JP2003522840A - Method for electroplating articles coated with a conductive polymer - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 本発明の目的は、導電性高分子または変性高分子で被覆された物品(1)を電気めっきする方法であって、電気めっきされる物品とは独立に、電流密度の低下と電気めっき時間の短縮とを同時におこなうことを可能にする方法を提供することである。本発明は、第1工程として、物品を電源(8)と複数の隣り合った接触要素(5)によって接続し、接触要素で覆われた点以外を薄い金属被覆で覆い、ついで第2工程で接触要素が取り除かれかつおよび切れ目のない金属被覆(10)が形成することを含む。 (57) [Summary] An object of the present invention is a method for electroplating an article (1) coated with a conductive polymer or a modified polymer, wherein the article has a current density independent of the article to be electroplated. It is an object of the present invention to provide a method capable of simultaneously performing the reduction and the shortening of the electroplating time. According to the invention, as a first step, the article is connected to a power supply (8) by means of a plurality of adjacent contact elements (5), and the points covered by the contact elements are covered with a thin metal coating, and then in a second step. Contact elements are removed and a continuous metallization (10) is formed.
Description
【0001】
本発明は、導電性または変性高分子で被覆された物品を電気めっきする方法に
関する。さらに、本発明はこの方法を実施する装置を提供する。The present invention relates to a method of electroplating an article coated with a conductive or modified polymer. Furthermore, the invention provides a device for implementing this method.
【0002】
平面状または立体状の物品の表面または表面構造を変化させるためには、電気
めっき法は、非金属平面の場合についても、技術水準に相当する方法であり、し
ばしば実際に使用されている方法である。したがって、例えば回路板の製造にお
いては、電気めっきによって基材の金属化および完全接触の形成がなされる。一
般的に、基材は絶縁物からなっており、電気めっきされる表面の大部分が導電性
高分子または変性高分子で被覆されている。In order to change the surface or surface structure of a flat or three-dimensional article, the electroplating method is a method equivalent to the state of the art even in the case of a non-metal flat surface, and is often actually used. It is a method. Thus, for example, in the manufacture of circuit boards, electroplating provides metallization of the substrate and formation of full contact. Generally, the substrate is made of an insulating material, and most of the surface to be electroplated is coated with a conductive polymer or a modified polymer.
【0003】
しかし、電気めっきにより導電性高分子または変性高分子で被覆されている絶
縁物の大きな面積に対して金属被覆をめっきすることは、通常は相当の労力をし
なければ出来ないことである。変性高分子が金属材料に比べて高い電気抵抗率を
有しているという事実のために、電気めっきされる物品の表面の電流密度が不均
一に分布しているので、均等な強い電界が生じない。それでも連続した金属被覆
層を得るには、電流密度を増加させるか、または電気めっき時間を長くしなけれ
ばならない。However, plating a metal coating on a large area of an insulating material coated with a conductive polymer or a modified polymer by electroplating usually requires a considerable amount of labor, which is not possible. is there. Due to the fact that the modified polymer has a higher electrical resistivity compared to metallic materials, the current density on the surface of the electroplated article is unevenly distributed, resulting in a uniform strong electric field. Absent. To obtain a continuous metallization layer, either the current density must be increased or the electroplating time must be increased.
【0004】
電気めっき時間を長くすることと関連する不利益を回避するために、現在の技
術水準では、電流密度を増加することが知られている。しかし、接触域における
過剰な電流密度は導電性高分子被覆を破壊する。導電性が低下すると、電気めっ
きによる金属めっきは、もはや行えない。このような高分子被覆の破壊を回避す
るために、適切な低い電流密度を選択せざるをえないが、その結果、電気めっき
時間の延長およびそれに付随する不利益が生じる。In order to avoid the disadvantages associated with increasing electroplating times, it is known in the state of the art to increase the current density. However, excess current density in the contact area destroys the conductive polymer coating. When the conductivity decreases, metal plating by electroplating can no longer be performed. In order to avoid such destruction of the polymeric coating, an appropriately low current density must be selected, but this results in an extended electroplating time and the associated disadvantages.
【0005】
したがって、導電性高分子被覆を有する物品を電気めっきするには、その物品
に適した電流密度と電気めっき時間を決めることとそのバランスを取ることが必
要である。よって、空隙のない被覆を得るために、一方で過剰電流密度および他
方で過剰電気めっき時間の間のバランスを考慮し、それによって物品に関するパ
ラメータを再度決めることが必要となる。この現在の技術水準で既知の方法を大
規模に応用することは、非常に時間を要する調整をしなければならず、もしこの
調整をしないと失敗率が高くなるので、満足できるものではない。Therefore, electroplating an article having a conductive polymer coating requires determining and balancing the current density and electroplating time suitable for the article. Thus, in order to obtain a void-free coating, it is necessary to consider the balance between the excess current density on the one hand and the excess electroplating time on the other hand, and thereby redefine the parameters for the article. The large-scale application of this known method in this state of the art is not satisfactory, as it requires very time-consuming adjustments, which would otherwise result in high failure rates.
【0006】
上記の不利益を回避するために、当該電気めっきされる物品とは別の導電性高
分子でありかつ電流密度を減少させると同時に電気めっき時間を短縮させること
を可能にする導電性高分子で被覆された物品の電気めっき方法を開示することが
、本発明の目的である。[0006] To avoid the above disadvantages, a conductive polymer that is separate from the electroplated article and that makes it possible to reduce the current density and at the same time reduce the electroplating time. It is an object of the present invention to disclose a method of electroplating polymeric coated articles.
【0007】
本発明によれば、物品を本発明の第一工程において複数の隣り合う接触要素に
よって電源と接続することおよび、該接触要素が覆っている接触部位を除き、連
続した薄い金属層で被覆することによって、この課題が解決される。この接触要
素は第2工程で取り除かれ、切れ目のない連続した被覆が形成される。According to the invention, the article is connected to the power supply by a plurality of adjacent contact elements in the first step of the invention and with a continuous thin metal layer except for the contact sites covered by the contact elements. By coating, this problem is solved. This contact element is removed in the second step, forming a continuous continuous coating.
【0008】
本発明はさらに、電気めっきされる物品を多数の隣なり合う接触要素で覆うこ
とを提供する。これは、電気めっきされる表面と電源との間に電流を移送する接
続を多数形成するためである。これによる利点は、低い電流密度であっても、該
表面を電気めっきするのに十分な電界が生じることである。電気めっきされる物
品の全表面を覆うようなほとんど均一な電界を生成するために、導電性高分子被
覆は電源と接続される。The present invention further provides for covering an article to be electroplated with a number of adjacent contact elements. This is to create many connections that carry current between the electroplated surface and the power source. The advantage of this is that even at low current densities, there will be enough electric field to electroplate the surface. The conductive polymer coating is connected to a power source to create a nearly uniform electric field that covers the entire surface of the electroplated article.
【0009】
本発明が開示する方法の第1工程において、接触要素を電源に接続した後、電
気めっきされる物品の導電性高分子被覆の上に薄い金属層が形成される。この金
属層は、接触要素で覆われている該接触点を除き、切れ目がない。第1工程でめ
っきされた金属層が全表面に広がりかつ連続した金属被覆を形成するような方法
で、接触要素が電気めっきされる表面上に配置される。使用される接触要素が多
数なので、該金属被覆のめっきには比較的短い電気めっき時間しか要しない。電
流密度の減少にもかかわらず電気めっきの時間が増加しないということは利点で
ある。これに対して、本発明の方法は、電流密度の減少にもかかわらず電気めっ
き時間を減少させる可能性をも提供する。過剰の電流密度または過剰の電気めっ
き時間によって高分子被覆が破壊されることに代表される現在の技術水準で既知
の方法の欠点は、本発明の開示する方法を使用することによって完全に回避する
ことができる。In the first step of the method disclosed by the present invention, after connecting the contact element to a power source, a thin metal layer is formed on the conductive polymer coating of the electroplated article. This metal layer is unbroken except at the contact points covered by the contact elements. The contact elements are arranged on the surface to be electroplated in such a way that in the first step the plated metal layer extends over the entire surface and forms a continuous metal coating. Due to the large number of contact elements used, plating of the metallization requires a relatively short electroplating time. It is an advantage that the electroplating time does not increase despite the decrease in current density. In contrast, the method of the invention also offers the possibility of reducing the electroplating time despite the reduction in current density. The drawbacks of the methods known in the state of the art, represented by the destruction of polymer coatings by excessive current density or excessive electroplating time, are completely avoided by using the disclosed method of the invention. be able to.
【0010】
接触要素で覆われた点を除いて連続した金属層をめっきした後、該接触要素を
第2工程で取り除き、電気めっきされる表面領域に、第1工程で形成した金属被
覆を介して通電する。第1工程の間に接触要素で覆われた接触点にも金属めっき
層が生じ、電気めっきされる物品の全表面に連続した金属被覆が形成する。この
第2工程の間にも、短い電気めっき時間と同様に比較的低い電流密度しか必要と
しない。これは、第1工程で形成された金属被覆が表面領域を覆っており、その
結果、低い電流密度と共に大体均一な電界が形成されるからである。さらに、高
分子被覆と比較して、金属被覆は低い抵抗率を有する優れた導電体である。After plating a continuous metal layer except at the points covered by the contact elements, the contact elements are removed in a second step, and the surface area to be electroplated is passed through the metal coating formed in the first step. Energize. A metal plating layer also develops at the contact points covered by the contact elements during the first step, forming a continuous metal coating on the entire surface of the electroplated article. During this second step, a relatively low current density is required as well as a short electroplating time. This is because the metallization formed in the first step covers the surface area, resulting in a generally uniform electric field with a low current density. Moreover, metal coatings are excellent conductors with low resistivity compared to polymer coatings.
【0011】
第2工程は、切れ目なく連続した金属被覆を形成することを目的としており、
第1工程の完了後も覆われていない接触点に金属被覆が付与されるような方法で
本発明にしたがって実施され、その結果この方法において開いていた接触点が「
閉じられ」、切れ目のない金属被覆が第2工程において形成される。第2工程は
また、接触点をも覆うような切れ目のない金属被覆を形成するために、第1工程
で形成した金属被覆が成長し続けるような方法で実施することが出来る。第2工
程はまた、たとえば異なった電解液組成物を使用して実施することが出来る。こ
の方法を行うときに、その表面全体に大体均一な電界が形成されるように、被覆
される物品の接続が多数の隣り合う接触要素によってなされることが重要である
。被覆される表面の接触要素によって覆われた接触点は、ついで、第2工程にお
ける切れ目のない金属被覆の形成によってふさぐことが出来る。The second step is intended to form a continuous and continuous metal coating,
After the completion of the first step, carried out according to the invention in such a way that uncovered contact points are provided with a metal coating, so that the open contact points in this method are
"Closed", a solid metallization is formed in the second step. The second step can also be carried out in such a way that the metal coating formed in the first step continues to grow in order to form a continuous metal coating that also covers the contact points. The second step can also be carried out, for example, using a different electrolyte composition. When carrying out this method, it is important that the connection of the articles to be coated is made by a large number of adjacent contact elements, so that a substantially uniform electric field is formed over its surface. The contact points covered by the contact elements of the surface to be coated can then be closed by the formation of an unbroken metallization in the second step.
【0012】
本発明に開示された方法によれば、最初に、導電性高分子被覆を有する平面状
または立体状の物品に電気めっきによって金属被覆を付与することが可能であり
、それによって、電流密度の低下にもかかわらず、比較的短い電気めっき時間し
か必要でない。よって、過剰な電流密度と過剰な電気めっき時間によって高分子
被覆の破壊が生じるという現在の技術水準で公知の方法の欠点は、回避できる。
本発明に従って実施される電気めっき方法は、電気めっき製品の大量生産を可能
にする。その理由は、設定される電流密度と選択される電気めっき時間について
は、電気めっきされる物品との間で最大限の独立性が確保されているからであり
、また新規に電気めっきを開始するたびに事前にこれらの工程パラメータについ
て費用のかさむ再調整をする必要がないからである。According to the method disclosed in the present invention, it is possible to first apply a metal coating to a planar or three-dimensional article having a conductive polymer coating by electroplating, whereby an electric current is applied. Despite the reduced density, only a relatively short electroplating time is required. Thus, the drawbacks of the methods known in the state of the art, that the polymer coating is destroyed by excessive current density and excessive electroplating time, can be avoided.
The electroplating method implemented in accordance with the present invention allows for mass production of electroplated products. The reason is that maximum independence between the electroplated article and the set current density and the selected electroplating time is ensured, and a new electroplating is started. This is because there is no need for costly readjustment of these process parameters each time.
【0013】
本発明の特徴の一つによれば、電気めっきされる表面上の個々の接触要素は、
相互に隣り合って格子状に置かれる。こうすることで、被覆されるべき表面が接
触要素によって電源に接続される第1工程、および第1工程で形成した金属被覆
によって電流の供給が行われる第2工程の両方において、広範囲に均等に形成し
た電界が電気めっきされる表面全体に広がるということが達成される。さらに、
第一工程で形成した金属被覆が連続した導電体を構成する。したがって、もし隣
り合った接触要素が等距離で配置されていれば特に好都合であるということを示
唆している。According to one of the features of the invention, the individual contact elements on the surface to be electroplated are
They are placed next to each other in a grid. In this way, both in the first step in which the surface to be coated is connected to the power supply by the contact element and in the second step in which the current is supplied by the metallization formed in the first step, it is evenly distributed over a wide area. It is achieved that the electric field formed is spread over the surface to be electroplated. further,
The metal coating formed in the first step constitutes a continuous conductor. Therefore, it is particularly advantageous if adjacent contact elements are arranged equidistantly.
【0014】
本発明の他の特徴によれば、接触要素キャリヤは接触要素の配置に使用され、
それはいくつかの接触要素を含んでいる。一方では、電気めっきされる表面へ接
触要素を迅速に設置することがこのような方法で行われ、他方では、接触要素キ
ャリヤの使用によって本発明方法の広範囲な自動化を可能にする。接触要素キャ
リヤは好ましくは、調整のためにそれらの相対位置が移動できる多数の隣接する
接触要素を含むように設計されており、それによって接触要素キャリヤと同様に
接触要素相互に関する調整が可能である。電気めっきされる物品の表面に設けら
れる全ての接触要素が 、電気めっきされる物品と電源との間の電気的な接続を
実際に作ることを確実にするように、電気めっきされる物品に対応して、接触要
素を調節することが可能である。このような方法で、形成される金属被覆にボイ
ドが生じることを回避できる。According to another characteristic of the invention, the contact element carrier is used for the arrangement of contact elements,
It contains several contact elements. On the one hand, the rapid installation of the contact element on the surface to be electroplated is carried out in this way, and on the other hand, the use of the contact element carrier allows a wide range of automation of the method of the invention. The contact element carrier is preferably designed to include a large number of adjacent contact elements whose relative position can be moved for adjustment, so that the contact element carriers as well as the contact element carriers can be adjusted. . Compatible with electroplated articles to ensure that all contact elements on the surface of the electroplated article actually make an electrical connection between the electroplated article and the power source. It is then possible to adjust the contact element. In this way, it is possible to avoid the formation of voids in the metal coating formed.
【0015】
第1の代替例において、接触要素を搭載したフレームが接触要素キャリヤとし
て使用される。このようなフレーム状の接触要素キャリヤは、例えば回路板のよ
うな平面状の物品の電気めっきに、特に好ましい。本発明が示唆するように、か
かるフレームは長方形の形状であるが用途に応じて他の幾何学的形状も取り得る
。多数の接触要素はフレーム上に搭載される、それはフレームを形成する全ても
しくは個々の構成要素のいずれかの上に設置される。電気めっきされる表面と電
源との接続のために、フレーム形状の接触要素キャリヤの要素によってこれが接
触される。この点において、本発明の他の特徴によれば、大きな面積に対しては
、いくつかのフレームが相互に隣り合って設置されるかもしくは電気めっきされ
る物品の両側に設置される。一工程で基材の未加工回路板の両面に金属被覆する
ことが、回路板の場合には特に魅力的である。In a first alternative, a frame carrying contact elements is used as contact element carrier. Such frame-shaped contact element carriers are particularly preferred for electroplating planar articles such as circuit boards. As the present invention suggests, such a frame is rectangular in shape but may have other geometric shapes depending on the application. A number of contact elements are mounted on the frame, which is installed on either all or the individual components forming the frame. It is contacted by the elements of the frame-shaped contact element carrier for the connection between the electroplated surface and the power supply. In this regard, according to another feature of the invention, for large areas, several frames are placed next to each other or on both sides of the electroplated article. Metallizing both sides of a substrate's raw circuit board in a single step is particularly attractive in the case of circuit boards.
【0016】
本発明のさらに他の特徴によれば、複数の接触要素を備えた取り付け具(fixt
ure)が接触要素キャリヤとして使用される。この種の取り付け具は、立体状の
物品の結合に特に使用できる。これはこの目的のために設計された取り付け具に
挿入され、該取り付け具に装着されている接触要素によって電源と連結される。
この方法によって、一工程で幾何学的に複雑な形状の物品でさえも切れ目のない
電気めっきをすることを可能にする。フレームまたは取り付け具として接触要素
キャリヤを設計する外に、他の形状も取り得ることは、もちろん自明である。決
定的要因は、電気めっきされる物品の表面は、その広い範囲を複数の、接触要素
を備えた接触要素キャリヤによって覆うことが出来るということである。According to yet another aspect of the invention, a fixture including a plurality of contact elements.
ure) is used as the contact element carrier. This type of fitting can be used especially for joining three-dimensional articles. It is inserted in a fitting designed for this purpose and is connected to the power supply by means of the contact elements mounted on the fitting.
This method allows seamless electroplating of even geometrically complex shaped articles in one step. Besides designing the contact element carrier as a frame or fitting, it is of course obvious that other shapes are possible. The deciding factor is that the surface of the electroplated article can be covered over a large area by a plurality of contact element carriers with contact elements.
【0017】
本発明の他の特徴によれば、一方では接触要素相互に、同様に他方では接触要
素キャリヤに対して、その相対位置を動かせるように接触要素が設計されている
。しかも、物品の形状に応じて、電源と接続するために電気めっきされる物品と
の接触を調整出来る。よって、本発明方法の手段によって、整った形状の物品表
面だけでなく不規則な形状をした複雑な幾何学的形状も、全領域を接触要素によ
って覆うことができ、電気めっきされる物品が電源に結合できることを確実にす
る。According to another characteristic of the invention, the contact elements are designed such that their relative position can be moved relative to each other on the one hand and to the contact element carrier on the other hand as well. Moreover, depending on the shape of the article, the contact with the article to be electroplated for connection to the power source can be adjusted. Thus, by means of the method of the present invention, not only a well-shaped article surface but also an irregularly shaped complex geometry can be covered with contact elements over the entire area, and the article to be electroplated can be supplied with power. Make sure you can bind to.
【0018】
本発明のさらに他の特徴によると、金属格子が接触要素キャリヤとして使用さ
れる。金属格子は、連続製造設備において水平方向に使用する場合に特に適して
いる。この金属格子は、電気めっきされる表面に設置してほぼ均一な電界を形成
させるように、完全な導電体から成っている。このようにして、比較的短時間で
、低い電流密度を使用するだけで、金属被覆が形成でき、それは基本的にはグリ
ッドの負(陰極)を構成する。言い換えれば、電気めっきされる表面のグリッド
で覆われていない領域は金属層で覆われている。この製法の第2工程において、
このグリッドは除去され、閉じた金属被覆がその表面に形成される。本発明の優
れた特徴によれば、電気めっきされる表面にグリッドが接触しており、その物品
はグリッドと一緒に電解液を通過させられる。したがって、このグリッドはまた
同時にコンベアとしての役割を果たす。この方法において、サイクル速度が短く
て自動化が容易であり、とりわけ再生可能であることを考慮して、本発明の方法
によって物品の表面が電気めっきされる。電気めっきされる物品上に設置された
金属格子は、最初の金属被覆によるめっきの後で、下層にある高分子被覆を破壊
せずに除去できることを確実にするために、カウンターアノードを設け、それに
よって金属グリッドよってめっきされた金属を該物品からはがすということが本
発明の他の特徴事項である。According to yet another feature of the invention, a metal grid is used as the contact element carrier. Metal grids are particularly suitable for horizontal use in continuous production facilities. The metal grid consists of a complete conductor so that it is placed on the surface to be electroplated to create a substantially uniform electric field. In this way, the metallization can be formed in a relatively short time and using only low current densities, which basically constitutes the negative (cathode) of the grid. In other words, the areas of the surface to be electroplated that are not covered by the grid are covered by the metal layer. In the second step of this manufacturing method,
The grid is removed and a closed metallization is formed on the surface. In accordance with an advantageous feature of the invention, the grid is in contact with the surface to be electroplated and the article is passed with the electrolyte together with the grid. Therefore, this grid also serves as a conveyor at the same time. In this method, the surface of the article is electroplated by the method of the present invention in view of its short cycle speed, ease of automation, and above all recyclability. A metal grid installed on the article to be electroplated is provided with a counter-anode to ensure that the underlying polymeric coating can be removed without destruction after plating with the initial metal coating, It is another feature of the invention that the metal plated by the metal grid is stripped from the article.
【0019】
本発明のさらに他の特徴事項によれば、この方法によって得られた金属被覆の
厚さは、これは本発明の主題であるが、特定できる。一方で電解液中の物品の滞
留時間によって、他方では連結した電流密度によってこれを調整できる。いかな
る場合でも、最終製品に要求に合わせて所望の厚さの金属被覆を形成することは
可能である。According to yet another feature of the invention, the thickness of the metallization obtained by this method, which is the subject of the invention, can be specified. On the one hand, this can be adjusted by the residence time of the article in the electrolyte, and on the other hand by the coupled current density. In any case, it is possible to form the desired thickness of metallization in the final product.
【0020】
本発明のさらに詳細な事項、特徴事項および利点は、添付図面に沿った以下の
記載中で述べる。Further details, features and advantages of the invention are set forth in the following description along with the accompanying drawings.
【0021】
図1は本発明方法による回路板1の製造を示している。ここで、本方法の第1
工程が示されている。電解液2中に、電解液の液面3にほぼ垂直に、絶縁体製で
あり導電性もしくは変性高分子で被覆された基体4が挿入されている。基体4が
電解液液面3に対してほぼ垂直に移動するということから、この方法を竪型方式
ということができる。FIG. 1 shows the production of a circuit board 1 according to the method of the invention. Here, the first of the method
The steps are shown. A substrate 4 made of an insulator and coated with a conductive or modified polymer is inserted into the electrolytic solution 2 substantially perpendicular to the liquid surface 3 of the electrolytic solution. Since the substrate 4 moves almost perpendicularly to the electrolytic solution surface 3, this method can be called a vertical method.
【0022】
基体4は、複数の接触要素5で電源8に連結されている。これは枝分かれした
電線9によって行われる。図1に概略を示したように、全ての接触要素5は、電
気めっきされる基体4上に設けられており、接触要素キャリヤ7の手段によって
電源8と電気的な結合をしている。例として、それぞれ5個の接触要素5が付い
ている3個のフレーム状の接触要素キャリヤ7を図示している。接触要素5は、
それらが相互に相対的にかつ接触要素キャリヤ7に対しても相対的に移動可能で
あるような方法で各接触要素キャリヤに接続されている。その結果、電気めっき
される基体4の大きさまたはその幾何学的な形状に関して、接触要素5の個別の
調整を行うことが出来る。電気を流すと、複数の接触要素5に基づいてほぼ均一
な電界が生成する。それは、電気めっきされる基体4の全表面上に広がる。広範
囲に広がった均一な電界が形成された結果として、接触要素5で覆われている接
触点6を除き、比較的低い電流密度で短時間で切れ目のない薄い金属被覆10が
生成する。複数の接触要素5を用いることによって、低い電流密度にかかわらず
、短い電気めっき時間内に電気めっきを行うことができる。The substrate 4 is connected to the power supply 8 by a plurality of contact elements 5. This is done by a branched wire 9. As schematically shown in FIG. 1, all contact elements 5 are provided on a substrate 4 to be electroplated and are electrically coupled to a power source 8 by means of contact element carriers 7. By way of example, three frame-shaped contact element carriers 7 are shown, each with five contact elements 5. The contact element 5 is
It is connected to each contact element carrier in such a way that they are movable relative to one another and also with respect to the contact element carrier 7. As a result, individual adjustments of the contact elements 5 can be made with respect to the size of the substrate 4 to be electroplated or its geometric shape. When electricity is applied, a substantially uniform electric field is generated based on the plurality of contact elements 5. It extends over the entire surface of the electroplated substrate 4. As a result of the formation of a widespread and uniform electric field, a thin metallization 10 is produced in a short time at a relatively low current density, except for the contact points 6 which are covered by the contact elements 5. By using a plurality of contact elements 5, electroplating can be carried out within a short electroplating time despite the low current density.
【0023】
図2は、本発明における第2工程を示す。接触要素5で覆われている接触点6
を除き金属被覆10が形成された後、該接触要素は除去され、途切れのない金属
被覆が形成する。このために、第1工程で得られた金属被覆は電源8に電線手段
9によって接続される。この方法において、ほぼ均一な電界が生成し、金属被覆
10の残存ボイドを金属めっきでふさぎ、切れ目のない金属被覆が生成する。特
定の厚さの金属被覆が形成された後、基体4は電解液2から取り出される。FIG. 2 shows the second step in the present invention. Contact point 6 covered with contact element 5
After the metallization 10 has been removed, the contact elements are removed to form an uninterrupted metallization. For this purpose, the metallization obtained in the first step is connected to the power supply 8 by means of electric wires 9. In this method, a substantially uniform electric field is generated, the remaining voids of the metal coating 10 are covered with metal plating, and a seamless metal coating is generated. After the metal coating having a specific thickness is formed, the substrate 4 is taken out of the electrolytic solution 2.
【0024】
図3は、金属格子11の他の例を示す。これは、一定の広がりを有する接触要
素の役目をし、接触点を除き絶縁体が設けられている。第1工程において、電気
めっきされる物品は格子11上に、電気めっきされる表面が該格子に向くように
して載せられ、横型方式で電解液2を通って搬送される。これは図4に概略を図
示してある。この図では、格子11が、コンベアとしても機能するエンドレスバ
ンドとして示されている。受けロール12の手段によって、格子11は駆動装置
13によって移送方向14に動かされる。格子11は、たとえばすべり接触15
によって、電源8に接続される。回路板等の製造のために、基体4は搭載位置に
おいて格子11に載せられる。搭載位置16は、電解液タンク17の外部に位置
している。格子11に搭載された基体4は、14の方向に移送され、電解液タン
ク17に入り、電解液2中に浸漬される。格子11は電解液液面3とほぼ平行に
動くので、前述の竪型方式と対照に、この方法を横型方式と呼ぶ。電気めっきさ
れる基体4の表面の広い領域をカバーした結果、最初の金属被覆を形成するのに
比較的弱い電流密度と短い電気めっき時間しか必要でない。この金属被覆の形成
後、基体4は14の方向に電解液タンク17から取り出され、取り外し位置18
へ移送される。そこで、基体4は格子11から取り除かれる。接触位置を永久に
電気めっきされないようにするために、そこにめっきされた金属をカウンターア
ノード手段によって溶解できる。第1工程の完了および図4による金属被覆の形
成後、上記の竪型方式と同様の方法で、切れ目のない金属被覆が形成される。FIG. 3 shows another example of the metal grid 11. It acts as a contact element with a certain extent and is provided with an insulator except at the contact points. In the first step, the article to be electroplated is placed on the grid 11 with the surface to be electroplated facing the grid and transported through the electrolyte 2 in a horizontal fashion. This is shown schematically in FIG. In this figure, the grid 11 is shown as an endless band which also functions as a conveyor. By means of the receiving roll 12, the grid 11 is moved in the transport direction 14 by the drive 13. The grid 11 is, for example, a sliding contact 15
Is connected to the power supply 8. For the production of circuit boards and the like, the base body 4 is mounted on the grid 11 in the mounting position. The mounting position 16 is located outside the electrolytic solution tank 17. The substrate 4 mounted on the grid 11 is transferred in the direction of 14, enters the electrolytic solution tank 17, and is immersed in the electrolytic solution 2. Since the grid 11 moves substantially parallel to the electrolytic solution surface 3, this method is called a horizontal method, in contrast to the vertical method described above. As a result of covering a large area of the surface of the substrate 4 to be electroplated, relatively weak current densities and short electroplating times are required to form the initial metallization. After the formation of this metal coating, the substrate 4 is taken out from the electrolytic solution tank 17 in the direction 14 and the removal position 18
Be transferred to. There, the substrate 4 is removed from the grid 11. To prevent the contact location from being electroplated permanently, the metal plated there can be melted by a counter-anode means. After the completion of the first step and the formation of the metal coating according to FIG. 4, a seamless metal coating is formed in the same manner as the vertical method described above.
【0025】
図5と図6はそれぞれ、接触要素キャリヤ7上に位置する接触要素5の2種類
の代替例を示す。図5と6に示されている接触要素は、引き上げ方向20への相
対的移動性において異なっている。これは適当なスプリング要素によって達成さ
れる。接触要素はそれぞれ次のように設計されている:電流接触ピン21は基体
4に対して半径方向に動く(引き上げ方向20)。接触ピン21のまわりを絶縁
体22が取り囲んでおり、ねじ込み式コネクター23で接触要素キャリヤ7に装
着されている。この設計には、接触要素5も基体4の平らでない平面に適合する
という利点がある。この方法によって、複数の接触要素5が基体4に接触し、基
体4と電源6との間の電気的接続を得ることを確かなものにする。5 and 6 respectively show two alternatives of the contact element 5 located on the contact element carrier 7. The contact elements shown in FIGS. 5 and 6 differ in relative mobility in the pulling direction 20. This is achieved by suitable spring elements. The contact elements are each designed as follows: The current contact pin 21 moves radially with respect to the base body 4 (pulling direction 20). An insulator 22 surrounds the contact pin 21 and is attached to the contact element carrier 7 by means of a threaded connector 23. This design has the advantage that the contact element 5 also fits in an uneven plane of the substrate 4. By this method, a plurality of contact elements 5 contacts the base body 4 and ensures that an electrical connection between the base body 4 and the power supply 6 is obtained.
【図1】竪型方式で回路板を製造するための本発明の方法の第1工程の概略図
である。FIG. 1 is a schematic diagram of the first step of the method of the present invention for manufacturing a circuit board in a vertical manner.
【図2】竪型方式で回路板を製造するための本発明の方法の第2工程の概略図
である。FIG. 2 is a schematic view of the second step of the method of the present invention for manufacturing a circuit board in a vertical manner.
【図3】接触要素キャリヤとして使用する格子の概略図である。FIG. 3 is a schematic view of a grid used as a contact element carrier.
【図4】は、横型方式で回路板を製造するための本発明の方法の第1工程の概
略図である。FIG. 4 is a schematic view of the first step of the method of the present invention for manufacturing a circuit board in a horizontal mode.
【図5】は、第1のアプリケーション設計による接触要素の概略断面図である
。FIG. 5 is a schematic sectional view of a contact element according to a first application design.
【図6】は、第2のアプリケーション設計による接触要素の概略断面図である
。
図面の符号の説明
1 回路板
2 電解液
3 電解液液面
4 基体
5 接触要素
6 接触ポイント
7 接触要素キャリヤ
8 電源
9 電線
10 金属被覆
11 格子
12 受けロール
13 駆動装置
14 移送装置
15 すべり接触
16 搭載位置
17 電解液タンク
18 取り外し位置
19 カウンター アノード
20 ストローク方向
21 接触ピン
22 絶縁体
23 接続装置FIG. 6 is a schematic sectional view of a contact element according to a second application design. DESCRIPTION OF THE SYMBOLS OF THE DRAWINGS 1 Circuit board 2 Electrolyte solution 3 Electrolyte solution level 4 Substrate 5 Contact element 6 Contact point 7 Contact element carrier 8 Power source 9 Electric wire 10 Metal coating 11 Grid 12 Receiving roll 13 Drive device 14 Transfer device 15 Sliding contact 16 Mounting position 17 Electrolyte tank 18 Removal position 19 Counter anode 20 Stroke direction 21 Contact pin 22 Insulator 23 Connection device
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF ,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW, ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ, MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM, AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK ,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE, GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR ,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK, MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ, VN,YU,ZA,ZW─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (81) Designated countries EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, I T, LU, MC, NL, PT, SE, TR), OA (BF , BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG), AP (GH, G M, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ , UG, ZW), EA (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM), AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, B Z, CA, CH, CN, CR, CU, CZ, DE, DK , DM, DZ, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, J P, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR , LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, R O, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ , TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW
Claims (19)
することおよび接触要素によって覆われた接触ピンを除いて薄い金属層で被覆す
ることおよび引き続く第2工程で接触要素を取り除き切れ目のない金属被覆を形
成することを特徴とする、導電性または変性高分子で被覆された物品を電気めっ
きする方法。1. An article is connected to a power supply by a plurality of adjacent contact elements in a first step and coated with a thin metal layer except for the contact pins covered by the contact elements and in a subsequent second step. A method of electroplating an article coated with a conductive or modified polymer, which comprises removing the element to form a continuous metallization.
格子状に配列されていることを特徴とする請求項1記載の方法。2. The method according to claim 1, wherein the contact elements are arranged next to each other in a grid pattern on the surface of the article to be electroplated.
請求項1または2記載の方法。3. The method according to claim 1, wherein adjacent contact elements are located equidistant from each other.
ヤを使用することを特徴とする請求項1から3に記載の方法。4. A method according to claim 1, characterized in that a contact element carrier with a plurality of contact elements is used for the arrangement of the contact elements.
ことを特徴とする請求項4記載の方法。5. A method according to claim 4, characterized in that a frame fitted with contact elements is used as contact element carrier.
ームを、相互に隣り合わせておよび/または電気めっきされる物品の両側に、使
用することを特徴とする請求項5記載の方法。6. The use of several frames next to each other and / or on both sides of an electroplated article to cover a large area of the electroplated surface. The method described.
使用することを特徴とする請求項4記載の方法。7. Method according to claim 4, characterized in that a rack fitted with several contact elements is used as contact element carrier.
する相対位置を調整し得ることおよび電源と接続するように位置されていること
を特徴とする請求項1から7に記載の方法。8. The contact element can be adjusted in its relative position with respect to the contact element carrier and is arranged to be connected to a power supply, depending on the geometry of the article. The method described in.
求項4記載の方法。9. The method according to claim 4, characterized in that a metal grid is used as the contact element carrier.
子とともに電解液を通過するよう導かれることを特徴とする請求項9記載の方法
。10. The method of claim 9 wherein a grid is placed on the surface of the article to be electroplated and the article is guided with the grid through an electrolyte.
よって溶解されることを特徴とする請求項10記載の方法。11. The method according to claim 10, wherein the metal layer deposited on the metallic contact points is dissolved by means of a counter-anode.
記請求項のいずれか1つに記載の方法。12. The method according to claim 1, wherein the thickness of the metal coating produced is selectable.
キャリヤが、めっきすべき物品と電源との接続に供されることを特徴とする、請
求項1から12の1つに記載の方法を実施するための取り付け具。13. One of the claims 1 to 12, characterized in that at least one contact element carrier with a plurality of adjacent contact elements is provided for the connection of the article to be plated with a power supply. A fixture for performing the method described in.
、接触要素キャリヤに搭載されていることを特徴とする請求項13記載の取り付
け具。14. A fixture according to claim 13, wherein each contact element is mounted on the contact element carrier in such a way that its position on the contact element carrier is adjustable.
ることを特徴とする請求項13または14に記載の取り付け具。15. Fitting according to claim 13 or 14, characterized in that the contact element carrier is designed in the form of a frame or a rack.
属格子であることを特徴とする請求項13または14に記載の取り付け具。16. A fitting according to claim 13 or 14, characterized in that the contact element carrier is a metal grid on which an article to be electroplated can be mounted.
る請求項16記載の取り付け具。17. The fitting of claim 16 wherein the metal grid is formed and is an endless belt.
請求項17記載の取り付け具。18. The fixture of claim 17, wherein the grate simultaneously functions as an article conveyor.
ることを特徴とする請求項16から18に記載の取り付け具。19. A fixture according to claims 16-18 characterized in that a counter-anode is used to prevent plating at the contact points.
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