JP2003500378A - β‐置換ニトロキシドから得られるポリアルコキシアミン - Google Patents
β‐置換ニトロキシドから得られるポリアルコキシアミンInfo
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C239/00—Compounds containing nitrogen-to-halogen bonds; Hydroxylamino compounds or ethers or esters thereof
- C07C239/08—Hydroxylamino compounds or their ethers or esters
- C07C239/20—Hydroxylamino compounds or their ethers or esters having oxygen atoms of hydroxylamino groups etherified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/30—Only oxygen atoms
- C07D251/34—Cyanuric or isocyanuric esters
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 モノマーの(共)重合の開始剤として用いることができる、β−置換ニトロキシドから得られるポリアルコキシアミン。
【解決手段】 一般式(I)で表されるポリアルコキシアミン(Aは2価または多価の構造を表し、RLはモル質量が15以上の一価のラジカルを表し、n≧2)。
Description
【0001】
本発明はβ‐置換ニトロキシドから得られるポリアルコキシアミンに関するも
のである。このポリアルコキシアミンはフリーラジカル重合開始剤として用いる
ことができる。
のである。このポリアルコキシアミンはフリーラジカル重合開始剤として用いる
ことができる。
【0002】
最近開発された制御下でのフリーラジカル重合法によってポリアルコキシアミ
ンの重要性が明らかになった(“Accounts of Chemical Research, 1997, 30, p
. 373-382”)。このポリアルコキシアミンはフリーラジカル重合すべきオレフ
ィンの存在下で熱の作用によって重合を開始させ、しかも、重合を制御すること
ができる。この制御機構は下記の図で表すことができる:
ンの重要性が明らかになった(“Accounts of Chemical Research, 1997, 30, p
. 373-382”)。このポリアルコキシアミンはフリーラジカル重合すべきオレフ
ィンの存在下で熱の作用によって重合を開始させ、しかも、重合を制御すること
ができる。この制御機構は下記の図で表すことができる:
【0003】
【式19】
(ここで、Mは重合されるオレフィンを表し、Pは成長する重合鎖を表す)
この制御の鍵は各定数Kdeact、kactおよびkpにある(T. Fukuda、A. Goto,
Macromolecules 1999, 32, p.618-623)。すなわち、kdeact/kactの率が大
き過ぎると重合が阻止され、逆に、kp/kdeactの比が大きく且つkdeact/ka ct の比が小さ過ぎる場合には重合を制御することができない。 β−置換アルコキシアミンはいくつかのモノマーの重合を開始、制御すること
ができるということが分かっている(“P. Tordo et al., Polym. Prep. 1997,
38, p. 729-730”、“C. J. Hawker et al., Polym. mater. Sci. Eng., 1999,
80, p. 90-91)。一方、TEMPOベースのアルコキシアミン、例えば(2',2',6
',6'−テトラメチル−1'−ピペリジロキシ−)メチルベンゼンはスチレン誘導
体の重合のみを制御する[“Macromolecules 1996, 29, p. 5245-5254”]。
Macromolecules 1999, 32, p.618-623)。すなわち、kdeact/kactの率が大
き過ぎると重合が阻止され、逆に、kp/kdeactの比が大きく且つkdeact/ka ct の比が小さ過ぎる場合には重合を制御することができない。 β−置換アルコキシアミンはいくつかのモノマーの重合を開始、制御すること
ができるということが分かっている(“P. Tordo et al., Polym. Prep. 1997,
38, p. 729-730”、“C. J. Hawker et al., Polym. mater. Sci. Eng., 1999,
80, p. 90-91)。一方、TEMPOベースのアルコキシアミン、例えば(2',2',6
',6'−テトラメチル−1'−ピペリジロキシ−)メチルベンゼンはスチレン誘導
体の重合のみを制御する[“Macromolecules 1996, 29, p. 5245-5254”]。
【0004】
本出願人は、下記一般式(I)のポリオキシアミンから出発すると構造が良く規
定されたポリマーおよびコポリマーを合成することができるということを見出し
た:
定されたポリマーおよびコポリマーを合成することができるということを見出し
た:
【式20】
【0005】
(ここで、n≧2であり、Aは多官能化コアを表し、RLはモル質量が15以上
のラジカルを表す。なお、AおよびRLについては後でより詳細に定義する) 式(I)で、n=2であるジアルコキシアミンから始めるとトリブロックコポリ
マーを合成することができ、各ブロックはアルキルアクリレートおよび/または
スチレン誘導体のような互いに異なるモノマーから作ることができ、極めて短い
反応時間で重合および多分散性を十分に制御することができる。
のラジカルを表す。なお、AおよびRLについては後でより詳細に定義する) 式(I)で、n=2であるジアルコキシアミンから始めるとトリブロックコポリ
マーを合成することができ、各ブロックはアルキルアクリレートおよび/または
スチレン誘導体のような互いに異なるモノマーから作ることができ、極めて短い
反応時間で重合および多分散性を十分に制御することができる。
【0006】
本発明では例えば下記の2つのモノマーM1、M2を順次重合することができ
る:
る:
【式21】
【0007】
例としてはM1=アルキルアクリレート、M2=スチレンが挙げられる。
トリアルコキシアミンからはいわゆる「星型」ポリマーが得られる。
従って、本発明の一つの対象は一般式(I)のポリアルコキシアミンにある:
【0008】
【式22】
【0009】
(ここで、n≧2で、Aは2価または多価の構造を表し、RLはモル質量が15
以上の1価のラジカルを表す) Aは下記の構造(II)〜(IX)の中から選択できるが、これらに限定されるもの
ではない:
以上の1価のラジカルを表す) Aは下記の構造(II)〜(IX)の中から選択できるが、これらに限定されるもの
ではない:
【0010】
【式23】
【0011】
(ここで、
R1およびR2は1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基、
必要に応じてF、ClまたはBr等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含
む直鎖または分岐鎖のアルキル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、カルボニル基またはカルボキシル基で置換されていてもよいフェニール基ま
たはチエニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロアルキル基ま
たは1つまたは複数の不飽和結合を有する基を表し、互いに同一でも異なってい
てもよく、 Bは1〜20個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基を表し、 mは1〜10の整数である)
必要に応じてF、ClまたはBr等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含
む直鎖または分岐鎖のアルキル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、カルボニル基またはカルボキシル基で置換されていてもよいフェニール基ま
たはチエニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロアルキル基ま
たは1つまたは複数の不飽和結合を有する基を表し、互いに同一でも異なってい
てもよく、 Bは1〜20個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基を表し、 mは1〜10の整数である)
【0012】
【式24】
【0013】
(ここで、
R3およびR4はアリール基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基を表し、
互いに同一でも異なっていてもよく、これらの基は必要に応じてF、Clまたは
Br等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキ
ル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボニル基またはカル
ボキシル基で置換されていてもよく、 Dは1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基、フェニレン
基またはシクロアルキレン基を表し、 pは1〜10の数である)
互いに同一でも異なっていてもよく、これらの基は必要に応じてF、Clまたは
Br等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキ
ル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボニル基またはカル
ボキシル基で置換されていてもよく、 Dは1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基、フェニレン
基またはシクロアルキレン基を表し、 pは1〜10の数である)
【0014】
【式25】
(ここで、
R5、R6およびR7は式(II)のR1およびR2と同じものを意味し、互いに同一
でも異なっていてもよく、 q、rおよびsは1〜5の整数である)
でも異なっていてもよく、 q、rおよびsは1〜5の整数である)
【0015】
【式26】
(ここで、R8は式(III)のR3およびR4と同じ意味であり、tは1〜4の整数、
uは≧2、且つ≦6である);
uは≧2、且つ≦6である);
【0016】
【式27】
(ここで、
R9は式(V)の基R8と同じものを意味し、2≦v≦6)
【0017】
【式28】
【0018】
(ここで、
R10、R11およびR12は必要に応じてClまたはBr等のハロゲン原子か、1
〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基で置換されていてもよ
いフェニール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、 Wは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、 wは0または1)
〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基で置換されていてもよ
いフェニール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、 Wは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、 wは0または1)
【0019】
【式29】
(ここで、
R13は式(II)の基R1と同じものを意味し、
R14は式(III)の基R3またはR4と同じものを意味する)
【0020】
【式30】
【0021】
(ここで、
R15およびR16は水素原子、1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖の
アルキル基、または必要に応じてハロゲン原子またはヘテロ原子で置換されてい
てもよいアリール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい)。 1価のラジカルのRLは窒素原子に対してβ位置にあり、 式(1)の炭素原子および窒素原子の残った原子価は各種の基、例えば水素原
子、炭化水素基、例えば1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基
またはアラルキル基に結合でき、また、式(1)の炭素原子と窒素原子が二価の
基を介して互いに結合して環を形成することもできる。しかし、式(I)の炭素原
子および窒素原子の残りの原子価は1価の基に結合するのが好ましい。 基RLのモル質量は30以上であるのが好ましく、例えば40〜450のモル
質量を有する。 基RLは例えばホスホリル基を有する基にすることができ、下記式で表される
基にすることができる:
アルキル基、または必要に応じてハロゲン原子またはヘテロ原子で置換されてい
てもよいアリール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい)。 1価のラジカルのRLは窒素原子に対してβ位置にあり、 式(1)の炭素原子および窒素原子の残った原子価は各種の基、例えば水素原
子、炭化水素基、例えば1〜10個の炭素原子を有するアルキル基、アリール基
またはアラルキル基に結合でき、また、式(1)の炭素原子と窒素原子が二価の
基を介して互いに結合して環を形成することもできる。しかし、式(I)の炭素原
子および窒素原子の残りの原子価は1価の基に結合するのが好ましい。 基RLのモル質量は30以上であるのが好ましく、例えば40〜450のモル
質量を有する。 基RLは例えばホスホリル基を有する基にすることができ、下記式で表される
基にすることができる:
【0022】
【式31】
【0023】
(ここで、R17およびR18は1〜20個の炭素原子を有するアルキル基、シクロ
アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、アラルキロキシ基
、ペルフルオロ基およびアラルキル基の中から選択され、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、R17および/またはR18はハロゲン原子、例えば塩素原子または
臭素原子またはフッ素原子また沃素原子でもよい) 基RLはフェニル基またはナフチル基等の少なくとも一つの芳香族環(例えば
1〜10個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてもよい)を有してい
てもよい。
アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アリール基、アラルキロキシ基
、ペルフルオロ基およびアラルキル基の中から選択され、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、R17および/またはR18はハロゲン原子、例えば塩素原子または
臭素原子またはフッ素原子また沃素原子でもよい) 基RLはフェニル基またはナフチル基等の少なくとも一つの芳香族環(例えば
1〜10個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてもよい)を有してい
てもよい。
【0024】
本発明のラジカルRLが結合した炭素原子に結合される1価ラジカルは水素原
子、1〜12個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基、フェニル基
または1〜10個の炭素原子を含むアラルキル基にすることができ、互いに同一
でも異なっていてもよい。このような1価の基の例としてはエチル基、ブチル基
、t−ブチル基およびイソプロピル基を挙げることができる。 本発明の式(I)のアルコキシアミンの中で最も好ましいものの一つはn=2で
、RLに結合した炭素原子の残りの原子価の少なくとも1つが水素原子に結合さ
れているものである。
子、1〜12個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖のアルキル基、フェニル基
または1〜10個の炭素原子を含むアラルキル基にすることができ、互いに同一
でも異なっていてもよい。このような1価の基の例としてはエチル基、ブチル基
、t−ブチル基およびイソプロピル基を挙げることができる。 本発明の式(I)のアルコキシアミンの中で最も好ましいものの一つはn=2で
、RLに結合した炭素原子の残りの原子価の少なくとも1つが水素原子に結合さ
れているものである。
【0025】
炭素原子の残りの2つの原子価を2価ラジカルに結合させて、ラジカルRLが
結合した炭素原子を含む環を形成してもよい。この環は3〜10個の炭素原子を
含み、N、OまたはS等のヘテロ原子を含むことができる。 窒素原子の残りの原子価を−C(CH3)2Z基に結合してもよい(ここで、Z
は−COOアルキル、−COOH、−CH3、−CN、−CH2OH、−CH2O
Si(CH3)3である)。
結合した炭素原子を含む環を形成してもよい。この環は3〜10個の炭素原子を
含み、N、OまたはS等のヘテロ原子を含むことができる。 窒素原子の残りの原子価を−C(CH3)2Z基に結合してもよい(ここで、Z
は−COOアルキル、−COOH、−CH3、−CN、−CH2OH、−CH2O
Si(CH3)3である)。
【0026】
式(I)のポリアルコキシアミンは文献公知の方法で製造することができる。最
も一般的に用いられる製造方法は炭素をベースにする基をニトロキシド基にカッ
プリングさせる方法である。このカップリングはハロ誘導体A(X)nを用いた
CuX/配位子(X=ClまたはBr)等の有機金属系の存在下でのATRA(
原子移動ラジカル付加:Atom Transfer Radical Addition)型反応によって行う
ことができる(D. Greszta達、「Macromolecules 1996, 29, 7661-7670」に記載
)。 この方法では下記スキームに従って溶媒中で有機金属系:CuX/配位子の存
在下で原子または原子群を他の分子にトランスファーする:
も一般的に用いられる製造方法は炭素をベースにする基をニトロキシド基にカッ
プリングさせる方法である。このカップリングはハロ誘導体A(X)nを用いた
CuX/配位子(X=ClまたはBr)等の有機金属系の存在下でのATRA(
原子移動ラジカル付加:Atom Transfer Radical Addition)型反応によって行う
ことができる(D. Greszta達、「Macromolecules 1996, 29, 7661-7670」に記載
)。 この方法では下記スキームに従って溶媒中で有機金属系:CuX/配位子の存
在下で原子または原子群を他の分子にトランスファーする:
【0027】
【式32】
【0028】
この方法では一般にCuBr/配位子等の有機金属系をベンゼンまたはトルエ
ン等の芳香族有機溶剤に溶解した溶液に化合物A(X)nと下記のβ置換ニトロ
キシドとを導入する:
ン等の芳香族有機溶剤に溶解した溶液に化合物A(X)nと下記のβ置換ニトロ
キシドとを導入する:
【0029】
【式33】
【0030】
ここで用いられる配位子の例としてはビピリジン、4,4'−ビス(5−ノニ
ル)−2,2'−ビピリジンおよびトリス(2−ピリジルメチル)アミン(TP
A)が挙げられる。 反応混合物を20℃〜90℃の温度で48時間以上撹拌する。次に、沈殿物を
濾過し、エーテル等の溶媒で洗浄し、濾過物をCuSO4の5重量%水溶液で洗
浄し、最後に水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧蒸発させる
。
ル)−2,2'−ビピリジンおよびトリス(2−ピリジルメチル)アミン(TP
A)が挙げられる。 反応混合物を20℃〜90℃の温度で48時間以上撹拌する。次に、沈殿物を
濾過し、エーテル等の溶媒で洗浄し、濾過物をCuSO4の5重量%水溶液で洗
浄し、最後に水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、溶媒を減圧蒸発させる
。
【0031】
他の有利な方法は、有機溶媒中でβ−置換ニトロキシド/A(X)nのモル比
がn〜2nとなるようにCuX等の金属塩MXと、配位子と、化合物A(X)n
と、下記β−置換ニトロキシド:
がn〜2nとなるようにCuX等の金属塩MXと、配位子と、化合物A(X)n
と、下記β−置換ニトロキシド:
【0032】
【式34】
とを撹拌下に混合し、β−置換ニトロキシドがなくなるまで反応媒体を20℃〜
90℃の温度で撹拌し、有機相を回収し、水で洗浄し、有機溶媒を減圧蒸留して
ポリアルコキシアミン(I)を単離する。 この方法で用いることができる配位子の例として下記のものを挙げることがで
きる:
90℃の温度で撹拌し、有機相を回収し、水で洗浄し、有機溶媒を減圧蒸留して
ポリアルコキシアミン(I)を単離する。 この方法で用いることができる配位子の例として下記のものを挙げることがで
きる:
【0033】
1) トリス[2−(ジメチルアミノ)エチル]アミン:
【式35】
【0034】
2) N,N,N',N',N媒−ペンタメチルジエチレントリアミン(PMDE
TA):
TA):
【式36】
【0035】
3) N,N,N',N'−テトラメチルエチレンジアミン:
【式37】
【0036】
4) 1,1,4,7,10,10−ヘキサメチルトリエチレンテトラミン(H
MTETA):
MTETA):
【式38】
【0037】
5) 下記の環式ポリアミン:
1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザシクロノナミン、
1,5,9−トリメチル−1,5,9−トリアザシクロドデカン、
1,4,8,11−テトラメチル−1,4,8,11−テトラアザシクロテト
ラデカン
ラデカン
【0038】
PMDETAを用いるのが好ましい。
金属塩の金属Mの活性化学種の酸化状態は1である(MI)。この活性化学種
をそのまま、好ましくはCuBr等の金属ハロゲン化物の形で反応媒体へ添加す
ることができる。 活性化学種をCuBr2等の金属塩MIIXから下記レドックス法によってその
場で作ることもできる:
をそのまま、好ましくはCuBr等の金属ハロゲン化物の形で反応媒体へ添加す
ることができる。 活性化学種をCuBr2等の金属塩MIIXから下記レドックス法によってその
場で作ることもできる:
【0039】
【式39】
(ここで、金属Mは酸化状態2(MII)にあり、M0は同じ金属が酸化状態ゼロ
にあることを示す)
にあることを示す)
【0040】
金属塩MXを反応媒体中に導入してもよい(ここで、金属Mは酸化状態1(M I
A)であり、同じ金属Mの酸化状態0は(M0)である)。
この方法では配位子/MIのモル比が1〜5、好ましくは1〜2となるように
配位子を用いる。 β−置換ニトロキシド/A(X)nのモル比はn〜1.4nの範囲、好ましく
は約1である。
配位子を用いる。 β−置換ニトロキシド/A(X)nのモル比はn〜1.4nの範囲、好ましく
は約1である。
【0041】
本発明で用いるβ−置換ニトロキシド:
【式40】
の例としては下記を挙げることができる:
【0042】
1) N−t−ブチル−1−フェニル−2−メチルプロピルニトロキシド、
2) N−(2−ヒドロキシメチルプロピル)−1−フェニル−2−メチルプロ
ピルニトロキシド 3) N−t−ブチル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニト
ロキシド、 4) N−t−ブチル−1−ジベンジルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニ
トロキシド、 5) N−t−ブチル−1−ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)ホスホノ
−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド、 6) N−t−ブチル[(1−ジエチルホスホノ)−2−メチルプロピル]ニト
ロキシド、
ピルニトロキシド 3) N−t−ブチル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニト
ロキシド、 4) N−t−ブチル−1−ジベンジルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニ
トロキシド、 5) N−t−ブチル−1−ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)ホスホノ
−2,2−ジメチルプロピルニトロキシド、 6) N−t−ブチル[(1−ジエチルホスホノ)−2−メチルプロピル]ニト
ロキシド、
【0043】
7) N−(1−メチルエチル)−1−シクロヘキシル−1−(ジエチルホスホ
ノ)ニトロキシド、 8) N−(1−フェニルベンジル)[(1−ジエチルホスホノ)−1−メチル
エチル]ニトロキシド、 9) N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロ
キシド、 10) N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチルニトロキシド、
11) N−(1−フェニル−2−メチルプロピル)−1−ジエチルホスホノメチ
ルエチルニトロキシド。
ノ)ニトロキシド、 8) N−(1−フェニルベンジル)[(1−ジエチルホスホノ)−1−メチル
エチル]ニトロキシド、 9) N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−2,2−ジメチルプロピルニトロ
キシド、 10) N−フェニル−1−ジエチルホスホノ−1−メチルエチルニトロキシド、
11) N−(1−フェニル−2−メチルプロピル)−1−ジエチルホスホノメチ
ルエチルニトロキシド。
【0044】
フリーラジカルを発生することができる大部分の中間化合物A(X)nは市販
されている(Xが塩素原子または臭素原子を表すもの)か、文献に記載の方法で
得られる。
されている(Xが塩素原子または臭素原子を表すもの)か、文献に記載の方法で
得られる。
【0045】
下記式(IVi)で表される化合物は新規化合物であり、本発明の一部を成す
:
:
【式41】
【0046】
この式でR5、R6およびR7は約1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐
鎖のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロ
アルキル基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、q、rおよびsは1〜
5の整数である。
鎖のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロ
アルキル基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、q、rおよびsは1〜
5の整数である。
【0047】
本発明の式(IVi)の化合物は、1,3,5−トリス(α−ヒドロキシアル
キル)シアヌル酸に下記式(XI):
キル)シアヌル酸に下記式(XI):
【0048】
【式42】
【0049】
の酸臭化物を、酸臭化物/シアヌル酸誘導体のモル比がほぼ3となるように導入
し、反応媒体を50℃〜100℃の温度に加熱し、この温度を約12時間維持す
る方法でによって得られる。室温に冷却後、反応媒体をCH2Cl2等のハロゲン
化溶媒中に取り、中性になるまで水で洗浄する。得られた溶液はMgSO4で乾
燥し、減圧して溶媒を除去する。得られた化合物は質量分析および1Hおよび13
CのNMRで同定する。
し、反応媒体を50℃〜100℃の温度に加熱し、この温度を約12時間維持す
る方法でによって得られる。室温に冷却後、反応媒体をCH2Cl2等のハロゲン
化溶媒中に取り、中性になるまで水で洗浄する。得られた溶液はMgSO4で乾
燥し、減圧して溶媒を除去する。得られた化合物は質量分析および1Hおよび13
CのNMRで同定する。
【0050】
本発明の式(I)のポリアルコキシアミンはラジカル重合可能な炭素−炭素二重
結合を有する任意のモノマーの重合および共重合に用いることができる。この重
合または共重合は単一か複数モノマーかに応じて当業者に公知の一般的な条件で
実施される。重合または共重合を50℃〜250℃、好ましくは70℃〜150
℃の温度で塊重合、溶液重合、乳液重合または懸濁重合で実施することもできる
。本発明で用いられるモノマーの例としてはスチレン、置換スチレン、ジエン等
のビニル芳香族モノマー、フッ素を含んでいてもよいアルキルまたはアリールア
クリレートおよびメタクリレート、例えばメチルアクリレート、ブチルアクリレ
ートまたはメチルメタクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド等のアクリ
ルアミドが挙げられる。モノマーを塩化ビニル、ビニリデンジフルオリドまたは
アクリロニトリルにすることもできる。
結合を有する任意のモノマーの重合および共重合に用いることができる。この重
合または共重合は単一か複数モノマーかに応じて当業者に公知の一般的な条件で
実施される。重合または共重合を50℃〜250℃、好ましくは70℃〜150
℃の温度で塊重合、溶液重合、乳液重合または懸濁重合で実施することもできる
。本発明で用いられるモノマーの例としてはスチレン、置換スチレン、ジエン等
のビニル芳香族モノマー、フッ素を含んでいてもよいアルキルまたはアリールア
クリレートおよびメタクリレート、例えばメチルアクリレート、ブチルアクリレ
ートまたはメチルメタクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド等のアクリ
ルアミドが挙げられる。モノマーを塩化ビニル、ビニリデンジフルオリドまたは
アクリロニトリルにすることもできる。
【0051】
必要な場合には、用いるポリアルコキシアミン(I)に対応するニトロキシドを
、ニトロキシド/ポリアルコキシアミン(I)のモル比を0.01n%〜20n%
、好ましくはn%〜10n%の範囲にして、重合媒体中に加えることもできる。
、ニトロキシド/ポリアルコキシアミン(I)のモル比を0.01n%〜20n%
、好ましくはn%〜10n%の範囲にして、重合媒体中に加えることもできる。
【0052】
本発明のポリアルコキシアミン(I)は下記のブロックコポリマーの合成で用い
ることができる。すなわち、第1段階ではラジカル重合可能な炭素−炭素2重結
合を有するモノマーM1またはモノマー混合物を50℃〜250℃、好ましくは
70℃〜150℃の温度でポリアルコキシアミン(I)の存在下で塊重合、溶液重
合、懸濁重合または乳化重合し、第2段階では温度を下げ、必要に応じて単一ま
たは複数の残留モノマーを蒸発させ、第3段階ではモノマーM2または新たなモ
ノマー混合物を上記で得られた反応媒体中に導入し、単に温度を上昇させて重合
を行う。 この方法では例えばポリスチレン−ポリブチルアクリレート−ポリスチレン(
PS−BUA−PS)のブロックコポリマーを製造することができる。 以下、本発明の実施例を説明する。
ることができる。すなわち、第1段階ではラジカル重合可能な炭素−炭素2重結
合を有するモノマーM1またはモノマー混合物を50℃〜250℃、好ましくは
70℃〜150℃の温度でポリアルコキシアミン(I)の存在下で塊重合、溶液重
合、懸濁重合または乳化重合し、第2段階では温度を下げ、必要に応じて単一ま
たは複数の残留モノマーを蒸発させ、第3段階ではモノマーM2または新たなモ
ノマー混合物を上記で得られた反応媒体中に導入し、単に温度を上昇させて重合
を行う。 この方法では例えばポリスチレン−ポリブチルアクリレート−ポリスチレン(
PS−BUA−PS)のブロックコポリマーを製造することができる。 以下、本発明の実施例を説明する。
【0053】
【実施例】一般的事項
合成例で得られた化合物はCHN微量分析および1H、13Cおよび31PのNM
Rで同定した。
Rで同定した。
【0054】
下記式のβ−置換ニトロキシド(以下、DEPNという)を用いた:
【式43】
【0055】
このβ−置換ニトロキシドは国際特許出願第WO−96/24620号に記載
のプロトコルに従ってジエチル−2,2−ジメチル−1−(1,1−ジメチルエ
チルアミノ)プロピルホスホネートをメタ−クロロペルベンゾイン酸を用いて酸
化して得られる。
のプロトコルに従ってジエチル−2,2−ジメチル−1−(1,1−ジメチルエ
チルアミノ)プロピルホスホネートをメタ−クロロペルベンゾイン酸を用いて酸
化して得られる。
【0056】
実施例1〜9で用いられる一般的な反応式は下記の通りである:
【式44】
【0057】
用いたポリニトロゲン配位子は以下の通り:
1) N,N,N',N',N媒−ペンタメチルジエチレントリアミン(以下、P
MDETAという)、 2) トリス(2−ピリジルメチル)アミン(以下、TPAという)、 3) ビピリジン(以下、BIPYという) A(X)nはn個のハロゲン化官能基を有する多官能化コアを表す。 ポリブロモエステルまたはポリクロロエステルを用いたが、例7では下記のク
ロロホスフィット:
MDETAという)、 2) トリス(2−ピリジルメチル)アミン(以下、TPAという)、 3) ビピリジン(以下、BIPYという) A(X)nはn個のハロゲン化官能基を有する多官能化コアを表す。 ポリブロモエステルまたはポリクロロエステルを用いたが、例7では下記のク
ロロホスフィット:
【0058】
【式45】
を用い、例8(従来法)ではジエチルベンゼンを2等量のN−ブロモスクシンイ
ミドと反応させて得られるパラ−ビス(1−ブロモエチル)ベンゼンが用いた。
ミドと反応させて得られるパラ−ビス(1−ブロモエチル)ベンゼンが用いた。
【0059】
実施例3、4および9のクロロエステルは当業者に周知の下記反応を用いて得
た:
た:
【式46】
【0060】
実施例1および2のブロモエステルは国際特許第WO−98/40415号の
実施例251に従って得た。 実施例5で用いたトリブロモトリエステルは1,3,5−トリス(2−ヒドロ
キシエチル)シアヌル酸を2−ブロモプロピオニルブロミドと反応させて得た(
実施例5に記載)。 アルコキシアミンA1およびA2はアクリレート−DEPN型の鎖を有するも
ので、タイプS1、S2、S3およびS4の名で表されるフェニルエチル−DE
PN型の鎖を有するアルコキシアミンである。
実施例251に従って得た。 実施例5で用いたトリブロモトリエステルは1,3,5−トリス(2−ヒドロ
キシエチル)シアヌル酸を2−ブロモプロピオニルブロミドと反応させて得た(
実施例5に記載)。 アルコキシアミンA1およびA2はアクリレート−DEPN型の鎖を有するも
ので、タイプS1、S2、S3およびS4の名で表されるフェニルエチル−DE
PN型の鎖を有するアルコキシアミンである。
【0061】実施例1 ジアルコキシアミンA1の合成
【式47】
【0062】
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を行う。下記式の1,6−ヘキ
サンジオールビス(2−ブロモプロピオネート):
サンジオールビス(2−ブロモプロピオネート):
【式48】
およびDEPNは予め脱気しておき、トルエンをアルゴン下にベンゾフェノンナ
トリウムで蒸留しておく。
トリウムで蒸留しておく。
【0063】
1.02gのCuBrと、2.23gのBIPYと、0.45gの銅粉末とを
100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、1.3
9gの1,6−ヘキサンジオールジ(2−ブロモ−プロピオネート)と、30m
lのトルエンに溶解した3gの70%DEPNとを添加する。混合物を撹拌しな
がら室温に3.5日間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離
剤はエーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、反応混合物をセライトで濾過
する。濾過物を5%硫酸銅水溶液、次に水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を蒸発させる(粗質量=2.93g)。
100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、1.3
9gの1,6−ヘキサンジオールジ(2−ブロモ−プロピオネート)と、30m
lのトルエンに溶解した3gの70%DEPNとを添加する。混合物を撹拌しな
がら室温に3.5日間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離
剤はエーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、反応混合物をセライトで濾過
する。濾過物を5%硫酸銅水溶液、次に水で洗浄する。有機相を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を蒸発させる(粗質量=2.93g)。
【0064】
生成物をエーテル/ヘプタン(4/1)溶離剤、次にエーテル/メタノール(
1/1)溶離剤を用いてシリカカラムでクロマトグラフィー精製する。0.96
gから0.73gの無色のオイルが回収される。 単離した生成物の全体収率は75%である。 元素分析:(C38H78N2O12P12) 計算:C 55.9%; H 9.6%; N 3.4% 実測:C 55.41%;H 9.54%;N 3.58%
1/1)溶離剤を用いてシリカカラムでクロマトグラフィー精製する。0.96
gから0.73gの無色のオイルが回収される。 単離した生成物の全体収率は75%である。 元素分析:(C38H78N2O12P12) 計算:C 55.9%; H 9.6%; N 3.4% 実測:C 55.41%;H 9.54%;N 3.58%
【0065】
1H、13Cおよび31PのNMR:
生成物は4つの不斉炭素原子と1つの対称中心を有する。NMR信号は複雑で
、50/50の相対比率の2つの異なるグループの異性体を示す。1H、13Cお
よび31Pの化学シフト(溶媒=CDCl3)を[表1]に示す。構造式A1に示
したインデックスで各種原子を参照した。信号が異なる場合、2つの異性体群を
「;」で区切った。
、50/50の相対比率の2つの異なるグループの異性体を示す。1H、13Cお
よび31Pの化学シフト(溶媒=CDCl3)を[表1]に示す。構造式A1に示
したインデックスで各種原子を参照した。信号が異なる場合、2つの異性体群を
「;」で区切った。
【0066】
【表1】
【0067】実施例2 アミン配位子としてBIPYの代わりにPMDETAを用いたジアルコキシアミ ンA1の製造
操作は実施例1と同一にし、用いられた試薬の比率をDEPN/ジブロモジエ
ステル=2、CuBr/ジブロモジエステル=2、PMDETA/CuBr=2
、Cu(O)/CuBr=1にした。 PMDETA配位子によって反応時間は3時間に短縮される。濾過後、反応混
合物を水で洗浄し、精製する(無色の水相が得られるまで)。生成物は無色のオ
イル状である。収率は同じである。
ステル=2、CuBr/ジブロモジエステル=2、PMDETA/CuBr=2
、Cu(O)/CuBr=1にした。 PMDETA配位子によって反応時間は3時間に短縮される。濾過後、反応混
合物を水で洗浄し、精製する(無色の水相が得られるまで)。生成物は無色のオ
イル状である。収率は同じである。
【0068】実施例3 ジアルコキシアミンS1の合成
【式49】
【0069】
アルゴン雰囲気下においてSchlenkチューブ内で反応を実施する。下記式のビ
スβ−クロロフェネチルアジペート:
スβ−クロロフェネチルアジペート:
【式50】
とDEPNは予め脱気し、トルエンはアルゴン下でベンゾフェノンナトリウムで
蒸留する。
蒸留する。
【0070】
3.25gのCuBrと、7.8gのPMDETAと、1.29gの銅粉末と
を100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、5g
のビス(β−クロロフェネチル)アジペート(11.4mモル)と、50mlの
トルエンに溶解した7.5gの90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しなが
ら室温に12時間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤:
エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後に反応混合物をセライトで濾過する
。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ、無色のオイル状の所望のジアルコキ
シアミンS1が回収される(ジアステレオ異性体混合物)。収率は定量的である
。
を100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、5g
のビス(β−クロロフェネチル)アジペート(11.4mモル)と、50mlの
トルエンに溶解した7.5gの90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しなが
ら室温に12時間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤:
エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後に反応混合物をセライトで濾過する
。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ、無色のオイル状の所望のジアルコキ
シアミンS1が回収される(ジアステレオ異性体混合物)。収率は定量的である
。
【0071】
元素分析:(C48H82N2O12P2)
計算:C 61.3%; H 8.8%; N 3.0%
実測:C 61.41%;H 8.62%;N 2.95%
1H、13C、31PNMR:スペクトルは63/37の相対比の2つの異なるグ
ループの異性体があることを示す。[表2]は構造式S1でした水素原子、炭素
原子および燐原子の化学シフトをまとめたものである。主な異性体のグループに
対応するシフトには、他から識別される場合、下線を引いた。
ループの異性体があることを示す。[表2]は構造式S1でした水素原子、炭素
原子および燐原子の化学シフトをまとめたものである。主な異性体のグループに
対応するシフトには、他から識別される場合、下線を引いた。
【0072】
【表2】
【0073】実施例4 ジアルコキシアミンS2の合成
【式51】
【0074】
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を実施する。下記式のビス(β
−クロロフェネチル)スクシネート:
−クロロフェネチル)スクシネート:
【式52】
とDEPNは予め脱気し、トルエンはアルゴン下でベンゾフェノンナトリウムで
蒸留する。
蒸留する。
【0075】
3.25gのCuBrと、7.8gのPMDETAと、1.29gの銅粉末と
を100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、4.
66gのビス(β−クロロフェネチル)スクシネート(11.4mモル)と、5
0mlのトルエンに溶解した7.5gの90%DEPNとを加える。混合物を撹
拌しながら室温に12時間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(
溶離剤=エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、反応混合物をセライトで
濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ、無色のオイル状の所望の生
成物が回収される(ジアステレオ異性体の混合物)。収率は定量的である。
を100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、4.
66gのビス(β−クロロフェネチル)スクシネート(11.4mモル)と、5
0mlのトルエンに溶解した7.5gの90%DEPNとを加える。混合物を撹
拌しながら室温に12時間放置して反応させる。反応をTLCでモニターする(
溶離剤=エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、反応混合物をセライトで
濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ、無色のオイル状の所望の生
成物が回収される(ジアステレオ異性体の混合物)。収率は定量的である。
【0076】
元素分析:C46H78N2O12P2
計算:C 60.5% ;H 8.6% ;N 3.1%
実測:C 60.45%;H 8.58%;N 3.2%
NMR:
、NMRスペクトルは60/40の相対比の2つの異なるグループの異性体が
あることを示す。[表3]は構造式に示した水素原子、炭素原子および燐原子の
化学シフトをまとめたものである。主な異性体のグループに対応するシフトは、
他から識別される場合、下線を引いた。
あることを示す。[表3]は構造式に示した水素原子、炭素原子および燐原子の
化学シフトをまとめたものである。主な異性体のグループに対応するシフトは、
他から識別される場合、下線を引いた。
【0077】
【表3】
【0078】実施例5 トリアルコキシアミンA2の合成
【式53】
【0079】
出発材料のトリブロモトリエステルは下記式を有する:
【式54】
【0080】
a)トリエステルの合成:
【式55】
【0081】
15gの1,3,5−トリス(2−ヒドロキシアルキル)シアヌル酸(57m
モル)を250mlのガラス製反応器に入れる。37.1gの2−ブロモプロピ
オニルブロミド(172mモル)を1滴ずつ導入し、混合物を80℃に過熱する
。反応混合物を一晩放置して反応させ、ジクロロメタンに取り、中性になるまで
水で洗浄する。得られた溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。35.
6gのほぼ無色のシロップが得られる(重量収率=93%)。生成物は1Hおよ
び13CのNMRによって特徴付けた。
モル)を250mlのガラス製反応器に入れる。37.1gの2−ブロモプロピ
オニルブロミド(172mモル)を1滴ずつ導入し、混合物を80℃に過熱する
。反応混合物を一晩放置して反応させ、ジクロロメタンに取り、中性になるまで
水で洗浄する。得られた溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発させる。35.
6gのほぼ無色のシロップが得られる(重量収率=93%)。生成物は1Hおよ
び13CのNMRによって特徴付けた。
【0082】
b)トリアルコシアミンの合成:
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を実施する。DEPNは予め脱
気する。アルゴン下でトルエンをベンゾフェノンナトリウムで蒸留する。 1.03gのCuBrと、2.09gのTPAと、0.45gの銅粉末とを1
00mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、a)で合
成された1.6gのトリブロモトリエステルと、10mlのトルエンに溶解した
3.02gの70%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に1時間放
置して反応させる。反応混合物をセライトで濾過し、溶媒を蒸発させる。3.1
1gの粗生成物が得られる(無色のシロップ剤として)。
気する。アルゴン下でトルエンをベンゾフェノンナトリウムで蒸留する。 1.03gのCuBrと、2.09gのTPAと、0.45gの銅粉末とを1
00mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、a)で合
成された1.6gのトリブロモトリエステルと、10mlのトルエンに溶解した
3.02gの70%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に1時間放
置して反応させる。反応混合物をセライトで濾過し、溶媒を蒸発させる。3.1
1gの粗生成物が得られる(無色のシロップ剤として)。
【0083】
1%のエタノールを含むエーテル/エタノール溶離剤を用い、シリカカラム上
のクロマトグラフィーで生成物を精製する。1gから0.86gの無色のシロッ
プが回収される。単離された生成物の全体収率は82%である。 生成物は質量分析法および1H、13Cおよび31PのNMRによって特徴付けた
。NMRスペクトルは50/50の相対比の2つの異なるグループの異性体があ
ることを示す。1Hおよび31Pの化学シフト(溶媒=CDCl3)を[表4]に示
す。各種原子を構造式A1のインデックスで参照した。信号が異なる場合、2つ
のグループの異性体は「;」で区切った。
のクロマトグラフィーで生成物を精製する。1gから0.86gの無色のシロッ
プが回収される。単離された生成物の全体収率は82%である。 生成物は質量分析法および1H、13Cおよび31PのNMRによって特徴付けた
。NMRスペクトルは50/50の相対比の2つの異なるグループの異性体があ
ることを示す。1Hおよび31Pの化学シフト(溶媒=CDCl3)を[表4]に示
す。各種原子を構造式A1のインデックスで参照した。信号が異なる場合、2つ
のグループの異性体は「;」で区切った。
【0084】
【式56】
【0085】
【表4】
【0086】実施例6 PMDETAを用いたトリアルコキシアミンA2の合成
用いた条件は、DEPN/トリブロモトリエステル=3、CuBr/トリブロ
モトリエステル=3、PMDETA/CuBr=2、Cu(O)/CuBr=1
、溶媒=トルエン、T=20℃、t=7時間である。
モトリエステル=3、PMDETA/CuBr=2、Cu(O)/CuBr=1
、溶媒=トルエン、T=20℃、t=7時間である。
【0087】
生成物を水(5×500ml)で洗浄し、精製する。物質収支は[表5]に示
してある。トリアルコキシアミンとモノアルコキシアミンおよびジアルコキシア
ミンの比率は1Hおよび31PのNMRで決定した。残留DEPNの含有率はHP
LCで求めた。残留溶媒の含有率は1HのNMRで決定した。
してある。トリアルコキシアミンとモノアルコキシアミンおよびジアルコキシア
ミンの比率は1Hおよび31PのNMRで決定した。残留DEPNの含有率はHP
LCで求めた。残留溶媒の含有率は1HのNMRで決定した。
【0088】
【表5】
【0089】実施例7 トリアルコキシアミンS3の合成
【式57】
【0090】
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を実施する。下記式のトリクロ
ロホスフィットを米国特許第2,876,246号に記載のプロトコルに従って
PCl3と酸化スチレンから作った:
ロホスフィットを米国特許第2,876,246号に記載のプロトコルに従って
PCl3と酸化スチレンから作った:
【式58】
このトリクロロホスフィットおよびDEPNは予め脱気する。トルエンはアルゴ
ン下でベンゾフェノンナトリウムで蒸留する。
ン下でベンゾフェノンナトリウムで蒸留する。
【0091】
3.4gのCuBrと、8.2gのPMDETAと、1.5gの銅粉末とを1
00mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、3.9g
のホスフィット(7.9mモル)と、50mlのトルエンに溶解した7.7gの
90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に12時間放置して反応
させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤:エーテル/ヘプタン=4/1)
。反応終了後、反応混合物をセライトで濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒
を蒸発させると、わずかに黄色いオイル状の所望の生成物が回収される(ジアス
テレオ異性体混合物)。収率:3.1g(31%)。 元素分析:C63H111N3O15P4 計算:C 59.4% ;H 8.8% ;N 3.3% 実測:C 59.01%;H 8.59%;N 3.21%
00mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、3.9g
のホスフィット(7.9mモル)と、50mlのトルエンに溶解した7.7gの
90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に12時間放置して反応
させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤:エーテル/ヘプタン=4/1)
。反応終了後、反応混合物をセライトで濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒
を蒸発させると、わずかに黄色いオイル状の所望の生成物が回収される(ジアス
テレオ異性体混合物)。収率:3.1g(31%)。 元素分析:C63H111N3O15P4 計算:C 59.4% ;H 8.8% ;N 3.3% 実測:C 59.01%;H 8.59%;N 3.21%
【0092】実施例8 トリアルコキシアミンS4の合成
【式59】
【0093】
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を実施する。パラ−ビス(1−ブ
ロモエチル)ベンゼンとDEPNとは予め脱気する。トルエンはアルゴン下でベ
ンゾフェノンナトリウムで蒸留する。 1.02gのCuBrと、3mlのPMDETA(すなわち4当量)と、0.
5gの銅粉末とを100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンで
パージし、1.03gのパラ−ビス(1−ブロモエチル)ベンゼン(3.53mモ
ル)と、20mlのベンゼンに溶解した1.77gの88%DEPNとを加える
。混合物を撹拌しながら室温に6時間放置して反応させる。反応をTLCでモニ
ターする(溶離剤:エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、エーテルを加
えて反応混合物をセライトで濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ
るとオイルが回収され、これをシリカカラムでクロマトグラフィー精製する(溶
離剤:ペンタン/エチルアセテート=6/4)。燐NMRと質量分析法で検出さ
れた種々のジアステレオ異性体はカラムでは分離できない。 収率:1.9g(78%)
ロモエチル)ベンゼンとDEPNとは予め脱気する。トルエンはアルゴン下でベ
ンゾフェノンナトリウムで蒸留する。 1.02gのCuBrと、3mlのPMDETA(すなわち4当量)と、0.
5gの銅粉末とを100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンで
パージし、1.03gのパラ−ビス(1−ブロモエチル)ベンゼン(3.53mモ
ル)と、20mlのベンゼンに溶解した1.77gの88%DEPNとを加える
。混合物を撹拌しながら室温に6時間放置して反応させる。反応をTLCでモニ
ターする(溶離剤:エーテル/ヘプタン=4/1)。反応終了後、エーテルを加
えて反応混合物をセライトで濾過する。濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させ
るとオイルが回収され、これをシリカカラムでクロマトグラフィー精製する(溶
離剤:ペンタン/エチルアセテート=6/4)。燐NMRと質量分析法で検出さ
れた種々のジアステレオ異性体はカラムでは分離できない。 収率:1.9g(78%)
【0094】
元素分析:C36H70N2O8P2
計算:C 59.98%;H 9.79%;N 3.88%
実測:C 59.96%;H 9.87%;N 3.94%
31PのNMRは従来と同様に2種類のジアステレオ異性体に対応する2グルー
プのピークを示す。31 PのNMR: 第1グループδ=23.05−23.09−23.21; 第2グループ:24.36−24.4
プのピークを示す。31 PのNMR: 第1グループδ=23.05−23.09−23.21; 第2グループ:24.36−24.4
【0095】
0℃で一晩置いた後、ジアステレオ異性体の1つが結晶化し、白い結晶状で回
収することができる:m.p.=148℃。 このジアステレオ異性体を完全にNMR分析できたが、この異性体は23.2
ppmの燐NMR化学シフトを有するジアステレオ異性体で構成される。1Hお
よび13Cの化学シフトを[表6]に示した。
収することができる:m.p.=148℃。 このジアステレオ異性体を完全にNMR分析できたが、この異性体は23.2
ppmの燐NMR化学シフトを有するジアステレオ異性体で構成される。1Hお
よび13Cの化学シフトを[表6]に示した。
【0096】
【表6】
【0097】実施例9 ジアルコキシアミンAS1の合成
【式60】
【0098】
アルゴン雰囲気下でSchlenkチューブ内で反応を実施する。下記式のジクロロ
エステル:
エステル:
【式61】
とDEPNとは予め脱気し、トルエンはアルゴン下でベンゾフェノンナトリウム
で蒸留する。
で蒸留する。
【0099】
2.86gのCuBrと、6.9gのPMDETAと、1.2gの銅粉末とを
100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、2.4
6gのジクロロエステル(10mモル)と40mlのベンゼンに溶解した6.4
4gの90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に12時間放置し
て反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤=エーテル/ヘプタン=4
/1)。反応終了後、エーテルを加えた後、反応混合物をセライトで濾過する。
濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させるとわずかに黄色いオイル状の予想され
た生成物(ジアステレオ異性体混合物)が回収される。収率:6.9g(90%
)。
100mlのShlenkチューブに入れる。系を真空−アルゴンでパージし、2.4
6gのジクロロエステル(10mモル)と40mlのベンゼンに溶解した6.4
4gの90%DEPNとを加える。混合物を撹拌しながら室温に12時間放置し
て反応させる。反応をTLCでモニターする(溶離剤=エーテル/ヘプタン=4
/1)。反応終了後、エーテルを加えた後、反応混合物をセライトで濾過する。
濾過物を水で洗浄する。溶媒を蒸発させるとわずかに黄色いオイル状の予想され
た生成物(ジアステレオ異性体混合物)が回収される。収率:6.9g(90%
)。
【0100】分析
元素分析:C37H70N2O10P2
計算:C 58.1% ;H 9.2% ;N 3.7%
実測:C 58.15%;H 9.35%;N 3.6%
【0101】本発明のポリアルコキシアミンを用いた制御されたフリーラジカル重合の実施例
下記の条件下で重合を実施する。なお、スチレンアクリレートまたはブチルア
クリレートは蒸留し、5℃で不活性雰囲気下に貯蔵する。 1) ポリアルコキシアミンおよびモノマーまたはモノマー混合物を真空下で予
備乾燥されたSchlenkチューブに入れる。窒素を20分間散布して混合物を脱気
し、重合温度にする。窒素でパージしたシリンジを用いて試料を抜き出す。
クリレートは蒸留し、5℃で不活性雰囲気下に貯蔵する。 1) ポリアルコキシアミンおよびモノマーまたはモノマー混合物を真空下で予
備乾燥されたSchlenkチューブに入れる。窒素を20分間散布して混合物を脱気
し、重合温度にする。窒素でパージしたシリンジを用いて試料を抜き出す。
【0102】
分析:
数平均分子量(Mn)および多分散性インデックス(Ip)を立体除外クロマ
トグラフィー(SEC)で測定した。SP8801ポンプ、Shodex RE-61RI示差屈折計
、2つのPIgel混合Dカラム(溶離剤:THF、30℃)を備えるスペクトル物
理学機械(Spectra Physics machine)を用いてクロマトグラムを記録した。標
準ポリスチレン試料を用いて検定した。得られたポリスチレンをこの基準に対し
て直接分析した。ポリブチルアクリレートは一般的な検定方法で測定した。
トグラフィー(SEC)で測定した。SP8801ポンプ、Shodex RE-61RI示差屈折計
、2つのPIgel混合Dカラム(溶離剤:THF、30℃)を備えるスペクトル物
理学機械(Spectra Physics machine)を用いてクロマトグラムを記録した。標
準ポリスチレン試料を用いて検定した。得られたポリスチレンをこの基準に対し
て直接分析した。ポリブチルアクリレートは一般的な検定方法で測定した。
【0103】
変換率をBruker社製の200MHzのクロマトグラフィでSECおよび1Hの
両方の核磁気共鳴スペクトルで測定した。 下記実施例は下記パラメターで定義した: モノマーの質量、 アルコキシアミンの質量、 目的とする理論的モル質量(Mn(th))、 温度 各実験結果は反応時間、変換率、ポリマーのMn(ex)および多分散性イン
デックスIpによって特徴づけた。必要な場合には、時間の関数としての変換率
および変換率の関数としてのMnを示す曲線を報告する。
両方の核磁気共鳴スペクトルで測定した。 下記実施例は下記パラメターで定義した: モノマーの質量、 アルコキシアミンの質量、 目的とする理論的モル質量(Mn(th))、 温度 各実験結果は反応時間、変換率、ポリマーのMn(ex)および多分散性イン
デックスIpによって特徴づけた。必要な場合には、時間の関数としての変換率
および変換率の関数としてのMnを示す曲線を報告する。
【0104】
A)スチレンの塊重合実施例1A 化合物A1を用いた重合 データ
:
ジアルコキシアミンA1の質量:1g
スチレンの質量:48g
Mn(Th)=40,000g/モル
T=123℃
結果を[表7]に示す。
【0105】
【表7】
【0106】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.3である。
変換率の関数としてのMn曲線(図1)は、ジアルコキシアミンA1を用いた
重合が十分に制御されることを示す。この[図1]では、 --O----O-がMnThを表し、 -X-がMn(ex)を表す。
重合が十分に制御されることを示す。この[図1]では、 --O----O-がMnThを表し、 -X-がMn(ex)を表す。
【0107】実施例2A 化合物A2を用いる重合 データ
:
トリアルコキシアミンA2の質量:1g
スチレンの質量:45g
Mn(Th)=60,000g/モル
T=123℃
結果を[表8]に示す。
【0108】
【表8】
【0109】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.4である。変換率の関数として
のMn曲線(図2)は、トリアルコキシアミンA2を用いた重合が十分に制御さ
れることを示す。この[図2]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
のMn曲線(図2)は、トリアルコキシアミンA2を用いた重合が十分に制御さ
れることを示す。この[図2]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
【0110】実施例3a 化合物S4を用いる重合 データ
:
ジアルコキシアミンS4の質量:1g
スチレンの質量:55g
Mn(Th)=40,000g/モル
T=123℃
結果を[表9]に示す。
【0111】
【表9】
【0112】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.27である。変換率の関数とし
てのMn曲線(図3)は、トリアルコキシアミンS4を用いた重合が十分に制御
されることを示す。この[図3]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
てのMn曲線(図3)は、トリアルコキシアミンS4を用いた重合が十分に制御
されることを示す。この[図3]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
【0113】実施例4A 化合物S1を用いた重合 データ
:
ジアルコキシアミンS1の質量:1g
スチレンの質量:40g
Mn(Th)=40,000g/モル
T=123℃結果
:
3時間後、抜き出された試料は29,000g/モルのMnで、83%の変換
率を示す。すなわち、Mn(th)/Mn(ex)=1.14である。Ip=1
.21。
率を示す。すなわち、Mn(th)/Mn(ex)=1.14である。Ip=1
.21。
【0114】実施例5A 化合物S3を用いた重合 データ
:
トリアルコキシアミンの質量:1g
スチレンの質量:46g
Mn(Th)=60,000g/モル
T=123℃結果
:
3時間後、抜き出した試料は50,500g/モルのMnで、83%の変換率
を示す。すなわちMn(th)/Mn(ex)=0.89である。Ip=1.3
6。
を示す。すなわちMn(th)/Mn(ex)=0.89である。Ip=1.3
6。
【0115】
B)ブチルアクリレート(BUA)の塊重合 実施例1B 化合物S4を用いた重合 データ
:
ジアルコキシアミンS4の質量:1g
BUAの質量:55g
Mn(Th)=40,000g/モル
T=123℃
結果を[表10]に示す。
【0116】
【表10】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.7である。
【0117】
C)開始質量にコモノマーを添加するブチルアクリレート(BUA)の重合
以降の実施例では、5%のスチレンをアクリレートに添加してブチルアクリレ
ートの重合をよりよくして混合物の重合を開始した。実施例1C 化合物A1を用いた重合 データ : ジアルコキシアミンA1の質量:1g ブチルアクリレート/スチレン(95/5)の混合物の質量:48g Mn(Th)=40,000g/モル T=123℃ 結果を[表11]に示す。
ートの重合をよりよくして混合物の重合を開始した。実施例1C 化合物A1を用いた重合 データ : ジアルコキシアミンA1の質量:1g ブチルアクリレート/スチレン(95/5)の混合物の質量:48g Mn(Th)=40,000g/モル T=123℃ 結果を[表11]に示す。
【0118】
【表11】
【0119】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.4である。変換率の関数として
のMn曲線(図4)は、アルコキシアミンA1を用いた重合が十分に制御される
ことを示す。この[図4]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
のMn曲線(図4)は、アルコキシアミンA1を用いた重合が十分に制御される
ことを示す。この[図4]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMn(ex)を表す。
【0120】実施例2C 化合物A2を用いた重合 データ
:
トリアルコキシアミンA2の質量:1g
ブチルアクリレート/スチレン(95/5)の混合物の質量:45g
Mn(Th)=40,000g/モル
T=123℃
結果を[表12]に示す。
【0121】
【表12】
【0122】
重合終了時の多分散性インデックスIpは1.4である。変換率の関数として
のMn曲線(図5)は、トリアルコキシアミンA2を用いた重合が十分に制御さ
れることをはっきりと示す。この[図5]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMnexpを表す。
のMn曲線(図5)は、トリアルコキシアミンA2を用いた重合が十分に制御さ
れることをはっきりと示す。この[図5]では、 --O--がMnThを表し、 ■がMnexpを表す。
【0123】
D)ブロックコポリマーPS−PABU−PSの製造 実施例1D 第1ブロック
:実施例1cによる重合。データ
:
ジアルコキシアミンA1の質量:1g
ブチルアクリレート/スチレン(95/5)の混合物の質量:97g
Mn(Th)=81,200g/モル
T=123℃結果
:
2時間後、温度を下げる。55.300のMn(Mn(th)/Mn(ex)
=1.05)に対して72%の変換率(MnTh=58,500)を示し、多分
散性インデックスIp=1.3である。 残留モノマーは減圧蒸発させる。
=1.05)に対して72%の変換率(MnTh=58,500)を示し、多分
散性インデックスIp=1.3である。 残留モノマーは減圧蒸発させる。
【0124】第2ブロック
:
得られたポリマーをスチレン(260g)で稀釈する。反応器の温度を123
℃に上げる。重合を開始させ、30分後に10%の変換率で停止し、各鎖体の両
端におけるポリスチレンブロックがポリマーに対して6,500g/モルの長さ
、すなわちMn=68,400g/モルを有するようにする。結果 : Mn=73,900g/モル(Mn(th)/Mn(exp)=0.93)、 Ip=1.7
℃に上げる。重合を開始させ、30分後に10%の変換率で停止し、各鎖体の両
端におけるポリスチレンブロックがポリマーに対して6,500g/モルの長さ
、すなわちMn=68,400g/モルを有するようにする。結果 : Mn=73,900g/モル(Mn(th)/Mn(exp)=0.93)、 Ip=1.7
【図1】 実施例1Aでの変換率を関数とするMn曲線
【図2】 実施例2Aでの変換率を関数とするMn曲線
【図3】 実施例3Aでの変換率を関数とするMn曲線
【図4】 実施例1Cでの変換率を関数とするMn曲線
【図5】 実施例2Cでの変換率を関数とするMn曲線
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
C08F 20/00 C08F 20/00
297/00 297/00
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ
,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML,
MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K
E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW
),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,
TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ,
BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C
R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI
,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID,
IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K
Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA
,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,
PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S
K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG
,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW
(72)発明者 ル メルシエ,クリストフ
フランス国 13004 マルセイユ リュ
ドゥ ラ シャルトルーズ 8
(72)発明者 ロバン,ソフィ
フランス国 33400 タランス リュ エ
フ. セヴェン 215 レジダンス サン
−ミシェル バティマン デー アパルト
マン 324
(72)発明者 ヴィユマン,ブルーノ
フランス国 64140 ビユール リュ サ
ン−テグジュペリ 2 レジダンス ルイ
ジアン アパルトマン 7
Fターム(参考) 4H050 AB40
4J015 EA04
4J026 HA11 HA29 HA32 HA38 HA49
HB05 HB29 HB32 HB38 HB43
HB45 HB48 HE05
Claims (37)
- 【請求項1】 β‐置換ニトロキシドから得られる下記式(I)のポリアルコ
キシアミン: 【式1】 (ここで、Aは2価または多価の構造を表し、RLはモル質量が15以上の1価
のラジカルを表し、n≧2である) - 【請求項2】 構造Aが下記構造(II)〜(IX)の中から選択される請求項1に
記載のポリアルコキシアミン(I): 【式2】 (ここで、 R1およびR2は1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基、
必要に応じてF、ClまたはBr等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含
む直鎖または分岐鎖のアルキル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、カルボニル基またはカルボキシル基で置換されていてもよいフェニール基ま
たはチエニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロアルキル基ま
たは1つまたは複数の不飽和結合を有する基を表し、互いに同一でも異なってい
てもよく、 Bは1〜20個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基を表し、 mは1〜10の整数である) 【式3】 (ここで、 R3およびR4はアリール基、ピリジル基、フリル基またはチエニル基を表し、
互いに同一でも異なっていてもよく、これらの基は必要に応じてF、Clまたは
Br等のハロゲン原子か、1〜4個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキ
ル基か、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボニル基またはカル
ボキシル基で置換されていてもよく、 Dは1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキレン基、フェニレン
基またはシクロアルキレン基を表し、 pは1〜10の数である) 【式4】 (ここで、 R5、R6およびR7は式(II)のR1およびR2と同じものを意味し、互いに同一
でも異なっていてもよく、 q、rおよびsは1〜5の整数である) 【式5】 (ここで、 R8は式(III)のR3およびR4と同じものを意味し、 tは1〜4の整数、2≦u≦6) 【式6】 (ここで、 R9は式(V)の基R8と同じものを意味し、2≦v≦6) 【式7】 (ここで、 R10、R11およびR12は必要に応じてClまたはBr等のハロゲン原子か、1
〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基で置換されていてもよ
いフェニール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、 Wは酸素原子、硫黄原子またはセレン原子を表し、 wは0または1) 【式8】 (ここで、 R13は式(II)の基R1と同じものを意味し、 R14は式(III)の基R3またはR4と同じものを意味する) 【式9】 (ここで、 R15およびR16は水素原子、1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖の
アルキル基、または必要に応じてハロゲン原子またはヘテロ原子で置換されてい
てもよいアリール基を表し、互いに同一でも異なっていてもよい)。 - 【請求項3】 RLのモル質量が30以上である請求項1または2に記載の
ポリアルコキシアミン(I)。 - 【請求項4】 RLのモル質量が40〜450である請求項3に記載のポリ
アルコキシアミン(I)。 - 【請求項5】 式(1)のRLが結合した炭素原子および窒素原子の残った
原子価が一価ラジカルに結合しているか、2価ラジカルを介して互いに結合して
環を形成している請求項1〜4のいずれか一項に記載のポリアルコキシアミン(I
)。 - 【請求項6】 RLが結合した炭素原子と結合する一価ラジカルが水素原子
、1〜12個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖のアルキル基、フェニル基また
は1〜10個の炭素原子を含むアラルキル基であり、互いに同一でも異なってい
てもよい請求項1〜5のいずれか一項に記載のポリアルコキシアミン(I)。 - 【請求項7】 窒素原子の残りの原子価が一価の基−C(CH3)2Zに結合
(ここで、Z=−CO2アルキル、−CO2H、−CH3、−CN、−CH2OH、
−CH2OSi(CH3)3である)している請求項1〜6のいずれか一項に記載
のポリアルコキシアミン(I)。 - 【請求項8】 RLがホスホリル基を有する請求項1〜7のいずれか一項に
記載のポリアルコキシアミン(I)。 - 【請求項9】 RLが下記式で表される請求項8に記載のポリアルコキシア
ミン(I): 【式10】 (ここで、R17およびR18はハロゲン基、アルキル基、シクロアルキル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アリール基、アラルキロキシ基、ペルフルオロ基
およびアラルキル基の中から選択され、互いに同一でも異なっていてもよい) - 【請求項10】 R17およびR18が1〜20個の炭素原子を有する請求項9
に記載のポリアルコキシアミン(I)。 - 【請求項11】 式(I)でn=2であり、RLの炭素の残りの少なくとも1つ
の原子価が水素原子に結合している請求項1〜10のいずれか一項に記載のポリ
アルコキシアミン(I)。 - 【請求項12】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式11】
- 【請求項13】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式12】
- 【請求項14】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式13】
- 【請求項15】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式14】
- 【請求項16】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式15】
- 【請求項17】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式16】
- 【請求項18】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式17】
- 【請求項19】 下記式のポリアルコキシアミン: 【式18】 (ここで、R6、R7およびR8は1〜10個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖
のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、3〜12個の炭素原子を含むシクロア
ルキル基を表し、互いに同一でも異なっていてもよく、q、rおよびsは1〜5
の整数である) - 【請求項20】 式(Vi)でR6=R7=R8=CH3−で、q=r=s=2
である請求項19に記載のポリアルコキシアミン。 - 【請求項21】 50℃〜250℃の温度でラジカル重合、塊重合、溶液重
合、乳化重合または懸濁重合可能な炭素−炭素二重結合を有する少なくとも一つ
のモノマーの重合開始剤としての請求項1〜18のいずれか一項に記載の化合物
の使用。 - 【請求項22】 重合する単数または複数のモノマーがスチレンのようなビ
ニル芳香族モノマーか、必要に応じてフッ素化されていてもよいアルキルアクリ
レートまたはアリールアクリレートおよびメタクリレートのようなアクリレート
、アクリルアミドまたはアクリロニトリルである請求項21に記載の使用。 - 【請求項23】 重合を塊重合で行う請求項21または22に記載の使用。
- 【請求項24】 重合を溶液重合で行う請求項21または22に記載の使用
。 - 【請求項25】 重合を乳化重合で行う請求項21または22に記載の使用
。 - 【請求項26】 重合を懸濁重合で行う請求項21または22に記載の使用
。 - 【請求項27】 ポリアルコキシアミン(I)が得られる対応するニトロキシ
ドを用いるか、対応しないニトロキシドをさらに使用する請求項21〜26のい
ずれか一項に記載の使用。 - 【請求項28】 ニトロキシド/ポリアルコキシアミン(I)のモル比を0.
01n%〜20n%にする請求項27に記載の使用。 - 【請求項29】 比率の異なるモノマー混合物を重合する請求項21〜28
のいずれか一項に記載の使用。 - 【請求項30】 少なくとも一種のアクリルアクリレートを99.5重量%
以下の比率で含むモノマー混合物を用いる請求項29に記載の使用。 - 【請求項31】 モノマー混合物がアルキルアクリレートの重量率が88%
〜97%のであるアルキルアクリレートとスチレンオレフィンとの混合物である
物請求項30に記載の使用。 - 【請求項32】 アルキルアクリレートがブチルアクリレートである請求項
30または31に記載の使用。 - 【請求項33】 ブロックコポリマーを合成するための請求項21〜32の
いずれか一項に記載のポリアルコキシアミン(I)の使用。 - 【請求項34】 第1段階で、50℃〜250℃、好ましくは70℃〜15
0℃の温度でポリアルコキシアミン(I)の存在下で炭素−炭素2重結合を有する
ラジカル重合可能なモノマーM1またはモノマー混合物を重合し、第2段階で、
温度を下げ、必要な場合には未反応のモノマーを蒸発させ、第3段階で、上記で
得られた反応媒体中に第2のモノマーM2または新たなモノマー混合物を導入し
、次いで、温度を上昇させて重合を行うブロックコポリマーの製造方法における
請求項33に記載の使用。 - 【請求項35】 M1がフッ素化されていてもよいアルキルアクリレートで
、M2がスチレン系オレフィンである請求項34に記載の使用。 - 【請求項36】 M1がブチルアクリレートで、M2がスチレンである請求
項34に記載の使用。 - 【請求項37】 請求項21〜36のいずれか一項に記載の使用で得られた
ポリマーまたはコポリマー。
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Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006500436A (ja) * | 2002-09-23 | 2006-01-05 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 原子移動ラジカル付加重合(atra)により製造される高分子アルコキシアミン |
| JP2006521441A (ja) * | 2003-03-26 | 2006-09-21 | アルケマ | アクリルフィルムの新規な合成/製造方法 |
| JP2007516326A (ja) * | 2003-12-11 | 2007-06-21 | アルケマ フランス | ブロックコポリマーの製造方法と、その接着剤組成物での使用 |
| JP2008274290A (ja) * | 2002-01-22 | 2008-11-13 | Arkema France | ニトロオキシド存在下の制御されたラジカル重合で得られるブロック共重合体を含む耐衝撃性に優れた材料の製造方法および使用 |
| WO2009154205A1 (ja) * | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 東亞合成株式会社 | 接着剤組成物 |
| JP2010144060A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Toagosei Co Ltd | シーリング材組成物 |
| JP2010215808A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Toagosei Co Ltd | 接着剤組成物 |
| WO2012020560A1 (ja) | 2010-08-10 | 2012-02-16 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| WO2013180203A1 (ja) | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 株式会社カネカ | 複数の反応性ケイ素基を有する末端構造を有する重合体、およびその製造方法および利用 |
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| WO2014192842A1 (ja) | 2013-05-30 | 2014-12-04 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| EP3608365A1 (en) | 2015-10-02 | 2020-02-12 | Kaneka Corporation | Curable composition |
| JP2020189967A (ja) * | 2010-04-15 | 2020-11-26 | コディアック サイエンシーズ インコーポレイテッドKodiak Sciences Inc. | 高分子量双性イオン含有重合体 |
| WO2021024817A1 (ja) | 2019-08-06 | 2021-02-11 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| WO2023282298A1 (ja) | 2021-07-07 | 2023-01-12 | Agc株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、接着剤、及びシーリング材 |
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Families Citing this family (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2807439B1 (fr) | 2000-04-07 | 2003-06-13 | Atofina | Polymeres multimodaux par polymerisation radicalaire controlee en presence d'alcoxyamines |
| US6936670B2 (en) | 2001-07-05 | 2005-08-30 | Ciba Specialty Chemical Corp. | Multifunctional alkoxyamines based on polyalkylpiperidines, polyalkylpiperazinones and polyalkylmorpholinones and their use as polymerization regulators/initiators |
| FR2843393B1 (fr) * | 2002-08-07 | 2005-12-30 | Atofina | Alcoxyamines issues de nitroxydes b-phosphore, leur utilisation en polymerisation radicalaire |
| FR2843394B1 (fr) * | 2002-08-07 | 2005-12-30 | Atofina | Alcoxyamines issues de nitroxydes b-phosphore, leur utilisation en polymerisation radicalaire |
| US20040185017A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-09-23 | Nathalie Mougin | Nail varnish composition comprising at least one film-forming gradient copolymer and cosmetic process for making up and/or caring for the nails |
| US20040202688A1 (en) * | 2002-12-13 | 2004-10-14 | Nathalie Mougin | Nail varnish composition comprising at least one film-forming gradient copolymer and cosmetic process for making up or caring for the nails |
| FR2852963A1 (fr) * | 2003-03-26 | 2004-10-01 | Atofina | Nouveau procede de synthese/fabrication de films acryliques |
| FR2853317B1 (fr) * | 2003-04-01 | 2006-07-07 | Atofina | Alcoxyamines issues de nitroxydes b-phosphores, leur utilisation pour la preparation de mono-ou polyalcoxyamines, polymerisees ou non |
| FR2861394B1 (fr) * | 2003-10-24 | 2006-01-20 | Arkema | Procede de preparation de polyalcoaxymines utilisables comme amorceurs pour la polymerisation radicalaire de (co)polymeres vivants polyfonctionnels |
| JP4950667B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2012-06-13 | アーケマ・インコーポレイテッド | 精密ラジカル法アクリル共重合体増粘剤 |
| FR2866026B1 (fr) * | 2004-02-06 | 2008-05-23 | Arkema | Procede de polymerisation radicalaire en emulsion mettant en oeuvre des alcoxyamines hydrosolubles |
| US7632905B2 (en) * | 2004-04-09 | 2009-12-15 | L'oreal S.A. | Block copolymer, composition comprising it and cosmetic treatment process |
| FR2871470B1 (fr) | 2004-06-11 | 2007-01-12 | Oreal | Copolymere a gradient, composition et procede cosmetique de maquillage ou de soin |
| US8541541B2 (en) * | 2005-03-07 | 2013-09-24 | Arkema Inc. | Conductive block copolymers |
| EP1910435B1 (en) | 2005-08-02 | 2019-11-20 | Arkema Inc. | Methods of producing vinyl aromatic polymers using (meth)acrylic macroinitiators |
| FR2889703A1 (fr) * | 2005-08-09 | 2007-02-16 | Arkema Sa | Procede de preparation d'un materiau polymerique comprenant un copolymere multibloc obtenu par polymerisation radicalaire controlee |
| JP2009520074A (ja) * | 2005-12-16 | 2009-05-21 | アーケマ・インコーポレイテッド | 低表面エネルギーブロック共重合体の製造方法及び用途 |
| US7811659B2 (en) | 2006-01-27 | 2010-10-12 | Arkema France | High optical purity copolymer film |
| US7498398B2 (en) * | 2006-03-21 | 2009-03-03 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Thermoplastic composition, method of making, and articles formed therefrom |
| US7745535B2 (en) | 2006-07-21 | 2010-06-29 | Arkema Inc. | Amphiphilic block copolymers |
| FR2905951A1 (fr) * | 2006-09-20 | 2008-03-21 | Arkema France | Procede de preparation d'un copolymere tribloc comprenant un bloc semi-cristallin et/ou hydrolysable, un bloc elastomere et un bloc amorphe |
| US20090065737A1 (en) * | 2007-09-11 | 2009-03-12 | Arkema Inc. | Polymerization controllers for composites cured by organic peroxide initiators |
| WO2011075185A1 (en) | 2009-12-18 | 2011-06-23 | Oligasis | Targeted drug phosphorylcholine polymer conjugates |
| DE102011005493A1 (de) | 2011-03-14 | 2012-09-20 | Evonik Rohmax Additives Gmbh | Estergruppen-umfassende Copolymere und deren Verwendung in Schmiermitteln |
| US8917201B2 (en) | 2011-09-30 | 2014-12-23 | Honeywell International Inc. | ADS-B receiver system with multipath mitigation |
| FR3010081B1 (fr) * | 2013-09-05 | 2017-11-17 | Centre Nat Rech Scient | Procede de synthese sequentielle de poly(alcoxyamine amide)s, copolymeres obtenus et leurs utilisations |
| WO2015035342A2 (en) | 2013-09-08 | 2015-03-12 | Oligasis Llc | Factor viii zwitterionic polymer conjugates |
| EP3357946A1 (en) | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Daikin Industries, Ltd. | Water- and oil-repellent resin composition |
| AU2020364071A1 (en) | 2019-10-10 | 2022-05-26 | Kodiak Sciences Inc. | Methods of treating an eye disorder |
| FR3130824B1 (fr) | 2021-12-22 | 2026-01-02 | Arkema France | Composition photopolymérisable adhésive pour l’encapsulation de dispositifs électroniques ou optoélectroniques |
| FR3150210B1 (fr) | 2023-06-22 | 2025-06-27 | Arkema France | Composition photopolymérisable adhésive pour l’encapsulation de dispositifs électroniques ou optoélectroniques |
| FR3150209B1 (fr) | 2023-06-22 | 2025-07-04 | Arkema France | Composition photopolymérisable adhésive pour l’encapsulation de dispositifs électroniques ou optoélectroniques |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2730240A1 (fr) | 1995-02-07 | 1996-08-09 | Atochem Elf Sa | Stabilisation d'un polymere par un radical libre stable |
| AU8440798A (en) * | 1997-07-15 | 1999-02-10 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Polymerizable compositions containing alkoxyamine compounds derived from nitroso- or nitrone compounds |
-
1999
- 1999-05-19 FR FR9906329A patent/FR2794459B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
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- 2000-05-12 WO PCT/FR2000/001287 patent/WO2000071501A1/fr not_active Ceased
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Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008274290A (ja) * | 2002-01-22 | 2008-11-13 | Arkema France | ニトロオキシド存在下の制御されたラジカル重合で得られるブロック共重合体を含む耐衝撃性に優れた材料の製造方法および使用 |
| JP2006500436A (ja) * | 2002-09-23 | 2006-01-05 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 原子移動ラジカル付加重合(atra)により製造される高分子アルコキシアミン |
| JP2006521441A (ja) * | 2003-03-26 | 2006-09-21 | アルケマ | アクリルフィルムの新規な合成/製造方法 |
| KR101239601B1 (ko) * | 2003-12-11 | 2013-03-05 | 아르끄마 프랑스 | 블록 공중합체를 수득하는 방법 및 접착제 조성물에서의이의 용도 |
| JP2007516326A (ja) * | 2003-12-11 | 2007-06-21 | アルケマ フランス | ブロックコポリマーの製造方法と、その接着剤組成物での使用 |
| WO2009154205A1 (ja) * | 2008-06-20 | 2009-12-23 | 東亞合成株式会社 | 接着剤組成物 |
| JP2010144060A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Toagosei Co Ltd | シーリング材組成物 |
| JP2010215808A (ja) * | 2009-03-17 | 2010-09-30 | Toagosei Co Ltd | 接着剤組成物 |
| JP2020189967A (ja) * | 2010-04-15 | 2020-11-26 | コディアック サイエンシーズ インコーポレイテッドKodiak Sciences Inc. | 高分子量双性イオン含有重合体 |
| JP7217245B2 (ja) | 2010-04-15 | 2023-02-02 | コディアック サイエンシーズ インコーポレイテッド | 高分子量双性イオン含有重合体 |
| WO2012020560A1 (ja) | 2010-08-10 | 2012-02-16 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| WO2013180203A1 (ja) | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 株式会社カネカ | 複数の反応性ケイ素基を有する末端構造を有する重合体、およびその製造方法および利用 |
| WO2014192914A1 (ja) | 2013-05-30 | 2014-12-04 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物およびその硬化物 |
| WO2014192842A1 (ja) | 2013-05-30 | 2014-12-04 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| EP3608365A1 (en) | 2015-10-02 | 2020-02-12 | Kaneka Corporation | Curable composition |
| WO2021024817A1 (ja) | 2019-08-06 | 2021-02-11 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
| WO2023282298A1 (ja) | 2021-07-07 | 2023-01-12 | Agc株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、接着剤、及びシーリング材 |
| WO2023233962A1 (ja) | 2022-06-03 | 2023-12-07 | Agc株式会社 | 接着剤組成物及び物品 |
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