JP2003324230A - Semiconductor laser and manufacturing method thereof - Google Patents
Semiconductor laser and manufacturing method thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造工程中に被る端面の汚染や損傷を抑制す
るようにした半導体レーザの製造方法及びこれによって
得られる半導体レーザを提供すること。
【解決手段】 帯状の多点発光型半導体レーザチップ2
0をマウント部材であるヒートシンク7上にはんだ10
にてダイボンドし、更に、半導体レーザチップ20の表
面側に形成された電極と、ヒートシンク7に絶縁板9を
介して取り付けられた電極8とをワイヤボンディング
し、この状態で半導体レーザチップ20をへき開して、
このへき開によって露出した光出射側端面24を端面コ
ート膜23で被覆して、半導体レーザ25が得られる。
(57) [Problem] To provide a semiconductor laser manufacturing method capable of suppressing contamination and damage of an end face during a manufacturing process, and a semiconductor laser obtained by the method. SOLUTION: A band-shaped multi-point emission type semiconductor laser chip 2
0 on the heat sink 7 as a mounting member.
In addition, the electrode formed on the surface side of the semiconductor laser chip 20 and the electrode 8 attached to the heat sink 7 via the insulating plate 9 are wire-bonded, and the semiconductor laser chip 20 is cleaved in this state. do it,
The semiconductor laser 25 is obtained by covering the light emitting side end face 24 exposed by the cleavage with the end face coat film 23.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザチッ
プがヒートシンクなどのマウント部材に実装されてなる
半導体レーザ及びその製造方法に関し、更に詳しくは、
半導体レーザチップをマウント部材へと実装した後にへ
き開して光出射側の端面を露出させることで、製造工程
中に被る端面の汚染や損傷を抑制するようにした技術に
係るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser in which a semiconductor laser chip is mounted on a mount member such as a heat sink and a method for manufacturing the same, and more specifically,
The present invention relates to a technique for suppressing the contamination and damage of the end face that occurs during the manufacturing process by mounting the semiconductor laser chip on a mount member and then cleaving it to expose the end face on the light emitting side.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体レーザとして、一般的に良く知ら
れているものは、ダブルヘテロ接合を形成する化合物半
導体層の積層構造からなる光共振器構造を備え、その光
共振器構造の端面を光出射面とする端面発光型半導体レ
ーザである。その中でも特に、複数の光出射点を有する
多点発光型半導体レーザの製造方法について以下に説明
する。2. Description of the Related Art As a semiconductor laser, a well-known semiconductor laser is provided with an optical resonator structure having a laminated structure of compound semiconductor layers forming a double heterojunction, and an end facet of the optical resonator structure It is an edge emitting semiconductor laser used as an emission surface. Above all, a method of manufacturing a multi-point emission type semiconductor laser having a plurality of light emission points will be described below.
【0003】先ず、図16に示すように、半導体レーザ
素子が形成されたウェーハ1の表面に、ある特定の結晶
面と平行な複数本のけがき線2を、例えばダイヤモンド
カッタ3で形成する。これらけがき線2の間隔が半導体
レーザの光共振器長となる。ウェーハ1上には、半導体
レーザの基本的な構造であるクラッド層/活性層/クラ
ッド層の3層が結晶成長されており、更にウェーハ1の
表面及び裏面にはコンタクト層を介して電極が形成され
ている。First, as shown in FIG. 16, a plurality of marking lines 2 parallel to a specific crystal plane are formed on a surface of a wafer 1 on which a semiconductor laser device is formed, for example, by a diamond cutter 3. The interval between these marking lines 2 becomes the optical resonator length of the semiconductor laser. On the wafer 1, three layers of a basic structure of a semiconductor laser, that is, a clad layer / active layer / clad layer, are crystal-grown. Further, electrodes are formed on the front surface and the back surface of the wafer 1 via a contact layer. Has been done.
【0004】次いで、けがき線2が形成された面の反対
側からウェーハ1に押圧力を加えて、けがき線2の方向
(結晶面)に沿ってへき開する。このへき開によって、
図17に示すように、複数の帯状の半導体レーザチップ
4が得られる。このへき開で得られた端面5(図で見え
ていない反対側の端面も含む)が光共振器構造の鏡面と
して機能する。Next, a pressing force is applied to the wafer 1 from the side opposite to the surface on which the marking line 2 is formed, so that the wafer 1 is cleaved along the direction (crystal plane) of the marking line 2. By this cleavage,
As shown in FIG. 17, a plurality of band-shaped semiconductor laser chips 4 are obtained. The end surface 5 obtained by this cleavage (including the end surface on the opposite side not visible in the figure) functions as a mirror surface of the optical resonator structure.
【0005】半導体レーザでは、端面の状態がレーザ特
性に大きな影響を与え、端面の酸化や汚れ、損傷はレー
ザ特性を悪化させ、ひどい場合には発振しなくなる。ま
た、半導体レーザにおいて端面は、自己の発する光によ
り劣化しやすい部分でもあり、特に光出力が高い場合に
は端面が破壊され、レーザとして動作しなくなることも
しばしばである。In a semiconductor laser, the state of the end face has a great influence on the laser characteristics, and oxidation, dirt, or damage on the end face deteriorates the laser characteristics, and in severe cases, it does not oscillate. Further, the end face of the semiconductor laser is also a portion which is easily deteriorated by the light emitted from itself, and in particular, when the light output is high, the end face is often destroyed and does not operate as a laser.
【0006】従って、へき開した後は、直ちに端面コー
ト膜による被覆が行われる。例えば、特開昭61−13
4094号公報では、端面を誘電体多層膜で被覆して端
面を保護している(図17において端面コート膜6を網
掛けで示す)。これは両端面に対して行われる。更に、
端面コート膜6は端面を保護する機能以外にも、材質や
層数の調整により、光出射側の前端面(例えば図17で
は端面5)を低反射率に、後端面を高反射率にするなど
して反射率制御の機能も有する。Therefore, immediately after the cleavage, the end face coating film is applied. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 61-13
In Japanese Patent No. 4094, the end face is covered with a dielectric multilayer film to protect the end face (in FIG. 17, the end face coat film 6 is shaded). This is done for both ends. Furthermore,
In addition to the function of protecting the end surface, the end surface coating film 6 has a low reflectance on the front end surface (for example, the end surface 5 in FIG. 17) and a high reflectance on the rear end surface by adjusting the material and the number of layers. It also has a reflectance control function.
【0007】ウェーハ状態から小片に分割された半導体
レーザチップは、持ち運びの簡便性、放熱性、外部への
取出電極設定上の便宜等の理由から、通常、ヒートシン
ク等のマウント部材に実装される。特に、注入電力の大
半を発熱に費やす半導体レーザにとって、良好な放熱性
を得ることは、レーザ特性の維持、信頼性確保のため非
常に重要である。The semiconductor laser chip divided into small pieces from the wafer state is usually mounted on a mount member such as a heat sink for reasons of easy carrying, heat dissipation, and convenience of setting the extraction electrode to the outside. In particular, for a semiconductor laser that consumes most of the injected power for heat generation, obtaining good heat dissipation is very important for maintaining laser characteristics and ensuring reliability.
【0008】図18は半導体レーザチップ4が実装され
るヒートシンク7を示す。ヒートシンク7は銅製肉厚の
熱放散板である。そのヒートシンク7上には、絶縁板9
を介して電極8が取り付けられている。すなわち、ヒー
トシンク7と電極8とは電気的に絶縁されている。更
に、ヒートシンク7上には、はんだ10が印刷されてい
る。そのはんだ10の上にはフラックスが塗布されてい
る。FIG. 18 shows a heat sink 7 on which the semiconductor laser chip 4 is mounted. The heat sink 7 is a copper thick heat dissipation plate. On the heat sink 7, an insulating plate 9
The electrode 8 is attached via. That is, the heat sink 7 and the electrode 8 are electrically insulated. Further, the solder 10 is printed on the heat sink 7. Flux is applied on the solder 10.
【0009】図19に示すように、半導体レーザチップ
4は、その光出射側の端面5を、ヒートシンク7の前端
面7aと面一にして、はんだ10上に載置される。その
後、リフロー炉に送られて、そのリフロー炉におけるは
んだ10の溶融及び固化を経て、半導体レーザチップ4
とヒートシンク7とがはんだ付けされる。これによっ
て、半導体レーザチップ4がヒートシンク7に固定され
ると共に、半導体レーザチップ4の裏面側に形成された
電極(例えば正電極)とヒートシンク7とが電気的に接
続される。As shown in FIG. 19, the semiconductor laser chip 4 is mounted on the solder 10 with its end face 5 on the light emitting side flush with the front end face 7a of the heat sink 7. After that, the semiconductor laser chip 4 is sent to a reflow furnace, where the solder 10 is melted and solidified in the reflow furnace.
And the heat sink 7 are soldered. As a result, the semiconductor laser chip 4 is fixed to the heat sink 7, and the electrode (for example, the positive electrode) formed on the back surface side of the semiconductor laser chip 4 and the heat sink 7 are electrically connected.
【0010】次いで、図20に示すように、半導体レー
ザチップ4の表面側に形成された電極(例えば負電極)
と、ヒートシンク7上に絶縁板9を介して取り付けられ
た電極8とを、例えば金線11にてワイヤボンディング
する。これにより、半導体レーザチップ4の表面側に形
成された電極とヒートシンク7側に取り付けられた電極
8とが電気的に接続される。Next, as shown in FIG. 20, an electrode (for example, a negative electrode) formed on the front surface side of the semiconductor laser chip 4
And the electrode 8 mounted on the heat sink 7 via the insulating plate 9 are wire-bonded with a gold wire 11, for example. As a result, the electrode formed on the front surface side of the semiconductor laser chip 4 and the electrode 8 attached to the heat sink 7 side are electrically connected.
【0011】以上のようにして、ヒートシンク7上に半
導体レーザチップ4が実装されてなる半導体レーザ12
が完成する。この半導体レーザ12を動作させるには、
半導体レーザチップ4中に形成されたPN接合(活性
層)に順方向電圧が印加されるように、例えば電極8に
負電圧を、ヒートシンク7に正電圧を印加する。これに
よって、活性層中へP型クラッド層からホールが、N型
クラッド層から電子が注入される。この電子とホールが
再結合する際に光を放出し、更に両端面によって構成さ
れる光共振器構造で増幅されて、光出射側の端面5から
レーザ光として出射する。As described above, the semiconductor laser 12 in which the semiconductor laser chip 4 is mounted on the heat sink 7
Is completed. To operate this semiconductor laser 12,
For example, a negative voltage is applied to the electrode 8 and a positive voltage is applied to the heat sink 7 so that a forward voltage is applied to the PN junction (active layer) formed in the semiconductor laser chip 4. As a result, holes are injected from the P-type clad layer and electrons are injected into the active layer from the N-type clad layer. When the electrons and holes are recombined, light is emitted, further amplified by the optical resonator structure composed of both end faces, and emitted as laser light from the end face 5 on the light emitting side.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】上述したように、半導
体レーザ12にとって、その端面5は光共振器構造の
「鏡」として機能するため、汚染や損傷から防ぐ必要が
ある。そのために端面コート膜6を被覆しているが、一
般的な半導体レーザの製造では、その後に、上述したよ
うにはんだ付けを含む実装工程などの多くの工程が残っ
ており、その工程での作業のため端面コート膜6を劣化
させてしまったり、光出射位置に光を遮る異物が付着し
てしまったりすることがあり、このようなことから端面
5の劣化が起こり、レーザの信頼性が確保できなくなっ
てしまう。また、端面コート膜6は端面5の保護だけで
なく、端面コート膜6自体が反射率制御という光学的機
能を有しているため、端面コート膜6の劣化は所望のレ
ーザ特性を得られなくなることにもつながる。As described above, since the end face 5 of the semiconductor laser 12 functions as a "mirror" of the optical resonator structure, it is necessary to prevent it from being contaminated or damaged. Therefore, the end face coat film 6 is covered. However, in the manufacture of a general semiconductor laser, many steps such as the mounting step including soldering remain as described above, and the work in the step is performed. Therefore, the end face coat film 6 may be deteriorated, or a foreign substance that blocks light may be attached to the light emission position. As a result, the end face 5 is deteriorated and the reliability of the laser is ensured. I can not do it. Further, since the end face coat film 6 has not only protection of the end face 5 but also the end face coat film 6 itself has an optical function of controlling reflectance, deterioration of the end face coat film 6 cannot obtain desired laser characteristics. It also leads to things.
【0013】特に、はんだ付けに際しては、半導体レー
ザチップ4をあまり高温下にさらすわけにはいかないの
で、それほど高温にしなくても良好なはんだ付け性が得
られるようにするため、フラックスを用いることが不可
欠となっている。そのフラックス中の溶剤が、リフロー
時に蒸発して端面の汚染を引き起こす原因となってい
る。In particular, when soldering, it is not possible to expose the semiconductor laser chip 4 to a high temperature, so it is necessary to use a flux in order to obtain a good solderability without making the temperature too high. Has become essential. The solvent in the flux evaporates during reflow and causes contamination of the end surface.
【0014】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、その
目的とするところは、製造工程中に被る端面の汚染や損
傷を抑制するようにした半導体レーザの製造方法及びこ
れによって得られる半導体レーザを提供することにあ
る。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor laser and a semiconductor laser obtained by the method, which suppress contamination and damage of an end face to be covered during a manufacturing process. To provide.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】以上の課題は、半導体レ
ーザチップがマウント部材に実装された状態でへき開さ
れて、そのへき開によって露出した半導体レーザチップ
の端面に端面コート膜が被覆されていることを特徴とす
る半導体レーザ、によって解決される。The above problem is that the semiconductor laser chip is cleaved while mounted on the mount member, and the end face of the semiconductor laser chip exposed by the cleaving is covered with the end face coating film. Is solved by a semiconductor laser.
【0016】また、以上の課題は、半導体レーザチップ
をマウント部材に実装する工程と、マウント部材に実装
された状態で半導体レーザチップをへき開する工程と、
このへき開によって露出した半導体レーザチップの端面
を被覆する端面コート膜を形成する工程とを有する半導
体レーザの製造方法、によって解決される。Further, the above-mentioned problems include a step of mounting the semiconductor laser chip on the mount member, and a step of cleaving the semiconductor laser chip while mounted on the mount member,
And a step of forming an end face coating film that covers the end face of the semiconductor laser chip exposed by the cleavage.
【0017】半導体レーザチップをマウント部材へと実
装した後にへき開することで、半導体レーザとして完成
する直前の最終工程にて、端面の形成及び端面コート膜
の形成を行うことが可能となる。これにより、端面及び
端面コート膜が製造工程中に長くさらされずに済み汚染
や損傷を防ぐことができる。By cleaving the semiconductor laser chip after mounting it on the mount member, the end face and the end face coat film can be formed in the final step immediately before the completion of the semiconductor laser. As a result, the end face and the end face coat film are not exposed for a long time during the manufacturing process, and contamination and damage can be prevented.
【0018】また、半導体レーザチップを、複数のマウ
ント部材間に掛け渡して実装すれば、へき開によって分
割された各々の半導体レーザチップは全てマウント部材
に実装されて半導体レーザを構成し有効に利用すること
ができ、無駄な半導体レーザチップを生じさせない。Further, when the semiconductor laser chip is mounted by being spanned between a plurality of mount members, each of the semiconductor laser chips divided by cleavage is mounted on the mount member to form a semiconductor laser and be effectively utilized. Therefore, a wasteful semiconductor laser chip is not generated.
【0019】半導体レーザチップが実装されるマウント
部材としては、例えば放熱性の良い銅や鉄でなるヒート
シンクが挙げられる。その他にも、主光出射側端面であ
る前端面と反対側の後端面からの出射光を検出するため
のフォトダイオードが形成されたシリコン基板(シリコ
ンに限らず、より放熱性の良いSiCやダイヤモンドで
もよい)や、プリント配線板、インターポーザ基板など
が挙げられる。As a mount member on which the semiconductor laser chip is mounted, for example, a heat sink made of copper or iron having good heat dissipation property can be cited. In addition, a silicon substrate on which a photodiode for detecting light emitted from the rear end surface opposite to the front end surface, which is the end surface on the main light emission side, is formed (not only silicon but also SiC and diamond having better heat dissipation) However, a printed wiring board, an interposer substrate, etc. may be mentioned.
【0020】そして、実装とは半導体レーザチップの単
なる支持や固定のみを意味することはもちろん、半導体
レーザチップとマウント部材との電気的な接続までも行
うことも含む。The mounting means not only simply supporting and fixing the semiconductor laser chip but also performing electrical connection between the semiconductor laser chip and the mounting member.
【0021】へき開の方法としては、半導体レーザチッ
プに押圧力を与える方法が一例として挙げることができ
る。この場合、ニードルやブレードなどを用いた機械的
押圧力に限らず、ガス圧や液圧などの流体圧を加えてへ
き開させてもよい。あるいは、半導体レーザチップを複
数のマウント部材間に掛け渡して実装させた場合には、
複数のマウント部材を延伸シートに貼り付けた上で、そ
の延伸シートを平面方向に延伸させてへき開させてもよ
い。An example of the cleavage method is a method of applying a pressing force to the semiconductor laser chip. In this case, not only mechanical pressing force using a needle or blade, but also fluid pressure such as gas pressure or liquid pressure may be applied to cause cleavage. Alternatively, when mounting the semiconductor laser chip by mounting it across a plurality of mounting members,
A plurality of mount members may be attached to the stretched sheet, and then the stretched sheet may be stretched in the planar direction and cleaved.
【0022】へき開後は、実装されているマウント部材
ごと半導体レーザチップは、成膜装置に投入され、端面
に端面コート膜が被覆される。端面コート膜の形成方法
としては、蒸着法やスパッタリング法などを用いること
ができる。端面コート膜の材質としては、Al2O3、S
iO2 、Si2O3、Si3N4、AlNなどが挙げられ、
これらの多層構造、あるいは何れか1層の単層構造とし
て形成される。After cleaving, the semiconductor laser chip together with the mounted mount members is put into a film forming apparatus and the end surface is covered with an end surface coating film. As a method for forming the end face coating film, a vapor deposition method, a sputtering method, or the like can be used. The material of the end face coating film is Al 2 O 3 , S
such iO 2, Si 2 O 3, Si 3 N 4, AlN and the like,
It is formed as a multi-layer structure or a single layer structure of any one of these layers.
【0023】また、帯状を呈する多点発光型の半導体レ
ーザでは、端面の一部分が少し汚れている程度で、その
チップを不良品としてしまうと歩留まりが著しく低下す
る。しかし、その少しくらいの汚れを許容してしまう
と、その部分での汚染を原因とする非発光再結合→発熱
が活発になり、その熱の作用により他の部分までも劣化
させてしまうことにつながる。従って、本発明は、多点
発光型の半導体レーザに特に好適である。もちろん、本
発明は、発光点が1つのみの半導体レーザにも適用でき
る。Further, in a band-shaped multi-point emission type semiconductor laser, a part of the end face is slightly soiled, and if the chip is defective, the yield is remarkably reduced. However, if a small amount of dirt is allowed, non-radiative recombination due to contamination in that part → heat generation becomes active, and the effect of that heat deteriorates other parts as well. Connect Therefore, the present invention is particularly suitable for a multipoint emission type semiconductor laser. Of course, the present invention can be applied to a semiconductor laser having only one light emitting point.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、図1
から図12を参照して、本発明の第1の実施の形態によ
る半導体レーザの製造方法について説明する。なお、本
実施の形態でも、従来と同様、多点発光型の半導体レー
ザを一例として説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (First Embodiment) FIG.
12 to 12, a method of manufacturing the semiconductor laser according to the first embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, as in the conventional case, a multi-point emission type semiconductor laser will be described as an example.
【0025】先ず、図1に示すように、半導体レーザ素
子が形成されたウェーハ1の表面に、ある特定の結晶面
と平行な複数本のけがき線2を、例えばダイヤモンドカ
ッタ3で形成する。ウェーハ1上には、半導体レーザの
基本的な構造であるクラッド層/活性層/クラッド層の
3層が結晶成長されており、更にウェーハ1の表面及び
裏面にはコンタクト層を介して電極が形成されている。First, as shown in FIG. 1, a plurality of marking lines 2 parallel to a specific crystal plane are formed on a surface of a wafer 1 on which a semiconductor laser device is formed, for example, by a diamond cutter 3. On the wafer 1, three layers of a basic structure of a semiconductor laser, that is, a clad layer / active layer / clad layer, are crystal-grown. Further, electrodes are formed on the front surface and the back surface of the wafer 1 via a contact layer. Has been done.
【0026】次いで、けがき線2が形成された面の反対
側からウェーハ1に押圧力を加えて、けがき線2の方向
(結晶面)に沿ってへき開する。あるいは、ウェーハ1
を粘着性の樹脂などでなる延伸シートに貼り付けて、そ
の延伸シートを平面方向に延伸させることでへき開して
もよい。このへき開によって、図2に示すように、複数
の帯状の半導体レーザチップ20が得られる。なお、特
定の結晶面に沿って割れやすい「へき開性」によって、
けがき線2はウェーハ1の端に部分的に形成するだけで
容易に割れる。Then, a pressing force is applied to the wafer 1 from the side opposite to the surface on which the scribe line 2 is formed, so that the wafer 1 is cleaved along the direction (crystal plane) of the scribe line 2. Alternatively, wafer 1
May be attached to a stretched sheet made of an adhesive resin or the like, and the stretched sheet may be stretched in the plane direction to be cleaved. By this cleavage, as shown in FIG. 2, a plurality of belt-shaped semiconductor laser chips 20 are obtained. In addition, due to the "cleavability" that easily breaks along a specific crystal plane,
The marking line 2 can be easily broken by only partially forming it on the edge of the wafer 1.
【0027】次いで、図3に示すように、前工程で得ら
れた個々の半導体レーザチップ20に、再度、ダイヤモ
ンドカッタ3でけがき線22を形成する。このけがき線
22は、半導体レーザチップ20の長尺方向に平行に形
成される。すなわち、先の工程のけがき線2と平行に形
成される。Next, as shown in FIG. 3, the marking line 22 is formed again by the diamond cutter 3 on each of the semiconductor laser chips 20 obtained in the previous step. The marking line 22 is formed parallel to the longitudinal direction of the semiconductor laser chip 20. That is, it is formed parallel to the marking line 2 in the previous step.
【0028】各半導体レーザチップ20は、けがき線2
2を挟んで2つの部分20a、20bに分けられる。部
分20aは後述の工程でヒートシンク7上にはんだ付け
される部分であり、部分20bは最終的には製品として
は残らない部分である。従って、部分20aが実質的に
半導体レーザチップとして機能する部分であるので、部
分20aの幅wが所望の光共振器長となるようにけがき
線22を形成する位置は決められる。Each semiconductor laser chip 20 has a marking line 2
It is divided into two parts 20a and 20b with 2 in between. The portion 20a is a portion to be soldered on the heat sink 7 in a process described later, and the portion 20b is a portion which does not remain as a product finally. Therefore, since the portion 20a is a portion that substantially functions as a semiconductor laser chip, the position where the marking line 22 is formed is determined so that the width w of the portion 20a becomes the desired optical resonator length.
【0029】次に、図4は上記半導体レーザチップ20
が実装される、マウント部材としてのヒートシンク7を
示す。ヒートシンク7は例えば銅製肉厚の熱放散板であ
る。そのヒートシンク7上には、絶縁板9を介して電極
8が取り付けられている。すなわち、ヒートシンク7と
電極8は電気的に絶縁されている。更に、ヒートシンク
7上には、はんだ10が印刷されている。そのはんだ1
0の上にはフラックスが塗布されている。Next, FIG. 4 shows the semiconductor laser chip 20.
2 shows a heat sink 7 as a mount member on which is mounted. The heat sink 7 is, for example, a copper thick heat dissipation plate. An electrode 8 is attached on the heat sink 7 via an insulating plate 9. That is, the heat sink 7 and the electrode 8 are electrically insulated. Further, the solder 10 is printed on the heat sink 7. That solder 1
Flux is applied on top of 0.
【0030】図5に示すように、半導体レーザチップ2
0は、けがき線22が形成された面を下にして、ヒート
シンク7上のはんだ10の上に載置された後、リフロー
炉に送られて、そのリフロー炉でのはんだ10の溶融及
び固化を経て、半導体レーザチップ20はヒートシンク
7にはんだ付け(ダイボンド)される。As shown in FIG. 5, the semiconductor laser chip 2
0 is placed on the solder 10 on the heat sink 7 with the surface on which the scribe line 22 is formed facing downward, and then sent to a reflow furnace to melt and solidify the solder 10 in the reflow furnace. After that, the semiconductor laser chip 20 is soldered (die-bonded) to the heat sink 7.
【0031】図6は、図5の状態を裏面側から見た平面
図であり、はんだ付けされるのは半導体レーザチップ2
0の部分20aのみであり、部分20bはヒートシンク
7の前端面7aから突き出た状態となる。けがき線22
もヒートシンク7の前端面7aからわずかに突き出た位
置とされる。以上のことにより、半導体レーザチップ2
0がヒートシンク7に固定されると共に、部分20aの
裏面側に形成された電極(例えば正電極)とヒートシン
ク7とが電気的に接続される。FIG. 6 is a plan view of the state of FIG. 5 seen from the back side, and the semiconductor laser chip 2 is soldered.
Only the portion 20a of 0 is provided, and the portion 20b is in a state of protruding from the front end surface 7a of the heat sink 7. Scribing line 22
Is also a position slightly protruding from the front end surface 7a of the heat sink 7. Due to the above, the semiconductor laser chip 2
0 is fixed to the heat sink 7, and an electrode (for example, a positive electrode) formed on the back surface side of the portion 20a and the heat sink 7 are electrically connected.
【0032】次いで、図7に示すように、部分20aの
表面側に形成された電極(例えば負電極)と、ヒートシ
ンク7上に絶縁板9を介して取り付けられた電極8と
を、例えば金線11にてワイヤボンディングする。これ
により、部分20aの表面側に形成された電極と、ヒー
トシンク7側に取り付けられた電極8とが電気的に接続
される。Then, as shown in FIG. 7, an electrode (for example, a negative electrode) formed on the surface side of the portion 20a and an electrode 8 mounted on the heat sink 7 via an insulating plate 9 are connected to each other with, for example, a gold wire. Wire bonding is performed at 11. As a result, the electrode formed on the surface side of the portion 20a and the electrode 8 attached to the heat sink 7 side are electrically connected.
【0033】次に、図8〜図10を参照して、半導体レ
ーザチップ20のへき開について説明する。半導体レー
ザチップ20を実装したヒートシンク7は支持台26上
に固定される。固定の手段としてはボルト止めやクラン
プ部材による狭圧、あるいは接着でもよい。半導体レー
ザーチップ20の部分20bが支持台26上から突き出
るように位置決めされる。Next, the cleavage of the semiconductor laser chip 20 will be described with reference to FIGS. The heat sink 7 on which the semiconductor laser chip 20 is mounted is fixed on the support base 26. The fixing means may be bolting, narrow pressure by a clamp member, or adhesion. The portion 20b of the semiconductor laser chip 20 is positioned so as to protrude from the support base 26.
【0034】この状態で、へき開のための押圧手段とし
てのブレード27が、部分20bの下面に向けて上昇さ
れる。そして、図9に示すように、ブレード27の先端
が部分20bの下面に当接し、更なるブレード27の上
昇により部分20bの下面に下からの押圧力が加えられ
ると、図10に示すように、半導体レーザチップ20は
けがき線22に沿ってへき開し、ヒートシンク7上には
んだ10を介して固定された部分20aから部分20b
が分離する。このへき開によって、部分20aにはレー
ザ光が出射される端面23が露出する。In this state, the blade 27 as a pressing means for cleaving is raised toward the lower surface of the portion 20b. Then, as shown in FIG. 9, when the tip of the blade 27 comes into contact with the lower surface of the portion 20b and the pressing force from below is applied to the lower surface of the portion 20b due to the further rise of the blade 27, as shown in FIG. The semiconductor laser chip 20 is cleaved along the scribe line 22, and is fixed to the heat sink 7 via the solder 10 from the portion 20a to the portion 20b.
Separates. By this cleavage, the end face 23 from which the laser light is emitted is exposed at the portion 20a.
【0035】上記工程で端面23が露出した半導体レー
ザチップ20は、直ちに蒸着装置へと、ヒートシンク7
ごと投入される。図11に示すように、上記へき開によ
って露出した端面23は、るつぼ28に収容された蒸発
源29に対向される。そして、例えば図示しない電子銃
からの電子線の照射を受けて蒸発源29は加熱されて蒸
発し、蒸発源29を構成する材料の膜が、端面23の保
護及び反射率制御の機能を有する端面コート膜24とし
て端面23に形成される。The semiconductor laser chip 20 whose end face 23 is exposed in the above step is immediately transferred to the vapor deposition device and the heat sink 7.
Everything is thrown in. As shown in FIG. 11, the end surface 23 exposed by the cleavage is opposed to the evaporation source 29 housed in the crucible 28. Then, for example, the evaporation source 29 is heated and evaporated in response to the irradiation of an electron beam from an electron gun (not shown), and the film of the material forming the evaporation source 29 has an end surface that has the functions of protecting the end surface 23 and controlling the reflectance. A coat film 24 is formed on the end face 23.
【0036】この蒸着時、端面23以外の箇所、例えば
ヒートシンク7やボンディングワイヤである金線11な
どにも蒸発材料が付着するが半導体レーザの動作には影
響しない。あるいは、図11中、一点鎖線で示すシャッ
タ15で端面23以外の部分を隠すことで、端面23の
みに成膜されるようにしてもよい。At the time of this vapor deposition, the evaporation material adheres to a portion other than the end face 23, such as the heat sink 7 and the gold wire 11 which is a bonding wire, but this does not affect the operation of the semiconductor laser. Alternatively, in FIG. 11, the shutter 15 shown by the alternate long and short dash line may hide the portion other than the end face 23 so that the film is formed only on the end face 23.
【0037】なお、端面23と共に光共振器構造の鏡面
を構成する反対側の端面21については、実装前の図3
に示す状態(部分20aと部分20bの分離前)のとき
に、予め、端面コート膜を形成しておく。この端面21
は光出射側の端面ではないので、光出射側の端面である
端面23ほどの清浄さは要求されない。あるいは、図1
1に示す状態において、ヒートシンク7を上下逆に配置
して、端面21を蒸発源29に対向させたうえで成膜し
てもよい。端面コート膜は、その層数や材質で反射率が
制御され、すなわち端面21を高反射率に、端面23を
低反射率にして、端面23からのみレーザ光が出射され
るようにする。The end face 21 on the opposite side, which constitutes the mirror surface of the optical resonator structure together with the end face 23, is shown in FIG.
In the state shown in (1) (before separation of the portion 20a and the portion 20b), the end face coating film is formed in advance. This end face 21
Is not the end surface on the light emitting side, and therefore is not required to be as clean as the end surface 23 on the light emitting side. Alternatively, FIG.
In the state shown in FIG. 1, the heat sink 7 may be arranged upside down so that the end face 21 faces the evaporation source 29 before the film formation. The reflectance of the end face coating film is controlled by the number of layers and the material thereof, that is, the end face 21 has a high reflectance and the end face 23 has a low reflectance so that the laser beam is emitted only from the end face 23.
【0038】以上の工程を経て、図12に示されるよう
に、ヒートシンク7上に半導体レーザチップ20(20
a)が実装されてなる半導体レーザ25が完成する。こ
の半導体レーザ25を動作させるには、半導体レーザチ
ップ20中に形成されたPN接合(活性層)に順方向電
圧が印加されるように、例えば電極8に負電圧を、ヒー
トシンク7に正電圧を印加する。これによって、活性層
中へP型クラッド層からホールが、N型クラッド層から
電子が注入される。この電子とホールが再結合する際に
光を放出し、更に両端面23、21によって構成される
光共振器構造で増幅されて、光出射側の端面23からレ
ーザ光として出射する。Through the above steps, as shown in FIG. 12, the semiconductor laser chip 20 (20
The semiconductor laser 25 in which a) is mounted is completed. To operate the semiconductor laser 25, for example, a negative voltage is applied to the electrode 8 and a positive voltage is applied to the heat sink 7 so that a forward voltage is applied to the PN junction (active layer) formed in the semiconductor laser chip 20. Apply. As a result, holes are injected from the P-type clad layer and electrons are injected into the active layer from the N-type clad layer. When the electrons and holes are recombined, light is emitted, further amplified by the optical resonator structure constituted by both end faces 23 and 21, and emitted as laser light from the end face 23 on the light emission side.
【0039】本実施の形態では半導体レーザ25は多点
発光型のレーザであり、帯状の半導体レーザチップ20
の長尺方向に沿って複数の光出射点を有する。例えば、
半導体レーザチップ20の長さを10mm程とすると、
100点程の光出射点を有する。このような多点発光型
の半導体レーザ25は、例えばロッド状のYAG結晶の
周囲に配置されて、そのYAG結晶を用いた固体レーザ
の励起用光源として利用される。In the present embodiment, the semiconductor laser 25 is a multi-point emission type laser, and the band-shaped semiconductor laser chip 20.
Has a plurality of light emission points along the longitudinal direction thereof. For example,
If the length of the semiconductor laser chip 20 is about 10 mm,
It has about 100 light emission points. Such a multi-point emission type semiconductor laser 25 is arranged, for example, around a rod-shaped YAG crystal, and is used as a light source for exciting a solid-state laser using the YAG crystal.
【0040】以上述べたように、本実施の形態では、一
連の製造工程の最後段階で、へき開及びこれに続いて直
ちに端面コート膜24の形成が行われるので、製造工程
中に被る端面23や端面コート膜24の汚染や損傷を防
ぐことができる。特に、はんだ付け時のフラックスによ
る汚染を気にする必要がなく、フラックスを用いたはん
だ付けが可能となる。そのため、鉛フリーはんだなどの
酸化に弱いはんだを用いても実装が容易に行える。As described above, in the present embodiment, the end face coating film 24 is formed immediately after the cleavage at the last stage of the series of manufacturing steps, and therefore the end face 23 and The end coat film 24 can be prevented from being contaminated or damaged. In particular, it is not necessary to worry about contamination by flux during soldering, and soldering using flux is possible. Therefore, mounting can be easily performed even if a solder that is susceptible to oxidation such as lead-free solder is used.
【0041】また、本実施の形態では、最終的に製品と
はならない部分20bがあるため、その部分20bはハ
ンドリング時の持ち代となり、ヒートシンク7へのダイ
ボンドに際して厳密なダイボンド位置の制御が可能とな
る。従来の半導体レーザチップ4(図19参照)は全て
の部分が最終的な製品として機能するため、注意深く慎
重に扱わねばならず、ハンドリング性が悪くなり高精度
の位置決めを行い難かった。これに対して、本実施の形
態では、最終的に製品となる部分20aには一切接する
ことなくダイボンドを行えるので、扱いに気を使うこと
なく、高精度な位置決めを容易に行える。Further, in the present embodiment, since there is a portion 20b that does not finally become a product, that portion 20b serves as a holding margin during handling, and it is possible to strictly control the die bond position during die bonding to the heat sink 7. Become. Since all parts of the conventional semiconductor laser chip 4 (see FIG. 19) function as a final product, they must be handled carefully and carefully, and the handling property deteriorates and it is difficult to perform highly accurate positioning. On the other hand, in the present embodiment, since die bonding can be performed without contacting the part 20a that will be the final product at all, high-precision positioning can be easily performed without any care in handling.
【0042】更に、実装後にへき開するという本実施の
形態の方法では、ヒートシンク7に対してはんだ10で
固定された部分20aではへき開することは不可能なの
で、必然的に、へき開によって得られる端面23はヒー
トシンク7の端面7aよりも突き出た構造となる(図1
0、図12参照)。もちろん、けがき線22をヒートシ
ンク7の上面とその端面7aとの境界(エッジ)に一致
させて実装すれば、へき開によって得られる半導体レー
ザチップ20の端面23はヒートシンク7の端面7aと
面一になる。Further, according to the method of the present embodiment in which cleavage is performed after mounting, it is impossible to cleave the portion 20a fixed to the heat sink 7 with the solder 10. Therefore, the end face 23 obtained by cleavage is inevitable. Has a structure protruding from the end surface 7a of the heat sink 7 (see FIG. 1).
0, see FIG. 12). Of course, if the marking line 22 is mounted so as to match the boundary (edge) between the upper surface of the heat sink 7 and its end surface 7a, the end surface 23 of the semiconductor laser chip 20 obtained by cleavage is flush with the end surface 7a of the heat sink 7. Become.
【0043】このような構造は、半導体レーザチップ2
0の端面23がヒートシンク7の端面7aよりも奥に引
っ込んだ構造に比べて、FFP(Far Field Pattern )
の回折干渉縞の発生を防ぐ点で有利である。ただし、あ
まり半導体レーザチップ20の端面23の突き出し量を
大きくすると、その分ヒートシンク7に接しない部分が
増えるので、放熱性を損ねない程度の突き出し量とする
必要がある。Such a structure has the semiconductor laser chip 2
Compared with the structure in which the end surface 23 of 0 retracts deeper than the end surface 7a of the heat sink 7, an FFP (Far Field Pattern)
Is advantageous in preventing the generation of diffraction interference fringes. However, if the amount of protrusion of the end face 23 of the semiconductor laser chip 20 is increased too much, the amount of the portion not in contact with the heat sink 7 will increase accordingly, so it is necessary to make the amount of protrusion that does not impair heat dissipation.
【0044】(第2の実施の形態)次に、図13、図1
4を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明
する。なお、上記第1の実施の形態と同じ構成部分には
同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。(Second Embodiment) Next, FIG. 13 and FIG.
The second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
【0045】先ず、上記第1の実施の形態と同様に、ウ
ェーハ1から帯状の半導体レーザチップ30をへき開に
よって得て、その半導体レーザチップ30にけがき線3
1を形成する(図13では半導体レーザチップ30の裏
面側に形成されている)。そのけがき線31によって、
半導体レーザチップ30は2つの部分30a、30bに
分けられる。この第2の実施の形態では、その2つの部
分30a、30bの両方を、それぞれヒートシンク7に
実装して製品として活用する。従って、けがき線31に
よって分けられる部分30a、30b各々の幅が光共振
器長となるようにする。First, similarly to the first embodiment, the band-shaped semiconductor laser chip 30 is obtained from the wafer 1 by cleaving, and the marking line 3 is attached to the semiconductor laser chip 30.
1 (formed on the back side of the semiconductor laser chip 30 in FIG. 13). By the marking line 31,
The semiconductor laser chip 30 is divided into two parts 30a and 30b. In the second embodiment, both of the two parts 30a and 30b are mounted on the heat sink 7 and utilized as a product. Therefore, the width of each of the portions 30a and 30b divided by the marking line 31 is set to be the optical resonator length.
【0046】上記半導体レーザチップ30は、けがき線
31を2つのヒートシンク7、7間に位置させて、それ
らヒートシンク7、7間に掛け渡されてダイボンドされ
る。その後、それぞれの部分30a、30bは、それぞ
れ対応するヒートシンク7に取り付けられた電極8と金
線11によってワイヤボンディングされた後、以下のよ
うにしてへき開がわれる。In the semiconductor laser chip 30, the scribe line 31 is located between the two heat sinks 7, 7 and is bridged between the heat sinks 7, 7 to be die-bonded. After that, the respective portions 30a and 30b are wire-bonded with the electrodes 8 attached to the corresponding heat sinks 7 and the gold wires 11, and then cleaved as follows.
【0047】図14に示すように、一方(図では左方)
のみのヒートシンク7を支持台26に固定させる。この
状態で、ブレード27を他方のヒートシンク7の下面に
当接させて、その他方のヒートシンク7を突き上げさせ
る力を作用させると、強度的に弱くなっているけがき線
31の部分にそのけがき線31を開く力が作用して、一
点鎖線で示すように、他方のヒートシンク7はけがき線
31を支点に回動する。これによって、半導体レーザチ
ップ30はけがき線31に沿ってへき開して、2つの部
分30a、30bに分離される。もちろん、2つのヒー
トシンク7、7を延伸シートに貼り付けて、その延伸シ
ートを平面方向に延伸させることでへき開させてもよ
い。As shown in FIG. 14, one side (left side in the figure)
Only the heat sink 7 is fixed to the support base 26. In this state, when the blade 27 is brought into contact with the lower surface of the other heat sink 7 and a force for pushing up the other heat sink 7 is applied, the scribing line 31 is weakened in strength. The force for opening the line 31 acts and the other heat sink 7 rotates about the scribe line 31 as a fulcrum, as shown by the alternate long and short dash line. As a result, the semiconductor laser chip 30 is cleaved along the scribe line 31 and separated into two parts 30a and 30b. Of course, the two heat sinks 7, 7 may be attached to a stretched sheet, and the stretched sheets may be stretched in the plane direction to be cleaved.
【0048】そして、へき開によって露出した2つの端
面32a、32bには、例えば上記第1の実施の形態と
同様に蒸着法にて、それぞれ端面コート膜が被覆され
る。これら端面32a、32bが、それぞれ半導体レー
ザチップ30a、30bの光出射側端面となる。Then, the two end faces 32a and 32b exposed by the cleavage are coated with end face coat films by the vapor deposition method, for example, as in the first embodiment. These end faces 32a and 32b become the light emitting side end faces of the semiconductor laser chips 30a and 30b, respectively.
【0049】以上のように第2の実施の形態では、実装
後のへき開によって得られる分離された2つの半導体レ
ーザチップ30a、30bは、それぞれヒートシンク7
に実装されたレーザ素子として機能するので、へき開に
よって無駄になる半導体レーザチップを生み出さずに済
む。As described above, in the second embodiment, the two separated semiconductor laser chips 30a and 30b obtained by cleavage after mounting each have a heat sink 7.
Since it functions as a laser element mounted on the substrate, it is not necessary to produce a wasteful semiconductor laser chip by cleavage.
【0050】なお、半導体レーザチップは、3つ以上の
ヒートシンクに掛け渡されて実装されていてもよい。以
下、3つの場合を例に挙げて、図15を参照して説明す
る。The semiconductor laser chip may be mounted by being stretched over three or more heat sinks. Hereinafter, the three cases will be described as an example with reference to FIG.
【0051】半導体レーザチップ35には2本のけがき
線36a、36bが形成され、その2本のけがき線36
a、36bによって、3つの部分35a、35b、35
cに分けられる。Two marking lines 36a and 36b are formed on the semiconductor laser chip 35, and the two marking lines 36 are formed.
a, 36b, the three parts 35a, 35b, 35
It is divided into c.
【0052】半導体レーザチップ35は、けがき線36
aをヒートシンク7’aとヒートシンク7’bとの間に
位置させて、けがき線36bをヒートシンク7’bとヒ
ートシンク7’cとの間に位置させて、それらヒートシ
ンク7’a、7’b、7’c間に掛け渡されてダイボン
ドされる。The semiconductor laser chip 35 has a marking line 36.
a is located between the heat sink 7'a and the heat sink 7'b, and the scribe line 36b is located between the heat sink 7'b and the heat sink 7'c. , 7'c, and die-bonded.
【0053】そして、ヒートシンク7’a、7’b、
7’cを延伸シート37に貼り付けて、その延伸シート
37を平面方向に延伸させると、半導体レーザチップ3
5はけがき線36a、36bの部分でへき開する。これ
により、ヒートシンク7’aに実装された部分35a
と、ヒートシンク7’bに実装された部分35bと、ヒ
ートシンク7’cに実装された部分35cの3つに分離
され、それぞれがレーザ素子として用いられ無駄がな
い。The heat sinks 7'a, 7'b,
When 7'c is attached to the stretched sheet 37 and the stretched sheet 37 is stretched in the plane direction, the semiconductor laser chip 3
5 Cleavage is performed at the portions of the scribe lines 36a and 36b. As a result, the portion 35a mounted on the heat sink 7'a
And a portion 35b mounted on the heat sink 7'b and a portion 35c mounted on the heat sink 7'c are separated from each other, and each is used as a laser element without waste.
【0054】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、
本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能であ
る。Although the respective embodiments of the present invention have been described above, of course, the present invention is not limited to these.
Various modifications are possible based on the technical idea of the present invention.
【0055】半導体レーザチップは直接ヒートシンクに
ダイボンドせず、先ず例えばフォトダイオードが形成さ
れたSiなどのサブマウントに実装した上で、そのサブ
マウントごとヒートシンクに取り付けてもよい。この場
合、実装後のへき開によって得られる端面(主光出射端
面)の反対側の端面(従光出射端面)からもレーザ光を
出射させるようにして、その光をサブマウントに形成さ
れたフォトダイオードで検出して、主光出射端面の出力
制御に用いる。The semiconductor laser chip may not be directly die-bonded to the heat sink, but may be first mounted on a submount such as Si having a photodiode formed thereon and then mounted on the heatsink together with the submount. In this case, the laser light is emitted from the end face (sub-light emission end face) opposite to the end face (main light emission end face) obtained by cleavage after mounting, and the light is formed on the submount. It is used for output control of the main light emission end face.
【0056】実装後のへき開をおこなうためのけがき線
は、実装後に形成してもよい。また、けがき線が形成さ
れた面を上にして実装し、上方からブレードを押し当て
てへき開させてもよい。更に、ワイヤボンディングはへ
き開及び端面コートの後に行ってもよい。へき開の前工
程ですでにフラックスを使用したはんだ付け作業が終了
していれば、へき開後にワイヤボンディングの工程が行
われたとしてもそれほど端面の汚染は生じない。The marking line for performing cleavage after mounting may be formed after mounting. Alternatively, the surface on which the marking line is formed may be mounted upward, and the blade may be pressed from above to cause cleavage. Further, wire bonding may be performed after cleavage and end face coating. If the soldering work using the flux has already been completed in the pre-step of cleavage, even if the wire-bonding step is performed after cleavage, the end surface is not so contaminated.
【0057】[0057]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、へ
き開及びそのへき開によって露出した端面の被覆を実装
後に行うことで、製品としての完成直前にへき開及び端
面コートを行うことができ、その分、製造工程中に被る
端面や端面コート膜の汚染や損傷を抑制できる。この結
果として、最終的に得られる半導体レーザでは、良好な
レーザ特性や高い信頼性を確保することができる。ま
た、半導体レーザチップを、複数のマウント部材間に掛
け渡して実装すれば、へき開によって分割された各々の
半導体レーザチップは全てマウント部材に実装されて半
導体レーザを構成し、無駄な(捨てる)半導体レーザチ
ップが発生しないので、歩留まり向上を図れコストを低
減できる。As described above, according to the present invention, the cleavage and the coating of the end face exposed by the cleavage are performed after mounting, so that the cleavage and the end face coating can be performed immediately before the completion of the product. To that extent, it is possible to suppress the contamination and damage of the end face and the end face coat film which are covered during the manufacturing process. As a result, in the finally obtained semiconductor laser, good laser characteristics and high reliability can be secured. Further, if the semiconductor laser chip is mounted by being mounted between a plurality of mount members, each of the semiconductor laser chips divided by cleavage is mounted on the mount member to form a semiconductor laser, which is a waste (discard) semiconductor. Since no laser chip is generated, the yield can be improved and the cost can be reduced.
【図1】本発明の第1の実施の形態による半導体レーザ
の製造工程(その1)を示し、ウェーハにけがき線が形
成された状態を示す。FIG. 1 shows a manufacturing process (No. 1) of a semiconductor laser according to a first embodiment of the present invention, showing a state where a marking line is formed on a wafer.
【図2】同第1の実施の形態による半導体レーザの製造
工程(その2)を示し、帯状の半導体レーザチップにへ
き開された状態を示す。FIG. 2 shows a manufacturing process (No. 2) of the semiconductor laser according to the first embodiment, showing a state of being cleaved into a band-shaped semiconductor laser chip.
【図3】同第1の実施の形態による半導体レーザの製造
工程(その3)を示し、図2の帯状半導体レーザチップ
に再度けがき線が形成された状態を示す。3 shows a manufacturing process (No. 3) of the semiconductor laser according to the first embodiment, and shows a state where a marking line is formed again on the band-shaped semiconductor laser chip of FIG.
【図4】同第1の実施の形態による半導体レーザの製造
工程(その4)を示し、ヒートシンク上に、絶縁板を介
して電極が形成され、更にはんだ及びフラックスが塗布
された状態を示す。FIG. 4 shows a manufacturing process (No. 4) of the semiconductor laser according to the first embodiment, showing a state in which electrodes are formed on a heat sink via an insulating plate, and solder and flux are further applied.
【図5】同第1の実施の形態による半導体レーザの製造
工程(その5)を示し、ヒートシンク上にはんだを介し
て図3に示す半導体レーザチップが実装された状態を示
す。FIG. 5 shows a manufacturing step (No. 5) of the semiconductor laser according to the first embodiment, showing a state in which the semiconductor laser chip shown in FIG. 3 is mounted on a heat sink via solder.
【図6】図5を裏面側から見た平面図である。FIG. 6 is a plan view of FIG. 5 viewed from the back surface side.
【図7】同第1の実施の形態による半導体レーザの製造
工程(その6)を示し、半導体レーザチップの表面側に
形成された電極と、ヒートシンクに取り付けられた電極
とがワイヤボンディングされた状態を示す。FIG. 7 is a view showing a manufacturing step (6) of the semiconductor laser according to the first embodiment, in which electrodes formed on the front surface side of the semiconductor laser chip and electrodes attached to the heat sink are wire-bonded to each other; Indicates.
【図8】図9、図10と共に、同第1の実施の形態によ
る半導体レーザの製造工程(その7)を示し、ヒートシ
ンクに実装された半導体レーザチップを、ブレードを用
いてへき開する工程を示す。8A and 8B show a manufacturing process (No. 7) of the semiconductor laser according to the first embodiment, together with FIGS. 9 and 10, and show a process of cleaving the semiconductor laser chip mounted on the heat sink using a blade. .
【図9】図8の状態からブレードが更に上昇して、半導
体レーザチップに当接した状態を示す。9 shows a state in which the blade is further raised from the state of FIG. 8 and is in contact with the semiconductor laser chip.
【図10】図9の状態からブレードが更に上昇して、半
導体レーザチップがへき開された状態を示す。FIG. 10 shows a state where the blade is further raised from the state of FIG. 9 and the semiconductor laser chip is cleaved.
【図11】同第1の実施の形態による半導体レーザの最
終製造工程を示し、実装後のへき開によって露出した光
出射側の端面に端面コート膜を蒸着法によって形成する
工程を示す。FIG. 11 shows a final manufacturing process of the semiconductor laser according to the first embodiment, and shows a process of forming an end face coating film on the end face of the light emitting side exposed by cleavage after mounting by a vapor deposition method.
【図12】同第1の実施の形態による半導体レーザが完
成した状態を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a completed state of the semiconductor laser according to the first embodiment.
【図13】本発明の第2の実施の形態による半導体レー
ザの製造工程を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a manufacturing process of the semiconductor laser according to the second embodiment of the present invention.
【図14】図13を側面から見た図である。FIG. 14 is a view of FIG. 13 viewed from the side.
【図15】本発明の変形例を示す側面図である。FIG. 15 is a side view showing a modified example of the present invention.
【図16】従来例における半導体レーザの製造工程(そ
の1)を示し、ウェーハにけがき線が形成された状態を
示す。FIG. 16 shows a manufacturing process (1) of a semiconductor laser in a conventional example, showing a state where a marking line is formed on a wafer.
【図17】同従来例における半導体レーザの製造工程
(その2)を示し、帯状の半導体レーザチップへのへき
開後、光出射面となる端面及びその反対側の後端面に端
面コート膜が被覆された状態を示す。FIG. 17 shows a manufacturing process (No. 2) of the semiconductor laser in the conventional example, and after cleaving into a band-shaped semiconductor laser chip, an end face serving as a light emitting face and a rear end face opposite thereto are coated with an end face coating film. Shows the state.
【図18】同従来例における半導体レーザの製造工程
(その3)を示し、ヒートシンク上に、絶縁板を介して
電極が形成され、更にはんだ及びフラックスが塗布され
た状態を示す。FIG. 18 shows a semiconductor laser manufacturing process (No. 3) in the conventional example, showing a state in which electrodes are formed on a heat sink via an insulating plate, and solder and flux are further applied.
【図19】同従来例における半導体レーザの製造工程
(その4)を示し、ヒートシンク上にはんだを介して図
17の半導体レーザチップが実装された状態を示す。FIG. 19 is a view showing a semiconductor laser manufacturing process (No. 4) in the conventional example, showing a state in which the semiconductor laser chip of FIG. 17 is mounted on a heat sink via solder.
【図20】図19の状態から、半導体レーザチップと、
ヒートシンク上の電極との間にワイヤボンディングがな
されて半導体レーザが完成した状態を示す斜視図であ
る。20 shows a semiconductor laser chip from the state of FIG.
FIG. 7 is a perspective view showing a state where wire bonding is performed between the heat sink and an electrode on the heat sink to complete a semiconductor laser.
1……ウェーハ、2……けがき線、7……ヒートシン
ク、7’a〜7’c……ヒートシンク、8……電極、9
……絶縁板、10……はんだ、11……ボンディングワ
イヤ、20……半導体レーザチップ、21……後端面、
22……けがき線、23……レーザ光出射側端面、24
……端面コート膜、25……半導体レーザ、30……半
導体レーザチップ、31……けがき線、32a〜32b
……レーザ光出射側端面、35……半導体レーザチッ
プ、36a〜36b……けがき線、37……延伸シー
ト。1 ... Wafer, 2 ... Marking line, 7 ... Heat sink, 7'a to 7'c ... Heat sink, 8 ... Electrode, 9
...... Insulating plate, 10 ...... Solder, 11 ...... Bonding wire, 20 ...... Semiconductor laser chip, 21 ...... Rear end face,
22: marking line, 23: end face of laser light emitting side, 24
...... End face coating film, 25 …… Semiconductor laser, 30 …… Semiconductor laser chip, 31 …… Scribing line, 32a to 32b
...... End facet on the laser light emitting side, 35 ・ ・ ・ Semiconductor laser chip, 36a to 36b ・ ・ ・ Scribing line, 37 ・ ・ ・ Stretched sheet.
Claims (6)
装されてなる半導体レーザであって、 前記半導体レーザチップは前記マウント部材に実装され
た状態でへき開され、 該へき開によって露出した端面に端面コート膜が被覆さ
れていることを特徴とする半導体レーザ。1. A semiconductor laser in which a semiconductor laser chip is mounted on a mount member, wherein the semiconductor laser chip is cleaved while mounted on the mount member, and an end face coating film is formed on an end face exposed by the cleavage. A semiconductor laser characterized by being covered.
その長尺方向に沿って複数の光出射点を有することを特
徴とする請求項1に記載の半導体レーザ。2. The semiconductor laser chip has a strip shape,
The semiconductor laser according to claim 1, wherein the semiconductor laser has a plurality of light emission points along the longitudinal direction.
マウント部材の端面と面一または前記マウント部材の端
面よりも突き出ていることを特徴とする請求項1に記載
の半導体レーザ。3. The semiconductor laser according to claim 1, wherein an end face of the semiconductor laser chip is flush with an end face of the mount member or more than an end face of the mount member.
装する工程と、 前記マウント部材に実装された状態で前記半導体レーザ
チップをへき開する工程と、 前記へき開によって露出した前記半導体レーザチップの
端面を被覆する端面コート膜を形成する工程とを有する
ことを特徴とする半導体レーザの製造方法。4. A step of mounting a semiconductor laser chip on a mount member, a step of cleaving the semiconductor laser chip in a state of being mounted on the mount member, and a step of covering an end face of the semiconductor laser chip exposed by the cleaving. And a step of forming a facet coating film.
ウント部材間に掛け渡して実装し、前記へき開によっ
て、前記半導体レーザチップを前記複数のマウント部材
の各々に対応して複数に分割することを特徴とする請求
項4に記載の半導体レーザの製造方法。5. The semiconductor laser chip is mounted by being spanned between a plurality of mount members, and the semiconductor laser chip is divided into a plurality of parts corresponding to each of the plurality of mount members by the cleavage. The method for manufacturing a semiconductor laser according to claim 4.
その長尺方向に沿って複数の光出射点を有することを特
徴とする請求項4に記載の半導体レーザの製造方法。6. The semiconductor laser chip has a strip shape,
The semiconductor laser manufacturing method according to claim 4, wherein the semiconductor laser has a plurality of light emission points along the longitudinal direction.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002129487A JP2003324230A (en) | 2002-05-01 | 2002-05-01 | Semiconductor laser and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002129487A JP2003324230A (en) | 2002-05-01 | 2002-05-01 | Semiconductor laser and manufacturing method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003324230A true JP2003324230A (en) | 2003-11-14 |
Family
ID=29542870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002129487A Pending JP2003324230A (en) | 2002-05-01 | 2002-05-01 | Semiconductor laser and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003324230A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101206357B1 (en) | 2010-12-09 | 2012-11-29 | 국방과학연구소 | Microlens embedded Semiconductor laser diode |
-
2002
- 2002-05-01 JP JP2002129487A patent/JP2003324230A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101206357B1 (en) | 2010-12-09 | 2012-11-29 | 국방과학연구소 | Microlens embedded Semiconductor laser diode |
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