導入した液晶分子も含まれる。
【0036】
液晶層2の両面には、配向膜3A、3A’が配置されている。配向膜3A、3A’は、液晶層2を構成する液晶分子の(電圧無印加時における)配向状態を規制する機能を有する。
【0037】
配向膜3A、3A’は、有機材料で構成されたものであってもよいし、無機材料で構成されたものであってもよい。また、配向膜3A、3A’は、有機材料と無機材料の複合体で構成されたものであってもよい。
【0038】
配向膜3A、3A’を構成する有機高分子材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルアルコール、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられるが、この中でも特に、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂が好ましい。配向膜3A、3A’が、主として、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂で構成されたものであると、製造工程において簡便に高分子膜を形成できるとともに、耐熱性、耐薬品性等に優れた特性を有するものとなる。
【0039】
また、配向膜3A、3A’を構成する無機材料としては、例えば、酸化ケイ素(SiO、SiO2等)、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)等が挙げられるが、この中でも特に酸化ケイ素が好ましい。酸化ケイ素は、特に優れた耐光性や耐熱性を有している。このため配向膜3A、3A’が、主として酸化ケイ素で構成されたものであると、液晶パネルの耐久性をさらに向上させることができる。
【0040】
前述したように、配向膜3A、3A’は、液晶層2を構成する液晶分子の配向状態を規制する機能(配向機能)を有するものである。このような配向機能は、例えば、上記のような材料で構成された膜に、ラビング法、光配向法等の処理(配向処理)を施すことにより、付与することができる。
【0041】
ラビング法は、ローラ等を用いて、膜の表面を一定の方向に擦る(ラビングする)方法である。このような処理を施すことにより、膜はラビングした方向に異方性を有するものとなり、液晶層を構成する液晶分子の配向方向を規制することが可能となる。
【0042】
光配向法は、直線偏光紫外線等の光を膜の表面付近に照射することにより、膜を構成する高分子のうち、特定方向を向いている分子のみを選択的に反応させる方法である。このような処理を施すことにより、膜は異方性を有するものとなり、液晶層を構成する液晶分子の配向方向を規制することが可能となる。
【0043】
上記のような配向処理は、通常、基板上に形成された光安定化膜の表面に、前記材料で構成された膜を形成した後、当該膜に対して施される。光安定化膜の表面に成膜を行う方法としては、例えば、ディッピング、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗装・塗布法、溶射法、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、イオンプレーティング等の乾式めっき法等が挙げられるが、この中でも特に、スピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いることにより、均質で、均一な厚さの膜を、容易かつ確実に形成することができる。
【0044】
また、成膜条件を制御することにより、成膜後に上記のような配向処理を施すことなく、配向機能を持たせることもできる。例えば、斜方蒸着法を用いることにより、形成される膜は、配向機能を有するものとなり、成膜後に上記のような配向処理を施すことなく、そのまま、配向膜としての機能を有するものとなる。
【0045】
斜方蒸着法を用いる場合、配向膜は、通常、基板上に形成された光安定化膜の表面に形成される。
【0046】
斜方蒸着法では、通常、光安定化膜が形成された基板の法線方向に対して、所定角度傾斜した状態で、蒸着膜を形成する。すなわち、斜方蒸着法は、蒸発粒子の進行方向と、前記光安定化膜の法線方向とが、所定角度θをなすような状態で行う。このようにして蒸着を行うことにより、例えば、光安定化膜の表面に対し、所定の角度で配列した柱状結晶等の結晶構造物からなる配向膜を、容易かつ確実に形成することができる。
【0047】
所定角度θ(絶対値)は、用いる材料等により異なるが、例えば、40〜85°であるのが好ましく、50〜85°であるのがより好ましい。所定角度θをこのような範囲の値に設定することにより、例えば、電圧無印加時における液晶のプレチルト角がより好ましい角度(例えば、0〜25°)となるように、容易かつ確実にコントロールすることができる。
【0048】
また、蒸着法により形成する場合、蒸着源と光安定化膜との距離は、特に限定されないが、20〜100cmであるのが好ましく、40〜80cmであるのがより好ましい。
【0049】
蒸着源と光安定化膜との距離が前記下限値未満であると、形成される配向膜は、各部位での膜厚のばらつきや、ミクロ的な組織差が大きくなる傾向を示す。その結果、最終的に得られる液晶パネルの信頼性が低下する場合がある。一方、蒸着源と光安定化膜との距離が前記上限値を超えると、巨大な蒸着装置が必要となり、広い作業スペースを占有するなど、製造プロセスにおいて扱いにくくなる。
【0050】
斜方蒸着は、例えば、一回の工程で行うものであってもよいし、複数回の工程に分けて行うものであってもよい。また、前記蒸着は、光安定化膜が形成された基板を、固定した状態で行うものであってもよいし、回転させながら行うものであってもよい。
【0051】
上記のような斜方蒸着法により配向膜を形成することにより、ラビング処理のような配向処理を必要としないで、表面形状が均一で高い液晶プレチルト角を再現できる。
【0052】
上記のような斜方蒸着法では、前記材料の中でも、無機材料を主とする材料を用いるのが好ましく、酸化ケイ素を主とする材料を用いるのがより好ましい。このような材料は、特に優れた耐光性、耐熱性等を有している。このため、このような材料を用いることにより、液晶パネル1A全体としての耐久性を特に優れたものとすることができる。
【0053】
上述したような配向膜は、その平均厚さが10〜60nmであるのが好ましく、20〜40nmであるのがより好ましい。
【0054】
配向膜の平均厚さが前記下限値未満であると、配向膜に十分な配向機能を付与するのが困難になる場合がある。一方、配向膜の平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる場合がある。
【0055】
配向膜3Aの上面側(液晶層2と対向する面とは反対の面側)には、光安定化剤を含む光安定化膜4Aが配置されている。同様に、配向膜3A’の下面側(液晶層2と対向する面とは反対の面側)には、光安定化剤を含む光安定化膜4A’が配置されている。
【0056】
このように、本発明は、光安定化剤を含む光安定化膜が設けられている点に特徴を有する。光安定化膜が設けられることにより、液晶パネル全体としての耐光性が向上し、光(特に紫外線、可視光)による配向膜の構成材料や液晶層の構成材料等の劣化(分解、変性等)を効果的に防止することが可能となる。これにより、液晶層2が分解生成物等により汚損されるのを効果的に防止することができ、結果として、液晶パネル1Aの長期安定性が向上し、液晶パネル1Aは、長期間にわたって優れた表示特性を維持することが可能となる。
【0057】
このように、本発明によれば、耐光性に優れた液晶パネルを得ることができる。したがって、本発明は、紫外線の照射量が多い環境(例えば、屋外)や、光源から入射する光量が多い装置(例えば、後述するような投射型表示装置等)に用いられる液晶パネルのような、従来では長期間にわたって安定した特性を得るのが困難であった液晶パネルにも、好適に適用することができる。
【0058】
特に、本発明では、光安定化膜が、配向膜と透明電極との間に(配向膜の液晶層と対向する面とは反対の面側に)、設けられている点に特徴を有する。このような部位に光安定化膜が設けられることにより、光安定化膜と液晶層とが、直接接触することが防止される。その結果、液晶パネル1A全体としての耐光性を十分に向上させつつ、液晶層2等への光安定化剤の移行が効果的に防止される。したがって、液晶層2が不純物により汚損されるのを効果的に防止することができ、結果として、液晶パネル1Aの長期安定性が向上する。
【0059】
光安定化膜は、後に詳述するような光安定化剤を含むものであれば特に限定されないが、通常、主として、高分子材料で構成されている。光安定化膜を構成する高分子材料としては、いかなるものを用いてもよいが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアリーレンエーテルニトリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂から選択される1種または2種以上を含むものであるのが好ましく、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂から選択される少なくとも1種を含むものであるのがより好ましい。このような材料は、特に優れた耐熱性と、低誘電率性とを兼ね備えている。その結果、液晶パネルの信頼性は、特に高いものとなる。また、光安定化膜が、主として、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂で構成されたものである場合、前述した配向膜との密着性が、特に優れたものとなる。
【0060】
本発明で用いる光安定化剤は、光の照射による配向膜の構成材料、液晶層の構成材料等の劣化、分解等を防止、抑制する効果を有するものであればいかなるものであってもよい。
【0061】
このような光安定化剤としては、フェノール系化合物、芳香族アミン系化合物、サルファイド系化合物、リン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒンダートアミン系化合物、Ni系化合物、シアノアクリレート系化合物、オキザリックアシッドアニリド系化合物、シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒドラジド誘導体、酸アミン系化合物、グアニジン類、メルカプトベンゾチアゾール金属塩(例えば、ナトリウム塩)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0062】
以下、これらの光安定化剤について詳細に説明する。
[1]フェノール系化合物
フェノール系化合物としては、例えば、N,N’−ジサリチリデン−1,2−プロパンジアミン、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、2−t−ブチル−4−メトキシフェノール、2−t−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−2−ジメチルアミノ−p−クレゾール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、スチレン化されたフェノール、スチレン化されたクレゾール、2−t−ブチル−6−(3’−t−ブチル−5’−メチル−2’−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−(6−シクロヘキシル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス−6−(1−メチルシクロヘキシル)−p−クレゾール、2,2’−エチリデン−ビス−(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−ブチリデン−ビス−(2−t−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,6−ヘキサンジオール−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート]、トリ−エチレングリコール−ビス−[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、N,N’−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、N,N’−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミン、2,2’−チオ−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオ−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−チオ−ジエチレン−ビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ビス[2−t−ブチル−4−メチル−6−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)フェニル]テレフテート、1,1,3−トリス−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、トリス[2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシヒドロ−シナモイルオキシル)エチル]イソシアヌレート、トリス−(4−t−ブチル−2,6−ジメチル−3−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、エチル−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)リン酸の金属塩(例えばカルシウム塩)、プロピル−3,4,5−トリ−ヒドロキシベンゼンカルボネート、オクチル−3,4,5−トリ−ヒドロキシベンゼンカルボネート、ドデシル−3,4,5−トリ−ヒドロキシベンゼンカルボネート、2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−{β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0063】
[2]芳香族アミン系化合物
芳香族アミン系化合物としては、例えば、アルキル化ジフェニルアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N、N’−ジアリール−p−フェニレンジアミン、6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ヒドロキノリン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−1,3−ジメチルブチル−p−フェニレンジアミン、2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノン(高分子化されたものを含む)、アルドール−α−ナフチルアミン、N−フェニル−β−ナフチルアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、4,4’−ジオクチル−ジフェニルアミンや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0064】
[3]サルファイド系化合物
サルファイド系化合物としては、例えば、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジトリデシル−3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3’−メチル−3,3’−チオジプロピオネート、ラウリル−ステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、ビス[2−メチル−4−{3−n−アルキルチオプロピオニルオキシ}−5−t−ブチルフェニル]サルファイド、ペンタエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオプロピオネート)、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾールや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0065】
[4]リン系化合物
リン系化合物としては、例えば、トリス(イソデシル)ホスファイト、トリス(トリデシル)ホスファイト、フェニルジイソオクチルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ(トリデシル)ホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルトリデシルホスファイト、ホスホナスアシッド[1,1−ジフェニル−4,4’−ジイルビステトラキス[2,4−ビス(1,1−ジメチルエチル)フェニル]エステル、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、4,4’−イソプロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ビフェニル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジフォスファイト、フェニル−ビスフェノールA ペンタエリスリトールジフォスファイト、テトラトリデシル−4,4’−ブチリデン−ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)−ジホスファイト、ヘキサトリデシル1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタントリホスファイト、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスフェート ジエチルエステル、9,10−ジヒドロ−9−エクサ−10−ホスホフェナンスレン−10−オキシド、ビス(4−t−ブチルフェニル)リン酸の金属塩(例えば、ナトリウム塩)、2,2’−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)リン酸の金属塩(例えば、ナトリウム塩)、1,3−ビス(ジフェノキシホスホニルオキシ)ベンゼンや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0066】
[5]サリシレート系化合物
サリシレート系化合物としては、例えば、フェニルサリシレート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、4−t−オクチルフェニルサリシレートや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0067】
[6]ベンゾフェノン系化合物
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、ビス(5−ベンゾイル−4−ヒドロキシ−2−メトキシフェニル)メタン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノンや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0068】
[7]ベンゾトリアゾール系化合物
ベンゾトリアゾール系化合物としては、例えば、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、トリルトリアゾール金属塩(例えば、カリウム塩)、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−アミル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2N−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]や、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0069】
[8]ヒンダートアミン系化合物
ヒンダートアミン系化合物としては、例えば、フェニル−4−ピペリジニルカーボネート、ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケート、ビス−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、ポリ[[6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)イミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル][(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ]ヘキサメチレン[(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノール]]、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、コハク酸と4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジンエタノールとの共重合体、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−トリデシル−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−トリデシル−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシレート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β,β−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物や、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0070】
[9]Ni系化合物
Ni系化合物としては、例えば、[2,2’−チオ−ビス(4−t−オクチルフェノレート)]−2−エチルヘキシルアミンニッケル(II)、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート、[2,2’−チオ−ビス(4−t−オクチルフェノラート)]−n−ブチルアミンニッケル(II)、ニッケル−ビス(オクチルフェニル)サルファイド、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル酸モノエチルエステル−Ni錯体、2,2’−チオ−ビス(4−t−オクチルフェノラート)トリエタノールアミンニッケル(II)や、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0071】
[10]シアノアクリレート系化合物
シアノアクリレート系化合物としては、例えば、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリレート、ブチル−2−シアノ−3−メチル−3−(p−メトキシフェニル)アクリレートや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0072】
[11]オキザリックアシッドアニリド系化合物
オキザリックアシッドアニリド系化合物としては、例えば、2−エトキシ−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリドや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0073】
[12]シュウ酸誘導体
シュウ酸誘導体としては、例えば、シュウ酸−ビス(ベンジリデンヒドラジド)、N,N’−ビス{2−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシル]エチル}オキサミドや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0074】
[13]サリチル酸誘導体
サリチル酸誘導体としては、例えば、3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−トリアゾール、1,12−ドデカン酸−ビス[2−(2−ヒドロキシベンゾイル)ヒドラジド]、N−サリチロイル−N’−サリチリデンヒドラジンや、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0075】
[14]ヒドラジド誘導体
ヒドラジド誘導体としては、例えば、N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、イソフタル酸−ビス[2−フェノキシプロピオニルヒドラジド]や、これらの誘導体(例えば、アルキル、アリール置換体)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0076】
[15]その他
その他の光安定化剤としては、例えば、酸アミン系化合物、グアニジン類、メルカプトベンゾチアゾール金属塩(例えば、ナトリウム塩)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
【0077】
以上説明したものの中でも、光安定化剤としては、フェノール系化合物、芳香族アミン系化合物、サルファイド系化合物、リン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒンダートアミン系化合物、Ni系化合物、シアノアクリレート系化合物、オキザリックアシッドアニリド系化合物、シュウ酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒドラジド誘導体のうち少なくとも1種を含むものが好ましく、ベンゾトリアゾール系化合物またはヒンダートアミン系化合物を主とするものがより好ましい。光安定化剤としてこのような材料を用いることにより、上述した効果がさらに顕著なものとなる。
【0078】
特に、光安定化剤として、ベンゾトリアゾール系化合物またはヒンダートアミン系化合物を主とするものを用いた場合、用いる光源(例えば、後述する投射型表示装置の光源やバックライト)の波長領域での耐光性が、特に優れたものとなる。また、耐光性の向上とともに、耐熱性も向上し、熱分解反応の発生等も効果的に防止することができる。その結果、液晶パネル1A全体としての安定性がさらに優れたものとなる。
【0079】
また、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒンダートアミン系化合物は、前述した光安定化膜の主成分(例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリアリーレンエーテルニトリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂等の高分子材料)との相溶性が特に優れており、また、光安定化膜の主成分との化学反応等を生じ難い。このため、光安定化剤として、ベンゾトリアゾール系化合物またはヒンダートアミン系化合物を主とするものを用いることにより、光安定化膜自体の安定性が特に優れたものとなり、液晶パネル1Aの耐光性をさらに優れたものとすることができる。
【0080】
光安定化剤の平均分子量Mwは、250〜3000であるのが好ましく、500〜2000であるのがより好ましい。光安定化剤の平均分子量Mwが前記下限値未満であると、光安定化剤が液晶層2等に移行し易くなり、液晶層2の機能が低下する可能性がある。一方、光安定化剤の平均分子量Mwが前記上限値を超えると、前述した高分子材料との相溶性が低下し、均質な光安定化膜を形成するのが困難となる可能性がある。
【0081】
また、光安定化膜中に含まれる光安定化剤は、金属イオンを除去したものであるのが好ましい。これにより、液晶パネル1Aの長期安定性がさらに向上する。金属イオンの除去は、例えば、イオン交換樹脂を用いた精製等により行うことができる。
【0082】
光安定化膜中の金属イオン濃度は、5ppm以下であるのが好ましく、0.5ppm以下であるのがより好ましく、0.10ppm以下であるのがさらに好ましい。このように、金属イオン濃度を十分に低くすることにより、上記のような効果はさらに顕著なものとなる。一方、光安定化膜中の金属イオン濃度が大きすぎると、金属イオンが、配向膜、液晶層等に移行し易くなり、例えば、電圧保持率の低下等の液晶層の機能低下を生じる可能性がある。
【0083】
光安定化膜中における光安定化剤の含有量は、例えば、1〜20wt%であるのが好ましく、5〜15wt%であるのがより好ましく、10〜15wt%であるのがさらに好ましい。
【0084】
光安定化剤の含有量が前記下限値未満であると、液晶パネルの使用環境等によっては、本発明の効果が十分に得られない可能性がある。一方、光安定化剤の含有量が前記上限値を超えると、高分子材料との相溶性が低下し、均質な光安定化膜を形成することが困難になる可能性がある。なお、光安定化剤の含有量は、配向膜3Aと配向膜3A’とで、同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
【0085】
光安定化膜の形成方法としては、例えば、ディッピング、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗装・塗布法、溶射法、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法、真空蒸着、スパッタリング、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、イオンプレーティング等の乾式めっき法等が挙げられるが、この中でも特に、スピンコート法が好ましい。スピンコート法を用いることにより、均質で、均一な膜厚の光安定化膜を、容易かつ確実に形成することができる。
【0086】
このような光安定化膜は、その平均厚さが10〜60nmであるのが好ましく、20〜30nmであるのがより好ましい。
【0087】
光安定化膜の平均厚さが前記下限値未満であると、本発明の効果が十分に得られない可能性がある。一方、光安定化膜の平均厚さが前記上限値を超えると、駆動電圧が高くなり、消費電力が大きくなる場合がある。
【0088】
また、光安定化膜の平均厚さをTs[nm]、配向膜の平均厚さをTo[nm]としたとき、20≦Ts+To≦120の関係を満足するのが好ましく、40≦Ts+To≦100の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、消費電力を低く保ちながら、耐光性に優れた液晶パネルを形成することができる。
【0089】
また、光安定化膜の平均厚さをTs[nm]、配向膜の平均厚さをTo[nm]としたとき、0.2≦To/Ts≦5.0の関係を満足するのが好ましく、0.5≦To/Ts≦4.0の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、消費電力を低く保ちながら、耐光性に優れた液晶パネルを形成することができるという効果が得られる。
【0090】
なお、光安定化剤は、光安定化膜中に均一に分散したものであってもよいし、そうでなくてもよい。例えば、光安定化膜は、その厚さ方向に、光安定化剤の含有率が変化するものであってもよい。
【0091】
また、光安定化膜は、例えば、複数の層の積層体であってもよい。
また、光安定化膜は、例えば、その少なくとも一部が、配向膜と一体化したものであってもよい。
【0092】
光安定化膜4Aの外表面側(液晶層2と対向する面とは反対の面側)には、透明導電膜(透明電極)5が配置されている。同様に、光安定化膜4A’の外表面側(液晶層2と対向する面とは反対の面側)には、透明導電膜(透明電極)6が配置されている。
【0093】
透明導電膜5、6は、これらの間で通電を行うことにより、液晶層2の液晶分子を駆動する(配向を変化させる)機能を有する。
【0094】
透明導電膜5、6間での通電の制御は、透明導電膜に接続された制御回路(図示せず)から供給する電流を制御することにより行われる。
【0095】
透明導電膜5、6は、導電性を有しており、例えば、インジウムティンオキサイド(ITO)、インジウムオキサイド(IO)、酸化スズ(SnO2)、アンチモンティンオキサイド(ATO)、インジウムジンクオキサイド(IZO)等で構成されている。
【0096】
透明導電膜5の外表面側(光安定化膜4Aと対向する面とは反対の面側)には、基板9が配置されている。同様に、透明導電膜6の外表面側(光安定化膜4A’と対向する面とは反対の面側)には、基板10が配置されている。
【0097】
基板9、10は、前述した液晶層2、配向膜3A、3A’、光安定化膜4A、4A’、透明導電膜5、6、および後述する偏光膜7A、8Aを支持する機能を有している。基板9、10の構成材料は、特に限定されず、例えば、石英ガラス等のガラスやポリエチレンテレフタレート等のプラスチック材料等が挙げられる。この中でも特に、石英ガラス等のガラスで構成されたものであるのが好ましい。これにより、そり、たわみ等の生じにくい、より安定性に優れた液晶パネルを得ることができる。なお、図1では、シール材、配線等の記載は省略した。
【0098】
基板9の外表面側(透明導電膜5と対向する面とは反対の面側)には、偏光膜(偏光板、偏光フィルム)7Aが配置されている。同様に、基板10の外表面側(透明導電膜6と対向する面とは反対の面側)には、偏光膜(偏光板、偏光フィルム)8Aが配置されている。
【0099】
偏光膜7A、8Aの構成材料としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)等が挙げられる。また、偏光膜としては、前記材料にヨウ素をドープしたもの等を用いてもよい。
【0100】
偏光膜としては、例えば、上記材料で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いることができる。
【0101】
このような偏光膜7A、8Aに配置することにより、通電量の調節による光の透過率の制御をより確実に行うことができる。
【0102】
偏光膜7A、8Aの偏光軸の方向は、通常、配向膜3A、3A’の配向方向に応じて決定される。
【0103】
図2は、本発明の液晶パネルの第2実施形態を示す模式的な縦断面図である。以下、図2に示す液晶パネル1Bについて、前記第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
【0104】
図2に示すように、液晶パネル(TFT液晶パネル)1Bは、TFT基板(液晶駆動基板)17と、TFT基板17に接合された光安定化膜4Bと、光安定化膜4Bに接合された配向膜3Bと、液晶パネル用対向基板12と、液晶パネル用対向基板12に接合された光安定化膜4B’と、光安定化膜4B’に接合された配向膜3B’と、配向膜3Bと配向膜3B’との空隙に封入された液晶よりなる液晶層2と、TFT基板(液晶駆動基板)17の外表面側(光安定化膜4Bと対向する面とは反対の面側)に接合された偏光膜7Bと、液晶パネル用対向基板12の外表面側(光安定化膜4B’と対向する面とは反対の面側)に接合された偏光膜8Bとを有している。配向膜3B、3B’は、前記第1実施形態で説明した配向膜3A、3A’と同様なものであり、光安定化膜4B、4B’は、前記第1実施形態で説明した光安定化膜4A、4A’と同様なものであり、偏光膜7B、8Bは、前記第1実施形態で説明した偏光膜7A、8Aと同様なものである。
【0105】
液晶パネル用対向基板12は、マイクロレンズ基板11と、かかるマイクロレンズ基板11の表層114上に設けられ、開口131が形成されたブラックマトリックス13と、表層114上にブラックマトリックス13を覆うように設けられた透明導電膜(共通電極)14とを有している。
【0106】
マイクロレンズ基板11は、凹曲面を有する複数(多数)の凹部(マイクロレンズ用凹部)112が設けられたマイクロレンズ用凹部付き基板(第1の基板)111と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板111の凹部112が設けられた面に樹脂層(接着剤層)115を介して接合された表層(第2の基板)114とを有しており、また、樹脂層115では、凹部112内に充填された樹脂によりマイクロレンズ113が形成されている。
【0107】
マイクロレンズ用凹部付き基板111は、平板状の母材(透明基板)より製造され、その表面には、複数(多数)の凹部112が形成されている。凹部112は、例えば、マスクを用いた、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等により形成することができる。
【0108】
このマイクロレンズ用凹部付き基板111は、例えば、ガラス等で構成されている。
【0109】
前記母材の熱膨張係数は、ガラス基板171の熱膨張係数とほぼ等しいもの(例えば両者の熱膨張係数の比が1/10〜10程度)であることが好ましい。これにより、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
【0110】
かかる観点からは、マイクロレンズ用凹部付き基板111と、ガラス基板171とは、同種類の材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【0111】
特に、マイクロレンズ基板11を高温ポリシリコンのTFT液晶パネルに用いる場合には、マイクロレンズ用凹部付き基板111は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。TFT液晶パネルは、液晶駆動基板としてTFT基板を有している。かかるTFT基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、マイクロレンズ用凹部付き基板111を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたTFT液晶パネルを得ることができる。
【0112】
マイクロレンズ用凹部付き基板111の上面には、凹部112を覆う樹脂層(接着剤層)115が設けられている。
【0113】
凹部112内には、樹脂層115の構成材料が充填されることにより、マイクロレンズ113が形成されている。
【0114】
樹脂層115は、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板111の構成材料の屈折率よりも高い屈折率の樹脂(接着剤)で構成することができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリルエポキシ系のような紫外線硬化樹脂等で好適に構成することができる。
【0115】
樹脂層115の上面には、平板状の表層114が設けられている。
表層(ガラス層)114は、例えばガラスで構成することができる。この場合、表層114の熱膨張係数は、マイクロレンズ用凹部付き基板111の熱膨張係数とほぼ等しいもの(例えば両者の熱膨張係数の比が1/10〜10程度)とすることが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板111と表層114の熱膨張係数の相違により生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。このような効果は、マイクロレンズ用凹部付き基板111と表層114とを同種類の材料で構成すると、より効果的に得られる。
【0116】
表層114の厚さは、マイクロレンズ基板11が液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、5〜1000μm程度とされ、より好ましくは10〜150μm程度とされる。
【0117】
なお、表層(バリア層)114は、例えばセラミックスで構成することもできる。なお、セラミックスとしては、例えば、AlN、SiN、TiN、BN等の窒化物系セラミックス、Al2O3、TiO2等の酸化物系セラミックス、WC、TiC、ZrC、TaC等の炭化物系セラミックスなどが挙げられる。表層114をセラミックスで構成する場合、表層114の厚さは、特に限定されないが、20nm〜20μm程度とすることが好ましく、40nm〜1μm程度とすることがより好ましい。
なお、このような表層114は、必要に応じて省略することができる。
【0118】
ブラックマトリックス13は、遮光機能を有し、例えば、Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂等で構成されている。
【0119】
透明導電膜14は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド(ITO)、インジウムオキサイド(IO)、酸化スズ(SnO2)、アンチモンティンオキサイド(ATO)、インジウムジンクオキサイド(IZO)等で構成されている。
【0120】
TFT基板17は、液晶層2の液晶を駆動する基板であり、ガラス基板171と、かかるガラス基板171上に設けられ、マトリックス状(行列状)に配設された複数(多数)の画素電極172と、各画素電極172に対応する複数(多数)の薄膜トランジスタ(TFT)173とを有している。なお、図2では、シール材、配線等の記載は省略した。
【0121】
ガラス基板171は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【0122】
画素電極172は、透明導電膜(共通電極)14との間で充放電を行うことにより、液晶層2の液晶を駆動する。この画素電極172は、例えば、前述した透明導電膜14と同様の材料で構成されている。
【0123】
薄膜トランジスタ173は、近傍の対応する画素電極172に接続されている。また、薄膜トランジスタ173は、図示しない制御回路に接続され、画素電極172へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極172の充放電が制御される。
【0124】
光安定化膜4Bは、TFT基板17の画素電極172と接合しており、光安定化膜4B’は、液晶パネル用対向基板12の透明導電膜14と接合している。また、配向膜3Bは、光安定化膜4Bと接合しており、配向膜3B’は、光安定化膜4B’と接合している。
【0125】
液晶層2は液晶分子を含有しており、画素電極172の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
【0126】
このような液晶パネル1Bでは、通常、1個のマイクロレンズ113と、かかるマイクロレンズ113の光軸Qに対応したブラックマトリックス13の1個の開口131と、1個の画素電極172と、かかる画素電極172に接続された1個の薄膜トランジスタ173とが、1画素に対応している。
【0127】
液晶パネル用対向基板12側から入射した入射光Lは、マイクロレンズ用凹部付き基板111を通り、マイクロレンズ113を通過する際に集光されつつ、樹脂層115、表層114、ブラックマトリックス13の開口131、透明導電膜14、液晶層2、画素電極172、ガラス基板171を透過する。このとき、マイクロレンズ基板11の入射側に偏光膜8Bが設けられているため、入射光Lが液晶層2を透過する際に、入射光Lは直線偏光となっている。その際、この入射光Lの偏光方向は、液晶層2の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル1Bを透過した入射光Lを偏光膜7Bに透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【0128】
このように、液晶パネル1Bは、マイクロレンズ113を有しており、しかも、マイクロレンズ113を通過した入射光Lは、集光されてブラックマトリックス13の開口131を通過する。一方、ブラックマトリックス13の開口131が形成されていない部分では、入射光Lは遮光される。したがって、液晶パネル1Bでは、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Lの減衰が抑制される。このため、液晶パネル1Bは、画素部で高い光の透過率を有する。
【0129】
この液晶パネル1Bは、例えば、公知の方法により製造されたTFT基板17と液晶パネル用対向基板12とに、それぞれ、光安定化膜4B、4B’を接合し、さらに、これらの表面に、配向膜3B、3B’を接合し、その後、シール材(図示せず)を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔(図示せず)から液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。
【0130】
なお、上記液晶パネル1Bでは、液晶駆動基板としてTFT基板を用いたが、液晶駆動基板にTFT基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、TFD基板、STN基板などを用いてもよい。
【0131】
次に、本発明の液晶表示装置の一例として、上記液晶パネル1Bを用いた投射型表示装置(液晶プロジェクター)について説明する。
【0132】
図3は、本発明の液晶表示装置(投射型表示装置)の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置300は、光源301と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系(導光光学系)と、赤色に対応した(赤色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)24と、緑色に対応した(緑色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)25と、青色に対応した(青色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)26と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面211および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面212が形成されたダイクロイックプリズム(色合成光学系)21と、投射レンズ(投射光学系)22とを有している。
【0133】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ302および303を有している。色分離光学系は、ミラー304、306、309、青色光および緑色光を反射する(赤色光のみを透過する)ダイクロイックミラー305、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー307、青色光のみを反射するダイクロイックミラー(または青色光を反射するミラー)308、集光レンズ310、311、312、313および314とを有している。
【0134】
液晶ライトバルブ25は、前述した液晶パネル1Bを備えている。液晶ライトバルブ24および26も、液晶ライトバルブ25と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ24、25および26が備えている液晶パネル1Bは、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
【0135】
なお、投射型表示装置300では、ダイクロイックプリズム21と投射レンズ22とで、光学ブロック20が構成されている。また、この光学ブロック20と、ダイクロイックプリズム21に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ24、25および26とで、表示ユニット23が構成されている。
【0136】
以下、投射型表示装置300の作用を説明する。
光源301から出射された白色光(白色光束)は、インテグレータレンズ302および303を透過する。この白色光の光強度(輝度分布)は、インテグレータレンズ302および303により均一にされる。光源301から出射される白色光は、その光強度が比較的大きいものであるのが好ましい。これにより、スクリーン320上に形成される画像をより鮮明なものとすることができる。また、投射型表示装置300では、耐光性に優れた液晶パネル1Bを用いているため、光源301から出射される光の強度が大きい場合であっても、優れた長期安定性が得られる。
【0137】
インテグレータレンズ302および303を透過した白色光は、ミラー304で図3中左側に反射し、その反射光のうちの青色光(B)および緑色光(G)は、それぞれダイクロイックミラー305で図3中下側に反射し、赤色光(R)は、ダイクロイックミラー305を透過する。
【0138】
ダイクロイックミラー305を透過した赤色光は、ミラー306で図3中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ310により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ24に入射する。
【0139】
ダイクロイックミラー305で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー307で図3中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー307を透過する。
【0140】
ダイクロイックミラー307で反射した緑色光は、集光レンズ311により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ25に入射する。
【0141】
また、ダイクロイックミラー307を透過した青色光は、ダイクロイックミラー(またはミラー)308で図3中左側に反射し、その反射光は、ミラー309で図3中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ312、313および314により整形され、青色用の液晶ライトバルブ26に入射する。
【0142】
このように、光源301から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【0143】
この際、液晶ライトバルブ24が有する液晶パネル1Bの各画素(薄膜トランジスタ173とこれに接続された画素電極172)は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路(駆動手段)により、スイッチング制御(オン/オフ)、すなわち変調される。
【0144】
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ25および26に入射し、それぞれの液晶パネル1Bで変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ25が有する液晶パネル1Bの各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ26が有する液晶パネル1Bの各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【0145】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ24、25および26で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【0146】
前記液晶ライトバルブ24により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ24からの赤色光は、面213からダイクロイックプリズム21に入射し、ダイクロイックミラー面211で図3中左側に反射し、ダイクロイックミラー面212を透過して、出射面216から出射する。
【0147】
また、前記液晶ライトバルブ25により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ25からの緑色光は、面214からダイクロイックプリズム21に入射し、ダイクロイックミラー面211および212をそれぞれ透過して、出射面216から出射する。
【0148】
また、前記液晶ライトバルブ26により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ26からの青色光は、面215からダイクロイックプリズム21に入射し、ダイクロイックミラー面212で図3中左側に反射し、ダイクロイックミラー面211を透過して、出射面216から出射する。
【0149】
このように、前記液晶ライトバルブ24、25および26からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ24、25および26により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム21により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ22により、所定の位置に設置されているスクリーン320上に投影(拡大投射)される。
【0150】
以上、本発明の液晶パネルおよび液晶表示装置を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0151】
例えば、前述した実施形態では、液晶層の両面側にそれぞれ、光安定化膜が設けられた構成について説明したが、少なくとも、1つの光安定化膜を有するものであればよい。この場合、少なくとも、光源からの光が入射する側に、光安定化膜が設置されているのが好ましい。
【0152】
また、前記光安定化剤は、光安定化膜以外の部位(例えば、配向膜中や液晶層中等)にも含まれていてもよい。これにより、液晶分子等の光劣化をより効果的に防止、抑制することが可能となり、液晶パネル、液晶表示装置としての長期安定性は、さらに優れたものとなる。この場合、光安定化膜以外の部位における光安定化剤の含有量(含有率)は、比較的低いもの(例えば、1.0wt%以下)であるのが好ましい。
【0153】
また、前述した実施形態では、透明導電膜(電極)の表面に光安定化膜が形成され、さらにその表面に配向膜が積層された構成について説明したが、例えば、透明導電膜(電極)と光安定化膜との間や、光安定化膜と配向膜との間には、中間層が設けられていてもよい。
【0154】
また、前述した実施形態では、液晶表示装置の一例として投射型表示装置について説明したが、本発明の液晶表示装置は、これに限定されない。本発明を適用することが可能な液晶表示装置としては、この他に、例えば、携帯電話や腕時計およびワープロやパソコンなどの電子機器や屋外に設置される液晶ディスプレイ等が挙げられる。
【0155】
また、前述した実施形態では、投射型表示装置(液晶表示装置)は、3個の液晶パネルを有するものであり、これらの全てに本発明の液晶パネル(光安定化膜を有する液晶パネル)を適用したものについて説明したが、少なくともこれらのうち1個が、本発明の液晶パネルであればよい。この場合、少なくとも、青色用の液晶ライトバルブに用いられる液晶パネルに本発明を適用するのが好ましい。
【0156】
【実施例】
[液晶パネルの製造]
以下のようにして、図2に示すような液晶パネルを製造した。
【0157】
(実施例1)
まず、以下のようにして、マイクロレンズ基板を製造した。
【0158】
厚さ約1.2mmの未加工の石英ガラス基板(透明基板)を母材として用意し、これを85℃の洗浄液(硫酸と過酸化水素水との混合液)に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【0159】
その後、この石英ガラス基板の表面および裏面に、CVD法により、厚さ0.4μmの多結晶シリコンの膜を形成した。
【0160】
次に、形成した多結晶シリコン膜に、形成する凹部に対応した開口を形成した。
【0161】
これは、次のようにして行った。まず、多結晶シリコン膜上に、形成する凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、多結晶シリコン膜に対してCFガスによるドライエッチングを行ない、開口を形成した。次に、前記レジスト層を除去した。
【0162】
次に、石英ガラス基板をエッチング液(10wt%フッ酸+10wt%グリセリンの混合水溶液)に120分間浸漬してウエットエッチング(エッチング温度30℃)を行い、石英ガラス基板上に凹部を形成した。
【0163】
その後、石英ガラス基板を、15wt%テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に5分間浸漬して、表面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去することにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
【0164】
次に、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された面に、紫外線(UV)硬化型アクリル系の光学接着剤(屈折率1.60)を気泡なく塗布し、次いで、かかる光学接着剤に石英ガラス製のカバーガラス(表層)を接合し、次いで、かかる光学接着剤に紫外線を照射して光学接着剤を硬化させ、積層体を得た。
【0165】
その後、カバーガラスを厚さ50μmに研削、研磨して、マイクロレンズ基板を得た。
なお、得られたマイクロレンズ基板では、樹脂層の厚みは12μmであった。
【0166】
以上のようにして得られたマイクロレンズ基板について、スパッタリング法およびフォトリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロレンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ0.16μmの遮光膜(Cr膜)、すなわち、ブラックマトリックスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚さ0.15μmのITO膜(透明導電膜)をスパッタリング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造した。
【0167】
このようにして得られた液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に光安定化膜を以下のようにして形成した。
まず、ポリイミド系樹脂の溶液(JSR株式会社製:AL6256)を用意し、これに光安定化剤として旭電化工業株式会社製のアデカスタブ LA−63P(ヒンダートアミン系化合物:1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ぺンタメチル−4−ピペリジノールとβ,β,β,β−テトラメチル−3,9−(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン)ジエタノールとの縮合物(平均分子量Mw:約2000)を主とする光安定化剤)を加えた。このようにして得られた組成物中における光安定化剤の添加量は、樹脂固形分に対して0.5wt%とした。
このようにして得られた組成物を用いて、スピンコート法により、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上に光安定化膜を形成した。形成された光安定化膜の平均厚さTsは、30nmであった。
【0168】
次に、上記のようにして形成された光安定化膜の表面に配向膜を以下のようにして形成した。
まず、ポリイミド系樹脂の溶液(JSR株式会社製:AL20703)を用いて、スピンコート法により、光安定化膜の表面に平均厚さ30nmの膜を形成した。
このようにして形成された膜に、プレチルドが2〜3°となるように、ラビング処理を施し、配向膜(平均厚さTo:30nm)とした。
【0169】
また、別途用意したTFT基板(石英ガラス製)の表面上にも、上記と同様にして、光安定化膜、配向膜を積層した。
【0170】
光安定化膜、配向膜が形成された液晶パネル用対向基板と、光安定化膜、配向膜が形成されたTFT基板とを、シール材を介して接合した。この接合は、液晶層を構成する液晶分子が左ツイストするように配向膜の配向方向が90°ずれるように行った。
【0171】
次に、配向膜−配向膜間に形成された空隙部の封入孔から液晶(メルク社製:MJ99247)を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞いだ。形成された液晶層の厚さは、約3μmであった。
【0172】
その後、液晶パネル用対向基板の外表面側と、TFT基板の外表面側とに、それぞれ、偏光膜8B、偏光膜7Bを接合することにより、図2に示すような構造のTFT液晶パネルを製造した。偏光膜としては、ポリビニルアルコール(PVA)で構成された膜を一軸方向に延伸したものを用いた。なお、偏光膜7B、偏光膜8Bの接合方向は、それぞれ、配向膜3B、配向膜3B’の配向方向に基づき決定した。すなわち、電圧印可時には入射光が透過せず、電圧無印可時には入射光が透過するように、偏光膜7B、偏光膜8Bを接合した。
【0173】
(実施例2〜5)
光安定化膜中における光安定化剤の含有量、光安定化膜の平均厚さTs、配向膜の平均厚さToを表1に示すように変更した以外は、前記実施例1と同様にして液晶パネルを製造した。
【0174】
(実施例6)
光安定化膜中に含まれる光安定化剤として、金属イオンの除去操作を施したものを用いた以外は、前記実施例1と同様にして液晶パネルを製造した。なお、金属イオンの除去は、イオン交換樹脂を用いて行った。
【0175】
(実施例7〜10)
光安定化膜中における光安定化剤の含有量、光安定化膜の平均厚さTs、配向膜の平均厚さToを表1に示すように変更した以外は、前記実施例6と同様にして液晶パネルを製造した。
【0176】
(実施例11〜15)
配向膜を、以下のような傾斜蒸着法により形成した以外は、前記実施例6〜10と同様にして液晶パネルを製造した。
蒸発源としては、酸化ケイ素(SiO2)を用いた。
また、本実施例では、蒸発粒子の進行方向と、前記光安定化膜の法線方向とのなす角θが、80°となるような状態で斜方蒸着を行った。また、斜方蒸着を行う際の、蒸着源と光安定化膜との距離は、50cmであった。
【0177】
(実施例16)
光安定化膜中における光安定化剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のTINUVIN 234(ベンゾトリアゾール系化合物:2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール(平均分子量Mw:448)を主とする光安定化剤)を用いた以外は、前記実施例1と同様にして液晶パネルを製造した。
【0178】
(実施例17〜20)
光安定化膜中における光安定化剤の含有量、光安定化膜の平均厚さTs、配向膜の平均厚さToを表2に示すように変更した以外は、前記実施例16と同様にして液晶パネルを製造した。
【0179】
(実施例21)
光安定化膜中に含まれる光安定化剤として、金属イオンの除去操作を施したものを用いた以外は、前記実施例16と同様にして液晶パネルを製造した。なお、金属イオンの除去は、イオン交換樹脂を用いて行った。
【0180】
(実施例22〜25)
光安定化膜中における光安定化剤の含有量、光安定化膜の平均厚さTs、配向膜の平均厚さToを表2に示すように変更した以外は、前記実施例21と同様にして液晶パネルを製造した。
【0181】
(実施例26〜30)
配向膜を、以下のような傾斜蒸着法(2回斜方蒸着法)により形成した以外は、前記実施例21〜25と同様にして液晶パネルを製造した。
蒸発源としては、酸化ケイ素(SiO2)を用いた。
まず、蒸発粒子の進行方向と、前記光安定化膜の法線方向とのなす角θが、80°となるような状態で、1回目の斜方蒸着を行った。また、斜方蒸着を行う際の、蒸着源と光安定化膜との距離は、50cmであった。
次に、1回目の斜方蒸着が施された基板(液晶パネル用対向基板およびTFT基板)を、鉛直方向の軸を中心に180°回転させ、2回目の斜方蒸着を施した。2回目の斜方蒸着は、蒸発粒子の進行方向と、前記光安定化膜の法線方向とのなす角θが60°となるような状態で行った。また、斜方蒸着を行う際の、蒸着源と光安定化膜との距離は、40cmであった。
【0182】
(比較例)
光安定化膜を設けなかった以外は、前記実施例1と同様にして液晶パネルを製造した。
【0183】
[液晶パネルの評価]
上記各実施例および比較例で製造した液晶パネルについて、光透過率を連続的に測定した。光透過率の測定は、各液晶パネルを50℃の温度下に置き、電圧無印加の状態で、15lm/mm2の光束密度の白色光を照射することにより行った。
【0184】
表1、表2には、光安定化膜、配向膜の条件とともに、光透過率の測定の結果をまとめて示した。なお、表1中のA[%]は、製造直後(光透過率の連続測定開始直後)の光透過率を示し、B[%]は、白色光の照射開始から3000時間後の光透過率を示す。
【0185】
【表1】
【0186】
【表2】
【0187】
表1、表2から明らかなように、本発明の液晶パネルにおいては、光透過率はほとんど減少していない。特に、光安定化膜中の金属イオン濃度の低い液晶パネル、光安定化剤の含有量が比較的大きい液晶パネルでは、光透過率の減少が極めて小さい。
【0188】
これに対して、比較例の液晶パネルでは、白色光の照射を開始してから650時間程度で、目視で確認できる変色(やけ)を生じ、光透過率が大きく減少し、白色光の照射開始900時間後程度で、光透過率は0%になった。
【0189】
[液晶プロジェクター(液晶表示装置)の評価]
上記各実施例および比較例で製造したTFT液晶パネルを用いて、図3に示すような構造の液晶プロジェクター(投射型表示装置)を組み立て、5000時間連続駆動させた。
【0190】
その結果、実施例1〜30の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクター(液晶表示装置)は、長時間連続して駆動させた場合であっても、鮮明な投射画像が得られた。
【0191】
これに対し、比較例の液晶パネルを用いて製造された液晶プロジェクター(液晶表示装置)では、駆動時間に伴い、投射画像の鮮明度が明らかに低下した。
【0192】
また、光安定化剤の種類をフェノール系化合物(トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、平均分子量Mw:784)、芳香族アミン系化合物(N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、平均分子量Mw:260)、サルファイド系化合物(ジステアリル−3,3’−チオジプロピオネート、平均分子量Mw:683)、リン系化合物(トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、平均分子量Mw:647)、サリシレート系化合物(4−t−ブチルフェニルサリシレート、平均分子量Mw:270)、ベンゾフェノン系化合物(2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、平均分子量Mw:326)、Ni系化合物(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル酸モノエチルエステル−Ni錯体、平均分子量Mw:713)、シアノアクリレート系化合物(エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、平均分子量Mw:277)、オキザリックアシッドアニリド系化合物(2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エチルオキザリックアシッドビスアニリド、平均分子量Mw:369)、シュウ酸誘導体(シュウ酸−ビス(ベンジリデンヒドラジド)、平均分子量Mw:292)、サリチル酸誘導体(1,12−ドデカン酸−ビス[2−(2−ヒドロキシベンゾイル)ヒドラジド]、平均分子量Mw:498)、ヒドラジド誘導体(N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、平均分子量Mw:552)に変更した以外は、前記と同様にして、液晶パネル、液晶表示装置を製造し、これらについて前記と同様の評価を行った。
その結果、これらの光安定化剤の含有量が、表1、表2に示すような範囲においては、いずれの液晶パネルも、B/Aの値が0.88以上であり、前記と同様の効果が確認された。
また、これらの液晶パネルを用いた液晶プロジェクター(投射型表示装置)は、実施例1〜30による液晶プロジェクターと同様、5000時間連続駆動させた後でも、鮮明な投射画像が得られた。
【0193】
また、光安定化膜を、液晶パネル用対向基板の透明導電膜上またはTFT基板の表面のいずれか一方のみに形成した以外は、前記実施例1〜30と同様にして、液晶パネルおよび液晶表示装置(各々60種)を製造し、これらについて前記と同様の評価を行った。
その結果、いずれの液晶パネルも、B/Aの値が0.85以上であり、前記と同様の効果が確認された。
また、これらの液晶パネルを用いた液晶プロジェクター(投射型表示装置)は、実施例1〜30による液晶プロジェクターと同様、5000時間連続駆動させた後でも、鮮明な投射画像が得られた。
【0194】
これらの結果から、本発明の液晶パネル、液晶表示装置は、耐光性に優れ、長期間使用しても安定した特性が得られるものであることが分かる。
【0195】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、耐光性に優れた液晶パネルおよび液晶表示装置を提供することができる。
【0196】
したがって、本発明によれば、入射する光量が多い環境で用いられる液晶パネルおよび液晶表示装置であっても、特に優れた長期安定性を確保することができる。
【0197】
このような効果は、光安定化剤の組成、分子量や、光安定化膜中の金属イオン濃度等を調整することにより、さらに優れたものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の液晶パネルの第1実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図2】本発明の液晶パネルの第2実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図3】本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【符号の説明】
1A、1B……液晶パネル 2……液晶層 3A、3A’、3B、3B’……配向膜 4A、4A’、4B、4B’……光安定化膜 5……透明導電膜 6……透明導電膜 7A、7B……偏光膜 8A、8B……偏光膜 9……基板 10……基板 11……マイクロレンズ基板 111……マイクロレンズ用凹部付き基板112……凹部 113……マイクロレンズ 114……表層 115……樹脂層 12……液晶パネル用対向基板 13……ブラックマトリックス 131……開口 14……透明導電膜 17……TFT基板 171……ガラス基板 172……画素電極 173……薄膜トランジスタ 300……投射型表示装置 301……光源 302、303……インテグレータレンズ 304、306、309……ミラー 305、307、308……ダイクロイックミラー 310〜314……集光レンズ 320……スクリーン 20……光学ブロック21……ダイクロイックプリズム 211、212……ダイクロイックミラー面 213〜215……面 216……出射面 22……投射レンズ 23……表示ユニット 24〜26……液晶ライトバルブ[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a liquid crystal panel and a liquid crystal display device.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art A projection display device that projects an image on a screen is known. In this projection display device, a liquid crystal panel is mainly used for image formation.
[0003]
Such a liquid crystal panel usually has two alignment films and a liquid crystal layer sandwiched between them, and the constituent materials of the alignment film, the liquid crystal layer, and the like depend on the use environment, use time, and the like. Light degradation may occur. When such light deterioration occurs, constituent materials such as an alignment film and a liquid crystal layer are decomposed, and the decomposition products may adversely affect the performance of the liquid crystal and the like.
[0004]
It has been known that such an adverse effect is particularly prominent when used outdoors where a large amount of ultraviolet light is irradiated. However, with the recent increase in the brightness of projection-type display devices (liquid crystal panels), ultraviolet light has been It is becoming a big problem even when it is used indoors or the like where the irradiation amount is small.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a liquid crystal panel and a liquid crystal display device having excellent light resistance.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (26).
[0007]
(1) A liquid crystal panel having a liquid crystal layer and an alignment film,
A liquid crystal panel, wherein a light stabilizing film containing a light stabilizer is provided on a surface of the alignment film opposite to a surface facing the liquid crystal layer.
[0008]
(2) The liquid crystal panel according to (1), wherein a conductive film is provided on a surface of the alignment film opposite to a surface facing the liquid crystal layer.
[0009]
(3) A liquid crystal panel having a liquid crystal layer, an alignment film, and a transparent electrode,
A liquid crystal panel, wherein a light stabilizing film containing a light stabilizing agent is provided between the alignment film and the transparent electrode.
[0010]
(4) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (3), wherein light from a light source is incident.
[0011]
(5) The liquid crystal panel according to (4), wherein the light stabilizing film is provided at least on a surface of the liquid crystal layer on which light is incident.
[0012]
(6) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (5), wherein the light stabilizer has an average molecular weight Mw of 250 to 3000.
[0013]
(7) The light stabilizer includes a phenol compound, an aromatic amine compound, a sulfide compound, a phosphorus compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, a hindered amine compound, and a Ni compound. The liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (6), comprising at least one of a cyanoacrylate compound, an oxalic acid anilide compound, an oxalic acid derivative, a salicylic acid derivative, and a hydrazide derivative.
[0014]
(8) The liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (7), wherein the light stabilizer removes metal ions.
[0015]
(9) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (8), wherein a metal ion concentration in the light stabilizing film is 5 ppm or less.
[0016]
(10) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (9), wherein the content of the light stabilizer in the light stabilizing film is 1 to 20 wt%.
[0017]
(11) The light stabilizing film is mainly made of epoxy resin, phenol resin, fluorine resin, polyphenylene ether resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyether ether ketone resin, polyarylene ether nitrile resin, polyimide resin, polyamide imide The liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (10), which is made of a material composed of one or more selected from a resin, a polyetherimide resin, and a benzocyclobutene resin.
[0018]
(12) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (11), wherein the light stabilizing film is formed by a spin coating method.
[0019]
(13) The liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (12), wherein the light-stabilizing film has an average thickness of 10 to 60 nm.
[0020]
(14) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (13), wherein the average thickness of the alignment film is 10 to 60 nm.
[0021]
(15) When the average thickness of the light stabilizing film is Ts [nm] and the average thickness of the alignment film is To [nm], the above (1) to (1) satisfying the relationship of 20 ≦ Ts + To ≦ 120 A liquid crystal panel according to any one of 14).
[0022]
(16) When the average thickness of the light stabilizing film is Ts [nm] and the average thickness of the alignment film is To [nm], a relationship of 0.2 ≦ To / Ts ≦ 5.0 is satisfied. The liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (15).
[0023]
(17) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (16), wherein the alignment film is mainly formed of a polyimide resin or a polyamideimide resin.
[0024]
(18) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (16), wherein the alignment film is an obliquely evaporated inorganic film mainly formed of an inorganic material.
[0025]
(19) The liquid crystal panel according to (18), wherein the alignment film is mainly formed of silicon oxide.
[0026]
(20) The liquid crystal according to any one of (1) to (19), wherein a microlens substrate is provided on one of the alignment films on a surface opposite to a surface facing the liquid crystal layer. panel.
[0027]
(21) The liquid crystal panel according to (20), wherein a black matrix and a conductive film covering the black matrix are provided on a surface of the microlens substrate facing the liquid crystal layer.
[0028]
(22) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (21), further including a liquid crystal driving substrate provided with a pixel electrode.
[0029]
(23) The liquid crystal panel according to (22), wherein the liquid crystal driving substrate is a TFT substrate including the pixel electrodes arranged in a matrix and a thin film transistor connected to the pixel electrodes.
[0030]
(24) A liquid crystal display device comprising the liquid crystal panel according to any one of (1) to (23).
[0031]
(25) A liquid crystal display device comprising: a light valve provided with the liquid crystal panel according to any one of (1) to (23); and projecting an image using at least one of the light valves.
[0032]
(26) Three light valves corresponding to red, green, and blue for forming an image, a light source, and light from the light source is separated into red, green, and blue light, and the light valves corresponding to each light are separated. A liquid crystal display device having a color separation optical system that guides the image, a color synthesis optical system that synthesizes the images, and a projection optical system that projects the synthesized image,
A liquid crystal display device, wherein the light valve includes the liquid crystal panel according to any one of (1) to (23).
[0033]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a liquid crystal panel and a liquid crystal display device of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0034]
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a first embodiment of the liquid crystal panel of the present invention. As shown in FIG. 1, the
[0035]
The
As the liquid crystal molecules constituting the
[0036]
On both surfaces of the
[0037]
The
[0038]
Examples of the organic polymer material constituting the
[0039]
As the inorganic material forming the
[0040]
As described above, the
[0041]
The rubbing method is a method of rubbing (rubbing) the surface of a film in a certain direction using a roller or the like. By performing such a treatment, the film becomes anisotropic in the rubbing direction, and the orientation direction of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer can be regulated.
[0042]
The photo-alignment method is a method of irradiating light such as linearly polarized ultraviolet light to the vicinity of the surface of a film to selectively react only molecules oriented in a specific direction among polymers constituting the film. By performing such a treatment, the film becomes anisotropic, and it becomes possible to regulate the orientation direction of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer.
[0043]
The above-described alignment treatment is generally performed on a light-stabilizing film formed on a substrate, after forming a film made of the above material on the surface of the film. As a method of forming a film on the surface of the light stabilizing film, for example, various coating and coating methods such as dipping, doctor blade, spin coating, brush coating, spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, roll coater, and thermal spraying Methods, wet plating methods such as electrolytic plating, immersion plating, and electroless plating, chemical vapor deposition methods (CVD) such as vacuum deposition, sputtering, thermal CVD, plasma CVD, and laser CVD, and dry plating methods such as ion plating. Of these, the spin coating method is particularly preferred. By using the spin coating method, a film having a uniform thickness and a uniform thickness can be easily and reliably formed.
[0044]
In addition, by controlling the film forming conditions, an alignment function can be provided without performing the above-described alignment treatment after film formation. For example, by using the oblique deposition method, a film to be formed has an alignment function, and does not have the above-described alignment treatment after film formation, and has a function as an alignment film as it is. .
[0045]
When using the oblique deposition method, the alignment film is usually formed on the surface of the light stabilizing film formed on the substrate.
[0046]
In the oblique vapor deposition method, the vapor deposition film is usually formed in a state of being inclined at a predetermined angle with respect to the normal direction of the substrate on which the light stabilizing film is formed. That is, the oblique deposition method is performed in a state where the traveling direction of the evaporated particles and the normal direction of the light stabilizing film form a predetermined angle θ. By performing the vapor deposition in this way, for example, an alignment film made of a crystalline structure such as a columnar crystal arranged at a predetermined angle with respect to the surface of the light stabilizing film can be easily and reliably formed.
[0047]
The predetermined angle θ (absolute value) varies depending on the material used and the like, but is preferably, for example, 40 to 85 °, and more preferably 50 to 85 °. By setting the predetermined angle θ to a value within such a range, for example, the pretilt angle of the liquid crystal when no voltage is applied is easily and reliably controlled so as to be a more preferable angle (for example, 0 to 25 °). be able to.
[0048]
In the case of forming by a vapor deposition method, the distance between the vapor deposition source and the light stabilizing film is not particularly limited, but is preferably 20 to 100 cm, and more preferably 40 to 80 cm.
[0049]
When the distance between the evaporation source and the light stabilizing film is less than the lower limit, the formed alignment film tends to have a large variation in film thickness at each portion and a large microscopic structure difference. As a result, the reliability of the finally obtained liquid crystal panel may be reduced. On the other hand, if the distance between the vapor deposition source and the light stabilizing film exceeds the above upper limit, a huge vapor deposition device is required, and it becomes difficult to handle in a manufacturing process, for example, occupying a large work space.
[0050]
The oblique deposition may be performed in one step, or may be performed in a plurality of steps. The vapor deposition may be performed while the substrate on which the light stabilizing film is formed is fixed, or may be performed while rotating the substrate.
[0051]
By forming the alignment film by the oblique evaporation method as described above, a high liquid crystal pretilt angle having a uniform surface shape can be reproduced without requiring an alignment treatment such as a rubbing treatment.
[0052]
In the oblique deposition method as described above, among the above materials, a material mainly containing an inorganic material is preferably used, and a material mainly containing silicon oxide is more preferably used. Such a material has particularly excellent light resistance, heat resistance, and the like. Therefore, by using such a material, the durability of the entire
[0053]
The above-mentioned alignment film preferably has an average thickness of 10 to 60 nm, more preferably 20 to 40 nm.
[0054]
When the average thickness of the alignment film is less than the lower limit, it may be difficult to provide a sufficient alignment function to the alignment film. On the other hand, when the average thickness of the alignment film exceeds the upper limit, the driving voltage may increase and the power consumption may increase.
[0055]
A
[0056]
As described above, the present invention is characterized in that a light stabilizing film containing a light stabilizing agent is provided. By providing the light stabilizing film, the light resistance of the entire liquid crystal panel is improved, and deterioration (decomposition, modification, etc.) of the constituent material of the alignment film or the constituent material of the liquid crystal layer by light (particularly, ultraviolet light or visible light) is performed. Can be effectively prevented. Thereby, the
[0057]
As described above, according to the present invention, a liquid crystal panel having excellent light resistance can be obtained. Therefore, the present invention provides a liquid crystal panel used in an environment with a large amount of ultraviolet irradiation (for example, outdoors) or a device with a large amount of light incident from a light source (for example, a projection display device described later). The present invention can be suitably applied to a liquid crystal panel in which it has conventionally been difficult to obtain stable characteristics over a long period of time.
[0058]
In particular, the present invention is characterized in that the light stabilizing film is provided between the alignment film and the transparent electrode (on the surface of the alignment film opposite to the surface facing the liquid crystal layer). By providing the light stabilizing film in such a portion, direct contact between the light stabilizing film and the liquid crystal layer is prevented. As a result, the transfer of the light stabilizer to the
[0059]
The light stabilizing film is not particularly limited as long as the light stabilizing film contains a light stabilizing agent as described later in detail, but is usually mainly composed of a polymer material. As the polymer material constituting the light stabilizing film, any material may be used, but epoxy resin, phenol resin, fluorine resin, polyphenylene ether resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyether ether ketone resin, polyether It preferably contains one or more selected from an arylene ether nitrile resin, a polyimide resin, a polyamide imide resin, a polyether imide resin, and a benzocyclobutene resin, and at least one selected from a polyimide resin and a polyamide imide resin. More preferably, it contains a species. Such a material has particularly excellent heat resistance and low dielectric constant. As a result, the reliability of the liquid crystal panel becomes particularly high. Further, when the light stabilizing film is mainly composed of a polyimide resin or a polyamideimide resin, the adhesion to the alignment film described above is particularly excellent.
[0060]
The light stabilizer used in the present invention may be any as long as it has an effect of preventing and suppressing deterioration, decomposition, and the like of the constituent material of the alignment film and the constituent material of the liquid crystal layer due to light irradiation. .
[0061]
Examples of such light stabilizers include phenol compounds, aromatic amine compounds, sulfide compounds, phosphorus compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, hindered amine compounds, and Ni compounds. , Cyanoacrylate compounds, oxalic acid anilide compounds, oxalic acid derivatives, salicylic acid derivatives, hydrazide derivatives, acid amine compounds, guanidines, mercaptobenzothiazole metal salts (eg, sodium salts), and the like. One or more of them can be used in combination.
[0062]
Hereinafter, these light stabilizers will be described in detail.
[1] Phenolic compound
Examples of the phenol compound include N, N'-disalicylidene-1,2-propanediamine, 2,6-di-t-butylphenol, 2,4-di-t-butylphenol, and 2-t-butyl-4-. Methoxyphenol, 2-t-butyl-4,6-dimethylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2,4, 6-tri-t-butylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-hydroxymethylphenol, 2,6-di-t-butyl-2-dimethylamino-p-cresol, 2,5-di-t -Butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, n-octadecyl-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) -propionate, 2,4-bis- ( n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, styrenated phenol, styrenated cresol, 2-t-butyl-6 -(3'-t-butyl-5'-methyl-2'-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2, 2′-methylene-bis- (4-ethyl-6-t-butylphenol), 2,2′-methylene-bis- (6-cyclohexyl-4-methylphenol), 2,2′-methylene-bis-6 (1-methylcyclohexyl) -p-cresol, 2,2'-ethylidene-bis- (2,4-di-t-butylphenol), 2,2'-butylidene-bis- (2-t-butyl-4- Methylph Phenol), 4,4'-methylene-bis- (2,6-di-t-butylphenol), 4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,6-hexane Diol-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate], tri-ethyleneglycol-bis- [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-) Hydroxyphenyl) propionate], N, N′-bis- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, N, N′-bis- [3- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hexamethylenediamine, 2,2'-thio-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-thio-bis- (3 -Methyl-6 t-butylphenol), 2,2'-thio-diethylene-bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], bis [2-t-butyl-4-methyl- 6- (3-tert-butyl-5-methyl-2-hydroxybenzyl) phenyl] terephate, 1,1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 1, 3,5-trimethyl-2,4,6-tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyan Nurate, tris [2- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyhydro-cinamoyloxyl) ethyl] isocyanurate, tris- (4-t-butyl-2,6-dimethyl-3) -H Loxybenzyl) isocyanurate, tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, ethyl- (3,5-di-t-butyl-4) -Hydroxybenzyl) phosphoric acid metal salts (e.g., calcium salts), propyl-3,4,5-tri-hydroxybenzenecarbonate, octyl-3,4,5-tri-hydroxybenzenecarbonate, dodecyl-3,4 , 5-Tri-hydroxybenzene carbonate, 2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-methylene-bis- (2,6-di-t-butylphenol ), 1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) -cyclohexane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) Nyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis [1,1-dimethyl- 2- {β- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy} ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and derivatives thereof ( For example, alkyl and aryl substituents) and the like, and one or more of these can be used in combination.
[0063]
[2] Aromatic amine compounds
Examples of the aromatic amine compound include alkylated diphenylamine, N, N′-diphenyl-p-phenylenediamine, N, N′-diaryl-p-phenylenediamine, 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl- 1,2-hydroquinoline, N-phenyl-N′-isopropyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-1,3-dimethylbutyl-p-phenylenediamine, 2,2,4-trimethyl-1,2-di Hydroquinone (including those polymerized), aldol-α-naphthylamine, N-phenyl-β-naphthylamine, N, N′-di-2-naphthyl-p-phenylenediamine, 4,4′-dioctyl-diphenylamine And derivatives thereof (for example, alkyl- and aryl-substituted products) and the like, and one or more of these are combined. It can be used in conjunction.
[0064]
[3] Sulfide compound
Examples of the sulfide compound include dilauryl-3,3'-thiodipropionate, ditridecyl-3,3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3'-thiodipropionate, and distearyl-3,3. '-Thiodipropionate, distearyl-3,3'-methyl-3,3'-thiodipropionate, lauryl-stearyl-3,3'-thiodipropionate, bis [2-methyl-4-} 3-n-alkylthiopropionyloxy {-5-t-butylphenyl] sulfide, pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate), 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, And derivatives thereof (for example, alkyl- and aryl-substituted products). Others may be used in combination of two or more.
[0065]
[4] phosphorus compounds
Examples of the phosphorus compound include tris (isodecyl) phosphite, tris (tridecyl) phosphite, phenyldiisooctylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, phenyldi (tridecyl) phosphite, diphenylisooctylphosphite, and diphenylisodecyl. Phosphite, diphenyltridecyl phosphite, phosphonas acid [1,1-diphenyl-4,4′-diylbistetrakis [2,4-bis (1,1-dimethylethyl) phenyl] ester, triphenyl phosphite, Tris (nonylphenyl) phosphite, 4,4'-isopropylidene-diphenolalkyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t- (Tylphenyl) phosphite, tris (biphenyl) phosphite, distearylpentaerythritol diphosphite, di (2,4-di-t-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, di (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, Phenyl-bisphenol A pentaerythritol diphosphite, tetratridecyl-4,4'-butylidene-bis- (3-methyl-6-t-butylphenol) -diphosphite, hexatridecyl 1,1,3-tris (2- Methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butanetriphosphite, 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylphosphate diethyl ester, 9,10-dihydro-9-exa-10-phosphophenanth Len-10- Oxide, metal salt of bis (4-t-butylphenyl) phosphoric acid (eg, sodium salt), metal salt of 2,2′-methylene-bis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphoric acid (eg, , Sodium salts), 1,3-bis (diphenoxyphosphonyloxy) benzene, and derivatives thereof (eg, alkyl- and aryl-substituted products) and the like, and one or more of these are used in combination. be able to.
[0066]
[5] Salicylate compounds
Examples of the salicylate compound include phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3,5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzoate, 4-t -Octylphenyl salicylate and derivatives thereof (for example, alkyl and aryl substituents) and the like, and one or more of these can be used in combination.
[0067]
[6] Benzophenone compounds
Examples of the benzophenone-based compound include, for example, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, bis (5-benzoyl-4-hydroxy-2-methoxyphenyl) methane, 2,2′-dihydroxy-4-
[0068]
[7] Benzotriazole compounds
Examples of the benzotriazole-based compound include, for example, benzotriazole, tolyltriazole, tolyltriazole metal salt (for example, potassium salt), 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- [2′-hydroxy -3 ', 5'-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole , 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-amyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) ben Triazole, 2,2′-methylene-bis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2N-benzotriazol-2-yl) phenol] and derivatives thereof (for example, alkyl , Aryl substituted products) and the like, and one or more of these can be used in combination.
[0069]
[8] Hindered amine compounds
Examples of the hindered amine compound include phenyl-4-piperidinyl carbonate, bis- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, and bis- (N-methyl-2,2,2). 6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, bis- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) ) -2-n-butylmalonate, poly [[6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) iminol]], tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4) -Piperidyl -1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,1 '-(1,2-ethanediyl) bis (3,3,5,5-tetramethylpiperazinone), succinic acid and 4-hydroxy- Copolymer with 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidineethanol, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl-1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-tridecyl-1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl-1,2,3 1,4-butane-tetracarboxylate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-tridecyl-1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylate Acid and 1,2,2,6 Condensates of -pentamethyl-4-piperidinol with β, β, β, β-tetramethyl-3,9- (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane) diethanol; Derivatives (for example, alkyl- and aryl-substituted products) and the like, and one or more of these can be used in combination.
[0070]
[9] Ni-based compound
Examples of the Ni-based compound include [2,2′-thio-bis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel dibutyl-dithiocarbamate, and [2,2′-thio] -Bis (4-t-octylphenolate)]-n-butylamine nickel (II), nickel-bis (octylphenyl) sulfide, 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl acid monoethyl ester-Ni Complexes, 2,2′-thio-bis (4-t-octylphenolate) triethanolamine nickel (II) and derivatives thereof (for example, alkyl- and aryl-substituted products). Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
[0071]
[10] Cyanoacrylate compound
Examples of the cyanoacrylate-based compound include, for example, ethyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3′-diphenylacrylate, butyl-2-cyano-3-methyl-3-methyl-3-acrylate. Examples thereof include (p-methoxyphenyl) acrylate and derivatives thereof (for example, alkyl and aryl substituents), and one or more of these can be used in combination.
[0072]
[11] Oxalic acid anilide compound
Examples of the oxalic acid anilide-based compound include 2-ethoxy-2′-ethyloxalic acid bisanilide, 2-ethoxy-5-t-butyl-2′-ethyloxalic acid bisanilide, and the like. (For example, alkyl- and aryl-substituted products), and one or more of these can be used in combination.
[0073]
[12] Oxalic acid derivatives
As the oxalic acid derivative, for example, oxalic acid-bis (benzylidene hydrazide), N, N′-bis {2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxyl] ethyl} Examples thereof include oxamide and derivatives thereof (for example, alkyl and aryl substituents), and one or more of these can be used in combination.
[0074]
[13] Salicylic acid derivative
Examples of the salicylic acid derivative include 3- (N-salicyloyl) amino-1,2,4-triazole, 1,12-dodecanoic acid-bis [2- (2-hydroxybenzoyl) hydrazide], and N-salicyloyl-N ′ -Salicylidenehydrazine and derivatives thereof (for example, alkyl and aryl substituents) and the like, and one or more of these can be used in combination.
[0075]
[14] hydrazide derivatives
Examples of the hydrazide derivative include N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, isophthalic acid-bis [2-phenoxypropionyl hydrazide], and (For example, alkyl- and aryl-substituted products), and one or more of these can be used in combination.
[0076]
[15] Other
Other light stabilizers include, for example, acid amine compounds, guanidines, metal salts of mercaptobenzothiazole (for example, sodium salts), and one or more of these may be used in combination. it can.
[0077]
Among those described above, examples of the light stabilizer include phenol compounds, aromatic amine compounds, sulfide compounds, phosphorus compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, hindered amine compounds, Ni-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, oxalic acid anilide-based compounds, oxalic acid derivatives, salicylic acid derivatives, those containing at least one of hydrazide derivatives are preferable, and benzotriazole-based compounds or hindered amine-based compounds are mainly used. Is more preferable. By using such a material as a light stabilizer, the above-mentioned effects become more remarkable.
[0078]
In particular, when a light stabilizer mainly containing a benzotriazole-based compound or a hindered amine-based compound is used, a light source (for example, a light source or a backlight of a projection display device described later) in a wavelength region is used. Lightfastness is particularly excellent. Further, the heat resistance is improved together with the light resistance, and the occurrence of a thermal decomposition reaction and the like can be effectively prevented. As a result, the stability of the entire
[0079]
The benzotriazole-based compound and the hindered amine-based compound are the main components of the above-mentioned light stabilizing film (for example, epoxy resin, phenol resin, fluorine resin, polyphenylene ether resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin, polyether ether Especially high compatibility with ketone resin, polyarylene ether nitrile resin, polyimide resin, polyamide imide resin, polyether imide resin and other high polymer materials), and chemical reaction with the main component of the light stabilizing film. Is unlikely to occur. Therefore, by using a light stabilizer mainly composed of a benzotriazole-based compound or a hindered amine-based compound, the stability of the light-stabilized film itself becomes particularly excellent, and the light resistance of the
[0080]
The average molecular weight Mw of the light stabilizer is preferably from 250 to 3,000, and more preferably from 500 to 2,000. When the average molecular weight Mw of the light stabilizer is less than the lower limit, the light stabilizer tends to migrate to the
[0081]
The light stabilizer contained in the light stabilizing film is preferably one from which metal ions have been removed. Thereby, the long-term stability of the
[0082]
The metal ion concentration in the light stabilizing film is preferably 5 ppm or less, more preferably 0.5 ppm or less, and even more preferably 0.10 ppm or less. As described above, by sufficiently lowering the metal ion concentration, the above-mentioned effects become more remarkable. On the other hand, if the metal ion concentration in the light stabilizing film is too high, the metal ions tend to migrate to the alignment film, the liquid crystal layer, and the like, which may cause a decrease in the function of the liquid crystal layer such as a decrease in voltage holding ratio. There is.
[0083]
The content of the light stabilizer in the light stabilizing film is, for example, preferably 1 to 20 wt%, more preferably 5 to 15 wt%, and still more preferably 10 to 15 wt%.
[0084]
If the content of the light stabilizer is less than the lower limit, the effect of the present invention may not be sufficiently obtained depending on the use environment of the liquid crystal panel. On the other hand, when the content of the light stabilizer exceeds the upper limit, the compatibility with the polymer material is reduced, and it may be difficult to form a uniform light-stabilized film. The content of the light stabilizer may be the same or different between the
[0085]
As a method of forming the light stabilizing film, for example, various coating and coating methods such as dipping, doctor blade, spin coating, brush coating, spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, roll coater, thermal spraying, electrolytic plating, Examples include wet plating methods such as immersion plating and electroless plating, chemical vapor deposition methods (CVD) such as vacuum deposition, sputtering, thermal CVD, plasma CVD, and laser CVD, and dry plating methods such as ion plating. In particular, a spin coating method is preferable. By using the spin coating method, a light-stabilized film having a uniform and uniform thickness can be easily and reliably formed.
[0086]
Such a light stabilizing film preferably has an average thickness of 10 to 60 nm, more preferably 20 to 30 nm.
[0087]
If the average thickness of the light stabilizing film is less than the lower limit, the effect of the present invention may not be sufficiently obtained. On the other hand, if the average thickness of the light stabilizing film exceeds the upper limit, the driving voltage may increase and the power consumption may increase.
[0088]
When the average thickness of the light stabilizing film is Ts [nm] and the average thickness of the alignment film is To [nm], it is preferable that the relationship of 20 ≦ Ts + To ≦ 120 is satisfied, and 40 ≦ Ts + To ≦ 100. Is more preferably satisfied. By satisfying such a relationship, a liquid crystal panel having excellent light resistance can be formed while keeping power consumption low.
[0089]
When the average thickness of the light stabilizing film is Ts [nm] and the average thickness of the alignment film is To [nm], it is preferable that the relationship 0.2 ≦ To / Ts ≦ 5.0 is satisfied. , 0.5 ≦ To / Ts ≦ 4.0. By satisfying such a relationship, it is possible to obtain an effect that a liquid crystal panel having excellent light resistance can be formed while keeping power consumption low.
[0090]
The light stabilizer may or may not be uniformly dispersed in the light stabilizing film. For example, the light stabilizing film may be such that the content of the light stabilizing agent changes in the thickness direction.
[0091]
The light stabilizing film may be, for example, a laminate of a plurality of layers.
Further, the light stabilizing film may be, for example, at least a part thereof integrated with an alignment film.
[0092]
A transparent conductive film (transparent electrode) 5 is disposed on the outer surface side of the
[0093]
The transparent
[0094]
The control of energization between the transparent
[0095]
The transparent
[0096]
The
[0097]
The
[0098]
A polarizing film (polarizing plate, polarizing film) 7A is disposed on the outer surface side of the substrate 9 (on the side opposite to the side facing the transparent conductive film 5). Similarly, a polarizing film (polarizing plate, polarizing film) 8A is disposed on the outer surface side of the substrate 10 (on the side opposite to the side facing the transparent conductive film 6).
[0099]
Examples of a constituent material of the
[0100]
As the polarizing film, for example, a film obtained by stretching a film made of the above material in a uniaxial direction can be used.
[0101]
By arranging such
[0102]
The directions of the polarization axes of the
[0103]
FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing a second embodiment of the liquid crystal panel of the present invention. Hereinafter, the liquid crystal panel 1B shown in FIG. 2 will be described focusing on the differences from the first embodiment, and the description of the same items will be omitted.
[0104]
As shown in FIG. 2, a liquid crystal panel (TFT liquid crystal panel) 1B is bonded to a TFT substrate (liquid crystal driving substrate) 17, a
[0105]
The opposing
[0106]
The microlens substrate 11 includes a substrate (first substrate) 111 having a plurality of (many) concave portions (microlens concave portions) 112 having concave curved surfaces, and a
[0107]
The
[0108]
The
[0109]
The coefficient of thermal expansion of the base material is preferably substantially equal to the coefficient of thermal expansion of the glass substrate 171 (for example, the ratio of the coefficients of thermal expansion of the two is approximately 1/10 to 10). As a result, in the obtained liquid crystal panel, warpage, bending, peeling, and the like caused by a difference in thermal expansion coefficient between the two when the temperature changes are prevented.
[0110]
From this viewpoint, it is preferable that the substrate with concave portions for
[0111]
In particular, when the microlens substrate 11 is used for a high-temperature polysilicon TFT liquid crystal panel, the
[0112]
A resin layer (adhesive layer) 115 covering the
[0113]
The
[0114]
The
[0115]
A
The surface layer (glass layer) 114 can be made of, for example, glass. In this case, it is preferable that the coefficient of thermal expansion of the
[0116]
When the microlens substrate 11 is used for a liquid crystal panel, the thickness of the
[0117]
Note that the surface layer (barrier layer) 114 can be made of, for example, ceramics. The ceramics include, for example, nitride ceramics such as AlN, SiN, TiN, BN, etc .; 2 O 3 , TiO 2 And ceramics such as WC, TiC, ZrC and TaC. When the
Note that such a
[0118]
The
[0119]
The transparent
[0120]
The TFT substrate 17 is a substrate for driving the liquid crystal of the
[0121]
The
[0122]
The
[0123]
The
[0124]
The
[0125]
The
[0126]
In such a liquid crystal panel 1B, usually, one
[0127]
The incident light L incident from the
[0128]
As described above, the liquid crystal panel 1 </ b> B has the
[0129]
In this liquid crystal panel 1B, for example, light stabilizing
[0130]
In the liquid crystal panel 1B, a TFT substrate is used as a liquid crystal driving substrate, but a liquid crystal driving substrate other than the TFT substrate, for example, a TFD substrate, an STN substrate, or the like may be used as the liquid crystal driving substrate.
[0131]
Next, as an example of the liquid crystal display device of the present invention, a projection type display device (liquid crystal projector) using the liquid crystal panel 1B will be described.
[0132]
FIG. 3 is a diagram schematically showing an optical system of the liquid crystal display device (projection display device) of the present invention.
As shown in the figure, the
[0133]
The illumination optical system has
[0134]
The liquid crystal light valve 25 includes the liquid crystal panel 1B described above. The liquid
[0135]
In the
[0136]
Hereinafter, the operation of the
White light (white light flux) emitted from the
[0137]
The white light transmitted through the
[0138]
The red light transmitted through the
[0139]
Of the blue light and the green light reflected by the
[0140]
The green light reflected by the
[0141]
The blue light transmitted through the
[0142]
As described above, the white light emitted from the
[0143]
At this time, each pixel (the
[0144]
Similarly, the green light and the blue light enter the liquid
[0145]
Accordingly, the red light, the green light, and the blue light are modulated by the liquid
[0146]
The red image formed by the liquid crystal
[0147]
The green image formed by the liquid crystal light valve 25, that is, the green light from the liquid crystal light valve 25 enters the
[0148]
Further, the blue image formed by the liquid crystal
[0149]
In this manner, the light of each color from the liquid
[0150]
As described above, the liquid crystal panel and the liquid crystal display device of the present invention have been described based on the illustrated embodiments, but the present invention is not limited thereto.
[0151]
For example, in the above-described embodiment, the configuration in which the light stabilizing films are provided on both sides of the liquid crystal layer has been described. However, any structure having at least one light stabilizing film may be used. In this case, it is preferable that a light stabilizing film is provided at least on the side where light from the light source is incident.
[0152]
Further, the light stabilizer may be included in a portion other than the light stabilizing film (for example, in an alignment film or a liquid crystal layer). This makes it possible to more effectively prevent and suppress light degradation of liquid crystal molecules and the like, and the long-term stability as a liquid crystal panel or a liquid crystal display device is further improved. In this case, the content (content) of the light stabilizer in a portion other than the light stabilizing film is preferably relatively low (for example, 1.0 wt% or less).
[0153]
Further, in the above-described embodiment, the configuration in which the light stabilizing film is formed on the surface of the transparent conductive film (electrode) and the alignment film is further laminated on the surface has been described. An intermediate layer may be provided between the light stabilizing film and between the light stabilizing film and the alignment film.
[0154]
In the above-described embodiment, the projection type display device has been described as an example of the liquid crystal display device. However, the liquid crystal display device of the present invention is not limited to this. Other examples of the liquid crystal display device to which the present invention can be applied include electronic devices such as mobile phones, watches, word processors and personal computers, and liquid crystal displays installed outdoors.
[0155]
Further, in the above-described embodiment, the projection display device (liquid crystal display device) has three liquid crystal panels, and all of them have the liquid crystal panel of the present invention (liquid crystal panel having a light stabilizing film). Although the application is described, at least one of them may be the liquid crystal panel of the present invention. In this case, it is preferable to apply the present invention to at least a liquid crystal panel used for a liquid crystal light valve for blue.
[0156]
【Example】
[Manufacture of liquid crystal panels]
A liquid crystal panel as shown in FIG. 2 was manufactured as follows.
[0157]
(Example 1)
First, a microlens substrate was manufactured as follows.
[0158]
An unprocessed quartz glass substrate (transparent substrate) having a thickness of about 1.2 mm is prepared as a base material, and this is immersed in a cleaning liquid (a mixed liquid of sulfuric acid and hydrogen peroxide) at 85 ° C. to perform cleaning. The surface was cleaned.
[0159]
Thereafter, a 0.4 μm-thick polycrystalline silicon film was formed on the front and back surfaces of the quartz glass substrate by a CVD method.
[0160]
Next, an opening corresponding to the concave portion to be formed was formed in the formed polycrystalline silicon film.
[0161]
This was performed as follows. First, a resist layer having a pattern of a concave portion to be formed was formed on a polycrystalline silicon film. Next, the polycrystalline silicon film was dry-etched with CF gas to form an opening. Next, the resist layer was removed.
[0162]
Next, the quartz glass substrate was immersed in an etching solution (a mixed aqueous solution of 10 wt% hydrofluoric acid + 10 wt% glycerin) for 120 minutes to perform wet etching (etching temperature: 30 ° C.), thereby forming a concave portion on the quartz glass substrate.
[0163]
Thereafter, the quartz glass substrate was immersed in a 15 wt% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 5 minutes to remove the polycrystalline silicon films formed on the front and back surfaces, thereby obtaining a substrate with concave portions for microlenses.
[0164]
Next, an ultraviolet (UV) curable acrylic optical adhesive (refractive index: 1.60) is applied to the surface of the substrate with concave portions for microlenses where the concave portions are formed without bubbles, and then the optical adhesive is applied. Then, a cover glass (surface layer) made of quartz glass was joined thereto, and then the optical adhesive was irradiated with ultraviolet rays to cure the optical adhesive, thereby obtaining a laminate.
[0165]
Thereafter, the cover glass was ground and polished to a thickness of 50 μm to obtain a microlens substrate.
Note that, in the obtained microlens substrate, the thickness of the resin layer was 12 μm.
[0166]
For the microlens substrate obtained as described above, a 0.16 μm-thick light-shielding film (Cr film) having an opening at a position corresponding to the microlens of the cover glass using a sputtering method and a photolithography method. That is, a black matrix was formed. Further, an ITO film (transparent conductive film) having a thickness of 0.15 μm was formed on the black matrix by a sputtering method to manufacture a counter substrate for a liquid crystal panel.
[0167]
A light stabilizing film was formed on the transparent conductive film of the counter substrate for a liquid crystal panel thus obtained as follows.
First, a polyimide resin solution (AL6256, manufactured by JSR Corporation) is prepared, and Adeka Stab LA-63P (Hindered amine compound: 1,2,3) manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. is prepared as a light stabilizer. 4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and β, β, β, β-tetramethyl-3,9- (2,4,8,10-tetraoxa A light stabilizer mainly comprising a condensate with spiro [5.5] undecane) diethanol (average molecular weight Mw: about 2000) was added. The addition amount of the light stabilizer in the composition thus obtained was 0.5 wt% with respect to the resin solid content.
Using the composition thus obtained, a light stabilizing film was formed on the transparent conductive film of the opposing substrate for a liquid crystal panel by a spin coating method. The average thickness Ts of the formed light stabilizing film was 30 nm.
[0168]
Next, an alignment film was formed on the surface of the light stabilizing film formed as described above as follows.
First, a film having an average thickness of 30 nm was formed on the surface of the light stabilizing film by a spin coating method using a polyimide resin solution (AL20703, manufactured by JSR Corporation).
The film thus formed was subjected to a rubbing treatment so that the pretilt became 2 to 3 °, thereby obtaining an alignment film (average thickness To: 30 nm).
[0169]
Further, a light stabilizing film and an alignment film were laminated on the surface of a separately prepared TFT substrate (made of quartz glass) in the same manner as described above.
[0170]
The opposing substrate for a liquid crystal panel on which the light stabilizing film and the alignment film were formed, and the TFT substrate on which the light stabilizing film and the alignment film were formed were bonded via a sealing material. This bonding was performed such that the alignment direction of the alignment film was shifted by 90 ° so that the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer twisted to the left.
[0171]
Next, liquid crystal (MJ99247, manufactured by Merck & Co.) was injected into the gap from the sealing hole in the gap formed between the alignment films, and then the sealing hole was closed. The thickness of the formed liquid crystal layer was about 3 μm.
[0172]
Thereafter, a
[0173]
(Examples 2 to 5)
The same as in Example 1 except that the content of the light stabilizer in the light stabilizer film, the average thickness Ts of the light stabilizer film, and the average thickness To of the alignment film were changed as shown in Table 1. To manufacture a liquid crystal panel.
[0174]
(Example 6)
A liquid crystal panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a light stabilizer subjected to an operation of removing metal ions was used as a light stabilizer contained in the light stabilizing film. The removal of metal ions was performed using an ion exchange resin.
[0175]
(Examples 7 to 10)
Except that the content of the light stabilizer in the light stabilizing film, the average thickness Ts of the light stabilizing film, and the average thickness To of the alignment film were changed as shown in Table 1, the same as in Example 6 was performed. To manufacture a liquid crystal panel.
[0176]
(Examples 11 to 15)
A liquid crystal panel was manufactured in the same manner as in Examples 6 to 10 except that the alignment film was formed by the following oblique evaporation method.
As an evaporation source, silicon oxide (SiO 2 ) Was used.
Further, in the present embodiment, the oblique deposition was performed in such a state that the angle θ between the traveling direction of the evaporating particles and the normal direction of the light stabilizing film was 80 °. The distance between the vapor deposition source and the light stabilizing film during oblique vapor deposition was 50 cm.
[0177]
(Example 16)
As a light stabilizer in the light stabilizing film, TINUVIN 234 (benzotriazole compound: 2- [2′-hydroxy-3 ′, 5′-bis (α, α-dimethylbenzyl) manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc.] )] Phenyl] benzotriazole (light stabilizer mainly comprising an average molecular weight of 448) was prepared in the same manner as in Example 1 except that a liquid crystal panel was produced.
[0178]
(Examples 17 to 20)
Same as Example 16 except that the content of the light stabilizer in the light stabilizer film, the average thickness Ts of the light stabilizer film, and the average thickness To of the alignment film were changed as shown in Table 2. To manufacture a liquid crystal panel.
[0179]
(Example 21)
A liquid crystal panel was manufactured in the same manner as in Example 16 except that a light-stabilizing agent contained in the light-stabilizing film was subjected to an operation of removing metal ions. The removal of metal ions was performed using an ion exchange resin.
[0180]
(Examples 22 to 25)
The same as in Example 21 except that the content of the light stabilizer in the light stabilizer film, the average thickness Ts of the light stabilizer film, and the average thickness To of the alignment film were changed as shown in Table 2. To manufacture a liquid crystal panel.
[0181]
(Examples 26 to 30)
A liquid crystal panel was manufactured in the same manner as in Examples 21 to 25, except that the alignment film was formed by the following oblique evaporation method (two-time oblique evaporation method).
As an evaporation source, silicon oxide (SiO 2 ) Was used.
First, the first oblique deposition was performed in a state where the angle θ between the traveling direction of the evaporating particles and the normal direction of the light stabilizing film was 80 °. The distance between the vapor deposition source and the light stabilizing film during oblique vapor deposition was 50 cm.
Next, the substrate on which the first oblique deposition was performed (the opposite substrate for the liquid crystal panel and the TFT substrate) was rotated by 180 ° about the axis in the vertical direction, and the second oblique deposition was performed. The second oblique deposition was performed in a state where the angle θ between the traveling direction of the evaporated particles and the normal direction of the light stabilizing film was 60 °. The distance between the vapor deposition source and the light stabilizing film when oblique vapor deposition was performed was 40 cm.
[0182]
(Comparative example)
A liquid crystal panel was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the light stabilizing film was not provided.
[0183]
[Evaluation of LCD panel]
The light transmittance of the liquid crystal panels manufactured in the above Examples and Comparative Examples was continuously measured. The light transmittance was measured by placing each liquid crystal panel at a temperature of 50 ° C. and applying a voltage of 15 lm / mm 2 The irradiation was performed by irradiating white light having a light flux density of.
[0184]
Tables 1 and 2 show the results of the measurement of the light transmittance together with the conditions of the light stabilizing film and the alignment film. In Table 1, A [%] indicates the light transmittance immediately after production (immediately after the start of continuous measurement of light transmittance), and B [%] indicates the light transmittance 3000 hours after the start of white light irradiation. Is shown.
[0185]
[Table 1]
[0186]
[Table 2]
[0187]
As is clear from Tables 1 and 2, in the liquid crystal panel of the present invention, the light transmittance hardly decreases. In particular, in a liquid crystal panel having a low metal ion concentration in the light stabilizing film and a liquid crystal panel having a relatively large light stabilizer content, the decrease in light transmittance is extremely small.
[0188]
On the other hand, in the liquid crystal panel of the comparative example, discoloration (burn) that can be visually confirmed occurs about 650 hours after the start of the white light irradiation, the light transmittance is greatly reduced, and the white light irradiation is started. After about 900 hours, the light transmittance became 0%.
[0189]
[Evaluation of liquid crystal projector (liquid crystal display device)]
A liquid crystal projector (projection display device) having a structure as shown in FIG. 3 was assembled using the TFT liquid crystal panels manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples, and was continuously driven for 5000 hours.
[0190]
As a result, the liquid crystal projectors (liquid crystal display devices) manufactured using the liquid crystal panels of Examples 1 to 30 provided clear projection images even when driven continuously for a long time.
[0191]
On the other hand, in the liquid crystal projector (liquid crystal display device) manufactured using the liquid crystal panel of the comparative example, the sharpness of the projected image clearly decreased with the driving time.
[0192]
In addition, the kind of the light stabilizer was a phenol compound (tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, average molecular weight Mw: 784), and an aromatic amine compound (N, N ′). -Diphenyl-p-phenylenediamine, average molecular weight Mw: 260), sulfide compound (distearyl-3,3'-thiodipropionate, average molecular weight Mw: 683), phosphorus compound (tris (2,4-di -T-butylphenyl) phosphite, average molecular weight Mw: 647), salicylate compound (4-t-butylphenyl salicylate, average molecular weight Mw: 270), benzophenone compound (2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone) , Average molecular weight Mw: 326), Ni-based compound (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) Acid monoethyl ester-Ni complex, average molecular weight Mw: 713), cyanoacrylate compound (ethyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate, average molecular weight Mw: 277), oxalic acid anilide compound (2- Ethoxy-5-t-butyl-2'-ethyloxalic acid bisanilide, average molecular weight Mw: 369), oxalic acid derivative (oxalic acid-bis (benzylidene hydrazide), average molecular weight Mw: 292), salicylic acid derivative (1 , 12-Dodecanoic acid-bis [2- (2-hydroxybenzoyl) hydrazide], average molecular weight Mw: 498), hydrazide derivative (N, N'-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4) -Hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine, except that the average molecular weight Mw was changed to 552). In the like, the liquid crystal panel, to produce a liquid crystal display device was subjected to the same evaluation on these.
As a result, when the content of these light stabilizers was in the range shown in Tables 1 and 2, all the liquid crystal panels had a B / A value of 0.88 or more. The effect was confirmed.
Further, with the liquid crystal projector (projection display device) using these liquid crystal panels, a clear projected image was obtained even after continuous driving for 5000 hours, similarly to the liquid crystal projectors according to Examples 1 to 30.
[0193]
The liquid crystal panel and the liquid crystal display were formed in the same manner as in Examples 1 to 30, except that the light stabilizing film was formed only on one of the transparent conductive film of the opposing substrate for the liquid crystal panel and the surface of the TFT substrate. Devices (60 types each) were manufactured, and the same evaluation was performed on these devices.
As a result, in each of the liquid crystal panels, the value of B / A was 0.85 or more, and the same effect as described above was confirmed.
Further, with the liquid crystal projector (projection display device) using these liquid crystal panels, a clear projected image was obtained even after continuous driving for 5000 hours, similarly to the liquid crystal projectors according to Examples 1 to 30.
[0194]
From these results, it is understood that the liquid crystal panel and the liquid crystal display device of the present invention are excellent in light resistance and can obtain stable characteristics even after long-term use.
[0195]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel and a liquid crystal display device having excellent light resistance.
[0196]
Therefore, according to the present invention, particularly excellent long-term stability can be ensured even in a liquid crystal panel and a liquid crystal display device used in an environment where the amount of incident light is large.
[0197]
Such effects can be further improved by adjusting the composition and molecular weight of the light stabilizer, the concentration of metal ions in the light stabilizing film, and the like.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a first embodiment of a liquid crystal panel of the present invention.
FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing a second embodiment of the liquid crystal panel of the present invention.
FIG. 3 is a diagram schematically showing an optical system of the projection display device of the present invention.
[Explanation of symbols]
1A, 1B ...
Claims (26)
前記配向膜の前記液晶層と対向する面とは反対の面側に、光安定化剤を含む光安定化膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル。A liquid crystal panel having a liquid crystal layer and an alignment film,
A liquid crystal panel, wherein a light stabilizing film containing a light stabilizer is provided on a surface of the alignment film opposite to a surface facing the liquid crystal layer.
前記配向膜と前記透明電極との間に、光安定化剤を含む光安定化膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル。A liquid crystal panel having a liquid crystal layer, an alignment film, and a transparent electrode,
A liquid crystal panel, wherein a light stabilizing film containing a light stabilizing agent is provided between the alignment film and the transparent electrode.
前記ライトバルブは、請求項1ないし23のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする液晶表示装置。Three light valves corresponding to red, green, and blue for forming an image, a light source, and a color that separates light from the light source into red, green, and blue light and guides each light to the corresponding light valve. A liquid crystal display device having a separation optical system, a color combining optical system that combines the images, and a projection optical system that projects the combined image,
A liquid crystal display device, comprising: the light valve includes the liquid crystal panel according to claim 1.
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-
2002
- 2002-07-16 JP JP2002207462A patent/JP2004053685A/en not_active Withdrawn
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