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JP2003326128A - Treatment method for exhaust gas containing arsenic or arsenic compound and treatment apparatus therefor - Google Patents

Treatment method for exhaust gas containing arsenic or arsenic compound and treatment apparatus therefor

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Publication number
JP2003326128A
JP2003326128A JP2002133696A JP2002133696A JP2003326128A JP 2003326128 A JP2003326128 A JP 2003326128A JP 2002133696 A JP2002133696 A JP 2002133696A JP 2002133696 A JP2002133696 A JP 2002133696A JP 2003326128 A JP2003326128 A JP 2003326128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
arsenic
compound
gas
treating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002133696A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Mori
洋一 森
Chuichi Nishikawa
忠一 西川
Kazutomo Miyazaki
一知 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2002133696A priority Critical patent/JP2003326128A/en
Publication of JP2003326128A publication Critical patent/JP2003326128A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/30Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]

Landscapes

  • Incineration Of Waste (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inexpensively and certainly removing an exhaust gas containing an arsenic compound (or arsenic), an acidic gas and a fluorine compound such as fluorohydrocarbon, a perfluoro compound or the like. <P>SOLUTION: A method for treating the exhaust gas containing arsenic or the arsenic compound, an acidic gas and/or a fluorine compound includes the first process for passing the exhaust gas through a solid chemical agent bed having an adsorption capacity of arsenic or the arsenic compound and a second process for treating the outflow gas of the first process in a combustion type exhaust gas treatment apparatus and/or a catalytic exhaust gas treatment apparatus and/or a heating oxidation type exhaust gas treatment apparatus. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、排ガス中のAsC
3、AsF3、AsF5などのヒ素化合物の処理方法に
関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to AsC in exhaust gas.
The present invention relates to a method for treating arsenic compounds such as l 3 , AsF 3 and AsF 5 .

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体工業において、BCl3、Cl2
SiCl4などの酸性ガス、CHF3などのフッ化炭化水
素、SF6などのパーフルオロ化合物によって、化合物
半導体のGaAs膜をエッチングする工程から排出され
る排ガス中には、これらのガスと共にAsCl3、As
3、AsF5などのヒ素化合物が含有される。このう
ち、ヒ素化合物は人体に極めて有害であり、またBCl
3、Cl2、SiCl4などの酸性ガスは有害ガスとして
作業管理基準値が設けられており、更にフッ化炭化水素
やパーフルオロ化合物などは地球温暖化ガスであるの
で、排出にあたって分解除去が求められている。従っ
て、かかる排ガスを処理する技術の確立が急務である。
2. Description of the Related Art In the semiconductor industry, BCl 3 , Cl 2 ,
In the exhaust gas discharged from the step of etching the GaAs film of the compound semiconductor with an acidic gas such as SiCl 4, a fluorinated hydrocarbon such as CHF 3 and a perfluoro compound such as SF 6 , AsCl 3 , As
Arsenic compounds such as F 3 and AsF 5 are contained. Of these, arsenic compounds are extremely harmful to the human body, and BCl
Acidic gases such as 3 , Cl 2 and SiCl 4 have work management standard values as harmful gases, and fluorocarbons and perfluoro compounds are global warming gases. Has been. Therefore, there is an urgent need to establish a technology for treating such exhaust gas.

【0003】しかしながら、従来技術では、排ガス中の
ヒ素化合物、酸性ガス、及び、フッ化炭化水素やパーフ
ルオロ化合物などのフッ素化合物を同時に処理しようと
した場合、固形薬剤を用いた乾式処理では、ヒ素化合物
や酸性ガスは除去できるものの、フッ化炭化水素やパー
フルオロ化合物などのフッ素化合物を処理することがで
きない。その上、乾式処理のみでヒ素化合物と酸性ガス
とを同時に除去しようとすると、薬剤単位量当りの酸性
ガスの処理可能量が少ないため、ヒ素化合物に対する除
去容量が残存しているにも拘らず酸性ガスの除去能が低
下してしまうために、薬剤の交換頻度が多くなり、ラン
ニングコストが高くなるという問題点があった。
However, in the prior art, when an arsenic compound, an acid gas, and a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound in exhaust gas are to be treated at the same time, the dry treatment using a solid chemical agent causes the arsenic to be treated. Although compounds and acidic gases can be removed, fluorine compounds such as fluorohydrocarbons and perfluoro compounds cannot be treated. Moreover, if it is attempted to remove the arsenic compound and the acidic gas at the same time only by the dry treatment, the acid gas can be treated in a small amount per unit amount of the drug, so that the acid content is reduced despite the remaining removal capacity for the arsenic compound. Since the gas removing ability is lowered, there is a problem in that the frequency of exchanging the chemicals increases and the running cost increases.

【0004】また、燃焼式や触媒式の排ガス処理装置を
用いた場合、酸性ガス、フッ化炭化水素及びパーフルオ
ロ化合物などは処理することができるが、ヒ素化合物は
化合物の形態を変化させ、一部は排水中に亜ヒ酸として
排出され、処理ガス中へはヒ素の酸化物として流出す
る。このように、ヒ素化合物は形態を変えて排ガス処理
装置から流出し、排水系や排ガスのダクトに拡散し、汚
染が広がる危険性があった。このような場合、施設の修
理時やメンテナンス時においてヒ素の除去や洗浄といっ
た手間が必要になる上に、作業者が防毒対策をして作業
する必要があるため、作業効率が悪く時間がかかるとい
う問題点があった。
When a combustion type or catalytic type exhaust gas treatment apparatus is used, acidic gases, fluorohydrocarbons and perfluoro compounds can be treated, but arsenic compounds change the form of the compound and Part is discharged as arsenous acid in the waste water and discharged as arsenic oxide into the treated gas. As described above, there is a risk that the arsenic compound changes its form, flows out from the exhaust gas treatment apparatus, diffuses into the drainage system or the exhaust gas duct, and spreads the pollution. In such a case, it is necessary to remove and clean arsenic at the time of repair and maintenance of the facility, and workers need to carry out gas-proof measures, resulting in poor work efficiency and time. There was a problem.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来技
術においては、ヒ素化合物、酸性ガス、フッ化炭化水素
やパーフルオロ化合物などのフッ素化合物を含む排ガス
を、乾式、燃焼式若しくは触媒式のいずれか一つの処理
方式で対応しようとしていたため、例えば、乾式処理の
みではこれらのガスの一部しか除去されず、更に触媒の
交換頻度が多くなるという問題点があり、また、燃焼式
や触媒式の処理方式のみでは、全てのガスの処理が可能
であるが、ヒ素が化合物の形態を変化させて処理装置か
ら流出し、拡散してしまうという問題点があった。
As described above, in the prior art, exhaust gas containing an arsenic compound, an acid gas, and a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound is treated by a dry method, a combustion method, or a catalytic method. Since any one of the treatment methods has been attempted to cope with this, for example, there is a problem that only a dry treatment removes only a part of these gases, and the replacement frequency of the catalyst is increased. Although all gases can be treated only by the treatment method of the formula, there is a problem that arsenic changes the form of the compound and flows out from the treatment apparatus and diffuses.

【0006】そこで、本発明は、ヒ素化合物(若しくは
ヒ素)、と、酸性ガス、フッ化炭化水素やパーフルオロ
化合物などのフッ素化合物などを含む排ガスを安価で確
実に除去する方法及び装置を提供することを目的とす
る。
Therefore, the present invention provides a method and an apparatus for reliably and inexpensively removing an arsenic compound (or arsenic) and an exhaust gas containing an acidic gas, a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound. The purpose is to

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の一態様は、ヒ素又はヒ素化合物と、酸性
ガス及び/又はフッ素化合物とを含む排ガスを、ヒ素又
はヒ素化合物の吸着能を有する固形薬剤層に通す第1の
工程、及び、第1の工程の流出ガスを、燃焼式排ガス処
理装置及び/又は触媒式排ガス処理装置及び/又は加熱
酸化式排ガス処理装置によって処理する第2の工程、を
含むことを特徴とする排ガスの処理方法に関する。
In order to solve the above-mentioned problems, one embodiment of the present invention is directed to the adsorption of arsenic or an arsenic compound on exhaust gas containing arsenic or an arsenic compound and an acid gas and / or a fluorine compound. A first step of passing through a solid pharmaceutical layer having a function, and an outflow gas of the first step are treated by a combustion type exhaust gas treatment apparatus and / or a catalytic type exhaust gas treatment apparatus and / or a thermal oxidation type exhaust gas treatment apparatus The present invention relates to a method for treating exhaust gas, which comprises two steps.

【0008】また、本発明の他の態様は、ヒ素又はヒ素
化合物の吸着能を有する固形薬剤層を有する第1段セク
ションと、第1段セクションの流出ガスを処理するため
の燃焼式排ガス処理装置及び/又は触媒式排ガス処理装
置及び/又は加熱酸化式排ガス処理装置により構成され
る第2段セクションとを有することを特徴とする、ヒ素
又はヒ素化合物と、酸性ガス及び/又はフッ素化合物と
を含む排ガスを処理する装置に関する。
Another aspect of the present invention is a combustion type exhaust gas treatment apparatus for treating a effluent gas of a first stage section having a solid drug layer having an adsorption ability for arsenic or an arsenic compound and a effluent gas of the first stage section. And / or a second stage section constituted by a catalytic exhaust gas treatment device and / or a thermal oxidation exhaust gas treatment device, and containing arsenic or an arsenic compound and an acidic gas and / or a fluorine compound The present invention relates to a device for treating exhaust gas.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的態様を説明
する。以下の説明は、本発明の一具体例を示すもので、
本発明はかかる記載によって限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Specific embodiments of the present invention will be described below. The following description shows one specific example of the present invention.
The present invention is not limited by this description.

【0010】本発明に係る排ガスの処理方法によれば、
まず第1段目の工程として、ヒ素又はヒ素化合物と、酸
性ガス及び/又はフッ化炭化水素やパーフルオロ化合物
などのフッ素化合物とを含む排ガスを、ヒ素又はヒ素化
合物の吸着能を有する固形薬剤層に通す。ここで用いる
ことのできる固形薬剤としては、例えば、ゼオライト、
鉄系金属酸化物、銅系化合物、活性炭、固体アルカリ剤
などを挙げることができる。ゼオライトとしては合成ゼ
オライトが好ましく、例えば、Na2O・Al23
2.5H2Oの化学式を有する合成ゼオライトが好まし
く用いられ、このゼオライトの酸化ナトリウムがカリウ
ムなどの他のアルカリ金属、カルシウムなどのアルカリ
土類金属で置換されているものも好ましく用いることが
できる。ゼオライトとしては、例えば、平均細孔径5〜
10Å、比表面積400〜700m2/gを有するものが好
ましい。また、鉄系金属酸化物としては3価の酸化物
(Fe23)を主体とするものが好ましく用いられ、銅
系化合物としては塩基性炭酸銅(CuCO3・Cu(O
H)2)を主体とするものが好ましく用いられる。固体
アルカリ剤としては、例えば、消石灰、ソーダライムな
どを好ましく用いることができる。
According to the exhaust gas treatment method of the present invention,
First, as the first step, a solid drug layer having an arsenic or arsenic compound adsorption capacity for an exhaust gas containing arsenic or an arsenic compound and an acidic gas and / or a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound. Pass through. Examples of the solid drug that can be used here include zeolite,
Examples include iron-based metal oxides, copper-based compounds, activated carbon, and solid alkaline agents. As zeolite, synthetic zeolite is preferable, for example, Na 2 O.Al 2 O 3
A synthetic zeolite having a chemical formula of 2.5H 2 O is preferably used, and a zeolite in which sodium oxide is replaced with another alkali metal such as potassium or an alkaline earth metal such as calcium can also be preferably used. As the zeolite, for example, an average pore size of 5 to
Those having a surface area of 10Å and a specific surface area of 400 to 700 m 2 / g are preferable. As the iron-based metal oxide, a trivalent oxide (Fe 2 O 3 ) as a main component is preferably used, and as the copper-based compound, basic copper carbonate (CuCO 3 · Cu (O) is used.
Those mainly containing H) 2 ) are preferably used. As the solid alkaline agent, for example, slaked lime and soda lime can be preferably used.

【0011】例えば、固形薬剤として合成ゼオライトを
用いた場合、酸性ガスであるAlCl3は合成ゼオライ
トの細孔内に物理吸着される。また、ヒ素化合物である
AsF3やAsF5は、次の反応に従って化学吸着され
る。
For example, when synthetic zeolite is used as the solid drug, the acidic gas AlCl 3 is physically adsorbed in the pores of the synthetic zeolite. Further, arsenic compounds AsF 3 and AsF 5 are chemically adsorbed according to the following reaction.

【0012】[0012]

【式1】 [Formula 1]

【0013】また、AsCl3、AsF3、AsF5など
のヒ素化合物は、鉄系酸化物(例えばFe23)又は銅
系化合物(例えば塩基性炭酸銅:CuCO3・Cu(O
H)2)により、次式の反応に従って化学吸着される。
Arsenic compounds such as AsCl 3 , AsF 3 and AsF 5 are iron oxides (eg Fe 2 O 3 ) or copper compounds (eg basic copper carbonate: CuCO 3 .Cu (O).
H) 2 ) causes chemisorption according to the reaction of the following equation.

【0014】[0014]

【式2】 [Formula 2]

【0015】本発明において用いられる固形薬剤の形状
は、特に限定するものではないが、取り扱い易い形状で
あれば、球状、破砕状、円柱状のいずれであってもよ
い。また、固形薬剤の粒径は、通ガス時の通気抵抗が上
昇しない範囲であれば、接触面積を大きくとるために細
かい方がよく、一般に2mm〜3mmが好ましい。
The shape of the solid drug used in the present invention is not particularly limited, but may be spherical, crushed, or cylindrical as long as it is easy to handle. Further, the particle diameter of the solid medicine is preferably fine in order to make the contact area large within the range where the ventilation resistance at the time of passing gas is not increased, and generally 2 mm to 3 mm is preferable.

【0016】1段目の工程では、ヒ素又はヒ素化合物と
酸性ガスが吸着処理されるが、酸性ガスの吸着容量は短
時間で飽和してしまう。従って、酸性ガス吸着容量飽和
後は、1段目の工程からの流出ガス中には、未吸着の酸
性ガス、及びフッ化炭化水素やパーフルオロ化合物など
のフッ素化合物が含まれる。これらを2段目の工程で除
去する。2段目の工程で用いることのできる除去手段と
しては、排ガスを燃料と共に火炎で燃焼させることによ
って排ガス中の各種被処理対象物を分解する燃焼式排ガ
ス処理装置、或いは各種被処理対象物を分解する能力を
有する触媒を加熱した触媒層を通すことによる触媒式排
ガス処理装置のいずれかを用いることができる。酸性ガ
ス、及びフッ化炭化水素やパーフルオロ化合物などのフ
ッ素化合物を分解する能力を有する触媒としては、例え
ば、γ−アルミナ、アルミナ−ジルコニウム複合酸化物
にタングステンの酸化物を担持してなる分解触媒などを
用いることができる。なお、これらの燃焼式排ガス処理
装置及び触媒式排ガス処理装置は当該技術において周知
であり、当業者であれば、被処理排ガスの性状に応じて
適当なタイプの装置を選択することができる。
In the first step, arsenic or an arsenic compound and the acidic gas are adsorbed, but the adsorption capacity of the acidic gas is saturated in a short time. Therefore, after the acid gas adsorption capacity is saturated, the outflow gas from the first step contains unadsorbed acid gas and fluorine compounds such as fluorohydrocarbons and perfluoro compounds. These are removed in the second step. As the removing means that can be used in the second step, a combustion-type exhaust gas treatment device that decomposes various objects to be processed in the exhaust gas by burning the exhaust gas with a flame in a flame, or decomposes various objects to be processed Any of the catalytic exhaust gas treatment devices by passing a catalyst having the ability to pass through a heated catalyst layer can be used. Examples of the catalyst having the ability to decompose acidic gases and fluorine compounds such as fluorohydrocarbons and perfluoro compounds include, for example, decomposition catalysts in which tungsten oxide is supported on γ-alumina or alumina-zirconium composite oxide. Etc. can be used. It should be noted that these combustion type exhaust gas treatment apparatus and catalytic type exhaust gas treatment apparatus are well known in the art, and those skilled in the art can select an appropriate type of apparatus according to the property of the treated exhaust gas.

【0017】次に、図面を参照しながら、本発明に係る
排ガス処理装置の概要を説明する。以下の説明は、本発
明に係る排ガス処理装置の幾つかの具体例を示すもの
で、本発明はかかる記載によって限定されるものではな
い。
Next, an outline of the exhaust gas treating apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. The following description shows some specific examples of the exhaust gas treating apparatus according to the present invention, and the present invention is not limited by such description.

【0018】図1は、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有
する固形薬剤層を有する第1段セクション1と、第1段
セクション1の流出ガスを処理するための燃焼式排ガス
処理装置により構成される装置を具備する第2段セクシ
ョン2とから構成される本発明の一態様に係る排ガス処
理装置の概要を示す。反応炉3から排出される排ガス
(ヒ素又はヒ素化合物、酸性ガス、フッ化炭化水素やパ
ーフルオロ化合物などのフッ素化合物を含む)は、第1
段セクション1の固形薬剤充填塔4に流入せしめられ
る。この固形薬剤充填塔4は、図1に示すように並列に
2塔設置し、一方の充填塔での固形薬剤が、ヒ素又はヒ
素化合物に対する吸着能が飽和して交換される際には、
もう一つの充填塔に流入ガスラインが切り替わって、処
理装置を停止することなく連続的に排ガスの処理を行う
ことができるように構成されていることが好ましい。
FIG. 1 is composed of a first-stage section 1 having a solid drug layer capable of adsorbing arsenic or an arsenic compound, and a combustion type exhaust gas treatment apparatus for treating the outflow gas of the first-stage section 1. 1 shows an outline of an exhaust gas treating apparatus according to one embodiment of the present invention, which is composed of a second stage section 2 including the apparatus. Exhaust gas (including arsenic or an arsenic compound, an acid gas, a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound) discharged from the reaction furnace 3 is
It is made to flow into the solid medicine packed tower 4 of the stage section 1. As shown in FIG. 1, two solid medicine packing towers 4 are installed in parallel, and when the solid medicine in one of the packed towers is replaced due to its saturated adsorption capacity for arsenic or arsenic compound,
It is preferable that the inflow gas line is switched to another packed column so that the exhaust gas can be continuously treated without stopping the treatment device.

【0019】固形薬剤充填塔4を通過してヒ素又はヒ素
化合物が吸着除去された排ガスは、次に、第2段セクシ
ョン2に流入する。第2段セクション2においては、ま
ず、流入排ガスは燃焼部5に導入され、ここに燃料、例
えばプロパンガスと助燃剤の酸素を導入して火炎を形成
して、排ガス中のフッ化炭化水素やパーフルオロ化合物
などのフッ素化合物が燃焼分解される。その後、酸性ガ
スを含んだ排ガスは、一次冷却部6、二次冷却部7を通
って、水スクラバー8に送られる。水スクラバー8で
は、酸性ガスが水中に吸収除去される。なお、図1に示
すように、水スクラバー8で使用した水を一旦循環タン
ク10に貯水し、循環ポンプ11で水スクラバー8及び
燃焼部の一次冷却装置6に再利用した上で系外に排水と
して排出することによって、水の使用量を削減すること
ができる。水スクラバー8によって酸性ガスが吸収除去
された排ガスは、ミストセパレーター9を通って系外に
排出される。
The exhaust gas having passed through the solid medicine packed column 4 and adsorbed and removed arsenic or an arsenic compound then flows into the second stage section 2. In the second-stage section 2, first, the inflowing exhaust gas is introduced into the combustion section 5, and a fuel, for example, propane gas and oxygen as a combustion improver are introduced therein to form a flame, and fluorocarbons in the exhaust gas and Fluorine compounds such as perfluoro compounds are burned and decomposed. After that, the exhaust gas containing the acidic gas is sent to the water scrubber 8 through the primary cooling unit 6 and the secondary cooling unit 7. The water scrubber 8 absorbs and removes acidic gas into water. As shown in FIG. 1, the water used in the water scrubber 8 is temporarily stored in the circulation tank 10, reused by the circulation pump 11 for the water scrubber 8 and the primary cooling device 6 of the combustion unit, and then drained to the outside of the system. The amount of water used can be reduced by discharging as water. The exhaust gas from which the acid gas has been absorbed and removed by the water scrubber 8 is discharged to the outside of the system through the mist separator 9.

【0020】なお、水スクラバーとしては、ファンスク
ラバーによって気液接触させる構造のものを用いること
ができ、一次冷却部としては、気体流に水スプレーによ
って散水して冷却させる構造のものを、二次冷却部とし
ては、気体流に水スプレーによって散水しながらチラー
ユニットによって熱交換させて冷却させる構造のものを
用いることができる。また、ミストセパレーターとして
は、筒内に迂流板を2枚交互に等間隔で設置した構造の
筒容器に上向きに気体を通す構造のものを用いることが
できる。
As the water scrubber, a structure in which a fan scrubber makes a gas-liquid contact can be used, and as a primary cooling unit, a structure in which a gas stream is sprinkled by a water spray to cool it is used as a secondary cooling unit. As the cooling unit, one having a structure in which heat is exchanged by a chiller unit for cooling while spraying a gas flow with water spray can be used. Further, as the mist separator, one having a structure in which gas is directed upward in a cylindrical container having a structure in which two diversion plates are alternately arranged in the cylinder at equal intervals can be used.

【0021】図2は、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有
する固形薬剤層を有する第1段セクション1と、第1段
セクション1の流出ガスを処理するための触媒式排ガス
処理装置と水スクラバーとの組み合わせにより構成され
る装置を具備する第2段セクション2とから構成される
本発明の他の態様に係る排ガス処理装置の概要を示す。
反応炉3から排出される排ガスは、図1に関して説明し
たのと同様の構成を有する第1段セクション1の固形薬
剤充填塔4に流入せしめられて、排ガス中のヒ素又はヒ
素化合物が吸着除去される。
FIG. 2 shows a first-stage section 1 having a solid drug layer capable of adsorbing arsenic or an arsenic compound, a catalytic exhaust gas treatment device for treating effluent gas from the first-stage section 1, and a water scrubber. 2 shows an outline of an exhaust gas treating apparatus according to another aspect of the present invention, which is configured by a second stage section 2 including an apparatus configured by a combination of the above.
The exhaust gas discharged from the reaction furnace 3 is caused to flow into the solid medicine packed tower 4 of the first-stage section 1 having the same configuration as described with reference to FIG. 1, and the arsenic or arsenic compound in the exhaust gas is adsorbed and removed. It

【0022】第1段セクション1からの流出ガスは、次
に、第2段セクション2に流入する。第2段セクション
2においては、まず、流入排ガスは前段水スクラバー1
2に導入され、酸性ガスが水中に吸収除去される。次
に、排ガスはミストセパレーター13を通って触媒反応
器に供給される。触媒反応器においては、排ガスは、ま
ず、ヒーター17で加熱された加熱酸化部14を通り、
次に触媒反応部15を通過して、酸化分解されて、フッ
化炭化水素やパーフルオロ化合物などのフッ素化合物が
分解除去される。また、触媒反応器中で発生したHF等
の酸性ガスは、冷却部16を通り、後段水スクラバー1
8で水中に吸収除去される。後段水スクラバー18によ
って酸性ガスが吸収除去された排ガスは、ミストセパレ
ーター19を通って系外に排出される。なお、図1に示
す装置と同様に、水スクラバー12及び18、並びに冷
却部16において使用された水は、一旦循環タンク20
に貯水し、循環ポンプ21によって再利用した上で、系
外に排出することによって、水の使用量を削減すること
ができる。
The effluent gas from the first stage section 1 then flows into the second stage section 2. In the second stage section 2, first, the inflowing exhaust gas is the front stage water scrubber 1
2 is introduced and the acidic gas is absorbed and removed in water. Next, the exhaust gas is supplied to the catalytic reactor through the mist separator 13. In the catalytic reactor, the exhaust gas first passes through the heating and oxidizing section 14 heated by the heater 17,
Next, it passes through the catalytic reaction section 15 and is oxidatively decomposed to decompose and remove fluorocarbons and fluorine compounds such as perfluoro compounds. In addition, the acidic gas such as HF generated in the catalytic reactor passes through the cooling unit 16 and passes through the post-stage water scrubber 1
It is absorbed and removed in water at 8. The exhaust gas from which the acid gas has been absorbed and removed by the second-stage water scrubber 18 is discharged to the outside of the system through the mist separator 19. As in the device shown in FIG. 1, the water used in the water scrubbers 12 and 18 and the cooling unit 16 is temporarily stored in the circulation tank 20.
The amount of water used can be reduced by storing the water in the tank, reusing it by the circulation pump 21, and then discharging it to the outside of the system.

【0023】なお、本発明の他の態様においては、第2
段セクション2を、ヒーターで排ガスを加熱酸化分解処
理する加熱酸化方式の排ガス処理装置によって構成する
こともできる。
In another aspect of the present invention, the second
The stage section 2 can also be configured by a heat oxidation type exhaust gas treatment apparatus in which exhaust gas is subjected to heat oxidative decomposition treatment with a heater.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、ヒ素又はヒ素化合物
と、酸性ガス及び/又はフッ化炭化水素やパーフルオロ
化合物などのフッ素化合物とを含む排ガスを、安価で確
実に有効に処理することができる。本発明によれば、後
段の排ガス処理装置にヒ素又はヒ素化合物が流入するこ
とがないので、後段の排ガス処理装置や排水施設のメン
テナンスが容易になる。また、前段の固形薬剤充填層
は、充填カラムに充填することができるので、交換作業
が安全且つ容易である。
According to the present invention, exhaust gas containing arsenic or an arsenic compound and an acidic gas and / or a fluorine compound such as a fluorohydrocarbon or a perfluoro compound can be treated effectively at low cost. it can. According to the present invention, since arsenic or an arsenic compound does not flow into the exhaust gas treatment device in the latter stage, maintenance of the exhaust gas treatment device in the latter stage or the drainage facility becomes easy. In addition, since the solid medicine packed bed in the former stage can be packed in the packed column, the replacement work is safe and easy.

【0025】[0025]

【実施例】以下の実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例の記載によって限定
されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, which should not be construed as limiting the present invention.

【0026】実施例1 図1に示す排ガス処理装置を用いて、ヒ素化合物、酸性
ガス、フッ化炭化水素及びパーフルオロ化合物を含む排
ガスの処理を行った。第1段セクション1の固形薬剤充
填塔4としては、内容積15Lのステンレス製の円筒容
器に、合成ゼオライト(水澤化学製の市販品、商品名ミ
ズカシーブス13X-1420B)を充填したものを用いた。第
2段セクション2においては、通常の燃焼機の燃焼部に
プロパンガスを10L/分、O2を50L/分で供給して火
炎を形成し、ここに排ガスを導入した。二次冷却部7に
市水を7L/分で供給し、水スクラバー8及び一次冷却部
6へは、循環タンク10からの水をそれぞれ7L/分、6
L/分で供給した。水スクラバー8の構造は、ファンスク
ラバー構造であり、また、一次冷却部6の構造は、気体
流に水スプレーによって散水して冷却させる構造であ
り、二次冷却部7の構造は、気体流に水スプレーによっ
て散水しながらチラーユニットによって熱交換させて冷
却させる構造であった。
Example 1 An exhaust gas containing an arsenic compound, an acidic gas, a fluorinated hydrocarbon and a perfluoro compound was treated by using the exhaust gas treatment apparatus shown in FIG. As the solid medicine packed column 4 of the first stage section 1, a cylindrical cylindrical container made of stainless steel having an internal volume of 15 L and filled with synthetic zeolite (commercially available from Mizusawa Chemical Co., Ltd., trade name Mizuka Sieves 13X-1420B) was used. In the second-stage section 2, propane gas was supplied at 10 L / min and O 2 was supplied at 50 L / min to the combustion section of an ordinary combustor to form a flame, and exhaust gas was introduced therein. The city water is supplied to the secondary cooling unit 7 at 7 L / min, and the water from the circulation tank 10 is supplied to the water scrubber 8 and the primary cooling unit 6 at 7 L / min and 6 L / min, respectively.
Supplied at L / min. The structure of the water scrubber 8 is a fan scrubber structure, the structure of the primary cooling unit 6 is a structure for spraying and cooling the gas flow with a water spray, and the structure of the secondary cooling unit 7 is a gas flow. It had a structure in which heat was exchanged by a chiller unit for cooling while spraying water with a water spray.

【0027】このような排ガス処理装置の固形薬剤充填
塔4に、AsCl3を50ppm、Cl 2を5000ppm、C
HF3を700ppm、SF6を500ppmにそれぞれ濃度調
整したN2ガスを、100L/分の流量で導入し、その出
口ガスを、第2段セクションの燃焼装置5に導入し、次
に一次冷却部6、二次冷却部7、水スクラバー8、ミス
トセパレーター9を通過させた後、系外に排出した。
Filling solid chemicals in such an exhaust gas treatment device
Tower 4, AsCl350ppm, Cl 2To 5000 ppm, C
HF3700ppm, SF6To 500ppm
Trimmed N2Introduce gas at a flow rate of 100 L / min and
The mouth gas is introduced into the combustion unit 5 of the second stage section,
Primary cooling unit 6, secondary cooling unit 7, water scrubber 8, miss
After passing through the separator 9, it was discharged out of the system.

【0028】通ガスを開始して5時間後に各工程の処理
装置の出口ガスを分析したところ、固形薬剤充填塔出口
ガスでは、AsCl3は不検出(0.01mg/m3 as As以
下)であり、Cl2、CHF3、SF6がそれぞれ流入ガ
ス濃度レベルでリークしていたが、第2段セクションの
ミストセパレーター9の出口ガスでは、いずれのガス成
分も不検出(Cl2=0.5ppm以下、CHF3=1ppm以
下、SF6=1ppm以下)であった。なお、各ガス成分の
分析には、AsCl3については誘導結合プラズマ原子
発光分光分析装置(セイコー電子製SPS-7000)、Cl2
については質量分析装置(ABB EXTREL製Questor-GP)、
CHF3及びSF6については質量検出器つきガスクロマ
トグラフ装置(アネルバ製AGS-7000U)をそれぞれ用い
た。
When the outlet gas of the treatment equipment in each step was analyzed 5 hours after the start of the passing of gas, AsCl 3 was not detected (0.01 mg / m 3 as As or less) in the outlet gas of the solid medicine packed column. Yes, Cl 2 , CHF 3 , and SF 6 leaked at the inflow gas concentration level, but none of the gas components were detected in the exit gas of the mist separator 9 in the second stage section (Cl 2 = 0.5 ppm Below, CHF 3 = 1 ppm or less and SF 6 = 1 ppm or less). For the analysis of each gas component, for AsCl 3 , an inductively coupled plasma atomic emission spectroscopic analyzer (SPS-7000 manufactured by Seiko Denshi), Cl 2
Mass spectrometer (Questor-GP manufactured by ABB EXTREL),
For CHF 3 and SF 6 , a gas chromatograph equipped with a mass detector (AGS-7000U manufactured by Anerva) was used.

【0029】固形薬剤として、鉄系酸化物(ズードケミ
ー触媒の市販品、商品名N-600)、銅系化合物(三井化
学製の市販品、商品名MAC-50)をそれぞれ薬剤充填塔4
に充填して同様の実験を行ったところ、合成ゼオライト
を充填した場合と同等の結果が得られた。
Iron-based oxides (commercially available products of Sudchemy catalyst, trade name N-600) and copper compounds (commercially available products of Mitsui Chemicals, trade name MAC-50) were used as solid medicines in the medicine packing tower 4 respectively.
When the same experiment was performed by filling the same with the above, the same result as when the synthetic zeolite was filled was obtained.

【0030】実施例2 図2に示す排ガス処理装置を用いて、ヒ素化合物、酸性
ガス、フッ化炭化水素及びパーフルオロ化合物を含む排
ガスの処理を行った。第1段セクション1の固形薬剤充
填塔4としては、実施例1と同じものを用いた。第2段
セクション2の触媒酸化装置としては、内容積21L、
高さ95cmのSiCセラミックス製容器の下部に、γ−
アルミナ触媒(水澤化学製GB-13)を高さ35cmに充填
し、容器全体をヒーターで750℃に加熱したものを用
いた。冷却部16は、気体流に水をスプレーして冷却す
る構造のものであった。前段水スクラバー12及び後段
水スクラバー18の両方に市水をそれぞれ1L/分、2L/
分で供給し、触媒反応器の冷却部16へは、循環タンク
からの水を7L/分で供給した。
Example 2 An exhaust gas containing an arsenic compound, an acid gas, a fluorinated hydrocarbon and a perfluoro compound was treated using the exhaust gas treatment apparatus shown in FIG. As the solid medicine packed column 4 of the first stage section 1, the same one as in Example 1 was used. The catalytic oxidation device for the second stage section 2 has an internal volume of 21 L,
At the bottom of the SiC ceramic container with a height of 95 cm, gamma-
An alumina catalyst (GB-13 manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) was filled to a height of 35 cm, and the whole container was heated to 750 ° C. with a heater. The cooling unit 16 had a structure of spraying water on a gas stream to cool it. City water is supplied to both the front water scrubber 12 and the rear water scrubber 18 at 1 L / min and 2 L / min, respectively.
The water from the circulation tank was supplied at 7 L / min to the cooling unit 16 of the catalytic reactor.

【0031】実施例1と同じ組成の各種ガス成分含有N
2ガスを、100L/分の流量で、固形薬剤充填層4に導
入し、その出口ガスを、第2段セクションの前段水スク
ラバー12に導入し、次にミストセパレーター13を通
過させ、CHF3やSF6の分解補助ガスとして空気20
L/分及び純水5mL/分を更に加えて、触媒式排ガス処理
装置の加熱酸化部14に導入し、触媒反応部15を通過
させた後、冷却部16、水スクラバー18、ミストセパ
レーター19を通して、系外に排出した。
N containing various gas components having the same composition as in Example 1
2 gas at a flow rate of 100 L / min was introduced into the solid medicine packed bed 4, and the outlet gas thereof was introduced into the pre-stage water scrubber 12 of the second stage section, then passed through the mist separator 13, and CHF 3 or Air 20 as an auxiliary gas for decomposition of SF 6
L / min and 5 mL / min of pure water were further added, introduced into the heating oxidation part 14 of the catalytic exhaust gas treatment apparatus, passed through the catalytic reaction part 15, and then passed through the cooling part 16, the water scrubber 18, and the mist separator 19. , Discharged out of the system.

【0032】通ガスを開始して5時間後に各工程の処理
装置の出口ガスを実施例1と同様に分析したところ、固
形薬剤充填塔出口ガスでは、AsCl3は不検出(0.
01mg/m3 as As以下)であり、Cl2、CHF3、SF6
がそれぞれ流入ガス濃度レベルでリークしていたが、第
2段セクションのミストセパレーター19の出口ガスで
は、いずれのガス成分も不検出(Cl2=0.5ppm以
下、CHF3=1ppm以下、SF6=1ppm以下)であっ
た。
After 5 hours from the start of passing the gas, the outlet gas of the processing apparatus in each step was analyzed in the same manner as in Example 1. As a result, AsCl 3 was not detected (0.
01 mg / m 3 as As or less), Cl 2 , CHF 3 , SF 6
Leaked at the inflow gas concentration level, but none of the gas components were detected in the outlet gas of the mist separator 19 in the second stage section (Cl 2 = 0.5 ppm or less, CHF 3 = 1 ppm or less, SF 6 = 1 ppm or less).

【0033】固形薬剤として、鉄系酸化物(ズードケミ
ー触媒の市販品、商品名N-600)、銅系化合物(三井化
学製の市販品、商品名MAC-50)をそれぞれ薬剤充填塔4
に充填して同様の実験を行ったところ、合成ゼオライト
を充填した場合と同等の結果が得られた。
Iron-based oxides (commercially available products of Sudchemy catalyst, trade name N-600) and copper compounds (commercially available products of Mitsui Chemicals, trade name MAC-50) were used as solid medicines in the medicine packing tower 4 respectively.
When the same experiment was performed by filling the same with the above, the same result as when the synthetic zeolite was filled was obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一態様に係る排ガス処理装置の概念
図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram of an exhaust gas treatment apparatus according to an aspect of the present invention.

【図2】 本発明の他の態様に係る排ガス処理装置の概
念図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram of an exhaust gas treating apparatus according to another aspect of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F23G 5/02 B01D 53/34 134E 7/06 53/36 ZABZ 102 (72)発明者 宮崎 一知 東京都大田区羽田旭町11番1号 株式会社 荏原製作所内 Fターム(参考) 3K065 AA24 AB01 AC19 BA05 BA10 CA04 3K078 AA05 AA10 BA20 BA21 CA01 DA01 4D002 AA01 AA17 AA18 AA22 AA23 AA31 AB01 AC10 BA02 BA03 BA04 BA05 BA12 BA13 BA16 CA01 CA07 CA13 DA02 DA05 DA11 DA12 DA22 DA23 DA35 DA41 DA45 EA02 EA04 4D048 AA11 AB03 BA03X BA41X CA03 CC52 CD01 CD02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) F23G 5/02 B01D 53/34 134E 7/06 53/36 ZABZ 102 (72) Inventor Ichichi Miyazaki Tokyo 11-1 Haneda Asahi-machi, Ota-ku F-term in EBARA CORPORATION (reference) 3K065 AA24 AB01 AC19 BA05 BA10 CA04 3K078 AA05 AA10 BA20 BA21 CA01 DA01 4D002 AA01 AA17 AA18 AA22 AA23 AA31 AB01 AC10 BA02 BA03 BA04 BA01 BA12 BA12 BA01 BA12 BA01 BA12 BA01 CA07 CA13 DA02 DA05 DA11 DA12 DA22 DA23 DA35 DA41 DA45 EA02 EA04 4D048 AA11 AB03 BA03X BA41X CA03 CC52 CD01 CD02

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ヒ素又はヒ素化合物と、酸性ガス及び/
又はフッ素化合物とを含む排ガスを処理する方法であっ
て、上記排ガスを、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有す
る固形薬剤層に通す第1の工程、及び、第1の工程の流
出ガスを、燃焼式排ガス処理装置及び/又は触媒式排ガ
ス処理装置及び/又は加熱酸化式排ガス処理装置によっ
て処理する第2の工程、を含むことを特徴とする上記方
法。
1. Arsenic or an arsenic compound and an acid gas and / or
Alternatively, a method of treating exhaust gas containing a fluorine compound, wherein the exhaust gas is passed through a first step of passing through a solid drug layer having an adsorption capacity for arsenic or an arsenic compound, and an outflow gas of the first step is burned. Second exhaust gas treatment device and / or catalytic exhaust gas treatment device and / or a second step of treating with a thermal oxidation type exhaust gas treatment device.
【請求項2】 ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有する固
形薬剤が、ゼオライト、活性炭、固体アルカリ剤、鉄系
金属酸化物、銅系化合物からなる群から選択される1種
又は2種以上の組み合わせである請求項1に記載の方
法。
2. A solid drug having the ability to adsorb arsenic or an arsenic compound, wherein the solid drug is one or a combination of two or more selected from the group consisting of zeolite, activated carbon, solid alkaline agents, iron-based metal oxides and copper-based compounds. The method of claim 1, wherein
【請求項3】 ヒ素又はヒ素化合物と、酸性ガス及び/
又はフッ素化合物とを含む排ガスを処理する装置であっ
て、ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有する固形薬剤層を
有する第1段セクションと、第1段セクションの流出ガ
スを処理するための燃焼式排ガス処理装置及び/又は触
媒式排ガス処理装置及び/又は加熱酸化式排ガス処理装
置により構成される第2段セクションとを有することを
特徴とする上記装置。
3. Arsenic or an arsenic compound, acid gas and / or
Or a device for treating exhaust gas containing a fluorine compound, the first stage section having a solid drug layer having an adsorption capacity for arsenic or an arsenic compound, and a combustion type exhaust gas for treating the outflow gas of the first stage section A second stage section comprising a treatment device and / or a catalytic exhaust gas treatment device and / or a thermal oxidation type exhaust gas treatment device.
【請求項4】 ヒ素又はヒ素化合物の吸着能を有する固
形薬剤が、ゼオライト、活性炭、固体アルカリ剤、鉄系
金属酸化物、銅系化合物からなる群から選択される1種
又は2種以上の組み合わせである請求項3記載の装置。
4. The solid drug having the ability to adsorb arsenic or an arsenic compound is one or a combination of two or more selected from the group consisting of zeolite, activated carbon, solid alkaline agents, iron-based metal oxides, and copper-based compounds. The device according to claim 3, wherein
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